JP2018180168A - 処理パターンが形成された光学部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
そこで、本開示は、剥離工程において水系溶媒を用いて光学部材上に処理パターンを形成することが可能な光学部材の製造方法を提供することを目的とする。
レンズ基材上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、
レジストパターンが形成されたレンズ基材に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、
レジストパターンを水系溶媒により除去することで、レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターンを形成する、剥離工程と、
を備える。
上述の水溶性ポリマーを含むレジストパターン形成を用い、剥離工程において水系溶媒により除去することで、処理パターンが形成された光学部材を得ることができる。
レジストパターン形成工程において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成し、
更に、インクが水溶性ポリマーと、(メタ)アクリルモノマーとを含有する。
上述の構成により、インクを硬化させた場合であっても、インク中に水溶性ポリマーが含まれることで、剥離工程において、優れた剥離性を発揮する。
「レジストパターン」とは、処理パターンを形成する領域に露出部を有する被覆材料を意味する。レジストパターンは、マスクパターンともいう。
「水溶性」とは、25℃の水100gに対して、1g以上溶解する性質を意味し、「非水溶性」とは、25℃の水100gに対して、溶解量が1g未満である性質を意味する。
「処理パターン」とは、レジストパターンが除去されて残存した非水溶性層部分を意味する。
図1は、眼鏡レンズ1の平面図である。眼鏡レンズ1の構成について、図1を参照して、説明する。また、非水溶性層として、後から説明する金属層を用いる場合を例にとり説明する。
眼鏡レンズ1は、複数の微細なドットDが等方的に均一に配置されており、当該ドットDにより、透かしマークMが形成されている。本実施形態においては、透かしマークMを形成した例を示したが、複数の微細なドットは、全面に形成されていてもよい。
「等方的に均一に配置された」とは、一方向に一定間隔で配置されていることを意味する。「一定間隔」とは、ドットを構成する、ドット中心から隣接するドット中心までの距離が、例えば、平均値±40%以内に含まれる配列であることを意味する。
眼鏡レンズ1には、金属を含有する処理パターン15bが形成されている。
処理パターン15bには、複数の微細なドット形状の開口部15aが形成されている。当該開口部15aにより、眼鏡レンズ1のドットDが形成される。開口部15aは、等方的に均一に配置されている。開口部15aは、集合して、ロゴ等の透かしマークを形成する。このように、複数の微細なドット形状の開口部15aを等方的に均一なピッチで配置することで、視認可能な透かしマークを形成しつつも、眼鏡レンズ1の装用者の視野に与える違和感を緩和することができる。
処理パターン15bの材質である、金属としては、例えば、Cr、Ta、Nb、Ti、Zr、Au、Ag、及びAlの中から選ばれる少なくとも一種の金属を含み、好ましくはCrである。なお、処理パターン15bの材質を金属とすることで帯電防止の効果も発揮される。
さらに、図2を参照してレンズ基材11を説明する。レンズ基材11は、第一主面111、第二主面112、及びコバ面(図示せず)を有する。
レンズ基材11の材質としては、プラスチックであっても、無機ガラスであってもよい。基材の材質は、例えば、ポリチオウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等のポリウレタン系材料、ポリスルフィド樹脂等のエピチオ系材料、ポリカーボネート系材料、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系材料、等が挙げられる。
レンズ基材11としては、通常無色のものが使用されるが、透明性を損なわない範囲で着色したものを使用することもできる。
レンズ基材11の屈折率は、例えば、1.50以上1.74以下である。
レンズ基材11として、フィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズのいずれであってもよい。
レンズ基材11の表面形状は特に限定されず、平面、凸面、凹面等のいずれであってもよい。
本開示の眼鏡レンズは、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれであってもよい。累進屈折力レンズについては、通常、近用部領域(近用部)及び累進部領域(中間領域)が、前述の下方領域に含まれ、遠用部領域(遠用部)が上方領域に含まれる。
ハードコート層13は、例えば、無機酸化物粒子とケイ素化合物とを含む硬化性組成物を硬化して得られる。ハードコート層13は、レンズ基材11の材質に応じて組成が選択される。なお、ハードコート層13の屈折率(nD)は、例えば、1.50以上1.74以下である。
反射防止層17は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。このような反射防止層17は、一例として低屈折率層17Lと高屈折率層17Hとを多層積層してなる多層構造が挙げられる。低屈折率層17Lの屈折率は、波長500〜550nmで例えば、1.35〜1.80である。高屈折率層17Hの屈折率は、波長500〜550nmで例えば、1.90〜2.60である。
低屈折率層17Lは、例えば、屈折率1.43〜1.47程度の二酸化珪素(SiO2)からなる。また高屈折率層17Hは、低屈折率層17Lよりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)等の金属酸化物を、適宜の割合で用いて構成される。
撥水層19は、例えば、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含有する。この撥水層19は、反射防止層17と合わせて反射防止機能を奏するように設定された膜厚を有している。
