JP2642190B2 - 23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体 - Google Patents

23位に酸素官能基を有するステロイド誘導体

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JP2642190B2 JP1073062A JP7306289A JP2642190B2 JP 2642190 B2 JP2642190 B2 JP 2642190B2 JP 1073062 A JP1073062 A JP 1073062A JP 7306289 A JP7306289 A JP 7306289A JP 2642190 B2 JP2642190 B2 JP 2642190B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は新規な23位に酸素官能基を有するステロイド
誘導体に関する。本発明の23位に酸素官能基を有するス
テロイド誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨
軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有効であ
ることが知られている1α,25−ジヒドロキシビタミンD
3、またビタミンD様の活性を有することが知られてい
る1α−ヒドロキシビタミンD3などの1α位に水酸基を
有するビタミンD3誘導体の合成中間体として有用であ
る。
[従来の技術] 従来、1α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体の製
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することにより1α−ヒドロキシビタミンD3を製造
する方法(特開昭48−62750号公報参照)、コレスタ−
1,4,6−トリエン−3−オン−25−オールを原料とする
1α,25−ジヒドロキシビタミンD3を製造する方法(特
開昭51−100056号公報参照)などが知られている。
[発明が解決しようとする課題] 上記の通り、1α位に水酸基を有するビタミンD3誘導
体の製造方法は種々知られているが、該1α位に水酸基
を有するビタミンD3誘導体を製造するに際し、合成中間
体として使用できる化合物を多くの化合物の中から選択
することができれば、原料事情に応じてその製造プロセ
スを適宜変更することが可能となり好ましい。
しかして、本発明の目的は、種々の1α位に水酸基を
有するビタミンD3誘導体の合成中間体となり得る新規な
ステロイド誘導体を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、上記の目的は (1)一般式 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表わし、Xは水素原子又は−OY基を表わし、Yは水
素原子又は水酸基の保護基を表わす) で示される23−オクソコレスタ−5,7−ジエン誘導体
(I)、 (2)一般式 (式中、R1、R2及びXは前記定義の通りである) で示される23−ヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン誘導
体(II)、及び (3)一般式 (式中、R1及びR2は前記定義の通りである) で示される23−オクソ−9,10−セココレスタ−5,7,10
(19)−トリエン誘導体(III−A)を提供することに
より達成される。
上記一般式(I)、一般式(II)及び一般式(III−
A)で示される化合物を以後それぞれ下記の様に称する
ことがある。
上記各一般式におけるR1、R2及びYを以下に詳しく説
明する。
R1、R2及びYが表わす水酸基の保護基としては、水酸
基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられている
いずれの保護基でも良いが、具体的には三置換シリル
基、置換基を有していても良いアルコキシメチル基など
が挙げられる。ここで、三置換シリル基としては、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピ
ルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などのトリア
ルキルシリル基;t−ブチルジフエニルシリル基などのジ
アリールアルキルシリル基などが挙げられ、置換基を有
していても良いアルコキシメチル基としては、メトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコキシ
メチル基;1−エトキシエチル基、1−メトキシ−1−メ
チルエチル基などのアルキル置換アルコキシメチル基;
テトラヒドロフラン−2−イル基、テトロヒドロピラン
−2−イル基などの2−オキサシクロアルキル基などが
挙げられる。
ステロイド誘導体(I)は例えば以下の方法により製
造することができる。
(上記の式において、R1、R2およびXは前記定義の通り
であり、R3及びR4はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表わし、R6は水酸基の保護基を表わし、R5は低級ア
ルキル基又はアリール基を表わし、Acはアセチル基を表
わし、Phはフエニル基を表わす) 上記式(V)、式(VI−I)、一般式(VI−2)、一
般式(VII)、一般式(VIII)及び一般式(IX)で示さ
れる化合物を以後それぞれ下記のように称することがあ
る。
さらに、一般式(VI−2)において、R3及びR4が下記
の基を表わすことによつて示される化合物を以後下記の
様に称することがある。
ここでR3、R4及びR6が表わす水酸基の保護基として
は、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いら
れているいずれの保護基でも良いが、具体的にはR1が表
わす基が挙げられる。R5が表わす低級アルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基など
が挙げられ、アリール基としてはフエニル基、p−トリ
ル基、p−ブロモフエニル基、ナフチル基などが挙げら
れる。まず、H.Saiらの方法[ケミカル・フアーマシユ
ーテイカル・ブルテン(Chem.Pharm.Bull.)32巻3866〜
3872ページ(1984年)参照]に従つて調製した化合物
(V)をアルデヒド(VI−1)に変換するが、この変換
は化合物(VI)の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的に
オゾン酸化し、得られるオゾニドを還元的に処理し、さ
らに5,7−ジエン及び水酸基の保護基を除去することに
より行る。すなわち化合物(V)の溶液に冷却下オゾン
ガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾンの飽和溶
液を化合物(V)の溶液の冷却下に加えることにより、
オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加えることに
よつて還元的後処理が行われる。使用するオゾンガスの
量は通常化合物(V)1モルに対して約0.1〜10モル、
好ましくは約0.5〜0.8モルである。この反応は、塩化メ
チレン、メタノールなどの反応に関与しない溶媒中で行
われ、その使用量は通常化合物(V)に対して約10〜20
0倍重量である。またこの溶液中に約1%のピリジンを
共存させることも可能である。オゾン化反応は通常約0
℃以下の温度下で行われ、好ましくは約−50〜−100℃
の範囲内の温度で行われる。還元的後処理は通常約−10
