JPH02250864A - ステロイド誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体及びその製造方法Info
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-
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- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は新規なステロイド誘導体及びその製造方法に関
する。本発明のステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲状
腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症
の治療に有効であることが知られているlα、25−ジ
ヒドロキシビタミンひ1、ビタミンD様の活性を有する
ことが知られている1α−ヒドロキシビタミンD5、(
24R) −1α、 24.25−トリヒドロキシビタ
ミンD、などのlα位に水酸基を有するビタミンD、誘
導体の合成中間体とじて有用である。
する。本発明のステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲状
腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症
の治療に有効であることが知られているlα、25−ジ
ヒドロキシビタミンひ1、ビタミンD様の活性を有する
ことが知られている1α−ヒドロキシビタミンD5、(
24R) −1α、 24.25−トリヒドロキシビタ
ミンD、などのlα位に水酸基を有するビタミンD、誘
導体の合成中間体とじて有用である。
[従来の技術]
従来、lα位に水酸基を有するビタミンD!誘導体の製
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することによりlα−ヒドロキシビタミンp、を製
造する方法(特開昭48−62750号公報参照’)
、(24R)−1α、3β、24.25−テトラヒドロ
キシコレスタ−5,7−ジエンに不活性1媒中で紫外線
を照射し、生成した(24R)−1α、24.25−ト
リヒドロキシプレビタミンD、を異性化することによっ
て(24R)−1α、24.25− トリヒドロキシビ
タミンD、を製造する方法(特開昭51−108046
号公報参照)などが知られている。
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することによりlα−ヒドロキシビタミンp、を製
造する方法(特開昭48−62750号公報参照’)
、(24R)−1α、3β、24.25−テトラヒドロ
キシコレスタ−5,7−ジエンに不活性1媒中で紫外線
を照射し、生成した(24R)−1α、24.25−ト
リヒドロキシプレビタミンD、を異性化することによっ
て(24R)−1α、24.25− トリヒドロキシビ
タミンD、を製造する方法(特開昭51−108046
号公報参照)などが知られている。
[発明が解決しようとする課題]
上記の通り、1α位に水酸基を有するビタミンD、誘導
体の製造方法は種々知られているが、該1α位に水酸基
を有するビタミンD、誘導体を製造するに際し、合成中
間体として使用できる化合物を多くの化合物の中から選
択することができれば、原料事情に応じてその製造プロ
セスを適宜変更することか可能となり好ましい。
体の製造方法は種々知られているが、該1α位に水酸基
を有するビタミンD、誘導体を製造するに際し、合成中
間体として使用できる化合物を多くの化合物の中から選
択することができれば、原料事情に応じてその製造プロ
セスを適宜変更することか可能となり好ましい。
しかして、本発明の一つの目的は、種々のlα位に水酸
基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を提供することにある。さらに
本発明のもう一つの目的は、該新規なステロイド誘導体
の製造方法を提供することにある。
基を有するビタミンD、誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を提供することにある。さらに
本発明のもう一つの目的は、該新規なステロイド誘導体
の製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、上記の目的は
(1)−最大
[式中、Rは水素原子又は−C8(Y’)C(Y”)(
CHs)C)1.Y3基を表わし、Yl及びY!はそれ
ぞれ水素原子若しくはOZ′基を表わすか又は−緒にな
って炭素−炭素結合を表わし、Y3は水素原子又は−O
Z’基を表わし、R1、R1,2′及びz8はそれぞれ
水素原子又は水酸基の保護基を表わす]で示されるステ
ロイド誘導体(1)、 (2)一般式 (式中、R,R’、R1及び2″は前記定義の通りであ
る) で示される9、lO−セコステロイド誘導体([I[)
及び(4)一般式 (式中、R,R’、 R″及びzlは前記定義の通りで
ある) で示される9、lO−セコステロイド誘導体(II)、
(3)一般式 (式中、R1及びR8は前記定義の通りであり、Aはハ
ロゲン原子又はスルホニルオキシ基を表わす)で示され
るプレグナン誘導体(IV)と−最大%式%() (式中、R及びzlは前記定義の通りである)で示され
るシアノヒドリン誘導体(V)とを塩基性物質存在下に
反応させることを特徴とする一般式(式中、R%R1、
R1及びzlは前記定義の通りである) で示されるステロイド誘導体(1)の製造方法を提供す
ることにより達成される。
CHs)C)1.Y3基を表わし、Yl及びY!はそれ
ぞれ水素原子若しくはOZ′基を表わすか又は−緒にな
って炭素−炭素結合を表わし、Y3は水素原子又は−O
Z’基を表わし、R1、R1,2′及びz8はそれぞれ
水素原子又は水酸基の保護基を表わす]で示されるステ
ロイド誘導体(1)、 (2)一般式 (式中、R,R’、R1及び2″は前記定義の通りであ
る) で示される9、lO−セコステロイド誘導体([I[)
及び(4)一般式 (式中、R,R’、 R″及びzlは前記定義の通りで
ある) で示される9、lO−セコステロイド誘導体(II)、
(3)一般式 (式中、R1及びR8は前記定義の通りであり、Aはハ
ロゲン原子又はスルホニルオキシ基を表わす)で示され
るプレグナン誘導体(IV)と−最大%式%() (式中、R及びzlは前記定義の通りである)で示され
るシアノヒドリン誘導体(V)とを塩基性物質存在下に
反応させることを特徴とする一般式(式中、R%R1、
R1及びzlは前記定義の通りである) で示されるステロイド誘導体(1)の製造方法を提供す
ることにより達成される。
上記各一般式におけるR’SR″、zl、z3及びAを
以下に詳しく説明する。
以下に詳しく説明する。
RISRl、zl及び2″が表わす水酸基の保護基とし
ては、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用い
られているいずれの保護基でも良いが、具体的には三置
換シリル基、置換基を存していても良いアルコキシメチ
ル基などが挙げられる。ここで、三置換シリル基として
は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基など
のトリアルキルシリル基;t−ブチルジフェニルシリル
基などのジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、
置換基を有していても良いアルコキシメチル基としては
、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などの
アルコキシメチル基;l−エトキシエチル基、l−メト
キシ−1−メチルエチル基などのアルキル置換アルコキ
ンメチル基:テトラヒド口フラン−2−イル基、テトロ
ヒドロピラン−2−イル基などの2−オキサシクロアル
キル基などが挙げられる。
ては、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用い
られているいずれの保護基でも良いが、具体的には三置
換シリル基、置換基を存していても良いアルコキシメチ
ル基などが挙げられる。ここで、三置換シリル基として
は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基など
のトリアルキルシリル基;t−ブチルジフェニルシリル
基などのジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、
置換基を有していても良いアルコキシメチル基としては
、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などの
アルコキシメチル基;l−エトキシエチル基、l−メト
キシ−1−メチルエチル基などのアルキル置換アルコキ
ンメチル基:テトラヒド口フラン−2−イル基、テトロ
ヒドロピラン−2−イル基などの2−オキサシクロアル
キル基などが挙げられる。
Aが表わすハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子
、ヨウ素原子などが挙げられ、スルホニルオキシ基とし
ては、メタンスルホニルオキシ基などのアルキルスルホ
ニルオキシ基;p−トルエンスルホニルオキシ基、p−
ブロムベンゼンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基などのアリールスルホニルオキシ基などが挙
げられる。
、ヨウ素原子などが挙げられ、スルホニルオキシ基とし
ては、メタンスルホニルオキシ基などのアルキルスルホ
ニルオキシ基;p−トルエンスルホニルオキシ基、p−
ブロムベンゼンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基などのアリールスルホニルオキシ基などが挙
げられる。
一般式(IV)で示されるプレグナン誘導体は例えば以
下の方法により製造することができる。
下の方法により製造することができる。
(上記の式において、R1及びR1はそれぞれ前記定義
の通りであり、A1はハロゲン原子を表わし、Bはアル
キル基又はアリール基を表わし、Acはアセチル基を表
わし、Phはフェニル基を表わす)上記式において一般
式(IV−1)又は(■−2)で示される化合物は一般
式(It/)で示される化合物に包含される。
の通りであり、A1はハロゲン原子を表わし、Bはアル
キル基又はアリール基を表わし、Acはアセチル基を表
わし、Phはフェニル基を表わす)上記式において一般
式(IV−1)又は(■−2)で示される化合物は一般
式(It/)で示される化合物に包含される。
上記−最大(IV−1)、−最大(IV−2) 、式(
Vl)、式(■)、式(■−1)、−最大(■−2)及
び−最大(IX)で示される化合物を以後それぞれ下記
のように称することがある。
Vl)、式(■)、式(■−1)、−最大(■−2)及
び−最大(IX)で示される化合物を以後それぞれ下記
のように称することがある。
(IV−1)
(IV−2)
(V[)
(■)
(■−1)
(■−2)
スルホナート(IV−1)
へロ°ゲン化物(■−2)
化合物(Vl)
化合物(■)
アルデヒド(■−1)
アルデヒド(■−2)
さらに、−最大(■−2)において、R1及びR鵞が下
記の基を表わすことによって示される化合物を以後下記
の様に称することがある。
記の基を表わすことによって示される化合物を以後下記
の様に称することがある。
まず、H,Saiらの方法[ケミカル・ファーマシュー
テイカル・プルテン(Chew、 Pharm、 Bu
ll、)32@ 3856〜3872ページ(1984
年)参照]に従ってR製した化合物CVI)をアルデヒ
ド()l−1)に変換するが、この変換は化合物(Vl
)の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的にオゾン酸化し
、得られるオシニドを還元的に処理して化合物(■)を
得、さらに5.7−ジエンの保護基を除去することによ
り行われる。すなわち化合物(■)の溶液に冷却下オゾ
ンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾンの飽和
溶液を化合物(V[)の溶液の冷却下に加えることによ
り、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加えるこ
とによって還元的後処理が行われる。使用するオゾンガ
スの量は通常化合物(VI)1モルに対して約0.1〜
10モル、好ましくは約0.5〜0.8モルである。こ
の反応は、塩化メチレン、メタノールなどの反応に関与
しない溶媒中で行われ、その使用量は通常化合物(Vl
)に対して約10〜20a@重景である。またこの溶液
中に約1%のピリジンを共存させることも可能である。
テイカル・プルテン(Chew、 Pharm、 Bu
ll、)32@ 3856〜3872ページ(1984
年)参照]に従ってR製した化合物CVI)をアルデヒ
ド()l−1)に変換するが、この変換は化合物(Vl
)の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的にオゾン酸化し
、得られるオシニドを還元的に処理して化合物(■)を
得、さらに5.7−ジエンの保護基を除去することによ
り行われる。すなわち化合物(■)の溶液に冷却下オゾ
ンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾンの飽和
溶液を化合物(V[)の溶液の冷却下に加えることによ
り、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加えるこ
とによって還元的後処理が行われる。使用するオゾンガ
スの量は通常化合物(VI)1モルに対して約0.1〜
10モル、好ましくは約0.5〜0.8モルである。こ
の反応は、塩化メチレン、メタノールなどの反応に関与
しない溶媒中で行われ、その使用量は通常化合物(Vl
)に対して約10〜20a@重景である。またこの溶液
中に約1%のピリジンを共存させることも可能である。
オゾン化反応は通常約0℃以下の温度下で行われ、好ま
しくは約−50〜−100℃の範囲内の温度で行われる
。
しくは約−50〜−100℃の範囲内の温度で行われる
。
還元的後処理は通常的−100〜30’Cの範囲内の温
度で行われる。反応は、ドライアイス−アセトン浴中で
冷却した化合物(■)1モルに対して約0.5〜0.8
モルのオゾン及び1%ピリジンを含む塩化メチレン溶液
をドライアイス−アセトン浴中で冷却した化合物(VI
)の溶液に加え、オゾンの青色が消えたことを確認した
後に、約20モルのジメチルスルフィドを加え、ドライ
アイス−アセトン浴を除去し、室温まで加温することに
より実施するのが簡便である。
度で行われる。反応は、ドライアイス−アセトン浴中で
冷却した化合物(■)1モルに対して約0.5〜0.8
モルのオゾン及び1%ピリジンを含む塩化メチレン溶液
をドライアイス−アセトン浴中で冷却した化合物(VI
)の溶液に加え、オゾンの青色が消えたことを確認した
後に、約20モルのジメチルスルフィドを加え、ドライ
アイス−アセトン浴を除去し、室温まで加温することに
より実施するのが簡便である。
この嫌にして得られた化合物(■)の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応において行われている単
離・精製法と同様にして行われる。
単離・精製は、通常の有機反応において行われている単
離・精製法と同様にして行われる。
例えば、反応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、
乾燥・濃縮し粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィ
ーなどにより精製することにより化合物(■)を得るこ
とができる。
乾燥・濃縮し粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィ
ーなどにより精製することにより化合物(■)を得るこ
とができる。
化合物(■)のアルデヒド(■−1)への変換は、通常
用いられている方法に従ってジエンの脱保護を行うと同
時に水酸基の脱アセチル化を行うことにより実施される
。この脱保護・脱アセチル化の方法としては、エタノー
ル中水酸化カリウムで処理する方法などが挙げられるが
、使用するエタノールの量は化合物(■)に対して約5
〜200倍重量であり、また使用する水酸化カリウムの
量は化合物(■)1モルに対して約10〜500モル、
好ましくは50〜200モルである。
用いられている方法に従ってジエンの脱保護を行うと同
時に水酸基の脱アセチル化を行うことにより実施される
。この脱保護・脱アセチル化の方法としては、エタノー
ル中水酸化カリウムで処理する方法などが挙げられるが
、使用するエタノールの量は化合物(■)に対して約5
〜200倍重量であり、また使用する水酸化カリウムの
量は化合物(■)1モルに対して約10〜500モル、
好ましくは50〜200モルである。
