WO2012118089A1 - 光学レンズの製造方法 - Google Patents

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WO2012118089A1
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masking layer
lens
film
optical lens
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PCT/JP2012/054963
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繁樹 大久保
政仁 山之内
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Hoya株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an optical lens, and more particularly to a method for manufacturing an optical lens having a step of providing a pattern on a lens surface.
  • Spectacle lenses have various films covering the surface of the lens substrate.
  • a hard coat film for preventing scratches on the lens base material an antireflection film for preventing light reflection on the lens surface, and a water repellent film for preventing water scuffing of the lens Etc.
  • a water repellent film for preventing water scuffing of the lens Etc.
  • a film for suppressing the amount of light incident on the eye a configuration in which a semi-transparent thin film is coated in a dot shape on the entire surface of the lens and this upper part is covered with an antireflection film has been proposed (for example, the following patent Reference 1).
  • plastic lenses that are lightweight and excellent in dyeability are preferably used as lenses for eyeglasses with high fashionability, and for the purpose of further improving the design, the lenses are applied to the lenses by applying a colored paint using an inkjet method.
  • the structure which gives a pattern is also proposed (for example, refer to the following patent document 2).
  • the method of simply applying a colored paint to the lens by an inkjet method can control the position where the pattern is applied.
  • the material constituting the pattern is limited to a material applicable to the ink jet method.
  • the formation of the pattern (pattern) by the ink jet method is a method lacking versatility because a material unsuitable for ink formation such as an inorganic material cannot be used.
  • an object of the present invention is to provide an optical lens manufacturing method capable of forming a processing pattern on a lens surface with good accuracy at a predetermined position on a lens base material without limiting the material.
  • the method of manufacturing an optical lens of the present invention for achieving such an object is characterized by performing the following steps. First, a step of forming a mark for alignment outside the lens region set on the lens substrate is performed. Next, a process of patterning a masking layer having an opening at a predetermined position in the lens region is performed above the one main surface side of the lens substrate while controlling the printing position with reference to the previously formed mark. Then, the process which performs a selective process with respect to the exposed surface of the opening bottom part of the said masking layer by the process from the upper direction of a masking layer is performed. Thereafter, the masking layer is removed from the lens base material, and a process pattern is formed on the one main surface side of the lens base material by the selective processing described above.
  • the processing pattern is formed on the exposed surface of the opening bottom of the masking layer by processing from above the patterned masking layer.
  • the pattern formation of the masking layer is performed by a method having a good position and shape accuracy, for example, an inkjet method, so that the process for forming the treatment pattern is limited to a method having a good position and shape accuracy.
  • the processing pattern with high accuracy can be obtained while applying the processing method with a wide selection range.
  • the transparent material film is formed in the above-described selective process.
  • the transparent material film formed on the masking layer is removed together with the masking layer.
  • the transparent pattern which consists of a transparent material film is formed as an above-mentioned process pattern only on the exposed surface of the opening bottom part of a masking layer.
  • a dyeing process may be performed on the bottom of the opening of the masking layer.
  • a staining pattern is formed as the processing pattern.
  • the masking layer can be formed as a homogeneous continuous film, and when processing is performed from the top of this masking layer, the processing pattern can be accurately formed only in the opening of the masking layer. It becomes possible to form.
  • a processing pattern can be formed with high accuracy at a predetermined position on a lens base material by applying a processing method with a wide selection range without limiting the material. Is possible.
  • FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view showing a configuration of an optical lens obtained by the method of the first embodiment. It is a flowchart which shows the manufacture procedure of the optical lens of 1st Embodiment.
  • FIG. 6 is a manufacturing process diagram (part 1) illustrating a manufacturing procedure of the optical lens according to the first embodiment;
  • FIG. 6 is a manufacturing process diagram (No. 2) showing a manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment.
  • FIG. 6 is a manufacturing process diagram (No. 3) showing a manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment.
  • First Embodiment Example in which an island-shaped transparent pattern is provided between an antireflection film and a lens substrate
  • Second Embodiment Example of providing a transparent pattern having an opening between an antireflection film and a lens substrate
  • Third Embodiment Example in which an island-shaped transparent pattern is provided on the antireflection film
  • Fourth Embodiment Example in which an island-shaped staining pattern is provided on the surface layer of a lens substrate
  • FIG. 1 is a plan view (FIG. 1A) for explaining the configuration of the optical lens of the first embodiment, and an aa ′ sectional view (FIG. 1B) in the plan view.
  • the optical lens 1a of the first embodiment shown in these drawings is suitably used for an optical lens for spectacles, for example, and is configured as follows.
  • the optical lens 1a of the first embodiment is characterized in that an island-shaped transparent pattern 19a is provided as a processing pattern between the hard coat film 13 and the antireflection film 15 on the lens substrate 11. is there.
  • an island-shaped transparent pattern 19a is provided as a processing pattern between the hard coat film 13 and the antireflection film 15 on the lens substrate 11. is there.
  • the lens base 11 is made of a general plastic material used for optical lenses, and is molded into a predetermined lens shape.
  • a plastic material having a refractive index (nD) of about 1.50 to 1.74 is used.
  • plastic materials include allyl diglycol carbonate, urethane resin, polycarbonate, thiourethane resin, and episulfide resin.
  • the outer surface of the spectacles configured using the optical lens 1 a is one main surface, and the hard coat film 13 to the water repellent film 17 described above are formed on the one main surface, and Each layer of the transparent pattern 19a is laminated.
  • the hard coat film 13 is a film used as a base of the antireflection film 15, and is made of, for example, a material containing an organosilicon compound.
  • the hard coat film 13 has a refractive index close to the refractive index of the plastic material described above. Specifically, the refractive index (nD) of the hard coat film 13 is about 1.49 to 1.70, and the film configuration is selected according to the material of the lens substrate 11.
  • the antireflection film 15 has a multilayer structure in which material films having different refractive indexes are stacked, and is a film that prevents reflection of light by an interference action.
  • An example of such an antireflection film 15 is a multilayer structure in which low refractive index films 15a and high refractive index films 15b are alternately stacked.
  • the low refractive index film 15a is made of, for example, silicon dioxide (SiO2) having a refractive index of about 1.43 to 1.47.
  • the high refractive index film 15b is made of a material having a higher refractive index than that of the low refractive index film 15a.
  • niobium oxide Nb2O5
  • tantalum oxide Ta2O5
  • titanium oxide TiO2
  • zirconium oxide ZrO2
  • oxidized A metal oxide such as yttrium (Y2O3) and aluminum oxide (Al2O3) is used at an appropriate ratio.
  • the number of layers of the antireflection film 15 including the low refractive index film 15a and the high refractive index film 15b as described above is not limited.
  • Each of these low refractive index films 15a and each high refractive index film 15b has a film thickness corresponding to each refractive index so as to have a predetermined phase difference.
  • the phase difference of the three layers of the low refractive index film 15a-1 / high refractive index film 15b-2 / low refractive index film 15a-3 in order from the lens substrate 11 side is [ ⁇ / 4]
  • the phase difference of the three layers of high refractive index film 15b-4 / low refractive index film 15a-5 / high refractive index film 15b-6 is [ ⁇ / 2]
  • one layer of low refractive index film 15a-7 is formed.
  • a film configuration in which the film thickness of each low refractive index film 15a and each high refractive index film 15b is set according to each refractive index so that the phase difference is [ ⁇ / 4] can be mentioned.
  • the water repellent film 17 is made of, for example, a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound.
  • the water repellent film 17 has a film thickness set so as to exhibit an antireflection function in combination with the antireflection film 15.
  • the transparent pattern 19a is provided as, for example, a decorative pattern, a logo mark, or a character, and is configured as an island pattern made of a light-transmitting material.
  • the transparent pattern 19a used in the first embodiment may be, for example, light transmissive with respect to visible light.
  • the refractive index is higher than the refractive index of each layer arranged with the transparent pattern 19a interposed therebetween. It is preferable to have a rate.
  • the film thickness of the transparent pattern 19a is appropriately adjusted according to the refractive index of the material constituting the transparent pattern 19a and the visibility required for the transparent pattern 19a when viewed from the water repellent film 17 side.
  • the transparent pattern 19a may be a laminate of different material layers.
  • a material having a higher refractive index than that of the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 disposed with the transparent pattern 19a interposed therebetween is used.
  • a material similar to the material constituting the high refractive index film 15b used for the antireflection film 15 is preferably used.
  • the transparent pattern 19a is formed using these materials, the transparent pattern 19a is formed with a film thickness of about 10 nm. Thereby, high visibility can be obtained in the transparent pattern 19a when viewed from the water repellent film 17 side. Even if the transparent pattern 19a is given low visibility, the refractive index and the film thickness of the transparent pattern 19a may be adjusted.
  • the optical lens 1a having the above-described configuration is a hard coat film in order from the lens base material 11 side on the inner side of the glasses configured using the optical lens 1a, that is, on the surface arranged toward the wearer side.
  • the antireflection film and the water repellent film may be provided in this order.
  • FIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing procedure of the optical lens according to the first embodiment having the above-described configuration.
  • 3 to 5 are manufacturing process diagrams showing a manufacturing procedure of the optical lens according to the first embodiment having the above-described configuration. A manufacturing procedure when the optical lens of the first embodiment is applied to glasses will be described below based on these drawings.
  • alignment reference marks m1 to m4 are formed outside the lens region of the lens substrate (S1). This process is performed as follows.
  • FIG. 3A First, as shown in FIG. 3A, a lens substrate 11 is prepared. As an example of the lens base material, a single focus lens for spectacles will be described.
  • the geometric center G.G. C, and the optical center O.D. C is determined by measurement.
  • Temporary point marks M1 to M3 indicating optical coordinates including C are marked on one main surface side of the lens substrate 11.
  • the point marks M1 to M3 are marked using, for example, red ink.
  • the optical center O.D. With C as the center point mark M2, point marks M1 and M3 are arranged at equal intervals on the left and right.
  • FIG. 3B Next, as shown in FIG. 3B, from the data of the three-dimensional outer shape F relating to the optical lens created according to the order and the optical coordinates indicated by the point marks M1 to M3 on the lens substrate 11, the lens base is obtained.
  • the center of the outer shape F (the center of the frame) F.
  • the position that becomes C is detected.
  • FIG. 3C Thereafter, as shown in FIG. C and frame center F.F. From the relationship with C, the outer shape F of the lens region is determined for the lens substrate 11. Then, based on the point marks M1 to M3 indicating the optical coordinates, reference marks m1 to m4 serving as a reference for the outer shape F are formed on the lens base 11. These reference marks m1 to m4 can be identified vertically and horizontally. Moreover, it is preferable that it is a design which can identify whether it is the right lens or left lens of spectacles. For example, the reference marks m2 and m4 indicating the left and right are formed as arrows pointing toward the center of the glasses.
  • reference marks m1 to m4 are marked outside the lens region surrounded by the outer shape F. Thereby, after the lens base material 11 is shape-cut according to the outer shape F, the reference marks m1 to m4 are not left on the lens.
  • the reference marks m1 to m4 are optical centers O.D.
  • the case where the layout is based on C is shown. However, the reference marks m1 to m4 have the frame center F.D.