次に、図3を参照して、本実施の形態に係る光学部材の製造方法について説明する。図3は、眼鏡レンズ1の製造方法を示すフロー図である。図4〜図6は、上述の構成を有する実施の形態に係る眼鏡レンズ1の製造方法を示す工程図である。
図4は、レジストパターン形成工程(S2)の工程図である。図4の(A)に示されるように、レジストパターン形成工程(S2)では、インクジェットノズル51から複数の液滴dを吐出する。続いて、図4の(B)に示されるように、吐出された液滴は、眼鏡レンズ1の表面で他の液滴dと結合し、1つのドット部21aを形成する。このように複数の液滴dが集合したドット部21aが配列し、レジストパターンを形成する。続いて、図4の(C)に示されるように、レジストパターン形成後には、レジストパターン21に対して紫外線照射装置6を用いて紫外線(UV)等の光照射により、レジストパターン21を硬化させる。
レジストパターン21の形成により、眼鏡レンズ1上に、ドット部21aの集合体による文字及び図形等のマークが形成される。
眼鏡レンズ1上に、円状のドットを形成する観点から、形成面は疎水性が高い方が好ましく、例えば、プラズマ処理、イオン照射処理、コロナ放電処理、アルカリ処理等の親水化処理が行われていない表面にレジストパターン形成することが好ましい。
インクジェット記録法に用いられるインクは、後述の剥離工程(S4)において水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、及び、インクの吐出安定性の観点から、好ましくは水溶性ポリマーを含み、水系溶媒による優れた剥離性と、硬化性とを得る観点から、より好ましくは水溶性ポリマーと(メタ)アクリルモノマーとを含む。
水溶性ポリマーの重量平均分子量は、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは100以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上、更に好ましくは1,000以上、更に好ましくは5,000以上であり、そして、好ましくは100,000以下、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、より好ましくは30,000以下、更に好ましくは15,000以下である。
水溶性ポリマーの含有量は、インク中、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、更に好ましくは3質量%以上であり、そして、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは10質量%以下、更に好ましくは8質量%以下、優れた硬化性を得る観点から、更に好ましくは5質量%以下、更に好ましくは4質量%以下である。
(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートから選ばれる少なくとも1種を意味する。
アルコキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートのアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜4であり、より好ましくは1〜3であり、更に好ましくは1又は2である。
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。アルコキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。エトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートとしては、例えば、エトキシジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシトリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、アルコキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレートがより好ましく、メトキシトリエチレングリコールモノアクリレートが更に好ましい。
単官能(メタ)アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは10質量%以上、より好ましくは20質量%以上、更に好ましくは30質量%以上であり、そして、好ましくは70質量%以下、より好ましくは60質量%以下、更に好ましくは50質量%以下である。
多官能(メタ)アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは1質量%以上、より好ましくは3質量%以上、更に好ましくは5質量%以上であり、そして、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは10質量%以下である。
多官能(メタ)アクリレート/単官能(メタ)アクリレートの質量比は、硬化性の観点から、好ましくは5/95以上、より好ましくは8/92以上、更に好ましくは10/90以上であり、そして、好ましくは40/60以下、より好ましくは30/70以下、更に好ましくは20/80以下である。
光重合開始剤としては、例えば、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]―2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンが挙げられる。
光重合開始剤の含有量は、インク中、硬化性を高める観点から、好ましくは1質量%以上、より好ましくは3質量%以上、更に好ましくは5質量%以上であり、そして、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは10質量%以下である。
光重合開始剤の含有量は、(メタ)アクリレートの合計量の100質量部に対して、硬化性の観点から、好ましくは5質量部以上、より好ましくは8質量部以上、更に好ましくは10質量部以上であり、そして、好ましくは40質量部以下、より好ましくは30質量部以下、更に好ましくは20質量部以下である。
高沸点溶媒の沸点は、好ましくは150℃以上、より好ましくは160℃以上、更に好ましくは170℃以上、更に好ましくは180℃以上であり、そして、好ましくは350℃以下、より好ましくは330℃以下、更に好ましくは300℃以下である。
