WO2012127966A1 - ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置 - Google Patents

ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2012127966A1
WO2012127966A1 PCT/JP2012/054184 JP2012054184W WO2012127966A1 WO 2012127966 A1 WO2012127966 A1 WO 2012127966A1 JP 2012054184 W JP2012054184 W JP 2012054184W WO 2012127966 A1 WO2012127966 A1 WO 2012127966A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
lamp
plate
light
mirror
back side
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/054184
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
小川　大輔
哲国 森川
一吉 山田
克巳 木村
Original Assignee
岩崎電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 岩崎電気株式会社 filed Critical 岩崎電気株式会社
Publication of WO2012127966A1 publication Critical patent/WO2012127966A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70141—Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources

Definitions

  • the present invention relates to a lamp position adjusting method, a lamp position adjusting tool, and an irradiation device, and more particularly to a technique for facilitating lamp position adjustment.
  • a mechanism capable of easily adjusting the position of the lamp is required in order to maintain the target illuminance and illuminance distribution on the irradiation surface particularly during maintenance such as lamp replacement. Therefore, for example, in the alignment of the lamp of the exposure apparatus, the operator visually observes the image of the cathode or anode of the lamp using a pinhole and the arc monitor plate, and puts the lamp cathode or anode at a predetermined position on the arc monitor plate.
  • a lamp position adjustment method is adopted in which the lamp position is adjusted so that the image of the anode comes (for example, Patent Document 1).
  • the conventional lamp position adjustment method has a problem in that it is difficult to determine the direction of deviation of the lamp position and to determine the lamp position when visually adjusting the image on the arc monitor plate.
  • the present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a lamp position adjusting method, a lamp position adjusting tool, and an irradiation device that facilitate the visual adjustment of the lamp position.
  • the present invention provides a lamp and a lamp position adjusting method for an irradiating apparatus that outputs a light beam collected by the light collecting mirror, the lamp and a light collecting mirror that collects light from the lamp.
  • a diffuser plate that diffuses and transmits the condensed image at the focal position of the condenser mirror, and a neutral density filter having a higher transmittance at the central portion than that at the peripheral portion is aligned with the optical axis of the luminous flux.
  • an indicator plate is arranged on the back side of the neutral density filter, and the position of the lamp is adjusted based on the light spot of the condensed image of the diffuser plate projected on the indicator plate. It is characterized by that.
  • the present invention is characterized in that, in the lamp position adjusting method, the light flux of the condenser mirror is incident on the diffuser plate through an annular slit plate centered on the optical axis.
  • the present invention includes a lamp and a condensing mirror that condenses the light of the lamp, and adjusts the lamp position of the irradiation device that outputs the light beam condensed by the condensing mirror.
  • a diffuser plate that is disposed at a focal position of the condenser mirror and diffuses and transmits the condensed image, and has a central portion with a higher transmittance than that of the peripheral portion.
  • a neutral density filter disposed on the back side of the diffuser plate in accordance with the optical axis of the diffuser plate, and a condensed image of the diffuser plate disposed on the reverse side of the neutral density filter is projected, and a target position of the condensed image is assigned.
  • an indicator plate disposed on the back side of the diffuser plate in accordance with the optical axis of the diffuser plate, and a condensed image of the diffuser plate disposed on the reverse side of the neutral density filter is projected, and a target position of the condensed image is assigned
  • the present invention comprises a lamp and a condensing mirror that condenses the light of the lamp, and an irradiation device that outputs a light beam condensed by the condensing mirror.
  • the lamp position adjusting tool is disposed at the focal position of the condensing mirror and diffuses and transmits the condensed image, and the transmittance of the central part is the peripheral part.
  • a neutral density filter disposed on the back side of the diffuser plate with the center portion aligned with the optical axis of the light beam, and a condensed image of the diffuser plate disposed on the back side of the neutral density filter.
  • an indicator plate to which the target position of the focused image is attached.
  • a neutral density filter having a higher transmittance in the central portion than that in the peripheral portion is disposed so that the central portion is aligned with the optical axis of the light flux of the condenser mirror, and an indicator plate is disposed on the back side of the neutral density filter. Therefore, the light spot formed by projecting the condensed image of the diffuser on the indicator plate is located at the center and has the maximum brightness when there is no lamp misalignment. The lamp can be easily positioned while visually confirming the change in luminance.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a lamp position adjustment system.
  • FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the arc monitor system.
  • FIG. 3 is a diagram schematically illustrating the neutral density filter.
  • 4A and 4B are schematic diagrams showing the light spots of the condensed image on the indicator plate.
  • FIG. 4A shows a case where there is no lamp position deviation
  • FIG. 4B shows a case where the lamp position is shifted only in the Z-axis direction.
  • (C) shows a case where the position of the lamp is shifted in the XY-axis direction.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the lamp position adjustment system 1
  • FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the arc monitor system 18.