0〜30℃の範囲内の温度で行われる。反応は、ドライア
イス−アセトン浴中で冷却した化合物(V)1モルに対
して約0.5〜0.8モルのオゾン及び1%ピリジンを含む塩
化メチレン溶液をドライアイス−アセトン浴中で冷却し
た化合物(V)の溶液に加え、オゾンの青色が消えたこ
とを確認した後に、約20モルのジメチルスルフイドを加
え、ドライアイス−アセトン浴を除去し、室温まで加温
することにより実施するのが簡便である。次いで、反応
液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・濃縮し
粗生成物を得た後、通常用いられている方法に従つてジ
エンの脱保護を行うと同時に水酸基の脱アセチル化を行
うことにより化合物(VI−1)が得られる。この脱保護
・脱アセチル化の方法としては、エタノール中水酸化カ
リウムで処理する方法などが挙げられるが、使用するエ
タノールの量は化合物(V)に対して約5〜200倍倍重
量であり、また使用する水酸化カリウムの量は化合物
(V)1モルに対して約10〜500モル、好ましくは50〜2
00モルである。
反応は、化合物(V)1モルに対して約100モルの水
酸化カリウムを含む約2規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
反応混合物からのアルデヒド(VI−1)の単離・精製
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあ
け、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重
曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフイーなどにより精製するこ
とによつてアルデヒド(VI−1)を得ることができる。
この様にして得られたアルデヒド(VI−1)は、必要
に応じて常法に従い1位および3位の水酸基の保護を行
い、アルデヒド(VI−2)に変換される。この際、1位
または3位の水酸基を選択的に保護し、ジオールのモノ
保護体を得た後に、再び保護反応を行うことにより、ア
ルデヒド(VI−2)に変換することもできる。
アルデヒド(VI−1)からアルデヒド(VI−2−1)
への変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下に塩
化三置換シリルを作用させることにより行うことができ
る。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、塩化
トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化トリイ
ソプロピルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、塩
化t−ブチルジフエニルシリルなどが挙げられる。塩化
三置換シリルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1
モル対して約2〜50モル、好ましくは5〜20モルであ
る。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジン、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエ
チルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素
化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩
基性物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モル
対して約2〜200モルであり、好ましくは約5〜100モル
である。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用す
る有機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また
塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムア
ミドなどの反応に関与しない溶媒を用いることも可能で
ある。溶媒の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)に対
して約5〜200倍重量である。反応は通常約−20〜100℃
の範囲内の温度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度
で行われる。
この様にして得られたアルデヒド(VI−2−1)の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗
浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマト
グラフイーなどにより精製することによりアルデヒド
(VI−2−1)を得ることができる。
アルデヒド(VI−1)のアルデヒド(VI−2−2)へ
の変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在下に
クロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは酸触媒
下にビニルエーテルを作用させることにより行われる。
反応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、クロ
ルメチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチル
などが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エチルビニ
ルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジヒドロ
ピランなどが挙げられる。クロルメチルエーテルまたは
ビニルエーテルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)
1モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜20モル
である。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジ
ン、トキエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミン、水
素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる。
塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モ
ルに対して約2〜200モルであり、好ましくは約5〜100
モルである。使用する酸触媒としては、p−トルエンス
ルホン酸、カンフアースルホン酸などのスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸
塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられる。酸触媒の
使用量は、アルデヒド(VI−1)1モルに対して、通常
約0.05〜0.2モルである。この反応は通常溶媒中で実施
されるが、使用する有機塩基またはビニルエーテルを溶
媒として用いることも可能であり、また塩化メチレン、
テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応
に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使
