JP2642189B2 - ステロイド誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体及びその製造方法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規なステロイド誘導体及びその製造方法に
関する。本発明のステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲
状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥
症の治療に有効であることが知られている１α,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3、ビタミンＤ様の活性を有するこ
とが知られている１α−ヒドロキシビタミンD3、（24
R）−１α,24,25−トリヒドロキシビタミンD3などの１
α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体の合成中間体と
して有用である。
関する。本発明のステロイド誘導体は慢性腎不全、副甲
状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥
症の治療に有効であることが知られている１α,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3、ビタミンＤ様の活性を有するこ
とが知られている１α−ヒドロキシビタミンD3、（24
R）−１α,24,25−トリヒドロキシビタミンD3などの１
α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体の合成中間体と
して有用である。
［従来の技術］ 従来、１α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体の製
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することにより１α−ヒドロキシビタミンD3を製造
する方法（特開昭48−62750号公報参照）、（24R）−１
α,3β,24,25−テトラヒドロキシコレスタ−5,7−ジエ
ンに不活性溶媒中で紫外線を照射し、生成した（24R）
−１α,24,25−トリヒドロキシプレビタミン３を異性化
することによつて（24R）−１α,24,25−トリヒドロキ
シビタミンD3を製造する方法（特開昭51−108046号公報
参照）などが知られている。
造方法としては、例えば、コレステロールを原料として
使用することにより１α−ヒドロキシビタミンD3を製造
する方法（特開昭48−62750号公報参照）、（24R）−１
α,3β,24,25−テトラヒドロキシコレスタ−5,7−ジエ
ンに不活性溶媒中で紫外線を照射し、生成した（24R）
−１α,24,25−トリヒドロキシプレビタミン３を異性化
することによつて（24R）−１α,24,25−トリヒドロキ
シビタミンD3を製造する方法（特開昭51−108046号公報
参照）などが知られている。
［発明が解決しようとする課題］ 上記の通り、１α位に水酸基を有するビタミンD3誘導
体の製造方法は種々知られているが、該１α位に水酸基
を有するビタミンD3誘導体を製造するに際し、合成中間
体として使用できる化合物を多くの化合物の中から選択
することができれば、原料事情に応じてその製造プロセ
スを適宜変更することが可能となり好ましい。
体の製造方法は種々知られているが、該１α位に水酸基
を有するビタミンD3誘導体を製造するに際し、合成中間
体として使用できる化合物を多くの化合物の中から選択
することができれば、原料事情に応じてその製造プロセ
スを適宜変更することが可能となり好ましい。
しかして、本発明の一つの目的は、種々の１α位に水
酸基を有するビタミンD3誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を提供することにある。さらに
本発明のもう一つの目的は、該新規なステロイド誘導体
の製造方法を提供することにある。
酸基を有するビタミンD3誘導体の合成中間体となり得る
新規なステロイド誘導体を提供することにある。さらに
本発明のもう一つの目的は、該新規なステロイド誘導体
の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記の目的は （１）一般式 ［式中、Ｒは水素原子又は−CH（Y1）Ｃ（Y2）（CH3）C
H2Y3基を表わし、Y1及びY2はそれぞれ水素原子若しくは
OZ1基を表わすか又は一緒になつて炭素−炭素結合を表
わし、Y3は水素原子又は−OZ1基を表わし、R1、R2、Z1
及びZ2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表わ
す］で示されるステロイド誘導体（Ｉ）、 （２）一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示される9,10−セコステロイド誘導体（II）、 （３）一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示される9,10−セコステロイド誘導体（III）及び （４）一般式 （式中、R1及びR2は前記定義の通りであり、Ａはハロゲ
ン原子又はスルホニルオキシ基を表わす） で示されるプレグナン誘導体（IV）と一般式 NCCH（OZ2）Ｒ （Ｖ） （式中、Ｒ及びZ2は前記定義の通りである） で示されるシアノヒドリン誘導体（Ｖ）とを塩基性物質
存在下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示されるステロイド誘導体（Ｉ）の製造方法を提供す
ることにより達成される。
H2Y3基を表わし、Y1及びY2はそれぞれ水素原子若しくは
OZ1基を表わすか又は一緒になつて炭素−炭素結合を表
わし、Y3は水素原子又は−OZ1基を表わし、R1、R2、Z1
及びZ2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表わ
す］で示されるステロイド誘導体（Ｉ）、 （２）一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示される9,10−セコステロイド誘導体（II）、 （３）一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示される9,10−セコステロイド誘導体（III）及び （４）一般式 （式中、R1及びR2は前記定義の通りであり、Ａはハロゲ
ン原子又はスルホニルオキシ基を表わす） で示されるプレグナン誘導体（IV）と一般式 NCCH（OZ2）Ｒ （Ｖ） （式中、Ｒ及びZ2は前記定義の通りである） で示されるシアノヒドリン誘導体（Ｖ）とを塩基性物質
存在下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通りである） で示されるステロイド誘導体（Ｉ）の製造方法を提供す
ることにより達成される。
上記各一般式におけるR1、R2、Z1、Z2及びＡを以下に
詳しく説明する。
詳しく説明する。
R1、R2、Z1及びZ2が表わす水酸基の保護基としては、
水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられて
いるいずれの保護基でも良いが、具体的には三置換シリ
ル基、置換基を有していても良いアルコキシメチル基な
どが挙げられる。ここで、三置換シリル基としては、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロ
ピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリ
アルキルシリル基;t−ブチルジフエニルシリル基などの
ジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、置換基を
有していても良いアルコキシメチル基としては、メトキ
シメチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコキ
シメチル基;1−エトキシエチル基、１−メトキシ−１−
メチルエチル基などのアルキル置換アルコキシメチル
基；テトラヒドロフラン−２−イル基、テトロヒドロピ
ラン−２−イル基などの２−オキサシクロアルキル基な
どが挙げられる。
水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられて
いるいずれの保護基でも良いが、具体的には三置換シリ
ル基、置換基を有していても良いアルコキシメチル基な
どが挙げられる。ここで、三置換シリル基としては、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロ
ピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリ
アルキルシリル基;t−ブチルジフエニルシリル基などの
ジアリールアルキルシリル基などが挙げられ、置換基を
有していても良いアルコキシメチル基としては、メトキ
シメチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコキ
シメチル基;1−エトキシエチル基、１−メトキシ−１−
メチルエチル基などのアルキル置換アルコキシメチル
基；テトラヒドロフラン−２−イル基、テトロヒドロピ
ラン−２−イル基などの２−オキサシクロアルキル基な
どが挙げられる。
Ａが表わすハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられ、スルホニルオキシ基と
しては、メタンスルホニルオキシ基などのアルキルスル
ホニルオキシ基;p−トルエンスルホニルオキシ基、ｐ−
ブロムベンゼンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基などのアリールスルホニルオキシ基などが挙
げられる。
子、ヨウ素原子などが挙げられ、スルホニルオキシ基と
しては、メタンスルホニルオキシ基などのアルキルスル
ホニルオキシ基;p−トルエンスルホニルオキシ基、ｐ−
ブロムベンゼンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基などのアリールスルホニルオキシ基などが挙
げられる。
一般式（IV）で示されるプレグナン誘導体は例えば以
下の方法により製造することができる。
下の方法により製造することができる。
（上記の式において、R1及びR2はそれぞれ前記定義の通
りであり、A1はハロゲン原子を表わし、Ｂはアルキル基
又はアリール基を表わし、Acはアセチル基を表わし、Ph
はフエニル基を表わす） 上記式において一般式（IV−１）又は（IV−２）で示
される化合物は一般式（IV）で示される化合物に包含さ
れる。
りであり、A1はハロゲン原子を表わし、Ｂはアルキル基
又はアリール基を表わし、Acはアセチル基を表わし、Ph
はフエニル基を表わす） 上記式において一般式（IV−１）又は（IV−２）で示
される化合物は一般式（IV）で示される化合物に包含さ
れる。
上記一般式（IV−１）、一般式（IV−２）、式（V
I）、式（VII）、式（VIII−１）、一般式（VIII−２）
及び一般式（IX）で示される化合物を以後それぞれ下記
のように称することがある。
I）、式（VII）、式（VIII−１）、一般式（VIII−２）
及び一般式（IX）で示される化合物を以後それぞれ下記
のように称することがある。
さらに、一般式（VIII−２）において、R1及びR2が下
記の基を表わすことによつて示される化合物を以後下記
の様に称することがある。
記の基を表わすことによつて示される化合物を以後下記
の様に称することがある。
まず、H.Saiらの方法［ケミカル・フアーマシユーテ
イカル・ブルテン（Chem.Pharm.Bull.）32巻3866〜3872
ページ（1984年）参照］に従つて調製した化合物（VI）
をアルデヒド（VIII−１）に変換するが、この変換は化
合物（VI）の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的にオゾ
ン酸化し、得られるオゾニドを還元的に処理して化合物
（VII）を得、さらに5,7−ジエンの保護基を除去するこ
とにより行われる。すなわち化合物（VI）の溶液に冷却
下オゾンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾン
の飽和溶液を化合物（VI）の溶液の冷却下に加えること
により、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加え
ることによつて還元的後処理が行われる。使用するオゾ
ンガスの量は通常化合物（VI）１モルに対して約0.1〜1
0モル、好ましくは約0.5〜0.8モルである。この反応
は、塩化メチレン、メタノールなどの反応に関与しない
溶媒中で行われ、その使用量は通常化合物（VI）に対し
て約10〜200倍重量である。またこの溶液中に約１％の
ピリジンを共存させることも可能である。オゾン化反応
は通常約０℃以下の温度下で行われ、好ましくは約−50
〜−100℃の範囲内の温度で行われる。還元的後処理は
通常約−100〜30℃の範囲内の温度で行われる。反応
は、ドライアイス−アセトン浴中で冷却した化合物（V
I）１モルに対して約0.5〜0.8モルのオゾン及び１％ピ
リジンを含む塩化メチレン溶液をドライアイス−アセト
ン浴中で冷却した化合物（VI）の溶液に加え、オゾンの
青色が消えたことを確認した後に、約20モルのジメチル
スルフイドを加え、ドライアイス−アセトン浴を除去
し、室温まで加温することにより実施するのが簡便であ
る。
イカル・ブルテン（Chem.Pharm.Bull.）32巻3866〜3872
ページ（1984年）参照］に従つて調製した化合物（VI）
をアルデヒド（VIII−１）に変換するが、この変換は化
合物（VI）の側鎖の炭素−炭素二重結合を選択的にオゾ
ン酸化し、得られるオゾニドを還元的に処理して化合物
（VII）を得、さらに5,7−ジエンの保護基を除去するこ
とにより行われる。すなわち化合物（VI）の溶液に冷却
下オゾンガスを通じるか、あるいは予め調製したオゾン
の飽和溶液を化合物（VI）の溶液の冷却下に加えること
により、オゾン化が行われ、次いで適当な還元剤を加え
ることによつて還元的後処理が行われる。使用するオゾ
ンガスの量は通常化合物（VI）１モルに対して約0.1〜1
0モル、好ましくは約0.5〜0.8モルである。この反応
は、塩化メチレン、メタノールなどの反応に関与しない
溶媒中で行われ、その使用量は通常化合物（VI）に対し
て約10〜200倍重量である。またこの溶液中に約１％の
ピリジンを共存させることも可能である。オゾン化反応
は通常約０℃以下の温度下で行われ、好ましくは約−50
〜−100℃の範囲内の温度で行われる。還元的後処理は
通常約−100〜30℃の範囲内の温度で行われる。反応
は、ドライアイス−アセトン浴中で冷却した化合物（V
I）１モルに対して約0.5〜0.8モルのオゾン及び１％ピ
リジンを含む塩化メチレン溶液をドライアイス−アセト
ン浴中で冷却した化合物（VI）の溶液に加え、オゾンの
青色が消えたことを確認した後に、約20モルのジメチル
スルフイドを加え、ドライアイス−アセトン浴を除去
し、室温まで加温することにより実施するのが簡便であ
る。
この様にして得られた化合物（VII）の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液
を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・濃縮し粗
生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精
製することにより化合物（VII）を得ることができる。
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液
を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・濃縮し粗
生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精
