JP2710789B2 - ステロイド誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体及びその製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化
症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有
効であることが知られている1α−ヒドロキシビタミン
D3の合成中間体として有用な新規なステロイド誘導体、
その製造方法及び該ステロイド誘導体から、1α−ヒド
ロキシビタミンD3誘導体を製造する方法に関する。
症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有
効であることが知られている1α−ヒドロキシビタミン
D3の合成中間体として有用な新規なステロイド誘導体、
その製造方法及び該ステロイド誘導体から、1α−ヒド
ロキシビタミンD3誘導体を製造する方法に関する。
従来、1α−ヒドロキシビタミンD3の製造方法として
は、例えば、コレステロールを原料として使用すること
により1α−ヒドロキシビタミンD3を製造する方法など
が知られている(特開昭48−62750号公報及び特開昭49
−95956号公報参照)。
は、例えば、コレステロールを原料として使用すること
により1α−ヒドロキシビタミンD3を製造する方法など
が知られている(特開昭48−62750号公報及び特開昭49
−95956号公報参照)。
上記の通り、1α−ヒドロキシビタミンD3の製造方法
は知られているが、1α−ヒドロキシビタミンD3を製造
するに際し、合成中間体として使用できる化合物を多く
の化合物の中から選択することが出来れば、原料事情に
応じてその製造プロセスを適宜変更することが可能とな
り好ましい。
は知られているが、1α−ヒドロキシビタミンD3を製造
するに際し、合成中間体として使用できる化合物を多く
の化合物の中から選択することが出来れば、原料事情に
応じてその製造プロセスを適宜変更することが可能とな
り好ましい。
しかして、本発明の1つの目的は、1α−ヒドロキシ
ビタミンD3の合成中間体として有用な新規な化合物を提
供することにある。
ビタミンD3の合成中間体として有用な新規な化合物を提
供することにある。
本発明の他の目的は当該新規な化合物の製造方法を提
供することにある。
供することにある。
本発明のさらに他の目的は当該新規な化合物から、1
α−ヒドロキシビタミンD3誘導体を製造する方法を提供
することにある。
α−ヒドロキシビタミンD3誘導体を製造する方法を提供
することにある。
本発明によれば、上記の目的は (1)一般式 〔式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アシル基、低級
アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換基を
有していても良いアルコキシメチル基を表わし、X1は水
酸基、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニル基、アレ
ーンスルホニル基又は−OY基を表わし、ここでYは−P
(=O)(Z1)2基又は−C(=S)Z2基を表わし、Z1は
低級アルコキシ基、アレノキシ基又は置換アミノ基を表
わし、R2は低級アルコキシ基、アレノキシ基、アラルコ
キシ基、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基又
はヒドロカルビルチオ基を表わす。〕 で示される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体 (2)一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体及び (3)一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体並びに下記
〜の製造方法を提供することによつて達成される。
アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換基を
有していても良いアルコキシメチル基を表わし、X1は水
酸基、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニル基、アレ
ーンスルホニル基又は−OY基を表わし、ここでYは−P
(=O)(Z1)2基又は−C(=S)Z2基を表わし、Z1は
低級アルコキシ基、アレノキシ基又は置換アミノ基を表
わし、R2は低級アルコキシ基、アレノキシ基、アラルコ
キシ基、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基又
はヒドロカルビルチオ基を表わす。〕 で示される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体 (2)一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体及び (3)一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体並びに下記
〜の製造方法を提供することによつて達成される。
一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫外線
を照射することを特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体の製造方
法。
される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫外線
を照射することを特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体の製造方
法。
一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体を熱エネ
ルギーにより異性化させることを特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方法。
される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体を熱エネ
ルギーにより異性化させることを特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方法。
一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫外線
を照射し、更に熱エネルギーにより異性化させることを
特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方法。
される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫外線
を照射し、更に熱エネルギーにより異性化させることを
特徴とする 一般式 〔式中、R1、R2及びX1は前記定義の通りである。〕で示
される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方法。
上記一般式(I)、(II)及び(III)におけるR1、R
2、X1、Z1及びZ2を以下に詳しく説明する。
2、X1、Z1及びZ2を以下に詳しく説明する。
R1及びR2それぞれが表わすアシル基としては、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、
バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイ
ル基、モノクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基
などが挙げられ、低級アルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イ
ソプロピルオキシカルボニル基などが挙げられ、三置換
シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジフエニルシリル基などが挙げ
られ、置換基を有していても良いアルコキシメチル基と
しては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル
基、エトキシエチル基、メトキシイソプロピル基、テト
ラヒドロピラニル基などが挙げられる。X1が表わすハロ
ゲン原子としては、フツ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられ、低級アルカンスルホニルオキシ
基としては、メタンスルホニルオキシ基などが挙げら
れ、アレーンスルホニルオキシ基としてはp−トルエン
スルホニルオキシ基、p−ブロムベンゼンスルホニルオ
キシ基などが挙げられる。式中、Z1が表わす低級アルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピ
ルオキシ基などが挙げられ、アレノキシ基としては、フ
エノキシ基などが挙げられ、置換アミノ基としては、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基などの低級アルキル
アミノ基などが挙げられる。Z2が表わすアルコキシ基と
してはメトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基
などが挙げられ、アレノキシ基としては、フエノキシ
基、p−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基などが
挙げられ、アラルコキシ基としては、ベンジルオキシ
基、p−ブロモベンジルオキシ基、p−ニトロベンジル
オキシ基などが挙げられ、置換アミノ基としては、イミ
ダゾリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など
の低級アルキルアミノ基などが挙げられ、低級アルキル
基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基など
が挙げられ、アリール基としては、フエニル基、トリル
基、p−メトキシフエニル基、p−ブロムフエニル基、
p−ニトロフエニル基などが挙げられ、アラルキル基と
しては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ブ
ロムベンジル基、p−ニトロベンジル基などが挙げら
れ、ヒドロカルビルチオ基としては、メチルチオ基、エ
チルチオ基、フエニルチオ基などが挙げられる。
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、
バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイ
ル基、モノクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基
などが挙げられ、低級アルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イ
ソプロピルオキシカルボニル基などが挙げられ、三置換
シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジフエニルシリル基などが挙げ
られ、置換基を有していても良いアルコキシメチル基と
しては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル
基、エトキシエチル基、メトキシイソプロピル基、テト
ラヒドロピラニル基などが挙げられる。X1が表わすハロ
ゲン原子としては、フツ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられ、低級アルカンスルホニルオキシ
基としては、メタンスルホニルオキシ基などが挙げら
れ、アレーンスルホニルオキシ基としてはp−トルエン
スルホニルオキシ基、p−ブロムベンゼンスルホニルオ
キシ基などが挙げられる。式中、Z1が表わす低級アルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピ
ルオキシ基などが挙げられ、アレノキシ基としては、フ
エノキシ基などが挙げられ、置換アミノ基としては、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基などの低級アルキル
アミノ基などが挙げられる。Z2が表わすアルコキシ基と
してはメトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基
などが挙げられ、アレノキシ基としては、フエノキシ
基、p−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基などが
挙げられ、アラルコキシ基としては、ベンジルオキシ
基、p−ブロモベンジルオキシ基、p−ニトロベンジル
オキシ基などが挙げられ、置換アミノ基としては、イミ
ダゾリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基など
の低級アルキルアミノ基などが挙げられ、低級アルキル
基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基など
が挙げられ、アリール基としては、フエニル基、トリル
基、p−メトキシフエニル基、p−ブロムフエニル基、
p−ニトロフエニル基などが挙げられ、アラルキル基と
しては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ブ
ロムベンジル基、p−ニトロベンジル基などが挙げら
れ、ヒドロカルビルチオ基としては、メチルチオ基、エ
チルチオ基、フエニルチオ基などが挙げられる。
一般式(I)、(II)又は(III)で示される本発明
のステロイド誘導体は例えば次の方法により製造するこ
とができる。
のステロイド誘導体は例えば次の方法により製造するこ
とができる。
(上記の式において、Acはアセチル基を表わし、Phはフ
ェニル基を表わし、R1、R2及びX1はそれぞれ前記定義の
とおりであり、X2はハロゲン原子、低級アルカンスルホ
ニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基又は−OY基
を表わし、ここでYは前記定義のとおりである。ここ
で、X2が表わすハロゲン原子、低級アルカンスルホニル
オキシ基又はアレーンスルホニルオキシ基の具体例とし
てはX1が表わすと同様の基を挙げることができ、又、X2
が−OY基を表わす場合のZ1及びZ2が表わす基の具体例と
しては、前記と同様の基を挙げることができる。
ェニル基を表わし、R1、R2及びX1はそれぞれ前記定義の
とおりであり、X2はハロゲン原子、低級アルカンスルホ
ニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基又は−OY基
を表わし、ここでYは前記定義のとおりである。ここ
で、X2が表わすハロゲン原子、低級アルカンスルホニル
オキシ基又はアレーンスルホニルオキシ基の具体例とし
てはX1が表わすと同様の基を挙げることができ、又、X2
が−OY基を表わす場合のZ1及びZ2が表わす基の具体例と
しては、前記と同様の基を挙げることができる。
上記一般式(I−1)、(I−2)、(II−1)、
(II−2)(III−1)、(III−2)、(IV)、
(V)、(VI−1)、(VI−2)及び(VII)で示され
る化合物を以後それぞれ下記のように称することがあ
る。
(II−2)(III−1)、(III−2)、(IV)、
(V)、(VI−1)、(VI−2)及び(VII)で示され
る化合物を以後それぞれ下記のように称することがあ
る。
さらに、一般式(I−2)、(II−2)及び(III−
2)において、X2が下記の如き置換基を表すことによつ
て示される化合物を以後下記の如き化合物番号を用いて
表示することがある。
2)において、X2が下記の如き置換基を表すことによつ
て示される化合物を以後下記の如き化合物番号を用いて
表示することがある。
一般式(VII)において、R1及びR2がそれぞれ下記の
如き置換基を表すことによつて示される化合物を以後下
記の如く称することがある。
如き置換基を表すことによつて示される化合物を以後下
記の如く称することがある。
まず、H.Saiらの方法〔ケミカル・フアーマシユーテ
イカル・ブルテン(Chem.Pharm.Bull.)32巻3866〜3872
ページ(1984年)参照〕に従つて調製した化合物(IV)
をアルデヒド(VI−1)に又は(VI−2)に変換する
が、この変換は化合物(IV)の側鎖の炭素−炭素二重結
合を選択的にオゾン酸化し、得られるオゾニドを還元的
に処理してアルデヒド(V)を得て、さらに5,7−ジエ
ンの保護基を除去することにより行なわれる。オゾン酸
化・還元的後処理は常法に従つて実施される。すなわち
化合物(IV)の溶液に冷却下オゾンガスを通じるか、あ
るいは予め調製したオゾンの飽和溶液を化合物(IV)の
溶液に冷却下に加えることにより、オゾン化が行なわ
れ、ついで適当な還元剤を加えることによつて還元的後
処理が行なわれる。使用するオゾンガスの量は通常化合
物(IV)1モルに対して約0.1〜10モル好ましくは約0.5
モル〜0.8モルである。この反応には、塩化メチレン、
メタノールなどの反応に関与しない溶媒に用いられ、そ
の使用量は通常化合物(IV)に対して約10〜200倍重量
