JPH023695A - ステロイド誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化症、
骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有効で
あることが知られているｌα−ヒドロキシビタミンＤ３
の合成中間体として有用な新規なステロイド誘導体、そ
の製造方法及び該ステロイド誘導体から、１α−ヒドロ
キシビタミンＤ３誘導体を製造す右方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、ｌα−ヒドロキシビタミンＤ３の製造方法として
は、例えば、コレステロールを原料として使用スること
によりｌα−ヒドロキシビタミンＤ３を製造する方法な
どが知られている（特開昭４８−６２７５０号公報及び
特開昭４９−９５９５６号公報参照）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の通り、ｌα−ヒドロキシビタミンＤ３の製造方法
は知られているが、ｌα−ヒドロキシビタミンＤ３を製
造するに際し、合成中間体として使用できる化合物を多
くの化合物の中から選択することが出来れば、原料事情
に応じてその製造プロセスを適宜変更することが可能と
なり好ましい。

しかして、本発明の１つの目的は、ｌα−ヒドロキシビ
タミンＤ３の合成中間体として有用な新規な化合物を提
供することにある。

本発明の他の目的は当該新規な化合物の製造方法を提供
することにある。

本発明のさらに他の目的は当該新規な化合物から、ｌα
−ヒドロキシピ・タミン店誘導体を製造する方法を提供
することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、上記の目的は 〔式中　Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、アシル基、
低級アルコキ／カルボニル基、三置換シリル基又は置換
基を有していても良いアルコキシメチル基を表わし、Ｘ
ｌは水酸基、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニル基
、アレーンスルホニル基又は−ＯＹ基を表すし、コ？ニ
ー　テＹ　）；ｉ　−Ｐ（＝Ｏ）　（Ｚ’）２　Ｍ又は
−ｃ（＝ｓ）ｚ２基を表わし　ｚｌは低級アルコキシ基
、アレツキ７基又は置換アミノ基を表わし　ｚ２は低級
アルコキシ基、アルコキシ基、アラルコキシ基、低級ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基又はヒドロカルビ
ルチオ基を表わす。〕 で示されるｌα−ヒドロキシプロビタミンＬ）３誘導体 〔式中　Ｒ１、Ｒ２及びＸｌは前記定義の通りである。

〕で示されるｌα−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体
及び で示されるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体並びに
下記■〜■の製造方法を提供することによって達成され
る。

■　一般式　　　　　Ｘｌ 〔式中　Ｒ１、Ｒ２及びＸｌは前記定義の通りである。

〕で示されるｌα−ヒドロキンプロビタミンＤ３誘導体
に紫外線を照射することを特徴とする〔式中　Ｒ１，Ｒ
２及びＸｌは前記定義の通りである。〕で示されるｌα
−ヒドロキンプレビタミンＤ３誘導〔式中　Ｒ１、Ｒ２
及びＸｌは前記定義の通りである。〕〔式中　Ｒ１、Ｒ
２及びＸｌは前記定義の通りである。〕で示されるｌα
−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体を熱エネルギーに
より異性化させることを特徴とする 〔式中、Ｒ１，Ｒ２及びＸｌは前記定義の通りである。

〕テ示すれるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体の製
造方法。

〔式中　Ｒ１、Ｒ２及びＸｌは前記定義の通りである。

〕で示されるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体の製
造方法。

〔式中、Ｒ１、Ｒ２及びＸｌは前記定義の通りである。

〕で示されるｌα−ヒドロキンプロビタミンＤ３誘導体
に紫外線を照射し、更に熱エネルギーによシ異性化させ
ることを特徴とする 〔式中　Ｒ１及びＲ２は前記定義の通りであり、Ｘ２は
ハロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アレ
ーンスルホニルオキシ基又は−〇Ｙ基を表わし、ここで
Ｙは前記定義の通シである。〕 で示されるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体の２２
位の置換基を還元的に除去することを特徴とする特 一般式 一般式 〔式中、　Ｉｔ３及びＲ４はそれぞれ、水素原子、アシ
ル基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基　
又は置換基を有していても良いアルコキシメチル基を表
わす。〕 で示されるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体の製造
方法。

〔式中　Ｒ３及びＲ４は前記定義の通りである。〕で示
されるｌα−ヒドロ・キシビタミンＤ３誘導体の製造方
法。

〔式中　Ｅ　Ｒ２及びガは前記定義の通りである。〕で
示される１α−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体の２
２位の置換基を還元的に除去するとともに熱エネルギー
により異性化させることを特徴とす〔式中　Ｒ１、Ｒ２
及びＸ２は前記定義の通シである。〕で示されるｌα−
ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体に紫外線を照射し、
ついで２２位の置換基を還元的に除去するとともに熱エ
ネルギーにより異性化させることを特徴とする 一般式 〔式中　Ｒ３及びＲ４は前記定義の通りである。〕で示
されるｌα−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体の製造方法
。

上記一般式（１）、（ｎ）及び（ＩＩＩ）におけるＲ１
、Ｒ２Ｒ３、Ｒ４、Ｘｌ、Ｘ２、・ｚ１及ヒｚ２ヲ以下
ニ詳シく説明する。

Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３及びＲ４それぞれが表わすアシル基と
しては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ンブチリル基、バレリル基、インバレリル基、ヒバロイ
ル基、ベンゾイル基、モノクロルアセチル基、トリフル
オロアセチル基などが挙げられ、低級アルコキシカルボ
ニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、インプロビルオキシカルボニル基などが挙げ
られ、三置換シリル基としては、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリインプロピルシリル基、ｔ−
ブナルジメテルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル
基などが挙げられ、置換基を有していても良いアルコキ
シメチル基としては、メトキシメチル基、メトキシエト
キシメチル基、エトキシエチル基、メトキシインプロピ
ル基、テトラヒドロピラニル基などが挙げられる。Ｘｌ
及びＸ２それぞれが表わすハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、
低級アルカンスルホニルオキシ基としては、メタンスル
ホニルオキシ基などが挙げられ、アレーンスルホニルオ
キシ基トシテはｐ−）ルエンスルホニルオキシ基ｓｐ−
ブロムベンゼンスルホニルオキシ基などが挙げられる。

式中、２が表わす低級アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基などが挙げられ
、アルコキシ基としては、フェノキシ基などが挙げられ
、置換アミン基としては、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基などの低級アルキルアミノ基などが挙げられる
。ｚ２が表わすアルコキシ基としてはメトキシ基、エト
キシ基、イソプロピルオキシ基などカ挙ケられ、アレノ
キシ基としては、フェノキシ基ｓ　　ｐ　　）リルオキ
シ基、α−ナフチルオキシ基などが挙げられ、アラルコ
キシ基としては、ベンジルオキシ基、ｐ−ブロモベンジ
ルオキシ基、ｐニトロベンジルオキ７基などが挙げられ
、置換アミノ基としては、イミダゾリル基、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基などの低級アルキルアミノ基
などが挙げられ、低級アルキル基としては、メチル基、
エチル基、イソプロピル基などが挙げラレ、アリール基
としては、フェニル基、トリル基、ｐ−メ）キシフェニ
ル基、ｐ−ブロムフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基な
どが挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基、ｐ
−メトキシベンジル基、ｐ−ブロムベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基などが挙げられ、ヒドロカルビルチオ基
としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基などが挙げられる。

以下余白 一般式（１）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で示される本発
明のステロイド誘導体は例えば次の方法により製造する
ことができる。

（■） Ｈ （ｎ−２） （ＩＩＩ−２） （ｋｆ＋ｒｓｔ１１ｍ＊ｂｎ７、Ａｃ１１アセチレ茎１
磨ｄル、Ｐｋｌｊフェニンし蔦ＪＬ表も４．）・・・上
記一般式（＋−１）、（１−２）、（ＩＩ−１）　、　
（ＩＩ−２）、　（１−１）、　（ｍ−２）、　（ｆｌ
／）　、　　（Ｖ）、　（Ｍ−ｔ）、１−２）及び（■
）で示される化合物を以後それぞれ下記のように称する
ことがある。

（ＩＩＩ−１） （＋−１） （ｎ−１） （ｌｌ−２） ｌα−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（１−１）又
はアルコール（１−１） ｌα−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（１−２）１
α−ヒドロキシプレビタミンＤ３ｇ導体（ｆｌ−１）１
α−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体（Ｉｆ−２）一
般式　　　　　　略　　　　　称 （ＩＩＩ−１）　　　１α−ヒドロキシビタミンＤ３誘
導体（Ｉｎ−１）（ＩＩＩ−２）　　　１α−ヒドロキ
シビタミンＤ３誘導体（Ｉｎ−２）（ｆＶ）　　化合物
（Ｊ） （Ｖ）　　　アルデヒド（Ｖ） １−１）　　アルデヒド（■−１） （■−２）　　アルデヒド（■−２） （■）　　アルデヒド（■） さらに、一般式（１−２）、（ＩＩ−２）及び（Ｉｌｌ
−２）において、　Ｘ２が下記の如き置換基を表すこと
によって示される化合物を以後下記の如き化合物番号を
用いて表示することがある。

化合物番号 化合物化合物化合物 ハロゲン原子　　　（＋−２−１）　　（■−２−１）
　　（ＩＩＩ−２−１）一般式（■）において、Ｒ′及
びＲ２がそれぞれ下記の如き置換基を表すことによって
示される化合物を以後下記の如く称することがある。