製することにより化合物（VII）を得ることができる。
化合物（VII）のアルデヒド（VIII−１）への変換
は、通常用いられている方法に従つてジエンの脱保護を
行うと同時に水酸基の脱アセチル化を行うことにより実
施される。この脱保護・脱アセチル化の方法としては、
エタノール中水酸化カリウムで処理する方法などが挙げ
られるが、使用するエタノールの量は化合物（VII）に
対して約５〜200倍重量であり、また使用する水酸化カ
リウムの量は化合物（VII）１モルに対して約10〜500モ
ル、好ましくは50〜200モルである。
は、通常用いられている方法に従つてジエンの脱保護を
行うと同時に水酸基の脱アセチル化を行うことにより実
施される。この脱保護・脱アセチル化の方法としては、
エタノール中水酸化カリウムで処理する方法などが挙げ
られるが、使用するエタノールの量は化合物（VII）に
対して約５〜200倍重量であり、また使用する水酸化カ
リウムの量は化合物（VII）１モルに対して約10〜500モ
ル、好ましくは50〜200モルである。
反応は、化合物（VII）１モルに対して約100モルの水
酸化カリウムを含む約２規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
酸化カリウムを含む約２規定のエタノール溶液を加え、
約1.5時間加熱還流することにより行うのが簡便であ
る。
反応液からのアルデヒド（VIII−１）の単離・精製
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあ
け、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重
曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフイーなどにより精製するこ
とによつてアルデヒド（VII−１）を得ることができ
る。
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行われる。例えば、反応液を冷却後水にあ
け、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重
曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶・クロマトグラフイーなどにより精製するこ
とによつてアルデヒド（VII−１）を得ることができ
る。
この様にして得られたアルデヒド（VIII−１）は、必
要に応じて常法に従い１位および３位の水酸基の保護を
行い、アルデヒド（VII−２）に変換される。この際、
１位または３位の水酸基を選択的に保護し、ジオールの
モノ保護体を得た後に、再び保護反応を行うことによ
り、アルデヒド（VIII−２）に変換することもできる。
要に応じて常法に従い１位および３位の水酸基の保護を
行い、アルデヒド（VII−２）に変換される。この際、
１位または３位の水酸基を選択的に保護し、ジオールの
モノ保護体を得た後に、再び保護反応を行うことによ
り、アルデヒド（VIII−２）に変換することもできる。
アルデヒド（VIII−１）からアルデヒド（VIII−２−
１）への変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下
に塩化三置換シリルを作用させることにより行うことが
できる。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、
塩化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化ト
リイソプロピルシリル、塩化ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、塩化ｔ−ブチルジフエニルシリルなどが挙げられ
る。塩化三置換シリルの使用量は、通常アルデヒド（VI
II−１）１モル対して約２〜50モル、好ましくは５〜20
モルである。反応に用いられる塩基性物質としては、ピ
リジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸
化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げ
られる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド（VIII
−１）１モル対して約２〜200モルであり、好ましくは
約５〜100モルである。この反応は通常溶媒中で実施さ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用い
ることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド
（VIII−１）に対して約５〜200倍重量である。反応は
通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
１）への変換は常法に従い、例えば塩基性物質の存在下
に塩化三置換シリルを作用させることにより行うことが
できる。反応に用いられる塩化三置換シリルとしては、
塩化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル、塩化ト
リイソプロピルシリル、塩化ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、塩化ｔ−ブチルジフエニルシリルなどが挙げられ
る。塩化三置換シリルの使用量は、通常アルデヒド（VI
II−１）１モル対して約２〜50モル、好ましくは５〜20
モルである。反応に用いられる塩基性物質としては、ピ
リジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸
化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げ
られる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド（VIII
−１）１モル対して約２〜200モルであり、好ましくは
約５〜100モルである。この反応は通常溶媒中で実施さ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用い
ることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒド
（VIII−１）に対して約５〜200倍重量である。反応は
通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド（VIII−２−１）の
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行われている単離・精製法と同様にして行われる。例
えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマ
トグラフイーなどにより精製することによりアルデヒド
（VIII−２−１）を得ることができる。
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行われている単離・精製法と同様にして行われる。例
えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマ
トグラフイーなどにより精製することによりアルデヒド
（VIII−２−１）を得ることができる。
アルデヒド（VIII−１）のアルデヒド（VIII−２−
２）への変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存
在下にクロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは
酸触媒下にビニルエーテルを作用させることにより行わ
れる。反応に用いられるクロルメチルエーテルとして
は、クロルメチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキ
シメチルなどが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エ
チルビニルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、
ジヒドロフラン、ジヒドロピランなどが挙げられる。ク
ロルメチルエーテル又はビニルエーテルの使用量は、通
常アルデヒド（VIII−１）１モルに対して約２〜50モ
ル、好ましくは約５〜20モルである。反応に用いられる
塩基性物質といては、ピリジン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリン、イミダ
ゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウムなどの金属
水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、通
常アルデヒド（VIII−１）１モルに対して約２〜200モ
ルであり、好ましくは約５〜100モルである。使用する
酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフアー
スルホン酸などのスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱
酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アルデヒド
（VIII−１）１モルに対して、通常約0.05〜0.2モルで
ある。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する
有機アミンまたはビニルエーテルを溶媒として用いるこ
とも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒
を用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アル
デヒド（VIII−１）に対して、約５〜200重量である。
反応は通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約０〜30℃の範囲内の温度で行われる。
２）への変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存
在下にクロルメチルエーテルを作用させるか、あるいは
酸触媒下にビニルエーテルを作用させることにより行わ
れる。反応に用いられるクロルメチルエーテルとして
は、クロルメチルメチルエーテル、塩化メトキシエトキ
シメチルなどが挙げられ、ビニルエーテルとしては、エ
チルビニルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、
ジヒドロフラン、ジヒドロピランなどが挙げられる。ク
ロルメチルエーテル又はビニルエーテルの使用量は、通
常アルデヒド（VIII−１）１モルに対して約２〜50モ
ル、好ましくは約５〜20モルである。反応に用いられる
塩基性物質といては、ピリジン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリン、イミダ
ゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウムなどの金属
水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、通
常アルデヒド（VIII−１）１モルに対して約２〜200モ
ルであり、好ましくは約５〜100モルである。使用する
酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフアー
スルホン酸などのスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸
ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱
酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アルデヒド
（VIII−１）１モルに対して、通常約0.05〜0.2モルで
ある。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する
有機アミンまたはビニルエーテルを溶媒として用いるこ
とも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒
を用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アル
デヒド（VIII−１）に対して、約５〜200重量である。
反応は通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約０〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルデヒド（VIII−２−２）の
反応混合液からの単離・精製は通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾
燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイ
ーなどにより精製することによりアルデヒド（VIII−２
−２）を得ることができる。
反応混合液からの単離・精製は通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、有機アミンを用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄した後に乾
燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイ
ーなどにより精製することによりアルデヒド（VIII−２
−２）を得ることができる。
アルデヒド（VIII−２−１）またはアルデヒド（VIII
−２−２）のアルコール（IX）への変換は常法に従い還
元反応に付することにより行われる。この還元反応に使
用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエ
チルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水
素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウ
ム、水素化トリsec−ブチルホウ素リチウム、水素化ト
リsec−ブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量は
アルデヒド（VIII−２−１）又はアルデヒド（VIII−２
−２）１モルに対して約0.25〜50モル、好ましくは約0.
5〜20モルである。反応は通常溶媒中で行われ、使用さ
れる溶媒は用いる還元剤によつても異なるが、エタノー
ル、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その使用量は、
通常アルデヒド（VIII−２−１）又はアルデヒド（VIII
−２−２）に対して約５〜200倍重量である。反応は通
常約−100〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約−30〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
−２−２）のアルコール（IX）への変換は常法に従い還
元反応に付することにより行われる。この還元反応に使
用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエ
チルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水
素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウ
ム、水素化トリsec−ブチルホウ素リチウム、水素化ト
リsec−ブチルホウ素カリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量は
アルデヒド（VIII−２−１）又はアルデヒド（VIII−２
−２）１モルに対して約0.25〜50モル、好ましくは約0.