反応は、化合物(■)1モルに対して約100モルの水
酸化カリウムを含む約2規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
酸化カリウムを含む約2規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
反応液からのアルデヒド(■−1)の単離・精製は、通
常の有機反応において行われている単離・精製法と同様
にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあけ、酢
酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・
食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再
結晶・クロマトグラフィーなどにより精製することによ
ってアルデヒド(■−1)を得ることができる。
常の有機反応において行われている単離・精製法と同様
にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあけ、酢
酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・
食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再
結晶・クロマトグラフィーなどにより精製することによ
ってアルデヒド(■−1)を得ることができる。
この様にして得られたアルデヒド(■−1)は、必要に
応じて常法に従い1位および3位の水酸基の保護を行い
、アルデヒド(■−2)に変換される。この際、1位ま
たは3位の水酸基を選択的に保護し、ジオールのモノ保
護体を得た後に、再び保護反応を行うことにより、アル
デヒド(■−2)に変換することもできる。
応じて常法に従い1位および3位の水酸基の保護を行い
、アルデヒド(■−2)に変換される。この際、1位ま
たは3位の水酸基を選択的に保護し、ジオールのモノ保
護体を得た後に、再び保護反応を行うことにより、アル
デヒド(■−2)に変換することもできる。
アルデヒド(■−1)からアルデヒド(■−2−1)へ
の変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下に塩化
三置換シリルを作用させることにより行うことができる
。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、塩化ト
リメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリイソ
プロピルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、塩化
t−ブチルジフェニルシリルなどが挙げられる。塩化三
置換シリルの使用量は、通常アルデヒド(■−1)1モ
ル対して約2〜50モル、好ましく:よ5〜20モルで
ある。反応に用いられろ塩基性物質としては、ピリジン
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジ
エチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水
素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる。
の変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下に塩化
三置換シリルを作用させることにより行うことができる
。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、塩化ト
リメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリイソ
プロピルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、塩化
t−ブチルジフェニルシリルなどが挙げられる。塩化三
置換シリルの使用量は、通常アルデヒド(■−1)1モ
ル対して約2〜50モル、好ましく:よ5〜20モルで
ある。反応に用いられろ塩基性物質としては、ピリジン
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジ
エチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水
素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる。
塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(■−1)1モ
ル対して約2〜200モルであり、好ましくは約5〜1
00モルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが
、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可能であ
り、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いろこと
も可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(■−
1)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常的
−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約0〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
ル対して約2〜200モルであり、好ましくは約5〜1
00モルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが
、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可能であ
り、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いろこと
も可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(■−
1)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常的
−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約0〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド(■−2−1)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有
機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグ
ラフィーなどにより精製することによりアルデヒド(■
−2−1)を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例えば
、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有
機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグ
ラフィーなどにより精製することによりアルデヒド(■
−2−1)を得ることができる。
アルデヒド(■−1)のアルデヒド(■−2−2)への
変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在下にク
ロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは酸触媒下
にビニルエーテルを作用させることにより行われる。反
応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、クロル
メチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチルな
どが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エチルビニル
エーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジヒドロフ
ラン、ジヒドロピランなどが挙げられる。
変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在下にク
ロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは酸触媒下
にビニルエーテルを作用させることにより行われる。反
応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、クロル
メチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチルな
どが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エチルビニル
エーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジヒドロフ
ラン、ジヒドロピランなどが挙げられる。
クロルメチルエーテル又はビニルエーテルの使用量は、
通常アルデヒド(■−1)1モルに対して約2〜50モ
ル、好ましくは約5〜20モルである。反応に用いられ
る塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリン、イミ
ダゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウムなどの金
属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、
通常アルデヒド(■−1)1モルに対して約2〜200
モルであり、好ましくは約5〜100モルである。使用
する酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸などのスルホン酸、p−)ルエンスルホ
ン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸など
の鉱酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アルデヒ
ド(■−1)1モルに対して、通常約0.05〜0.2
モルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使
用する有機アミンまたはビニルエーテルを溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しな
い溶媒を用いろことら可能である。溶媒の使用量は、通
常アルデヒド(〜1−1)に対して、約5〜200重量
である。反応は”通常約−20−100℃の範囲内の温
度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度で行われる
。
通常アルデヒド(■−1)1モルに対して約2〜50モ
ル、好ましくは約5〜20モルである。反応に用いられ
る塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリン、イミ
ダゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウムなどの金
属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、
通常アルデヒド(■−1)1モルに対して約2〜200
モルであり、好ましくは約5〜100モルである。使用
する酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸などのスルホン酸、p−)ルエンスルホ
ン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸など
の鉱酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アルデヒ
ド(■−1)1モルに対して、通常約0.05〜0.2
モルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使
用する有機アミンまたはビニルエーテルを溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しな
い溶媒を用いろことら可能である。溶媒の使用量は、通
常アルデヒド(〜1−1)に対して、約5〜200重量
である。反応は”通常約−20−100℃の範囲内の温
度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度で行われる
。
この様にして得られたアルデヒド(■−2−2)の反応
混合液からの単離・精製は通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機
溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷希塩
酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾燥・
濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーな
どにより精製することによりアルデヒド(■−2−2)
を得ることができろ。
混合液からの単離・精製は通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機
溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷希塩
酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾燥・
濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーな
どにより精製することによりアルデヒド(■−2−2)
を得ることができろ。
アルデヒド(■−2−1)またはアルデヒド(■−2−
2)のアルコール(IM)への変換は常法に従い還元反
応に付することにより行われる。この還元反応に使用さ
れろ還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチル
ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化
ビス(メトキンエトキシ)アルミニウムナトリウム、水
素化トリ5ec−ブチルホウ素リチウム、水素化トリS
ecブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯体、水
素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムな
どの金属水素化物などが挙げられ、その使用量はアルデ
ヒド(■−2−り又はアルデヒド(■−2−2)1モル
に対して約0.25〜50モル、好ましくは約0.5〜
20モルである。反応は通常溶媒中で行われ、使用され
る溶媒は用いる還元剤によっても異なるか、エタノール
、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その使用量は、通
常アルデヒド(■−2−1)又はアルデヒド(’1m
−2〜2)に対して約5〜200倍重量である。反応は
通常約−1OO〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約
−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
2)のアルコール(IM)への変換は常法に従い還元反
応に付することにより行われる。この還元反応に使用さ
れろ還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチル
ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化
ビス(メトキンエトキシ)アルミニウムナトリウム、水
素化トリ5ec−ブチルホウ素リチウム、水素化トリS
ecブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯体、水
素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムな
どの金属水素化物などが挙げられ、その使用量はアルデ
ヒド(■−2−り又はアルデヒド(■−2−2)1モル
に対して約0.25〜50モル、好ましくは約0.5〜
20モルである。反応は通常溶媒中で行われ、使用され
る溶媒は用いる還元剤によっても異なるか、エタノール
、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その使用量は、通
常アルデヒド(■−2−1)又はアルデヒド(’1m
−2〜2)に対して約5〜200倍重量である。反応は