高沸点溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のオキシエチレン又はオキシプロピレン付加重合体;プロピレングリコール等のジオール類;グリセリン等のトリオール類;チオジグリコール;トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の低級アルキルグリコールエーテル類;トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等の低級ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。これらは単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プロピレングリコールが好ましい。
高沸点溶媒の含有量は、インク中、好ましくは5質量%以上、より好ましくは10質量%以上、更に好ましくは15質量%以上であり、そして、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは20質量%以下である。
水としては、例えば、水道水、純水、イオン交換水等が挙げられる。
水の含有量は、インク中、好ましくは10質量%以上、より好ましくは20質量%以上、更に好ましくは30質量%以上であり、そして、好ましくは80質量%以下、より好ましくは70質量%以下、更に好ましくは60質量%以下である。
印刷条件としては、印刷ヘッドに対するレンズ基材の移動速度、移動方向の解像度、移動方向に垂直な幅方向の解像度、インク液滴のサイズ、インク液滴のドロップ周波数、同一着弾点に滴下するインク液滴数などである。これらの印刷条件は、相互に関連性を有しているため、適宜調整することによって、レジストパターン21の形成を行う。
ドット部21aの中心から隣接するドット部21aの中心の間隔ADは、例えば、0.1mm以上、好ましくは0.2mm以上、より好ましくは0.3mm以上であり、そして、例えば、5.0mm以下、好ましくは3.0mm以下、より好ましくは1.0mm以下である。
ドットの直径DDは、例えば、0.01mm以上、より好ましくは0.05mm以上、更に好ましくは0.1mm以上であり、そして、例えば、5.0mm以下、好ましくは2.0mm以下、より好ましくは1.0mm以下、更に好ましくは0.5mm以下である。
間隔AD/直径DDは、好ましくは1.0超、より好ましくは1.1以上、更に好ましくは1.2以上であり、そして、好ましくは2.0以下、より好ましくは1.8以下、更に好ましくは1.5以下である。
図5は、非水溶性層形成工程(S3)の模式図である。図5に示されるように、例えば、非水溶性層形成工程(S3)では、蒸着装置7により、非水溶性層として、金属層15を蒸着する。
図6は、剥離工程(S4)後の眼鏡レンズ1の断面図の一部である。図6に示されるように、例えば、剥離工程では、水系溶媒により、水溶性ポリマーを含むレジストパターン21が除去されることで、レジストパターン21上に形成された金属層が剥離され、開口部15aと処理パターン15bが形成された眼鏡レンズ1が得られる。レジストパターンの剥離に有機溶媒が使用されていたときのような、眼鏡レンズ表面が侵食されることを防ぎ、水系溶媒を使用することで表面の浸食を抑制しつつ、処理パターンが形成された眼鏡レンズを得ることができる。
水系溶媒とは、水を60質量%以上含有する溶媒を意味する。水系溶媒としては、水が好ましい。水系溶媒に、水以外に含まれうる溶媒としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒が挙げられる。
水系溶媒中、水の含有量は、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上、更に好ましくは95質量%以上、更に好ましくは100質量%である。
浸漬時に、超音波照射を行ってもよい。超音波の周波数は、例えば、29kHz以上50kHz以下である。
剥離工程により、レジストパターンのドット部21a上の金属層15が剥離され、ドット部21aと同一の位置に形成された同一形状の開口部15aが金属層15に形成され、処理パターン15bが形成される。
機能層として、例えば、反射防止層17、撥水層19が形成される。
反射防止層17は、低屈折率層17Lと高屈折率層17Hとを交互に積層してなる。反射防止層17は、下層側の低屈折率層17Lから順に各層を、各組成及び各膜厚で成膜する。この成膜は、イオンアシスト蒸着を適用してもよい。
また、最表面に撥水層19を更に形成してもよい。
また、実施例に記載した組成に対し、発明の詳細な説明に記載した組成となるように調整を行えば、クレームした組成範囲全域にわたって実施例と同様に開示の実施の形態を実施することができる。
各種物性の測定方法及び評価方法は、以下の方法により行った。
インクのpHは、温度25℃の条件下、pHメーター(株式会社堀場製作所製、商品名「D−51」)を用い、ガラス電極法により測定した。
インクの粘度は、JIS Z 8803:2011に準拠して、温度25℃の条件下、音叉型振動式粘度計(株式会社エー・アンド・ディー製、商品名「SV−10」)で測定した。
眼鏡レンズ用モノマー(三井化学株式会社製、商品名「MR8」)により製造した眼鏡用レンズ基材に、ハードコート液(HOYA株式会社製、商品名「HC60S」)にて形成したハードコート層を設けたレンズ基材上にインクを滴下し、JIS R 3257:1990 6.静滴法に記載の方法により、接触角を測定した。
<インクの調製>
サンプル瓶に、ポリエチレングリコールジアクリレート(平均付加モル数14,CAS No,26570−48−9)、メトキシトリエチレングリコールアクリレート(CAS No.48067−72−7)及び水を加え、撹拌した。その後、プロピレングリコールを加え、更に撹拌した。更に、1質量%NaOH水溶液を添加し、pHを調整した。その後さらに、光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(CAS No.106797−53−9)を添加して撹拌し、20質量%のポリビニルピロリドン水溶液(重量平均分子量10,000,CAS No.9003−39−8)を添加し撹拌して、フィルタリングを行って不溶分を取り除き、表1に示す組成の目的のpH7のインク1〜6を得た。得られたインクについて、粘度測定、接触角測定を行い、その結果を表1に示した。