  • the layout may be based on C.
  • the reference marks m1 to m4 as described above are directly formed on one main surface of the lens substrate 11 by, for example, a laser marker. At this time, laser irradiation is performed on the lens base material 11 with a power setting that does not cause the lens base material 11 to be destroyed due to heat.
  • the formation of the reference marks m1 to m4 is not limited to the laser marker, and for example, an ink jet method may be applied. At this time, it is important to select and use an ink used for the marker that is not removed at the same time as the masking layer in the step of removing the masking layer described later. Further, the fiducial marks m1 to m4 may be formed, for example, by marking handwritten marks.
  • the lens substrate 11 is not limited to a single focus lens, and may be a multifocal lens, a progressive lens, or another lens. If a multifocal lens is used, the frame center F.R. C is detected to determine the outer shape F, and the reference marks m1 to m4 are formed. In the case of using a progressive lens, the frame center F.D. is determined based on the hidden mark (layout reference mark). C is detected to determine the outer shape F, and the reference marks m1 to m4 are formed.
  • the prism reference point is the central point mark M2, and point marks M1 and M3 are arranged at equal intervals on the left and right sides, and the reference marks m1 to m4 are laid out based on these point marks M1 to M3. Just do it.
  • FIGS. 4A and 4B After the fiducial marks m1 to m4 are formed as described above, as shown in the plan view of FIG. 4A and the cross-sectional view of FIG. 4B (corresponding to the cross section aa ′ of FIG. 4A), on the lens substrate 11 A hard coat film 13 is formed (S2).
  • the hard coat film 13 is formed by, for example, an immersion method using a solution in which an organosilicon compound is dissolved.
  • the surface of the hard coat film 13 is modified (S3).
  • a process for ensuring the wettability of the surface of the hard coat film 13 is performed on the ink used in the next masking layer formation.
  • a treatment method that does not damage the surface of the hard coat film 13 for example, plasma treatment using oxygen plasma is performed.
  • the modification treatment for ensuring wettability is not limited to plasma treatment as long as it does not damage the hard coat film 13, and for example, ion irradiation treatment, corona discharge, and the like. You may perform a process, an alkali treatment, etc.
  • the masking layer 21 is patterned on the surface of the base material 11 above, that is, the hard coat film 13 that has been subjected to the modification treatment.
  • Form (S4) The masking layer 21 formed here entirely covers the outer shape F of the optical lens determined on the one main surface side of the lens substrate 11, and includes an opening pattern 21a corresponding to the transparent pattern formed on the optical lens. Yes.
  • the masking layer 21 is preferably formed in a shape that is several mm or more larger than the outer shape F, and thereby absorbs errors when the lens base material 11 is shape-cut according to the outer shape F.
  • an opening pattern 21a is provided at a predetermined position on the lens base material 11 set in advance based on the previously created reference marks m1 to m4, and the masking layer 21 is provided. It is important to form a print. For this reason, the masking layer 21 to which the inkjet method is applied is formed here.
  • the ink jet method applied here is not limited in type or method, and may be a continuous type or an on-demand type, and if it is an on-demand type, it may be a piezo type or a thermal type. There may be.
  • the formation of the masking layer 21 by the inkjet method here uses, for example, ultraviolet curable ink (UV cure ink).
  • UV cure ink ultraviolet curable ink
  • ink that can be selectively removed with respect to the hard coat film 13 is used even after curing.
  • examples of such inks include so-called hard UV inks and soft UV inks for non-absorbing materials with high adhesion and high adhesion that can be dissolved and removed in ethanol or acetone after curing.
  • the masking layer 21 As a continuous film without coating unevenness by adjusting printing conditions.
  • printing conditions include the moving speed of the lens substrate relative to the print head, the resolution in the moving direction, the resolution in the width direction perpendicular to the moving direction, the size of the ink droplet, the drop frequency of the ink droplet, and the same landing point. The number of ink droplets to be dropped. Since these printing conditions are related to each other, the masking layer 21 that prevents printing unevenness is formed by adjusting as appropriate.
  • the ink constituting the masking layer 21 is cured by irradiating the masking layer 21 with ultraviolet rays (UV).
  • UV ultraviolet rays
  • a transparent material film 19 is formed from above the masking layer 21 (S5).
  • the hard coat film 13 is selectively subjected to a film forming process on the exposed surface at the bottom of the opening pattern 21 a of the masking layer 21.
  • a transparent material film 19 having a refractive index of 2.05 to 2.15 made of, for example, tantalum oxide (Ta2O5) is formed with a predetermined film thickness (for example, 10 nm) by vapor deposition.
  • FIG. 5B Next, as shown in FIG. 5B, a process of removing the masking layer 21 from the hard coat film 13 is performed, and the transparent material film 19 on the upper side is selectively removed together with the masking layer 21 (S6).
  • the masking layer 21 is removed by wet processing using a solvent (ethanol or acetone) that dissolves the masking layer 21.
  • a solvent ethanol or acetone
  • the transparent material film 19 portion formed in the opening pattern 21a of the masking layer 21 is left on the lens substrate 11 through the hard coat film 13, and the remaining transparent material film 19 portion is transparent pattern. It is formed on the lens substrate 11 as 19a.
  • the transparent pattern 19a formed in this manner has the same shape formed at the same position as the opening pattern 21a formed in the masking layer 21.
  • the antireflective film 15 is formed by applying ion-assisted deposition, so that the layers from the low refractive index film 15a-1 on the lower layer side to the low refractive index film 15a-7 are changed to each composition and each film. The film is formed with a thickness.
  • FIG. 1A, FIG. 1B After the above, as shown in FIG. 1A and FIG. 1B, the lens base material 11 on which the water repellent film 17 is formed is cut into an outer shape F determined for the lens base material 11. (S8). At this time, referring to FIG. 4A, the processing jig is attracted to a predetermined position aligned based on the reference marks m1 to m4 formed outside the outer shape F of the lens base material 11, and the lens base material 11 is attached. Fix to the processing jig.
  • the lens base material 11 is shape cut to the outer shape F aligned based on the reference marks m1 to m4, and then the processing jig is removed to complete the optical lens 1a. Let Thereafter, the optical lens 1a is shipped after an appearance inspection.
  • the transparent pattern 19 a as a processing pattern is formed in the opening of the masking layer 21 by the film forming process from the top of the masking layer 21. Is forming. For this reason, the transparent pattern 19a can be comprised with the material suitable for vapor deposition film-forming. Moreover, the transparent pattern 19a (processing pattern) is formed on the lens substrate 11 exposed at the bottom of the opening pattern 21a formed in the masking layer 21. Therefore, it is possible to obtain a transparent pattern 19a (processing pattern) with high positional accuracy and shape accuracy following the accuracy of forming the masking layer 21 by the ink jet method.
  • a transparent pattern 19a made of a material suitable for film formation such as vapor deposition film formation at a predetermined position on the lens substrate 11 is not suitable for a high-accuracy pattern formation method such as an ink jet method. It becomes possible to form a processing pattern with good accuracy.
  • the optical lens 1a having the configuration of the first embodiment obtained in this manner is obtained by laminating the transparent pattern 19a on the antireflection film 15 having a multilayer structure, so that the arrangement portion of the transparent pattern 19a and the others are not provided.
  • the light reflection characteristics of the light incident on the optical lens 1a from the antireflection film 15 side are different from each other. Thereby, when the lens 1a is viewed from the antireflection film 15 side through the water repellent film 17, the antireflection function in the antireflection film 15 is maintained, and the transparent pattern 19a is changed as the difference in the light reflection characteristics described above. It can be easily visually recognized.
  • the transparent pattern 19a is easily visually recognized. It will never be done.
  • this optical lens 1a As a result, by using this optical lens 1a, the wearer's field of view can be ensured without any discomfort, but a transparent pattern 19a that can be seen from the outside can be obtained by, for example, a decorative pattern, logo mark, or character. For example, it is possible to configure spectacles with excellent design.
  • the transparent pattern 19a is formed between the lens substrate 11 and the antireflection film 15, more specifically, between the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 constituting the antireflection film 15. Arranged between.
  • a normal lens configuration in which the surface on the one main surface side of the lens base 11 is uniformly covered with the antireflection film 15 without impairing the continuity of the layer structure in the antireflection film 15 can be obtained. it can.
  • the surface of the antireflection film 15 can be uniformly covered with a low refractive index film 15a-7 such as silicon dioxide (SiO2) having excellent friction resistance, and a lens configuration that is not easily damaged is obtained. it can.
  • a low refractive index film 15a-7 such as silicon dioxide (SiO2) having excellent friction resistance
  • the transparent pattern 19a has a refractive index higher than the refractive index of each layer of the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 disposed therebetween, the transparent pattern 19a Even when the optical lens 1a is viewed from the antireflection film 15 side, the visibility of the transparent pattern 19a can be improved.
  • the transparent pattern 19a composed of a tantalum oxide (Ta2O5) single layer having a thickness of 10 nm is disposed
  • the single-sided luminous reflectance viewed from the antireflection film 15 side is 1.624 at the portion where the transparent pattern 19a is disposed.
  • %, 0.545% at the non-arranged portion of the transparent pattern 19a and it was confirmed that sufficiently high visibility of the transparent pattern 19a was obtained.
  • FIG. 6 is a plan view (FIG. 6A) for explaining the configuration of the optical lens of the second embodiment, and an aa ′ sectional view (FIG. 6B) in the plan view.
  • the optical lens 1b of the second embodiment shown in these drawings is different from the optical lens (1a) of the first embodiment, for example, as a processing pattern constituting a decorative pattern, a logo mark, or a character.
  • the transparent pattern 19b is configured as a blank pattern having an opening h, and the other configuration is the same as that of the first embodiment.
  • the transparent pattern 19b having such an opening h may have the same configuration as the island-shaped transparent pattern (19a) described in the first embodiment except for the planar shape. That is, the transparent pattern 19b only needs to have a light-transmitting property with respect to visible light, for example.
  • the transparent pattern 19b preferably has a refractive index higher than the refractive index of each layer disposed with the transparent pattern 19b interposed therebetween.
  • the transparent pattern 19b has a film thickness adjusted appropriately depending on the refractive index of the material constituting the transparent pattern 19b and the visibility required for the transparent pattern 19b when viewed from the water-repellent film 17 side. Further, different material layers may be laminated.
  • the manufacturing method of the optical lens 1b of the second embodiment configured as described above is the same as that of the first embodiment.
  • the masking layer having a reversed pattern may be formed by applying a highly accurate forming method such as an inkjet method.
  • the optical lens 1b of the second embodiment has the same configuration as that of the optical lens of the first embodiment, and is between the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 of the antireflection film 15.
  • the transparent pattern 19b is laminated.
  • the transparent pattern 19b that can be visually recognized from the outside can be obtained, for example, for decoration, while the wearer's field of view can be secured without a sense of incongruity.
  • a logo mark, a character, etc. it becomes possible to constitute glasses having excellent design properties, and a process for forming the antireflection film 15 having a multilayer structure by providing the transparent pattern 19b. Is not disturbed.