である。またこの溶媒中に約1%のピリジンを共存させ
ることも可能である。オゾン化反応は通常0℃以下の温
度で行なわれ、好ましくは約−50℃〜−100℃の範囲内
の温度で行なわれる。還元的後処理に用いられる還元剤
としては、ジメチルスルフイド、トリフエニルホスフイ
ンなどが挙げられ、その使用量は、化合物(IV)1モル
に対して約1〜50モルである。還元的後処理は通常約−
100〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。反応は、ドラ
イアイス−アセトン浴中で冷却した、化合物(IV)1モ
ルに対して約0.5〜0.8モルのオゾン及び1%ピリジンを
含む塩化メチレン溶液に化合物(IV)あるいはその溶液
を加え、オゾンの青色が消えた後に、約20モルのジメチ
ルスルフイドを加え、ドライアイス−アセトン浴を除去
し、室温まで加温することにより実施するのが簡便であ
る。
イカル・ブルテン(Chem.Pharm.Bull.)32巻3866〜3872
ページ(1984年)参照〕に従つて調製した化合物(IV)
をアルデヒド(VI−1)に又は(VI−2)に変換する
が、この変換は化合物(IV)の側鎖の炭素−炭素二重結
合を選択的にオゾン酸化し、得られるオゾニドを還元的
に処理してアルデヒド(V)を得て、さらに5,7−ジエ
ンの保護基を除去することにより行なわれる。オゾン酸
化・還元的後処理は常法に従つて実施される。すなわち
化合物(IV)の溶液に冷却下オゾンガスを通じるか、あ
るいは予め調製したオゾンの飽和溶液を化合物(IV)の
溶液に冷却下に加えることにより、オゾン化が行なわ
れ、ついで適当な還元剤を加えることによつて還元的後
処理が行なわれる。使用するオゾンガスの量は通常化合
物(IV)1モルに対して約0.1〜10モル好ましくは約0.5
モル〜0.8モルである。この反応には、塩化メチレン、
メタノールなどの反応に関与しない溶媒に用いられ、そ
の使用量は通常化合物(IV)に対して約10〜200倍重量
である。またこの溶媒中に約1%のピリジンを共存させ
ることも可能である。オゾン化反応は通常0℃以下の温
度で行なわれ、好ましくは約−50℃〜−100℃の範囲内
の温度で行なわれる。還元的後処理に用いられる還元剤
としては、ジメチルスルフイド、トリフエニルホスフイ
ンなどが挙げられ、その使用量は、化合物(IV)1モル
に対して約1〜50モルである。還元的後処理は通常約−
100〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。反応は、ドラ
イアイス−アセトン浴中で冷却した、化合物(IV)1モ
ルに対して約0.5〜0.8モルのオゾン及び1%ピリジンを
含む塩化メチレン溶液に化合物(IV)あるいはその溶液
を加え、オゾンの青色が消えた後に、約20モルのジメチ
ルスルフイドを加え、ドライアイス−アセトン浴を除去
し、室温まで加温することにより実施するのが簡便であ
る。
この様にして得られたアルデヒド(V)の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわれ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・濃縮
し粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどによ
り精製することによりアルデヒド(V)を得ることがで
きる。
からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわれ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・濃縮
し粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどによ
り精製することによりアルデヒド(V)を得ることがで
きる。
アルデヒド(V)のアルデヒド(VI−1)又はアルデ
ヒド(VI−2)への変換は、通常の方法に従つて脱保護
することにより行なわれる。この脱保護の方法として
は、エタノール中水酸化カリウムで処理する方法、ジメ
チルスルホキシド中炭酸カリウムの存在下に加熱する方
法、コリジン中で加熱する方法などが用いられる。これ
らの反応において、使用するエタノール、ジメチルスル
ホキシドあるいはコリジンの量は、アルデヒド(V)に
対して、約5〜200倍重量であり、使用する水酸化カリ
ウムの量は、アルデヒド(V)1モルに対して、約10〜
500モルであり、好ましくは約50〜200モルであり、使用
する炭酸カリウムの量は、アルデヒド(V)1モルに対
して、約0.5〜2モルである。
ヒド(VI−2)への変換は、通常の方法に従つて脱保護
することにより行なわれる。この脱保護の方法として
は、エタノール中水酸化カリウムで処理する方法、ジメ
チルスルホキシド中炭酸カリウムの存在下に加熱する方
法、コリジン中で加熱する方法などが用いられる。これ
らの反応において、使用するエタノール、ジメチルスル
ホキシドあるいはコリジンの量は、アルデヒド(V)に
対して、約5〜200倍重量であり、使用する水酸化カリ
ウムの量は、アルデヒド(V)1モルに対して、約10〜
500モルであり、好ましくは約50〜200モルであり、使用
する炭酸カリウムの量は、アルデヒド(V)1モルに対
して、約0.5〜2モルである。
脱保護の方法として、エタノール中で水酸化カリウム
で処理する方法を採用した場合には、アルデヒド(VI−
1)が得られ、ジメチルスルホキシド中炭酸カリウムの
存在下に加熱する方法又はコリジン中で加熱する方法を
採用した場合には、アルデヒド(VI−2)が得られる。
反応は、アルデヒド(VI−1)を得る場合には、アルデ
ヒド(V)1モルに対して約100モルの水酸化カリウム
を含む約2規定のエタノール溶液を加え、約1.5時間加
熱還流することにより行なうのが簡便であり、アルデヒ
ド(VI−2)を得る場合には、アルデヒド(V)1モル
に対して約1モルの無水炭酸カリウムを加え、約50倍重
量のジメチルスルホキシド中で約120℃で約7時間加熱
することによつて行なうのが簡便である。
で処理する方法を採用した場合には、アルデヒド(VI−
1)が得られ、ジメチルスルホキシド中炭酸カリウムの
存在下に加熱する方法又はコリジン中で加熱する方法を
採用した場合には、アルデヒド(VI−2)が得られる。
反応は、アルデヒド(VI−1)を得る場合には、アルデ
ヒド(V)1モルに対して約100モルの水酸化カリウム
を含む約2規定のエタノール溶液を加え、約1.5時間加
熱還流することにより行なうのが簡便であり、アルデヒ
ド(VI−2)を得る場合には、アルデヒド(V)1モル
に対して約1モルの無水炭酸カリウムを加え、約50倍重
量のジメチルスルホキシド中で約120℃で約7時間加熱
することによつて行なうのが簡便である。
これらの反応液からのアルデヒド(VI−1)又はアル
デヒド(VI−2)の単離・精製は、通常の有機反応にお
いて行なわれている単離・精製法と同様にして行なわれ
る。例えば、反応液を冷却後、水にあけ、酢酸エチルな
どの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順
次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロ
マトグラフイーなどにより精製することによりアルデヒ
ド(VI−1)又はアルデヒド(VI−2)を得ることがで
きる。
デヒド(VI−2)の単離・精製は、通常の有機反応にお
いて行なわれている単離・精製法と同様にして行なわれ
る。例えば、反応液を冷却後、水にあけ、酢酸エチルな
どの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順
次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロ
マトグラフイーなどにより精製することによりアルデヒ
ド(VI−1)又はアルデヒド(VI−2)を得ることがで
きる。
この様にして得られたアルデヒド(VI−2)は、必要
に応じて1位及び3位の水酸基の脱保護によつて、アル
デヒド(VI−1)に変換することができる。この脱保護
反応は通常の脱アセチル化反応、すなわち、塩基性物質
存在下に水あるいはアルコールと接触させることにより
加溶媒分解を行なうことにより行なわれる。この加溶媒
分解に用いられるアルコールとしては、例えばメタノー
ル、エタノールなどが挙げられる。使用される水あるい
はアルコールの使用量は、通常アルデヒド(VI−2)1
モルに対して約2〜2000モルである。塩基性物質として
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど
の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などの金属炭酸塩などが用いられる。使用される塩基性
物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−2)1モルに対
して約0.05〜10モル、好ましくは0.1〜5モルである。
またこの反応は通常溶媒の存在下で実施されるが、反応
に用いる水あるいはアルコールをそのまま溶媒として用
いることも可能であり、さらに別の溶媒を補助溶媒とし
て用いることも可能である。ここで用いられる補助溶媒
は、水あるいはアルコール及びアルデヒド(VI−2)に
親和性があり、反応に関与しないものであり、具体例と
しては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどが挙げられる。溶媒の使用量は、通
常アルデヒド(VI−2)の5〜200倍重量である。反応
は、通常約−10℃〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約0℃〜60℃の範囲内の温度で行なわれる。反応はアル
デヒド(VI−2)1モルに対して約5モルの炭酸カリウ
ムを加え、約100倍重量のメタノールに溶解し、室温で1
5分〜24時間攪拌することにより実施するのが簡便であ
る。
に応じて1位及び3位の水酸基の脱保護によつて、アル
デヒド(VI−1)に変換することができる。この脱保護
反応は通常の脱アセチル化反応、すなわち、塩基性物質
存在下に水あるいはアルコールと接触させることにより
加溶媒分解を行なうことにより行なわれる。この加溶媒
分解に用いられるアルコールとしては、例えばメタノー
ル、エタノールなどが挙げられる。使用される水あるい
はアルコールの使用量は、通常アルデヒド(VI−2)1
モルに対して約2〜2000モルである。塩基性物質として
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど
の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などの金属炭酸塩などが用いられる。使用される塩基性
物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−2)1モルに対
して約0.05〜10モル、好ましくは0.1〜5モルである。
またこの反応は通常溶媒の存在下で実施されるが、反応
に用いる水あるいはアルコールをそのまま溶媒として用
いることも可能であり、さらに別の溶媒を補助溶媒とし
て用いることも可能である。ここで用いられる補助溶媒
は、水あるいはアルコール及びアルデヒド(VI−2)に
親和性があり、反応に関与しないものであり、具体例と
しては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどが挙げられる。溶媒の使用量は、通
常アルデヒド(VI−2)の5〜200倍重量である。反応
は、通常約−10℃〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約0℃〜60℃の範囲内の温度で行なわれる。反応はアル
デヒド(VI−2)1モルに対して約5モルの炭酸カリウ
ムを加え、約100倍重量のメタノールに溶解し、室温で1
5分〜24時間攪拌することにより実施するのが簡便であ
る。
この反応液からのアルデヒド(VI−1)の単離・精製
は、通常の有機反応において行なわれている単離・精製
法と同様にして行なわれる。例えば、反応液を冷却後、
水にあけ、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩
酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生
成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
することによりアルデヒド(VI−1)を得ることができ
る。
は、通常の有機反応において行なわれている単離・精製
法と同様にして行なわれる。例えば、反応液を冷却後、
水にあけ、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩
酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生
成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
することによりアルデヒド(VI−1)を得ることができ
る。
この様にして得られたアルデヒド(VI−1)は、必要
に応じて、常法に従い1位及び3位の水酸基の保護を行
ないアルデヒド(VII)に変換することもできる。
に応じて、常法に従い1位及び3位の水酸基の保護を行
ないアルデヒド(VII)に変換することもできる。
アルデヒド(VI−1)からアルデヒド(VII−1)へ
の変換は、塩基性物質の存在下にカルボン酸の無水物あ
るいはハロゲン化物を作用させることにより行なわれ
る。この反応に用いられるカルボン酸無水物としては、
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフル
オロ酢酸などが挙げられ、カルボン酸ハロゲン化物とし
ては、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリ
ル、塩化イソブチリル、塩化バレリル、塩化イソバレリ
ル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイルなどが挙げられ
る。酸無水物あるいは酸ハロゲン化物の使用量は、通常
アルデヒド(VI−1)1モルに対して、約2〜20モル好
ましくは約2.5〜10モルである。この反応に用いられる
塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリンなどの有
機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが
挙げられる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド
(VI−1)1モルに対して約2〜200モルであり、好ま
しくは約5〜100モルである。またジメチルアミノピリ
ジン、ピロリジノピリジンなどのアシル化触媒の存在下
で行なうことも可能である。触媒の使用量は、通常アル
デヒド(VI−1)1モルに対して約0.05〜0.2モルであ
る。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する有
機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また塩化
メチレン、テトラヒドロフランなどの反応に関与しない
溶媒を補助溶媒として用いることも可能である。溶媒の
使用量は、通常アルデヒド(VI−1)に対して、約5〜
200倍重量である。反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内
の温度、好ましくは約0℃〜30℃の範囲内の温度で行な
われる。
の変換は、塩基性物質の存在下にカルボン酸の無水物あ
るいはハロゲン化物を作用させることにより行なわれ
る。この反応に用いられるカルボン酸無水物としては、
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフル
オロ酢酸などが挙げられ、カルボン酸ハロゲン化物とし
ては、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリ
ル、塩化イソブチリル、塩化バレリル、塩化イソバレリ
ル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイルなどが挙げられ
る。酸無水物あるいは酸ハロゲン化物の使用量は、通常
アルデヒド(VI−1)1モルに対して、約2〜20モル好
ましくは約2.5〜10モルである。この反応に用いられる
塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリンなどの有
機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが
挙げられる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド
(VI−1)1モルに対して約2〜200モルであり、好ま
しくは約5〜100モルである。またジメチルアミノピリ
ジン、ピロリジノピリジンなどのアシル化触媒の存在下
で行なうことも可能である。触媒の使用量は、通常アル
デヒド(VI−1)1モルに対して約0.05〜0.2モルであ
る。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する有