眼鏡レンズ用モノマー(三井化学株式会社製、商品名「MR8」)により製造した眼鏡用レンズ基材に、ハードコート液(HOYA株式会社製、商品名「HC60S」)にて形成したハードコート層を設けたレンズ基材上に、上記の得られたインクを用いて、ノズル(京セラ株式会社製、商品名「KJ4A」)を装着したインクジェット装置により、9600×600dpiのドット密度で、印字幅108mmで、ドット間隔0.432nm、ドット直径0.323nmの格子状のドットのレジストパターンを形成した(レンズ基材の片主面側のハードコート層上に全面に形成した。)。なお、1ドットあたりの液滴量は、2400plとした。レジストパターンを形成後、ライン式UV−LED(HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社製、商品名「H−16LH4−V1−SM2」)により波長365nmで照射量900mJ/cm2で照射し、眼鏡用レンズ基材上のレジストパターンを硬化した。当該レジストパターンは、円状のドットで、格子欠陥なく作成できた。
〔UV硬化性の評価〕
硬化後のレジストパターンのドットの状態を観察し、以下の基準でUV硬化性の評価を行った。
A:完全に硬化している
B:柔軟性がやや残った状態で硬化している
C:柔軟性が残った状態で硬化している
D:硬化しない
クロム単層を蒸着した眼鏡用レンズ基材を20℃の水中に5分浸漬、又は、20℃の水中に浸漬して超音波を5分間照射し、開口部を有するクロム単層による処理パターンが形成された眼鏡レンズを得た。眼鏡レンズ表面の浸食は観察されなかった。
〔剥離性の評価〕
剥離性の評価は、レジストパターンを構成するドットの除去個数割合(%)により行った。
表中、剥離性「USなし」とは、超音波照射なしでの評価結果を意味し、剥離性「USあり」とは、超音波照射ありでの評価結果を意味する。
ポリビニルピロリドン水溶液を添加せず、表1に示す組成とした以外は、実施例1と同様の方法によりインク51を得、レジストパターン形成、処理パターン形成及びその評価を行った。
PVP:ポリビニルピロリドン(重量平均分子量10,000,CAS No.9003−39−8)
PEGDA:ポリエチレングリコールジアクリレート(平均付加モル数14,CAS No,26570−48−9)
MEA:メトキシトリエチレングリコールアクリレート(CAS No.48067−72−7)
PG:プロピレングリコール(沸点 188℃)
PI−1:1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(CAS No.106797−53−9)
本開示の一実施の形態であるパターンが形成された光学部材の製造方法は、図1乃至図4に示すように、
レンズ基材11上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターン21を形成する、レジストパターン形成工程(S2)と、
レジストパターン21が形成されたレンズ基材に非水溶性層(例えば、金属層15)を形成する、非水溶性層形成工程(S3)と、
レジストパターン21を水系溶媒により除去することで、レジストパターン21上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターン15bを形成する、剥離工程(S4)と、
を備える。
上述の水溶性ポリマーを含むレジストパターン21を用い、剥離工程(S4)において水系溶媒により、レジストパターン21を除去することで、上記パターンが形成された光学部材を得ることができる。
レジストパターン形成工程(S2)において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成し、
更に、インクが水溶性ポリマーと、(メタ)アクリルモノマーとを含有する。
上述の構成により、インクを硬化させた場合であっても、インク中に水溶性ポリマーが含まれることで、剥離工程において、優れた剥離性を発揮する。
レンズ基材上に、レジストパターン21を形成する、レジストパターン形成工程(S2)と、
レジストパターン21が形成されたレンズ基材に非水溶性層(例えば、金属層15)を形成する、非水溶性層形成工程(S3)と、
レジストパターン21を水系溶媒により除去することで、レジストパターン21上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターン15bを形成する、剥離工程(S4)と、
を備える。
レジストパターン形成工程(S2)において、インクを硬化させてレジストパターンを形成し、
インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、好ましくは25°以上65°以下である。
上述の構成により、レジストパターンのドット形状を真円に近づけることができる。
11:レンズ基材
13:ハードコート層
15:金属層
15a:開口部
15b:処理パターン
17:反射防止層
17L:低屈折率層
17H:高屈折率層
19:撥水層
21:レジストパターン
21a:ドット部
D:ドット
M:透かしマーク
Claims (16)
- 処理パターンが形成された光学部材の製造方法であって、
レンズ基材上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンが形成された前記レンズ基材に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、
前記レジストパターンを水系溶媒により除去することで、前記レジストパターン上に形成された非水溶性層を剥離し、処理パターンを形成する、剥離工程と、
を備える、光学部材の製造方法。 - 前記水溶性ポリマーが、ポリビニルピロリドンである、請求項1に記載の光学部材の製造方法。
- 前記水溶性ポリマーが、重量平均分子量100以上30,000以下である、請求項1又は2に記載の光学部材の製造方法。
- 前記レジストパターン形成工程において、水溶性ポリマーを含むインクを硬化させてレジストパターンを形成する、請求項1〜3のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記インクが、水溶性ポリマーと、(メタ)アクリルモノマーとを含有する、請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 前記インクが、光重合開始剤を更に含み、