アシル基 低級アルコキシカルボニル基 三置換シリル基 置換基を有していても良いア ルコキシメチル基 アルデヒド（■−１） アルデヒド（■−２） アルデヒド（■−３） アルデヒド（■−４） 以下余白 まず、Ｈ，Ｓａｉらの方法（ケミカル・ファーマシュー
テイカ／Ｉｚ−ブルテｙ　（Ｃｈｅｍ、Ｐｈａｒｍ、Ｂ
ｕｌｌ、）　３２巻３８６６〜３８７２ページ（１９８
４年）参照〕に従って調製した化合物（■）をアルデヒ
ド１−１）又は（Ｖｌ−２）に変換するが、この変換は
化合物（ＩＶ）の１１１１鎖の炭素−炭素二重結合を選
択的にオゾン酸化し、得られるオシニドを還元的に処理
してアルデヒド（Ｖ）　を得て、さらに５，７−ジエン
の保護基を除去することにより行なわれる。オゾン酸化
・置元的後処理は常法に従って実施される。すなわち化
合物（ＩＶ）の溶液に冷却下オゾンガスを通じるか、あ
るいは予め調製したオゾンの飽和溶液を化合物（ＩＶ）
の溶液に冷却下に加えることにより、オゾン化が行なわ
れ、ついで適当な遷元剤を加えることによって還元的後
処理が行なわ几る。使用するオゾンガスの肴は通常化合
物（■）１モルに対して約０．１〜１０モル好ましくは
約０．５モル〜０．８モルである。この反応には、塩化
メチレン、メタノールなどの反応に関与しない溶媒が用
いられ、その使用量は通常化合物（１’／）に対して約
１０〜２００倍重量である。またこの溶媒中に約１係の
ピリジンを共存させることも可能である。オゾン化反応
は通常０℃以下の温度で行なわれ、好ましくは約−５０
℃〜−１００℃の範囲内の温度で行なわれる。還元的後
処理に用いられる還元剤としては、ジメチルスルフィド
、トリフェニルホスフィンなどが挙げられ、その１史用
量は、化合物（■）１モルに対して約１〜５０モルであ
る。還元的後処理は通常約−１００〜３０℃の範囲内の
温度で行なわれる。

反応は、ドライアイス−アセトン浴中で冷却した、化合
物（ＩＶ）　１モルに対して約０．５〜０．８モルのオ
ゾン及び１チピリジンを含む塩化メチレン溶液に化合物
（ｆｌ／）あるいはその溶液を加え、オゾンの青色が消
えた後に、約２０モルのジメチルスルフィドを加え、ド
ライアイス−アセトン浴を除去し、室温まで加温するこ
とにより実施するのが簡便である０ この様にして得らｎｆｃアルデヒド（Ｖ）の反応混合物
からの単離・精＃は、油溶の有機反応において行なわれ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応液を冷希塩酸、食塩水で順次洗浄した後、乾燥・Ｉａ
縮し粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどに
より精製することによりアルデヒド（Ｖ）ｅ得ることが
できる。

アルデヒド（Ｖ）のアルデヒド１−１）又はアルデヒド
（Ｖｌ−２）への変換は、通常の方法に従って脱保護す
ることにより行なわれる。この脱保護の方法としては、
エタノール中水酸化カリウムテ処理する方法、ジメチル
スルホキシド中炭酸カリウムの伴午下に加熱する方法、
コリジン中で加熱する方法などが用いられる。これらの
反応において、使用するエタノール、ジメチルスルホキ
シドあるいはコリジンの量は、アルデヒド（■）に対し
て、約５〜２００倍重量であり、使用する水酸化カリウ
ムの量は、アルデヒド（ｖ）１モルに対して、約１０〜
５００モルであり、好ましくは約５０〜２００モルであ
り、使用する炭酸カリウムの量は、アルデヒド（Ｖ）　
１モルに対して、約０．５〜２モルである。

脱保護の方法として、エタノール中で水酸化がリウムで
処理する方法を採用した場合には、アルデヒド（Ｍ−１
）が得られ、ジメチルスルホキシド中炭酸カリウムの存
在下に加熱する方法又はコリジン中で加熱する方法を採
用した場合には、アルデヒド（Ｖｌ−２）が得られる。

反応は、アルデヒド（■−１）を得る場合には、アルデ
ヒド（ｖ）１モルに対して約１００モルの水酸化カリウ
ムを含む約２規定のエタノール溶液全加え、約１．５時
間加熱還流することにより行なうのが簡便であり、アル
デヒド（Ｖｌ−２）を得る場合には、アルデヒド（Ｖ）
１モルに対して約１モルの無水炭酸カリウムを加え、約
５０倍重量のジメチルスルホキシド中で約１２０℃で約
７時間加熱することによって行なうのが簡便である。

これらの反応液からのアルデヒド（■−１）又はアルデ
ヒド（Ｖｌ−２）の単離・精製は、通常の有機反応にお
いて行なわれている単離・精製法と同様にして行なわれ
る。例えば、反応液を冷却後、水にあけ、酢酸エチルな
どの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順
次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、りａ
マドグラフィーなどにより精製することによりアルデヒ
ド（■−１）又はアルデヒド１−２）’に得ることがで
きる０ この様にして得られたアルデヒド（Ｍ−２）は、必要に
応じて１位及び３位の水酸基の脱保護によって、アルデ
ヒド１−１）に変換することができる。この脱保護反応
は通常の脱アセチル化反応、すなわち、塩基性物質存在
下に水あるいはアルコールと接触させることにより加溶
媒分解を行なうことにより行なわれる。この加溶媒分解
に用いられるアルコールとしては、例えばメタノール、
エタノールなどが挙げられる。使用される水あるいはア
ルコールの使用量は、通常アルデヒド（Ｍ−２）１モル
に対して約２〜２０００モルである。塩基性物質として
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど
の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
などの金属炭酸塩などが用いられる。使用される塩基性
物質の使用量は、通常アルデヒドｌ−２）１モルに対し
て約０．０５〜１０モル、好ましくは０．１〜５モルで
ある。またこの反応は通常溶媒の存在下で実施されるが
、反応に用いる水あるいはアルコールをそのまま溶媒と
して用いることも可能であり、さらに別の溶媒を補助溶
媒として用いることも可能である。ここで用いられる補
助溶媒は、水あるいはアルコール及びアルデヒド（■−
２）に親和性があり、反応に関与しないものであり、具
体例としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどが挙げらルる。溶媒の使用量は
、通常アルデヒド１−２）の５〜２００倍重量である。

反応は、通常約−１０℃〜１００℃の範囲内の温度、好
ましくは約Ｏ℃〜６０℃の範囲内の温度で行なわれる。

反応はアルデヒド（’１１１−２）　１モルに対して約
５モルの炭酸カリウムを加え、約１００倍重量のメタノ
ールに溶解し、室温で１５分〜２４時間攪拌することに
より実施するのが簡便である。

この反応液からのアルデヒド（■−１）の単離・精製は
、通常の有機反応において行なわれている単離・精製法
と同様にして行なわれる。例えば、反応液を冷却後、水
にあけ、酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸
・重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成
物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製す
ることによりアルデヒドｌ−１）ｔ−得ることができる
。

この様にして得られたアルデヒド（■−１）は、必要に
応じて、常法に従い１位及び３位の水酸基の保護を行な
いアルデヒド（■）に変換することもできる。

アルデヒド（Ｖ［−１）からアルデヒド（■−１）への
変換は、塩基性物質の存在下にカルボン酸の無水物ある
いは・・ロゲン化物全作用させることにより行なわれる
。この反応に用いられるカルボン酸無水物としては、無
水酢酸、無水プロピオン酸、無水醋酸、無水トリフルオ
ロ酢酸などが挙げられ、カルボン酸ハロゲン化物として
は、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、
塩化イソブチリル、塩化バレリル、塩化イソバレリル、
塩化ピバロイル、塩化ベンゾイルなどが挙げられる。酸
無水物あるいは酸・・ロゲン化物の使用量は、通常アル
デヒド（Ｖｌ−１）１モルに対して、約２〜２０モル好
ましくは約２．５〜１０モルである。この反応に用いら
れる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリンなど
の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
金属水酸化物、水素化す）　＋７ウムなどの金属水素化
物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、通常アル
デヒド（■−１）１モルに対して約２〜２００モルであ
り、好ましくは約５〜１００モルである。またジメチル
アミノピリジン、ピロリジノピリジンなどのアシル化触
媒の存在下で行なうことも可能である。

触媒の使用量は、通常アルデヒドｌ−１）１モルに対し
て約０．０５〜０．２モルである。この反応は通常溶媒
中で実施されるが、使用する有機塩基全溶媒として用い
ることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロ
フランなどの反応に関与しない溶媒を補助溶媒として用
いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アルデヒ
ド（■−１）に対して、約５〜２００倍重量である。反
応は通常約２０℃〜１００℃の範囲内の温度、好ましく
は約０℃〜３０℃の範囲内の温度で行なわれる。

この様にして得られたアルデヒド（■−１）の反応混合
物からの単離・精製は、通常、の有機反応において用い
られている単離・精製法と同様にして行なうことができ
る。

例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有機
溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し
乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフ
ィーなどにより精１良物を得ることができる。

アルデヒド（Ｖｌ−１）からアルデヒド（■−２）への
変換は、塩基性物質の存在下にクロル炭酸エステルを作
用させることにより行なわれる。反応に用いらｎるクロ
ル炭酸エステルとしては、クロル炭酸メチル、クロル炭
酸エチル、クロル炭酸アリル、クロル炭酸トリクロルエ
チル、クロル炭酸フェニルなどが挙げられる。クロル炭
酸エステルの使用量は、通常アルデヒド（Ｖｌ−ｔ）ｉ
モルに対して約２〜５０モル、好ましくは約５〜２０モ
ルである。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリ
ジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
、ジエチルアニリンなどの有機アミン、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質
の使用量は、通常アルデヒド（Ｖｌ−１）１モルに対し
て約２〜２００モルであり、好ましくは約５〜１００モ
ルである。

またジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンなど
のエステル化触媒の存在下で実施することも可能である
。触媒の１重用量は、通常アルデヒド１−１）１モルに
対して約０．０５〜０．２モルである。この反応は通常
溶媒中で実施されるが、使用する有機塩基を溶媒として
用いることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒ
ドロフランなどの反応に関与しない溶媒を補助溶媒とし
て用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常アル
デヒド（Ｖｆ−１）に対して、約５〜２００倍重量であ
る。反応は通常約−２０℃〜１００℃の範囲内の温度、
好ましくは約θ℃〜３０℃の範囲内の温度で行なわれる
。

この様にして得られたアルデヒド（■−２）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわ
れている単離・精製法と同様にして行なうことができる
。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有
機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重Ｕ水・食塩水で順次洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグ
ラフィーなどにより精製物を得ることができる。

アルデヒド（ｔ、１−１）からアルデヒド（■−３）へ
の変換は、塩基性物質の存在下に三置換シリルクロリド
を作用させることにより行なわれる。反応に用いられる
三ｌｉｔ換シリルクロリドトシては、トリメチルシリル
クロリド、トリメチルシリルクロリ　ド、トリイソプロ
ピ゛；ワーロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド
、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリドなどが挙げられ
る。三置換シリルクロリドの使用量は、通常アルデヒド
（■−１）１モルに対して約２〜５０モル、好ましくは
約５〜２０モルである。反応に用いられる塩基性物質と
しては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの
有機アミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
金属水酸化物、水素化す）　ＩＪウムなどの金属水素化
物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、通常アル
デヒド（■−１）１モルに対して約２〜２００モルであ
り、□好ましくは約５〜１００モルである。この反応は
通常溶媒中で実権されるが、開用する有機塩基を溶媒と
して用いることも可能であり、また塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応に関
与しない溶媒を補助溶媒として用いることも可能である
。溶媒の使用量は、通常アルデヒド１−１）に対して、
約５〜２００倍重量である。

反応は通常約−２０℃〜１００℃の範囲内の温度、好捷
しくけ約０℃〜３０℃の範囲内の温度で行なわれる〇 この様にして得られたアルデヒド（■−３）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわ
れている単離・精製法と同様にして行なうことができる
。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有
機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重惇水・食塩水で順次洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグ
ラフィーなどにより精製物を得ることができる。

アルデヒド（Ｖｌ−１）からアルデヒド（■−４）への
変換は、塩基性物質の存在下にクロルメチルエーテルを
作用させるか、あるいは酸触媒下にビニルエーテルを作
用させることにより行なわれる。

反応に用いられるクロルメチルエーテルとしては、クロ
ルメチルメチルエーテル、メトキシエトキシメチルクー
ロリドなどが挙げられ、ビニルエーテルトシては、エチ
ルビニルエーテル、メチルイソプロペニルエーテル、ジ
ヒドロピランなどが挙ケられる。クロルメチルエーテル
またはビニルエーテルの使用量は、通常アルデヒド（■
−１）１モルに対して約２〜５０モル、好ましくは約５
〜２０モルである。反応に用いられる塩基性物質として
は、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの有機
アミン、水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙
げられる。塩基性物質の使用量は、通常アルデヒド（■
−１）１モルに対して約２〜２００モルであり、好まし
くは約５〜１００モルである。使用する酸触媒としては
、ｐ−）ルエンスルホン酸、カンファースルホンＭｆｘ
　ト（Ｄスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸ヒリジニ
ウムナトのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが
挙げられる。酸触媒の使用量は、アルデヒド（Ｖｌ−１
）１モルに対して、通常約０．０５〜０．２モルである
。この反応は通常溶媒中で実施されるが、使用する有機
塩基又はビニルエーテルを溶媒として用イることも可能
であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミドなどの反応に関与しない溶媒を用いる
ことも可能である。

溶媒の使用量は、通常アルデヒド（Ｖｌ−１）に対して
、約５〜２００倍重量である。反応は通常約−２０℃〜
１００℃の範囲内の温度、好ましくは約０℃〜３０℃の
範囲内の温度で行なわれる。

この様にして得られたアルデヒド（■−４）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわ
れている単離・精製法と同様にして行なうことができる
。例えば１反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有
機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷希塩
酸で洗浄し、重ｑ水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮
して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどに
より精製物を得ることができる。

アルデヒド（Ｖｌ−１）又は（■）のアルコール（１−
１）への変換は、アルデヒド（■−１）又は（■）に、
イソアミルマグネシウムプロミド、イソアミルリチウム
などの有機金属化合物を作用させることによって行なわ
れる。反応はアルデヒド（■−１）又１１″ｔ（■）を
約５〜２００倍重量のテトラヒドロフラン、エーテルな
どの溶媒に溶解し、約−１００℃〜３０℃の範囲内の温
度、好ましくは約−８０℃〜１０℃の範囲内の温度で、
アルデヒド（■−１）又は（■）１モルに対して約０．
８〜３モルの有機金属化合物を含む溶液を加え、上記の
温度で５分〜２時間撹拌することにより行なわれる。

この様にして得られたアルコール（１−１）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行なうことができる。

例えば、反応混合物を氷水にあけ、−エーテルなどの有
機溶媒で抽出し、食塩水で洗浄し乾燥後１縮して粗生成
物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどＫより精製物
を得ることができる。

アルコール（＋−１）からハロゲンｆｔ［（１−２−１
）への変換は、アルコールをハロゲン化物に変換する一
般的な方法によって実権することができる。例えば、ア
ルコール（１−１）をその約５〜２００倍重量のエーテ
ル、ピリジンなどの溶媒に溶解し、約−２０℃〜ｌＯ℃
の範囲内の温度で、アルコール（＋−１）１モルに対し
て約０．３〜１０モルの三塩化リン、五塩化リン、三臭
化リン、塩化チオニルなどのハロゲン化剤を加え、上記
の範囲内の温度で１５分〜１２時間攪拌することにより
行なわれる。

この様にして得られたハロゲン化物（１−２−１）の反
応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において
行われている単離・精製法と同様にして行なうことがで
きる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテルなど
の有機溶媒で抽出し、重曹水・食塩水で順次洗浄し、乾
燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィ
ーなどにより精製物を得ることができる。

７　ル：ｌ−／ｌ／　（１−１）から低級アルカンスル
ホナート又はアレーンスルホナー）　（１−２−２）へ
の変換は、塩基性化合物の存在下に塩化低級アルカンス
ルホニルＸ　Ｕ　塩化アレーンスルホニルｅ作Ｊ１１せ
ることにより行なわれる。反応に用いられる塩化低級ア
ルカンスルホニルとしては、塩化メタンスルホニルなど
が挙げられ、塩化アレーンスルホニル（！：　シテｕ、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ｐ−ブロムベンゼン
スルホニルナトカ挙ケラレ、その１吏川＠はアルコール
（＋−１）１モルに対して約１．１〜２０モルである。

反応に用いられる塩基性物質としてはピリジン、トリエ
チルアミンなどの有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの金属水酸化物、水素化す）　ＩＪウムな
どの金属水素化物などが挙げられ、その使用ｌはアルコ
ール（＋−１）１モルに対して約１〜１０００モルであ
る。この反応は通常溶媒中で行なわれるが、使用される
有機塩基を溶媒として使用することも可能であり、塩化
メチレン、クロロホルムなどの反応に関与しない溶媒を
用いることも可能である。

溶媒の使用量は、アルコール（１−１）に対して約５〜
２００倍重量である。反応は通常約−２０〜３０℃の範
囲内の温度、好ましくは約０〜２０℃の範囲内の温度で
行なわれる。

この様にして得られた低級アルカンスルホナート又はア
レーンスルホナート（＋−２−２）の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応において行なわれている
単離・精製法と同様にして行なうことができる。例えば
、反応混合物全氷水にあけ、エーテルなどの有機溶媒で
抽出し、冷希塩酸・重ａ水・食塩水で順次洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィー
などにより精製物を得ることができる。

アルコール（＋−１）から・・・・Ｉ＠Ｉ・・・脅リン
酸誘導体（１−２−３）への変換は、塩基性物質の存在
下にＩ）　７酸塩化物誘導体を作用させることにより実
施される。反応に用いられるリン酸塩化物としては、ビ
ス（ジメチルアミノ）ホスホロクロリダート、ジエチル
ホスホロクロリダートなどが挙げられ、その使用量はア
ルコール（１−１）１モルて対して約１．１〜２０モル
である。反応に用いられる塩基性物質としてはピリジン
、トリエチルアミンなどの有機塩基、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリウ
ムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用１はア
ルコール（＋−１）１モルに対して約１〜１０００モル
である。この反応は通常溶媒中で行なわれるが、使用さ
れる有機塩基を溶媒として使用することも可能であり、
塩化メチレン、クロロホルムなどの反応に関与しない溶
媒を用いることもげ能である。溶媒の使用量は、アルコ
ール（１−１）に対して約５〜２００倍重量である。反
応は通常約−２０〜３０℃の範囲内の温度、好ましくは
約Ｏ〜２０℃の範囲内の温度で行なわ几る。

この様にして得、られたリン酸誘導体（１−２−３）の
反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応におい
て行なわれている単離・精製法と同様にして行なうこと
ができる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、エーテル
などの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で
順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、ク
ロマトグラフィーなどにより精製物を得ることができる
。

アルコール（＋−１）よりチオカルバミン酸誘導体（１
−２−４）への変換け、チオカルバミン酸イミダゾリド
と反応させることにより行なわれる。例えば、アルコー
ル（＋−１）１モルに対して、約２〜２０モルのＮ、Ｎ
’−チオカルボニルジイミダゾールを約５〜２０倍重積
のテトラヒドロフラン中で約０．５〜１０時間加熱還流
することによって式Ｃｌ−２）において２２がイミダゾ
リル基そあるチオカルバミン酸誘導体が得ら九る。