用量は、通常アルデヒド(VI−1)に対して、約5〜20
0倍重量である。反応は通常約−20〜100℃の範囲内の温
度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド(VI−2−2)の反
応混合液からの単離・精製は通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾
燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイ
ーなどにより精製することによりアルデヒド(VI−2−
2)を得ることができる。
アルデヒド(VI−2−1)またはアルデヒド(VI−2
−2)のアルコール(VII)への変換は常法に従い還元
反応に付することにより行われる。この還元反応に使用
される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチ
ルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、
水素化トリsec−ブチルホウ素リチウム、水素化トリsec
−ブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯体、水素
化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムなど
の金属水素化物などが挙げられ、その使用量はアルデヒ
ド(VI−2−1)またはアルデヒド(VI−2−2)1モ
ルに対して約0.25〜50モル、好ましくは約0.5〜20モル
である。反応は通常溶媒中で行われ、使用される溶媒は
用いる還元剤によつても異なるが、エタノール、メタノ
ール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタンなどが挙げられ、その使用量は、通常アルデ
ヒド(VI−2−1)またはアルデヒド(VI−2−2)に
対して約5〜200倍重量である。反応は通常約−100〜80
℃の範囲内の温度、好ましくは約−30〜30℃の範囲内の
温度で行われる。
この様にして得られたアルコール(VII)の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸
・メタノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を
分解し、必要に応じて水で希釈し、過または抽出・洗
浄などの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、濃縮
して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどに
より精製することによつてアルコール(VII)を得るこ
とができる。
アルコール(VII)からスルホナート(VIII)への変
換は、アルコールをスルホナートに変換する一般的な方
法によつて実施することができる。例えば、塩基性物質
の存在下に塩化スルホニルを作用させることにより行わ
れる。反応に用いられる塩化スルホニルとしては、塩化
メタンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、塩化
p−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ルなどが挙げられ、その使用量はアルコール(VII)1
モルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられる
塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化
ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリチウムな
どの有機金属化合物などが挙げられ、その使用量は通常
アルコール(VII)1モルに対して約1〜1000モルであ
る。この反応は通常溶媒中で行われるが、使用される有
機アミンを溶媒として使用することも可能であり、塩化
メチレン、クロロホルムなどの反応に関与しない溶媒を
用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルコ
ール(VII)に対して約5〜200倍重量である。反応は通
常約−20〜30℃の範囲内の温度、好ましくは約0〜20℃
の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたスルホナート(VIII)の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機
溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグ
ラフイーなどにより精製することによりスルホナート
(VIII)を得ることができる。
スルホナート(VIII)からステロイド誘導体(I)へ
の変換は、塩基性物質存在下に公知の方法[G.Stork及
びL.Maladonado、ジヤーナル・オブ・アメリカン・ケミ
カル・ソシエテイ(J.Amer.Chem.Soc.)93巻5286〜5287
ページなど参照]によつて精製されたシアノヒドリン誘
導体(IX)を反応させた後、側鎖シアノヒドリンの水酸
基の脱保護を行い、アルカリ処理をした後、必要に応じ
て水酸基の保護を行うことによつて実施される。シアノ
ヒドリン誘導体(IX)の使用量はスルホナート(IV)1
モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約1〜10モル
である。使用される塩基性物質としては、メチルリチウ
ム、n−ブチルリチウム、フエニルリチウムなどの有機
金属化合物、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの
金属水素化物、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カ
リウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ムテトラメチルピペラジド、リチウムヘキサメチルジシ
ラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウム
ヘキサメチルジシラジドなどの金属アミドなどが挙げら
れ、その使用量はシアノヒドリン誘導(IX)1モルに対
して約0.5〜5モル、好ましくは約0.8〜2モルである。
この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒として
は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒など反応に関
与しない溶媒が挙げられ、その使用量は通常スルホナー
ト(IV)に対して約5〜200倍重量である。反応は通常
−100℃〜100℃の温度範囲内で行われる。反応の形態と
しては、まずシアノヒドリン誘導体(IX)と塩基性物質
を反応させ、シアノヒドリン誘導体(IX)の塩とした後
スルホナート(IV)を加える方法、塩基性物質の溶液に
スルホナート(IV)及びシアノヒドリン誘導体(IX)の
混合溶液を加える方法、またはスルホナート(IV)及び
シアノヒドリン(IX)の混合溶液に塩基性物質の溶液を
加える方法などが挙げられるが、いずれを採用すること
もできる。次いで反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエ
ーテル、酢酸エチル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽
出し、食塩水で洗浄した後に乾燥・濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフイーなどによつて精製し、
さらに側鎖の保護されたシアノヒドリン誘導体の水酸基
の保護基の脱保護を行つた後、アルカリ処理し、必要に
応じて水酸基の保護を行うことによつてステロイド誘導
体(I)が得られる。
脱保護反応は、常法に従つて行われる。例えば、R6
三置換シリル基である場合にはフツ化物イオン化合物で
処理する方法などが挙げられ、置換基を有していても良
いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒下水ある
いは低級アルコールによつて加溶媒分解する方法などが
挙げられる。用いられるフツ化物イオン化合物として
は、フツ化テトラブチルアンモニウム、フツ化水素酸、
フツ化ピリジニウムなどがあげられ、その使用量はスル
ホナート(VIII)1モルに対して通常約0.05〜2モルで
ある。用いられる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸、p−トルエンスルホン酸、カンフアースルホン酸な
どのスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム
などのスルホン酸塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカ
ルボン酸などが挙げられ、その使用量は使用する酸触媒
によつても異なるが、スルホナート(VIII)1モルに対
して通常約0.05〜10モルである。この反応は通常溶媒中
で行われ、使用される溶媒としては、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル系の溶媒、メタノール、エタノールな
どのアルコール系溶媒などが挙げられ、その使用量は通
常スルホナート(VIII)に対して約5〜200倍重量であ
る。加溶媒分解に用いられる低級アルコールとしては、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなど
が挙げられ、その使用量は通常スルホナート(VIII)に
対して約5〜200倍重量である。反応は通常−10〜70℃
の範囲内の温度で行われる。アルカリ処理において用い
られるアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどの金属水酸化物などが挙げられる。具体的な
反応方法としては、例えば、スルホナート(VIII)1モ
ルに対して約1〜100モルの約1〜10%のアルカリ水溶
液を上述の脱保護されたシアノヒドリンの溶液に加え、
室温で5分〜6時間撹拌あるいは振盪するなどの方法が
挙げられる。
水酸基の保護は常法に従つて行われる。例えば、アル
デヒド(VI−1)からアルデヒド(VI−2)への変換の
際に用いられた方法などが採用される。
このようにして得られたステロイド誘導体(I)の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
用いられる単離・精製法と同様にして行うことができ
る。例えば、反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテ
ル、酢酸エチル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出
し、抽出液を食塩水で洗浄した後に、乾燥・濃縮するこ
とによつて粗生成物を得、クロマトグラフイー、再結晶
などによつて生成することによりステロイド誘導体
(I)を得ることができる。
ステロイド誘導体(II)およびセコステロイド誘導体
(III)はステロイド誘導体(I)から例えば次のよう
にして製造され、さらに下記式で示されるセコステロイ
ド誘導体(IV)に誘導される。
(上記式中、R1、R2及びXは前記定義の通りである) ステロイド誘導体(I)は常法に従つて還元反応に付
することによりステロイド誘導体(II)に変換すること
ができる。この反応に用いられる還元剤としては、水素
化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水
素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化
トリエチルホウ素ナトリウム、水素化トリsec−ブチル
リチウム、水素化トリsec−ブチルカリウムなどの金属
水素化物錯体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムなどの金属水素化物などが挙げられ、そ
の使用量は用いる還元剤の性質によつても異なるが、通
常ステロイド誘導体(I)1モルに対して、約0.25〜20
モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられ
る溶媒としては、使用される還元剤によつても異なる
が、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
系溶媒などが挙げられ、その使用量は通常ステロイド誘
導体(I)に対して約5〜200倍重量である。この反応
は通常約−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたステロイド誘導体(II)の反応
混合物からの単離・精製は通常の有機反応において用い
られる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物に水・希塩酸・飽和硫酸ナトリウム水溶液、酢
酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、過
又は抽出・洗浄などで有機溶媒に不溶なものを除き、乾
燥・濃縮することにより粗生成物を得、クロマトグラフ
イー・再結晶などにより精製して、ステロイド誘導体
(II)を得ることができる。
ステロイド誘導体(I)又はステロイド誘導体(II)
は、常法に従い紫外線を照射した後熱異性化させること
によりそれぞれセコステロイド誘導体(III)及びセコ
ステロイド誘導体(IV)に変換される。使用される紫外
線としては、約200〜360nmの波長範囲のものであり、好
ましくは、約260〜310nmの波長範囲のものである。この
反応は、通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒として
は、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、ブロムベンゼン、クロルベンゼン、四塩化炭素、1,
2−ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、エチルセロソルブなどのエーテル
系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノールなどの
アルコール系溶媒などが挙げられる。反応は約−20〜12
0℃の範囲内の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内
の温度で行われる。
熱エネルギーによる異性化反応は、約0〜120℃の範
囲内の温度、好ましくは約20〜100℃の範囲内の温度で
行われる。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる
溶媒としては、前述の紫外線照射において用いられる溶
媒などが挙げられる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体(III)
又はセコステロイド誘導体(IV)の反応混合物からの単
離・精製は通常の有機反応において用いられる単離・精
製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧下に
濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラフイ
ーなどにより精製することによりセコステロイド誘導体
(III)又はセコステロイド誘導体(IV)を得ることが
できる。
セコステロイド誘導体(III)はステロイド誘導体
(I)をステロイド誘導体(II)に変換したと同様の方
法によりセコステロイド誘導体(IV)に変換することが
できる。
セコステロイド誘導体(IV)は以下のような方法によ
りビタミンD3誘導体に変換される。
(上記式中、R1、R2及びXは前記定義の通りであり、R7
は低級アルキル基又はアリール基を表わし、Yは水素原
子又は水酸基を表わす) 上記式中、R7が表わす低級アルキル基及びアリール基
としては、それぞれR5が表わす低級アルキル基又はアリ
ール基などが挙げられる。
一般式(X−1)及び一般式(X−2)で示される化
合物を以後下記のように称することがある。
セコステロイド誘導体(IV)は常法に従つてスルホニ
ル化することによりスルホナート(X−1)に変換され
る。例えば、アルコール(VII)をスルホナート(VII
I)へ変換したと同様の方法を用いることにより実施さ
れる。
スルホナート(X−1)はスルホニルオキシ基を還元
的に除去することによりビタミン誘導体(X−2)に変
換される。この反応に用いられる還元剤としては、水素
化アルミニウムリチウム、水素化トリエチルホウ素ナト
リウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムなどの金属水素化物錯体などが挙げられ、そ
の使用量はスルホナート(X−1)1モルに対して、通
常約0.5〜20モルである。この反応は通常溶媒中で行わ
れ、使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、そ
の使用量は、スルホナート(X−1)に対して通常約5
〜200倍重量である。反応は通常−20〜80℃の範囲内の
温度で行われる。
この様にして得られたビタミン誘導体(X−2)の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
用いられる単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物に、冷却下、水、希塩酸、飽和硫酸ナト
リウム水溶液、酢酸エチルなどを加え、過剰の還元剤を
分解し、必要に応じて水で希釈し、過又は抽出・洗浄
などの操作により有機溶媒に不溶な物を除き、濃縮して
粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどにより
精製することによりビタミン誘導体(X−2)を得るこ
とができる。
ビタミン誘導体(X−2)は必要に応じて、常法に従
い水酸基の脱保護を行うことにより、ビタミンD3誘導体
に変換される。例えば、保護基が三置換シリル基である
場合には、フツ化物イオン化合物で処理する方法などが
挙げられ、置換基を有していても良いアルコキシメチル
基である場合には、酸触媒下水あるいは低級アルコール
によつて加溶媒分解する方法などが挙げられる。用いら
れるフツ化物イオン化合物としては、フツ化テトラブチ
ルアンモニウム、フツ化水素酸、フツ化ピリジニウムな
どが挙げられ、その使用量はビタミン誘導体(X−2)
1モルに対して通常0.05〜2モルである。用いられる酸
触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、p−トルエンス
ルホン酸、カンフアースルホン酸などのスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸
塩、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸などが挙
げられ、その使用量は使用する酸触媒によつても異なる
が、ビタミン誘導体(X−1)1モルに対して通常約0.
05〜10モルである。加溶媒分解反応に用いられる低級ア
ルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコールなどが挙げられ、その使用量は、ビタミ
ン誘導体(X−2)に対して通常約5〜200倍重量であ
る。この脱保護反応は、通常溶媒中で行われ、使用され
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル系溶媒、メタノール、エタノールなどのアル
コール系溶媒などが挙げられ、その使用量は、ビタミン
誘導体(X−2)に対して、通常約5〜200倍重量であ
る。
この様にして得られたビタミンD3誘導体のうち、Yが
水酸基であるものは、慢性腎不全、副甲状腺機能低下
症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有
効であることが知られている1α,25−ジヒドロキシビ
タミンD3であり、Yが水素原子であるものはビタミンD
様の活性を持ち、同様にカルシウム代謝の欠陥症の治療
に有効であることが知られている1α−ヒドロキシビタ
ミンD3である。
[実施例] 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
なお、これらの実施例中、核磁気共鳴(NMR)スペクト
ルは重クロロホルムを溶媒として、テトラメチルシラン
を内部標準として測定した。
参考例1 1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フエニル−1,2,4)−トリアゾリジノ)−コレ
スタ−6,22−ジエン−24−オール2.74gを1%のピリジ
ンを含む塩化メチレン100mlに溶解し、ドライアイス−
アセトン浴中にて冷却しながら撹拌した。この溶液にド
ライアイス−アセトン浴中にて冷却しながらオゾンガス
を吹き込んで飽和させた1%ピリジンを含む塩化メチレ
ン425mlを加えた。オゾンの青色が消えたことを確認し
た後、ジメチルスルフイド5ml加え、浴を除き、室温に
なるまで放置した。冷2%塩酸および水で順次洗浄した
後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーで精製することによ
り、1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオ
キソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−
プレグネン−20−カルブアルデヒドを880mgを得た。1 H NMRスペクトル(30MHZ)δ:0.87(s,3H),1.01(s,
3H),1.17(d,J=7Hz,3H),1.97および1.98(いずれも
s,6H),5.03(m,1H),5.84(m,1H),6.28,6.41(ABq,J
=8Hz,2H),7.2〜7.6(m,5H),9.58(d,J=4Hz,1H) 参考例2 1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド302mgに2.1規定の水酸
化カリウムを含む95%エタノール溶液5mlを加え、アル
ゴン雰囲気下に1.5時間加熱還流した。反応液を冷却
後、水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮
後、残渣をジエチルエーテルより再結晶することにより
精製し、1α,3α−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを163mg得た。1 H NMRスペクトル(90MHZ)δ:0.71(s,3H),0.92(s,
3H)、1.06(d,J=7Hz,3H),3.2〜3.8(m,1H),4.0〜4.
