JP2006119112A - 検査装置 - Google Patents
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Abstract
LCD 用等の基板上に生成される透明電導膜パターンの膜厚が薄くなるにつれ、パターンエッジ部でのコントラストが減少し、従来技術では測定が困難になって来た。このような透明電導膜部分とそれ以外の部分のコントラストを増大させ、膜厚の小さい透明電導膜パターンの寸法測定を容易に実現する技術を提供する。
【解決手段】
照明ユニットに可視光以下の領域に高い輝度を有する光を発生するランプと可視光以上の長波長成分を遮断する光学フィルタを具備して、透明電導膜部分とそれ以外の部分のコントラストを増大させ、膜厚の小さい透明電導膜パターンの寸法測定を容易に実現した。
【選択図】 図1
Description
LCD 用の基板の製造過程においては、目的のパターンを生成するためのレジスト膜パターンや生成された金属膜、透明または半透明膜の寸法を測定している。
試料 9 から反射した光は、投光管 3 のハーフミラー 21 、レーザオートフォーカスユニット 10 のハーフミラー 22 を通過した後、レンズ11 及び 12 を通過することによって CCD カメラ 14 の撮像面に結像される。
またレボルバ 7 は、対物レンズ 8 を切り換え、倍率を変更するために使用される。
照射された光は、試料 9 の透明または半透明の部分を透過し、対物レンズ 8に入射し、上記と同様に CCD カメラ 14 に結像される。
結像された像は、CCD カメラ 14 で撮像され、映像信号に変換されて試料 9 の画像として、映像信号画像処理ユニット 15 に出力される。
本構成において、照明ユニット 1 及び 4 の照明ランプは、図9に示すような、白色光に近い連続スペクトルを持ちかつ安価な、ハロゲンランプが一般的に使用される。図9は、照明ユニット 1 または 4 の照明ランプ 23 または 24 に使用する光源の発生する光のスペクトルの一例を示す図。
上述の技術は、例えば、特許文献1に記載されている。
本発明の目的は、上記のような問題を解決し、透明電導膜部分とそれ以外の部分のコントラストを増大させ、膜厚の小さい透明電導膜パターンの寸法測定を容易に実現するものである。
第1の様態による上述の光学フィルタは、略 600 nm以下の波長の光のみを透過させる。
第1の様態による上述のランプは、略 600 nm 以下の波長で少なくとも1つの輝線を有する。
第1の様態による上述の検査装置は、反射照明と透過照明の少なくともいずれか1つを使用する。
第1の様態による上記ランプは、略 400 nm 、450 nm 、550 nm 、580 nm 付近で少なくとも1つの輝線を有する。
第1の様態による上記光学フィルタは、少なくとも1つの輝線を有する。
第2の様態による上述の光学フィルタが通過する所定の波長領域は、上記ランプが輝線を有する所定波長領域と少なくとも重なる。
第2の様態による上記ランプと上記光学フィルタを複数備え、検査する試料の種類に応じていずれかのランプまたはいずれかの光学フィルタに切り換える。
第2の様態による検査装置は、反射照明と透過照明の少なくともいずれか1つを使用する。
このため、本発明の実施例は、従来の連続スペクトルを有するランプから輝線スペクトルを有する、例えば水銀キセノンランプやメタルハライドランプに変更し、更に、ランプから発せられる輝線スペクトルの内、透明電導膜の透過率が低下する波長域のみ透過させる光学フィルタを追加したものである。
例えば、水銀キセノンランプやメタルハライドランプを使用した場合、透明導電膜の透過特性が図4のグラフIのようになる場合、その透過率が低下し、輝線が見られる 450 nm 付近の波長を有する光を用いるか、透明導電膜の透過特性が図4のグラフIIのようになる場合、その透過率が低下し、輝線が見られる 550 nm 付近の波長を有する光を用いるものである。
図1は、本発明の第一の実施例の寸法測定装置の略構成を示すブロック図である。また図2は、第一の実施例による照明ユニット 1′及び 4′に使用するランプ(光源)の発生する光のスペクトルの一例を示す図である。また図3は、第一の実施例による照明ユニット 1′及び 4′に使用する光学フィルタの透過特性図である。また図4のグラフIは、試料 9 の透明電導膜の透過特性の一例を示す図である。また図5は、本発明を用いた時の効果を説明するための図である。
図1において、従来の図8と同じ機能のユニットには同じ参照番号を付した。その他、1′は反射照明方式の照明ユニット、4′は透過照明方式の照明ユニット、23′は照明ユニット 1′のランプ、24′は照明ユニット 4′のランプ、16 は光学フィルタ、17 はフィルタ切り換え機構である。
CCD カメラ 14 が撮像した試料 9 のパターン画像は、映像信号として画像処理ユニット 15 に出力され、画像処理ユニット 15 は、入力された映像信号を基に画像処理を行い、パターンの寸法を測定する。
ここでレーザオートフォーカスユニット 10 、自動調光装置 13 、レボルバ 7 、対物レンズ 8 、ハーフミラー 21 ,22 、レンズ 11 ,12 、及び、画像処理ユニット 15 は、従来例と同様に動作する。なお、画像処理ユニット 15 の制御対象は、従来例に加えて、フィルタ切り換え機構 17 の制御がある。
透明電導膜の透過特性は、図4に示すように、可視領域ではほぼ 80 %の透過特性を示すが、可視領域より短波長側で急激に透過特性が低下する。
このため透明電導膜の無い部分と透明電導膜部分の明暗差が大きくなり、パターンエッジ部の明暗差に基づいてエッジを検出し寸法測定を行うことができる。
図5において、(a) は照明ユニットに従来のハロゲンランプを使用した場合の画像であり、試料は同じ物を使い、金属膜上の透明電導膜、ガラス基材上の透明電導膜ともに全く明暗差が生じないため、エッジを検出し寸法測定を行うことが難しい。(b) は照明ユニットにメタルハライドランプを用いた場合の画像であり、(a) と比べると金属膜上の透明電導膜の明暗差が生じるようになったものの、ガラス基材上の透明電導膜についてはほとんど明暗差が生じない。このため、エッジを検出し寸法測定を行うことが難しい。(c) は照明ユニットにメタルハライドランプを使用し、かつ、光学フィルタを加えたことにより得られた画像である。金属膜上の透明電導膜、ガラス基材上の透明電導膜ともに明暗差が生じ、パターンエッジ部の明暗差からエッジを検出し寸法測定を行うことが容易に実現できる。