この様にして得られた式（１−２）で示されるチオカル
バミン酸誘導体の反応混合物からの単離・精製は、通常
の有機反応において行なわれている単離・精製法と同様
にして行なうことができる。

例えば１反応混合物を氷水にあけ、エーテルなどの有機
溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・食塩水で順次洗浄し
、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製を行なうことにより精製物を取得
することができるが、精製全行なわずに粗生成物を次の
反応に用いることも可能である。

チオカルバミン酸誘導体（＋−２−４）のうち、式（＋
−２）において２２がイミダゾリル基であるチオカルバ
ミン酸誘導体は、低級アルコール、フェノール誘導体、
アラルカノールと反応させることにより、チオ炭酸エス
テル誘導体（１−２−５）に変換することができる。使
用さ九る低級アルコールとシテハ、メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコールなどが挙げらｎ、フェノ
ール誘導体としては、フェノール、クレゾールなどが挙
げられ、アラルカノールとしては、ベンジルアルコ−／
Ｉ／　ｆｚどが挙げられる。中いられる低級アルコール
、フエノール誘導体又はアラルカノールの使用量は、チ
オカルバミン酸誘導体（１−２−４）　１モルに対して
約１〜１００モルである。この反応は通常溶媒中で行な
われ、使用される溶媒としてはテトラヒドロフラン、ク
ロロホルムなど反応に関与しない溶媒より選ばれ、その
使用量はチオカルバミン酸誘導体（１−２−４）に対し
て約５〜２００倍重量である。反応は通常的Ｏ〜１００
℃の範囲内の温度で行なわれる。

また、チオ炭酸エステル誘導体（＋−２−５）は。

塩基性化合物の存在下にアルコール（＋−１）にクロル
チオ炭酸エステルを作用させることによっても得ること
ができる。ここで使用されるクロルチオ炭酸エステルと
しては、クロルチオ炭酸フェニルなどが挙げられ、その
使用量はアルコール（１−１）１モルに対して約１〜１
００モルである。

使用される塩基性物質としては、ピリジン、ジメチルア
ミノピリジンなどが挙げられ、その使用量［フルコール
（＋−１）１モルに対して約２〜１０００モルである。

反応は通常溶媒中で行なわれるが、使用される塩基性物
質を溶媒として用いることも可能であり、またアセトニ
トリルなどの反応に関与しない溶媒を用いることも可能
である。

溶媒の使用量は、アルコール（＋−１）の約５〜２００
倍重量である。

この様にして得られたチオ炭酸エステル誘導体（＋−２
−５）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反
応において行なわれている単離・精製法と同様にして行
なうことができる。例えば１反応混合物を氷水にあけ、
エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水・
食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物全得、再
結晶、りａマドグラフィーなどにより精製を行なうこと
により精製物を増得することができる。

７　ルコ−ル（ｌ　−１）　ノチオカルボン酸エステル
誘導体（＋−２−６）への変換は、第三級アミドとホス
ゲ／より調製したイミドイルクロリドメトクロリドと作
用させ、続いて塩基性物質存在下に硫化水素と反応させ
ることにより実施される。使用される第三級アミドとし
ては、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンズアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチル−ｐ−メトキシベンズアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
メチル−ｐ−メチルスルホニルベンズアミ）’、Ｎ、Ｎ
−ジメチルーｐニトロベンズアミドなどが挙げられ、そ
の使用量はアルコール（＋−１）１モルに対して約１〜
５モルである。反応は次のようにして行うのがｒｒＲ匣
である。アルコール（＋−１）１モルに対して、約１．
２〜２．０モルの第三級アミドと当量のホスゲンとより
調製したイミドイルクロリドメトクロリドを約１０〜５
０倍重量のクロロホルム、テトラヒドロフランなどの溶
媒に懸濁あるいは溶解し、約−３０〜０℃の範囲内の温
度に冷却し、この溶液にアルコール（＋−１）の約１０
〜５０倍重量のクロロホルム、テトラヒドロ７ランなど
の溶液を加え、約−１０〜１０℃の範囲内の温度で約５
分〜２時間攪拌し、約１〜５モルのピリジンを加え、乾
燥硫化水素ガスを通じることＫよりチオカルボン酸エス
テル誘導体（＋−２−６）を得ることができる。

この様にして得られたチオカルボン酸エステル誘導体（
１−２−６）の反応混合物からの単離・精製は、通常の
有機反応において行なわれている単離・精製法と同様に
して行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水に
あけ、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩市・重
ａ水・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を
得、再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製を行な
うことにより精製物を取得することができる。

アルコール（＋−１）のジチオ炭酸エステル誘導体（１
−２−７）への変換は、塩基性物質の存在下に二硫化炭
素と反応させ、生成する塩をアルキル化することにより
実施される。使用される塩基性物質としては水素化ナト
リウムなどの金属水素化物、ｎ−ブチルリチウムなどの
有機金属化合物、１．５−ジアザビシクロ（４３０１ノ
ナ−５−エン、１．８−ジアザビシクロ［５４０］ウン
デカ−７エンなどの有機塩基などが挙げられ、その使用
量はアルコール（＋−１）１モルに対して約１〜２０モ
ルである。使用されるアルキル化剤は、ヨウ化メチル、
ヨウ化エチル、臭化ベンジルなどのハロゲン化物、ジメ
チル硫酸などの硫酸エステルなどが挙げられ、その使用
量はアルコール（１１）１モルに対して約１〜１０モル
である。使用される二硫化炭素の１はアルコール（＋−
１）に対して約１〜１００モルである。この反応は通常
溶媒中で行なわ九、使用さｎる溶媒としてはテトラヒド
ロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド・など反応に
関与しない容媒が選ばれ、その使用量はアルコール（１
−１）の約５〜２００倍重量である。

また反し性を高めるためにヘキサメチルホスホリックト
リアミドなどを加えることも可能である。

アルコール（＋−１）１モル［対して、約１〜５モルの
塩基性物質及び約１０〜５０モルの二硫化炭素を約１〜
１００モルの溶媒中で、約１０〜７０℃の範囲内の温度
で、約３０分〜２４時間攪拌し、さらに同じ範囲内の温
度で約２〜１０モルのアルキル比剤’ｒ　７Ｊ［ｌえ３
０分〜１０時間攪拌してジチオ炭酸エステル誘導体（１
−２−７＞を得るのが好ましい０ この様にして得られたジチオ炭酸エステル誘導体（ｌ−
２−７）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機
反応において行なわ几ている単離・精製法と同様にして
行なうことができる。例えば、反応混合物を氷水にあけ
、エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸・重曹水
・食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、
再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製を行なうこ
とによりＩｎ”Ｍ物を取得することができる。

ｌα−ヒドロキシプロビタミン）誘導体（ｌ−１）又Ｖ
ｉ（１−２）の１α−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導
体（■−１）又ｔｉ（ＩＩ−２）への変換は、紫外線を
照射することにより行なわれる。使用される紫外線とし
ては、約２００〜３６０　ｎｍの波長範囲のものであり
、好ましくは約２６０〜３１０ｎｍの波長範囲のもので
ある。この反応は通常溶媒中で行なわれ、用いられる反
応溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン
、リフロイン、ベンセン、トルエン、キクレンなどの炭
化水素系溶媒、ブロムベンゼン、クロルベンゼン、四塩
化炭素、１、２−　ジクロルエタン、１．２−シフロム
エタンなヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルンルプ
などのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、フロ
パノールなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。反
応は、約−２０〜１２０℃の範囲内の温度、好ましくは
約−１０〜２０℃の範囲内の温度で実施される。

この様にして得られる１α−ヒドロキシプレビタミン）
誘導体＜　ｎ−ｉ　＞又は（ｔｌ−２）の単離・精製は
通常の有機反応における単離・精製法と同様にして行な
うことができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得
られる粗生成物を再結晶、クロマトグラフィーなどＫよ
り精製することにより精製物を得ることができる。なお
、精製することなく粗生成物を次の反応に用いることも
できる。

１α−ヒドロキシプレビタミン）誘導体（ｎ−１）　５
＜Ｈ（ＩＩ−２）の１α−ヒドロキシビタミンＤ３誘導
体（ＩＩＩ−１）又は（ＩＩＩ−２）への変換は、熱エ
ネルギーによる異性化により行なうことができる。

この異性化反応は、約２０〜１２０℃の範囲内の温度、
好ましくは約４０〜１００℃の範囲内の温度で行なわれ
る。反応は通常溶媒中で行なわれ、用いられる溶媒とし
ては、前述の紫外線照射において用いられる溶媒などが
挙げられる。

この様にして得られる１α−ヒドロキシビタミン）誘導
体（Ｉｌｌ−１）又は＜　Ｉｎ−２）の単離・精製は通
常の有機反応における単離・精製法と同様にして行なう
ことができる。例えば、反応液を減圧下に濃縮し、得ら
れる粗生成物を再結晶、クロマトグラフィーなどにより
精製することにより精製物を得ることができる。

また、前述の通り１α−ヒドロキシビタミン）誘導体（
＋［１−１）又は（ＩＩＩ−２）ｆ、得るにあたり、１
α−ヒドロキシプレビタミン）誘導体（ｌｌ−１）又は
（ｕ−２）は精製して取り出されていなくてもよい。し
たがって、１α−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（
＋−１）又は＜１−２）に前述のように紫外線を照射し
、次いで熱エネルギーにより異性化させることによって
も１α−ヒドロキシビタミン）誘導体（Ｉｌｌ−１）又
は（ＩＩＩ−２）を得ることができる。