  • the transparent pattern 19b has a higher refractive index than the low refractive index film 15a-1 of the hard coat film 13 and the antireflection film 15 disposed therebetween is described in the first embodiment. Similarly to the above, even if the transparent pattern 19b has a thin single layer structure, it is possible to improve the visibility of the transparent pattern 19b when the optical lens 1b is viewed from the antireflection film 15 side.
  • FIG. 7 is a plan view (FIG. 7A) for explaining the configuration of the optical lens of the third embodiment, and an aa ′ sectional view (FIG. 7B) in the plan view.
  • the optical lens 1c of the third embodiment shown in these drawings differs from the optical lenses (1a, 1b) of the other embodiments in, for example, an island-like shape that constitutes a decorative pattern, a logo mark, a character, or the like.
  • the transparent pattern 29c (processing pattern) is provided on the top of the antireflection film 15, and the other configuration is the same as that of the first embodiment.
  • Such a transparent pattern 29c is arranged closer to the surface of the optical lens 1c than the transparent pattern arranged in the optical lens of the first embodiment and the second embodiment.
  • the transparent pattern 29c is preferably configured using a low refractive index material such as silicon dioxide (SiO2) having excellent friction resistance.
  • the transparent pattern 29c has a film thickness adjusted appropriately according to the refractive index of the material constituting the transparent pattern 29c and the visibility required for the transparent pattern 29c when viewed from the water repellent film 17 side. It is the same as that of other embodiment that it may have what further has different material layers.
  • the transparent pattern 29c has a laminated structure, it is preferable that the uppermost layer portion constituting the transparent pattern 29c is formed using a low refractive index material such as silicon dioxide (SiO2) having excellent friction resistance.
  • FIG. 8 is a flowchart showing a manufacturing procedure of the optical lens of the third embodiment having the above-described configuration.
  • 9 and 10 are manufacturing process diagrams showing the manufacturing procedure of the optical lens of the third embodiment having the above-described configuration. Based on these drawings, the characteristic part of the manufacturing procedure when the optical lens of the third embodiment is applied to glasses will be described below.
  • FIG. 9A First, reference marks (m1 to m4) not shown here are provided on one main surface side of the lens substrate 11 in the same manner as the procedure described with reference to FIGS. 3A to 3C in the first embodiment. It is formed (S11). Thereafter, a hard coat film 13 is first formed on one main surface of the lens substrate 11 (S12), and then a modification process is performed to ensure wettability of the surface of the hard coat film 13 (S13). An antireflection film 15 having a multilayer structure is formed (S14).
  • the hard coat film 13 is formed by, for example, an immersion method using a solution in which an organosilicon compound is dissolved.
  • plasma treatment using oxygen plasma is performed on the surface of the hard coat film 13.
  • the antireflection film 15 is formed by applying ion-assisted deposition, so that the layers from the low refractive index film 15a-1 on the lower layer side to the low refractive index film 15a-7 in order are changed to the respective compositions and films.
  • the film is formed with a thickness.
  • the film thickness of the uppermost low-refractive index film 15a-7 may be adjusted separately in consideration of laminating a transparent pattern.
  • the masking layer 21 is patterned on the low refractive index film 15a-7 of the antireflection film 15 by applying, for example, an ink jet method in the same manner as in the first embodiment (S15). .
  • the masking layer 21 formed here is the same as in the first embodiment, and covers the entire outer shape of the lens determined on the one main surface side of the lens substrate 11 and corresponds to the transparent pattern formed on the optical lens.
  • An opening pattern 21a is provided.
  • the ink used in the ink jet method is the same as that in the first embodiment, and for example, UV cure ink that can be dissolved and removed in ethanol or acetone after curing is used.
  • a modification process for ensuring wettability of the surface of the antireflection film 15 may be performed before the masking layer 21 is formed. This reforming process is performed by an appropriate method. Further, after the masking layer 21 is formed by the ink jet method, the UV cure ink constituting the masking layer 21 is cured by irradiating the masking layer 21 with ultraviolet rays (UV), as in the first embodiment. It is.
  • UV ultraviolet rays
  • a transparent material film 29 is formed from above the masking layer 21 (S16).
  • the antireflection film 15 is selectively subjected to a film forming process on the exposed surface at the bottom of the opening pattern 21 a of the masking layer 21.
  • the transparent material film 29 made of silicon dioxide (SiO 2) and having a refractive index of 1.43 to 1.47 is formed with a preset film thickness (for example, 10 nm).
  • the transparent material film 29 is formed with good film quality and good adhesion by performing ion-assisted vapor deposition as necessary.
  • FIG. 10B Thereafter, as shown in FIG. 10B, a process of removing the masking layer 21 from the antireflection film 15 is performed, and the transparent material film 29 on the upper side is selectively removed together with the masking layer 21 (S17).
  • the masking layer 21 is removed by wet treatment using a solvent (ethanol or acetone) that dissolves the ink constituting the masking layer 21, and the transparent material film 29 on the upper side together with the masking layer 21 is selectively removed.
  • a solvent ethanol or acetone
  • the water repellent film 17 is formed on the antireflection film 15 so as to cover the transparent pattern 29c (S18).
  • the lens base material 11 on which the water repellent film 17 has been formed is cut into an outer shape F determined for the lens base material 11 (S19).
  • the lens base material 11 is placed on the outer shape F aligned based on the reference marks m1 to m4 formed outside the outer shape F of the lens base material 11. Cut the shape.
  • the bottom of the opening pattern 21a of the masking layer 21 is processed by the film forming process from the top of the masking layer 21 as described with reference to FIG. 10A.
  • a transparent pattern 29c as a pattern is formed. Therefore, as in the first embodiment, it is not suitable for a high-precision pattern forming method such as an inkjet method at a predetermined position on the lens substrate 11, but is suitable for film formation such as vapor deposition.
  • the transparent pattern 29c made of a material can be formed as a processing pattern with good accuracy.
  • the transparent pattern 29c is laminated on the antireflection film 15 having the multilayer structure, similarly to the configuration of the optical lens of the other embodiments. ing.
  • the transparent pattern 29c that can be visually recognized from the outside can be secured while the wearer's field of view can be secured without a sense of incongruity.
  • a logo mark, a character, or the like it is possible to configure glasses with excellent design.
  • the configuration in which the island-shaped transparent pattern 29c is laminated on the antireflection film 15 has been described.
  • a transparent pattern having an opening may be used as the transparent pattern laminated on the antireflection film 15 as in the second embodiment, and even in this case, the same effect as in the third embodiment can be obtained. Can do.
  • the transparent pattern may be disposed between layers of the antireflection film 15 having a multilayer structure.
  • the transparent pattern has a film thickness appropriately adjusted according to the refractive index of the material constituting the transparent pattern and the visibility required for the transparent pattern when viewed from the water-repellent film 17 side.
  • different material layers may be laminated.
  • FIG. 11 is a plan view (FIG. 11A) for explaining the configuration of the optical lens of the fourth embodiment, and an aa ′ sectional view (FIG. 11B) in the plan view.
  • the difference between the optical lens 1d of the fourth embodiment shown in these drawings and the optical lenses (1a to 1c) of the first to third embodiments is that an island-shaped staining pattern 31d is provided as a processing pattern.
  • the other configuration is the same as that of the first embodiment.
  • the dyeing pattern 31d provided as a processing pattern has one of the concave surface and the convex surface of the lens substrate 11 as one main surface, and is provided on the surface layer on the one main surface side.
  • the dyed pattern 31d has a depth d in the surface layer of the lens substrate 11 and the concentration of the dye constituting the dyed pattern 31d depending on the visibility required for the dyed pattern 31d when viewed from the water repellent film 17 side.
  • the staining pattern 31d is dyed so as not to be easily visually recognized when the optical lens 1d is viewed from a close distance opposite to the water repellent film 17. It is preferable that the depth of the pattern 31d and the concentration of the dye are adjusted.
  • the dye constituting the dyeing pattern 31d may be any dye that can dye the lens substrate 11 made of a plastic material, and an appropriate material is used depending on the dyeing method for forming the dyeing pattern 31d.
  • a sublimable dye is used as the dye.
  • a dye for the immersion method is used.
  • the hard coat film 13 having the same configuration as that of the other embodiments, the antireflection film 15 having a multilayer structure, and the water repellent film 17 are provided. Are stacked in this order.
  • FIG. 12 is a flowchart showing a manufacturing procedure of the optical lens of the fourth embodiment having the above-described configuration.
  • 13 to 14 are manufacturing process diagrams showing a manufacturing procedure of the optical lens of the fourth embodiment having the above-described configuration. Based on these drawings, the characteristic part of the manufacturing procedure when the optical lens of the fourth embodiment is applied to glasses will be described below.
  • FIGS. 13A and 13B First, as shown in the plan view of FIG. 13A and the cross-sectional view of FIG. 13B (corresponding to the aa ′ cross-section of FIG. 13A), the outer shape F of the lens in the lens base 11 is determined in advance.
  • the reference marks m1 to m4 serving as the reference for the outer shape F are formed on one main surface side (S21). This step is performed in the same manner as the procedure described with reference to FIGS. 3A to 3C in the first embodiment.
  • a surface modification process is performed on the one principal surface side of the lens substrate 11 (S22).
  • a process for ensuring the wettability of the surface of the lens substrate 11 is performed on the ink used in the subsequent masking layer formation.
  • a processing method that does not damage the surface of the lens substrate 11 for example, plasma processing using, for example, oxygen plasma is performed.
  • any other method that does not damage the lens substrate 11 is not limited to the plasma process. Treatment or corona discharge treatment may be performed.
  • an inkjet method is applied, and the lens base material 11 subjected to the modification treatment is used as a base, and the masking layer 21 is patterned on the base surface in the same procedure as described in the first embodiment.
  • the lens base material set in advance based on the reference marks m1 to m4 previously produced without being influenced by the curve of the lens base material 11 is used. It is important to print and form the masking layer 21 so that the opening pattern 21 a is provided at a predetermined position on the substrate 11.
  • the lens substrate 11 is dyed from above the masking layer 21 (S24).
  • the lens substrate 11 is selectively dyed on the exposed surface of the bottom of the opening pattern 21 a of the masking layer 21.
  • sublimation dyeing is performed.
  • a printing sheet is prepared by applying an ink in which a sublimable dye is dispersed in an aqueous solvent on a substrate.
  • the ink application surface of this printing sheet and the surface on which the masking layer 21 is formed on the lens substrate 11 are arranged to face each other, and the printing sheet is heated in a predetermined reduced pressure atmosphere.
  • the sublimable dye of the printing sheet is sublimated, and the lens substrate 11 exposed at the bottom of the opening pattern 21a of the masking layer 21 is dyed.
  • the portion of the lens substrate 11 covered with the masking layer 21 is not dyed.
  • the dyeing pattern 31d formed by dyeing the surface layer of the lens substrate 11 is formed only at the bottom of the opening pattern 21a.
  • the dyed pattern 31 d formed in this way has the same shape formed at the same position as the opening pattern 21 a formed in the masking layer 21.
  • the dyeing process is performed in which the depth d in the surface layer of the lens substrate 11 and the concentration of the dye constituting the dyeing pattern 31d are controlled by the visibility required for the dyeing pattern 31d.