5〜20モルである。反応は通常溶媒中で行われ、使用さ
れる溶媒は用いる還元剤によつても異なるが、エタノー
ル、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタンなどが挙げられ、その使用量は、
通常アルデヒド（VIII−２−１）又はアルデヒド（VIII
−２−２）に対して約５〜200倍重量である。反応は通
常約−100〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約−30〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルコール（IX）の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
混合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・
メタノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分
解し、必要に応じて水で希釈し、過または抽出・洗浄
などの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、濃縮し
て粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどによ
り精製することによつてアルコール（IX）を得ることが
できる。
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
混合物に冷却下、水・硫酸ナトリウム水溶液・希塩酸・
メタノールなどを加えることにより、過剰の還元剤を分
解し、必要に応じて水で希釈し、過または抽出・洗浄
などの操作により有機溶媒に不溶なものを除き、濃縮し
て粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどによ
り精製することによつてアルコール（IX）を得ることが
できる。
アルコール（IX）からスルホナート（IV−１）への変
換は、アルコールをスルホナートに変換する一般的な方
法によつて実施することができる。例えば、塩基性物質
の存在下に塩化スルホニルを作用させることにより行わ
れる。反応に用いられる塩化スルホニルとしては、塩化
メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化
ｐ−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ルなどが挙げられ、その使用量はアルコール（IX）１モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩
基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナ
トリウムなどの金属水素化物、ｎ−ブチルリチウムなど
の有機金属化合物などが挙げられ、その使用量は通常ア
ルコール（IX）１モルに対して約１〜1000モルである。
この反応は通常溶媒中で行われるが、使用される有機ア
ミンを溶媒として使用することも可能であり、塩化メチ
レン、クロロホルムなどの反応に関与しない溶媒を用い
ることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルコール
（IX）に対して約５〜200倍重量である。反応は通常約
−20〜30℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜20℃の範
囲内の温度で行われる。
換は、アルコールをスルホナートに変換する一般的な方
法によつて実施することができる。例えば、塩基性物質
の存在下に塩化スルホニルを作用させることにより行わ
れる。反応に用いられる塩化スルホニルとしては、塩化
メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化
ｐ−ブロムベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ルなどが挙げられ、その使用量はアルコール（IX）１モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩
基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミンなどの有機アミン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナ
トリウムなどの金属水素化物、ｎ−ブチルリチウムなど
の有機金属化合物などが挙げられ、その使用量は通常ア
ルコール（IX）１モルに対して約１〜1000モルである。
この反応は通常溶媒中で行われるが、使用される有機ア
ミンを溶媒として使用することも可能であり、塩化メチ
レン、クロロホルムなどの反応に関与しない溶媒を用い
ることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルコール
（IX）に対して約５〜200倍重量である。反応は通常約
−20〜30℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜20℃の範
囲内の温度で行われる。
この様にして得られたスルホナート（IV−１）の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗
浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマト
グラフイーなどにより精製することによりスルホナート
（IV−１）を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われている単離・精製法と同様にして行われる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗
浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロマト
グラフイーなどにより精製することによりスルホナート
（IV−１）を得ることができる。
アルコール（IX）のハロゲン化物（IV−２）への変換
は、アルコールをハロゲン化物に変換する一般的な方法
に従つて実施することができる。例えば、アルコール
（IX）をその約５〜200倍重量のジエチルエーテル、ピ
リジンなどに溶解し、約−20〜10℃の範囲内の温度で、
アルコール（IX）１モルに対して約0.3〜10モルの三塩
化リン、三臭化リン、塩化チオニルなどのハロゲン化剤
を加え、約−20〜30℃の範囲内の温度で約15分〜12時間
撹拌することにより行われる。
は、アルコールをハロゲン化物に変換する一般的な方法
に従つて実施することができる。例えば、アルコール
（IX）をその約５〜200倍重量のジエチルエーテル、ピ
リジンなどに溶解し、約−20〜10℃の範囲内の温度で、
アルコール（IX）１モルに対して約0.3〜10モルの三塩
化リン、三臭化リン、塩化チオニルなどのハロゲン化剤
を加え、約−20〜30℃の範囲内の温度で約15分〜12時間
撹拌することにより行われる。
この様にして得られたハロゲン化物（IV−２）の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮
して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどに
より精製することによりハロゲン化物（IV−２）を得る
ことができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
われる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮
して粗生成物を得、再結晶・クロマトグラフイーなどに
より精製することによりハロゲン化物（IV−２）を得る
ことができる。
本発明のステロイド誘導体（Ｉ）、9,10−セコステロ
イド誘導体（II）及び9,10−セコステロイド誘導体（II
I）はプレグナン誘導体（IV）から例えば次のようにし
て製造される。
イド誘導体（II）及び9,10−セコステロイド誘導体（II
I）はプレグナン誘導体（IV）から例えば次のようにし
て製造される。
（上記式において、Ａ、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の
通りである） 上記一般式（Ｉ）、一般式（II）、一般式（III）、
一般式（IV）及び一般式（Ｖ）で示される化合物を以後
それぞれ下記のように称することがある。
通りである） 上記一般式（Ｉ）、一般式（II）、一般式（III）、
一般式（IV）及び一般式（Ｖ）で示される化合物を以後
それぞれ下記のように称することがある。
プレグナン誘導体（IV）からステロイド誘導体（Ｉ）
への変換は、塩基性物質存在下に公知の方法［G.Stork
及びL.Maladonado、ジヤーナル・オブ・アメリカン・ケ
ミカル・ソシエテイ（J.Amer.Chem.Soc.）93巻5286〜52
87ページなど参照］によつて調製されたシアノヒドリン
誘導体（Ｖ）を反応させることによつて行われる。シア
ノヒドリン誘導体（Ｖ）の使用量はプレグナン誘導体
（IV）１モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約１
〜10モルである。使用される塩基性物質としては、メチ
ルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、フエニルリチウムな
どの有機金属化合物、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムテトラメチルピペラジド、リチウムヘキサ
メチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジ
ド、カリウムヘキサメチルジシラジドなどの金属アミド
などが挙げられ、その使用量はシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）１モルに対して約0.5〜５モル、好ましくは約0.8
〜２モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒など反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は
通常プレグナン誘導体（IV）に対して約５〜200倍重量
である。反応は通常−100℃〜100℃の温度範囲内で行わ
れる。反応の形態としては、まずシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）と塩基性物質を反応させ、シアノヒドリン誘導体
（Ｖ）の塩とした後プレグナン誘導体（VI）を加える方
法、塩基性物質の溶液にプレグナン誘導体（IV）及びシ
アノヒドリン誘導体（Ｖ）の混合溶液を加える方法、ま
たはプレグナン誘導体（IV）及びシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）の混合溶液に塩基性物質の溶媒を加える方法など
が挙げられるが、いずれを採用することもできる。
への変換は、塩基性物質存在下に公知の方法［G.Stork
及びL.Maladonado、ジヤーナル・オブ・アメリカン・ケ
ミカル・ソシエテイ（J.Amer.Chem.Soc.）93巻5286〜52
87ページなど参照］によつて調製されたシアノヒドリン
誘導体（Ｖ）を反応させることによつて行われる。シア
ノヒドリン誘導体（Ｖ）の使用量はプレグナン誘導体
（IV）１モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約１
〜10モルである。使用される塩基性物質としては、メチ
ルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、フエニルリチウムな
どの有機金属化合物、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムテトラメチルピペラジド、リチウムヘキサ
メチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジ
ド、カリウムヘキサメチルジシラジドなどの金属アミド
などが挙げられ、その使用量はシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）１モルに対して約0.5〜５モル、好ましくは約0.8
〜２モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶
媒など反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は
通常プレグナン誘導体（IV）に対して約５〜200倍重量
である。反応は通常−100℃〜100℃の温度範囲内で行わ
れる。反応の形態としては、まずシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）と塩基性物質を反応させ、シアノヒドリン誘導体
（Ｖ）の塩とした後プレグナン誘導体（VI）を加える方
法、塩基性物質の溶液にプレグナン誘導体（IV）及びシ
アノヒドリン誘導体（Ｖ）の混合溶液を加える方法、ま
たはプレグナン誘導体（IV）及びシアノヒドリン誘導体
（Ｖ）の混合溶液に塩基性物質の溶媒を加える方法など
が挙げられるが、いずれを採用することもできる。
このようにして得られたステロイド誘導体（Ｉ）の反
応混合物からの単離・精製は通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗
浄した後に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロ
マトグラフイーなどによつて精製することによつてステ
ロイド誘導体（Ｉ）を得ることができる。
応混合物からの単離・精製は通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、食塩水で洗
浄した後に乾燥・濃縮して粗生成物を得、再結晶・クロ
マトグラフイーなどによつて精製することによつてステ
ロイド誘導体（Ｉ）を得ることができる。
ステロイド誘導体（Ｉ）のセコステロイド誘導体（I
I）への変換は、常法に従い紫外線を照射することによ
り行われる。使用される紫外線としては、約200〜310nm
の波長範囲のものであり、好ましくは、約260〜310nmの
波長範囲のものである。この反応は、通常溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベンゼン、クロルベ
ンゼン、四塩化炭素、1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブ
ロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセ
ロソルブなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系溶媒などが挙げら
れる。反応は約−20〜120℃の範囲内の温度、好ましく
は約−10〜20℃の範囲内の温度で行われる。
I）への変換は、常法に従い紫外線を照射することによ
り行われる。使用される紫外線としては、約200〜310nm
の波長範囲のものであり、好ましくは、約260〜310nmの