本発明のステロイド誘導体から１α−ヒドロキシビタミ
ンＤ３　（下記式（Ｘ−１）で示される化合物〕は次の
ようにして誘導される。

以下余白 〔上記の式において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＸ２
はそれぞれｉｉｌ記定義と同じである。〕なお、一般式
（■）、（ＩＸ）、（Ｘ）及び（Ｘ−１）で示される化
合物を以後下記の如く称することがある。

（■）　　ｌα−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（
■）（■）１α−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体（
■）（Ｘ”）　　　　１α−ヒドロキシビタミンＤ３誘
導体（Ｘ）前述のようにして得られた１α−ヒドロキシ
プロビタミンＤ３　誘導体（１−２）、ｌα−ヒドロキ
シプレビタミンＤ３誘導体（ＩＩ−２）及び１α−ヒド
ロキシビタミンＤＪ誘導体（ＩＩＩ−２）は、２２立の
置換基を還元的に除去することにより、１α−ヒドロキ
シプロビタミンＤ３誘導体（■）、ｌα−ヒドロキシプ
レビタミンＤ３誘導体（ＩＸ）又は１α−ヒドロキシビ
タミンＤ３誘導体（Ｘ）にそれぞれ変換される。ここで
、原料として用いられる誘導体（１−２）、−・（ＩＩ
−２）及び（ＩＩｌ−２）は未鞘製のものでもよい。

２２泣の置換基かハロゲン原子である化合物（１−２−
１）、（■−２−１）文は（ＩＩＩ−２−１）は、プロ
トン源の存在下で金属により還元することにより、２２
位の置換基を除去することができる。使用される金属と
しては、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、亜鉛な
どが挙げられ、その使用量は該化合物１モルに対して約
１〜５０モルである。使用されるプロトン源とＲ７ては
、メタノール、エタノル％　ｔ−ブチルアルコールなど
の低級アルコール、酢酸、塩化アンモニウムなどが挙げ
られ、その使用面は該化合物１モルに対して約１〜１０
００モルである。反応は通常溶媒中で行なわれるが、フ
ロトン源をそのまま溶媒として用いても良く、またアン
モニア、メチルアミン、エチルアミン、テトラヒドロフ
ランなど反応に関与しない溶媒を用いることもできる。

反応は通常的−５０〜８０℃の範囲内の温度、好ましく
は約−３０〜２０℃の範囲内の温度で行なわれる。この
反応において。

該化合物の水酸基の保護基がアシル基又は低級アルコキ
シカルボニル基であり、金属としてリチウム、ナトリウ
ムなどを用いた場合、同時に脱保護反応も起？二９　、
式（■）１式＜ｒＸ）又は式（Ｘ）において　Ｒ３及び
／又はＲ４が水素原子である化合物が得られる。

２２位の置換基がスルホニルオキシ基である化合物（１
−２−２）、（ＩＩ−２−２）λは（ＩＩＩ−２−２）
は、金属水素化物錯体により還元することによって２２
位の置換基を除去することができる。使用される金属水
素化物錯体としては、水素化アルミニウム１チウム、水
素化トリエチルホウ素ナトリウム。

水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化トリメトキシア
ルミニウムリチウム、水素化トリｔ−ブトキシアルミニ
ウムリチウムなどが挙げられ、その使用量は該化合物１
モルに対して約０．５〜５０モルである。反応は通常溶
媒中で行なわれ、使用される溶媒上しては、ジエナルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどが
挙げられる。

反応は通常的０〜８０℃の温度範囲で行なわれる０゛こ
の反応において、該化合物の水酸基の保護基がアシル基
又は低級アルコキシカルボニル基である場合、同時に脱
保護反応も起こり１式（■）、式（ＩＸ）又は式（Ｘ）
において　Ｒ３及び／又はＲ４が水素原子である化合物
が得られる。

２２位の置換基がホスホリルオキシ基である化合物（１
−２−３）、　　（ＩＩ−２−３）スは（１−２−３）
は、アミン中で金属により還元することによって２２位
の置換基を除去することができる。使用される金属とし
ては、リチウム、ナトリウムなどが挙げられ、その使用
量は該化合物１モルに対して約１〜５０モルである。使
用されるアミンとしては、アンモニア２、メチルアミン
、エチルアミンなどが挙げられる。反応は通常的−５０
〜４０℃の温度範囲で行なわれる。この反応において、
該化合物の水酸基の保ｉＩ基がアシル基又は低級アルコ
キシカルボニル基である場合、同時に脱保護反応も起こ
り、式（■）１式（ＩＸ）又は式（Ｘ）において　Ｒ３
及び／又はＲ４が水素原子である化合物が得られる。

２２位の置換基がチオカルボニルオキシ化合物（１−２
−４〜７）、　（ｎ−２−４〜７）ズは（ＩＩＩ−２−
４〜７）は、水素化錫化合物により還元することによっ
て２２位の置換基を除去することができる。使用される
水素化錫化合物としては、水素化トリブチル錫、水素化
トリフェニル錫などが挙げられ、その使用量は該化合物
１モルに対して約２〜３０モルである。

反応は通常溶媒中で行なわれ、使用される溶媒としては
ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフランな
どが挙げられる。反応は通常約１０〜１５０℃の温度範
囲で行なわ九る。反応開始剤としてアゾビスイソブチロ
ニトリルなどを加えても良い。

ｌα−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導Ｋ　（ｎ−２）
は、熱エネルギーで異性化し、１α−ヒドロキシビタミ
ンＤ３誘導体を与える。従って、還元的に除去する反応
を室温以上の温度で行うことにより、該誘導体（ｌｌ−
２）の２２位の置換基を除去すると同時に熱エネルギー
による異性化を起こすこともできる０ また、１α−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（＋−
２）は、紫外線を照射され、ついで熱エネルギーで異性
化することによって１α−ヒドロキシビタミンＤ３誘導
体を与える。従って紫外線照射後、還元的に除去する反
応を室温以上の温度で行うことにより、該誘導体（＋−
２）の２２位の置換基を除去すると同時に熱エネルギー
による異性化を起こすこともできる。

この様にして得られた式（■）、式（ＩＸ）又は式（Ｘ
）で示される化合物の単離・精製は通常の有機反応に於
ける単離・精製法と同様にして行なうことができるが、
そのまま単離することなく次の反応を行なうこともでき
る。

１α−ヒドロキシプロビタミンＤ３誘導体（■）は前述
と同様の条件下で紫外線照射を行なうことによりｌα−
ヒドロキシプレビタミンＤ３誘導体（■）に変換するこ
とができ、さらに１α−ヒドロキシプレビタミンＤ３誘
導体（ＩＸ）は、前述と同様の条件下で熱エネルギーに
よる異性化を行なうことにより、１α−ヒドロキシビタ
ミンＤ３誘導体（Ｘ）に変換することができる。

１α−ヒドロキシビタミンＤ３誘導体（Ｘ）は必要に応
じて水酸基の脱保護を行なうことにより、１α−ヒドロ
キシビタミンＤ３　（Ｘ−１）に変換するととができる
。例えば、水酸基の保護基がアシル基あるいは低級アル
コキシカルボニル基である場合には、炭酸カリウムなど
の塩基性物質存在下に水又は低級アルコールと接触させ
ることによって。

保護基が三置換シリル基である場合には、フッ化テトラ
ブチルアンモニウムなどの存在下に水又は低級アルコー
ルと接触させることによって、保護基が置換基を有して
いても良いアルコキシメチル基の場合には、ｐ−トルエ
ンスルホン酸のよウナ酸触媒下に水或いは低級アルコー
ルと接触させることにより変換することができる。

〔実施例〕

以下に１本発明を実施例により具体的に説明するが１本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。

参考例１ １α、３β−ジアセトキシ−５α、８α−（３゜５−ジ
オキソ−４−フェニル−１，２，４−）リアシリジノ）
−コレスタ−６，２２−ジエン−２４−オール２．７４
２を１％ピリジンを含む塩化メチレン１００　ｍｌに溶
解し、ドライアイス−アセトン浴中にて冷却しながら攪
拌した。この溶液にドライアイス−アセトン浴中にて冷
却しながらオゾンガスを吹きこんで飽和させた１％ピリ
ジンを含む塩化メチレン４２５１１１を加えた。オゾン
の青色が消えたことを確認した後、ジメチルスルフィド
５　ｍｌ！を加え、浴を除き、室温まで加温した。冷２
％塩酸、水で順次洗浄した後硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。

濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製することにより、８８０■の１α。

３β−ジアセトキシ−５α、８α−（３，５−ジオキソ
−４−フェニル−１，２，４−トリアシリジノ）６−プ
レグネン−２０−カルブアルデヒドを得たＯ ’ＨＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ）δＣＤα３゜ＴＭ
Ｓ” ０．８７（８，３Ｈ）、　１．０１　（Ｓ、　３Ｈ）、
　１．１７（ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ。

３Ｈ）、１．９７及び１．９８　（いずれもｓ、６Ｈ）
、５．０３（弓　ｌＨ）、　５．８４（ｍ、　ＩＨ）、
　６．２８．６．４１（ＡＢｑ、　Ｊ＝８Ｈ２゜２Ｈ）
、　７．２〜７．５（ｍ、　５）１）、　９．５８（ｄ
、　Ｊ＝＝４Ｈｚ、　ＩＨ）参考例２ １α、３β−ジアセトキシ−５α、８α−（３゜５−ジ
オキソ−４−フェニル−１，２，４−）リアシリジノ）
−６−プレグネン−２０−カルブアルデヒド３０２ηに
２．１規定水酸化カリウム、９５％エタノール溶液を加
え、アルゴン雰囲気下に１．５時間加熱還流した。反応
液を冷却後、水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄し、硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥した。濃
縮後、残渣をエテルより再結晶することにより精製し、
１α。