光源として、連続スペクトルを持つランプの光を光学フィルタで特定波長切り出すことも考えられるが、この場合は、光量が不足する欠点があるが、輝線を有すランプを用いれば、特定波長の光を効率的に取り出すことができ、検査に必要な光量を得ることができる。
更に、フィルタ切り換え機構 17 によって、可視光以上の長波長領域の光を遮断しないで使用する場合と、これを遮断する光学フィルタを使用する場合とを切替えて使用して検査することでも良い。また光学フィルタの遮断波長領域を複数具備して切替え制御し、領域の組合わせで検査するようにしても良い。
また更に、光学フィルタの組合わせと、反射照明と透過照明の組合わせを、組合わせて使用して検査することも可能である。
図1を参照すれば、光学フィルタ 16′はフィルタ切り換え機構 17′によって照明ユニット 1′または 4′の出射部付近に配置される。
CCD カメラ 14 が撮像した試料 9′のパターン画像は、映像信号として画像処理ユニット 15 に出力され、画像処理ユニット 15 は、入力された映像信号を基に画像処理を行い、パターンの寸法を測定する。
ここでレーザオートフォーカスユニット 10 、自動調光装置 13 、レボルバ 7 、対物レンズ 8 、ハーフミラー 21 ,22 、レンズ 11 ,12 、及び、画像処理ユニット 15 は、図1の実施例と同様に動作する。
透明電導膜の透過特性は、図4のグラフIIのようになるので
、透明電導膜が反射率の高い金属膜上に存在する場合には、550 nm 近傍の波長領域の光のみを試料 9′の上部から照射すると、透明電導膜の無い部分(金属膜部分)は高い反射率のために反射光量が多いが、透明電導膜部分は照射された光が一旦、透明電導膜に入射後、金属膜上で反射し、再び電導膜を通って出射するあいだに減衰するため、反射光量が少ない(低反射率となる)。
このため透明電導膜の無い部分と透明電導膜部分の明暗差が大きくなり、パターンエッジ部の明暗差に基づいてエッジを検出し寸法測定を行うことができる。
更に、550 nm の波長領域の光のみを試料 9′の下部から透過照射すると、ガラス基材部は高透過特性を持つため明るいが、透明電導膜が存在する部分は透過率が低いため暗くなる。このため透明電導膜の無い部分と透明電導膜部分の明暗差が生じ、パターンエッジ部の明暗差からエッジを検出し寸法測定を行うことができる。
また、透明電導膜に限らず、種々の材料、種々の製法で作られた膜パターンにも適用できる。
Claims (10)
- 基板上に形成されたパターンの寸法を顕微鏡で拡大して寸法を測定する寸法測定装置であって、可視光以下の波長領域のスペクトルを有したランプと、可視光より長い波長領域の光成分を遮断する光学フィルタとを具備したことを特徴とする検査装置。
- 請求項1記載の検査装置において、上記光学フィルタは、略600nm以下の波長の光のみを透過させることを特徴とする検査装置。
- 請求項1または請求項2のいずれかに記載の検査装置において、上記ランプは、略600nm以下の波長で少なくとも1つの輝線を有したランプであることを特徴とする検査装置。
- 請求項1または請求項2に記載の検査装置において、反射照明と透過照明の少なくともいずれか1つを使用して検査することを特徴とする検査装置。
- 請求項3に記載の検査装置において、上記ランプは、略400nm、450nm、550nm、580nmの付近で少なくとも1つの輝線を有することを特徴とする検査装置。
- 請求項5に記載の検査装置において、上記光学フィルタは、少なくとも1つの輝線を有する波長の光を透過させることを特徴とする検査装置。
- 基板上に形成されたパターンの寸法を顕微鏡で拡大して寸法を測定する寸法測定装置であって、所定の波長領域内に輝線を有したランプと、所定の波長領域の光成分を通過する光学フィルタとを具備したことを特徴とする検査装置。
- 請求項7記載の検査装置において、上記光学フィルタが通過する所定の波長領域は、上記ランプが輝線を有する所定波長領域と少なくとも重なることを特徴とする検査装置。
- 請求項7または請求項8のいずれかに記載の監査装置において、上記ランプと上記光学フィルタを複数備え、検査する試料の種類に応じていずれかのランプまたはいずれかの光学フィルタに切り換えることを特徴とする検査装置。
- 請求項7または請求項8のいずれかに記載の検査装置において、反射照明と透過照明の少なくともいずれか1つを使用して検査することを特徴とする検査装置。
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JP2005096583A JP2006119112A (ja) | 2004-09-21 | 2005-03-30 | 検査装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008216264A (ja) * | 2004-09-21 | 2008-09-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 検査装置 |
JP2009204313A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Lasertec Corp | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
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2005
- 2005-03-30 JP JP2005096583A patent/JP2006119112A/ja active Pending
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