  • the lamp position adjustment system 1 is a system for adjusting the position of the lamp 12 of the irradiation apparatus 10 having the lamp 12 and the condenser mirror 14, and includes an XYZ axis adjustment mechanism 16, a transmission plane mirror 17, an arc monitor. System 18.
  • a mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used as the lamp 12 of the irradiation device 10.
  • a condensing mirror 14 that condenses and outputs the radiated light from the lamp 12 is provided around the lamp 12.
  • the condensing mirror 14 is, for example, an elliptical mirror, and the lamp 12 is arranged so that the arc position of the lamp 12 is aligned with the first focus f1 located in the mirror surface, and the light flux H collected at the second focus is collected. Output.
  • the XYZ axis adjustment mechanism 16 adjusts the position of the lamp 12 in the condenser mirror 14 independently of the positions of the X axis, the Y axis, and the Z axis that are orthogonal to each other in the X axis direction.
  • 16A, the X-axis stage 16A moving in the Y-axis direction, the Y-axis stage 16B moving in the Y-axis direction, and the Z-axis stage 16C moving in the Z-axis direction are stacked.
  • the end 12A of the lamp 12 is fixed to these uppermost layers 16D, and the three axes of the lamp 12 can be adjusted by individually moving the stages 16A to 16C.
  • the Z axis is the optical axis K of the condenser mirror 14.
  • the transmission plane mirror 17 is a plane mirror disposed on the optical axis K of the irradiation device 10 (condensing mirror 14) and between the irradiation device 10 and the second focal point f2, and a part of the incident light beam H. And the light flux H1 for monitoring in the arc monitor system 18 is transmitted.
  • the light beam H2 reflected by the transmissive flat mirror 17 is disposed with its end face aligned with the second focal point f2 in the illustrated example, according to the irradiation target of the irradiation device 10 and the intended use of the irradiation device 10. Is incident on the rod integrator 20).
  • the reflective flat mirror 30 directs the optical path of the light beam H ⁇ b> 2 that has passed through the transmissive flat mirror 17 to the arc monitor system 18.
  • the arc monitor system 18 is a system for visually observing a deviation between the arc position of the lamp 12 and the first focal point f1 of the condenser mirror 14, and includes an annular slit 31, an arc monitor plate 32, and a neutral density filter. 33, an indicator plate 34, an observation magnifying lens 35, a UV-IR cut filter 36, and a visual dark filter 37, which are arranged along the optical axis K in this order.
  • the arc monitor plate 32 is a plate material having a uniform diffusion effect in the plane, and an incident surface (diffusion surface) is disposed at the second focal point f2 of the condenser mirror 14 as shown in FIG.
  • an incident surface diffusion surface
  • the indicator plate 34 has a plurality of concentric lines 50 on the surface (back surface) opposite to the incident side surface (front surface) and a center O ⁇ b> 2 of each concentric line 50. It is a plate drawn with the cross line 51 as an indicator for lamp alignment, and is arranged with its center O2 aligned with the optical axis K, and a condensed image transmitted through the arc monitor plate 32 is projected to form a light spot.
  • the indicator plate 34 has such transparency that the light spot can be viewed from the back side.
  • the observation magnifying lens 35 is a lens that enlarges the light spot position of the indicator plate 34 to make it easier to see.
  • the observation point magnifying lens 35 passes through the observation magnifying lens 35 and the cross point 51, The adjustment is performed while comparing with the concentric line 50. That is, when adjusting the positional deviation of the lamp 12 in the XY axis direction, the center of the light spot is adjusted so as to come to the cross line 51 and the center O2 of the concentric circle line 50, and the lamp 12 is adjusted in the Z axis direction.
  • the light spot is adjusted so that the size of the light spot is a predetermined size (for example, the concentric circle 50 having the smallest diameter).
  • the UV-IR cut filter 36 protects the eyes by cutting off ultraviolet rays and infrared rays.
  • the UV-IR cut filter 36 can be arranged at an arbitrary position on the optical axis K of the arc monitor system 18.
  • the visual darkening filter 37 reduces the luminance of the light spot on the indicator plate 34 to facilitate visual observation.
  • the annular slit 31 is a slit plate having an annular transmission window 38, and is a shielding material so as to form the annular transmission window 38 on the surface of the transparent plate 31A (FIG. 1). 39 is provided.
  • the annular slit 31 is arranged so that the annular center O1 of the annular transmission window 38 is aligned with the optical axis K, and the central shielding portion 40 formed by the inner diameter of the annular transmission window 38 blocks the central portion of the cross section of the light beam H2.
  • a hollow beam H4 is formed.