  • the depth d and the dye concentration in such a dyeing process are controlled by adjusting the concentration of the sublimation dye constituting the printing sheet and the dyeing process time for each material of the lens substrate 11.
  • the concentration can be controlled by the time of immersion in the liquid dye, the dye temperature, and the like.
  • staining is also possible, and it is also possible to control the shading of a masking image by single-sided dyeing and double-sided dyeing.
  • FIG. 14B a process of removing the masking layer 21 from the lens substrate 11 is performed (S25).
  • the dyed masking layer 21 is removed by wet treatment using a solvent (ethanol or acetone) that dissolves the masking layer 21.
  • the hard coat film 13 and the multilayer structure in which the low refractive index film 15a and the high refractive index film 15b are alternately laminated are formed on the lens substrate 11 on which the dyed pattern 31d is formed.
  • the antireflection film 15 is formed in this order, and the water repellent film 17 is formed on the antireflection film 15 (S26).
  • the antireflective film 15 is formed by applying ion-assisted deposition, so that the layers from the low refractive index film 15a-1 on the lower layer side to the low refractive index film 15a-7 are changed to each composition and each film.
  • the film is formed with a thickness.
  • the lens base material 11 on which the water repellent film 17 is formed is cut into an outer shape F determined for the lens base material 11. (S27).
  • the lens base material 11 is shaped into the outer shape F aligned based on the reference marks m1 to m4 formed on the lens base material 11 in the same manner as described in the first embodiment. Cut to obtain the optical lens 1d of the fourth embodiment.
  • the bottom of the opening pattern 21a of the masking layer 21 is dyed as a processing pattern by the dyeing process from the top of the masking layer 21.
  • a pattern 31d is formed. That is, the processing pattern can be formed as a dyeing pattern 31d by dyeing.
  • the dyeing pattern 31 d (processing pattern) is formed in the opening pattern 21 a formed in the masking layer 21. For this reason, the dyeing pattern 31d (processing pattern) with high shape accuracy can be obtained following the formation accuracy of the masking layer 21 by the ink jet method.
  • a dyeing pattern 31d as a decorative pattern, logo mark, or character with high shape accuracy as a processing pattern visible from the outside at a predetermined position on the surface layer of the lens substrate 11. become.
  • FIG. 15 is a plan view (FIG. 15A) for explaining the configuration of the optical lens of the fifth embodiment, and an aa ′ sectional view (FIG. 15B) in the plan view.
  • the optical lens 1e of the fifth embodiment shown in these figures differs from the optical lens (1d) of the fourth embodiment in that the dyeing pattern 31e is configured as a blank pattern having an opening h.
  • Other configurations are the same as those of the fourth embodiment.
  • the dyeing pattern 31e having such an opening h may have the same configuration as the island-like dyeing pattern (31d) described in the fourth embodiment except for the planar shape. That is, the dyeing pattern 31e has a depth d in the surface layer of the lens substrate 11 and the dye constituting the dyeing pattern 31e depending on the visibility required for the dyeing pattern 31e when viewed from the water repellent film 17 side. It is assumed that the concentration is appropriately adjusted. In particular, when the optical lens 1e is used as an optical lens for spectacles, when the optical lens 1e is viewed from a close distance opposite to the water repellent film 17, the staining pattern 31e is not easily visible. It is preferable that the depth of the pattern 31e and the concentration of the dye are adjusted.
  • the manufacturing method of the optical lens of 5th Embodiment configured as described above is the same as that of the fourth embodiment.
  • a masking layer having an inverted pattern may be formed by application of an ink jet method.
  • the configuration in which the dyeing pattern is formed on the surface layer on the one principal surface side of the lens substrate 11 by the sublimation dyeing method from above the masking layer 21 has been described.
  • the formation of the dyeing pattern is not limited to sublimation dyeing, and other dyeing methods such as an immersion method and a transfer method may be applied.
  • the entire lens base material 11 is dyed in a state where the masking layer 21 is formed only on one main surface side of the lens base material 11, for example, by an immersion method.
  • the dyeing process is performed by applying the exposure method, the entire other main surface side of the lens substrate 11 on which the masking layer 21 is not formed is dyed.
  • the dyeing conditions are controlled so that dyeing from the other main surface side does not reach one main surface side where the masking layer 21 is provided. It is important to perform the dyeing.
  • the dyeing process is performed to prevent the other main surface side of the lens base material 11 from being dyed. Also good.
  • the optical lens manufacturing method of the present invention is not limited to the case of applying to the manufacture of optical lenses for spectacles, and a processing pattern as, for example, a decorative pattern, a logo mark, or a character in a predetermined lens region. It can be widely applied when forming.
  • the masking layer 21 is formed by the ink jet method.
  • the formation of the masking layer 21 is not limited to the application of the ink jet method, and the masking layer 21 may be formed by a printing method or tape attachment. Even in this case, by forming the masking layer 21 with good position and shape accuracy, it is possible to form a transparent pattern or a dyed pattern made of a transparent material film on the lens surface with good accuracy without limiting the material. become.