３β−ジヒドロキシプレグナ−５，７−レニン−２０−
カルブアルデヒド１６３ｎｐｙを得た。

’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ、ｘ、ベクトル（９０ＭＨｚ）δＣＤ
Ｃ′３・ＴＭＳ’ ０．７１（Ｓ、　３Ｈ）、　０．９２（Ｓ、　３Ｈ）、
　１．０６（ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ。

３）１）、　３．２〜３．８（ｍ、　ＩＨ）、　４．０
〜４．３（ｍ、　ＩＨ）、　５．３〜５．５（ｍ、　Ｉ
Ｈ）、　５．６〜５．８（ｍ、　ＩＨ）、　９．５４（
ｄ、　ＩＨ）参考しｌ　３ １α、３β−ジアセトキシ−５αｌ　８α−（３゜５−
ジオキソ−４−フェニル−１，２，４−トリアシリジノ
）−６−プレグネン−２０−カルブアルデヒド１８１■
にコリジン３０ｍ１を加え、アルゴン雰囲気下で１５分
間加熱還流した。反応液を冷却後、酢酸エチルで抽出し
、１規定塩酸、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸す
）　ＩＪウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をカラムクロ
マトグラフィーによシ精製し、ｌα、３β−ジアセトキ
シプレグナ−５，７−レニン−２０−カルブアルデヒド
７３■を得た。

Ｃ館３゜ ＩＨＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ）δＴＭＳ’０．６
６（８，３Ｈ）、　１．０２（Ｓ、　３１（）、　１．
１５（ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ。

３Ｈ）、２．００及び２．０５　＜それぞれｓ、５Ｈ）
、４．５〜５．２（２Ｈ）、　５．４０（ｍ、　ＬＨ）
、　５．６５（ｍ、　ＩＨ）、　９．５８（ｄ、　Ｊ＝
３．５Ｈｚ、　ＩＨ） 参考例４ １α、３β−ジアセトキシプレグナ−５，７−レニン−
２０−カルブアルデヒドフ３グをメタノール２ｍ１ｌ＋
？：溶解し、炭酸カリウム５■を加え、室温で１２時間
攪拌した。反応液を水にあけ、エーテルで抽出し、食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残渣
をエーテルより再結晶することＫより参考例２で得られ
た１α、３β−ジヒドロキシプレグナ−５，７−レニン
−２０−カルブアルデヒドと同じ’ＨＮＭＲスペクトル
を与える参考例５ １α、３β−ジヒドロキシプレグナ−５，７−ジエン−
２０−カルブアルデヒド６９Ｗｑを塩化メチレンｌ　Ｒ
ｔに懸濁させ、ピリジン０．３ｄを加え、水冷下に攪１
′トシた。ジメチルアミノピリジン５１１１ｙを加え、
クロル炭酸メチル０．１５　ｗｅを滴下した。滴下終了
後、室温で１０時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、エ
ーテルで抽出した。抽出液を冷１規定塩酸、重曹水及び
食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、ｌα、３β−ビス（メトキシカルボ
ニルオキ、／）プレグナ−５，７−レニン−２０−カル
ブアルデヒド６１■を得た。

’ＨＮＭＲスペクト／’（９０ＭＨｚ）δＣＤα３・Ｔ
ＭＳ’ ０．６６（８，３Ｈ）、　１．０２（１３，３Ｈ）、　
１．１５（ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ。

３Ｈ）、３．７７及び３．７９　（いずれもＩｌ！＋　
６Ｈ）、　　４．６〜５．２Ｃ２Ｈ）、５．４０（ｍ、
ＩＨ）、５．６５（ｍ、ＬＨ）、９．５８（ｄ。

Ｊ＝＝３．５Ｈｚ、ＩＨ） 実施例１ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プレグ
ナ−５，７−シエンー２０−カルブアルデヒド１００■
をテトラヒドロフラン５　ｒｔｔｅに溶解し、アルゴン
雰囲気下撹拌した。この溶液に、テトラヒドロフラン２
０＃Ｉ／中でイソアミルプロミド０．２４ｄ及びマグネ
シウム５０■より調製したグリニアール試薬２．５　ｄ
を水冷下で加え、そのまま１５分間攪拌した。反応液を
冷塩化アンモニウム水溶液にあけ、エーテルで抽出した
。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、ｌα、３β−ビス（メトキシカルボニ
ルオキシ）コレスタ−５，７−シエンー２２−オール１
００■を得た。

ＣＣｌ４　。

’　ＨＮ　Ｍ　Ｒスヘクトル（９０ＭＨｚ）δＴＭＳ　
”０．６０（Ｓ、　３Ｈ）、　０．８３（ｄ、　Ｊ＝６
．５Ｈｚ、　３Ｈ）、　０．８２〜０．９６（９Ｈ）、
３．４７（弓ＩＨ）、３．６８及び３．７３（それぞれ
！！、　６Ｈ）、　４．５〜４．９（２Ｈ）、　５．２
８（ｍ、　ＩＨ）、　５．５８（ｍ、ｌＨ） 実施１シリ２ １α、３β−ジアセトキシプレグナ−５，７−レニン−
２０−カルブアルデヒド９４〜をテトラヒドロフラン５
　ｍｌに溶解し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却し
ながらアルゴン雰囲気下に攪拌した。この溶液に、テト
ラヒドロフラン２０ｔｘｌ中でイアイス−アセトン浴を
ドライアイス−四塩化炭素俗に代え、３０分間攪拌した
。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、攪拌しなが
ら室温まで加温した。エーテルで抽出し、抽出液を食塩
水で洗浄し、硫酸丈トリウム上で乾燥した。濃縮後。

シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製Ｃ１４ ’！−ＩＮＭＲスベｙトル（９０ＭＨ２）δＴＭＳ”０
．６１（Ｓ、３Ｈ）、０．８０〜１．００　（１２Ｈ）
、　１．９６及び２．０１（それぞれＳ、６Ｈ）、３．
４８（ｍ、ＩＨ）、４．４〜４．９（２Ｈ）。

ｓ、２９（ｍ、ＩＨ）、ｓ、６ｏ（ｍ、ｔＨ）実施例３ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）コレス
タ−５，７−レニン−２２−オール１８ｍ９を塩化メチ
レン０．５　ｍｌに溶解し、氷−メタノール浴中で冷却
しながら攪拌した。トリエチルアミン５０を μ嘱えた後、塩化メタンスルホニル１０μを加え、その
まま１５分間攪拌した。反応液を水にあけ、エーテルで
抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥
した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、１α、３β−ビス（メトキシカルボ
ニル）−２２−メタンスルホニルオキシコレスタ−５，
７−ジエン２１ηを得た。

’ＨＮＭＲスペク）／ｌ／（９αＭＨｚ）δＣＣｌ４　
　。

ＴＭＳ’ ０．５７（ｓ、　３Ｈ）、　０．８０〜１．０２（１２
Ｈ）、　２．８３（Ｓ、３Ｈ）。

３．６４及び３．７０　（それぞれｓ、　６Ｈ）ｔ　４
，４〜４．９（３Ｈ）。

５．３０（ｍ、　ＩＨ）、　５．５８（ｍ、　ＬＨ）実
１イ１１２す４ Ｉα、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）コレス
タ−５，７−シエンー２２−オール４９〜をＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１　ｍｌに溶解し、１．８ジアザビ
゛シクロ［５，４，０）ウンデカ−７−エン０、　ｌ　
＋＋／及び二硫化炭素１　’ｍｅを加え、室温で４時間
攪拌した。この反応液にヨウ化メチル１＃！＃を加え、
室温で更に１時間攪拌した。反応液を減圧下に濃縮し、
残直に水を加え、エーテルで抽出した。抽出液を食塩水
で洗浄し、硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥した。濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによシ精製
し、１α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−
２２−（メチルチオ）チオ力、ルポ、＝ルオキシコレス
ｐ　−ｓ、　７−　ジエン４５■を得た。

１１ＨＭＲスペクトル（９０ＭＩＩｚ）δＣＣ１ａ　。

ＴＭＳ’ ０．５８（１１，３Ｈ）、　０．７７〜１．０７（１２
Ｈ）、　２．４７　（ｓ、　３Ｈ）、３．６５及び３．
７１　（それぞれｓ、　６Ｈ）、　　４．５〜５．１（
２）１）、　５．３２（ｍ、　１Ｂ）、　５．５〜５．
７（２Ｈ）実施例５ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−２２
−メタンスルホニルオキシコレスタ−５，７−ジエン１
７７〜をエーテル４００　ｍｌに溶解し、アルゴンを通
じながら、水浴中で冷却した。この溶液に４００Ｗ高圧
水銀灯を用い、１０分間紫外線照射した。反応液を減圧
下濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、１α−メトキシカルボニルオキシ−２２−
メタンスルホニルオキシブレコレカルシフェロール−３
β−メトキシカルボナート１７■を得た。

０．７０（ｓ、３Ｈ）、１．６４（ｓ、３Ｈ）、２．８
２（８，３Ｈ）。

３．６６及び３．６９　（それぞれｓ、　５１（）、　
４．４〜４．９（ｍ、　ＩＨ）。

４．８〜ｓ、２（ｍ、　Ｉｆ−１）、　５．２〜５．６
（２Ｈ）、　５．８３（ｂｒ、ｓ、２Ｈ）実施例６ １α−メトキシカルボニルオキシ−２２−メタンスルホ
ニルオキシプレコレカルシフェロール−３β−メトキシ
カルボナート５〜をテトラヒドロフラン２　ａｔに溶解
し、２時間加熱還流した。反応液を冷却後、濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精環し、１α
−メトキシカルボニルオキシ−２２−メタンスルホニル
オキシコレカルシフェロール−３β−メトキシカルボナ
ート３ηを得た。

ＩＩＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ）δＣＤα３・ＴＭ
Ｓ’ ０．５５（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８（ｄ、　Ｊ＝５Ｈ
ｚ、　９Ｈ）、　２．８３（ｓ。