  • the diameter r2 on the outer peripheral side of the annular transmission window 38 is formed in accordance with the cross-sectional diameter of the light beam H3 when the lamp 12 is disposed at an appropriate position, and the diameter r1 of the central shielding part 40 is the annular transmission window. It is formed in such a size that it can transmit a sufficient amount of light from 38 to the subsequent stage.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing the neutral density filter 33.
  • the neutral density filter 33 is an ND filter having an opening 43 at the center O3. Due to the opening 43 of the center O3, the transmittance Ta of the central portion 33A is higher than the transmittance Tb of the peripheral portion 33B.
  • the diameter r3 of the central portion 33A is formed in accordance with the cross-sectional diameter of the light beam H3 when the lamp 12 is disposed at an appropriate position.
  • any filter can be used as long as the central portion 33A has higher transmittance than the peripheral portion 33B.
  • the apodizing is such that the transmittance decreases as the distance from the center O3 increases.
  • An ND filter can be used.
  • the neutral density filter 33 is arranged with the center O3 aligned with the optical axis K. Then, when the light beam H4 is passed through the neutral density filter 33, if the lamp 12 is misaligned in the XY axis direction, the light passes through the position outside the opening 43 of the neutral density filter 33. Since the condensed image is dimmed to create a light spot on the indicator plate 34, the luminance of the condensed image during visual observation is lower than when there is no positional deviation in the XY axis direction. The positional deviation in the XY axis direction can be grasped and easily adjusted based on the presence or absence of such luminance reduction.
  • the arc monitor system 18 When the operator replaces the lamp 12 of the irradiation apparatus 10, the arc monitor system 18 performs adjustment while visually confirming the positional deviation of the lamp 12 after the lamp 12 is replaced.
  • the light spot L of the condensed image is located at the center O2 of the indicator plate 34 as shown in FIG.
  • the brightness is the highest.
  • the position of the lamp 12 is shifted only in the Z-axis direction, the light spot L of the condensed image is located at the center O2 of the indicator plate 34 as shown in FIG.
  • the slit 31 is hollowed out and the brightness is lowered as a whole, and the size of the light spot L is larger than that when there is no deviation (FIG. 4A). Further, when the light spot L becomes large, a portion that protrudes from the opening 43 of the neutral density filter 33 is generated, and even when part of the light spot L is reduced, the luminance of the light spot L is lowered.
  • the light spot L of the condensed image is the center O2 of the indicator plate 34 as shown in FIG.
  • the brightness of the light spot L is also reduced by the neutral density filter 33 and becomes low. That is, the deviation in the XY-axis direction can be easily grasped by visual observation from the two factors of the positional deviation from the center O2 of the light spot L and the decrease in luminance.
  • FIGS. 4A to 4C corresponds to the light spot L of the condensing point, specifies the direction of the XYZ axis misalignment, and FIG.
  • the position of the lamp 12 is adjusted by adjusting so that a high-intensity light spot L with no hollow is located at the center O of the indicator plate 34.
  • the arc monitor plate 32 as a diffuser plate that diffuses and transmits the condensed image is disposed at the second focal point f2 of the condenser mirror 14, and the transmittance Ta of the central portion 33A is the periphery.
  • a neutral density filter 33 higher than the transmittance Tb of the part 33B is arranged on the back side of the arc monitor plate 32 with the central part 33A aligned with the optical axis K of the light beam, and an indicator plate 34 is arranged on the back side of the neutral density filter 33.
  • the position of the lamp 12 is adjusted based on the light spot L of the condensed image of the arc monitor plate 32 projected onto the indicator plate 34.
  • the lamp 12 when the lamp 12 is displaced in the XY axis direction, the light is attenuated by the neutral density filter 33 and the luminance is lowered, and the position is displaced from the center O2. Can be easily grasped.
  • the lamp 12 when the lamp 12 is misaligned in the Z-axis direction, the lamp 12 protrudes from the opening 43 of the central portion 33A and is dimmed. Therefore, the positional misalignment in the Z-axis direction is easily caused by the decrease in luminance at the central portion 33A. I can grasp. Therefore, when the lamp position is adjusted, the positional deviation of the lamp 12 can be adjusted by adjusting the light spot L of the condensed image so that the luminance is highest at the position of the center O2 of the indicator plate 34.
  • the luminous flux H4 is incident on the arc monitor plate 32 through the annular slit 31, the range in the Z direction where the light spot L becomes high brightness on the index plate 34 is narrowed, and positioning in the Z axis direction is performed. It becomes easy.
  • the arc monitor system 18 may be integrated as an apparatus (lamp position adjustment tool).
  • the irradiation apparatus 10 may be provided with an arc monitor system 18 in the apparatus housing in advance so that the position of the lamp 12 can be adjusted using the arc monitor system 18 when the lamp 12 is replaced.