通常約−1OO〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約
−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルコール(IX)の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
混合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・
メタノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分
解し、必要に応じて水で希釈し、濾過まkは抽出・洗浄
などの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、a縮し
て粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどによ
り精製することによってアルコール(IX)を得ること
ができる。
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
混合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・
メタノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分
解し、必要に応じて水で希釈し、濾過まkは抽出・洗浄
などの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、a縮し
て粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどによ
り精製することによってアルコール(IX)を得ること
ができる。
アルコール(IX)からスルホナート(1’/−1)へ
の変換は、アルコールをスルホナートに変換する一般的
な方法によって実施することができる。例えば、塩基性
物質の存在下に塩化スルホニルを作用させることにより
行われる。反応に用いられる塩化スルホニルとしては、
塩化メタンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、
塩化p−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスル
ホニルなどが挙げられ、その使用量はアルコール(IX
)1モルに対して約1.1〜20モルである。反応に用
いられる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物
、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリ
チウムなどの有機金属化合物などが挙げられ、その使用
量は通常アルコール(IX)1モルに対して約1−10
00モルである。この反応は通常溶媒中で行われるが、
使用される有機アミンを溶媒として使用することも可能
であり、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関与
しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用量は
、通常アルコール(IX)に対して約5〜200倍重量
である。反応は通常的−20〜30℃の範囲内の温度、
好ましくは約O〜20℃の範囲内の温度で行われる。
の変換は、アルコールをスルホナートに変換する一般的
な方法によって実施することができる。例えば、塩基性
物質の存在下に塩化スルホニルを作用させることにより
行われる。反応に用いられる塩化スルホニルとしては、
塩化メタンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、
塩化p−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスル
ホニルなどが挙げられ、その使用量はアルコール(IX
)1モルに対して約1.1〜20モルである。反応に用
いられる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物
、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリ
チウムなどの有機金属化合物などが挙げられ、その使用
量は通常アルコール(IX)1モルに対して約1−10
00モルである。この反応は通常溶媒中で行われるが、
使用される有機アミンを溶媒として使用することも可能
であり、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関与
しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用量は
、通常アルコール(IX)に対して約5〜200倍重量
である。反応は通常的−20〜30℃の範囲内の温度、
好ましくは約O〜20℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたスルホナー)1−1)の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、
乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフ
ィーなどにより精製することによりスルホナート(■−
1)を得ろこと・ができる。
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、
乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフ
ィーなどにより精製することによりスルホナート(■−
1)を得ろこと・ができる。
アルコール(IX)のハロゲン化物(■−2>への変換
は、アルコールをハロゲン化物に変換する一般的な方法
に従って実施することができる。例えば、アルコール(
IX)をその約5〜200倍重量のジエチルエーテル、
ピリジンなどに溶解し、約−20〜!O℃の範囲内の温
度で、アルコール(■)1モルに対して約0.3〜10
モルの三塩化リン、三臭化リン、塩化チオニルなどのハ
ロゲン化剤を加え、約−20〜30℃の範囲内の温度で
約15分〜12時間撹拌することにより行われろ。
は、アルコールをハロゲン化物に変換する一般的な方法
に従って実施することができる。例えば、アルコール(
IX)をその約5〜200倍重量のジエチルエーテル、
ピリジンなどに溶解し、約−20〜!O℃の範囲内の温
度で、アルコール(■)1モルに対して約0.3〜10
モルの三塩化リン、三臭化リン、塩化チオニルなどのハ
ロゲン化剤を加え、約−20〜30℃の範囲内の温度で
約15分〜12時間撹拌することにより行われろ。
この様にして得られたハロゲン化物(IV−2)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮
して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどに
より精製することによりハロゲン化物(IV−2)を得
ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮
して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフィーなどに
より精製することによりハロゲン化物(IV−2)を得
ることができる。
本発明のステロイド誘導体([)、9.10−セコステ
ロイド誘導体(II)及び9.10−セコステロイド誘
導体(I[[)はプレグナン誘導体(ff)から例えば
次のようにして製造される。
ロイド誘導体(II)及び9.10−セコステロイド誘
導体(I[[)はプレグナン誘導体(ff)から例えば
次のようにして製造される。
(上記式ニオイテ、A、 R,R’、 R”及ヒZ ”
ハ前記定義の通りである) 上記一般式(1)、一般式(■)、一般式(I[[)、
−般式(IV)及び一般式(V)で示される化合物を以
後それぞれ下記のように称することがある。
ハ前記定義の通りである) 上記一般式(1)、一般式(■)、一般式(I[[)、
−般式(IV)及び一般式(V)で示される化合物を以
後それぞれ下記のように称することがある。
(1) ステロイド誘導体(1)(■)
セコステロイド誘導体(II)(III)
セコステロイド誘導体(III)(IV)
プレグナン誘導体(IV)プレグナン誘導体(■)か
らステロイド誘導体(1)への変換は、塩基性物質存在
下に公知の方法[G、 5tork及びり、 Mala
donado、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソシエテイ(」。
セコステロイド誘導体(II)(III)
セコステロイド誘導体(III)(IV)
プレグナン誘導体(IV)プレグナン誘導体(■)か
らステロイド誘導体(1)への変換は、塩基性物質存在
下に公知の方法[G、 5tork及びり、 Mala
donado、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソシエテイ(」。
Aaer、 Chea、 Soc、) 93巻5286
〜5287ページなど参照]によって調製されたシアノ
ヒドリン誘導体(V)を反応させることによって行われ
る。シアノヒドリン誘導体(V)の使用量はプレグナン
誘導体(■)1モルに対して約0.8〜50モル、好ま
しくは約1〜10モルである。使用される塩基性物質と
しては、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニ
ルリチウムなどの有機金属化合物、水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの金属水素化物、リチウムアミド、
ナトリウムアミド、カリウムアミド、リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムテトラメチルビペラジド、リチ
ウムへキサメチルジシラジド、ナトリウムへキサメチル
ジシラジド、カリウムへキサメチルジシラジドなどの金
属アミドなどが挙げられ、その使用量はシアノヒドリン
誘導体(V ) 1モルに対して約0.5〜5モル、好
ましくは約0.8〜2モルである。この反応は通常溶媒
中で行われ、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳
香族炭化水素系溶媒など反応に関与しない溶媒が挙げら
れ、その使用量は通常プレグナン誘導体(IV)に対し
て約5〜200倍重態である。反応は通常−100℃〜
100℃の温度範囲内で行われる。反応の形態としては
、まずシアノヒドリン誘導体(V)と塩基性物質を反応
させ、シアノヒドリン誘導体(V)の塩とした後プレグ
ナン誘導体([V)を加える方法、塩基性物質の溶液に
プレグナン誘導体(IV)及びシアノヒドリン誘導体(
V)の混合溶液を加える方法、またはプレグナン誘導体
(IV)及びシアノヒドリン誘導体(V)の混合溶液に
塩基性物質の溶媒を加える方法などが挙げられるが、い
ずれを採用することらできる。
〜5287ページなど参照]によって調製されたシアノ
ヒドリン誘導体(V)を反応させることによって行われ
る。シアノヒドリン誘導体(V)の使用量はプレグナン
誘導体(■)1モルに対して約0.8〜50モル、好ま
しくは約1〜10モルである。使用される塩基性物質と
しては、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニ
ルリチウムなどの有機金属化合物、水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの金属水素化物、リチウムアミド、
ナトリウムアミド、カリウムアミド、リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムテトラメチルビペラジド、リチ
ウムへキサメチルジシラジド、ナトリウムへキサメチル
ジシラジド、カリウムへキサメチルジシラジドなどの金
属アミドなどが挙げられ、その使用量はシアノヒドリン
誘導体(V ) 1モルに対して約0.5〜5モル、好
ましくは約0.8〜2モルである。この反応は通常溶媒
中で行われ、用いられる溶媒としては、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳
香族炭化水素系溶媒など反応に関与しない溶媒が挙げら
れ、その使用量は通常プレグナン誘導体(IV)に対し
て約5〜200倍重態である。反応は通常−100℃〜
100℃の温度範囲内で行われる。反応の形態としては
、まずシアノヒドリン誘導体(V)と塩基性物質を反応
させ、シアノヒドリン誘導体(V)の塩とした後プレグ
ナン誘導体([V)を加える方法、塩基性物質の溶液に
プレグナン誘導体(IV)及びシアノヒドリン誘導体(
V)の混合溶液を加える方法、またはプレグナン誘導体
(IV)及びシアノヒドリン誘導体(V)の混合溶液に
塩基性物質の溶媒を加える方法などが挙げられるが、い
ずれを採用することらできる。
このようにして得られたステロイド誘導体(1)の反応
混合物からの単離・精製は通常の有機反応において用い
られる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチル
、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄
した後に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマ
トグラフィーなどによって精製することによってステロ
イド誘導体(1)を得ることができる。
混合物からの単離・精製は通常の有機反応において用い
られる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチル
、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄
した後に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマ
トグラフィーなどによって精製することによってステロ
イド誘導体(1)を得ることができる。
ステロイド誘導体(1)のセコステロイド誘導体(I[
)への変換は、常法に従い紫外線を照射することにより
行われる。使用される紫外線としては、約200〜31
0nmの波長範囲のものであり、好ましくは、約260
〜310nmの波長範囲のものである。この反応は、通
常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、ヘキサン
、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベン
ゼン、クロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロル
エタン、1.2=ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化
水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコー
ル系溶媒などが挙げられる。反応は約−20〜120℃
の範囲内の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内
の温度で行われる。
)への変換は、常法に従い紫外線を照射することにより
行われる。使用される紫外線としては、約200〜31
0nmの波長範囲のものであり、好ましくは、約260
〜310nmの波長範囲のものである。この反応は、通
常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、ヘキサン
、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベン
ゼン、クロルベンゼン、四塩化炭素、1.2−ジクロル
エタン、1.2=ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化
水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルセロソルブなどのエーテル系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコー
ル系溶媒などが挙げられる。反応は約−20〜120℃
の範囲内の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内
の温度で行われる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体(I[)の
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フィーなどにより精製することによってセコステロイド
誘導体([)を得ることかできる。なお、精製すること
なく粗生成物を次の反応に用いることもできる。
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フィーなどにより精製することによってセコステロイド