3(m,1H),5.3〜5.5(m,1H),5.6〜5.8(m,1H),9.54
(d,J=4Hz,1H) 参考例3 1α,3α−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド69mgをN,N−ジメチルホルムアミド1
mlに溶解し、イミダゾール0.2g、次いで塩化t−ブチル
ジメチルシリル0.2gを加え、室温で20時間撹拌した。反
応混合液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽
出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
より精製し、1α,3α−ビス(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを75m
g得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.11および0.13(それ
ぞれs,12H),0.70(s,3H),0.88(s,3H),0.95および0.
96(それぞれs,18H),1.15(d,J=6.4Hz,3H),4.1〜4.5
(2H),5.39(m,1H),5.64(m,1H),9.55(d,J=3.5Hz,
1H) 参考例4 1α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド71mgを塩化メチレン1mlに溶解し、
エチルビニルエーテル0.2mlを加え、氷冷下撹拌した。
触媒量のp−トルエンスルホン酸を加え、さらに氷冷下
10分間撹拌した。反応混合物を重曹水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3α−ビス
(エトキシエチルオキシ)−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを73mg得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.70(s,3H),0.88(s,
3H),3.3〜4.1(6H),4.5〜4.8(2H),5.30(m,1H),5.
50(m,1H),9.54(d,J=3.5Hz,1H) 参考例5 1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgを
エタノール2mlに溶解し、水酸化ホウ素ナトリウム20mg
を氷冷下で加え、そのまま30分間撹拌した。反応混合物
に氷冷下で希塩酸を加えて中和し、水で希釈した後、ジ
エチルエーテルで抽出した。抽出液を重曹水および食塩
水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
により精製し、20−メチル−1α,3β−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−21
−オールを91mg得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.11(s,3H),0.12(s,
3H),0.13(s,3H),0.15(s,3H),0.74(s,3H),0.95
(s,9H),0.97(s,9H),1.01(s,3H),1.01(d,J=7Hz,
3H),3.52(m,2H),4.1〜4.5(2H),5.38(m,1H),5.64
(m,1H) 参考例6 参考例5において、1α,3β−ビス(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カル
ブアルデヒド100mgの代わりに1α,3β−ビス(エトキ
シエチルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを用いる以外は同様にして操作を行うことに
より、20−メチル−1α,3β−ビス(エトキシエチルオ
キシ)プレグナ−5,7−ジエン−21−オール89mgを得
た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.71(s,3H),0.88(s,
3H),2.9〜4.1(8H),4.5〜4.8(2H),5.29(m,1H),5.