  • the present invention provides an output (light quantity) such as an irradiation apparatus suitable for use in various tests such as an irradiation apparatus of a semiconductor exposure apparatus and a characteristic evaluation of a device such as a solar cell (for example, Japanese Patent Application No. 2010-166726). Can be suitably used to adjust the position of the lamp of an irradiation apparatus having a large lamp.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

ランプ位置の目視での調整を容易にすること。 ランプ１２、及び当該ランプ１２の光を集光する集光鏡１４とを備え、前記集光鏡１４で集光した光束を出力する照射装置１０のランプ位置調整方法において、前記集光鏡１４の第２焦点ｆ２に集光像を拡散し透過する拡散板たるアークモニタ板３２を配置し、中心部３３Ａの透過率が周辺部３３Ｂよりも高い減光フィルタ３３を、前記中心部３３Ａを前記光束の光軸Ｋに合わせて前記アークモニタ板３２の裏側に配置し、当該減光フィルタ３３の裏側に指標板３４を配置し、当該指標板３４に投影された前記アークモニタ板３２の集光像の光点Ｌに基づいて前記ランプ１２の位置を調整する。

Description

ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置
　本発明は、ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置に係り、特にランプの位置調整を容易にする技術に関する。
　従来、照明光学系を応用した照射装置において、特にランプ交換等のメンテナンス時に照射面上で目的の照度、照度分布を維持するために、ランプの位置だしを容易に調節できる機構が必要となる。
　そこで、例えば露光装置のランプの位置合わせでは、作業者が、ランプの陰極または陽極の像をピンホールとアークモニタ板を用いて目視しながら、アークモニタ板上の所定の位置にランプの陰極または陽極の像が来るようにランプ位置を調整するといった、ランプ位置調整方法がとられている（例えば、特許文献１）。
特公平６－２００３６号公報
　しかしながら、従来のランプ位置調整方法では、アークモニタ板上の像を目視して調整する際に、ランプ位置のズレの方向を把握し難く、ランプ位置を決め難い、といった問題があった。
　本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、ランプ位置の目視での調整を容易にするランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置を提供することを目的とする。
　この明細書には、２０１１年３月２３日に出願された日本国特許出願・特許２０１１－０６３９６８の全ての内容が含まれる。
　上記目的を達成するために、本発明は、ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置のランプ位置調整方法において、前記集光鏡の焦点位置に集光像を拡散し透過する拡散板を配置し、中心部の透過率が周辺部よりも高い減光フィルタを、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置し、当該減光フィルタの裏側に指標板を配置し、当該指標板に投影された前記拡散板の集光像の光点に基づいて前記ランプの位置を調整することを特徴とする。
　また本発明は、上記ランプ位置調整方法において、前記集光鏡の光束を、光軸を中心とした円環状のスリット板を通し、前記拡散板に入射させたことを特徴とする。
　また上記目的を達成するために、本発明は、ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置のランプ位置を調整するためのランプ位置調整用具において、前記集光鏡の焦点位置に配置され、集光像を拡散し透過する拡散板と、中心部の透過率が周辺部よりも高く、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置される減光フィルタと、前記減光フィルタの裏側に配置されて前記拡散板の集光像が投影され、当該集光像の目標位置が付された指標板と、を備えたことを特徴とする。
　また上記目的を達成するために、本発明は、ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置において、前記ランプ位置を調整するためのランプ位置調整用具を備え、前記ランプ位置調整用具は、前記集光鏡の焦点位置に配置され、集光像を拡散し透過する拡散板と、中心部の透過率が周辺部よりも高く、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置される減光フィルタと、前記減光フィルタの裏側に配置されて前記拡散板の集光像が投影され、当該集光像の目標位置が付された指標板と、を備えたことを特徴とする。