波長範囲のものである。この反応は、通常溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの炭化水素系溶媒、ブロムベンゼン、クロルベ
ンゼン、四塩化炭素、1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブ
ロムエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセ
ロソルブなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ル、プロパノールなどのアルコール系溶媒などが挙げら
れる。反応は約−20〜120℃の範囲内の温度、好ましく
は約−10〜20℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体（II）の
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フイーなどにより精製することによつてセコステロイド
誘導体（II）を得ることができる。なお、精製すること
なく粗生成物を次の反応に用いることもできる。
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フイーなどにより精製することによつてセコステロイド
誘導体（II）を得ることができる。なお、精製すること
なく粗生成物を次の反応に用いることもできる。
セコステロイド誘導体（II）のセコステロイド誘導体
（III）への変換は、常法に従つて熱エネルギーによる
異性化によつて行われる。この異性化反応は、約０〜12
0℃の範囲内の温度、好ましくは約20〜100℃の範囲内の
温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては、前述の紫外線照射において用いら
れる溶媒などが挙げられる。
（III）への変換は、常法に従つて熱エネルギーによる
異性化によつて行われる。この異性化反応は、約０〜12
0℃の範囲内の温度、好ましくは約20〜100℃の範囲内の
温度で行われる。この反応は通常溶媒中で行われ、用い
られる溶媒としては、前述の紫外線照射において用いら
れる溶媒などが挙げられる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体（III）
の単離・精製は通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フイーなどにより精製することによりセコステロイド誘
導体（III）を得ることができる。
の単離・精製は通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を減圧
下に濃縮し、得られる粗生成物を再結晶・クロマトグラ
フイーなどにより精製することによりセコステロイド誘
導体（III）を得ることができる。
この様にして得られたセコステロイド誘導体（III）
のうち、Ｒが水素原子であるものは、塩基性物質の存在
下適当なアルデヒド、ハロゲン化物、エポキシドなどと
反応させることによりＲが水素原子ではないセコステロ
イド誘導体（III）に変換することができる。この変換
の際に採用される塩基性物質、溶媒、温度などの反応の
形態としては、例えばプレグナン誘導体（IV）からステ
ロイド誘導体（Ｉ）への変換の際に採用される塩基性物
質、溶媒、温度などが採用される。この様にして得られ
たセコステロイド誘導体（III）は例えば以下の様にし
て１α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体に変換する
ことができる。
のうち、Ｒが水素原子であるものは、塩基性物質の存在
下適当なアルデヒド、ハロゲン化物、エポキシドなどと
反応させることによりＲが水素原子ではないセコステロ
イド誘導体（III）に変換することができる。この変換
の際に採用される塩基性物質、溶媒、温度などの反応の
形態としては、例えばプレグナン誘導体（IV）からステ
ロイド誘導体（Ｉ）への変換の際に採用される塩基性物
質、溶媒、温度などが採用される。この様にして得られ
たセコステロイド誘導体（III）は例えば以下の様にし
て１α位に水酸基を有するビタミンD3誘導体に変換する
ことができる。
［上記式において、Ｒ、R1、R2及びZ2は前記定義の通り
であり、R'は水素原子又は−CH（Y4）Ｃ（Y5）（CH3）C
H2Y6基を表わし、Y4及びY5はそれぞれ水素原子もしくは
−OZ3基を表わすか又は一緒になつて炭素−炭素結合を
表わし、Y6は水素原子又は−OZ3基を表わし、R3、R4、R
5、R6及びZ3はそれぞれ水素原子又は水素基の保護基を
表わし、B'は低級アルキル基又はアリール基を表わ
す。］ 上記一般式（Ｘ）、一般式（XI）、一般式（XII）、
一般式（XIII）及び一般式（XIV）で示される化合物を
以後それぞれ下記のように称することがある。
であり、R'は水素原子又は−CH（Y4）Ｃ（Y5）（CH3）C
H2Y6基を表わし、Y4及びY5はそれぞれ水素原子もしくは
−OZ3基を表わすか又は一緒になつて炭素−炭素結合を
表わし、Y6は水素原子又は−OZ3基を表わし、R3、R4、R
5、R6及びZ3はそれぞれ水素原子又は水素基の保護基を
表わし、B'は低級アルキル基又はアリール基を表わ
す。］ 上記一般式（Ｘ）、一般式（XI）、一般式（XII）、
一般式（XIII）及び一般式（XIV）で示される化合物を
以後それぞれ下記のように称することがある。
上記式において、R3、R4、R5、R6及びZ3が表わす水酸
基の保護基としては、水酸基の保護の目的を達成するか
ぎり、通常用いられているいずれの保護基でも良いが、
具体的には、R1が表わす水酸基の保護基として例示され
た保護基などが挙げられる。B'が表わす低級アルキル基
としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられ、アリール基としては
フエニル基、ｐ−トリル基、ｐ−ブロモフエニル基など
が挙げられる。
基の保護基としては、水酸基の保護の目的を達成するか
ぎり、通常用いられているいずれの保護基でも良いが、
具体的には、R1が表わす水酸基の保護基として例示され
た保護基などが挙げられる。B'が表わす低級アルキル基
としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられ、アリール基としては
フエニル基、ｐ−トリル基、ｐ−ブロモフエニル基など
が挙げられる。
セコステロイド誘導体（III）は側鎖の保護されたシ
アノヒドリン誘導体の水酸基の保護基の脱保護を行つた
後、アルカリ処理することによつてケトン（Ｘ）に変換
される。脱保護反応は、常法に従つて行われる。例え
ば、Z2が三置換シリル基である場合にはフツ化物イオン
化合物で処理する方法などが挙げられ、置換基を有して
いても良いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒
下水あるいは低級アルコールによつて加溶媒分解する方
法などが挙げられる。用いられるフツ化物イオン化合物
としては、フツ化テトラブチルアンモニウム、フツ化水
素酸、フツ化ピリジニウムなどが挙げられ、その使用量
はセコステロイド誘導体（III）１モルに対して通常約
0.05〜２モルである。用いられる酸触媒としては、酸
塩、硫酸などの鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフ
アースルホン酸などのスルホン酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリフル
オロ酢酸などのカルボン酸などが挙げられ、その使用量
は使用する酸触媒によつても異なるが、セコステロイド
誘導体（III）１モルに対して通常約0.05〜10モルであ
る。この反応は通常溶媒中で行われ、使用される触媒と
しては、テトラヒドロフランなどのエーテル系の溶媒、
メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒などが
挙げられ、その使用量は通常セコステロイド誘導体（II
I）に対して約５〜200倍重量である。加溶媒分解に用い
られる低級アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコールなどが挙げられ、その使用
量は通常セコステロイド誘導体（III）に対して約５〜2
00倍重量である。反応は通常−10〜70℃の範囲内の温度
で行われる。アルカリ処理において用いられるアルカリ
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金
属水酸化物などが挙げられる。具体的な反応方法として
は、例えば、セコステロイド誘導体（III）１モルに対
して約１〜100モルの約１〜10％のアルカリ水溶液を上
述の脱保護されたシアノヒドリンの溶液に加え、室温で
５分〜６時間撹拌あるいは振盪するなどの方法が挙げら
れる。
アノヒドリン誘導体の水酸基の保護基の脱保護を行つた
後、アルカリ処理することによつてケトン（Ｘ）に変換
される。脱保護反応は、常法に従つて行われる。例え
ば、Z2が三置換シリル基である場合にはフツ化物イオン
化合物で処理する方法などが挙げられ、置換基を有して
いても良いアルコキシメチル基である場合には、酸触媒
下水あるいは低級アルコールによつて加溶媒分解する方
法などが挙げられる。用いられるフツ化物イオン化合物
としては、フツ化テトラブチルアンモニウム、フツ化水
素酸、フツ化ピリジニウムなどが挙げられ、その使用量
はセコステロイド誘導体（III）１モルに対して通常約
0.05〜２モルである。用いられる酸触媒としては、酸
塩、硫酸などの鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフ
アースルホン酸などのスルホン酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、酢酸、トリフル
オロ酢酸などのカルボン酸などが挙げられ、その使用量
は使用する酸触媒によつても異なるが、セコステロイド
誘導体（III）１モルに対して通常約0.05〜10モルであ
る。この反応は通常溶媒中で行われ、使用される触媒と
しては、テトラヒドロフランなどのエーテル系の溶媒、
メタノール、エタノールなどのアルコール系溶媒などが
挙げられ、その使用量は通常セコステロイド誘導体（II
I）に対して約５〜200倍重量である。加溶媒分解に用い
られる低級アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコールなどが挙げられ、その使用
量は通常セコステロイド誘導体（III）に対して約５〜2
00倍重量である。反応は通常−10〜70℃の範囲内の温度
で行われる。アルカリ処理において用いられるアルカリ
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金
属水酸化物などが挙げられる。具体的な反応方法として
は、例えば、セコステロイド誘導体（III）１モルに対
して約１〜100モルの約１〜10％のアルカリ水溶液を上
述の脱保護されたシアノヒドリンの溶液に加え、室温で
５分〜６時間撹拌あるいは振盪するなどの方法が挙げら
れる。
このようにして得られたケトン（Ｘ）の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行うことができる。例えば、
反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を食
塩水で洗浄した後に、乾燥・濃縮することによつて粗生
成物を得、クロマトグラフイー、再結晶などによつて精
製することによりケトン（Ｘ）を得ることができる。
らの単離・精製は、通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行うことができる。例えば、
反応混合物を水で希釈し、ジエチルエーテル、酢酸エチ
ル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を食
塩水で洗浄した後に、乾燥・濃縮することによつて粗生
成物を得、クロマトグラフイー、再結晶などによつて精
製することによりケトン（Ｘ）を得ることができる。
ケトン（Ｘ）のうち、Y5とY6が一緒になつて炭素−炭
素結合を表わすものは、この側鎖の二重結合を選択的に
還元することによりY5およびY6が水素原子を表わすケト
ン（Ｘ）に変換することができる。この選択的還元反応
は例えば、重曹およびアリコツト（Aliquot）336などの
相間移動触媒の存在下、水−ベンゼンの２相系で、ハイ
ドロサルフアイトナトリウムで処理することで行われ
る。
素結合を表わすものは、この側鎖の二重結合を選択的に
還元することによりY5およびY6が水素原子を表わすケト
ン（Ｘ）に変換することができる。この選択的還元反応
は例えば、重曹およびアリコツト（Aliquot）336などの
相間移動触媒の存在下、水−ベンゼンの２相系で、ハイ
ドロサルフアイトナトリウムで処理することで行われ
る。
ケトン（Ｘ）は、常法にしたがつて還元反応に付する
ことによりアルコール（XI）に変換することができる。
この反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウル、水素化ビス
（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチル
ホウ素ナトリウム、水素化トリsec−ブチルリチウム、
水素化トリsec−ブチルカリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムなどのような金属水素化物などが挙げられ、その使
用量は用いる還元剤の性質によつても異なるが、通常ケ
トン（Ｘ）１モルに対して約0.25〜20モルである。この
反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、
使用される還元剤の性質によつても異なるが、メタノー
ル、エタノールなどのアルコール系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが
挙げられ、その使用量は通常ケトン（Ｘ）に対して約５
〜200倍重量である。この反応は通常約−30〜30℃の範
囲内の温度で行われる。
ことによりアルコール（XI）に変換することができる。
この反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化アルミニウムリチウル、水素化ビス
（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチル
ホウ素ナトリウム、水素化トリsec−ブチルリチウム、
水素化トリsec−ブチルカリウムなどの金属水素化物錯
体、水素化アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムなどのような金属水素化物などが挙げられ、その使
用量は用いる還元剤の性質によつても異なるが、通常ケ
トン（Ｘ）１モルに対して約0.25〜20モルである。この
反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、
使用される還元剤の性質によつても異なるが、メタノー
ル、エタノールなどのアルコール系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが