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Abstract

　レンズ基材上の所定位置に、材料を限定することなく処理パターンを形成することが可能な光学レンズの製造方法を提供する。　レンズ基材１１に設定されたレンズ領域の外側に、位置合わせ用のマークを形成する。インクジェット法により、レンズ基材１１の一主面側の上方に、マークを基準として印刷位置を制御しながらレンズ領域の所定位置に開口パターン２１ａを有するマスキング層２１をパターン形成する。マスキング層２１の上方からの処理により、マスキング層２１の開口パターン２１ａから露出する露出面に対して選択的な処理を施す。レンズ基材１１上からマスキング層２１を除去し、レンズ基材１１の一主面側に前述の選択的な処理による処理パターンとして透明パターン１９ａを形成する。

Description

光学レンズの製造方法
　本発明は、光学レンズの製造方法に関し、特にはレンズ面にパターンを設ける工程を有する光学レンズの製造方法に関する。
　眼鏡用のレンズは、レンズ基材の表面を覆う様々な膜を備えている。例えば、レンズ基材に対して傷が入ることを防止するためのハードコート膜、レンズ面での光反射を防止するための反射防止膜、さらにはレンズの水ヤケを防止するための撥水膜などである。この他にも、眼に入射する光量を抑えるための膜として、レンズの全面に半透過性薄膜をドット状にコーティングし、この上部を反射防止膜で覆う構成が提案されている（例えば下記特許文献１参照)。
　また近年では、ファッション性の高い眼鏡用のレンズとして、軽量で染色性に優れたプラスチックレンズが好ましく用いられており、さらに意匠性を高める目的で、インクジェット法を適用した着色塗料の塗布によりレンズに模様を施す構成も提案されている（例えば下記特許文献２参照）。
特開２００８－５５２５３号公報 国際公開ＷＯ００／６７０５１（特に第７頁）
　しかしながら、例えば意匠性を高める目的でレンズに模様を施す場合において、上述のように、単にレンズに対してインクジェット法によって着色塗料を塗布する方法では、模様を施す位置を制御することは可能なものの、模様を構成する材料がインクジェット法に適用可能な材料に限定されてしまう。このため、インクジェット法による模様（パターン）の形成は、無機材料のようなインクの形成に不向きな材料を用いることができず、汎用性に欠ける方法であった。
　そこで本発明は、レンズ基材上の所定位置に、材料を限定することなく精度良好にレンズ面に処理パターンを形成することが可能な光学レンズの製造方法を提供することを目的とする。
　このような目的を達成するための本発明の光学レンズの製造方法は、次の工程を行うことを特徴としている。先ず、レンズ基材に設定されたレンズ領域の外側に、位置合わせ用のマークを形成する工程を行う。次いで、レンズ基材の一主面側の上方に、先に形成したマークを基準として印刷位置を制御しながらレンズ領域の所定位置に開口を有するマスキング層をパターン形成する工程を行う。その後、マスキング層の上方からの処理により、当該マスキング層の開口底部の露出面に対して選択的な処理を施す工程を行う。しかる後、レンズ基材上からマスキング層を除去し、当該レンズ基材の一主面側に、上述した選択的な処理による処理パターンを形成する工程を行う。
　このような製造方法によれば、パターン形成されたマスキング層の上方からの処理によって、マスキング層の開口底部の露出面に処理パターンを形成している。このため、マスキング層のパターン形成を、例えばインクジェット法のような位置および形状精度の良好な方法によって行うことにより、処理パターンを形成するための処理が、位置および形状精度が良好な方法に限定されることはなく、選択範囲の広い処理方法を適用しつつも、精度の高い処理パターンを得ることができる。
　以上の製造方法において、上述した選択的な処理を施す工程では、透明材料膜の成膜処理を行う。この場合、マスキング層を除去する工程では、当該マスキング層上に成膜された透明材料膜を当該マスキング層と共に除去する。これにより、マスキング層の開口底部の露出面上のみに、上述した処理パターンとして透明材料膜からなる透明パターンを形成する。このような処理を行うことにより、レンズ基材上に精度良好に透明パターンを形成することができる。
　また以上の製造方法において、上述した選択的な処理を施す工程の別の例として、マスキング層の開口底部に対する染色処理を行っても良い。この場合、処理パターンとして染色パターンを形成する。このような処理を行うことにより、レンズ基材の少なくとも表面層に精度良好に染色パターンを形成することができる。
　また以上の製造方法において、インクジェット法によってマスキング層を形成する工程の前に、マスキング層の下地表面に対してマスキング層を構成するインクに対する濡れ性を確保するための改質処理を行うことが好ましい。これにより、次に行うインクジェット法において、均質な連続膜としてマスキング層を形成することができ、このマスキング層の上部から処理を施した場合において、マスキング層の開口内のみに精度良好に処理パターンを形成することが可能になる。
　以上説明したように本発明の光学レンズ製造方法によれば、レンズ基材上の所定位置に、選択範囲の広い処理方法を適用して材料を限定することなく精度良好に処理パターンを形成することが可能になる。
第1実施形態の方法によって得られる光学レンズの構成を示す平面図および断面図である。 第１実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。 第1実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その１）である。 第1実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その２）である。 第1実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その３）である。 第２実施形態の方法によって得られる光学レンズの構成を示す平面図および断面図である。 第３実施形態の方法によって得られる光学レンズの構成を示す平面図および断面図である。 第３実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。 第３実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その１）である。 第３実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その２）である。 第４実施形態の方法によって得られる光学レンズの構成を示す平面図および断面図である。 第４実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。 第４実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その１）である。 第４実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図（その２）である。 第５実施形態の方法によって得られる光学レンズの構成を示す平面図および断面図である。
　以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて次に示す順に説明する。
１．第１実施形態（反射防止膜とレンズ基材との間に島状の透明パターンを設ける例）
２．第２実施形態（反射防止膜とレンズ基材との間に開口部を有する透明パターンを設ける例）
３．第３実施形態（反射防止膜の上部に島状の透明パターンを設ける例）
４．第４実施形態（レンズ基材の表面層に島状の染色パターンを設ける例）
５．第５実施形態（レンズ基材の表面層に開口部を有する染色パターンを設ける例）
　尚、各実施形態において共通の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
≪１．第1実施形態≫
＜第1実施形態の光学レンズの構成＞
　図１は、第1実施形態の光学レンズの構成を説明するための平面図（図１Ａ）と、当該平面図におけるａ－ａ’断面図（図１Ｂ）である。これらの図に示す第1実施形態の光学レンズ１ａは、例えば眼鏡用の光学レンズに好適に用いられるものであって、次のように構成されている。
　すなわち光学レンズ１ａは、レンズ基材１１の一主面上に、ハードコート膜１３、反射防止膜１５、および撥水膜１７をこの順に積層させている。また特に本第１実施形態の光学レンズ１ａは、レンズ基材１１上におけるハードコート膜１３と反射防止膜１５との間に、処理パターンとして島状の透明パターン１９ａを備えているところが特徴的である。以下、光学レンズ１ａを構成する各部材の詳細な構成を、レンズ基材１１側から順に説明する。
［レンズ基材１１］
　レンズ基材１１は、光学レンズ用に用いられる一般的なプラスチック材料からなり、所定のレンズ形状に成形されている。プラスチック材料は、例えば屈折率（ｎＤ）１．５０～１．７４程度のものが用いられる。このようなプラスチック材料としては、例えばアリルジグリコールカーボネート、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート、チオウレタン系樹脂及びエピスルフィド樹脂が例示される。このようなレンズ基材１１において、この光学レンズ１ａを用いて構成される眼鏡の外側となる面を一主面とし、この一主面上に上述したハードコート膜１３～撥水膜１７、および透明パターン１９ａの各層が積層されている。
［ハードコート膜１３］
　ハードコート膜１３は、反射防止膜１５の下地として用いられる膜であり、例えば有機珪素化合物を含む材料を用いて構成されている。このハードコート膜１３は、上述したプラスチック材料の屈折率に近い屈折率である。具体的には、ハードコート膜１３の屈折率（ｎＤ）は１．４９～１．７０程度であり、レンズ基材１１の素材に応じて膜構成が選択される。
［反射防止膜１５］
　反射防止膜１５は、屈折率の異なる材料膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。このような反射防止膜１５は、一例として低屈折率膜１５ａと高屈折率膜１５ｂとを交互に積層してなる多層構造が挙げられる。低屈折率膜１５ａは、例えば屈折率１．４３～１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる。また高屈折率膜１５ｂは、低屈折率膜１５ａよりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、さらには酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物を、適宜の割合で用いて構成される。
　以上のような低屈折率膜１５ａと高屈折率膜１５ｂとからなる反射防止膜１５は、積層数が限定されることはない。一例として、レンズ基材１１側から順に、低屈折率膜１５ａ-1，高屈折率膜１５ｂ-2，…低屈折率膜１５ａ-7の順に、７層を積層させた反射防止膜１５が挙げられる。また、これらの各低屈折率膜１５ａおよび各高屈折率膜１５ｂは、所定の位相差となるように各屈折率に応じた各膜厚を有している。
　一例として、レンズ基材１１側から順に、低屈折率膜１５ａ-1／高屈折率膜１５ｂ-2／低屈折率膜１５ａ-3の３層を合わせた位相差が[λ／４]となり、高屈折率膜１５ｂ-4／低屈折率膜１５ａ-5／高屈折率膜１５ｂ-6の３層を合わせた位相差が[λ／２]となり、低屈折率膜１５ａ-7の１層の位相差が［λ／４]となるように、各低屈折率膜１５ａおよび各
高屈折率膜１５ｂの膜厚が各屈折率に応じて設定されている膜構成が挙げられる。
［撥水膜１７］
　撥水膜１７は、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物からなる。この撥水膜１７は、反射防止膜１５と合わせて反射防止機能を奏するように設定された膜厚を有している。
［透明パターン１９ａ］
　透明パターン１９ａは、例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等として設けられたものであって、光透過性を有する材料で構成された島状パターンとして構成されている。本第1実施形態で用いられる透明パターン１９ａは、例えば可視光に対して光透過性を有していれば良いが、特には透明パターン１９ａを挟んで配置される各層の屈折率よりも高い屈折率を有することが好ましい。またこの透明パターン１９ａの膜厚は、透明パターン１９ａを構成する材料の屈折率と、撥水膜１７側から見た場合の透明パターン１９ａに対して求められる視認性とによって、適宜に調整される。尚、透明パターン１９ａは、異なる材料層を積層させたものであっても良い。