３Ｈ）、３．６６及び３．６８　（それぞれＳ、６Ｈ）
、４．５〜５．０５（４ｋｌ）、　　５．２８（ｂｒｈ
ｓ、　ｌｌ−１）、　　５．８１　（ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ
、　ＩＨ）。

６．２４（ｄ、　Ｊ＝１１Ｈｚ、　ＩＨ）実施例７ 実施例５において１α、３β−ビス（メトキシカルボニ
ルオキシ）−２２−メタンスルホニルオキンフレスタ−
５，７−ジエン１７７■の代ワリニ、ｌα、３β−ビス
（メトキシカルボニルオキシ）２２−（メチルチオ）チ
オカルボニルオキシコレスタ−５，７−ジエン１５０■
を用い、照射時間を５分間とする以外は、同様にして操
作を行なうことにより、１α−メトキシカルボニルオキ
シ−２２−（メチルチオ）チオカルボニルオキシプレコ
レカルシフェロール−３β−メトキシカルボナート１６
りを得た。

ＣＤα３゜ ＩＨＮＭＲスペクトル（９ＱＭＨｚ）δＴＭＳ’０．７
（Ｓ、　３Ｈ）、　１．６５（１，３Ｈ）、　２．４７
（Ｓ、　３Ｈ）。

３．６８及び３．７０　（それぞれｓ、　６Ｈ）、　４
．８〜５．２（ｒｒｌ、ＩＨ）。

５．２〜５．７　（３）１）、　５．８２　（ｂｒ、ｓ
、　２Ｈ）実施例８ 実施例６においてｌα−メトキシカルボニルオキシ−２
２−メタンスルホニルオキシプレコレカルシフェロール
−３β−メトキシカルボナート５■の代わりに１α−メ
トキシカルボニルオキシ−２２−（メチルチオ）・チオ
カルボニルオキシプレコレカルシフェロール−３β−メ
トキシカルボナート５■を用いる以外は同様にして操作
を行なうことにより、１α−メトキシカルボニルオキシ
−２２−（メチルチオンチオカルボニルオキシコレカル
シフェロール−３β−メトキシカルボナート２．８■を
得た。

’ＨＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ）δＣＤα３゜ＴＭ
Ｓ’ ０．５５（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８（ｄ、　Ｊ＝６Ｈ
ｚ、　ｇＨ）、　２．４８（８゜３Ｈ）、３．６７及び
３．７０　（それぞれ８，６Ｈ）、４．５０〜５．０５
（３Ｈ）、５．２８（ｂｒ、８．ＩＨ）、５．６０（ｒ
Ａ　　ＩＨ）、　　５．８１（ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ、ＩＨ
）、６．２４（ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ、ＩＨ）実施ルす９ １α−メトキシカルボニルオキシ−２２−メタンスルホ
ニルオキシコレカルシフェロール−３βメトキシカルボ
ナート２岬をテトラヒドロフラン０．５　Ｗｌｇに溶解
し、アルゴン雰囲気下氷冷しながら攪拌した。水素化ト
リエチルホウ素リチウムの１モルテトラヒドロフラン溶
液９．２ｍｌを加え、さらにヘキサメチルホスホリック
トリアミド０．０５ｍ１加え、室温で２４時間攪拌した
。反応液に水冷下水を加え、減圧下濃縮した。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィーにより精製し、ｌα−
ヒドロキシコレカルシフェロール０．８ＷｑｌＩた。

’ＩＩＮＭＲ（９０ＭＨｚ）δＣＤα３・ＴＭＳ” ０．５５（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８（ｄ、　Ｊ＝６Ｈ
ｚ、　９Ｈ）、　４．０〜４．５（２Ｈ）、　４．９３
（ｂｒ、ｓ、　ＩＨ）、　５．３０（ｂｒ、ｓ、　ＩＨ
）。

５．９７（ｄ、　Ｊ＝ｌＩＨｚ、　ＩＨ）、　６．３５
（ｄ、　Ｊ＝１１Ｈｚ、　ＩＨ） 実力布１シリ　１０ １α−メトキシカルボニルオキシ−２２−（メチルチオ
）チオカルボニルオキシコレカルシフェロール−３β−
メトキシカルボナー）１ｑを）ルエンｌ　ａｔに溶解し
、アルゴン雰囲気下室温で攪拌した。水素化トリｎ−ブ
チルスズｌＯμｌ及びアゾビスイソブチロニトリル触媒
量を加え８０℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、減
圧下に濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ーにより精製し、ｌα−メトキシカルボニルオキシコレ
カルシフェロール−３β−メトキシカルボナ−）　０．
５■を得た。

’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ）δＣＤα３・ＴＭＳ” ０．５５（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８（ｄ、　Ｊ＝５Ｈ
ｚ、　９１（）、　３．６７及び３．７０　（それぞれ
ｓ、　６）１）、　４．５０〜５．０５（３Ｈ）、５．
２８（ｂｒ、ｓ、　ＩＨ）、　５．８１（ｄ、　Ｊ＝１
１Ｈｚ、　１ｌ−１）、　６．２４（ｄ。

Ｊ＝ｌｌＨｚ、　ＩＩ（） 参考例６ １α−メトキシカルボニルオキシコレカルシフェロール
−３β−メトキシカルボナート０．５■をメタノール０
．１　ａｔに溶解し、炭酸カリウム約２＃Ｉｙを加え、
室温で１２時間攪拌した。トルエンを加え、減圧下に濃
縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーによ
り精製することＫよシ、実施例９で得られたｌα−ヒド
ロキシコレカルシフェロールと同じ’ＨＮＭＲスペクト
ルを与える１α−ヒドロキシコレカルシフェロール０．
３■ヲ得７’Ｃ０以下余白 実施例１１ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−２２
−メタンスルホニルオキシコレスタ−５，７−ジエン１
５０”９をエーテル４００ｍ１に溶解し。

アルゴンを通じながら、水浴中で冷却した。この溶液に
４００Ｗ高圧水銀灯を用いて５分間紫外線照射した。反
応液を減圧下に濃縮し、残渣にテトラヒドロフラン１Ｏ
Ｉ１１／を加え、アルゴン雰囲気下２時間加熱還流した
。反応液を冷却後、減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、実施例６で得
られたものと同じ’ＨＮＭＲスペクトル　を与える１α
−メトキシカルボニルオキシ−２２−メタンスルホニル
オキシコレカルシフェロール−３β−メトキシカルボナ
ート８〜を得た。

実施例１２ １α−メトキシカルボニル−２２−（メチルチオ）チオ
カルボニルオキシプレコレカルシフェロール−３β−メ
トキシカルボニル）１０ＷＩｙをトルエン５ゴに溶解し
、アルゴン雰囲気下に室温で攪拌した。この溶液に水素
化トリｎ−ブチルスズ４０／Ｌｔ及び触媒量のアゾビス
インブチロニトリ次を加え、８０℃で２時間攪拌した。

反応液を冷却後減圧下に濃縮し、残渣を７リ力ゲル薄層
クロマトグラフィーによシ精製し、実施例１０で得られ
た１α−メトキシカルボニルオキシコレカルシフェロー
ル−３β−メトキシカルボナートと同じ’ＨＮＨＲを与
えるｌα−メトキシカルボニルオキシコレカルシフェロ
ール−３β−メトキシカルボナート４Ｆｎｇを得た。

実施例１３ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−２２
−，７１タンスルホニルオキシコレスタ−５，７−ジエ
ン１００〜をエーテル３５０＊／に溶解し、アルゴンを
通じながら、水浴中冷却した。この溶液に４００Ｗ高圧
水銀灯を用いて、５分間紫外線１）１射した。反応液を
減圧下濃縮し、残渣にテトラヒドロフラン５ｘｅ、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミドＱ、　ｌ　ｍｌ及び１
モル水素化トリエチルホウ素リチウムテトラヒドロフラ
ン溶液１＃ｌ／を加え、アルゴン雰囲気上室温で４８時
間攪拌した。過剰の水素化トリエチルホウ素リチウムを
水で分解した後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによシ精製し、実施例９で得られ
７’ｃｌα−ヒドロキシコレ力ルシフエロールト同じ１
ＨＮＭＲスペクトルを与えるｌα−ヒドロキ７コレ力ル
シフエロール７〜ヲ得り。

実施例１４ １α、３β−ジアセトキシコレスタ−５，７−レニン−
２２−オール１２０グ及びＮ、Ｎ’−チオカルボニルジ
イミダゾール１００〜をテトラヒドロフラン３ｄに溶解
し、４時間加熱還流した。反応液を冷却後、水にあけ、
エーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、ｌα、３β−ジアセトキシ−２２−
（イミダゾリル）チオカルボニルオキシコレスタ−５，
７−ジエン１１０■が得られた。

’ＨＮＭＲｘ　ヘｙトｋ　（９０ＭＨｚ　）　　δＣＤ
α３・ＴＭＳ　　” ０．６１　（ｓ　、　３）ｔ）　、　０．８〜１．０（
１２Ｈ）。

１．９６及び２．００（それぞれｓ、５Ｈ）。

４．４〜４．９（２Ｈ）、５．４２（ｍ、ＩＨ）、５．
３０（ｍ、ＬＨ）。

５．６０（ｍ、１）Ｉ）、７．０２（Ｓ、Ｉｆ（）、７
．６２（Ｓ、ＩＨ）。

８．３３（ｓ、ＩＨ） 実施例１５ １α、３β−ジアセトキシ−２２−（イミダゾリル）チ
オカルボニルオキシコレスタ−５，７−ジエンｔ　ｏ　
ｏｍｇをエーテル４００ｍ１に溶解し、アルゴンを通じ
ながら水浴中冷却した。この溶液に４００Ｗ高圧水銀灯
を用いて５分間紫外線照射した。反応液を減圧上濃縮し
、残漬にトルエン５　ｍｅ加え、アルゴン雰囲気上室温
で攪拌した。水素化トリｎ−ブチルスズ９．２ｍｌ及び
ｓ媒ｉｔｏアソヒスイソブナロニトリルを加え、８０℃
で３時間攪拌した。反応液を冷却後、減圧上濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１α
−アセトキシコレカルシフェロール−３β−ア七タート
６〜を得た。