誘導体([)を得ることかできる。なお、精製すること
なく粗生成物を次の反応に用いることもできる。
セコステロイド誘導体(■)のセコステロイド誘導体(
[[)への変換は、常法に従って熱エネルギーによる異
性化によって行われる。この異性化反応は、約0〜12
0℃の範囲内の温度、好ましくは約20〜IOQ℃の範
囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行われ
、用いられろ溶媒としては、府述の紫外線照射において
用いられる溶媒などが挙げられる。
[[)への変換は、常法に従って熱エネルギーによる異
性化によって行われる。この異性化反応は、約0〜12
0℃の範囲内の温度、好ましくは約20〜IOQ℃の範
囲内の温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行われ
、用いられろ溶媒としては、府述の紫外線照射において
用いられる溶媒などが挙げられる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体(I[[)
の単離・精製は通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られろ粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フィーなどにより精製することによりセコステロイド誘
導体(II[)を得ることができる。
の単離・精製は通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られろ粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フィーなどにより精製することによりセコステロイド誘
導体(II[)を得ることができる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体(II[)
のうち、Rが水素原子であるものは、塩基性物質の存在
下適当なアルデヒド、ハロゲン化物、エポキシドなどと
反応させることによりRが水素原子ではないセコステロ
イド誘導体(III)に変換することができる。この変
換の際に採用される塩基性物質、溶媒、温度などの反応
の形態としては、例えばプレグナン誘導体(■)からス
テロイド誘導体(1)への変換の際に採用されろ塩基性
物質、溶媒、温度などが採用されろ。この様にして得ら
れたセコステロイド誘導体(I[[)は例えば以下の様
にしてlα位に水酸基を有するビタミンD、誘導体に変
換することができる。
のうち、Rが水素原子であるものは、塩基性物質の存在
下適当なアルデヒド、ハロゲン化物、エポキシドなどと
反応させることによりRが水素原子ではないセコステロ
イド誘導体(III)に変換することができる。この変
換の際に採用される塩基性物質、溶媒、温度などの反応
の形態としては、例えばプレグナン誘導体(■)からス
テロイド誘導体(1)への変換の際に採用されろ塩基性
物質、溶媒、温度などが採用されろ。この様にして得ら
れたセコステロイド誘導体(I[[)は例えば以下の様
にしてlα位に水酸基を有するビタミンD、誘導体に変
換することができる。
z1
(X)
以下余白
(XI[)
(XI)
(XW)
[上記式において、R,R’、R3及び2″は前記定義
の通りであり、R゛は水素原子又は−CH(Y’)C(
Y’)(C1,)C1,Y@基を表わし、Y4及びY6
はそれぞれ水素原子もしくは−02”基を表わすか又は
−緒になって炭素−炭素結合を表わし、Y@は水素原子
又は−023基を表わし、R3、R4、R8、R1及び
z3ハそれぞれ水素原子又は水−素基の保護基を表わし
、Boは低級アルキル基又はアリール基を表わす。]上
記一般式(X)、一般式(XI)、一般式(Xn)、一
般式(Xn[)及び一般式(XIV)で示される化合物
を以後それぞれ下記のように称することがある。
の通りであり、R゛は水素原子又は−CH(Y’)C(
Y’)(C1,)C1,Y@基を表わし、Y4及びY6
はそれぞれ水素原子もしくは−02”基を表わすか又は
−緒になって炭素−炭素結合を表わし、Y@は水素原子
又は−023基を表わし、R3、R4、R8、R1及び
z3ハそれぞれ水素原子又は水−素基の保護基を表わし
、Boは低級アルキル基又はアリール基を表わす。]上
記一般式(X)、一般式(XI)、一般式(Xn)、一
般式(Xn[)及び一般式(XIV)で示される化合物
を以後それぞれ下記のように称することがある。
(X)
(XI)
(Xll)
(XII[)
(XW)
ケ ト ン(X)
アルコ −ル(XI)
スルホナート(XII)
ビタミン誘導体(XI[I)
ビタミン誘導体(XIV)
上記式におイテ、R”、 R’、R85R@及びz3が
表わす水酸基の保護基としては、水酸基の保護の目的を
達成するかぎり、通常用いられているいずれの保護基で
も良いが、具体的には、R1が表わす水酸基の保護基と
して例示された保護基などが挙げられる。Boが表わす
低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、トリフルオロメチル基などか挙jヂられ、ア
リール基としてはフェニル基、p−トリル基、p−ブロ
モフェニル基などが挙げろれろ。
表わす水酸基の保護基としては、水酸基の保護の目的を
達成するかぎり、通常用いられているいずれの保護基で
も良いが、具体的には、R1が表わす水酸基の保護基と
して例示された保護基などが挙げられる。Boが表わす
低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、トリフルオロメチル基などか挙jヂられ、ア
リール基としてはフェニル基、p−トリル基、p−ブロ
モフェニル基などが挙げろれろ。
セコステロイド誘導体(■)!上側鎖の保護されたシア
ノヒドリン誘導体の水酸基の保護基の脱保護を行った後
、アルカリ処理することによってケトン<X)に変換さ
れろ。脱保護反応は、常法に従って行われる。例えば、
zlが三置換シリル基である場合にはフッ化物イオン化
合物で処理する方法などが挙げられ、置換基を有してい
ても良いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒下
水あるいは低級アルコールによって加溶媒分解する方法
などが挙げられろ。用いられるフッ化物イオン化合物と
しては、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素
酸、フッ化ピリジニウムなどが挙げられ、その使用量は
セコステロイド誘導体(III)lモルに対して通常的
0.05〜2モルであ、る。用いられろ酸触媒としては
、塩酸、硫酸などの鉱酸、p−トルエンスルホン酸、カ
ンファースルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリ
フルオロ酢酸などのカルボン酸などが挙げられ、その使
用量は使用する酸触媒によっても異なるが、セコステロ
イド誘導体(I[)1モルに対して通常的0.05〜l
θモルである。この反応は通常溶媒中で行われ、使用さ
れろ溶媒としては、テトラヒドロフランなどのエーテル
系の溶媒、メタノール、エタノールなどのアルコール系
溶媒などが挙げられ、その使用量は通常セコステロイド
誘導体(I[I)に対して約5〜200@重量である。
ノヒドリン誘導体の水酸基の保護基の脱保護を行った後
、アルカリ処理することによってケトン<X)に変換さ
れろ。脱保護反応は、常法に従って行われる。例えば、
zlが三置換シリル基である場合にはフッ化物イオン化
合物で処理する方法などが挙げられ、置換基を有してい
ても良いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒下
水あるいは低級アルコールによって加溶媒分解する方法
などが挙げられろ。用いられるフッ化物イオン化合物と
しては、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素
酸、フッ化ピリジニウムなどが挙げられ、その使用量は
セコステロイド誘導体(III)lモルに対して通常的
0.05〜2モルであ、る。用いられろ酸触媒としては
、塩酸、硫酸などの鉱酸、p−トルエンスルホン酸、カ
ンファースルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリ
フルオロ酢酸などのカルボン酸などが挙げられ、その使
用量は使用する酸触媒によっても異なるが、セコステロ
イド誘導体(I[)1モルに対して通常的0.05〜l
θモルである。この反応は通常溶媒中で行われ、使用さ
れろ溶媒としては、テトラヒドロフランなどのエーテル
系の溶媒、メタノール、エタノールなどのアルコール系
溶媒などが挙げられ、その使用量は通常セコステロイド
誘導体(I[I)に対して約5〜200@重量である。
加溶媒分解に用いられる低級アルコールとしては、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが挙
げられ、その使用量は通常セコステロイド誘導体(II
[)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常−
1O〜70℃の範囲内の温度で行われる。アルカリ処理
において用いられるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物などが挙げられ
る。具体的な反応方法としては、例えば、セコステロイ
ド誘導体([)1モルに対して約1〜100モルの約1
−10%のアルカリ水溶液を上述の脱保護され几シアノ
ヒドリンの溶液に加え、室、星で5分〜6時間撹拌ある
いは振盪するなどの方法が挙げられる。
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどが挙
げられ、その使用量は通常セコステロイド誘導体(II
[)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常−
1O〜70℃の範囲内の温度で行われる。アルカリ処理
において用いられるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物などが挙げられ
る。具体的な反応方法としては、例えば、セコステロイ
ド誘導体([)1モルに対して約1〜100モルの約1
−10%のアルカリ水溶液を上述の脱保護され几シアノ
ヒドリンの溶液に加え、室、星で5分〜6時間撹拌ある
いは振盪するなどの方法が挙げられる。
このようにして得られたケトン(X)の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応jこおいて用いられる
単離・精製法と同様にして行うことができる。例えば、
反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの一有機溶媒で抽出し、抽出液を
食塩水で洗浄した後に、乾燥・aSすることによって粗
生成物を得、クロマトグラフィー、再結晶などによって
精製することに上りケトン(X)を得ることができる。
の単離・精製は、通常の有機反応jこおいて用いられる
単離・精製法と同様にして行うことができる。例えば、
反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの一有機溶媒で抽出し、抽出液を
食塩水で洗浄した後に、乾燥・aSすることによって粗
生成物を得、クロマトグラフィー、再結晶などによって
精製することに上りケトン(X)を得ることができる。
ケトン(X)のうち、ysとY@が一緒になって炭素−
炭素結合を表わすものは、この側鎖の二重結合を選択的
に還元することによりY5およびY@が水素原子を表わ
すケトン(X)に変換することができる。
炭素結合を表わすものは、この側鎖の二重結合を選択的
に還元することによりY5およびY@が水素原子を表わ
すケトン(X)に変換することができる。
この選択的還元反応は例えば、重曹およびアリコツト(
、Hiquot) 336などの相間移動触媒の存在下
、水−ベンゼンの2相系で、ハイドロサルファイドナト
リウムで処理することで行われる。
、Hiquot) 336などの相間移動触媒の存在下
、水−ベンゼンの2相系で、ハイドロサルファイドナト
リウムで処理することで行われる。
ケトン(X)は、常法にしLかって還元反応に付するこ
とによりアルコール(XI)に変換することかできろ。
とによりアルコール(XI)に変換することかできろ。
この反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(
メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチルホ
ウ素ナトリウム、水素化トリ5ec−ブチルリチウム、
水素化トリ5ec−ブチルカリウムなどの金属水素化物
錯体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムなどのような金属水素化物などが挙げられ、その
使用量は用いる還元剤の性質によっても異なるが、通常
ケトン(X)1.モルに対して約0.25〜20モルで
ある。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒
としては、使用される還元剤の性質によっても異なるか
、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系
溶媒などが挙げられ、その使用量は通常ケトン(X)に
対して約5〜200倍重量である。この反応は通常的−
30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
トリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(
メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチルホ
ウ素ナトリウム、水素化トリ5ec−ブチルリチウム、
水素化トリ5ec−ブチルカリウムなどの金属水素化物
錯体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムなどのような金属水素化物などが挙げられ、その
使用量は用いる還元剤の性質によっても異なるが、通常
ケトン(X)1.モルに対して約0.25〜20モルで
ある。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒
としては、使用される還元剤の性質によっても異なるか
、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系
溶媒などが挙げられ、その使用量は通常ケトン(X)に
対して約5〜200倍重量である。この反応は通常的−
30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この蹟にして得られたアルコール(XI)の反応混合物
からの単離・精製は通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行われる。
からの単離・精製は通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行われる。
例えば、反応混合物に水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・
酢酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾
過・抽出などで有ms媒に不溶なものを除き、必要に応
じて洗浄することによって中性にした後乾燥・濃縮して
粗生成物杢得、クロマトグラフィー・再結晶などにより
精製することによりアルコール(XI)を得ろことがで
きる。
酢酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾
過・抽出などで有ms媒に不溶なものを除き、必要に応
じて洗浄することによって中性にした後乾燥・濃縮して
粗生成物杢得、クロマトグラフィー・再結晶などにより
精製することによりアルコール(XI)を得ろことがで
きる。
この様にして得られたアルコール<xr>はそれ自体2
3位に水酸基を有する活性型ビタミンD、誘導体である
が、例えば以下のようにして23位の脱酸素化を行うこ
とにより、23位に水酸基を持たない活性型ビタミンD
、誘導体へ変換することができる。
3位に水酸基を有する活性型ビタミンD、誘導体である
が、例えば以下のようにして23位の脱酸素化を行うこ
とにより、23位に水酸基を持たない活性型ビタミンD
、誘導体へ変換することができる。
まずアルコール(XI)の23位の水酸基を常法に従っ
て、例えば三級アミンの存在下に塩化スルホニルを反応
させ、スルホニル化することによりスルホナート(X■
)に変換することができる。この反応において用いられ
る塩化スルボニルとしては塩化メタンスルホニル、塩化
p−トルエンスルホニル、塩化p−ブロムベンゼンスル
ホニル、塩化ベンゼンスルホニルなどが挙げられ、その
使用量は通常アルコール(XI)1モルに対して約0.