挙げられ、その使用量は通常ケトン（Ｘ）に対して約５
〜200倍重量である。この反応は通常約−30〜30℃の範
囲内の温度で行われる。
この様にして得られたアルコール（XI）の反応混合物
からの単離・精製は通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混合
物に水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸エチルなどを
加え、過剰の還元剤を分解した後、過・抽出などで有
機溶媒に不溶なものを除き、必要に応じて洗浄すること
によつて中性にした後乾燥・濃縮して粗生成物を得、ク
ロマトグラフイー・再結晶などにより精製することによ
りアルコール（XI）を得ることができる。
からの単離・精製は通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混合
物に水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸エチルなどを
加え、過剰の還元剤を分解した後、過・抽出などで有
機溶媒に不溶なものを除き、必要に応じて洗浄すること
によつて中性にした後乾燥・濃縮して粗生成物を得、ク
ロマトグラフイー・再結晶などにより精製することによ
りアルコール（XI）を得ることができる。
この様にして得られたアルコール（XI）はそれ自体23
位に水酸基を有する活性型ビタミンD3誘導体であるが、
例えば以下のようにして23位の脱酸素化を行うことによ
り、23位に水酸基を持たない活性型ビタミンD3誘導体へ
変換することができる。
位に水酸基を有する活性型ビタミンD3誘導体であるが、
例えば以下のようにして23位の脱酸素化を行うことによ
り、23位に水酸基を持たない活性型ビタミンD3誘導体へ
変換することができる。
まずアルコール（XI）の23位の水酸基を常法に従つ
て、例えば三級アミンの存在下に塩化スルホニルを反応
させ、スルホニル化することによりスルホナート（XI
I）に変換することができる。この反応において用いら
れる塩化スルホニルとしては塩化メタンスルホニル、塩
化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ｐ−ブロムベンゼンス
ルホニル、塩化ベンゼンスルホニルなどが挙げられ、そ
の使用量は通常アルコール（XI）１モルに対して約0.8
〜５モルである。用いられる三級アミンとしては、ピリ
ジン、トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ジイソプ
ロピルエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は使用
する塩化スルホニル１モルに対して通常約１〜50モルで
ある。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒
としては、使用する三級アミンを溶媒として用いること
も可能であり、また塩化メチレン、クロロホルムなど反
応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の
使用量は通常アルコール（XI）に対して約５〜200倍重
量である。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温度で行
われる。
て、例えば三級アミンの存在下に塩化スルホニルを反応
させ、スルホニル化することによりスルホナート（XI
I）に変換することができる。この反応において用いら
れる塩化スルホニルとしては塩化メタンスルホニル、塩
化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ｐ−ブロムベンゼンス
ルホニル、塩化ベンゼンスルホニルなどが挙げられ、そ
の使用量は通常アルコール（XI）１モルに対して約0.8
〜５モルである。用いられる三級アミンとしては、ピリ
ジン、トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ジイソプ
ロピルエチルアミンなどが挙げられ、その使用量は使用
する塩化スルホニル１モルに対して通常約１〜50モルで
ある。この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒
としては、使用する三級アミンを溶媒として用いること
も可能であり、また塩化メチレン、クロロホルムなど反
応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の
使用量は通常アルコール（XI）に対して約５〜200倍重
量である。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温度で行
われる。
この様にして得られたスルホナート（XII）の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用い
られる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテル、塩化メ
チレンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を、希塩酸、
水、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗精
製物を得、クロマトグラフイー・再結晶などによつて精
製することによりスルホナート（XII）を得ることがで
きる。
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用い
られる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテル、塩化メ
チレンなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を、希塩酸、
水、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗精
製物を得、クロマトグラフイー・再結晶などによつて精
製することによりスルホナート（XII）を得ることがで
きる。
スルホナート（XII）は、常法に従つてスルホニルオ
キシ基を還元的に除去することによりビタミン誘導体
（XIII）に変換することができる。この反応に用いられ
る還元剤としては、水素化アルミニウムリチウム、水素
化トリエチルホウ素ナトリウム、水素化ビス（メトキシ
エトキシ）アルミニウムナトリウムなどの金属水素化物
錯体などが挙げられ、その使用量はスルホナート（XI
I）１モルに対して通常約0.5〜20モルである。反応は通
常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒などが挙げられ、その使用量
は、スルホナートに対して通常約５〜200倍重量であ
る。反応は通常約０〜80℃の範囲内の温度で行われる。
キシ基を還元的に除去することによりビタミン誘導体
（XIII）に変換することができる。この反応に用いられ
る還元剤としては、水素化アルミニウムリチウム、水素
化トリエチルホウ素ナトリウム、水素化ビス（メトキシ
エトキシ）アルミニウムナトリウムなどの金属水素化物
錯体などが挙げられ、その使用量はスルホナート（XI
I）１モルに対して通常約0.5〜20モルである。反応は通
常溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒などが挙げられ、その使用量
は、スルホナートに対して通常約５〜200倍重量であ
る。反応は通常約０〜80℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られたビタミン誘導体（XIII）の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物に、水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸エ
チルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、過・抽
出などにより有機溶媒に不溶なものを除去し、必要に応
じて洗浄・乾燥を行い、濃縮して粗生成物を得、クロマ
トグラフイー・再結晶などにより精製することにより、
ビタミン誘導体（XIII）を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物に、水・飽和硫酸ナトリウム水溶液・酢酸エ
チルなどを加え、過剰の還元剤を分解した後、過・抽
出などにより有機溶媒に不溶なものを除去し、必要に応
じて洗浄・乾燥を行い、濃縮して粗生成物を得、クロマ
トグラフイー・再結晶などにより精製することにより、
ビタミン誘導体（XIII）を得ることができる。
この様にして得られたビタミン誘導体（XIII）は必要
に応じて、常法に従い水酸基の脱保護を行うことにより
ビタミン誘導体（XIV）へ変換することができる。この
脱保護反応は、セコステロイド誘導体（III）の側鎖の
保護されたシアノヒドリンの脱保護と同様にして行われ
る。
に応じて、常法に従い水酸基の脱保護を行うことにより
ビタミン誘導体（XIV）へ変換することができる。この
脱保護反応は、セコステロイド誘導体（III）の側鎖の
保護されたシアノヒドリンの脱保護と同様にして行われ
る。
この様にした得られたビタミン誘導体（XIV）のうちY
4、Y5およびY6が水素原子であるものは副甲状腺機能低
下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥
症の治療薬として有用であることが知られている１α−
ヒドロキシビタミンD3であり、またY4およびY6が水素原
子であり、Y5が水酸基であるものは慢性腎不全、副甲状
腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症
の治療薬として有用であることが知られている1,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3であり、またY5およびY6が水素原
子であり、Y4が水酸基であるものは1,25−ジヒドロキシ
ビタミンD3と同様な作用を持ち、乾癬治療薬として有用
であることが知られている1,24−ジヒドロキシビタミン
D3である。
4、Y5およびY6が水素原子であるものは副甲状腺機能低
下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥
症の治療薬として有用であることが知られている１α−
ヒドロキシビタミンD3であり、またY4およびY6が水素原
子であり、Y5が水酸基であるものは慢性腎不全、副甲状
腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウム代謝の欠陥症
の治療薬として有用であることが知られている1,25−ジ
ヒドロキシビタミンD3であり、またY5およびY6が水素原
子であり、Y4が水酸基であるものは1,25−ジヒドロキシ
ビタミンD3と同様な作用を持ち、乾癬治療薬として有用
であることが知られている1,24−ジヒドロキシビタミン
D3である。
［実施例］ 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
なお、これらの実施例中、核磁気共鳴（NMR）スペクト
ルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチルシランを
内部標準として測定した。
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
なお、これらの実施例中、核磁気共鳴（NMR）スペクト
ルは重クロロホルムを溶媒とし、テトラメチルシランを
内部標準として測定した。
参考例１ １α,3β−ジアセトキシ−５α,8α−（3,5−ジオキ
ソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−コレス
ター6,22−ジエン−24−オール2.74gを１％のピリジン
を含む塩化メチレン100mlに溶解し、ドライアイス−ア
セトン浴中にて冷却しながら撹拌した。この溶液にドラ
イアイス−アセトン浴中にて冷却しながらオゾンガスを
吹き込んで飽和させた１％ピリジンを含む塩化メチレン
425mlを加えた。オゾンの青色が消えたことを確認した
後、ジメチルスルフイド5ml加え、浴を除き、室温にな
るまで放置した。冷２％塩酸および水で順次洗浄した
後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーで精製することによ
り、１α,3β−ジアセトキシ−５α,8α−（3,5−ジオ
キソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−６−
プレグネン−20−カルブアルデヒドを880mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.87（s,3H）,1.01（s,
3H）,1.17（d,J＝7Hz,3H）,1.97および1.98（いずれも
s,6H）,5.03（m,1H）,5.84（m,1H）,6.28,6.41（ABq,J
＝8Hz,2H）,7.2〜7.6（m,5H）,9.58（d,J＝4Hz,1H） 参考例２ １α,3β−ジアセトキシ−５α,8α−（3,5−ジオキ
ソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−６−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド302mgに2.1規定の水酸
化カリウムを含む95％エタノール溶液5mlを加え、アル
ゴン雰囲気下に1.5時間加熱還流した。反応液を冷却
後、水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出後を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮
後、残渣をジエチルエーテルより再結晶することにより
精製し、１α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを163mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.71（s,3H）,0.97（s,
3H）,1.06（d,J＝7Hz,3H）,3,2〜3,8（m,1H）,4.0〜4.3
（m,1H）,5.3〜5.5（m,1H）,5.6〜5.8（m,1H）,9.54
（d,1H） 参考例３ １α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド69mgをN,N−ジメチルホルムアミド1
mlに溶解し、イミダゾール0.2g、次いで塩化ｔ−ブチル
ジメチルシリル0.2gを加え、室温で20時間撹拌した。反
応混合液を水にあけ、ジエチルエーテルを抽出した。抽
出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
より精製し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを75m
g得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.11および0.13（それ
ぞれs,12H）,0.70（s,3H）,0.88（s,3H）,0.95および0.