　本発明によれば、中心部の透過率が周辺部よりも高い減光フィルタを、集光鏡の光束の光軸に中心部を合わせて配置し、当該減光フィルタの裏側に指標板を配置したため、指標板上に拡散板の集光像が投影されてできる光点は、ランプの位置ズレが無い場合、中心部に位置し、かつ輝度が最大となるため、これら集光像の位置と、輝度の変化を目視で確認しながら、ランプの位置出しを容易に行うことができる。
図１は、ランプ位置調整システムの概略構成図である。 図２は、アークモニタシステムの要部拡大図である。 図３は、減光フィルタを模式的に示す図である。 図４は、指標板上の集光像の光点を示す模式図であり、（Ａ）はランプの位置ズレが無い場合、（Ｂ）はランプの位置がＺ軸方向にのみズレてる場合、（Ｃ）はランプの位置がＸＹ軸方向にズレている場合を示す。
　以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
　図１はランプ位置調整システム１の概略構成図であり、図２はアークモニタシステム１８の要部拡大図である。
　ランプ位置調整システム１は、ランプ１２、集光鏡１４とを有する照射装置１０のランプ１２の位置を調整するためのシステムであって、ＸＹＺ軸調整機構１６と、透過平面ミラー１７と、アークモニタシステム１８とを備えている。
　照射装置１０のランプ１２には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が用いられている。ランプ１２の周囲には、ランプ１２の放射光を集光して出力する集光鏡１４が設けられている。集光鏡１４は、例えば楕円鏡であって、鏡面内に位置する第１焦点ｆ１にランプ１２のアーク位置を合わせて当該ランプ１２が配置されており、第２焦点で集光する光束Ｈを出力する。
　ＸＹＺ軸調整機構１６は、集光鏡１４内でのランプ１２の位置をＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の互いに直交する３軸方向の位置をそれぞれ独立して調整するものであり、Ｘ軸方向に移動するＸ軸用ステージ１６Ａ、Ｙ軸方向に移動するＹ軸用ステージ１６Ｂ、及びＺ軸方向に移動するＺ軸ステージ１６Ｃを積層して構成されている。これらの最上層１６Ｄには、ランプ１２の端部１２Ａが固定され、各ステージ１６Ａ～１６Ｃを個別に動かすことで、ランプ１２の３軸方の調整が可能となる。なお、本実施形態では、Ｚ軸を集光鏡１４の光軸Ｋとしている。
　透過平面ミラー１７は、照射装置１０（集光鏡１４）の光軸Ｋ上であって、照射装置１０から第２焦点ｆ２の間に配置された平面ミラーであり、入射した光束Ｈの一部を透過する特性を有し、アークモニタシステム１８でのモニタ用の光束Ｈ１を透過する。また透過平面ミラー１７で反射された光束Ｈ２は、照射装置１０の照射対象や、当該照射装置１０の使用目的に応じた他の光学部品（図示例では、第２焦点ｆ２に端面を合わせて配置したロッドインテグレータ２０）に入射される。
　また、図１において、反射平面ミラー３０は、透過平面ミラー１７を透過した光束Ｈ２の光路をアークモニタシステム１８に向けるものである。
　アークモニタシステム１８は、ランプ１２のアーク位置と集光鏡１４の第１焦点ｆ１とのズレを目視により観察するためのシステムであり、円環スリット３１と、アークモニタ板３２と、減光フィルタ３３と、指標板３４と、観察用拡大レンズ３５と、ＵＶ－ＩＲカットフィルター３６と、目視用減光フィルタ３７とを備え、この順番で、これらが光軸Ｋに沿って配置されている。
　アークモニタ板３２は、面内に一様な拡散効果を有する板材であって、図１に示すように、集光鏡１４の第２焦点ｆ２に入射面（拡散面）が配置される。このアークモニタ板３２で光束が集光することで集光像が拡散、透過し、入射面での集光像が裏面側から目視観察できる。
　指標板３４は、図２及び図４に示すように、入射側の面（表面）とは反対側の面（裏面）に複数の同心円線５０と、各同心円線５０の中心Ｏ２を中心とする十字線５１とをランプ位置合わせの指標として描いた板材であり、中心Ｏ２を光軸Ｋに合わせて配置され、アークモニタ板３２を透過した集光像が投影されて光点ができる。指標板３４は、この光点を裏側から視認できる程度の透過性を有する。
　観察用拡大レンズ３５は、指標板３４の光点位置を拡大して目視し易くするレンズであり、ランプ位置調整時には、観察用拡大レンズ３５を通じて、指標板３４の光点位置と十字線５１、及び同心円線５０とを対比しながら調整が行われる。すなわち、ランプ１２のＸＹ軸方向の位置ズレを調整する場合には、光点の中心を十字線５１、及び同心円線５０の中心Ｏ２に来るようにして調整し、またランプ１２のＺ軸方向の位置ズレを調整する場合には、光点の大きさが所定の大きさ（例えば最小径の同心円線５０）になるように調整する。
　ＵＶ－ＩＲカットフィルター３６は、紫外線や赤外線をカットして目を保護するものである。当該ＵＶ－ＩＲカットフィルター３６は、アークモニタシステム１８の光軸Ｋ上の任意の位置に配置することができる。
　目視用減光フィルタ３７は、指標板３４上の光点の輝度を低下させて目視観察し易くするものである。
　ここで、反射平面ミラー３０で反射した光束Ｈ３を、円環スリット３１を通さずに、直接アークモニタ板３２に照射して集光像の光点を指標板３４に作った場合、集光像が比較的高輝度であることから、集光像の大きさを目視で把握しづらく、Ｚ軸方向の位置ズレが調整し難いといった問題があった。かかる問題は、集光鏡１４の焦点深度が大きいほど、Ｚ軸方向にランプ１２を移動させたときの光点の大きさの変化が小さくなることから、特に顕著となる。
　そこで本実施形態では、アークモニタ板３２の光源側に、上記円環スリット３１を配置することで、かかる問題を解決している。