8〜5モルである。用いられる三級アミンとしては、ピ
リジン、トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ジイソ
プロピルエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は使
用する塩化スルホニル1モルに対して通常約1〜50モ
ルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる
溶媒としては、使用する三級アミンを溶媒として用いる
ことも可能であり、また塩化メチレン、クロロホルムな
ど反応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶
媒の使用量は通常アルコール(XI)に対して約5〜2
00倍重量である。反応は通常的−20〜30℃の範囲
内の温度で行われる。
て、例えば三級アミンの存在下に塩化スルホニルを反応
させ、スルホニル化することによりスルホナート(X■
)に変換することができる。この反応において用いられ
る塩化スルボニルとしては塩化メタンスルホニル、塩化
p−トルエンスルホニル、塩化p−ブロムベンゼンスル
ホニル、塩化ベンゼンスルホニルなどが挙げられ、その
使用量は通常アルコール(XI)1モルに対して約0.
8〜5モルである。用いられる三級アミンとしては、ピ
リジン、トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ジイソ
プロピルエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は使
用する塩化スルホニル1モルに対して通常約1〜50モ
ルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる
溶媒としては、使用する三級アミンを溶媒として用いる
ことも可能であり、また塩化メチレン、クロロホルムな
ど反応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶
媒の使用量は通常アルコール(XI)に対して約5〜2
00倍重量である。反応は通常的−20〜30℃の範囲
内の温度で行われる。
この様にして得られたスルホナート01)の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において用いられ
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテル、塩化メチレ
ンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を、希塩酸、水、重
曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後aalして粗精製物
を得、クロマトグラフィー・再結晶などによって精製す
ることによりスルホナート(XI[)を得ることができ
る。
からの単離・精製は、通常の有機反応において用いられ
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテル、塩化メチレ
ンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を、希塩酸、水、重
曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後aalして粗精製物
を得、クロマトグラフィー・再結晶などによって精製す
ることによりスルホナート(XI[)を得ることができ
る。
スルホナー) (X U )は、常法に従ってスルホニ
ルオキシ基を還元的に除去することによりビタミン誘導
体(XII[)に変換することができる。この反応に用
いられる還元剤としては、水素化アルミニウムリチウム
、水素化トリエチルホウ素ナトリウム、水素化ビス(メ
・トキシェトキシ)アルミニウムナトリウムなどの金属
水素化物錯体などが挙げられ、その使用量はスルホナー
ト(Xll)1モルに対して通常的0.5〜20モルで
ある。反応は通常溶媒中で行われ、用いられろ溶媒とし
ては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1.2
−ジメトキンエタンなどのエーテル系溶媒などが挙げら
れ、その使用!:よ、スルホナートに対して通常約5〜
200@重量でゐる。反応:よ通常的0〜80℃の範囲
内の温度で行われろ。
ルオキシ基を還元的に除去することによりビタミン誘導
体(XII[)に変換することができる。この反応に用
いられる還元剤としては、水素化アルミニウムリチウム
、水素化トリエチルホウ素ナトリウム、水素化ビス(メ
・トキシェトキシ)アルミニウムナトリウムなどの金属
水素化物錯体などが挙げられ、その使用量はスルホナー
ト(Xll)1モルに対して通常的0.5〜20モルで
ある。反応は通常溶媒中で行われ、用いられろ溶媒とし
ては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1.2
−ジメトキンエタンなどのエーテル系溶媒などが挙げら
れ、その使用!:よ、スルホナートに対して通常約5〜
200@重量でゐる。反応:よ通常的0〜80℃の範囲
内の温度で行われろ。
この罎にして得られたビタミン誘導体(Xlll)の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
用いられる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば
、反応混合物に、水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸
エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾過・
抽出などにより有機溶媒に不溶なものを除去し、必要に
応じて洗浄・乾燥を行い、濃縮して粗生成物を得、クロ
マトグラフィー・再結晶などにより精製することにより
、ビタミン誘導体(XI)を得ることができろ。
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
用いられる単離・精製法と同様にして行われろ。例えば
、反応混合物に、水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸
エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、濾過・
抽出などにより有機溶媒に不溶なものを除去し、必要に
応じて洗浄・乾燥を行い、濃縮して粗生成物を得、クロ
マトグラフィー・再結晶などにより精製することにより
、ビタミン誘導体(XI)を得ることができろ。
この様にして得られたビタミン誘導体(Xl[I)は必
要に応じて、常法に従い水酸基の脱保護を行うことによ
りビタミン誘導体(Xff)へ変換す゛ることができろ
。この脱保護反応は、セコステロイド誘導体(I[I)
の側鎖の保護されたシアノヒドリンの脱保護と同様にし
て行われる。
要に応じて、常法に従い水酸基の脱保護を行うことによ
りビタミン誘導体(Xff)へ変換す゛ることができろ
。この脱保護反応は、セコステロイド誘導体(I[I)
の側鎖の保護されたシアノヒドリンの脱保護と同様にし
て行われる。
この様にした得られたビタミン誘導体(:l/)のうち
Y4、ysおよびY6が水素原子であるもの;よ副甲状
腺機能低下症、骨軟化症、骨wi間然症どコ)カルシウ
ム代謝の欠陥症の治療薬として有用であることが知られ
ているlα−ヒドロキシビタミンD、であり、またY4
およびYeが水素原子であり、ysが水酸基であるもの
は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療薬として有用であることが
知られている1、25−ジヒドロキシビタミンD、であ
り、またY5およびYeが水素原子であり y aが水
酸基であるものは1.25−ジヒドロキシビタミン0.
と同様な作用を持ち、転置治療薬として有用であること
が知られている1、24−ジヒドロキシビタミンD、で
ある。
Y4、ysおよびY6が水素原子であるもの;よ副甲状
腺機能低下症、骨軟化症、骨wi間然症どコ)カルシウ
ム代謝の欠陥症の治療薬として有用であることが知られ
ているlα−ヒドロキシビタミンD、であり、またY4
およびYeが水素原子であり、ysが水酸基であるもの
は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療薬として有用であることが
知られている1、25−ジヒドロキシビタミンD、であ
り、またY5およびYeが水素原子であり y aが水
酸基であるものは1.25−ジヒドロキシビタミン0.