96（それぞれs,18H）,1.15（d,J＝6.4Hz,3H）,4.1〜4.5
（2H）,5,39（m,1H）,5.64（m,1H）,9.55（d,J＝3.5Hz,
1H） 参考例４ １α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド71mgを塩化メチレン1mlに溶解し、
エチルビニルエーテル0.2mlを加え、氷冷下撹拌した。
触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加え、さらに氷冷下
10分間撹拌した。反応混合液を重曹水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、１α,3β−ビス
（エトキシエチルオキシ）−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを73mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.70（s,3H）,0.88（s,
3H）,3.3〜4.1（6H）,4.5〜4.8（2H）,5.30（m,1H）,5.
50（m,1H）,9.54（d,J＝3.5Hz,1H） 参考例５ １α,3δ−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgを
エタノール2mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム20mg
を氷冷下で加え、そのまま30分間撹拌した。反応混合物
に氷冷下で希塩酸を加えて中和し、水で希釈した後、ジ
エチルエーテルで抽出した。抽出液を重曹水および食塩
水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
により精製し、20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）プレグナ−57−ジエン−21−
オールを91mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.11（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.74（s,3H）、0.95
（s,9H）,0.97（s,9H）,1.01（s,3H）,1.01（d,J＝7Hz,
3H）,3.52（m,2H）,4.1〜4.5（2H）,5.38（m,1H）,5.64
（m,1H） 参考例６ 参考例５において、１α,3δ−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−カル
ブアルデヒド100mgの代わりに１α,3β−ビス（エトキ
シエチルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを用いる以外は同様にして操作を行うことに
より、20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエチルオ
キシ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール89mgを得
た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.71（s,3H）,0.88（s,
3H）,2.9〜4.1（8H）,4.5〜4.8（2H）,5.29（m,1H）,5.
50（m,1H） 参考例７ 20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール90mg
をピリジン1mlに溶解し、ジメチルアミノピリジン5mgを
加え、氷冷下に撹拌した。塩化ｐ−トルエンスルホニル
70mgを加え、室温で５時間撹拌した。反応混合物を冷希
塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
水、重曹水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下に濃縮した後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、20−メチル−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−21
−ｐ−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエ
ン95mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.11（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.75（s,3H）、0.95
（s,9H）,0.97（s,9H）,1.01（s,3H）,1.01（d,J＝7Hz,
3H）,2.40（s,3H）,3,83（m,2H）,4.1〜4.5（2H）,5.38
（m,1H）,5.64（m,1H）,7.36（d,J＝8Hz,2H）,7.82（d,
J＝8Hz,2H） 参考例８ 20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエチルオキ
シ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール93mgをピリジ
ン2mlに溶解し、氷冷下で撹拌した。三臭化リン0.5mlを
加え、氷冷下２時間撹拌した。反応混合物を氷水にあ
け、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を水、重曹
水、食塩水で順次洗浄し、硫化ナトリウム上で乾燥し
た。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製することにより、21−ブロモ−20−メチル−１
α,3β−ビス（エトキシエチルオキシ）プレグナ−5,7
−ジエン85mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.59（s,3H）,0.92（s,
3H）,1.01（d,J＝7Hz,3H）,1.01（d,J＝7Hz,3H）,3.2〜
4.1（8H）,4.6〜4.9（2H）,5.30（m,1H）,5.62（m,1H） 実施例１ ナトリウムヘキサメチルジシラジド（0.66規定ベンゼ
ン溶液）0.47mlをベンゼン4mlで希釈し、アルゴン雰囲
気下60℃で加熱撹拌した。１−（１−エトキシ）エトキ
シ−１−シアノ−３−メチルブタン57mgおよび20−メチ
ル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−21−ｐ−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,
7−ジエン21mgをベンゼン4mlに溶解し、上記のナトリウ
ムヘキサメチルジシラジド溶液に１時間かけて滴下し
た。滴下終了後、冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、５
分間撹拌した。有機層を分け、水溶液をジエチルエーテ
ルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧下濃縮後シリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより精製し、23−（１−エトキ
シ）エトキシ−23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）コレスタ−5,7−ジエン19mg
を得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.10（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.70（s,3H）,3.3〜
4.0（m,2H）,4.1〜4.6（2H）,4.7〜5.1（1H）,5.38（m,
1H）,5.64（m,1H） 実施例２ 実施例１において20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−21−ｐ−トルエンスル
ホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21mgのかわりに、2
1−ブロモ−20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエ
チルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン17mgを用いる以外
は同様にして操作を行うことにより、23−シアノ−１
α,3β,23−トリス［（１−エトキシ）エトキシ］コレ
スタ−5,7−ジエン15mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.69（s,3H）,0.9〜1.1
（12H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3H）,5.40（m,1
H）,5.63（m,1H） 実施例３ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１α,3
β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）コレスタ
−5,7−ジエン19mgをジエチルエーテル400mlに溶解し、
アルゴンガスを通じながら氷浴中で冷却した。この溶液
に400W高圧水銀灯を用いて10分間紫外線を照射した。反
応混合物を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより精製し、23−（１−エトキ
シ）エトキシ−23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−５
（10）,6,8−トリエン2.5mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.05（s,12H）,0.70
（s,3H）,1.64（s,3H）,3.3〜4.0（2H）,4.1〜4.5（2
H）,4.7〜5.0（1H）,5.2〜5.6（2H）,5.84（br.s,2H） 実施例４ 実施例３において、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）コレスタ−5,7−ジエン19mgのかわりに23−
シアノ−１α,3β,23−トリス［（１−エトキシ）エト
キシ］コレスタ−5,7−ジエン15mgを用いる以外は同様
にして操作を行うことにより、23−シアノ−１α,3β,2
3−トリス［（１−エトキシ）エトキシ］−9,10−セコ
コレスタ−５（10）,6,8−トリエン2.0mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.70（s,3H）,0.9〜1.1
（9H）,1.63（s,3H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3
H）,5.2〜5.6（2H）,5,84（br.s,2H） 実施例５ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１α,3
β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,10−
セココレスタ−５（10）,6,8−トリエン2,5mgをジエチ
ルエーテル2mlに溶解し、遮光して室温で１週間放置し
た。減圧下濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フイーにより精製し、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−9.10−セココレスタ−5,7,10（19）−トリ
エン1.3mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.01（s,12H）,0.60
（s,3H）,3.3〜4.0（2H）,4.1〜4.6（2H）,4.7〜5.1（1
H）,5.16（br.s,2H）,6.00（d,J＝11Hz,1H）,6.21（d,J
＝11Hz,1H） 実施例６ 実施例５において、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）−9,10−セココレスタ−５（10）,6,8−トリエン
2.5mgのかわりに23−シアノ−１α,3β,23−トリス
［（１−エトキシ）エトキシ］コレスタ−５（10）,6,8
−トリエン2.0mgを用いる以外は同様にして操作を行う
ことにより、23−シアノ−１α,3β,23−トリス［（１
−エトキシ）エトキシ］−9,10−セココレスタ−5,7,10
（19）−トリエン1.1mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.60（s,3H）,0.9〜1.1
（9H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3H）,5.15（br.s,1
H）,6.01（d,J＝11Hz,1H）,6.21（d,J＝11Hz,1H） 参考例９ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,
10−セココレスタ−5,7,10（19）−トリエン1.3mgをメ
タノール1mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸を加え、氷冷下で25分間撹拌した。反応混合物を塩化
メチレンで希釈し、食塩水を加えた。有機層を分け、水
層を塩化メチレンで抽出した。有機層を合わせ、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、23−シアノ−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,
10−セココレクタ−5,7,10（19）−トリエン−23−オー
ルを粗製物として得た。
ソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−コレス
ター6,22−ジエン−24−オール2.74gを１％のピリジン
を含む塩化メチレン100mlに溶解し、ドライアイス−ア
セトン浴中にて冷却しながら撹拌した。この溶液にドラ
イアイス−アセトン浴中にて冷却しながらオゾンガスを
吹き込んで飽和させた１％ピリジンを含む塩化メチレン
425mlを加えた。オゾンの青色が消えたことを確認した
後、ジメチルスルフイド5ml加え、浴を除き、室温にな
るまで放置した。冷２％塩酸および水で順次洗浄した
後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーで精製することによ
り、１α,3β−ジアセトキシ−５α,8α−（3,5−ジオ
キソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−６−
プレグネン−20−カルブアルデヒドを880mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.87（s,3H）,1.01（s,
3H）,1.17（d,J＝7Hz,3H）,1.97および1.98（いずれも
s,6H）,5.03（m,1H）,5.84（m,1H）,6.28,6.41（ABq,J
＝8Hz,2H）,7.2〜7.6（m,5H）,9.58（d,J＝4Hz,1H） 参考例２ １α,3β−ジアセトキシ−５α,8α−（3,5−ジオキ
ソ−４−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ）−６−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド302mgに2.1規定の水酸
化カリウムを含む95％エタノール溶液5mlを加え、アル
ゴン雰囲気下に1.5時間加熱還流した。反応液を冷却
後、水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出後を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮
後、残渣をジエチルエーテルより再結晶することにより
精製し、１α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを163mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.71（s,3H）,0.97（s,
3H）,1.06（d,J＝7Hz,3H）,3,2〜3,8（m,1H）,4.0〜4.3
（m,1H）,5.3〜5.5（m,1H）,5.6〜5.8（m,1H）,9.54
（d,1H） 参考例３ １α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド69mgをN,N−ジメチルホルムアミド1
mlに溶解し、イミダゾール0.2g、次いで塩化ｔ−ブチル
ジメチルシリル0.2gを加え、室温で20時間撹拌した。反
応混合液を水にあけ、ジエチルエーテルを抽出した。抽
出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
より精製し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを75m
g得た。1 H NMRスペクトル（90MHZ）δ:0.11および0.13（それ
ぞれs,12H）,0.70（s,3H）,0.88（s,3H）,0.95および0.