機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また塩化
メチレン、テトラヒドロフランなどの反応に関与しない
溶媒を補助溶媒として用いることも可能である。溶媒の
使用量は、通常アルデヒド(VI−1)に対して、約5〜
200倍重量である。反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内
の温度、好ましくは約0℃〜30℃の範囲内の温度で行な
われる。
この様にして得られたアルデヒド(VII−1)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマト
グラフイーなどにより精製物を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用
いられている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマト
グラフイーなどにより精製物を得ることができる。
アルデヒド(VI−1)からアルデヒド(VII−2)へ
の変換は、塩基性物質の存在下にクロル炭酸エステルを
作用させることにより行なわれる。反応に用いられるク
ロル炭酸エステルとしては、クロル炭酸メチル、クロル
炭酸エチル、クロル炭酸アリル、クロル炭酸トリクロル
エチル、クロル炭酸フエニルなどが挙げられる。クロル
炭酸エステルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1
モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜20モルで
ある。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジエチルアニリンなどの有機アミン、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質
の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対して
約2〜200モルであり、好ましくは約5〜100モルであ
る。またジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジン
などのエステル化触媒の存在下で実施することも可能で
ある。触媒の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モ
ルに対して約0.05〜0.2モルである。この反応は通常溶
媒中で実施されるが、使用する有機塩基を溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒド
ロフランなどの反応に関与しない溶媒を補助溶媒として
用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデ
ヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量である。反
応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
の変換は、塩基性物質の存在下にクロル炭酸エステルを
作用させることにより行なわれる。反応に用いられるク
ロル炭酸エステルとしては、クロル炭酸メチル、クロル
炭酸エチル、クロル炭酸アリル、クロル炭酸トリクロル
エチル、クロル炭酸フエニルなどが挙げられる。クロル
炭酸エステルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1
モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜20モルで
ある。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジエチルアニリンなどの有機アミン、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質
の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対して
約2〜200モルであり、好ましくは約5〜100モルであ
る。またジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジン
などのエステル化触媒の存在下で実施することも可能で
ある。触媒の使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モ
ルに対して約0.05〜0.2モルである。この反応は通常溶
媒中で実施されるが、使用する有機塩基を溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒド
ロフランなどの反応に関与しない溶媒を補助溶媒として
用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデ
ヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量である。反
応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、好ましくは
約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
この様にして得られたアルデヒド(VII−2)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマ
トグラフイーなどにより精製物を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマ
トグラフイーなどにより精製物を得ることができる。
アルデヒド(VI−1)からアルデヒド(VII−3)へ
の変換は、塩基性物質の存在下に三置換シリルクロリド
を作用させることにより行なわれる。反応に用いられる
三置換シリルクロリドとしては、トリメチルシリルクロ
リド、トリエチルシリルクロリド、トリイソプロピルシ
リルクロリド、t−ブチルジメチルシリルクロリド、t
−ブチルジフエニルシリルクロリドなどが挙げられる。
三置換シリルクロリドの使用量は、通常アルデヒド(VI
−1)1モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜
20モルである。反応に用いられる塩基性物質としては、
ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸
化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げ
られる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−
1)1モルに対して約2〜200モルであり、好ましくは
約5〜100モルである。この反応は通常溶媒中で実施さ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を補助
溶媒として用いることも可能である。溶媒の使用量は、
通常アルデヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量
である。反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、
好ましくは約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
の変換は、塩基性物質の存在下に三置換シリルクロリド
を作用させることにより行なわれる。反応に用いられる
三置換シリルクロリドとしては、トリメチルシリルクロ
リド、トリエチルシリルクロリド、トリイソプロピルシ
リルクロリド、t−ブチルジメチルシリルクロリド、t
−ブチルジフエニルシリルクロリドなどが挙げられる。
三置換シリルクロリドの使用量は、通常アルデヒド(VI
−1)1モルに対して約2〜50モル、好ましくは約5〜
20モルである。反応に用いられる塩基性物質としては、
ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸
化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げ
られる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド(VI−
1)1モルに対して約2〜200モルであり、好ましくは
約5〜100モルである。この反応は通常溶媒中で実施さ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を補助
溶媒として用いることも可能である。溶媒の使用量は、
通常アルデヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量
である。反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、
好ましくは約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
この様にして得られたアルデヒド(VII−3)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマ
トグラフイーなどにより精製物を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次
洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマ
トグラフイーなどにより精製物を得ることができる。
アルデヒド(VI−1)からアルデヒド(VII−4)へ
の変換は、塩基性物質の存在下にクロルメチルエーテル
を作用させるか、あるいは酸触媒下にビニルエーテルを
作用させることにより行なわれる。反応に用いられるク
ロルメチルエーテルとしては、クロルメチルメチルエー
テル、メトキシエトキシメチルクロリドなどが挙げら
れ、ビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、
メチルイソプロペニルエーテル、ジヒドロピランなどが
挙げられる。クロルメチルエーテルまたはビニルエーテ
ルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対し
て約2〜50モル、好ましくは約5〜20モルである。反応
に用いられる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニ
リン、イミダゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウ
ムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の
使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対して約
2〜200モルであり、好ましくは約5〜100モルである。
使用する酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、カ
ンフアースルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸
などの鉱酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アル
デヒド(VI−1)1モルに対して、通常約0.05〜0.2モ
ルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用
する有機塩基又はビニルエーテルを溶媒として用いるこ
とも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒
を用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アル
デヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量である。
反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、好ましく
は約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
の変換は、塩基性物質の存在下にクロルメチルエーテル
を作用させるか、あるいは酸触媒下にビニルエーテルを
作用させることにより行なわれる。反応に用いられるク
ロルメチルエーテルとしては、クロルメチルメチルエー
テル、メトキシエトキシメチルクロリドなどが挙げら
れ、ビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、
メチルイソプロペニルエーテル、ジヒドロピランなどが
挙げられる。クロルメチルエーテルまたはビニルエーテ
ルの使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対し
て約2〜50モル、好ましくは約5〜20モルである。反応
に用いられる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニ
リン、イミダゾールなどの有機アミン、水素化ナトリウ
ムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の
使用量は、通常アルデヒド(VI−1)1モルに対して約
2〜200モルであり、好ましくは約5〜100モルである。
使用する酸触媒としては、p−トルエンスルホン酸、カ
ンフアースルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸ピリジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸
などの鉱酸などが挙げられる。酸触媒の使用量は、アル
デヒド(VI−1)1モルに対して、通常約0.05〜0.2モ
ルである。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用
する有機塩基又はビニルエーテルを溶媒として用いるこ
とも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒
を用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アル
デヒド(VI−1)に対して、約5〜200倍重量である。
反応は通常約−20℃〜100℃の範囲内の温度、好ましく
は約0℃〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
この様にして得られたアルデヒド(VII−4)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後
濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーな
どにより精製物を得ることができる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行
なわれている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後
濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイーな
どにより精製物を得ることができる。
アルデヒド(VI−1)又は(VII)のアルコール(I
−1)への変換は、アルデヒド(VI−1)又は(VII)
に、イソアミルマグネシウムブロミド、イソアミルリチ
ウムなどの有機金属化合物を作用させることによつて行
なわれる。反応はアルデヒド(VI−1)又は(VII)を
約5〜200倍重量のテトラヒドロフラン、エーテルなど
の溶媒に溶解し、約−100℃〜30℃の範囲内の温度、好
ましくは約−80℃〜10℃の範囲内の温度で、アルデヒド
(VI−1)又は(VII)1モルに対して約0.8〜3モルの
有機金属化合物を含む溶液を加え、上記の温度で5分〜
2時間攪拌することにより行なわれる。
−1)への変換は、アルデヒド(VI−1)又は(VII)
に、イソアミルマグネシウムブロミド、イソアミルリチ
ウムなどの有機金属化合物を作用させることによつて行
なわれる。反応はアルデヒド(VI−1)又は(VII)を
約5〜200倍重量のテトラヒドロフラン、エーテルなど
の溶媒に溶解し、約−100℃〜30℃の範囲内の温度、好
ましくは約−80℃〜10℃の範囲内の温度で、アルデヒド
(VI−1)又は(VII)1モルに対して約0.8〜3モルの
有機金属化合物を含む溶液を加え、上記の温度で5分〜
2時間攪拌することにより行なわれる。
この様にして得られたアルコール(I−1)の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行なうことができ
る。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの
有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄し乾燥後濃縮して粗生
成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
物を得ることができる。
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行なうことができ