前記レジストパターン形成工程において、レジストパターン形成後、光照射する、請求項4又は5に記載の光学部材の製造方法。 - 前記レジストパターン形成工程において、インクジェット記録法によりレジストパターンを形成する、請求項4〜6のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記インクが、高沸点溶媒を更に含む、請求項4〜7のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、25°以上65°以下である、請求項4〜8のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記非水溶性層が、金属層である、請求項1〜9のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記非水溶性層形成工程は、非水溶性層を蒸着により形成する、請求項1〜10のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記レジストパターンが、等方的に均一に配置された複数のドット部を有する、請求項1〜11のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記ドット部の中心から隣接するドット部の中心との間隔が、0.1mm以上5.0mm以下である、請求項12に記載の光学部材の製造方法。
- 前記レンズ基材上に、ハードコート層を形成する、ハードコート形成工程を、レジストパターン形成工程前に更に有する、請求項1〜13のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記剥離工程後、機能層を形成する、機能層形成工程を更に有する、請求項1〜14のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
- 前記光学部材が眼鏡レンズである、請求項1〜15のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017077067A JP2018180168A (ja) | 2017-04-07 | 2017-04-07 | 処理パターンが形成された光学部材の製造方法 |
US15/788,264 US20180292754A1 (en) | 2017-04-07 | 2017-10-19 | Method for producing optical component having processed pattern formed thereon |
EP18164972.4A EP3385067A3 (en) | 2017-04-07 | 2018-03-29 | Method for producing optical component having a processed pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017077067A JP2018180168A (ja) | 2017-04-07 | 2017-04-07 | 処理パターンが形成された光学部材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018180168A true JP2018180168A (ja) | 2018-11-15 |
Family
ID=62067322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017077067A Pending JP2018180168A (ja) | 2017-04-07 | 2017-04-07 | 処理パターンが形成された光学部材の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180292754A1 (ja) |
EP (1) | EP3385067A3 (ja) |
JP (1) | JP2018180168A (ja) |
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EP3889675A2 (en) | 2020-03-30 | 2021-10-06 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Method for producing lens member and lens member |
EP3889658A1 (en) | 2020-03-30 | 2021-10-06 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Lens positioning mechanism, lens producing apparatus, and method for producing lens member |
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EP3889659A1 (en) | 2020-03-30 | 2021-10-06 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Lens positioning mechanism, lens producing apparatus, and method for producing lens member |
EP3889675A2 (en) | 2020-03-30 | 2021-10-06 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Method for producing lens member and lens member |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3385067A2 (en) | 2018-10-10 |
US20180292754A1 (en) | 2018-10-11 |
EP3385067A3 (en) | 2019-01-09 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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