　このような透明パターン１９ａには、透明パターン１９ａを挟んで配置されたハードコート膜１３および低屈折率膜１５ａ-1よりも高い屈折率の材料を用いられている。このような材料には、反射防止膜１５に用いられる高屈折率膜１５ｂを構成する材料と同様の材料が好適に用いられる。これらの材料を用いて透明パターン１９ａを構成する場合、膜厚１０ｎｍ程度で透明パターン１９ａを形成する。これにより、撥水膜１７側から見た場合の透明パターン１９ａに高い視認性を得ることができる。尚、透明パターン１９ａに対して、あえて低い視認性を持たせる場合であっても、透明パターン１９ａの屈折率と膜厚とを調整すれば良い。
　以上のような構成の光学レンズ１ａは、この光学レンズ１ａを用いて構成された眼鏡の内側、すなわち装着者側に向かって配置される面上にも、レンズ基材１１側から順にハードコート膜、反射防止膜、および撥水膜がこの順に設けられても良い。
＜第1実施形態の光学レンズの製造方法＞
　図２は、上述した構成を有する第１実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。図３～図５は、上述した構成を有する第１実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図である。以下にこれらの図に基づいて、第1実施形態の光学レンズを眼鏡用に適用する場合の製造手順を説明する。
　先ず、図３Ａ～図３Ｃに示すように、レンズ基材におけるレンズ領域の外側に位置合わせ用の基準マークｍ１～ｍ４を形成する（Ｓ１）。この工程は、以下のように行う。
［図３Ａ］
　先ず、図３Ａに示すように、レンズ基材１１を用意する。レンズ基材の一例として、眼鏡用単焦点レンズを挙げて説明する。
　このレンズ基材１１に対して、幾何学中心Ｇ．Ｃ、および光学中心Ｏ．Ｃを計測によって確定する。そして、光学中心Ｏ．Ｃを含む光学座標を示す仮の点マークＭ１～Ｍ３を、レンズ基材１１の一主面側にマーク付けする。この点マークＭ１～Ｍ３は、例えば赤色のインクを用いてマーク付けされる。一例として、光学中心Ｏ．Ｃを中央の点マークＭ２として、この左右に等間隔で点マークＭ１，Ｍ３を配置する。
［図３Ｂ］
　次に、図３Ｂに示すように、オーダーに応じて作成された光学レンズに関する三次元の外形形状Ｆのデータと、レンズ基材１１において点マークＭ１～Ｍ３で示される光学座標とから、レンズ基材１１において外形形状Ｆの中心（フレーム中心）Ｆ．Ｃとなる位置を検出する。
［図３Ｃ］
　その後、図３Ｃに示すように、光学中心Ｏ．Ｃとフレーム中心Ｆ．Ｃとの関係から、レンズ基材１１に対して、レンズ領域の外形形状Ｆを確定する。そして、光学座標を示す点マークＭ１～Ｍ３に基づいて、レンズ基材１１上に外形形状Ｆの基準となる基準マークｍ１～ｍ４を形成する。これらの基準マークｍ１～ｍ４は、上下左右を識別可能である。また、眼鏡の右側レンズであるか左側レンズであるかを識別可能なデザインであると好ましい。例えば、左右を示す基準マークｍ２、ｍ４を、眼鏡の中央に向く矢印として形成する。
　また、このような基準マークｍ１～ｍ４は、外形形状Ｆで囲まれたレンズ領域の外側にマーキングする。これにより、外形形状Ｆに合わせてレンズ基材１１をシェイプカットした後には、レンズ上に基準マークｍ１～ｍ４が残らない構成とする。尚、ここでは、基準マークｍ１～ｍ４は、光学中心Ｏ．Ｃを基準としてレイアウトした場合を図示した。しかしながら、基準マークｍ１～ｍ４は、フレーム中心Ｆ．Ｃを基準としてレイアウトしても良い。
　以上のような基準マークｍ１～ｍ４は、例えばレーザマーカによって、レンズ基材１１の一主面に対して直接形成される。この際、レンズ基材１１が熱の影響で破壊されない程度のパワー設定で、レンズ基材１１に対してレーザ照射を行う。尚、基準マークｍ１～ｍ４の形成は、レーザマーカに限定されることはなく、例えばインクジェット法を適用しても良い。この際、マーカに用いるインクは、後に説明するマスキング層を除去する工程において、マスキング層と同時に除去されることのない材質を選択して用いることが重要である。さらに基準マークｍ１～ｍ４の形成は、例えばケガキマークを手書きで形成しても良い。
　以上においては、レンズ基材１１が単焦点レンズである場合においての基準マークｍ１～ｍ４の形成を説明した。しかしながら、レンズ基材１１は、単焦点レンズである場合に限定されることはなく、多焦点レンズ、累進レンズ、さらには他のレンズであっても良い。多焦点レンズを用いる場合であれば、セグメント（小玉）と呼ばれる部分の頂点を基準にフレーム中心Ｆ．Ｃを検出して外形形状Ｆを確定し、基準マークｍ１～ｍ４を形成すれば良い。また累進レンズを用いる場合であれば、隠しマーク（レイアウト基準マーク）を基準にフレーム中心Ｆ．Ｃを検出して外形形状Ｆを確定し、基準マークｍ１～ｍ４を形成すれば良い。また累進レンズを用いる場合、プリズムリファレンスポイントを中央の点マークＭ２とし、その左右に等間隔で点マークＭ１，Ｍ３を配置し、これらの点マークＭ１～Ｍ３に基づいて基準マークｍ１～ｍ４をレイアウトすれば良い。
　基準マークｍ１～ｍ４の形成後には、点マークＭ１～Ｍ３をふき取り除去する。
［図４Ａ，図４Ｂ］
　以上のようにして基準マークｍ１～ｍ４を形成した後、図４Ａの平面図、および図４Ｂの断面図（図４Ａのａ－ａ’断面に相当）に示すように、レンズ基材１１上にハードコート膜１３を成膜する（Ｓ２）。ハードコート膜１３の成膜は、例えば有機珪素化合物を溶解させた溶液を用いた浸漬法によって成膜する。
　次いで、ハードコート膜１３表面の改質処理を行う（Ｓ３）。この改質処理としては、次に行うマスキング層の形成において用いるインクに対して、ハードコート膜１３表面の濡れ性を確保するための処理を行う。ここでは、ハードコート膜１３の表面にダメージを与えることのない処理方法として、例えば酸素プラズマを用いたプラズマ処理を行う。尚、濡れ性を確保するための改質処理としては、ハードコート膜１３に対してダメージを与えることのない方法であれば、プラズマ処理に限定されることはなく、例えばイオン照射処理、コロナ放電処理、アルカリ処理等を行っても良い。
　次に、例えばインクジェット法を適用して、レンズ基材１１の一主面側の上方、すなわちここでは改質処理を施したハードコート膜１３を下地として、この下地表面上にマスキング層２１をパターン形成する（Ｓ４）。ここで形成するマスキング層２１は、レンズ基材１１の一主面側に確定した光学レンズの外形形状Ｆを全体的に覆うと共に、光学レンズに形成する透明パターンに対応する開口パターン２１ａを備えている。尚、マスキング層２１は、外形形状Ｆよりも数ｍｍ以上大きい形状で形成することが好ましく、これによって外形形状Ｆに合わせてレンズ基材１１をシェイプカットする際の誤差を吸収する。
　この際、レンズ基材１１のカーブに影響されることなく、先に作成した基準マークｍ１～ｍ４に基づいて予め設定されたレンズ基材１１上の所定位置に開口パターン２１ａを設けてマスキング層２１を印刷形成することが重要である。このためここでは、インクジェット法を適用したマスキング層２１の形成を行う。ここで適用されるインクジェット法は、型式や方式が限定されることはなく、連続型であってもオンデマンド型であっても良く、オンデマンド型であればピエゾ方式であってもサーマル方式であっても良い。
　ここでのインクジェット法によるマスキング層２１の形成は、例えば紫外線硬化型インキ（ＵＶキュアインキ）を用いる。中でも、硬化後であっても、ハードコート膜１３に対して選択的に除去可能なインクが用いられる。このようなインクとしては、例えば硬化後にエタノールやアセトンに溶解して除去することが可能である高付着性・高接着性の非吸収性素材用のいわゆる硬質ＵＶインクや軟質ＵＶインクが挙げられる。
　このようなインクを用いたインクジェット法においては、印刷条件を調整することにより、塗布ムラのない連続膜としてマスキング層２１を形成することが重要である。このような印刷条件としては、印刷ヘッドに対するレンズ基材の移動速度、移動方向の解像度、移動方向に垂直な幅方向の解像度、インク液滴のサイズ、インク液滴のドロップ周波数、同一着弾点に滴下するインク液滴数などである。これらの印刷条件は、相互に関連性を有しているため、適宜調整することによって、印刷ムラを防止したマスキング層２１の成膜を行う。
　以上のようなインクジェット法によるマスキング層２１の成膜後には、マスキング層２１に対して紫外線（ＵＶ）照射を行うことにより、マスキング層２１を構成するインクを硬化させる。
［図５Ａ］
　次に図５Ａに示すように、マスキング層２１の上方から透明材料膜１９の成膜を行う（Ｓ５）。これにより、ハードコート膜１３に対しては、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部の露出面に対して選択的に成膜処理を施す。ここでは、蒸着法によって、例えば酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）からなる屈折率２．０５～２．１５の透明材料膜１９を、予め設定された膜厚（例えば１０ｎｍ）で成膜する。この成膜においては、イオンアシスト蒸着を行うことにより、膜質および密着性良好に透明材料膜１９を成膜することが好ましい。
［図５Ｂ］
　次いで図５Ｂに示すように、ハードコート膜１３上からマスキング層２１を除去する処理を行い、マスキング層２１と共にこの上部の透明材料膜１９を選択的に除去する（Ｓ６）。ここでは、例えばマスキング層２１を溶解する溶剤（エタノールやアセトン）を用いたウェット処理により、マスキング層２１の除去を行う。これにより、マスキング層２１の開口パターン２１ａ内に成膜された透明材料膜１９部分のみを、ハードコート膜１３を介してレンズ基材１１上に残し、残された透明材料膜１９部分を透明パターン１９ａとしてレンズ基材１１上に形成する。このようにして形成された透明パターン１９ａは、マスキング層２１に形成した開口パターン２１ａと同一の位置に形成された同一形状のものとなる。
［図５Ｃ］
　次に図５Ｃに示すように、透明パターン１９ａが形成されたハードコート膜１３上に、低屈折率膜１５ａと高屈折率膜１５ｂとを交互に積層成膜した多層構造の反射防止膜１５を成膜し、さらに反射防止膜１５上に撥水膜１７を成膜する（Ｓ７）。反射防止膜１５の成膜は、イオンアシスト蒸着を適用して行うことにより、下層側の低屈折率膜１５ａ-1から順に、低屈折率膜１５ａ-7までの各層を、各組成および各膜厚で成膜する。
［図１Ａ，図１Ｂ］
　以上の後には、先の図１Ａおよび図１Ｂに示したように、撥水膜１７までが成膜されたレンズ基材１１を、レンズ基材１１に対して確定された外形形状Ｆにシェイプカットする（Ｓ８）。この際、図４Ａを参照し、レンズ基材１１における外形形状Ｆの外側に形成した基準マークｍ１～ｍ４に基づいて位置合わせされた所定位置に加工用治具を吸着させ、レンズ基材１１を加工用治具に固定する。この状態で、シェイプカット加工機を用い、基準マークｍ１～ｍ４に基づいて位置合わせされた外形形状Ｆに、レンズ基材１１をシェイプカットし、その後加工用治具を取り外して光学レンズ１ａを完成させる。その後は、外観検査を経て光学レンズ１ａを出荷する。
＜第１実施形態の効果＞
　以上説明した第１実施形態の光学レンズ製造方法では、図５Ａを用いて説明したように、マスキング層２１の上部からの成膜処理によって、マスキング層２１の開口内に処理パターンとしての透明パターン１９ａを形成している。このため、透明パターン１９ａを蒸着成膜に適する材料で構成することができる。しかも透明パターン１９ａ（処理パターン）は、マスキング層２１に形成された開口パターン２１ａの底部に露出するレンズ基材１１上に形成される。このため、インクジェット法によるマスキング層２１の形成精度に倣って、位置精度および形状精度の高い透明パターン１９ａ（処理パターン）を得ることができる。この結果、レンズ基材１１上の所定位置に、例えばインクジェット法のような高精度なパターン形成法には適さないが、蒸着成膜のような成膜には適する材料からなる透明パターン１９ａを、精度良好な処理パターンとして形成することが可能になる。
　またこのようにして得られた第１実施形態の構成を有する光学レンズ１ａは、多層構造の反射防止膜１５に対して透明パターン１９ａを積層させたことにより、透明パターン１９ａの配置部分とそれ以外の部分とで、反射防止膜１５側から光学レンズ１ａに入射した光の光反射特性が異なるものとなる。これにより、撥水膜１７を介して反射防止膜１５側からレンズ１ａを見た場合には、反射防止膜１５における反射防止機能が維持され、かつ上述した光反射特性の違いとして透明パターン１９ａを容易に視認することができる。一方、この光学レンズ１ａを眼鏡用とし、眼鏡の装着者側となる反射防止膜１５および撥水膜１７とは反対側の至近距離から光学レンズ１ａを見た場合、透明パターン１９ａが容易に視認されることはない。
　この結果、この光学レンズ１ａを用いることにより、装着者の視界を違和感なく確保することが可能でありながらも、外側から視認可能な透明パターン１９ａを、例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等として備えることでデザイン性に優れた眼鏡を構成することが可能になる。
　また本第１実施形態では、透明パターン１９ａを、レンズ基材１１と反射防止膜１５との間、より詳しくはハードコート膜１３と反射防止膜１５を構成する低屈折率膜１５ａ-1との間に配置した。これにより、反射防止膜１５においての層構造の連続性を損なうことなく、レンズ基材１１の一主面側の表面を、反射防止膜１５で一様に覆った通常のレンズ構成とすることができる。したがって、反射防止膜１５の表面を、耐摩擦性に優れた二酸化珪素（ＳｉＯ２）のような低屈折率膜１５ａ-7で一様に覆うことができ、損傷を受けにくいレンズ構成とすることができる。また、多層構造の反射防止膜１５を成膜する際のプロセスの連続性が阻害されることもない。