る。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの
有機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄し乾燥後濃縮して粗生
成物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
物を得ることができる。
アルコール(I−1)からハロゲン化物(I−2−
1)への変換は、アルコールをハロゲン化物に変換する
一般的な方法によつて実施することができる。例えば、
アルコール(I−1)をその約5〜200倍重量のエーテ
ル、ピリジンなどの溶媒に溶解し、約−20℃〜10℃の範
囲内の温度で、アルコール(I−1)1モルに対して約
0.3〜10モルの三塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、
塩化チオニルなどのハロゲン化剤を加え、上記の範囲内
の温度で15分〜12時間攪拌することにより行なわれる。
1)への変換は、アルコールをハロゲン化物に変換する
一般的な方法によつて実施することができる。例えば、
アルコール(I−1)をその約5〜200倍重量のエーテ
ル、ピリジンなどの溶媒に溶解し、約−20℃〜10℃の範
囲内の温度で、アルコール(I−1)1モルに対して約
0.3〜10モルの三塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、
塩化チオニルなどのハロゲン化剤を加え、上記の範囲内
の温度で15分〜12時間攪拌することにより行なわれる。
この様にして得られたハロゲン化物(I−2−1)の
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行われている単離・精製法と同様にして行なうことが
できる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルな
どの有機溶媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、
乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフ
イーなどにより精製物を得ることができる。
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行われている単離・精製法と同様にして行なうことが
できる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルな
どの有機溶媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、
乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフ
イーなどにより精製物を得ることができる。
アルコール(I−1)から低級アルカンスルホナート
又はアレーンスルホナート(I−2−2)への変換は、
塩基性化合物の存在下に塩化低級アルカンスルホニル又
は塩化アレーンスルホニルを作用させることにより行な
われる。反応に用いられる塩化低級アルカンスルホニル
としては、塩化メタンスルホニルなどが挙げられ、塩化
アレーンスルホニルとしては、塩化p−トルエンスルホ
ニル、塩化p−ブロムベンゼンスルホニルなどが挙げら
れ、その使用量はアルコール(I−1)1モルに対して
約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩基性物質と
してはピリジン、トリエチルアミンなどの有機塩基、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられ、
その使用量はアルコール(I−1)1モルに対して約1
〜1000モルである。この反応は通常溶媒中で行なわれる
が、使用される有機塩基を溶媒として使用することも可
能であり、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関
与しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用量
は、アルコール(I−1)に対して約5〜200倍重量で
ある。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温度、好まし
くは約0〜20℃の範囲内の温度で行なわれる。
又はアレーンスルホナート(I−2−2)への変換は、
塩基性化合物の存在下に塩化低級アルカンスルホニル又
は塩化アレーンスルホニルを作用させることにより行な
われる。反応に用いられる塩化低級アルカンスルホニル
としては、塩化メタンスルホニルなどが挙げられ、塩化
アレーンスルホニルとしては、塩化p−トルエンスルホ
ニル、塩化p−ブロムベンゼンスルホニルなどが挙げら
れ、その使用量はアルコール(I−1)1モルに対して
約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩基性物質と
してはピリジン、トリエチルアミンなどの有機塩基、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられ、
その使用量はアルコール(I−1)1モルに対して約1
〜1000モルである。この反応は通常溶媒中で行なわれる
が、使用される有機塩基を溶媒として使用することも可
能であり、塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関
与しない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用量
は、アルコール(I−1)に対して約5〜200倍重量で
ある。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温度、好まし
くは約0〜20℃の範囲内の温度で行なわれる。
この様にして得られた低級アルカンスルホナート又は
アレーンスルホナート(I−2−2)の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行なわれてい
る単離・精製法と同様にして行なうことができる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有機溶媒
で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾
燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイ
ーなどにより精製物を得ることができる。
アレーンスルホナート(I−2−2)の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行なわれてい
る単離・精製法と同様にして行なうことができる。例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有機溶媒
で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾
燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフイ
ーなどにより精製物を得ることができる。
アルコール(I−1)からリン酸誘導体(I−2−
3)への変換は、塩基性物質の存在下にリン酸塩化物誘
導体を作用させることにより実施される。反応に用いら
れるリン酸塩化物としては、ビス(ジメチルアミノ)ホ
スホロクロリダート、ジエチルホスホロクロリダートな
どが挙げられ、その使用量はアルコール(I−1)1モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩
基性物質としてはピリジン、トリエチルアミンなどの有
機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが
挙げられ、その使用量はアルコール(I−1)1モルに
対して約1〜1000モルである。この反応は通常溶媒中で
行なわれるが、使用される有機塩基を溶媒として使用す
ることも可能であり、塩化メチレン、クロロホルムなど
の反応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶
媒の使用量は、アルコール(I−1)に対して約5〜20
0倍重量である。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温
度、好ましくは約0〜20℃の範囲内の温度で行なわれ
る。
3)への変換は、塩基性物質の存在下にリン酸塩化物誘
導体を作用させることにより実施される。反応に用いら
れるリン酸塩化物としては、ビス(ジメチルアミノ)ホ
スホロクロリダート、ジエチルホスホロクロリダートな
どが挙げられ、その使用量はアルコール(I−1)1モ
ルに対して約1.1〜20モルである。反応に用いられる塩
基性物質としてはピリジン、トリエチルアミンなどの有
機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが
挙げられ、その使用量はアルコール(I−1)1モルに
対して約1〜1000モルである。この反応は通常溶媒中で
行なわれるが、使用される有機塩基を溶媒として使用す
ることも可能であり、塩化メチレン、クロロホルムなど
の反応に関与しない溶媒を用いることも可能である。溶
媒の使用量は、アルコール(I−1)に対して約5〜20
0倍重量である。反応は通常約−20〜30℃の範囲内の温
度、好ましくは約0〜20℃の範囲内の温度で行なわれ
る。
この様にして得られたリン酸誘導体(I−2−3)の
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行なわれている単離・精製法と同様にして行なうこと
ができる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテル
などの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で
順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、ク
ロマトグラフイーなどにより精製物を得ることができ
る。
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行なわれている単離・精製法と同様にして行なうこと
ができる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテル
などの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で
順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、ク
ロマトグラフイーなどにより精製物を得ることができ
る。
アルコール(I−1)よりチオカルバミン酸誘導体
(I−2−4)への変換は、チオカルバミン酸イミダゾ
リドと反応させることにより行なわれる。例えば、アル
コール(I−1)1モルに対して、約2〜20モルのN,
N′−チオカルボニルジイミダゾールを約5〜20倍重量
のテトラヒドロフラン中で約0.5〜10時間加熱還流する
ことによつて式(I−2)においてZ2がイミダゾリル基
であるチオカルバミン酸誘導体が得られる。
(I−2−4)への変換は、チオカルバミン酸イミダゾ
リドと反応させることにより行なわれる。例えば、アル
コール(I−1)1モルに対して、約2〜20モルのN,
N′−チオカルボニルジイミダゾールを約5〜20倍重量
のテトラヒドロフラン中で約0.5〜10時間加熱還流する
ことによつて式(I−2)においてZ2がイミダゾリル基
であるチオカルバミン酸誘導体が得られる。
この様にして得られた式(I−2)で示されるチオカ
ルバミン酸誘導体の反応混合物からの単離・精製は、通
常の有機反応において行なわれている単離・精製法と同
様にして行なうことができる。例えば、反応混合物を氷
水にあけ、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸
・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成
物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を
行なうことにより精製物を取得することができるが、精
製を行なわずに粗生成物を次の反応に用いることも可能
である。
ルバミン酸誘導体の反応混合物からの単離・精製は、通
常の有機反応において行なわれている単離・精製法と同
様にして行なうことができる。例えば、反応混合物を氷
水にあけ、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸
・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成
物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を
行なうことにより精製物を取得することができるが、精
製を行なわずに粗生成物を次の反応に用いることも可能
である。
チオカルバミン酸誘導体(I−2−4)のうち、式
(I−2)においてZ2がイミダオリル基であるチオカル
バミン酸誘導体は、低級アルコール、フエノール誘導
体、アラルカノールと反応させることにより、チオ炭酸
エステル誘導体(I−2−5)に変換することができ
る。使用される低級アルコールとしては、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられ、
フエノール誘導体としては、フエノール、クレゾールな
どが挙げられ、アラルカノールとしては、ベンジルアル
コールなどが挙げられる。用いられる低級アルコール、
フエノール誘導体又はアラルカノールの使用量は、チオ
カルバミン酸誘導体(I−2−4)1モルに対して約1
〜100モルである。この反応は通常溶媒中で行なわれ、
使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、クロロホ
ルムなど反応に関与しない溶媒より選ばれ、その使用量
はチオカルバミン酸誘導体(I−2−4)に対して約5
〜200倍重量である。反応は通常約0〜100℃の範囲内の
温度で行なわれる。
(I−2)においてZ2がイミダオリル基であるチオカル
バミン酸誘導体は、低級アルコール、フエノール誘導
体、アラルカノールと反応させることにより、チオ炭酸
エステル誘導体(I−2−5)に変換することができ
る。使用される低級アルコールとしては、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられ、
フエノール誘導体としては、フエノール、クレゾールな
どが挙げられ、アラルカノールとしては、ベンジルアル
コールなどが挙げられる。用いられる低級アルコール、
フエノール誘導体又はアラルカノールの使用量は、チオ
カルバミン酸誘導体(I−2−4)1モルに対して約1
〜100モルである。この反応は通常溶媒中で行なわれ、
使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、クロロホ
ルムなど反応に関与しない溶媒より選ばれ、その使用量
はチオカルバミン酸誘導体(I−2−4)に対して約5
〜200倍重量である。反応は通常約0〜100℃の範囲内の
温度で行なわれる。
また、チオ炭酸エステル誘導体(I−2−5)は、塩
基性化合物の存在下にアルコール(I−1)にクロルチ
オ炭酸エステルを作用させることによつても得ることが
できる。ここで使用されるクロルチオ炭酸エステルとし
ては、クロルチオ炭酸フエニルなどが挙げられ、その使
用量はアルコール(I−1)1モルに対して約1〜100
モルである。使用される塩基性物質としては、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、その使用
量はアルコール(I−1)1モルに対して約2〜1000モ
ルである。反応は通常溶媒中で行なわれるが、使用され
る塩基性物質を溶媒として用いることも可能であり、ま
たアセトニトリルなどの反応に関与しない溶媒を用いる
ことも可能である。溶媒の使用量は、アルコール(I−
1)の約5〜200倍重量である。
基性化合物の存在下にアルコール(I−1)にクロルチ
オ炭酸エステルを作用させることによつても得ることが
できる。ここで使用されるクロルチオ炭酸エステルとし
ては、クロルチオ炭酸フエニルなどが挙げられ、その使
用量はアルコール(I−1)1モルに対して約1〜100
モルである。使用される塩基性物質としては、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、その使用
量はアルコール(I−1)1モルに対して約2〜1000モ
ルである。反応は通常溶媒中で行なわれるが、使用され
る塩基性物質を溶媒として用いることも可能であり、ま
たアセトニトリルなどの反応に関与しない溶媒を用いる
ことも可能である。溶媒の使用量は、アルコール(I−
1)の約5〜200倍重量である。
この様にして得られたチオ炭酸エステル誘導体(I−
2−5)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機
反応において行なわれている単離・精製法と同様にして