　円環スリット３１は、図２に示すように、円環状透過窓３８を有したスリット板であって、透明板材３１Ａ（図１）の面上に円環状透過窓３８を形成するように遮蔽材３９を設けて構成されている。円環スリット３１は、円環状透過窓３８の円環中心Ｏ１を光軸Ｋに合わせて配置されており、円環状透過窓３８の内径が作る中心遮蔽部４０が光束Ｈ２の断面中心部を遮光して中抜けした光束Ｈ４を作る。
　円環状透過窓３８の外周側の直径ｒ２は、ランプ１２が適正な位置に配置されたときの光束Ｈ３の断面径に合わせて形成され、また中心遮蔽部４０の直径ｒ１は、円環状透過窓３８からモニタに十分な光量を後段に透過できる程度の大きさで形成されている。
　かかる円環スリット３１に光束Ｈ３を通すと、当該光束Ｈ３の断面において、中心部（すなわち光軸Ｋ近傍）の強度の高い箇所がカットされ中抜けした光束Ｈ４が出力される。このとき、ランプ１２のＺ方向の位置が前後にずれるほど、光束Ｈ３の断面径が大きくなって円環状透過窓３８の外側によって遮蔽される光量が増え、或いは、光束Ｈ３の断面径が小さくなって円環状透過窓３８を透過する光量が減ることから、指標板３４の上で光点が高輝度になるＺ方向の範囲が絞られることとなる。
　これにより、指標板３４の上での光点の輝度の変化に基づき、ランプ１２のＺ軸方向の調整が容易となる。また透過光量が制限されることで、指標板３４の光点の輝度が抑えられるため、目視観察時の目を保護することができる。
　上述の通り、反射平面ミラー３０で反射した光束Ｈ３を、円環スリット３１を通さずに、直接アークモニタ板３２に照射して集光像を指標板３４の上に作った場合には、集光像が比較的高輝度であることから、集光像の中心の位置ズレも目視で把握しづらく、ＸＹ軸方向へのズレの調整も容易ではない。
　そこで本実施形態では、アークモニタ板３２と指標板３４との間に、上記減光フィルタ３３を配置することで、かかる問題を解決している。
　図３は、減光フィルタ３３を模式的に示す図である。
　減光フィルタ３３は、中心Ｏ３に開口４３を設けたＮＤフィルタである。当該中心Ｏ３の開口４３によって中心部３３Ａの透過率Ｔａが、その周辺部３３Ｂの透過率Ｔｂよりも高くなっている。この中心部３３Ａの直径ｒ３は、ランプ１２が適正な位置に配置されたときの光束Ｈ３の断面径に合わせて形成されている。
　なお、減光フィルタ３３としては、中心部３３Ａが、その周辺部３３Ｂよりも透過率が高くなるものであれば任意のものを使用でき、例えば、中心Ｏ３から離れるにしたがって透過率が低くなるアポダイジングＮＤフィルタを用いることもとできる。
　かかる減光フィルタ３３は、中心Ｏ３を光軸Ｋに合わせて配置される。そして、減光フィルタ３３に光束Ｈ４を通すと、ランプ１２がＸＹ軸方向に位置ズレしている場合、減光フィルタ３３の開口４３を外れた位置を光が通ることで、アークモニタ板３２の集光像が減光されて指標板３４に光点を作ることとなるから、ＸＹ軸方向の位置ズレが無いときよりも、目視観察時の集光像の輝度が低下する。かかる輝度低下の有無により、ＸＹ軸方向の位置ズレを把握し、容易に調整することができる。
　作業者が照射装置１０のランプ１２を交換したときには、ランプ１２の交換後に、上記アークモニタシステム１８によってランプ１２の位置ズレを目視により確認しながら調整を行う。
　すなわち、ランプ１２の位置がＸＹＺ軸のいずれにもズレていないときには、図４（Ａ）に示すように、集光像の光点Ｌが指標板３４の中心Ｏ２に位置し、当該光点Ｌの輝度は最高となる。
　一方、ランプ１２の位置がＺ軸方向にのみズレてる場合には、図４（Ｂ）に示すように、集光像の光点Ｌは、指標板３４の中心Ｏ２に位置するものの、円環スリット３１によって中抜けして全体的に輝度が低くなり、また光点Ｌの大きさも、ズレの無いとき（図４（Ａ））よりも大きくなる。また、光点Ｌが大きくなることで、減光フィルタ３３の開口４３からはみ出す部分が生じて一部が減光されることでも光点Ｌの輝度が低下する。
　またランプ１２の位置がＸＹ軸方向にズレておりＺ軸方向にはズレが無い場合には、図４（Ｃ）に示すように、集光像の光点Ｌは、指標板３４の中心Ｏ２から外れた箇所に位置し、また光点Ｌの輝度も減光フィルタ３３によって減光されて低くなる。すなわち、ＸＹ軸方向のズレについて、光点Ｌの中心Ｏ２からの位置ズレと、輝度の低下との２つの要素から目視により容易に把握することができる。
　作業者は、集光点の光点Ｌが、上記図４（Ａ）～図４（Ｃ）のどれに該当するかを目視で確認し、ＸＹＺ軸の位置ズレの方向を特定し、図４（Ａ）のように、指標板３４の中心Ｏに中抜けのない高輝度な光点Ｌが位置するように調整することで、ランプ１２の位置を調整する。
　このように、本実施形態によれば、集光鏡１４の第２焦点ｆ２に集光像を拡散し透過する拡散板としてのアークモニタ板３２を配置し、中心部３３Ａの透過率Ｔａが周辺部３３Ｂの透過率Ｔｂよりも高い減光フィルタ３３を中心部３３Ａを光束の光軸Ｋに合わせてアークモニタ板３２の裏側に配置し、当該減光フィルタ３３の裏側に指標板３４を配置し、当該指標板３４に投影されたアークモニタ板３２の集光像の光点Ｌに基づいてランプ１２の位置を調整するようにした。
　これにより、ランプ１２がＸＹ軸方向にズレている場合には、減光フィルタ３３で減光されて輝度が低下し、なおかつ中心Ｏ２から位置がズレるため、これらの両方からＸＹ軸方向の位置ズレを容易に把握できる。一方、ランプ１２がＺ軸方向にズレている場合には、中心部３３Ａの開口４３からはみ出して減光されることから、中心部３３Ａでの輝度の低下によりＺ軸方向の位置ズレを容易に把握できる。
　したがって、ランプ位置調整の際には、集光像の光点Ｌが指標板３４の中心Ｏ２に位置で最も輝度が高くなるように調整することで、ランプ１２の位置ズレを調整できる。