　さらにこのような構成において、透明パターン１９ａが、これを挟んで配置されるハードコート膜１３および低屈折率膜１５ａ-1各層の屈折率よりも高い屈折率を有する場合であれば、透明パターン１９ａが薄膜の単層構造であっても、反射防止膜１５側から光学レンズ１ａを見た場合の透明パターン１９ａの視認性の向上を図ることができる。例えば１０ｎｍの膜厚の酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）単層で構成された透明パターン１９ａを配置した場合、反射防止膜１５側から見た片面視感反射率は、透明パターン１９ａの配置部で１．６２４％、透明パターン１９ａの未配置部で０．５４５％であり、十分に高い透明パターン１９ａの視認性が得られていることが確認された。
≪２．第２実施形態≫
＜第２実施形態の光学レンズの構成＞
　図６は、第２実施形態の光学レンズの構成を説明するための平面図（図６Ａ）と、当該平面図におけるａ－ａ’断面図（図６Ｂ）である。これらの図に示す第２実施形態の光学レンズ１ｂが、第１実施形態の光学レンズ（１ａ）と異なるところは、例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等を構成する処理パターンとして設けられた透明パターン１９ｂが、開口部ｈを有する抜きパターンとして構成されているところにあり、他の構成は第１実施形態と同様である。
　このような開口部ｈを有する透明パターン１９ｂは、平面形状以外は第１実施形態で説明した島状の透明パターン（１９ａ）と同様の構成であって良い。すなわち、透明パターン１９ｂは、例えば可視光に対して光透過性を有していれば良いが、特には透明パターン１９ｂを挟んで配置される各層の屈折率よりも高い屈折率を有することが好ましい。またこの透明パターン１９ｂは、透明パターン１９ｂを構成する材料の屈折率と、撥水膜１７側から見た場合の透明パターン１９ｂに対して求められる視認性とによって、適宜に調整された膜厚を有し、さらに異なる材料層を積層させたものであっても良い。
＜第２実施形態の光学レンズの製造方法＞
　以上のような構成の第２実施形態の光学レンズ１ｂの製造方法は、第１実施形態と同様である。ただし、図４を用いて説明したマスキング層２１の形成においては、パターンを反転させたマスキング層を、例えばインクジェット法のような精度の高い形成方法の適用によって形成すれば良い。
＜第２実施形態の効果＞
　このような第２実施形態であっても、第１実施形態と同様の方法が適用されるため、第１実施形態の製造方法と同様に、レンズ基材１１上の所定位置に、例えばインクジェット法のような高精度なパターン形成方法には適さないが、蒸着成膜のような成膜には適する材料からなる透明パターン１９ｂを、精度良好な処理パターンとして形成することが可能になる。
　また第２実施形態の光学レンズ１ｂであっても、第１実施形態の光学レンズの構成と同様の構成で、ハードコート膜１３と反射防止膜１５の低屈折率膜１５ａ-1との間に、透明パターン１９ｂを積層させている。これにより、第１実施形態と同様に、この光学レンズ１ｂを用いることにより、装着者の視界を違和感なく確保することが可能でありながらも、外側から視認可能な透明パターン１９ｂを例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等として備えることでデザイン性に優れた眼鏡を構成することが可能になると共に、透明パターン１９ｂを設けたことによって多層構造の反射防止膜１５を成膜する際のプロセスの連続性が阻害されることもない。さらに透明パターン１９ｂが、これを挟んで配置されているハードコート膜１３と反射防止膜１５の低屈折率膜１５ａ-1よりも高い屈折率を有する場合であれば、第1実施形態で説明したと同様に、透明パターン１９ｂが薄膜の単層構造であっても、反射防止膜１５側から光学レンズ１ｂを見た場合の透明パターン１９ｂの視認性の向上を図ることができる。
≪３．第３実施形態≫
＜第３実施形態の光学レンズの構成＞
　図７は、第３実施形態の光学レンズの構成を説明するための平面図（図７Ａ）と、当該平面図におけるａ－ａ’断面図（図７Ｂ）である。これらの図に示す第３実施形態の光学レンズ１ｃが、他の実施形態の光学レンズ（１ａ，１ｂ）と異なるところは、例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等を構成する島状の透明パターン２９ｃ（処理パターン）が、反射防止膜１５の上部に積層して設けられているところにあり、他の構成は第１実施形態と同様である。
　このような透明パターン２９ｃは、第１実施形態および第２実施形態の光学レンズに配置した透明パターンと比較して、より光学レンズ１ｃの表面近くに配置されることになる。このため、透明パターン２９ｃは、耐摩擦性に優れた二酸化珪素（ＳｉＯ２）のような低屈折率材料を用いて構成することが好ましい。またこの透明パターン２９ｃは、透明パターン２９ｃを構成する材料の屈折率と、撥水膜１７側から見た場合の透明パターン２９ｃに対して求められる視認性とによって、適宜に調整された膜厚を有すること、さらに異なる材料層を積層させたものであっても良いことは、他の実施形態と同様である。尚、透明パターン２９ｃを積層構造とする場合、透明パターン２９ｃを構成する最上層部分が、耐摩擦性に優れた二酸化珪素（ＳｉＯ２）のような低屈折率材料を用いて構成することが好ましい。
＜第３実施形態の光学レンズの製造方法＞
　図８は、上述した構成を有する第３実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。図９および図１０は、上述した構成を有する第３実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図である。以下にこれらの図面に基づいて、第３実施形態の光学レンズを眼鏡用に適用する場合の製造手順の特徴部を説明する。
［図９Ａ］
　先ず予め、第１実施形態において図３Ａ～図３Ｃを用いて説明した手順と同様にして、レンズ基材１１の一主面側に、ここでの図示を省略した基準マーク（ｍ１～ｍ４）を形成しておく（Ｓ１１）。その後、先ずこのレンズ基材１１の一主面上にハードコート膜１３を成膜し（Ｓ１２）、次いでハードコート膜１３表面の濡れ性を確保するための改質処理を行い（Ｓ１３）、その後多層構造の反射防止膜１５を成膜する（Ｓ１４）。
　以上の成膜および処理は、第１実施形態で説明した手順と同様であり、ハードコート膜１３の成膜は、例えば有機珪素化合物を溶解させた溶液を用いた浸漬法によって成膜する。ハードコート膜１３表面の改質処理は、例えば酸素プラズマを用いたプラズマ処理を行う。さらに反射防止膜１５の成膜は、イオンアシスト蒸着を適用して行うことにより、下層側の低屈折率膜１５ａ-1から順に低屈折率膜１５ａ-7までの各層を、各組成および各膜厚で成膜する。ただし、最上層の低屈折率膜１５ａ-7は、透明パターンを積層することを考慮し、別途膜厚を調整しても良い。
［図９Ｂ］
　次に図９Ｂに示すように、反射防止膜１５における低屈折率膜１５ａ-7の上部に、第1実施形態と同様に、例えばインクジェット法を適用してマスキング層２１をパターン形成する（Ｓ１５）。ここで形成するマスキング層２１は、第１実施形態と同様であり、レンズ基材１１の一主面側に確定したレンズの外形形状を全体的に覆うと共に、光学レンズに形成する透明パターンに対応する開口パターン２１ａを備えている。またこのインクジェット法において用いるインクは、第１実施形態と同様であって、例えば硬化後にエタノールやアセトンに溶解して除去することが可能なＵＶキュアインクを用いる。
　尚、マスキング層２１の形成前には、反射防止膜１５表面の濡れ性を確保するための改質処理を行っても良い。この改質処理は、適宜の方法で行われる。またインクジェット法によるマスキング層２１の成膜後には、マスキング層２１に対して紫外線（ＵＶ）照射を行うことにより、マスキング層２１を構成するＵＶキュアインクを硬化させることも、第１実施形態と同様である。
［図１０Ａ］
　次いで図１０Ａに示すように、マスキング層２１の上方から透明材料膜２９の成膜を行う（Ｓ１６）。これにより、反射防止膜１５に対しては、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部の露出面に対して選択的に成膜処理を施す。ここでは、蒸着法によって、二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる屈折率１．４３～１．４７の透明材料膜２９を、予め設定された膜厚（例えば１０ｎｍ）で成膜する。この成膜においては、必要に応じてイオンアシスト蒸着を行うことにより、膜質および密着性良好に透明材料膜２９の成膜を行う。
［図１０Ｂ］
　その後、図１０Ｂに示すように、反射防止膜１５上からマスキング層２１を除去する処理を行い、マスキング層２１と共にこの上部の透明材料膜２９を選択的に除去する（Ｓ１７）。ここでは、例えばマスキング層２１を構成するインクを溶解する溶剤（エタノールやアセトン）を用いたウェット処理により、マスキング層２１を除去し、マスキング層２１と共に上部の透明材料膜２９の選択的な除去を行う。これにより、マスキング層２１の開口パターン２１ａ内に成膜された透明材料膜２９部分のみを、ハードコート膜１３および反射防止膜１５を介してレンズ基材１１上に残し、残された透明材料膜２９部分を透明パターン２９ｃとしてレンズ基材１１上に形成する。このようにして形成された透明パターン２９ｃは、マスキング層２１に形成した開口パターン２１ａと同一の位置に同一形状で形成されたものとなる。
［図７Ａ，図７Ｂ］
　以上の後には、先の図７に示したように、透明パターン２９ｃを覆う状態で、反射防止膜１５上に撥水膜１７を成膜する（Ｓ１８）。次いで、撥水膜１７までが成膜されたレンズ基材１１を、レンズ基材１１に対して確定された外形形状Ｆにシェイプカットする（Ｓ１９）。この際、第１実施形態で説明した手順と同様に、レンズ基材１１における外形形状Ｆの外側に形成した基準マークｍ１～ｍ４に基づいて位置合わせされた外形形状Ｆに、レンズ基材１１をシェイプカットする。
＜第３実施形態の効果＞
　以上説明した第３実施形態の光学レンズ製造方法であっても、図１０Ａを用いて説明したように、マスキング層２１の上部からの成膜処理によって、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部に処理パターンとしての透明パターン２９ｃを形成している。このため、第１実施形態と同様に、レンズ基材１１上の所定位置に、例えばインクジェット法のような高精度なパターン形成法には適さないが、蒸着成膜のような成膜には適する材料からなる透明パターン２９ｃを、精度良好な処理パターンとして形成することが可能になる。
　またこのようにして得られた第３実施形態の光学レンズ１ｃであっても、他の実施形態の光学レンズの構成と同様に、多層構造の反射防止膜１５に対して透明パターン２９ｃを積層させている。これにより、他の実施形態と同様に、この光学レンズ１ｃを用いることにより、装着者の視界を違和感なく確保することが可能でありながらも、外側から視認可能な透明パターン２９ｃを装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等として備えることでデザイン性に優れた眼鏡を構成することが可能になる。
　尚、本第３実施形態では、反射防止膜１５上に島状の透明パターン２９ｃを積層させた構成を説明した。しかしながら、第２実施形態のように反射防止膜１５上に積層する透明パターンとして開口部を有する透明パターンを用いても良く、この場合であっても本第３実施形態と同様の効果を得ることができる。
　さらに、上述した第１実施形態～第３実施形態では、反射防止膜１５の上部または下部に透明パターンを積層する構成を説明した。しかしながら、透明パターンは、多層構造の反射防止膜１５の層間に配置されても良い。この場合、透明パターンは、これを構成する材料の屈折率と、撥水膜１７側から見た場合の透明パターンに対して求められる視認性とによって、適宜に調整された膜厚を有すること、さらに異なる材料層を積層させたものであっても良いことは、上述した各実施形態と同様である。
≪４．第４実施形態≫
＜第４実施形態の光学レンズの構成＞
　図１１は、第４実施形態の光学レンズの構成を説明するための平面図（図１１Ａ）と、当該平面図におけるａ－ａ’断面図（図１１Ｂ）である。これらの図に示す第４実施形態の光学レンズ１ｄが、先の第１～第３実施形態の光学レンズ（１ａ～１ｃ）と異なるところは、処理パターンとして島状の染色パターン３１ｄが設けられているところにあり、他の構成は第１実施形態と同様である。
　すなわち処理パターンとして設けられる染色パターン３１ｄは、レンズ基材１１の凹面及び凸面のどちらか一方の面を一主面とし、この一主面側の表面層に設けられている。この染色パターン３１ｄは、撥水膜１７側から見た場合の染色パターン３１ｄに対して求められる視認性によって、レンズ基材１１の表面層における深さｄと、染色パターン３１ｄを構成する染料の濃度とが、適宜に調整されていることとする。特に、この光学レンズ１ｄが、眼鏡用の光学レンズとして用いられる場合、撥水膜１７と反対側の至近距離から光学レンズ１ｄを見た場合に、染色パターン３１ｄが容易に視認されない程度に、染色パターン３１ｄの深さと染料の濃度とが調整されていることが好ましい。