50(m,1H) 参考例7 20−メチル−1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−21−オール90mg
をピリジン1mlに溶解し、ジメチルアミノピリジン5mgを
加え、氷冷下に撹拌した。塩化p−トルエンスルホニル
70mgを加え、室温で5時間撹拌した。反応混合物を冷希
塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
水、重曹水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下に濃縮した後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、20−メチル−1
α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−21
−p−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエ
ン95mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.11(s,3H),0.12(s,
3H),0.13(s,3H),0.15(s,3H),0.75(s,3H),0.95
(s,9H),0.97(s,9H),1.01(s,3H),1.01(d,J=7Hz,
3H),2.40(s,3H),3.83(m,2H),4.1〜4.5(2H),5.38
(m,1H),5.64(m,1H),7.36(d,J=8Hz,2H),7.82(d,
J=8Hz,2H) 参考例8 参考例7において20−メチル−1α,3β−ビス(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
−21−オール90mgの代わりに20−メチル−1α,3β−ビ
ス(エトキシエチルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−2
1−オール77mgを用いる以外は同様にして操作を行うこ
とにより1α,3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−20
−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシプレグナ
−5,7−ジエン85mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.59(s,3H),0.92(s,
3H),1.01(d,J=7Hz,3H),2.38(s,3H),3.2〜4.1(8
H),4.6〜4.9(2H),5.30(m,1H),5.62(m,1H),7.37
(d,J=8Hz,2H),7.84(d,J=8Hz,2H) 実施例1 ナトリウムヘキサメチルジシラジド(0.66規定ベンゼ
ン溶液)0.47mlをベンゼン4mlで希釈し、アルゴン雰囲
気下60℃で加熱撹拌した。1−(1−エトキシ)エトキ
シ−1−シアノ−3−エチルブタン57mgおよび20−メチ
ル−1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−21−p−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,
7−ジエン21mgをベンゼン4mlに溶解し、上記のナトリウ
ムヘキサメチルジシラジド溶液に1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、5
分間撹拌した。有機層を分け、水層をジエチルエーテル
で抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し硫酸ナト
リウム上で乾燥した。減圧下濃縮後、残渣をメタノール
5mlに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を加
え、室温で25分間撹拌した。反応混合物を塩化メチレン
で希釈し、食塩水にあけた。有機層を分け、水層を塩化
メチレンで抽出し、有機層を合わせて硫酸マグネシウム
上で乾燥した。減圧下濃縮し、残渣をテトラヒドロフラ
ン20mlに溶解し、2%水酸化ナトリウム水溶液5mlを加
えて激しく振盪した。有機層を分け、水層を酢酸エチル
で抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3β−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレクタ−5,
7−ジエン−23−オン15mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.10(s,3H),0.12(s,
3H),0.13(s,3H),0.15(s,3H),0.70(s,3H),4.1〜
4.6(2H),5.38(m,1H),5.64(m,1H) 実施例2 ナトリウムヘキサメチルジシラジド(0.66規定ベンゼ
ン溶液)0.47mlをベンゼン4mlで希釈し、アルゴン雰囲
気下60℃で加熱撹拌した。1−(1−エトキシ)エトキ
シ−1−シアノ−3−メチル−3−(2−テトラヒドロ
ピラニル)オキシブタン89mgおよび1α,3β−ビス(エ
トキシエチルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエン
スルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン19mgをベンゼ
ン4mlに溶解し、上記のナトリウムヘキサメチルジシラ
ジド溶液に1時間かけて滴下した。滴下終了後、冷塩化
アンモニウム水溶液にあけ、5分間撹拌した。有機層を
分け、水層をジエチルエーテルで抽出した。有機層を合
わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下濃縮後、残渣をメタノール5mlに溶解し、触媒量
p−トルエンスルホン酸を加え、氷冷下30分間撹拌し
た。反応混合物を塩化メチレンで希釈し、食塩水にあけ
た。有機層を分け、水層を塩化メチレンで抽出し、有機
層を合わせて硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下濃
縮し、残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解し、2%水
酸化ナトリウム水溶液5mlを加え、激しく振盪した。有
機層を分け、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合
わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより精製し、25−(2−テトラヒドロピラニル)
オキシコレスタ−5,7−ジエン−23−オン−1α,3β−
ジオール12mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.68(s,3H),1.00(d,
J=6Hz,3H),1.09(s,3H),1.13(s,3H),1.16(s,3
H),3.5〜4.5(4H),4.72(br.s,1H),5.32(m,1H),5.
72(m,1H) 実施例3 25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ジエン−23−オン−1α,3β−ジオール12mgを塩
化メチレン2mlに溶解し、エチルビニルエーテル0.1mlを
加え、氷冷下で撹拌した。触媒量のp−トルエンスルホ
ン酸を加え、5分間撹拌した。反応混合物に重曹水を加
え、有機層を分け、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイーで精製し、1α,3α−ビス(エトキシエチル
オキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコ
レスタ−5,7−ジエン−23−オン14mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.68(s,3H),3.1〜4.3
(8H),4.3〜4.8(3H),5.30(m,1H),5.64(m,1H) 実施例4 1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ジエン−23−オン24mgをエタノール3ml
に溶解し、氷冷下撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム4m
gを加え、室温で45分間撹拌した。反応混合物を水にあ
け、酢酸エチルで抽出した。抽出液を合わせ、食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製
して1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オール20mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.10(s,3H),0.12(s,