と同様な作用を持ち、転置治療薬として有用であること
が知られている1、24−ジヒドロキシビタミンD、で
ある。
[実施例]
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例により限定されるものではない。な
お、これらの実施例中、核磁気共鳴(N M R)スペ
クトルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定しrこ。
明はこれらの実施例により限定されるものではない。な
お、これらの実施例中、核磁気共鳴(N M R)スペ
クトルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定しrこ。
参考列1
1α、3.・タージアセトキシ−5α、8α−(3,5
−ジオキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアシリジ
ノ)コレスタ−6,22−ジエン−24−オール2.7
4gを1%のピリジンを含C塩化メチレンloOm12
に溶解し、ドライアイス−アセトン浴中にて冷却しなが
ら撹拌しr二。この溶液にドライアイス−アセトン浴中
にて冷却しながらオゾンガスを吹き込んで飽和させた1
%ピリジンを含む塩化メチレン425m1!を加えた。
−ジオキソ−4−フェニル−1,2,4−トリアシリジ
ノ)コレスタ−6,22−ジエン−24−オール2.7
4gを1%のピリジンを含C塩化メチレンloOm12
に溶解し、ドライアイス−アセトン浴中にて冷却しなが
ら撹拌しr二。この溶液にドライアイス−アセトン浴中
にて冷却しながらオゾンガスを吹き込んで飽和させた1
%ピリジンを含む塩化メチレン425m1!を加えた。
オゾンの青色が消えたことを確認した後、ジメチルスル
フィド5m(加え、浴を除き、室温になるまで放置した
。冷2%塩酸および水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより、1α、3β−ジ
アセトキシ−5α。
フィド5m(加え、浴を除き、室温になるまで放置した
。冷2%塩酸および水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより、1α、3β−ジ
アセトキシ−5α。
8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−1,2,4
−トリアシリジノ)−6−プレグネン−20−カルブア
ルデヒドを8HBを得た。
−トリアシリジノ)−6−プレグネン−20−カルブア
ルデヒドを8HBを得た。
’HNMRス’<クトk (90MHz) 6 : 0
.87(s。
.87(s。
3H) 、 1.01(s、 3H) 、 1.17(
d、 J=7Hz。
d、 J=7Hz。
3H) 、 1.97および1.98(いずれもs、
6[1) 。
6[1) 。
5.03(i、 IH) 、 5,34(m、 IH)
6.23゜6.41 (ABq、 J= 8Hz、
2H) 、 7.2〜7.6 (m。
6.23゜6.41 (ABq、 J= 8Hz、
2H) 、 7.2〜7.6 (m。
5H) 、 9.58 (d、 J= 4Hz、 IH
)参考例2 1α、3β−ジアセトキシ−5α、8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−)リアシリジノ)
=6−プレグネン−20−カルブアルデヒド302mg
に2.1規定の水酸化カリウムを含む95%エタノール
溶液5m12を加え、アルゴン雰囲気下に1.5時間加
熱還流した。反応液を冷却後、水にあけ、ジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をジエチルエーテルよ
り再結晶することにより精製し、lα、3β−ジヒドロ
キシプレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒ
ドを163a+g得た。
)参考例2 1α、3β−ジアセトキシ−5α、8α−(3,5−ジ
オキソ−4−フェニル−1,2,4−)リアシリジノ)
=6−プレグネン−20−カルブアルデヒド302mg
に2.1規定の水酸化カリウムを含む95%エタノール
溶液5m12を加え、アルゴン雰囲気下に1.5時間加
熱還流した。反応液を冷却後、水にあけ、ジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をジエチルエーテルよ
り再結晶することにより精製し、lα、3β−ジヒドロ
キシプレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒ
ドを163a+g得た。
’HNMRスペクトル(90MIIZ)δ: 0.71
(s。
(s。
3H)、0.92(s、3■) 、1.06(d、J
=7Hz。
=7Hz。
3H)、3.2〜3.8(a、IH)、4.0〜4.3
(m’。
(m’。
IH)、54〜5.5(a、18)、5.6〜5.8(
m。
m。
1)り、9.54 (d、l[l)
参考例3
1α、3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ノニン−
20−カルブアルデヒド69BをN、N−ジメチルホル
ムアミドla+cに溶解し、イミダゾール0.2g1次
いで塩化t−ブチルジメチルシリル0,2gを加え、室
温で20時間撹拌した。反応混合液を水にあけ、ジエチ
ルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、1α、3β−ビ
ス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5,7−シエ
ンー20−カルブアルデヒドを75B得た。
20−カルブアルデヒド69BをN、N−ジメチルホル
ムアミドla+cに溶解し、イミダゾール0.2g1次
いで塩化t−ブチルジメチルシリル0,2gを加え、室
温で20時間撹拌した。反応混合液を水にあけ、ジエチ
ルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、1α、3β−ビ
ス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5,7−シエ
ンー20−カルブアルデヒドを75B得た。
’HNMRスヘクトル(90MH2) 6 : 0.1
1および0.13 (それぞれs、 12H) 、 0
.70 (s。
1および0.13 (それぞれs、 12H) 、 0
.70 (s。
3H) 、 0.88(s、 3H) 、 0.95お
よび0.96(それぞれs、18■) 、 1.15
(d、 J= 6.4Hz。
よび0.96(それぞれs、18■) 、 1.15
(d、 J= 6.4Hz。
3H)、4.1〜4.5 (2H)、5.39 (m、
IH)。
IH)。
5.64(+*、 IH)、 9.55(d、
J=3.5Hz、 11()参考例4 1α、3β−ジヒドロキンプレグナ−5,7−ノニン−
20−カルブアルデヒド71mgを塩化メチレン1m9
に溶解し、エチルビニルエーテル0.2mCを加え、水
冷下撹拌した。触媒量のI)−トルエンスルホン酸を加
え、さらに水冷下10分間撹拌した。反応混合液を重曹
水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
、lα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−5,7
−:/エンー2〇−カルブアルデヒドを73B得た。
J=3.5Hz、 11()参考例4 1α、3β−ジヒドロキンプレグナ−5,7−ノニン−
20−カルブアルデヒド71mgを塩化メチレン1m9
に溶解し、エチルビニルエーテル0.2mCを加え、水
冷下撹拌した。触媒量のI)−トルエンスルホン酸を加
え、さらに水冷下10分間撹拌した。反応混合液を重曹
水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
、lα、3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−5,7
−:/エンー2〇−カルブアルデヒドを73B得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ:0.70(s
38) 、 0.88 (s、 3H) 、 34〜4
.1 (6H) 。
38) 、 0.88 (s、 3H) 、 34〜4
.1 (6H) 。
4.5〜4.8(2H) 、 5JO(m、 IH)
、 5.50(m、 IH) 、 9.54(d、 J
=3.5Hz、 IH)参考例5 1α、3δ−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
プレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒド1
00+1gをエタノール2m12に溶解し、水素化ホウ
素ナトリウム20Bを水冷下で加え、そのまま30分間
撹拌しfコ。反応混合物に水冷下で希塩酸を加えて中和
し、水で希釈した後、ジエチルエーテルで抽出しfコ。
、 5.50(m、 IH) 、 9.54(d、 J
=3.5Hz、 IH)参考例5 1α、3δ−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
プレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアルデヒド1
00+1gをエタノール2m12に溶解し、水素化ホウ
素ナトリウム20Bを水冷下で加え、そのまま30分間
撹拌しfコ。反応混合物に水冷下で希塩酸を加えて中和
し、水で希釈した後、ジエチルエーテルで抽出しfコ。
抽出液を重曹水および食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥しn、減圧下にJI縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、20−メチ
ル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)プレグナ−5,7−ノニン−21−オールを91B
得た。
ウム上で乾燥しn、減圧下にJI縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、20−メチ
ル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)プレグナ−5,7−ノニン−21−オールを91B
得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.11
(s。
(s。
3H) 、 0.12(s、 3H) 、 0.13(
s、 38) 。
s、 38) 。
0.15(s、 3H) 、 0.74(s、 3H)
、0.95(s、 9B) 、 0.97(s、 9
H) 、 1,0f(s。
、0.95(s、 9B) 、 0.97(s、 9
H) 、 1,0f(s。
3H) 、 1.01 (d、 J=7Hz、 38)
、 3.52(m。
、 3.52(m。
2H) 、 4.1〜4.5 (2H) 、 5.38
(m、 1B) 。
(m、 1B) 。
5.64 (s、 IH)
参考例6
参考例5において、lα、3δ−ビス(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー20−
カルブアルデヒドloo量gの代わりに1α。
チルシリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー20−
カルブアルデヒドloo量gの代わりに1α。
3β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7
−シエンー20−カルブアルデヒドを用いる以外は同様
にして操作を行うことにより、2o−メチル−1α、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−
ノニン−21−オール89mgを得た。
−シエンー20−カルブアルデヒドを用いる以外は同様
にして操作を行うことにより、2o−メチル−1α、3
β−ビス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−
ノニン−21−オール89mgを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ:0.71(s
3H) 、 0.88(s、 3H) 、 2.9〜4
.1 (8H) 。
3H) 、 0.88(s、 3H) 、 2.9〜4
.1 (8H) 。
4.5〜4.8(2H) 、 5.29(+a、 1)
I) 、 5.50(m、 IH) 参考例7 20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー21−オー
ル9hgをピリジン1ID12に溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン5mgを加え、水冷下に撹拌した。
I) 、 5.50(m、 IH) 参考例7 20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)プレグナ−5,7−シエンー21−オー
ル9hgをピリジン1ID12に溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン5mgを加え、水冷下に撹拌した。
塩化p−トルエンスルホニル’IOBを加え、室温で5
時間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮
した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−21−p−)ルエンスル
ホニルオキシブレグナ−5,7−ジエン95egを得r
二。
時間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮
した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、20−メチル−1α、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−21−p−)ルエンスル
ホニルオキシブレグナ−5,7−ジエン95egを得r
二。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.11
(s。
(s。
3H) 、 0.12(s、 3H) 、 0.13(
s、 3H) 。
s、 3H) 。
0.15(s、 3H) 、 0.75(s、 3H)
、0.95(s、 9H) 、 0.97(s、 9
H) 、 1,0f(s。
、0.95(s、 9H) 、 0.97(s、 9
H) 、 1,0f(s。
3H) 、 1.01(d、 J=7Hz、 3H)
、 2.40(s。
、 2.40(s。
3H) 、 3.83(s、 2H) 、 4.1〜4
.5(2■)。
.5(2■)。
5.38(s、 18) 、 5.64(m、 IH)
、 7.36(d。
、 7.36(d。
J=8Hz、 2H) 、 7.82(d、 J=8H
z、 2tl)参考例8 20−メチル−1α、3β−ビス(エトキシエチルオキ
シ)プレグナ−5,7−シエンー21−オール931g
をピリジン2麿aに溶解し、水冷下で撹拌した。
z、 2tl)参考例8 20−メチル−1α、3β−ビス(エトキシエチルオキ
シ)プレグナ−5,7−シエンー21−オール931g
をピリジン2麿aに溶解し、水冷下で撹拌した。
三臭化リン0.5m12を加え、水冷下2時間撹拌した
。
。
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した
。抽出液を水、重曹水、食塩水で順欠跣浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥した。減圧下fIk縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより、21−
ブロモ−20−メチル−1α、3β−ビス(エトキシエ
チルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン85Bを得r二
。
。抽出液を水、重曹水、食塩水で順欠跣浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥した。減圧下fIk縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより、21−
ブロモ−20−メチル−1α、3β−ビス(エトキシエ
チルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン85Bを得r二
。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.59
(s。
(s。
3H) 、 0.92(s、 3H) 、 1.01(
d、 J=7Hz。
d、 J=7Hz。
3H) 、 1.01(d、 J=7tlz、 3H)
、 3.2〜4.1(8H) 、 4.6〜4.9
(2H) 、 5.30 (m、 IH) 。
、 3.2〜4.1(8H) 、 4.6〜4.9
(2H) 、 5.30 (m、 IH) 。
5.62 (m、 LH)
実施例1
ナトリウムへキサメチルジシラジド(0,66規定ψベ
ンゼン溶液) 0.47a+12をベンゼン4+e&で
希釈し、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。1−
(1−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチルブ
タン57mgおよび20−メチル−1α、3β−ビス(
1−ブチルジメチルシリルオキシ) −21−p−トル
エンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21■
gをベンゼン4m(lに溶解し、上記のナトリウムへキ
サメチルジシラジド溶液に1時間かけて滴下した。
ンゼン溶液) 0.47a+12をベンゼン4+e&で
希釈し、アルゴン雰囲気下60℃で加熱撹拌した。1−
(1−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチルブ
タン57mgおよび20−メチル−1α、3β−ビス(
1−ブチルジメチルシリルオキシ) −21−p−トル
エンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21■
gをベンゼン4m(lに溶解し、上記のナトリウムへキ
サメチルジシラジド溶液に1時間かけて滴下した。
滴下終了後、冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、5分間
撹拌した。有機層を分け、水溶液をジエチルエーテルで
抽出した。有機層を合わけ、食塩水で洗浄し硫酸ナト・
リウム上で乾燥した。減圧上濃縮後シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、23−(1−エトキン
)エトキシ−23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキソ)コレスタ−5,7−ジエン
19Bを得た。
撹拌した。有機層を分け、水溶液をジエチルエーテルで
抽出した。有機層を合わけ、食塩水で洗浄し硫酸ナト・
リウム上で乾燥した。減圧上濃縮後シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、23−(1−エトキン
)エトキシ−23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブ
チルジメチルシリルオキソ)コレスタ−5,7−ジエン
19Bを得た。
’HN〜IRスペクトル(90MHz)δ: 0.10
(s。
(s。
3H) 、 0.12(s、 3H) 、 0.13(
s、 3H) 。
s、 3H) 。
0.15(s、 3H) 、 0.70(s、 3H)
、 3.3〜4.0(m、 2H) 、 4.1〜4
.6(28) 、 4.7〜5.1(IH) 、 5.