96（それぞれs,18H）,1.15（d,J＝6.4Hz,3H）,4.1〜4.5
（2H）,5,39（m,1H）,5.64（m,1H）,9.55（d,J＝3.5Hz,
1H） 参考例４ １α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド71mgを塩化メチレン1mlに溶解し、
エチルビニルエーテル0.2mlを加え、氷冷下撹拌した。
触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加え、さらに氷冷下
10分間撹拌した。反応混合液を重曹水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、１α,3β−ビス
（エトキシエチルオキシ）−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを73mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.70（s,3H）,0.88（s,
3H）,3.3〜4.1（6H）,4.5〜4.8（2H）,5.30（m,1H）,5.
50（m,1H）,9.54（d,J＝3.5Hz,1H） 参考例５ １α,3δ−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgを
エタノール2mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム20mg
を氷冷下で加え、そのまま30分間撹拌した。反応混合物
に氷冷下で希塩酸を加えて中和し、水で希釈した後、ジ
エチルエーテルで抽出した。抽出液を重曹水および食塩
水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
により精製し、20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）プレグナ−57−ジエン−21−
オールを91mg得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.11（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.74（s,3H）、0.95
（s,9H）,0.97（s,9H）,1.01（s,3H）,1.01（d,J＝7Hz,
3H）,3.52（m,2H）,4.1〜4.5（2H）,5.38（m,1H）,5.64
（m,1H） 参考例６ 参考例５において、１α,3δ−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−カル
ブアルデヒド100mgの代わりに１α,3β−ビス（エトキ
シエチルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを用いる以外は同様にして操作を行うことに
より、20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエチルオ
キシ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール89mgを得
た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.71（s,3H）,0.88（s,
3H）,2.9〜4.1（8H）,4.5〜4.8（2H）,5.29（m,1H）,5.
50（m,1H） 参考例７ 20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール90mg
をピリジン1mlに溶解し、ジメチルアミノピリジン5mgを
加え、氷冷下に撹拌した。塩化ｐ−トルエンスルホニル
70mgを加え、室温で５時間撹拌した。反応混合物を冷希
塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
水、重曹水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下に濃縮した後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、20−メチル−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−21
−ｐ−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエ
ン95mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.11（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.75（s,3H）、0.95
（s,9H）,0.97（s,9H）,1.01（s,3H）,1.01（d,J＝7Hz,
3H）,2.40（s,3H）,3,83（m,2H）,4.1〜4.5（2H）,5.38
（m,1H）,5.64（m,1H）,7.36（d,J＝8Hz,2H）,7.82（d,
J＝8Hz,2H） 参考例８ 20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエチルオキ
シ）プレグナ−5,7−ジエン−21−オール93mgをピリジ
ン2mlに溶解し、氷冷下で撹拌した。三臭化リン0.5mlを
加え、氷冷下２時間撹拌した。反応混合物を氷水にあ
け、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を水、重曹
水、食塩水で順次洗浄し、硫化ナトリウム上で乾燥し
た。減圧下濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製することにより、21−ブロモ−20−メチル−１
α,3β−ビス（エトキシエチルオキシ）プレグナ−5,7
−ジエン85mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.59（s,3H）,0.92（s,
3H）,1.01（d,J＝7Hz,3H）,1.01（d,J＝7Hz,3H）,3.2〜
4.1（8H）,4.6〜4.9（2H）,5.30（m,1H）,5.62（m,1H） 実施例１ ナトリウムヘキサメチルジシラジド（0.66規定ベンゼ
ン溶液）0.47mlをベンゼン4mlで希釈し、アルゴン雰囲
気下60℃で加熱撹拌した。１−（１−エトキシ）エトキ
シ−１−シアノ−３−メチルブタン57mgおよび20−メチ
ル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−21−ｐ−トルエンスルホニルオキシプレグナ−5,
7−ジエン21mgをベンゼン4mlに溶解し、上記のナトリウ
ムヘキサメチルジシラジド溶液に１時間かけて滴下し
た。滴下終了後、冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、５
分間撹拌した。有機層を分け、水溶液をジエチルエーテ
ルで抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄し硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧下濃縮後シリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより精製し、23−（１−エトキ
シ）エトキシ−23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）コレスタ−5,7−ジエン19mg
を得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.10（s,3H）,0.12（s,
3H）,0.13（s,3H）,0.15（s,3H）,0.70（s,3H）,3.3〜
4.0（m,2H）,4.1〜4.6（2H）,4.7〜5.1（1H）,5.38（m,
1H）,5.64（m,1H） 実施例２ 実施例１において20−メチル−１α,3β−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−21−ｐ−トルエンスル
ホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン21mgのかわりに、2
1−ブロモ−20−メチル−１α,3β−ビス（エトキシエ
チルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン17mgを用いる以外
は同様にして操作を行うことにより、23−シアノ−１
α,3β,23−トリス［（１−エトキシ）エトキシ］コレ
スタ−5,7−ジエン15mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.69（s,3H）,0.9〜1.1
（12H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3H）,5.40（m,1
H）,5.63（m,1H） 実施例３ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１α,3
β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）コレスタ
−5,7−ジエン19mgをジエチルエーテル400mlに溶解し、
アルゴンガスを通じながら氷浴中で冷却した。この溶液
に400W高圧水銀灯を用いて10分間紫外線を照射した。反
応混合物を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより精製し、23−（１−エトキ
シ）エトキシ−23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−５
（10）,6,8−トリエン2.5mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.05（s,12H）,0.70
（s,3H）,1.64（s,3H）,3.3〜4.0（2H）,4.1〜4.5（2
H）,4.7〜5.0（1H）,5.2〜5.6（2H）,5.84（br.s,2H） 実施例４ 実施例３において、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）コレスタ−5,7−ジエン19mgのかわりに23−
シアノ−１α,3β,23−トリス［（１−エトキシ）エト
キシ］コレスタ−5,7−ジエン15mgを用いる以外は同様
にして操作を行うことにより、23−シアノ−１α,3β,2
3−トリス［（１−エトキシ）エトキシ］−9,10−セコ
コレスタ−５（10）,6,8−トリエン2.0mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.70（s,3H）,0.9〜1.1
（9H）,1.63（s,3H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3
H）,5.2〜5.6（2H）,5,84（br.s,2H） 実施例５ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１α,3
β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,10−
セココレスタ−５（10）,6,8−トリエン2,5mgをジエチ
ルエーテル2mlに溶解し、遮光して室温で１週間放置し
た。減圧下濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フイーにより精製し、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−9.10−セココレスタ−5,7,10（19）−トリ
エン1.3mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.01（s,12H）,0.60
（s,3H）,3.3〜4.0（2H）,4.1〜4.6（2H）,4.7〜5.1（1
H）,5.16（br.s,2H）,6.00（d,J＝11Hz,1H）,6.21（d,J
＝11Hz,1H） 実施例６ 実施例５において、23−（１−エトキシ）エトキシ−
23−シアノ−１α,3β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）−9,10−セココレスタ−５（10）,6,8−トリエン
2.5mgのかわりに23−シアノ−１α,3β,23−トリス
［（１−エトキシ）エトキシ］コレスタ−５（10）,6,8
−トリエン2.0mgを用いる以外は同様にして操作を行う
ことにより、23−シアノ−１α,3β,23−トリス［（１
−エトキシ）エトキシ］−9,10−セココレスタ−5,7,10
（19）−トリエン1.1mgを得た。1 H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.60（s,3H）,0.9〜1.1
（9H）,3.2〜4.2（10H）,4.5〜5.0（3H）,5.15（br.s,1
H）,6.01（d,J＝11Hz,1H）,6.21（d,J＝11Hz,1H） 参考例９ 23−（１−エトキシ）エトキシ−23−シアノ−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,
10−セココレスタ−5,7,10（19）−トリエン1.3mgをメ
タノール1mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン
酸を加え、氷冷下で25分間撹拌した。反応混合物を塩化
メチレンで希釈し、食塩水を加えた。有機層を分け、水
層を塩化メチレンで抽出した。有機層を合わせ、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し、23−シアノ−１
α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−9,
10−セココレクタ−5,7,10（19）−トリエン−23−オー
ルを粗製物として得た。
上記で得られた粗製物をテトラヒドロフラン1mlに
溶解し、２％水酸化ナトリウム水溶液0.5ml加え、室温
で５分間激しく撹拌した。反応混合物を水で希釈し、酢
酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−5,7,
10（19）−トリエン−23−オンを粗製物として得た。
溶解し、２％水酸化ナトリウム水溶液0.5ml加え、室温
で５分間激しく撹拌した。反応混合物を水で希釈し、酢
酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−5,7,
10（19）−トリエン−23−オンを粗製物として得た。
上記の粗製物をエタノール1mlに溶解し、氷冷下に
水素化ホウ素ナトリウム1mgを加え、氷冷下で30分間撹
拌した。反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−5,7,10
（19）−トリエン−23−オールを粗製物として得た。
水素化ホウ素ナトリウム1mgを加え、氷冷下で30分間撹
拌した。反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−5,7,10
（19）−トリエン−23−オールを粗製物として得た。