　またアークモニタ板３２には、円環スリット３１を通して光束Ｈ４を入射させたため、指標板３４の上で光点Ｌが高輝度になるＺ方向の範囲が絞られることとなり、Ｚ軸方向の位置決めが容易となる。
　なお、上述した実施形態は、あくまでも本発明の一態様を示すものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で任意に変形及び応用が可能である。
　例えば、上記アークモニタシステム１８を一体にした装置（ランプ位置調整用具）として構成しても良い。
　特に、照射装置１０が装置筐体内にアークモニタシステム１８を予め備え、ランプ１２の交換時等に当該アークモニタシステム１８を用いてランプ１２の位置調整を実施できるようにしても良い。
　また、例えば、本発明は、半導体露光装置の照射装置や、太陽電池等のデバイスの特性評価等の各種試験に用いて好適な照射装置（例えば、特願２０１０－１６６７２６）といった、出力（光量）が大きなランプを備えた照射装置の当該ランプの位置調整に好適に用いることができる。
　１　ランプ位置調整システム
　１０　照射装置
　１２　ランプ
　１４　集光鏡
　１６　ＸＹＺ軸調整機構
　１７　透過平面ミラー
　１８　アークモニタシステム
　３０　反射平面ミラー
　３１　円環スリット
　３２　アークモニタ板（拡散板）
　３３　減光フィルタ
　３３Ａ　中心部
　３３Ｂ　周辺部
　３４　指標板
　３８　円環状透過窓
　４３　開口
　５０　同心円線
　５１　十字線
　Ｌ　集光像の光点
　ｆ１　第１焦点
　ｆ２　第２焦点
　Ｋ　光軸
　Ｔａ、Ｔｂ　透過率

Claims (4)

  1. 　ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置のランプ位置調整方法において、
    　前記集光鏡の焦点位置に集光像を拡散し透過する拡散板を配置し、中心部の透過率が周辺部よりも高い減光フィルタを、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置し、当該減光フィルタの裏側に指標板を配置し、当該指標板に投影された前記拡散板の集光像の光点に基づいて前記ランプの位置を調整する
    　ことを特徴とするランプ位置調整方法。
  2. 　前記集光鏡の光束を、光軸を中心とした円環状のスリット板を通し、前記拡散板に入射させたことを特徴とする請求項１に記載のランプ位置調整方法。
  3. 　ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置のランプ位置を調整するためのランプ位置調整用具において、
    　前記集光鏡の焦点位置に配置され、集光像を拡散し透過する拡散板と、
    　中心部の透過率が周辺部よりも高く、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置される減光フィルタと、
    　前記減光フィルタの裏側に配置されて前記拡散板の集光像が投影され、当該集光像の目標位置が付された指標板と、
    　を備えたことを特徴とするランプ位置調整用具。
  4. 　ランプ、及び当該ランプの光を集光する集光鏡とを備え、前記集光鏡で集光した光束を出力する照射装置において、
    　前記ランプ位置を調整するためのランプ位置調整用具を備え、
    　前記ランプ位置調整用具は、
    　前記集光鏡の焦点位置に配置され、集光像を拡散し透過する拡散板と、
    　中心部の透過率が周辺部よりも高く、前記中心部を前記光束の光軸に合わせて前記拡散板の裏側に配置される減光フィルタと、
    　前記減光フィルタの裏側に配置されて前記拡散板の集光像が投影され、当該集光像の目標位置が付された指標板と、
    　を備えたことを特徴とする照射装置。
PCT/JP2012/054184 2011-03-23 2012-02-22 ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置 WO2012127966A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-063968 2011-03-23
JP2011063968A JP5045833B1 (ja) 2011-03-23 2011-03-23 ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012127966A1 true WO2012127966A1 (ja) 2012-09-27

Family

ID=46879129

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/054184 WO2012127966A1 (ja) 2011-03-23 2012-02-22 ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5045833B1 (ja)
TW (1) TWI545289B (ja)
WO (1) WO2012127966A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112068607B (zh) * 2020-09-11 2024-03-29 广州彩熠灯光股份有限公司 一种灯具调整方法、介质及电子设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6370419A (ja) * 1986-09-11 1988-03-30 Canon Inc 投影露光装置
JPH11295819A (ja) * 1998-04-08 1999-10-29 Asahi Optical Co Ltd レーザー露光装置の光軸調整装置