行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹
水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行な
うことにより精製物を取得することができる。
2−5)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機
反応において行なわれている単離・精製法と同様にして
行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹
水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行な
うことにより精製物を取得することができる。
アルコール(I−1)のチオカルボン酸エステル誘導
体(I−2−6)への変換は、第三級アミドとホスゲン
より調製したイミドイルクロリドメトクロリドと作用さ
せ、続いて塩基性物質存在下に硫化水素と反応させるこ
とにより実施される。使用される第三級アミドとして
は、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルベンズアミド、N,N−ジメチル−
p−メトキシベンズアミド、N,N−ジメチル−p−メチ
ルスルホニルベンズアミド、N,N−ジメチル−p−ニト
ロベンズアミドなどが挙げられ、その使用量はアルコー
ル(I−1)1モルに対して約1〜5モルである。反応
は次のようにして行うのが簡便である。アルコール(I
−1)1モルに対して、約1.2〜2.0モルの第三級アミド
と当量のホスゲンとより調製したイミドイルクロリドメ
トクロリドを約10〜50倍重量のクロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどの溶媒に懸濁あるいは溶解し、約−30〜
0℃の範囲内の温度に冷却し、この溶液にアルコール
(I−1)の約10〜50倍重量のクロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどの溶液を加え、約−10〜10℃の範囲内の
温度で約5分〜2時間攪拌し、約1〜5モルのピリジン
を加え、乾燥硫化水素ガスを通じることによりチオカル
ボン酸エステル誘導体(I−2−6)を得ることができ
る。
体(I−2−6)への変換は、第三級アミドとホスゲン
より調製したイミドイルクロリドメトクロリドと作用さ
せ、続いて塩基性物質存在下に硫化水素と反応させるこ
とにより実施される。使用される第三級アミドとして
は、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルベンズアミド、N,N−ジメチル−
p−メトキシベンズアミド、N,N−ジメチル−p−メチ
ルスルホニルベンズアミド、N,N−ジメチル−p−ニト
ロベンズアミドなどが挙げられ、その使用量はアルコー
ル(I−1)1モルに対して約1〜5モルである。反応
は次のようにして行うのが簡便である。アルコール(I
−1)1モルに対して、約1.2〜2.0モルの第三級アミド
と当量のホスゲンとより調製したイミドイルクロリドメ
トクロリドを約10〜50倍重量のクロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどの溶媒に懸濁あるいは溶解し、約−30〜
0℃の範囲内の温度に冷却し、この溶液にアルコール
(I−1)の約10〜50倍重量のクロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどの溶液を加え、約−10〜10℃の範囲内の
温度で約5分〜2時間攪拌し、約1〜5モルのピリジン
を加え、乾燥硫化水素ガスを通じることによりチオカル
ボン酸エステル誘導体(I−2−6)を得ることができ
る。
この様にして得られたチオカルボン酸エステル誘導体
(I−2−6)の反応混合物からの単離・精製は、通常
の有機反応において行なわれている単離・精製法と同様
にして行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水
にあけ、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・
重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物
を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行
なうことにより精製物を取得することができる。
(I−2−6)の反応混合物からの単離・精製は、通常
の有機反応において行なわれている単離・精製法と同様
にして行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水
にあけ、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・
重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物
を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行
なうことにより精製物を取得することができる。
アルコール(I−1)のジチオ炭酸エステル誘導体
(I−2−7)への変換は、塩基性物質の存在下に二硫
化炭素と反応させ、生成する塩をアルキル化することに
より実施される。使用される塩基性物質としては水素化
ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリチウムな
どの有機金属化合物、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ
−7−エンなどの有機塩基などが挙げられ、その使用量
はアルコール(I−1)1モルに対して約1〜20モルで
ある。使用されるアルキル化剤は、ヨウ化メチル、ヨウ
化エチル、臭化ベンジルなどのハロゲン化物、ジメチル
硫酸などの硫酸エステルなどが挙げられ、その使用量は
アルコール(I−1)1モルに対して約1〜10モルであ
る。使用される二硫化炭素の量はアルコール(I−1)
に対して約1〜100モルである。この反応は通常溶媒中
で行なわれ、使用される溶媒としてはテトラヒドロフラ
ン、N,N−ジメチルホルムアミドなど反応に関与しない
溶媒が選ばれ、その使用量はアルコール(I−1)の約
5〜200倍重量である。また反応性を高めるためにヘキ
サメチルホスホリツクトリアミドなどを加えることも可
能である。アルコール(I−1)1モルに対して、約1
〜5モルの塩基性物質及び約10〜50モルの二硫化炭素を
約10〜20倍重量の溶媒中で、約10〜70℃の範囲内の温度
で、約30分〜24時間攪拌し、さらに同じ範囲内の温度で
約2〜10モルのアルキル化剤を加え30分〜10時間攪拌し
てジチオ炭酸エステル誘導体(I−2−7)を得るのが
好ましい。
(I−2−7)への変換は、塩基性物質の存在下に二硫
化炭素と反応させ、生成する塩をアルキル化することに
より実施される。使用される塩基性物質としては水素化
ナトリウムなどの金属水素化物、n−ブチルリチウムな
どの有機金属化合物、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ
−7−エンなどの有機塩基などが挙げられ、その使用量
はアルコール(I−1)1モルに対して約1〜20モルで
ある。使用されるアルキル化剤は、ヨウ化メチル、ヨウ
化エチル、臭化ベンジルなどのハロゲン化物、ジメチル
硫酸などの硫酸エステルなどが挙げられ、その使用量は
アルコール(I−1)1モルに対して約1〜10モルであ
る。使用される二硫化炭素の量はアルコール(I−1)
に対して約1〜100モルである。この反応は通常溶媒中
で行なわれ、使用される溶媒としてはテトラヒドロフラ
ン、N,N−ジメチルホルムアミドなど反応に関与しない
溶媒が選ばれ、その使用量はアルコール(I−1)の約
5〜200倍重量である。また反応性を高めるためにヘキ
サメチルホスホリツクトリアミドなどを加えることも可
能である。アルコール(I−1)1モルに対して、約1
〜5モルの塩基性物質及び約10〜50モルの二硫化炭素を
約10〜20倍重量の溶媒中で、約10〜70℃の範囲内の温度
で、約30分〜24時間攪拌し、さらに同じ範囲内の温度で
約2〜10モルのアルキル化剤を加え30分〜10時間攪拌し
てジチオ炭酸エステル誘導体(I−2−7)を得るのが
好ましい。
この様にして得られたジチオ炭酸エステル誘導体(I
−2−7)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有
機反応において行なわれている単離・精製法と同様にし
て行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹
水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行な
うことにより精製物を取得することができる。
−2−7)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有
機反応において行なわれている単離・精製法と同様にし
て行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹
水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製を行な
うことにより精製物を取得することができる。
1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体(I−1)又
は(I−2)の1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体
(II−1)又は(II−2)への変換は、紫外線を照射す
ることにより行なわれる。使用される紫外線としては、
約200〜360nmの波長範囲のものであり、好ましくは約26
0〜310nmの波長範囲のものである。この反応は通常溶媒
中で行なわれ、用いられる反応溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロム
ベンゼン、クロルベンゼン、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ルエタン、1,2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化
水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルセルソルブなどのエーテル系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコー
ル系溶媒などが挙げられる。反応は、約−20〜120℃の
範囲内の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内の温度
で実施される。
は(I−2)の1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体
(II−1)又は(II−2)への変換は、紫外線を照射す
ることにより行なわれる。使用される紫外線としては、
約200〜360nmの波長範囲のものであり、好ましくは約26
0〜310nmの波長範囲のものである。この反応は通常溶媒
中で行なわれ、用いられる反応溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、ブロム
ベンゼン、クロルベンゼン、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ルエタン、1,2−ジブロムエタンなどのハロゲン化炭化
水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルセルソルブなどのエーテル系溶媒、
メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコー
ル系溶媒などが挙げられる。反応は、約−20〜120℃の
範囲内の温度、好ましくは約−10〜20℃の範囲内の温度
で実施される。
この様にして得られる1α−ヒドロキシプレビタミン
D3誘導体(II−1)又は(II−2)の単離・精製は通常
の有機反応における単離・精製法と同様にして行なうこ
とができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得られ
る粗生成物を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精
製することにより精製物を得ることができる。なお、精
製することなく粗生成物を次の反応に用いることもでき
る。
D3誘導体(II−1)又は(II−2)の単離・精製は通常
の有機反応における単離・精製法と同様にして行なうこ
とができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得られ
る粗生成物を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精
製することにより精製物を得ることができる。なお、精
製することなく粗生成物を次の反応に用いることもでき
る。
1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(II−1)又
は(II−2)の1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体(II
I−1)又は(III−2)への変換は、熱エネルギーによ
る異性化により行なうことができる。この異性化反応
は、約20〜120℃の範囲内の温度、好ましくは約40〜100
℃の範囲内の温度で行なわれる。反応は通常溶媒中で行
なわれ、用いられる溶媒としては、前述の紫外線照射に
おいて用いられる溶媒などが挙げられる。
は(II−2)の1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体(II
I−1)又は(III−2)への変換は、熱エネルギーによ
る異性化により行なうことができる。この異性化反応
は、約20〜120℃の範囲内の温度、好ましくは約40〜100
℃の範囲内の温度で行なわれる。反応は通常溶媒中で行
なわれ、用いられる溶媒としては、前述の紫外線照射に
おいて用いられる溶媒などが挙げられる。
この様にして得られる1α−ヒドロキシビタミンD3誘
導体(III−1)又は(III−2)の単離・精製は通常の
有機反応における単離・精製法と同様にして行なうこと
ができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得られる
粗生成物を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
することにより精製物を得ることができる。
導体(III−1)又は(III−2)の単離・精製は通常の
有機反応における単離・精製法と同様にして行なうこと
ができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得られる
粗生成物を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製
することにより精製物を得ることができる。
また、前述の通り1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体
(III−1)又は(III−2)を得るにあたり、1α−ヒ
ドロキシプレビタミンD3誘導体(II−1)又は(II−
2)は精製して取り出されていなくてもよい。したがつ
て、1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体(I−1)
又は(I−2)に前述のように紫外線を照射し、次いで
熱エネルギーにより異性化させることによつても1α−
ヒドロキシビタミンD3誘導体(III−1)又は(III−
2)を得ることができる。
(III−1)又は(III−2)を得るにあたり、1α−ヒ
ドロキシプレビタミンD3誘導体(II−1)又は(II−
2)は精製して取り出されていなくてもよい。したがつ
て、1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体(I−1)
又は(I−2)に前述のように紫外線を照射し、次いで
熱エネルギーにより異性化させることによつても1α−
ヒドロキシビタミンD3誘導体(III−1)又は(III−
2)を得ることができる。
本発明のステロイド誘導体から1α−ヒドロキシビタ
ミンD3〔下記式(X−1)で示される化合物〕は次のよ
うにして誘導される。
ミンD3〔下記式(X−1)で示される化合物〕は次のよ
うにして誘導される。
〔上記の式において、R1、R2及びX2はそれぞれ前記定義
と同じであり、R3及びR4はそれぞれ水素原子、アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表わ
す。ここで、R3及びR4が表わす基の具体例としては、R1
及びR2が表わすと同様の基を挙げることができる。〕 なお、一般式(VIII)、(IX)、(X)及び(X−
1)で示される化合物を以後下記の如く称することがあ
る。
と同じであり、R3及びR4はそれぞれ水素原子、アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表わ
す。ここで、R3及びR4が表わす基の具体例としては、R1