38(m、 LH) 、 5.64(sIH) 実施例2 実施例1において20−メチル−1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−トルエン
スルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21Bのか
わりに、21−ブロモ−20−メチル−1α、3β−ビ
ス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
17mgを用いろ以外は同様にして操作を行うことによ
り、23−シアノ−1α、3β、23−トリス[(1−
エトキシ)エトキシココレスター5.7−ジエン15m
gを得た。
、 3.3〜4.0(m、 2H) 、 4.1〜4
.6(28) 、 4.7〜5.1(IH) 、 5.
38(m、 LH) 、 5.64(sIH) 実施例2 実施例1において20−メチル−1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)−21−p−トルエン
スルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21Bのか
わりに、21−ブロモ−20−メチル−1α、3β−ビ
ス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
17mgを用いろ以外は同様にして操作を行うことによ
り、23−シアノ−1α、3β、23−トリス[(1−
エトキシ)エトキシココレスター5.7−ジエン15m
gを得た。
IHNMRスペクトル(911JHz) 6 : 0.
69 CS。
69 CS。
3H) 、 0.9〜1.1 (12)1) 、 3.
2〜4.2(l0H) 、 4.5〜5.0 (38)
、 5.40 (tpIH) 、 5.63 (II
l、 IH)実施例3 23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1α
、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレ
スタ−5,7−ジエン19Bをジエチルエーテル400
m12に溶解し、アルゴンガスを通じながら水浴中で冷
却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて10分
間紫外線を照射した。反応混合物を減圧下濃縮した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−
1α、3β−ビス(を−ブチルジメチルシリルオキシ)
−9,to−セココレスタ−5(10)、6.8−トリ
エン2.50gを得た。
2〜4.2(l0H) 、 4.5〜5.0 (38)
、 5.40 (tpIH) 、 5.63 (II
l、 IH)実施例3 23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1α
、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレ
スタ−5,7−ジエン19Bをジエチルエーテル400
m12に溶解し、アルゴンガスを通じながら水浴中で冷
却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて10分
間紫外線を照射した。反応混合物を減圧下濃縮した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−
1α、3β−ビス(を−ブチルジメチルシリルオキシ)
−9,to−セココレスタ−5(10)、6.8−トリ
エン2.50gを得た。
H
N M Rスペクトル(90MHz)δ: 0.05
(s。
(s。
12H)、0.70(s、3H)、1.64(s、3H
)。
)。
3.3〜4.0 (2H)、4.1〜4.5 (2H)
、4.7〜5.0 (1)1) 、 5.2〜5.
6 (2H) 、 5.84 (br。
、4.7〜5.0 (1)1) 、 5.2〜5.
6 (2H) 、 5.84 (br。
s、 2H)
実施例4
実施例3において、23−(1−エトキシ)エトキノ−
23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)コレスタ−57−ジエン19Bのかわり
に23−シアノ−1α、3β、23− トリス[(1−
エトキシ)エトキシクコレスター5.フージエン1+B
を用いる以外は同様にして操作を行うことにより、23
−シアノ−1α、3β、23− トリス[(1−エトキ
シ)エトキシ]−9,10−セココレスタ−5(10)
、6.8− トリエン2.OBを得た。
23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)コレスタ−57−ジエン19Bのかわり
に23−シアノ−1α、3β、23− トリス[(1−
エトキシ)エトキシクコレスター5.フージエン1+B
を用いる以外は同様にして操作を行うことにより、23
−シアノ−1α、3β、23− トリス[(1−エトキ
シ)エトキシ]−9,10−セココレスタ−5(10)
、6.8− トリエン2.OBを得た。
HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.7G (
s。
s。
38) 、 0.9〜1.1 (9H) 、 1.63
(s、 3H) 。
(s、 3H) 。
3.2〜4.2 (l0H) 、 4.5〜5.0 (
3H) 、 5.2〜5.6 (2H) 、 5.84
(br、 、s 2H)実施例5 23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1α
、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−9
,10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン
2.5Bをジエチルエーテル2mf!に溶解し、遮光し
て室温で1週間放置しL0減圧下a縮しf二後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、23−(
1−エトキシ)エトキン−23−シアノ−1α。
3H) 、 5.2〜5.6 (2H) 、 5.84
(br、 、s 2H)実施例5 23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1α
、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−9
,10−セココレスタ−5(10)、6.8−トリエン
2.5Bをジエチルエーテル2mf!に溶解し、遮光し
て室温で1週間放置しL0減圧下a縮しf二後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、23−(
1−エトキシ)エトキン−23−シアノ−1α。
3β−ビス(【−ブチルジメチルシリルオキシ)−9,
to−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン
1.3Bを得た。
to−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン
1.3Bを得た。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.01
(s。
(s。
12B) 、 0.60(s、 38) 、 3.3〜
4.0(2H)。
4.0(2H)。
4.1〜4.6(2H) 、 4.7〜5.1 (IH
) 、 5.16(br、 s、 2H) 、 6.0
0(d、 J=lIHz、 Iff) 。
) 、 5.16(br、 s、 2H) 、 6.0
0(d、 J=lIHz、 Iff) 。
6.21 (d、 J= 1lHz、 LH)実施例6
実施例5において、23−(1−エトキシ)エトキシ−
23−シアノ−1α、3β−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−9,10−セココレスタ−5(10)、6
.8− トリエン2.5Bのかわりに23−シアノ−1
α、3β、23− )リス[(1−エトキシ)エトキシ
]コレスタ−5(10)、6.8− )リエン2.Om
gを用いろ以外は同様にして操作を行うことにより、2
3−シアノ−1α、3β、23−トリスI−(1−エト
キシ)エトキシニー9.lO−セココレスタ−5,7,
10(19) −トリエン1.1mgを得を二。
23−シアノ−1α、3β−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−9,10−セココレスタ−5(10)、6
.8− トリエン2.5Bのかわりに23−シアノ−1
α、3β、23− )リス[(1−エトキシ)エトキシ
]コレスタ−5(10)、6.8− )リエン2.Om
gを用いろ以外は同様にして操作を行うことにより、2
3−シアノ−1α、3β、23−トリスI−(1−エト
キシ)エトキシニー9.lO−セココレスタ−5,7,
10(19) −トリエン1.1mgを得を二。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ: 0.60
(s。
(s。
3H) 、 0.9〜1.1 (911) 、 3
.2〜4.2 (Ion) 。
.2〜4.2 (Ion) 。
4.5〜5.0(38) 、 5.15(br、
s、 1B) 。
s、 1B) 。
6.01 (d、 J= 1lHz、 IH) 、
6.21 (d、 J=11Hz、 IH) 参考例9 ■23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1
α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−
9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−)リ
エン1.3mgをメタノールleeに溶解し、触媒量の
p−トルエンスルホン酸を加え、水冷下で25分間撹拌
した。反応混合物を塩化メチレンで希釈し、食塩水を加
えた。有機層を分け、水層を塩化メチレンで抽出した。
6.21 (d、 J=11Hz、 IH) 参考例9 ■23−(1−エトキシ)エトキシ−23−シアノ−1
α、3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−
9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−)リ
エン1.3mgをメタノールleeに溶解し、触媒量の
p−トルエンスルホン酸を加え、水冷下で25分間撹拌
した。反応混合物を塩化メチレンで希釈し、食塩水を加
えた。有機層を分け、水層を塩化メチレンで抽出した。
有機層を合わせ、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
濃縮し、23−シアノ−1a。
濃縮し、23−シアノ−1a。
3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−9,
10−セココレスタ−5,7,10(19)−)ジエン
−23−オールを粗製物として得た。
10−セココレスタ−5,7,10(19)−)ジエン
−23−オールを粗製物として得た。
■上記で得られた粗製物をテトラヒドロフラン1−aに
溶解し、2%水酸化ナトリウム水溶液0.5se加え、
室温で5分間激しく撹拌した。反応混合物を水で希釈し
、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下濃縮し、1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)−9,to−セココレ
スタ−5,7,10(19)−トリエン−23−オンを
粗製物として得た。
溶解し、2%水酸化ナトリウム水溶液0.5se加え、
室温で5分間激しく撹拌した。反応混合物を水で希釈し
、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下濃縮し、1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)−9,to−セココレ
スタ−5,7,10(19)−トリエン−23−オンを
粗製物として得た。
■上記の粗製物をエタノールl−C溶解し、水冷下に水
素化ホウ素ナトリウムIBを加え、水冷下で30分間撹
拌した。反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。
素化ホウ素ナトリウムIBを加え、水冷下で30分間撹
拌した。反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下濃縮し、lα、3β−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−
5,7,10(19)−トリエン−23−オールを粗製
物として得た。
乾燥した。減圧下濃縮し、lα、3β−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−
5,7,10(19)−トリエン−23−オールを粗製
物として得た。
■上記の粗製物をピリジンl−eに溶解し、塩化p−)
ルエンスルホニル10mgおよび11.N−ジメチルア
ミノピリジン2mgを加え、室温で22時間撹拌した。
ルエンスルホニル10mgおよび11.N−ジメチルア
ミノピリジン2mgを加え、室温で22時間撹拌した。
反応混合物を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、重曹水
、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより部分精製し、lα、3β−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−23−p−トルエンスルホニルオキ
シ−9,10−セココレスタ−5,7,IQ(19)
)リエン0.8Bを得た。
ーにより部分精製し、lα、3β−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−23−p−トルエンスルホニルオキ
シ−9,10−セココレスタ−5,7,IQ(19)
)リエン0.8Bを得た。
■lα、3β−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−
23−p−)ルエンスルホニルオキシ−9,10−セコ
コレスタ−5,7,10(19) −)リエン0.8鳳
gをテトラヒドロフラン311!に溶解し、水素化アル
ミニウムリチウム20mgを加え、アルゴン雰囲気下2