6H),0.14(s,3H),0.70(s,3H),3.50(m,1H),4.1〜
4.6(2H),5.37(m,1H),5.64(m,1H) 実施例5 1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
コレスタ−5,7−ジエン−23−オン18mgをエタノール300
mlに溶解し、アルゴンガスを吹き込みながら氷冷下400W
高圧水銀灯を用いて10分間紫外線照射した。照射終了
後、アルゴン雰囲気下2時間加熱還流した。減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより
精製し、1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン
−23−オン1.6mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.05(s,12H),0.61
(s,3H),0.90(s,18H),4.1〜4.6(2H),5.00(br.s,1
H),5.32(br.s,1H),6.03(d,J=11Hz,1H),6.39(d,J
=11Hz,1H) 参考例9 実施例5において1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オン18m
gの代わりに、1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オール19mg
を用いる以外は同様にして操作を行うことにより、1
α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−9,
10−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−23−オー
ル1.9mgを得た。1 H NMRスペクトル(90MHz)δ:0.07(s,12H),0.60
(s,3H),0.90(s,18H),3.52(m,1H),4.1〜4.6(2
H),5.03(br.s,1H),5.35(br.s,1H),6.05(d,J=11H
z,1H),6.40(d,J=11Hz,1H) 参考例10 1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−
23−オール1.9mgをピリジン1mlに溶解し、N,N−ジメチ
ルアミノピリジン触媒量を加え、氷冷下で撹拌した。塩
化p−トルエンスルホニル1mgを加え、室温で4時間撹
拌した。反応混合物を水にあけ、ジエチルエーテルで抽
出した。抽出液を合わせ、硫酸銅水溶液、水、重曹水、
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
濃縮し、1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−23−p−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セ
ココレスタ−5,7,10(19)−トリエン2.3mgを得た。
水素化アルミニウムリチウム20mgをテトラヒドロフ
ラン1mlに懸濁させ、氷冷下撹拌した。上記で得られた
1α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−
23−p−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セココレス
タ−5,7,10(19)−トリエン2.3mgをテトラヒドロフラ
ン2mlに溶解し、上記の懸濁液に加えた。2時間加熱還
流した後、水冷下でジエチルエーテルで希釈し、過剰の
還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えて分解し、セ
ライト過した。残渣を酢酸エチルで充分に洗浄し、
液に合わせ、減圧下濃縮し、1α,3β−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,
10(19)−トリエン1.2mgを得た。
上記で得られた1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)
−トリエン1.2mgにフツ化テトラブチルアンモニウム
(1モルテトラヒドロフラン溶液)1mlを加え、室温で
5時間撹拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を合わせ、水および食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフイーにより精製し、9,10−セココレス
タ−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオール(1
α−ヒドロキシビタミンD3)0.8mgを得た。このものの
物性値(UV,NMR,MS)は文献値と一致した。
実施例6 実施例4において1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オン24m
gの代わりに1α,3β−ビス(エトキシエチルオキシ)
−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ジエン−23−オン20mgを用いる以外は同様にして
操作を行うことにより1α,3β−ビス(エトキシエチル
オキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコ
レスタ−5,7−ジエン−23−オール18mgを得た。
参考例11 実施例5において1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オン18m
gの代わりに1α,3β−ビス(エトキシエチルオキシ)
−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ジエン−23−オン15mgを用いる以外は同様にして
操作を行うことにより、1α,3β−ビス(エトキシエチ
ルオキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ
−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−23−
オン1.2mgを得た。
参考例12 実施例5において1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−23−オン18m
gの代わりに1α,3β−ビス(エトキシエチルオキシ)
−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキシコレスタ−
5,7−ジエン−23−オール19mgを用いる以外は同様にし
て操作を行うことにより、1α,3β−ビス(エトキシエ
チルオキシ)−25−(2−テトラヒドロピラニル)オキ
シ−9,10−セココレスタ−5,7,10(19)−トリエン−23
−オール2.0mgを得た。
参考例13 1α,3β−ビス(エトキシエチルオキシ)−25−(2
−テトラヒドロピラニル)オキシ−9,10−セココレスタ
−5,7,10(19)−トリエン−23−オール2.0mgをメタノ
ール2mlに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を
加え、室温で12時間撹拌した。反応混合物を重曹水にあ
け、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した。硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧下濃縮し、残渣をメタノー
ルにより再結晶し、9,10−セココレスタ−5,7,10(19)
−トリエン−1α,3β,23,25−テトラオール0.8mg得
た。
[発明の効果] 本発明により23位に酸素官能基を有する新規なステロ
イド誘導体が提供される。
該新規なステロイド誘導体は、1α−ヒドロキシビタ
ミンD3を初めとするビタミンD3の誘導体の合成中間体と
して有用である。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
    基を表わし、Xは水素原子又は−OY基を表わし、Yは水
    素原子又は水酸基の保護基を表わす) で示される23−オクソコレスタ−5,7−ジエン誘導体。
  2. 【請求項2】一般式 (式中、R1、R2及びXはそれぞれ請求項1記載のR1、R2
    及びXと同じである) で示される23−ヒドロキシコレスタ−5,7−ジエン誘導
    体。
  3. 【請求項3】一般式 (式中、R1及びR2はそれぞれ請求項1記載のR1及びR2
    同じである) で示される23−オクソ−9,10−セココレスタ−5,7,10
    (19)−トリエン誘導体。
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