及びR2が表わすと同様の基を挙げることができる。〕 なお、一般式(VIII)、(IX)、(X)及び(X−
1)で示される化合物を以後下記の如く称することがあ
る。
前述のようにして得られた1α−ヒドロキシプロビタ
ミンD3誘導体(I−2)、1α−ヒドロキシプレビタミ
ンD3誘導体(II−2)及び1α−ヒドロキシビタミンD3
誘導体(III−2)は、22位の置換基を還元的に除去す
ることにより、1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体
(VIII)、1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(I
X)又は1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体(X)にそ
れぞれ変換される。ここで、原料として用いられる誘導
体(I−2)、(II−2)及び(III−2)は未精製の
ものでもよい。
ミンD3誘導体(I−2)、1α−ヒドロキシプレビタミ
ンD3誘導体(II−2)及び1α−ヒドロキシビタミンD3
誘導体(III−2)は、22位の置換基を還元的に除去す
ることにより、1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体
(VIII)、1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(I
X)又は1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体(X)にそ
れぞれ変換される。ここで、原料として用いられる誘導
体(I−2)、(II−2)及び(III−2)は未精製の
ものでもよい。
22位の置換基がハロゲン原子である化合物(I−2−
1)、(II−2−1)又は(III−2−1)は、プロト
ン源の存在下で金属により還元することにより、22位の
置換基を除去することができる。使用される金属として
は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、亜鉛などが
挙げられ、その使用量は該化合物1モルに対して約1〜
50モルである。使用されるプロトン源としては、メタノ
ール、エタノール、t−ブチルアルコールなどの低級ア
ルコール、酢酸、塩化アンモニウムなどが挙げられ、そ
の使用量は該化合物1モルに対して約1〜1000モルであ
る。反応は通常溶媒中で行なわれるが、プロトン源をそ
のまま溶媒として用いても良く、またアンモニア、メチ
ルアミン、エチルアミン、テトラヒドロフランなど反応
に関与しない溶媒を用いることもできる。反応は通常約
−50〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約−30〜20℃の
範囲内の温度で行なわれる。この反応において、該化合
物の水酸基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカル
ボニル基であり、金属としてリチウム、ナトリウムなど
を用いた場合、同時に脱保護反応も起こり、式(VII
I)、式(IX)又は式(X)において、R3及び/又はR4
が水素原子である化合物が得られる。
1)、(II−2−1)又は(III−2−1)は、プロト
ン源の存在下で金属により還元することにより、22位の
置換基を除去することができる。使用される金属として
は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、亜鉛などが
挙げられ、その使用量は該化合物1モルに対して約1〜
50モルである。使用されるプロトン源としては、メタノ
ール、エタノール、t−ブチルアルコールなどの低級ア
ルコール、酢酸、塩化アンモニウムなどが挙げられ、そ
の使用量は該化合物1モルに対して約1〜1000モルであ
る。反応は通常溶媒中で行なわれるが、プロトン源をそ
のまま溶媒として用いても良く、またアンモニア、メチ
ルアミン、エチルアミン、テトラヒドロフランなど反応
に関与しない溶媒を用いることもできる。反応は通常約
−50〜80℃の範囲内の温度、好ましくは約−30〜20℃の
範囲内の温度で行なわれる。この反応において、該化合
物の水酸基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカル
ボニル基であり、金属としてリチウム、ナトリウムなど
を用いた場合、同時に脱保護反応も起こり、式(VII
I)、式(IX)又は式(X)において、R3及び/又はR4
が水素原子である化合物が得られる。
22位の置換基がスルホニルオキシ基である化合物(I
−2−2)、(II−2−2)又は(III−2−2)は、
金属水素化物錯体により還元することによつて22位の置
換基を除去することができる。使用される金属水素化物
錯体としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化ト
リエチルホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリ
ウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素
化トリt−ブトキシアルミニウムリチウムなどが挙げら
れ、その使用量は該化合物1モルに対して約0.5〜50モ
ルである。反応は通常溶媒中で行なわれ、使用される溶
媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンなどが挙げられる。反応は通常約0〜
80℃の温度範囲で行なわれる。この反応において、該化
合物の水酸基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカ
ルボニル基である場合、同時に脱保護反応を起こり、式
(VIII)、式(IX)又は式(X)において、R3及び/又
はR4が水素原子である化合物が得られる。
−2−2)、(II−2−2)又は(III−2−2)は、
金属水素化物錯体により還元することによつて22位の置
換基を除去することができる。使用される金属水素化物
錯体としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化ト
リエチルホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリ
ウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素
化トリt−ブトキシアルミニウムリチウムなどが挙げら
れ、その使用量は該化合物1モルに対して約0.5〜50モ
ルである。反応は通常溶媒中で行なわれ、使用される溶
媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンなどが挙げられる。反応は通常約0〜
80℃の温度範囲で行なわれる。この反応において、該化
合物の水酸基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカ
ルボニル基である場合、同時に脱保護反応を起こり、式
(VIII)、式(IX)又は式(X)において、R3及び/又
はR4が水素原子である化合物が得られる。
22位の置換基がホスホリルオキシ基である化合物(I
−2−3)、(II−2−3)又は(III−2−3)は、
アミン中で金属により還元することによつて22位の置換
基を除去することができる。使用される金属としては、
リチウム、ナトリウムなどが挙げられ、その使用量は該
化合物1モルに対して約1〜50モルである。使用される
アミンとしては、アンモニア、メチルアミン、エチルア
ミンなどが挙げられる。反応は通常約−50〜40℃の温度
範囲で行なわれる。この反応において、該化合物の水酸
基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカルボニル基
である場合、同時に脱保護反応も起こり、式(VIII)、
式(IX)又は式(X)において、R3及び/又はR4が水素
原子である化合物が得られる。
−2−3)、(II−2−3)又は(III−2−3)は、
アミン中で金属により還元することによつて22位の置換
基を除去することができる。使用される金属としては、
リチウム、ナトリウムなどが挙げられ、その使用量は該
化合物1モルに対して約1〜50モルである。使用される
アミンとしては、アンモニア、メチルアミン、エチルア
ミンなどが挙げられる。反応は通常約−50〜40℃の温度
範囲で行なわれる。この反応において、該化合物の水酸
基の保護基がアシル基又は低級アルコキシカルボニル基
である場合、同時に脱保護反応も起こり、式(VIII)、
式(IX)又は式(X)において、R3及び/又はR4が水素
原子である化合物が得られる。
22位の置換基がチオカルボニルオキシ化合物(I−2
−4〜7)、(II−2−4〜7)又は(III−2−4〜
7)は、水素化錫化合物により還元することによつて22
位の置換基を除去することができる。使用される水素化
錫化合物としては、水素化トリブチル錫、水素化トリフ
エニル錫などが挙げられ、その使用量は該化合物1モル
に対して約2〜30モルである。反応は通常溶媒中で行な
われ、使用される溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。反応は
通常約10〜150℃の温度範囲で行なわれる。反応開始剤
としてアゾビスイソブチロニトリルなどを加えても良
い。
−4〜7)、(II−2−4〜7)又は(III−2−4〜
7)は、水素化錫化合物により還元することによつて22
位の置換基を除去することができる。使用される水素化
錫化合物としては、水素化トリブチル錫、水素化トリフ
エニル錫などが挙げられ、その使用量は該化合物1モル
に対して約2〜30モルである。反応は通常溶媒中で行な
われ、使用される溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。反応は
通常約10〜150℃の温度範囲で行なわれる。反応開始剤
としてアゾビスイソブチロニトリルなどを加えても良
い。
1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(II−2)
は、熱エネルギーで異性化し、1α−ヒドロキシビタミ
ンD3誘導体を与える。従つて、還元的に除去する反応を
室温以上の温度で行うことにより、該誘導体(II−2)
の22位の置換基を除去すると同時に熱エネルギーによる
異性化を起こすこともできる。
は、熱エネルギーで異性化し、1α−ヒドロキシビタミ
ンD3誘導体を与える。従つて、還元的に除去する反応を
室温以上の温度で行うことにより、該誘導体(II−2)
の22位の置換基を除去すると同時に熱エネルギーによる
異性化を起こすこともできる。
また、1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体(I−
2)は、紫外線を照射され、ついで熱エネルギーで異性
化することによつて1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体
を与える。従つて紫外線照射後、還元的に除去する反応
を室温以上の温度で行うことにより、該誘導体(I−
2)の22位の置換基を除去すると同時に熱エネルギーに
よる異性化を起こすこともできる。
2)は、紫外線を照射され、ついで熱エネルギーで異性
化することによつて1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体
を与える。従つて紫外線照射後、還元的に除去する反応
を室温以上の温度で行うことにより、該誘導体(I−
2)の22位の置換基を除去すると同時に熱エネルギーに
よる異性化を起こすこともできる。
この様にして得られた式(VIII)、式(IX)又は式
(X)で示される化合物の単離・精製は通常の有機反応
に於ける単離・精製法と同様にして行なうことができる
が、そのまま単離することなく次の反応を行なうことも
できる。
(X)で示される化合物の単離・精製は通常の有機反応
に於ける単離・精製法と同様にして行なうことができる
が、そのまま単離することなく次の反応を行なうことも
できる。
1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体(VIII)は前
述と同様の条件下で紫外線照射を行なうことにより1α
−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(IX)に変換するこ
とができ、さらに1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導
体(IX)は、前述と同様の条件下で熱エネルギーによる
異性化を行なうことにより、1α−ヒドロキシビタミン
D3誘導体(X)に変換することができる。
述と同様の条件下で紫外線照射を行なうことにより1α
−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体(IX)に変換するこ
とができ、さらに1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導
体(IX)は、前述と同様の条件下で熱エネルギーによる
異性化を行なうことにより、1α−ヒドロキシビタミン
D3誘導体(X)に変換することができる。
1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体(X)は必要に応
じて水酸基の脱保護を行なうことにより、1α−ヒドロ
キシビタミンD3(X−1)に変換することができる。例
えば、水酸基の保護基がアシル基あるいは低級アルコキ
シカルボニル基である場合には、炭酸カリウムなどの塩
基性物質存在下に水又は低級アルコールと接触させるこ
とによつて、保護基が三置換シリル基である場合には、
フツ化テトラブチルアンモニウムなどの存在下に水又は
低級アルコールと接触させることによつて、保護基が置
換基を有していても良いアルコキシメチル基の場合に
は、p−トルエンスルホン酸のような酸触媒下に水或い
は低級アルコールと接触させることにより変換すること
ができる。
じて水酸基の脱保護を行なうことにより、1α−ヒドロ
キシビタミンD3(X−1)に変換することができる。例
えば、水酸基の保護基がアシル基あるいは低級アルコキ
シカルボニル基である場合には、炭酸カリウムなどの塩
基性物質存在下に水又は低級アルコールと接触させるこ
とによつて、保護基が三置換シリル基である場合には、
フツ化テトラブチルアンモニウムなどの存在下に水又は
低級アルコールと接触させることによつて、保護基が置
換基を有していても良いアルコキシメチル基の場合に
は、p−トルエンスルホン酸のような酸触媒下に水或い
は低級アルコールと接触させることにより変換すること
ができる。
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。
本発明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。
参考例1 1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−コレス
タ−6,22−ジエン−24−オール2.74gを1%ピリジンを
含む塩化メチレン100mlに溶解し、ドライアイス−アセ
トン浴中にて冷却しながら攪拌した。この溶液にドライ
アイス−アセトン浴中にて冷却しながらオゾンガスを吹
きこんで飽和させた1%ピリジンを含む塩化メチレン42
5mlを加えた。オゾンの青色が消えたことを確認した
後、ジメチルスルフイド5mlを加え、浴を除き、室温ま
で加温した。冷2%塩酸、水で順次洗浄した後硫酸ナト
リウム上で乾燥した。濃縮後残渣をシリカゲルカラムク
トマトグラフイーにより精製することにより、880mgの
1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ
−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プレ
グネン−20−カルブアルデヒドを得た。
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−コレス
タ−6,22−ジエン−24−オール2.74gを1%ピリジンを
含む塩化メチレン100mlに溶解し、ドライアイス−アセ
トン浴中にて冷却しながら攪拌した。この溶液にドライ
アイス−アセトン浴中にて冷却しながらオゾンガスを吹
きこんで飽和させた1%ピリジンを含む塩化メチレン42
5mlを加えた。オゾンの青色が消えたことを確認した
後、ジメチルスルフイド5mlを加え、浴を除き、室温ま
で加温した。冷2%塩酸、水で順次洗浄した後硫酸ナト
リウム上で乾燥した。濃縮後残渣をシリカゲルカラムク
トマトグラフイーにより精製することにより、880mgの
1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキソ
−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プレ
グネン−20−カルブアルデヒドを得た。
参考例2 1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド302mgに2.1規定水酸化
カリウム、95%エタノール溶液を加え、アルゴン雰囲気
下に1.5時間加熱還流した。反応液を冷却後、水にあ