.5時間加熱還流した。反応混合物を水冷下ジエチルエ
ーテルで希釈した後、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え
、過剰の還元剤を分解した。不溶物を炉別し、酢酸エチ
ルで充分洗浄した。洗浄液をか液に合わせ、減圧下濃縮
し、lα、3β−ビス(t(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンを粗製物として得た。
23−p−)ルエンスルホニルオキシ−9,10−セコ
コレスタ−5,7,10(19) −)リエン0.8鳳
gをテトラヒドロフラン311!に溶解し、水素化アル
ミニウムリチウム20mgを加え、アルゴン雰囲気下2
.5時間加熱還流した。反応混合物を水冷下ジエチルエ
ーテルで希釈した後、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え
、過剰の還元剤を分解した。不溶物を炉別し、酢酸エチ
ルで充分洗浄した。洗浄液をか液に合わせ、減圧下濃縮
し、lα、3β−ビス(t(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(1
9)−トリエンを粗製物として得た。
■上記の粗製物をテトラヒドロフラン2ai2に溶解し
、フッ化テトラブチルアンモニウム(1規定テトラヒド
ロフラン溶液)0.5■eを加え、室温で5時間撹拌し
た。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
、フッ化テトラブチルアンモニウム(1規定テトラヒド
ロフラン溶液)0.5■eを加え、室温で5時間撹拌し
た。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィーにより精製し、9.lO−セココレスタ−5,7
,10(19)−トリエン−1α、3β−ジオール0
、3mgを得た。このものの分析値(N M R、U
V 、 M S )はすべて文献値と一致した。
フィーにより精製し、9.lO−セココレスタ−5,7
,10(19)−トリエン−1α、3β−ジオール0
、3mgを得た。このものの分析値(N M R、U
V 、 M S )はすべて文献値と一致した。
実施例7
実施例1において、1−(1−エトキシ)エトキシ−1
−シアノ−3−メチルブタン57−gの代わりに1−)
ジメチルシリルオキシ−l−シアノ−3−メチル−2−
ブテン57Bを用いる以外は同様にして操作を行うこと
により23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−23−トリメチルシリルオキン
コレスタ−5,7,24−トリエン17mgを得た。
−シアノ−3−メチルブタン57−gの代わりに1−)
ジメチルシリルオキシ−l−シアノ−3−メチル−2−
ブテン57Bを用いる以外は同様にして操作を行うこと
により23−シアノ−1α、3β−ビス(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−23−トリメチルシリルオキン
コレスタ−5,7,24−トリエン17mgを得た。
実施例8
実施例1において、t−Ct−エトキシ)エトキシ−1
〜シアノ−3−メチルブタン57Bの代わりに(1−エ
トキシ)エトキシアセトニトリル40Bを用いろ以外は
同様にして操作を行うことにより20−[2−シアノ−
2−(l−エトキシ)コニチル−1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジ
エン8Bを得た。
〜シアノ−3−メチルブタン57Bの代わりに(1−エ
トキシ)エトキシアセトニトリル40Bを用いろ以外は
同様にして操作を行うことにより20−[2−シアノ−
2−(l−エトキシ)コニチル−1α、3β−ビス(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジ
エン8Bを得た。
実施例9
実施例1において、!−(1−エトキシ)エトキシ−1
−シアノ−3−メチルブタン57Bの代わりに1−(1
−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチル−3−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシブタン881gを
用いろ以外は同様にして操作を行うことにより23−シ
アノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−1α、3β−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−25−(2
−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジ
エン21mgを得た。
−シアノ−3−メチルブタン57Bの代わりに1−(1
−エトキシ)エトキシ−1−シアノ−3−メチル−3−
(2−テトラヒドロピラニル)オキシブタン881gを
用いろ以外は同様にして操作を行うことにより23−シ
アノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−1α、3β−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−25−(2
−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−5,7−ジ
エン21mgを得た。
実施例10
実施例1において、1−(1−エトキシ)エトキシ−1
−シアノ−3−メチルブタン57mgの代わりに4−C
2−ンアノー2−(1−エトキノ)エトキンニエチル−
2,2,4−トリメチル−1,3〜ジオキソラン80o
+gを用いる以外は同様にして操作を行うことにより2
3−シアノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−25,
26−イツブロビリデンジオキシー1α、3β−ビス(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−
ジエン1gBを得た。
−シアノ−3−メチルブタン57mgの代わりに4−C
2−ンアノー2−(1−エトキノ)エトキンニエチル−
2,2,4−トリメチル−1,3〜ジオキソラン80o
+gを用いる以外は同様にして操作を行うことにより2
3−シアノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−25,
26−イツブロビリデンジオキシー1α、3β−ビス(
t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレスタ−5,7−
ジエン1gBを得た。
実施例11
実施例1において、1−(1−エトキシ)エトキシ−1
−シアノ−3−メチルブタン57mgの代わりに1−シ
アノ−1−(1−エトキン)エトキシ−2−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−4−メチルブタン97Bを用い
ろ以外は同様にして操作を行うことにより、23−シア
ノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−1α、3β、2
4−トリス(【−ブチルジメチルシリルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン22Bを得た。
−シアノ−3−メチルブタン57mgの代わりに1−シ
アノ−1−(1−エトキン)エトキシ−2−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−4−メチルブタン97Bを用い
ろ以外は同様にして操作を行うことにより、23−シア
ノ−23−(1−エトキシ)エトキシ−1α、3β、2
4−トリス(【−ブチルジメチルシリルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン22Bを得た。
[発明の効果]
本発明により一般式(1)、−最大([1)及び−最大
(III)で示されるffrMlなステロイド誘導体並
びに−最大(1)で示されるステロイド誘導体の製造方
法か撓供されろ。
(III)で示されるffrMlなステロイド誘導体並
びに−最大(1)で示されるステロイド誘導体の製造方
法か撓供されろ。
本発明によりtl共される該ステロイド誘導体は、慢性
腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウ
ム代謝の欠陥症の治療に有効であることか知られている
1α、25−ジヒドロキシビタミンD3を初めとするl
α位に水酸基をもつビタミンD3誘導体の合成中間体と
して有用である。
腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウ
ム代謝の欠陥症の治療に有効であることか知られている
1α、25−ジヒドロキシビタミンD3を初めとするl
α位に水酸基をもつビタミンD3誘導体の合成中間体と
して有用である。
特許出願人 株式会社 り ラ し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは水素原子又は−CH(Y^1)C(Y^2
)(CH_3)CH_2Y^3基を表わし、Y^1及び
Y^2はそれぞれ水素原子若しくは−OZ^1基を表わ
すか又は一緒になつて炭素−炭素結合を表わし、Y^3
は水素原子又は−OZ^1基を表わし、R^1、R^2
、Z^1及びZ^2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保
護基を表わす] で示されるステロイド誘導体。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、R^1、R^2及びZ^2はそれぞれ請求
項1記載のR、R^1、R^2及びZ^2と同じである
)で示される9,10−セコステロイド誘導体。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、R^1、R^2及びZ^2はそれぞれ請求
項1記載のR、R^1、R^2及びZ^2と同じである
)で示される9,10−セコステロイド誘導体。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1及びR^2はそれぞれ請求項1記載のR
^1及びR^2と同じであり、Aはハロゲン原子又はス
ルホニルオキシ基を表わす) で示されるプレグナン誘導体と一般式 NCCH(OZ^2)R (式中、R及びZ^2はそれぞれ請求項1記載のR及び
Z^2と同じである) で示されるシアノヒドリン誘導体とを塩基性物質存在下
に反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中、R、R^1、R^2及びZ^2はそれぞれ請求
項1記載のR、R^1、R^2及びZ^2と同じである
)で示されるステロイド誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073061A JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1073061A JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02250864A true JPH02250864A (ja) | 1990-10-08 |
JP2642189B2 JP2642189B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=13507462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1073061A Expired - Lifetime JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2642189B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0597796A (ja) * | 1991-03-11 | 1993-04-20 | Wisconsin Alumni Res Found | 1α−ヒドロキシ−セコステロール化合物の調製方法 |
US5429934A (en) * | 1990-08-18 | 1995-07-04 | Schering Aktiengesellschaft | Process for the production of 20-methyl-5,7-pregnadiene-3β,21-diol derivatives using mycobacterium |
WO2012172893A1 (ja) | 2011-06-17 | 2012-12-20 | ユニマテック株式会社 | ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法 |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1073061A patent/JP2642189B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5429934A (en) * | 1990-08-18 | 1995-07-04 | Schering Aktiengesellschaft | Process for the production of 20-methyl-5,7-pregnadiene-3β,21-diol derivatives using mycobacterium |
JPH0597796A (ja) * | 1991-03-11 | 1993-04-20 | Wisconsin Alumni Res Found | 1α−ヒドロキシ−セコステロール化合物の調製方法 |
WO2012172893A1 (ja) | 2011-06-17 | 2012-12-20 | ユニマテック株式会社 | ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法 |
US8853462B2 (en) | 2011-06-17 | 2014-10-07 | Unimatec Co., Ltd. | Method for producing hexafluoroacetone or hydrate thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2642189B2 (ja) | 1997-08-20 |
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