’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ　）δＣＤα３゜ＴＭＳ　　’ ０．５５（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８　（ｄ、　Ｊ＝６
Ｈｚ、　９Ｈ）。

１．９８及び２．０１　（それぞれｓ、６Ｈ）。

４．５０〜５．０５（３Ｈ）、　５．２８（ｂｒ、Ｓ、
　１）（）。

５．８０（ｄ、Ｊ＝ｌ　ｌＨｚ、ＩＨ）。

６．２３（ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ、１）Ｉ）実施例１６ １α、３β−ジアセトキシコレスタ−５，７−レニン−
２２−オールＩＯ岬をピリジンＱ、ｌ　ｍｅに溶イ１、
よ冷ＴＫＥ臭イｂ　ｖ　ノＶ。□４カ。え、ヤ。１３０
分間攪拌した。反応液を冷希塩酸にあけ、エーテルで抽
出し、抽出液を重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸す
１１ウム上で乾燥した。濃縮後、シリカゲル薄層クロマ
トグラフィーにより精製し、ｌα、３β−ジアセトキシ
−２２−フロムコレスタ−５，７−ジエン５■を得た。

ＣＤα３゜ ’ＨＮＭ　Ｒ（９、ＯＭＨｚ　）　　δＴＭＳ　　’０
．６１　（ｓ、　３Ｈ）　、　０．８０〜１．００（１
２Ｈ）。

１６９６及び１．９９　（それぞれｓ、　６Ｈ）。

３．４０（ｍ、　ＩＨ）、　４．４〜４．９（２Ｈ）、
　５．３０（ｍ、　ＩＨ）。

５．６１（ｍ、　１）（） 参考例７ １α、３β−ヒドロキシプレグナ−５，７−レニン−２
０−カルブアルデヒド６’Ｊ９をＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミドｌ　ｍｅに溶解し、イミダゾール０．２ｙを加
え、塩化ｔ−ブチルジメチルシリル０．２ｙを加え、室
温で２０時間攪拌した。反応液を水にあけ、エーテルで
抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、１αｌ　３β−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）プレグナ−５，７−レニン
−２０−カルブアルデヒド７５〜．を得た。

’ＨＮＭＲ，ｚ、ベクトル（９０ＭＨｚ）　　δＣＤα
３・ＴＭＳ　　’ ０．１１及び０．１３（それぞれ３．１２Ｈ）。

０．７０（ｓ、　３Ｈ）、　０．８８（ｓ、　３Ｈ）。

０．９５及び０．９６　（それぞれｓ、１８Ｈ）。

１．１５（ｄ、　Ｊ　＝６．４Ｈｚ、　３Ｈ）、　４．
１〜４．５（２Ｈ）。

５．３９（ｍ、　ＩＨ）、　５．６４（ｍ、　ＩＨ）。

９．５５（ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ、　ＩＨ）参考例８ １α、３β−ジヒドロキシプレグナ−５，７−ジエン−
２０−カルブアルデヒド６９ηをＮ、　Ｎ−ジインプロ
ピルエチルアミン０．５コに溶解し、クロルメチルメチ
ルエーテル２０■を加え室温で２４時間攪拌した。反応
液を冷希塩酸にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を重
曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸すｌ−ＩＪウム上で
乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製することにより、Ｉα、３β−ビス
（メトキシメトキシ）プレグナ−５，７−レニン−２０
−カルブアルデヒド７０■を得た。

’ＨＮＭＲスペクトル（９０ＭＩ（ｚ　）　　δＣＤα
３゜ＴＭＳ　　” ０．６６（Ｓ＋　３Ｈ）、０．９２（ｓ、３Ｈ）。

１．１４（ｄ、　Ｊ　＝６Ｈｚ、　３Ｈ）。

３．３０及び３．３４（それぞれｓ、６Ｈ）。

４．０〜４．４（２Ｈ）、　４．７５〜４．８５（４Ｈ
）。

５．３８（ｍ、　ＩＨ）、　５．６４（ｍ、　ＩＨ）。

９．５６（ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ、　ＬＨ）実施例１７ 実施例１において、Ｉα、３β−ビス（メトキシカルボ
ニルオキシ）フレブナ−５，７−シｘ　７−２０−カル
ブアルデヒド１０（ｕｓ’の代わりに１α。

３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フレブ
ナ−５，フージニンー２０−カルブアルデヒド１２０ｍ
９を用いる以外は同様にして操作を行なうことにより、
ｌα、３β−ビス（ｔ−プチルジメテルンリルオキ７）
コレスタ−５，７−レニン−２２−オール１２１ｑを得
た。

０．１１及び０．１３　（それぞれＳ、　６Ｈ）１０．
６０（ｓ、　３Ｈ）、　０．８０−１．００（２７Ｈ，
（０，９５及び０．９７．それぞれｓ、ＩＢＭを含む〕
）。

３．４６（ｍ、　ＩＨ）、　４．１〜４．５（２Ｈ）、
　５．３０（ｍ、　ＩＨ）。

５．５９（ｍ、　ＩＨ） 実施例１８ 実施例１においてｌα、３β−ビス（メトキ７カルポニ
ルオキシ）プレグナ−５，７−シ１７−２０−カルブア
ルデヒド１００■の代わりに、１α、３β−ビス（メト
キシメトキシ）プレグナ−５，７−レニン−２０−カル
ブアルデヒド９５キを用いる以外は同様にして、操作を
行なうことによシ、１α、３β−ビス（メトキシメトキ
シ）コレスタ−５，７−レニン−２２−オール１０５〜
を得た。

ｌＨＮＭ　Ｒ（９０ＭＨｚ　）δＣＬ）α３゜ＴＭＳ　
　” ０．６０　（３，３Ｈ）、　０．８０〜１．００　（９
ｆ（）　。

３．３１及び３．３５　（それぞれＳ、５Ｈ）。

３．４５（ｍ、　ＩＨ）、　４．１〜４．５（２Ｈ）、
　４．７〜４．９（４Ｈ）。

５．３０（ｍ、　ＩＨ）、　５．６０（ｍ、　ＩＨ）〔
発明の効果〕 本発明により一般式（１）、　　（ＩＩ）及び（Ｉ［Ｉ
）で示される新規なステロイド誘導体並びにその製造方
法が提供される。

また、本発明により該ステロイド誘導体から１α−ヒド
ロキシビタミンＤ３またはその誘導体（Ｘ）を製造する
方法が提供される。ｌα−ヒドロキシビタミンＤ３はカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療剤として有効である。

特許出願人　株式会社　り　ラ　し

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ水素原子、アシル
   基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
   置換基を有していても良いアルコキシメチル基を表わし
   、Ｘ＾１は水酸基、ハロゲン原子、低級アルカンスルホ
   ニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基又は−ＯＹ
   基を表わし、ここでＹは−Ｐ（＝Ｏ）（Ｚ＾１）＿２基
   又は−Ｃ（＝Ｓ）Ｚ＾２基を表わし、Ｚ＾１は低級アル
   コキシ基、アレノキシ基又は置換アミノ基を表わし、Ｚ
   ＾２は低級アルコキシ基、アレノキシ基、アラルコキシ
   基、置換アミノ基、低級アルキル基、アリール基、アラ
   ルキル基又はヒドロカルビルチオ基を表わす。〕 で示される１α−ヒドロキシプロビタミンＤ＿３誘導体
   。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシプレビタミンＤ＿３誘導体
   。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体。 ４、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシプロビタミンＤ＿３誘導体
   に紫外線を照射することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシプレビタミンＤ＿３誘導体
   の製造方法。 ５、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシプレビタミンＤ＿３誘導体
   を熱エネルギーにより異性化させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の製
   造方法。 ６、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシプロビタミンＤ＿３誘導体
   に紫外線を照射し、次いで熱エネルギーにより異性化さ
   せることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１はそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２及びＸ＾１と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の製
   造方法。 ７、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ請求項１記載のＲ
   ＾１及びＲ＾２と同じであり、Ｘ＾２はハロゲン原子、
   低級アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニル
   オキシ基又は−ＯＹ基を表わし、ここでＹは請求項１記
   載のＹと同じである。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の２
   ２位の置換基を還元的に除去することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３及びＲ＾４はそれぞれ水素原子、アシル
   基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
   置換基を有していても良いアルコキシメチル基を表わす
   。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の製
   造方法。 ８、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ請求項１記載のＲ
   ＾１及びＲ＾２と同じであり、Ｘ＾２は請求項７記載の
   Ｘ＾２と同じである。〕 で示される１α−ヒドロキシプレビタミンＤ＿３誘導体
   の２２位の置換基を還元的に除去するとともに熱エネル
   ギーにより異性化させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３及びＲ＾４はそれぞれ請求項７記載のＲ
   ＾３及びＲ＾４と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の製
   造方法。 ９、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ請求項１記載のＲ
   ＾１及びＲ＾２と同じであり、Ｘ＾２は請求項７記載の
   Ｘ＾２と同じである。〕 で示される１α−ヒドロキシプロビタミンＤ＿３誘導体
   に紫外線を照射し、次いで２２位の置換基を還元的に除
   去するとともに、熱エネルギーにより異性化させること
   を特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３及びＲ＾４はそれぞれ請求項７記載のＲ
   ＾３及びＲ＾４と同じ。〕 で示される１α−ヒドロキシビタミンＤ＿３誘導体の製
   造方法。