け、エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をエーテルよ
り再結晶することにより精製し、1α,3β−ジヒドロキ
シプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド163mg
を得た。
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド302mgに2.1規定水酸化
カリウム、95%エタノール溶液を加え、アルゴン雰囲気
下に1.5時間加熱還流した。反応液を冷却後、水にあ
け、エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をエーテルよ
り再結晶することにより精製し、1α,3β−ジヒドロキ
シプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド163mg
を得た。
参考例3 1α,3β−ジアセトキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド181mgにコリジン30ml
を加え、アルゴン雰囲気下で15分間加熱還流した。反応
液を冷却後、酢酸エチルで抽出し、1規定塩酸、重曹水
及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。濃縮後、残渣をカラムクロマトグラフイーにより精
製し、1α,3β−ジアセトキシプレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒド73mgを得た。
ソ−4−フエニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6−プ
レグネン−20−カルブアルデヒド181mgにコリジン30ml
を加え、アルゴン雰囲気下で15分間加熱還流した。反応
液を冷却後、酢酸エチルで抽出し、1規定塩酸、重曹水
及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。濃縮後、残渣をカラムクロマトグラフイーにより精
製し、1α,3β−ジアセトキシプレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒド73mgを得た。
参考例4 1α,3β−ジアセトキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド73mgをメタノール2mlに溶解し、炭
酸カリウム5mgを加え、室温で12時間攪拌した。反応液
を水にあけ、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残渣をエーテルより再
結晶することにより参考例2で得られた1α,3β−ジヒ
ドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒ
ドと同じ1HNMRスペクトルを与える1α,3β−ジヒドロ
キシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドが4
9mg得られた。
−カルブアルデヒド73mgをメタノール2mlに溶解し、炭
酸カリウム5mgを加え、室温で12時間攪拌した。反応液
を水にあけ、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残渣をエーテルより再
結晶することにより参考例2で得られた1α,3β−ジヒ
ドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒ
ドと同じ1HNMRスペクトルを与える1α,3β−ジヒドロ
キシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドが4
9mg得られた。
参考例5 1α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド69mgを塩化メチレン1mlに懸濁さ
せ、ピリジン0.3mlに加え、氷冷下に攪拌した。ジメチ
ルアミノピリジン5mgを加え、クロル炭酸メチル0.15ml
を滴下した。滴下終了後、室温で10時間攪拌した。反応
液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を冷1規
定塩酸、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーで精製することにより、1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒド61mgを得た。
−カルブアルデヒド69mgを塩化メチレン1mlに懸濁さ
せ、ピリジン0.3mlに加え、氷冷下に攪拌した。ジメチ
ルアミノピリジン5mgを加え、クロル炭酸メチル0.15ml
を滴下した。滴下終了後、室温で10時間攪拌した。反応
液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を冷1規
定塩酸、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーで精製することにより、1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒド61mgを得た。
実施例1 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgをテトラ
ヒドロフラン5mlに溶解し、アルゴン雰囲気下攪拌し
た。この溶液に、テトラヒドロフラン20ml中でイソアミ
ルブロミド0.24ml及びマグネシウム50mgより調製したグ
リニアール試薬2.5mlを氷冷下で加え、そのまま15分間
攪拌した。反応液を冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン
−22−オール100mgを得た。
ナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgをテトラ
ヒドロフラン5mlに溶解し、アルゴン雰囲気下攪拌し
た。この溶液に、テトラヒドロフラン20ml中でイソアミ
ルブロミド0.24ml及びマグネシウム50mgより調製したグ
リニアール試薬2.5mlを氷冷下で加え、そのまま15分間
攪拌した。反応液を冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン
−22−オール100mgを得た。
実施例2 1α,3β−ジアセトキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド94mgをテトラヒドロフラン5mlに溶
解し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却しながらアル
ゴン雰囲気下に攪拌した。この溶液に、テトラヒドロフ
ラン20ml中でイソアミルブロミド0.24ml及びマグネシウ
ム50mgより調製したグルニアール試薬2.5mlを加え、ド
ライアイス−アセトン浴をドライアイス−四塩化炭素浴
に代え、30分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水
溶液を加え、攪拌しながら室温まで加温した。エーテル
で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより精製し、1α,3β−ビスアセトキシコレスタ
−5,7−ジエン−22−オールを88mg得た。
−カルブアルデヒド94mgをテトラヒドロフラン5mlに溶
解し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却しながらアル
ゴン雰囲気下に攪拌した。この溶液に、テトラヒドロフ
ラン20ml中でイソアミルブロミド0.24ml及びマグネシウ
ム50mgより調製したグルニアール試薬2.5mlを加え、ド
ライアイス−アセトン浴をドライアイス−四塩化炭素浴
に代え、30分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水
溶液を加え、攪拌しながら室温まで加温した。エーテル
で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより精製し、1α,3β−ビスアセトキシコレスタ
−5,7−ジエン−22−オールを88mg得た。
実施例3 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン−22−オール18mgを塩化メチレン0.5ml
に溶解し、氷−メタノール浴中で冷却しながら攪拌し
た。トリエチルアミン50μlを加えた後、塩化メタンス
ルホニル10μlを加え、そのまま15分間攪拌した。反応
液を水にあけ、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3β−ビ
ス(メトキシカルボニルオキシ)−22−メタンスルホニ
ルオキシコレスタ−5,7−ジエン21mgを得た。
タ−5,7−ジエン−22−オール18mgを塩化メチレン0.5ml
に溶解し、氷−メタノール浴中で冷却しながら攪拌し
た。トリエチルアミン50μlを加えた後、塩化メタンス
ルホニル10μlを加え、そのまま15分間攪拌した。反応
液を水にあけ、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにより精製し、1α,3β−ビ
ス(メトキシカルボニルオキシ)−22−メタンスルホニ
ルオキシコレスタ−5,7−ジエン21mgを得た。
実施例4 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン−22−オール49mgをN,N−ジメチルホル
ムアミド1mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕
ウンデカ−7−エン0.1ml及び二硫化炭素1mlを加え、室
温で4時間攪拌した。この反応液にヨウ化メチル1mlを
加え、室温で更に1時間攪拌した。反応液を減圧下で濃
縮し、残渣に水を加え、エーテルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより
精製し、1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)
−22−(メチルチオ)チオカルボニルオキシコレスタ−
5,7−ジエン45mgを得た。
タ−5,7−ジエン−22−オール49mgをN,N−ジメチルホル
ムアミド1mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕
ウンデカ−7−エン0.1ml及び二硫化炭素1mlを加え、室
温で4時間攪拌した。この反応液にヨウ化メチル1mlを
加え、室温で更に1時間攪拌した。反応液を減圧下で濃
縮し、残渣に水を加え、エーテルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより
精製し、1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)
−22−(メチルチオ)チオカルボニルオキシコレスタ−
5,7−ジエン45mgを得た。
実施例5 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−22−
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン177mgを
エーテル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中で冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用い、10分
間紫外線照射した。反応液を減圧下濃縮した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、1α−メ
トキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホニルオキシ
プレコレカルシフエロール−3β−メトキシカルボナー
ト17mgを得た。
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン177mgを
エーテル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中で冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用い、10分
間紫外線照射した。反応液を減圧下濃縮した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、1α−メ
トキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホニルオキシ
プレコレカルシフエロール−3β−メトキシカルボナー
ト17mgを得た。
実施例6 1α−メトキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホ
ニルオキシプレコレカルシフエロール−3β−メトキシ
カルボナート5mgをテトラヒドロフラン2mlに溶解し、2
時間加熱還流した。反応液を冷却後、濃縮し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフイーにより精製し、1α−メト
キシカルボニルオキシ−22−メタンスルホニルオキシコ
レカルシフエロール−3−β−メトキシカルボナート3m
gを得た。
ニルオキシプレコレカルシフエロール−3β−メトキシ
カルボナート5mgをテトラヒドロフラン2mlに溶解し、2
時間加熱還流した。反応液を冷却後、濃縮し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフイーにより精製し、1α−メト
キシカルボニルオキシ−22−メタンスルホニルオキシコ
レカルシフエロール−3−β−メトキシカルボナート3m
gを得た。
実施例7 実施例5において1α,3β−ビス(メトキシカルボニ
ルオキシ)−22−メタンスルホニルオキシコレスタ−5,
7−ジエン177mgの代わりに、1α,3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)−22−(メチルチオ)チオカルボニ
ルオキシコレスタ−5,7−ジエン150mgを用い、照射時間
を5分間とする以外は、同様にして操作を行なうことに
より、1α−メトキシカルボニルオキシ−22−(メチル
チオ)チオカルボニルオキシプレコレカルシフエロール
−3β−メトキシカルボナート16mgを得た。
ルオキシ)−22−メタンスルホニルオキシコレスタ−5,
7−ジエン177mgの代わりに、1α,3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)−22−(メチルチオ)チオカルボニ
ルオキシコレスタ−5,7−ジエン150mgを用い、照射時間
を5分間とする以外は、同様にして操作を行なうことに
より、1α−メトキシカルボニルオキシ−22−(メチル
チオ)チオカルボニルオキシプレコレカルシフエロール
−3β−メトキシカルボナート16mgを得た。
実施例8 実施例6において1α−メトキシカルボニルオキシ−
22−メタンスルホニルオキシプレコレカルシフエロール
−3β−メトキシカルボナート5mgの代わりに1α−メ
トキシカルボニルオキシ−22−(メチルチオ)チオカル
ボニルオキシプレコレカルシフエロール−3β−メトキ
シカルボナート5mgを用いる以外は同様にして操作を行
なうことにより、1α−メトキシカルボニルオキシ−22
−(メチルチオ)チオカルボニルオキシコレカルシフエ
ロール−3β−メトキシカルボナート2.8mgを得た。
22−メタンスルホニルオキシプレコレカルシフエロール
−3β−メトキシカルボナート5mgの代わりに1α−メ
トキシカルボニルオキシ−22−(メチルチオ)チオカル
ボニルオキシプレコレカルシフエロール−3β−メトキ
シカルボナート5mgを用いる以外は同様にして操作を行
なうことにより、1α−メトキシカルボニルオキシ−22
−(メチルチオ)チオカルボニルオキシコレカルシフエ
ロール−3β−メトキシカルボナート2.8mgを得た。
参考例6 1α−メトキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホ
ニルオキシコレカルシフエロール−3β−メトキシカル
ボナート2mgをテトラヒドロフラン0.5mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下氷冷しながら攪拌した。水素化トリエチル
ホウ素リチウムの1モルテトラヒドロフラン溶液0.2ml
を加え、さらにヘキサメチルホスホリツクトリアミド0.
05ml加え、室温で24時間攪拌した。反応液に氷冷下水を
加え、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイーにより精製し、1α−ヒドロキシコレカルシ
フエロール0.8mgを得た。
ニルオキシコレカルシフエロール−3β−メトキシカル
ボナート2mgをテトラヒドロフラン0.5mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下氷冷しながら攪拌した。水素化トリエチル
ホウ素リチウムの1モルテトラヒドロフラン溶液0.2ml
を加え、さらにヘキサメチルホスホリツクトリアミド0.