上記の粗製物をピリジン1mlに溶解し、塩化ｐ−ト
ルエンスルホニル10mgおよびN,N−ジメチルアミノピリ
ジン2mgを加え、室温で22時間撹拌した。反応混合物を
酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し
た後、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより部分
精製し、１α,3β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−23−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セコ
コレスタ−5,7,10（19）−トリエン0.8mgを得た。
ルエンスルホニル10mgおよびN,N−ジメチルアミノピリ
ジン2mgを加え、室温で22時間撹拌した。反応混合物を
酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下濃縮し
た後、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより部分
精製し、１α,3β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−23−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セコ
コレスタ−5,7,10（19）−トリエン0.8mgを得た。
１α,3β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
23−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セココレス
タ−5,7,10（19）−トリエン0.8mgをテトラヒドロフラ
ン3mlに溶解し、水素化アルミニウムリチウム20mgを加
え、アルゴン雰囲気下2.5時間加熱還流した。反応混合
物を氷冷下ジエチルエーテルで希釈した後、飽和硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、過剰の還元剤を分解した。不溶
物を別し、酢酸エチルで充分洗浄した。洗浄液を液
に合わせ、減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−
5,7,10（19）−トリエンを粗製物として得た。
23−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−9,10−セココレス
タ−5,7,10（19）−トリエン0.8mgをテトラヒドロフラ
ン3mlに溶解し、水素化アルミニウムリチウム20mgを加
え、アルゴン雰囲気下2.5時間加熱還流した。反応混合
物を氷冷下ジエチルエーテルで希釈した後、飽和硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、過剰の還元剤を分解した。不溶
物を別し、酢酸エチルで充分洗浄した。洗浄液を液
に合わせ、減圧下濃縮し、１α,3β−ビス（ｔ−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−9,10−セココレスタ−
5,7,10（19）−トリエンを粗製物として得た。
上記の粗製物をテトラヒドロフラン2mlに溶解し、
フツ化テトラブチルアンモニウム（１規定テトラヒドロ
フラン溶液）0.5mlを加え、室温で５時間撹拌した。反
応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧化
濃縮した後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイー
により精製し、9,10−セココレスタ−5,7,10（19）−ト
リエン−１α,3β−ジオール0.3mgを得た。このものの
分析値（NMR、UV、MS）はすべて文献値と一致した。
フツ化テトラブチルアンモニウム（１規定テトラヒドロ
フラン溶液）0.5mlを加え、室温で５時間撹拌した。反
応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧化
濃縮した後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイー
により精製し、9,10−セココレスタ−5,7,10（19）−ト
リエン−１α,3β−ジオール0.3mgを得た。このものの
分析値（NMR、UV、MS）はすべて文献値と一致した。
実施例７ 実施例１において、１−（１−エトキシ）エトキシ−
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−トリ
メチルシリルオキシ−１−シアノ−３−メチル−２−ブ
テン57mgを用いる以外は同様にして操作を行うことによ
り23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−23−トリメチルシリルオキシコレスタ−
5,7,24−トリエン17mgを得た。
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−トリ
メチルシリルオキシ−１−シアノ−３−メチル−２−ブ
テン57mgを用いる以外は同様にして操作を行うことによ
り23−シアノ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−23−トリメチルシリルオキシコレスタ−
5,7,24−トリエン17mgを得た。
実施例８ 実施例１において、１−（１−エトキシ）エトキシ−
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに（１−エ
トキシ）エトキシアセトニトリル40mgを用いる以外は同
様にして操作を行うことにより20−［２−シアノ−２−
（１−エトキシ）］エチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン8mgを
得た。
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに（１−エ
トキシ）エトキシアセトニトリル40mgを用いる以外は同
様にして操作を行うことにより20−［２−シアノ−２−
（１−エトキシ）］エチル−１α,3β−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン8mgを
得た。
実施例９ 実施例１において、１−（１−エトキシ）エトキシ−
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−（１
−エトキシ）エトキシ−１−シアノ−３−メチル−３−
（２−テトラヒドロピラニル）オキシブタン88mgを用い
る以外は同様にして操作を行うことにより23−シアノ−
23−（１−エトキシ）エトキシ−１α,3β−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−25−（２−テトラヒド
ロピラニル）オキシコレスタ−5,7−ジエン21mgを得
た。
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−（１
−エトキシ）エトキシ−１−シアノ−３−メチル−３−
（２−テトラヒドロピラニル）オキシブタン88mgを用い
る以外は同様にして操作を行うことにより23−シアノ−
23−（１−エトキシ）エトキシ−１α,3β−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−25−（２−テトラヒド
ロピラニル）オキシコレスタ−5,7−ジエン21mgを得
た。
実施例10 実施例１において、１−（１−エトキシ）エトキシ−
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに４−［２
−シアノ−２−（１−エトキシ）エトキシ］エチル−2,
2,4−トリメチル−1,3−ジオキソラン80mgを用いる以外
は同様にして操作を行うことにより23−シアノ−23−
（１−エトキシ）エトキシ−25,26−イソプロピリデン
ジオキシ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）コレスタ−5,7−ジエン18mgを得た。
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに４−［２
−シアノ−２−（１−エトキシ）エトキシ］エチル−2,
2,4−トリメチル−1,3−ジオキソラン80mgを用いる以外
は同様にして操作を行うことにより23−シアノ−23−
（１−エトキシ）エトキシ−25,26−イソプロピリデン
ジオキシ−１α,3β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）コレスタ−5,7−ジエン18mgを得た。
実施例11 実施例１において、１−（１−エトキシ）エトキシ−
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−シア
ノ−１−（１−エトキシ）エトキシ−２−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−４−メチルブタン97mgを用いる以
外は同様にして操作を行うことにより、23−シアノ−23
−（１−エトキシ）エトキシ−１α,3β,24−トリス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）コレスタ−5,7−
ジエン22mgを得た。
１−シアノ−３−メチルブタン57mgの代わりに１−シア
ノ−１−（１−エトキシ）エトキシ−２−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−４−メチルブタン97mgを用いる以
外は同様にして操作を行うことにより、23−シアノ−23
−（１−エトキシ）エトキシ−１α,3β,24−トリス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）コレスタ−5,7−
ジエン22mgを得た。
［発明の効果］ 本発明により一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式
（III）で示される新規なステロイド誘導体並びに一般
式（Ｉ）で示されるステロイド誘導体の製造方法が提供
される。
（III）で示される新規なステロイド誘導体並びに一般
式（Ｉ）で示されるステロイド誘導体の製造方法が提供
される。
本発明により提供される該ステロイド誘導体は、慢性
腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウ
ム代謝の欠陥症の治療に有効であることが知られている
１α,25−ジヒドロキシビタミンD3を初めとする１α位
に水酸基をもつビタミンD3誘導体の合成中間体として有
用である。
腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症などのカルシウ
ム代謝の欠陥症の治療に有効であることが知られている
１α,25−ジヒドロキシビタミンD3を初めとする１α位
に水酸基をもつビタミンD3誘導体の合成中間体として有
用である。
Claims (4)
- 【請求項１】一般式 ［式中、Ｒは水素原子又は−CH（Y1）Ｃ（Y2）（CH3）C
H2Y3基を表わし、Y1及びY2はそれぞれ水素原子若しくは
−OZ1基を表わすか又は一緒になつて炭素−炭素結合を
表わし、Y3は水素原子又は−OZ1基を表わし、R1、R2、Z
1及びZ2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表わ
す］ で示されるステロイド誘導体。 - 【請求項２】一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2はそれぞれ請求項１記載の
Ｒ、R1、R2及びZ2と同じである） で示される9,10−セコステロイド誘導体。 - 【請求項３】一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2はそれぞれ請求項１記載の
Ｒ、R1、R2及びZ2と同じである） で示される9,10−セコステロイド誘導体。 - 【請求項４】一般式 （式中、R1及びR2はそれぞれ請求項１記載のR1及びR2と
同じであり、Ａはハロゲン原子又はスルホニルオキシ基
を表わす） で示されるプレグナン誘導体と一般式 NCCH（OZ2）Ｒ （式中、Ｒ及びZ2はそれぞれ請求項１記載のＲ及びZ2と
同じである） で示されるシアノヒドリン誘導体とを塩基性物質存在下
に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ、R1、R2及びZ2はそれぞれ請求項１記載の
Ｒ、R1、R2及びZ2と同じである） で示されるステロイド誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1073061A JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1073061A JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250864A JPH02250864A (ja) | 1990-10-08 |
| JP2642189B2 true JP2642189B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=13507462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1073061A Expired - Lifetime JP2642189B2 (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642189B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992003465A1 (de) * | 1990-08-18 | 1992-03-05 | Schering Aktiengesellschaft Berlin Und Bergkamen | 20-METHYL-5,7-PREGNADIEN-3β,21-DIOL-DERIVATIVE |
| CA2062520C (en) * | 1991-03-11 | 1998-08-11 | Hector F. Deluca | Synthesis of 1-alpha-hydroxy-secosterol compounds |
| JP5664779B2 (ja) | 2011-06-17 | 2015-02-04 | ユニマテック株式会社 | ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法 |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1073061A patent/JP2642189B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02250864A (ja) | 1990-10-08 |
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