JP2000299270A (ja) * 1999-04-13 2000-10-24 Canon Inc 露光用ランプ、その製造誤差測定装置および露光装置
JP2000349003A (ja) * 1999-06-03 2000-12-15 Canon Inc 露光用ランプ、これを用いた露光装置、ランプ適正位置測定および刻印装置、ならびにランプ適正位置設定装置
JP2003272408A (ja) * 2002-03-19 2003-09-26 Toto Ltd 放電ランプの光軸調整装置および光軸調整方法
JP2004071782A (ja) * 2002-08-06 2004-03-04 Canon Inc 照明装置及び露光装置
JP2004079254A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Canon Inc 光源装置及び露光装置
JP2010262141A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置及び露光装置のランプ位置調整方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6370419A (ja) * 1986-09-11 1988-03-30 Canon Inc 投影露光装置
JPH11295819A (ja) * 1998-04-08 1999-10-29 Asahi Optical Co Ltd レーザー露光装置の光軸調整装置
JP2000299270A (ja) * 1999-04-13 2000-10-24 Canon Inc 露光用ランプ、その製造誤差測定装置および露光装置
JP2000349003A (ja) * 1999-06-03 2000-12-15 Canon Inc 露光用ランプ、これを用いた露光装置、ランプ適正位置測定および刻印装置、ならびにランプ適正位置設定装置
JP2003272408A (ja) * 2002-03-19 2003-09-26 Toto Ltd 放電ランプの光軸調整装置および光軸調整方法
JP2004071782A (ja) * 2002-08-06 2004-03-04 Canon Inc 照明装置及び露光装置
JP2004079254A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Canon Inc 光源装置及び露光装置
JP2010262141A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置及び露光装置のランプ位置調整方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201305489A (zh) 2013-02-01
JP5045833B1 (ja) 2012-10-10
TWI545289B (zh) 2016-08-11
JP2012199488A (ja) 2012-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1750154B1 (en) Microscopic illumination apparatus
KR102345537B1 (ko) 플라즈마 광원, 및 그 광원을 포함하는 검사 장치
JP2007311085A (ja) 擬似太陽光照射装置
EP2315065A2 (en) Microscope
EP2088459B1 (en) Image measuring device
JP5045833B1 (ja) ランプ位置調整方法、ランプ位置調整用具、及び照射装置
JP5932343B2 (ja) 観測装置
JP2022133325A (ja) 顕微観察装置、検出器及び顕微観察方法
JP5962089B2 (ja) 光照射装置
JP6089603B2 (ja) 疑似太陽光照射装置
JP2009157325A (ja) 露光照明装置及び露光パターンの位置ずれ調整方法
JPH0783845A (ja) 検査装置
JP2018106894A (ja) 照明システム
JP4102325B2 (ja) 検査装置
US10802258B2 (en) Microscope including an illumination optical system having a plurality of lens elements
JP2006119112A (ja) 検査装置
JP2007149551A (ja) 照明装置
US7388322B2 (en) Illumination device for microscopes
JP2001154105A (ja) 紫外線顕微鏡
JP2006323174A (ja) 顕微鏡の照明調整用器具
KR200287375Y1 (ko) 광원장치용 콘덴싱 렌즈 유니트
JP2001125002A (ja) 照明装置及び照明装置を備えた顕微鏡システム
JP2008216264A (ja) 検査装置
JP2004012975A (ja) 蛍光顕微鏡、並びに、蛍光観察用の落射照明装置および落射照明方法
JP2007127816A (ja) 照明装置および顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12760873

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12760873

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1