05ml加え、室温で24時間攪拌した。反応液に氷冷下水を
加え、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイーにより精製し、1α−ヒドロキシコレカルシ
フエロール0.8mgを得た。
参考例7 1α−メトキシカルボニルオキシ−22−(メチルチ
オ)チオカルボニルオキシコレカルシフエロール−3β
−メトキシカルボナート1mgをトルエン1mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下室温で攪拌した。水素化トリn−ブチル
スズ10μl及びアゾビスイソブチロニトリル触媒量を加
え80℃で3時間攪拌した。反応液を冷却後、減圧下に濃
縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイーにより
精製し、1α−メトキシカルボニルオキシコレカルシフ
エロール−3β−メトキシカルボナート0.5mgを得た。
オ)チオカルボニルオキシコレカルシフエロール−3β
−メトキシカルボナート1mgをトルエン1mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下室温で攪拌した。水素化トリn−ブチル
スズ10μl及びアゾビスイソブチロニトリル触媒量を加
え80℃で3時間攪拌した。反応液を冷却後、減圧下に濃
縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイーにより
精製し、1α−メトキシカルボニルオキシコレカルシフ
エロール−3β−メトキシカルボナート0.5mgを得た。
参考例8 1α−メトキシカルボニルオキシコレカルシフエロー
ル−3β−メトキシカルボナート0.5mgをメタノール0.1
mlに溶解し、炭酸カリウム約2mgを加え、室温で12時間
攪拌した。トルエンを加え、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフイーにより精製すること
により、実施例9で得られた1α−ヒドロキシコレカル
シフエロールと同じ1HNMRスペクトルを与える1α−ヒ
ドロキシコレカルシフエロール0.3mgを得た。
ル−3β−メトキシカルボナート0.5mgをメタノール0.1
mlに溶解し、炭酸カリウム約2mgを加え、室温で12時間
攪拌した。トルエンを加え、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフイーにより精製すること
により、実施例9で得られた1α−ヒドロキシコレカル
シフエロールと同じ1HNMRスペクトルを与える1α−ヒ
ドロキシコレカルシフエロール0.3mgを得た。
実施例9 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−22−
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン150mgを
エーテル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中で冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて5分
間紫外線照射した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣にテ
トラヒドロフラン10mlを加え、アルゴン雰囲気下2時間
加熱還流した。反応液を冷却後、減圧下に濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、
実施例6で得られたものと同じ1HNMRスペクトルを与え
る1α−メトキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホ
ニルオキシコレカルシフエロール−3β−メトキシカル
ボナート8mgを得た。
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン150mgを
エーテル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中で冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて5分
間紫外線照射した。反応液を減圧下に濃縮し、残渣にテ
トラヒドロフラン10mlを加え、アルゴン雰囲気下2時間
加熱還流した。反応液を冷却後、減圧下に濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、
実施例6で得られたものと同じ1HNMRスペクトルを与え
る1α−メトキシカルボニルオキシ−22−メタンスルホ
ニルオキシコレカルシフエロール−3β−メトキシカル
ボナート8mgを得た。
参考例9 1α−メトキシカルボニルオキシ−22−(メチルチ
オ)チオカルボニルオキシプレコレカルシフエロール−
3β−メトキシカルボナート10mgをトルエン5mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下に室温で攪拌した。この溶液に水
素化トリn−ブチルスズ40μl及び触媒量のアゾビスイ
ソブチロニトリルを加え、80℃で2時間攪拌した。反応
液を冷却後減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロ
マトグラフイーにより精製し、実施例10で得られた1α
−メトキシカルボニルオキシコレカルシフエロール−3
β−メトキシカルボナートと同じ1HNHRを与える1α−
メトキシカルボニルオキシコレカルシフエロール−3β
−メトキシカルボナート4mgを得た。
オ)チオカルボニルオキシプレコレカルシフエロール−
3β−メトキシカルボナート10mgをトルエン5mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下に室温で攪拌した。この溶液に水
素化トリn−ブチルスズ40μl及び触媒量のアゾビスイ
ソブチロニトリルを加え、80℃で2時間攪拌した。反応
液を冷却後減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロ
マトグラフイーにより精製し、実施例10で得られた1α
−メトキシカルボニルオキシコレカルシフエロール−3
β−メトキシカルボナートと同じ1HNHRを与える1α−
メトキシカルボニルオキシコレカルシフエロール−3β
−メトキシカルボナート4mgを得た。
参考例10 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−22−
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン100mgを
エーテル350mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて、5分
間紫外線照射した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にテト
ラヒドロフラン5ml、ヘキサメチルホスホリツクトリア
ミド0.1ml及び1モル水素化トリエチルホウ素リチウム
テトラヒドロフラン溶液1mlを加え、アルゴン雰囲気下
室温で48時間攪拌した。過剰の水素化トリエチルホウ素
リチウムを水で分解した後、減圧下濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、実施例
9で得られた1α−ヒドロキシコレカルシフエロールと
同じ1HNMRスペクトルを与える1α−ヒドロキシコレカ
ルシフエロール7mgを得た。
メタンスルホニルオキシコレスタ−5,7−ジエン100mgを
エーテル350mlに溶解し、アルゴンを通じながら、氷浴
中冷却した。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて、5分
間紫外線照射した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にテト
ラヒドロフラン5ml、ヘキサメチルホスホリツクトリア
ミド0.1ml及び1モル水素化トリエチルホウ素リチウム
テトラヒドロフラン溶液1mlを加え、アルゴン雰囲気下
室温で48時間攪拌した。過剰の水素化トリエチルホウ素
リチウムを水で分解した後、減圧下濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、実施例
9で得られた1α−ヒドロキシコレカルシフエロールと
同じ1HNMRスペクトルを与える1α−ヒドロキシコレカ
ルシフエロール7mgを得た。
実施例10 1α,3β−ジアセトキシコレスタ−5,7−ジエン−22
−オール120mg及びN,N′−チオカルボニルジイミダゾー
ル100mgをテトラヒドロフラン3mlに溶解し、4時間加熱
還流した。反応液を冷却後、水にあけ、エーテルで抽出
し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製
し、1α,3β−ジアセトキシ−22−(イミダゾリル)チ
オカルボニルオキシコレスタ−5,7−ジエン110mgが得ら
れた。
−オール120mg及びN,N′−チオカルボニルジイミダゾー
ル100mgをテトラヒドロフラン3mlに溶解し、4時間加熱
還流した。反応液を冷却後、水にあけ、エーテルで抽出
し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製
し、1α,3β−ジアセトキシ−22−(イミダゾリル)チ
オカルボニルオキシコレスタ−5,7−ジエン110mgが得ら
れた。
参考例11 1α,3β−ジアセトキシ−22−(イミダゾリル)チオ
カルボニルオキシコレスタ−5,7−ジエン100mgをエーテ
ル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら氷浴中冷却し
た。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて5分間紫外線照
射した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にトルエン5ml加
え、アルゴン雰囲気下室温で攪拌した。水素化トリn−
ブチルスズ0.2ml及び触媒量のアゾビスイソブチロニト
リルを加え、80℃で3時間攪拌した。反応液を冷却後、
減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーに
より精製し、1α−アセトキシコレカルシフエロール−
3β−アセタート6mgを得た。
カルボニルオキシコレスタ−5,7−ジエン100mgをエーテ
ル400mlに溶解し、アルゴンを通じながら氷浴中冷却し
た。この溶液に400W高圧水銀灯を用いて5分間紫外線照
射した。反応液を減圧下濃縮し、残渣にトルエン5ml加
え、アルゴン雰囲気下室温で攪拌した。水素化トリn−
ブチルスズ0.2ml及び触媒量のアゾビスイソブチロニト
リルを加え、80℃で3時間攪拌した。反応液を冷却後、
減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーに
より精製し、1α−アセトキシコレカルシフエロール−
3β−アセタート6mgを得た。
実施例11 1α,3β−ジアセトキシコレスタ−5,7−ジエン−22
−オール10mgをピリジン0.1mlに溶解し、氷冷下に三臭
化リンを20μl加え、そのまま30分間攪拌した。反応液
を冷希塩酸にあけ、エーテルで抽出し、抽出液を重曹水
及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。濃縮後、シリカゲル薄層クロマトグラフイーにより
精製し、1α,3β−ジアセトキシ−22−ブロムコレスタ
−5,7−ジエン5mgを得た。
−オール10mgをピリジン0.1mlに溶解し、氷冷下に三臭
化リンを20μl加え、そのまま30分間攪拌した。反応液
を冷希塩酸にあけ、エーテルで抽出し、抽出液を重曹水
及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。濃縮後、シリカゲル薄層クロマトグラフイーにより
精製し、1α,3β−ジアセトキシ−22−ブロムコレスタ
−5,7−ジエン5mgを得た。
参考例12 1α,3β−ヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20−
カルブアルデヒド69mgをN,N−ジメチルホルムアミド1ml
に溶解し、イミダゾール0.2gを加え、塩化t−ブチルジ
メチルシリル0.2gを加え、室温で20時間攪拌した。反応
液を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、1
α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)プレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド75mgを得
た。
カルブアルデヒド69mgをN,N−ジメチルホルムアミド1ml
に溶解し、イミダゾール0.2gを加え、塩化t−ブチルジ
メチルシリル0.2gを加え、室温で20時間攪拌した。反応
液を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、1
α,3β−ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)プレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド75mgを得
た。
参考例13 1α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド69mgをN,N−ジイソプロピルエチル
アミン0.5mlに溶解し、クロルメチルメチルエーテル20m
gを加え室温で24時間攪拌した。反応液を冷希塩酸にあ
け、エーテルで抽出した。抽出液を重曹水及び食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製す
ることにより、1α,3β−ビス(メトキシメトキシ)プ
レグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド70mgを得
た。
−カルブアルデヒド69mgをN,N−ジイソプロピルエチル
アミン0.5mlに溶解し、クロルメチルメチルエーテル20m
gを加え室温で24時間攪拌した。反応液を冷希塩酸にあ
け、エーテルで抽出した。抽出液を重曹水及び食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにより精製す
ることにより、1α,3β−ビス(メトキシメトキシ)プ
レグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド70mgを得
た。
実施例12 実施例1において、1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに1α,3β−ビス(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カ
ルブアルデヒド120mgを用いる以外は同様にして操作を
行なうことにより、1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−22−オール1
21mgを得た。
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに1α,3β−ビス(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カ
ルブアルデヒド120mgを用いる以外は同様にして操作を
行なうことにより、1α,3β−ビス(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−22−オール1
21mgを得た。
実施例13 実施例1において1α,3β−ビス(メトキシカルボニ
ルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデ
ヒド100mgの代わりに、1α,3β−ビス(メトキシメト
キシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド9
5mgを用いる以外は同様にして、操作を行なうことによ
り、1α,3β−ビス(メトキシメトキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−オール105mgを得た。
ルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデ
ヒド100mgの代わりに、1α,3β−ビス(メトキシメト
キシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド9
5mgを用いる以外は同様にして、操作を行なうことによ
り、1α,3β−ビス(メトキシメトキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−オール105mgを得た。
〔発明の効果〕 本発明により一般式(I)、(II)及び(III)で示
される新規なステロイド誘導体並びにその製造方法が提
供される。
される新規なステロイド誘導体並びにその製造方法が提
供される。
本発明により提供される上記ステロイド誘導体はカル
シウム代謝の欠陥症の治療剤として有用な1α−ヒドロ
キシビタミンD3又はその誘導体(X)の合成中間体とし
て有用である。
シウム代謝の欠陥症の治療剤として有用な1α−ヒドロ
キシビタミンD3又はその誘導体(X)の合成中間体とし
て有用である。
Claims (6)
- 【請求項1】一般式 〔式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アシル基、低級
アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換基を
有していてもよいアルコキシメチル基を表わし、X1は水
酸基、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ
基、アレーンスルホニルオキシ基又は−OY基を表わし、
ここでYは−P(=O)(Z1)2基又は−C(=S)Z2基
を表わし、Z1は低級アルコキシ基、アレノキシ基又は置
換アミノ基を表わし、Z2は低級アルコキシ基、アレノキ
シ基、アラルコキシ基、置換アミノ基、低級アルキル
基、アリール基、アラルキル基又はヒドロカルビルチオ
基を表わす。〕 で示される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体。 - 【請求項2】一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体。 - 【請求項3】一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体。 - 【請求項4】一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫
外線を照射することを特徴とする一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体の製
造方法。 - 【請求項5】一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシプレビタミンD3誘導体を熱
エネルギーにより異性化させることを特徴とする一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方
法。 - 【請求項6】一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシプロビタミンD3誘導体に紫
外線を照射し、次いで熱エネルギーにより異性化させる
ことを特徴とする一般式 〔式中、R1、R2及びX1はそれぞれ請求項1記載のR1、R2
及びX1と同じ。〕 で示される1α−ヒドロキシビタミンD3誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15053388A JP2710789B2 (ja) | 1988-06-18 | 1988-06-18 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15053388A JP2710789B2 (ja) | 1988-06-18 | 1988-06-18 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH023695A JPH023695A (ja) | 1990-01-09 |
JP2710789B2 true JP2710789B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=15498948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15053388A Expired - Fee Related JP2710789B2 (ja) | 1988-06-18 | 1988-06-18 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2710789B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000001477A1 (fr) * | 1998-07-03 | 2000-01-13 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Dispositif a rayonnement uv pour reaction photochimique et elaboration d'un derive de vitamine d avec ce dispositif |
WO2001074764A1 (fr) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Teijin Limited | Intermediaires de vitamine d et procedes de fabrication de ceux-ci |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56149477U (ja) * | 1980-04-07 | 1981-11-10 | ||
JPS6389251U (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | ||
JPS63136352U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-07 |
-
1988
- 1988-06-18 JP JP15053388A patent/JP2710789B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH023695A (ja) | 1990-01-09 |
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