　このような染色パターン３１ｄを構成する染料は、プラスチック材料からなるレンズ基材１１を染色可能なものであれば良く、染色パターン３１ｄを形成する染色方法によって適宜な材料が用いられる。例えば昇華染色法によるレンズ基材１１の染色によって染色パターン３１ｄを形成する場合であれば、染料としては昇華性染料が用いられる。また、浸漬法による染色の場合には、浸漬法用の染料が用いられる。
　以上のような染色パターン３１ｄが設けたれたレンズ基材１１における一主面上には、他の実施形態と同様の構成のハードコート膜１３、多層構造の反射防止膜１５、および撥水膜１７がこの順に積層されている。
＜第４実施形態の光学レンズの製造方法＞
　図１２は、上述した構成を有する第４実施形態の光学レンズの製造手順を示すフローチャートである。図１３～図１４は、上述した構成を有する第４実施形態の光学レンズの製造手順を示す製造工程図である。以下にこれらの図面に基づいて、第４実施形態の光学レンズを眼鏡用に適用する場合の製造手順の特徴部を説明する。
［図１３Ａ，図１３Ｂ］
　先ず図１３Ａの平面図、および図１３Ｂの断面図（図１３Ａのａ－ａ’断面に相当）に示すように、予め、レンズ基材１１におけるレンズの外形形状Ｆを確定し、レンズ基材１１の一主面側に外形形状Ｆの基準となる基準マークｍ１～ｍ４を形成する（Ｓ２１）。この工程は、第１実施形態において図３Ａ～図３Ｃを用いて説明した手順と同様に行う。
　次に、レンズ基材１１の一主面側における表面の改質処理を行う（Ｓ２２）。この改質処理としては、次に行うマスキング層の形成において用いるインクに対して、レンズ基材１１表面の濡れ性を確保するための処理を行う。ここでは、例えばレンズ基材１１の表面にダメージを与えることのない処理方法として、例えば酸素プラズマを用いたプラズマ処理を行う。尚、濡れ性を確保するための改質処理としては、この他にもレンズ基材１１に対してダメージを与えることのない方法であれば、プラズマ処理に限定されることはなく、例えばイオン照射処理やコロナ放電処理を行っても良い。
　次に、例えばインクジェット法を適用して、改質処理を施したレンズ基材１１を下地として、この下地表面上に、第１実施形態で説明した手順と同様の手順でマスキング層２１をパターン形成する（Ｓ２３）。ここでは、第１実施形態と同様にインクジェット法を適用することにより、レンズ基材１１のカーブに影響されることなく、先に作製した基準マークｍ１～ｍ４に基づいて予め設定されたレンズ基材１１上の所定位置に開口パターン２１ａが設けられるようにマスキング層２１を印刷形成することが重要である。
［図１４Ａ］
　次に図１４Ａに示すように、マスキング層２１の上方からレンズ基材１１の染色処理を行う（Ｓ２４）。これにより、レンズ基材１１に対しては、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部の露出面に対して選択的に染色処理を施す。ここでは、例えば昇華染色を行う。この場合、例えば昇華性染料を水系溶媒に分散させたインクを基板上に塗布してなる印刷シートを用意する。この印刷シートのインク塗布面と、レンズ基材１１におけるマスキング層２１の形成面とを対向させて配置し、所定の減圧雰囲気下において印刷シートを加熱する。これにより、印刷シートの昇華性染料を昇華させ、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部に露出するレンズ基材１１を染色する。この際、マスキング層２１も染色されるが、マスキング層２１で覆われているレンズ基材１１部分は染色されることはない。このため、開口パターン２１ａの底部のみに、レンズ基材１１の表面層を染色処理してなる染色パターン３１ｄが形成される。このようにして形成された染色パターン３１ｄは、マスキング層２１に形成した開口パターン２１ａと同一の位置に形成された同一形状のものとなる。
　ここでは、染色パターン３１ｄに求められる視認性によって、レンズ基材１１の表面層における深さｄと、染色パターン３１ｄを構成する染料の濃度とを制御した染色処理を行う。このような染色処理における深さｄおよび染料の濃度は、レンズ基板11の材質毎に、印刷シートを構成する昇華性染料の濃度、および染色の処理時間の調整によって制御される。
　なお、浸漬法の場合、液体染料に浸漬させる時間や染料温度等で、濃度の制御をすることが可能である。また、浸漬法の場合、凹凸両面染色も可能であり、片面染色と両面染色でマスキングイメージの濃淡制御をすることも可能である。
［図１４Ｂ］
　次いで図１４Ｂに示すように、レンズ基材１１上からマスキング層２１を除去する処理を行う（Ｓ２５）。ここでは、例えばマスキング層２１を溶解する溶剤（エタノールやアセトン）を用いたウェット処理により、染色されたマスキング層２１の除去を行う。
［図１４Ｃ］
　その後図１４Ｃに示すように、染色パターン３１ｄが形成されたレンズ基材１１上に、ハードコート膜１３、および低屈折率膜１５ａと高屈折率膜１５ｂとを交互に積層成膜した多層構造の反射防止膜１５とをこの順に成膜し、さらに反射防止膜１５上に撥水膜１７を成膜する（Ｓ２６）。反射防止膜１５の成膜は、イオンアシスト蒸着を適用して行うことにより、下層側の低屈折率膜１５ａ-1から順に、低屈折率膜１５ａ-7までの各層を、各組成および各膜厚で成膜する。
［図１１Ａ，図１１Ｂ］
　以上の後には、先の図１１Ａおよび図１１Ｂに示したように、撥水膜１７までが成膜されたレンズ基材１１を、レンズ基材１１に対して確定された外形形状Ｆにシェイプカットする（Ｓ２７）。この際、図１３を参照し、第１実施形態で説明した手順と同様にレンズ基材１１に形成した基準マークｍ１～ｍ４に基づいて位置合わせされた外形形状Ｆに、レンズ基材１１をシェイプカットし、第４実施形態の光学レンズ１ｄを得る。
＜第４実施形態の効果＞
　以上説明した第４実施形態の光学レンズ製造方法では、図１４Ａを用いて説明したように、マスキング層２１の上部からの染色処理によって、マスキング層２１の開口パターン２１ａの底部に処理パターンとしての染色パターン３１ｄを形成している。つまり、処理パターンを、染色による染色パターン３１ｄとして形成することができる。しかも染色パターン３１ｄ（処理パターン）は、マスキング層２１に形成された開口パターン２１ａ内に形成される。このため、インクジェット法によるマスキング層２１の形成精度に倣って、形状精度の高い染色パターン３１ｄ（処理パターン）を得ることができる。この結果、レンズ基材１１の表面層の所定位置に、形状精度の高い装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等としての染色パターン３１ｄを、外側から視認可能な処理パターンとして形成することが可能になる。
≪５．第５実施形態≫
＜第５実施形態の光学レンズの構成＞
　図１５は、第５実施形態の光学レンズの構成を説明するための平面図（図１５Ａ）と、当該平面図におけるａ－ａ’断面図（図１５Ｂ）である。これらの図に示す第５実施形態の光学レンズ１ｅが、第４実施形態の光学レンズ（１ｄ）と異なるところは、染色パターン３１ｅが、開口部ｈを有する抜きパターンとして構成されているところにあり、他の構成は第４実施形態と同様である。
　このような開口部ｈを有する染色パターン３１ｅは、平面形状以外は第４実施形態で説明した島状の染色パターン（３１ｄ）と同様の構成であって良い。すなわち、染色パターン３１ｅは、撥水膜１７側から見た場合の染色パターン３１ｅに対して求められる視認性によって、レンズ基材１１の表面層における深さｄと、染色パターン３１ｅを構成する染料の濃度とが、適宜に調整されていることとする。特に、この光学レンズ１ｅが、眼鏡用の光学レンズとして用いられる場合、撥水膜１７と反対側の至近距離から光学レンズ１ｅを見た場合に、染色パターン３１ｅが容易に視認されない程度に、染色パターン３１ｅの深さと染料の濃度とが調整されていることが好ましい。
＜第５実施形態の光学レンズの製造方法＞
　以上のような構成の第５実施形態の光学レンズ１ｅの製造方法は、第４実施形態と同様である。ただし、図１３を用いて説明したマスキング層２１の形成においては、パターンを反転させたマスキング層を、インクジェット法の適用によって形成すれば良い。
＜第５実施形態の効果＞
　このような第５実施形態であっても、第４実施形態と同様の方法が適用されるため、第４実施形態の製造方法と同様の効果を得ることができる。
　尚、以上説明した第４実施形態および第５実施形態においては、マスキング層２１の上方からの昇華染色法によってレンズ基材１１の一主面側の表面層に染色パターンを形成する構成を説明した。しかしながら、染色パターンの形成が昇華染色に限定されることはなく、浸漬法や転写法のような他の染色方法を適用しても良い。
　ただし、第４実施形態および第５実施形態において説明したように、レンズ基材１１の一主面側のみにマスキング層２１を形成した状態で、例えば浸漬法のようにレンズ基材１１全体を染料にさらす方法を適用して染色処理を行った場合、マスキング層２１が形成されていないレンズ基材１１の他主面側は全面が染色処理されることになる。この場合、マスキング層２１側からの染色処理によって染色パターンを形成するには、他主面側からの染色がマスキング層２１を設けた一主面側に達することのないように、染色条件を制御した染色を行うことが重要である。尚、レンズ基材１１の一主面側と共に、他主面側におけるレンズ領域の全面をマスキング層で覆って染色処理を行うことで、レンズ基材１１の他主面側の染色を防止しても良い。
　また以上説明した第1～第５実施形態においては、眼鏡用の光学レンズに処理パターンを設ける場合を想定した説明を行った。しかしながら本発明の光学レンズ製造方法は、眼鏡用の光学レンズの製造に適用する場合に限定されることはなく、所定のレンズ領域に例えば装飾用の模様、ロゴマーク、または文字等としての処理パターンを形成する場合に広く適用可能である。
　さらに以上説明した第１～第５実施形態においては、マスキング層２１の形成をインクジェット法によって行う場合を説明した。しかしながら、マスキング層２１の形成はインクジェット法の適用に限定されることはなく、印刷法やテープの貼り付けによってマスキング層２１を形成しても良い。この場合であっても、マスキング層２１を位置および形状精度良好に形成することにより、材料を限定することなく精度良好にレンズ面に透明材料膜からなる透明パターンや染色パターンを形成することが可能になる。
　１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ…光学レンズ、１１…レンズ基材、Ｆ…外形形状（レンズ領域）、ｍ１，ｍ２，ｍ３，ｍ４…基準マーク、２１…マスキング層、１９，２９…透明材料膜、１９ａ，１９ｂ，２９ｃ…透明パターン（処理パターン）、３１ｄ，３１ｅ…染色パターン（処理パターン）

Claims (8)

  1. 　レンズ基材に設定されたレンズ領域の外側に、位置合わせ用のマークを形成する工程と、
    　前記レンズ基材の一主面側の上方に、前記マークを基準として形成位置を制御しながら前記レンズ領域の所定位置に開口を有するマスキング層をパターン形成する工程と、
    　前記マスキング層の上方からの処理により、当該マスキング層の開口底部の露出面に対して選択的な処理を施す工程と、
    　前記レンズ基材上から前記マスキング層を除去し、当該レンズ基材の一主面側に前記選択的な処理による処理パターンを形成する工程とを行う、
    　光学レンズの製造方法。
  2. 　前記選択的な処理を施す工程では、透明材料膜の成膜処理を行い、
    　前記マスキング層を除去する工程では、当該マスキング層上に成膜された前記透明材料膜を当該マスキング層と共に除去することにより、当該マスキング層の開口底部の露出面上のみに当該透明材料膜からなる透明パターンを前記処理パターンとして形成する
    　請求項１記載の光学レンズの製造方法。
  3. 　前記位置合わせ用のマークを形成した後でマスキング層をパターン形成する前、または前記処理パターンを形成した後に、前記レンズ基材の一主面側の上方に反射防止膜を形成する工程を行う
    　請求項２に記載の光学レンズの製造方法。
  4. 　前記選択的な処理を施す工程では、前記マスキング層の開口底部に対する染色処理を行うことにより、前記処理パターンとして染色パターンを形成する
    　請求項１記載の光学レンズの製造方法。
  5. 　前記処理パターンとして染色パターンを形成した後に、前記レンズ基材の一主面側の上方に反射防止膜を形成する工程を行う
    　請求項４に記載の光学レンズの製造方法。
  6. 　前記マスキング層を形成する工程の前に、当該マスキング層の下地表面に対して当該マスキング層を構成するインクに対する濡れ性を確保するための改質処理を行う
    　請求項１～５の何れかに記載の光学レンズの製造方法。
  7. 　前記処理パターンが形成された前記レンズ基材から前記レンズ領域を切り出す工程を行う
    　請求項１～６の何れかに記載の光学レンズの製造方法。
  8. 　前記マスキング層をパターン形成する工程では、インクジェット法によるパターン形成を行う
    　請求項１～７の何れかに記載の光学レンズの製造方法。
     
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