WO2012029552A1 - ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法 - Google Patents

ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法 Download PDF

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equipment
filling
cleaning method
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靖史 伊藤
浩一 青木
慎一 徳永
稔 吉澤
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三菱重工食品包装機械株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B67C—CLEANING, FILLING WITH LIQUIDS OR SEMILIQUIDS, OR EMPTYING, OF BOTTLES, JARS, CANS, CASKS, BARRELS, OR SIMILAR CONTAINERS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; FUNNELS
    • B67C3/00—Bottling liquids or semiliquids; Filling jars or cans with liquids or semiliquids using bottling or like apparatus; Filling casks or barrels with liquids or semiliquids
    • B67C3/001—Cleaning of filling devices

Definitions

  • the present invention relates to a filling device that fills containers such as bottles and cans, a liquid processing device for filling liquid, or a piping device that connects these devices, after the production of the device or before the start of production.
  • the present invention relates to an equipment cleaning method when performing cleaning such as stationary cleaning.
  • FIG. 5 is a schematic flowchart showing a conventional apparatus cleaning method.
  • FIG. 6 is a view for explaining dirt after cleaning of the pipe connection portion in FIG.
  • the filling device 4 and the piping device 4p first, after completion of the filling production, the hot water is discharged from the hot water cleaning liquid tank 7 by the pump P7 based on the control command from the control device 17. It is sent to the liquid processing equipment 3, the piping equipment 4p and the filling equipment 4 through the switching valve V7 and the heating device 8 as shown in the figure, and further to the hot water washing liquid tank 7 through the switching valve V10 by the pump P4. The warm water is circulated back, or the hot water rinsing process is performed for a predetermined time through the switching valve V11, the switching valve V9, and the switching valve V8.
  • the acid cleaning liquid is supplied from the acid cleaning liquid tank 6 by the pump P 7 via the switching valve V 6, the switching valve V 7, and the heating device 8 as shown by the arrow in the figure.
  • the acid cleaning solution is circulated for a predetermined time by being sent to the piping device 4p and the filling device 4, and further returned to the acid cleaning solution tank 6 via the switching valve V10 and the switching valve V9 by the pump P4.
  • the above-described hot water circulation or hot water rinsing step is performed for a predetermined time.
  • the caustic cleaning liquid is fed from the caustic cleaning liquid tank 5 by the pump P 7 through the switching valve V 5, the switching valve V 7, and the heating device 8 as shown by the arrow in the figure.
  • the control is performed.
  • the hot water circulation or hot water rinsing step described above is performed for a predetermined time.
  • the ferrule 31 h and the ferrule 32 h that connect the piping 31 and the piping 32 are connected by the ferrule joint 34 via the O-ring 33. It is designed to be connected liquid-tight.
  • Patent Document 1 a liquid containing bubbles having a size of 1 micrometer ( ⁇ m) or more is supplied to a storage tank, and ultrasonic vibration by an ultrasonic vibration device is applied to the liquid. It is supposed to generate nanobubbles.
  • a technique for generating nanobubbles is disclosed, but a liquid containing nanobubbles such as a filling device of a filling line, a liquid processing device or a piping device connecting these devices is used. No device cleaning technique is disclosed.
  • the present invention relates to a place in contact with a filling liquid in a cleaning method for stationary cleaning of equipment such as a filling device for filling a beverage such as a bottle or a can, a liquid processing device for a filling liquid, or a piping device connected to the device.
  • the purpose of the present invention is to provide a device cleaning method that can greatly improve the degree of cleaning, reduce the cleaning time, and reduce the amount of utility such as cleaning liquid.
  • An apparatus cleaning method includes a filling device that fills a container such as a bottle or a can with a beverage, a liquid processing device for a filling liquid, or a liquid passage of a piping device that connects the filling device and the liquid processing device.
  • the said structure By having the said structure, it can wash
  • the nanobubbles are composed of microbubbles such as air and nitrogen gas, so that post-treatment such as neutralization when the drug is used is not necessary.
  • the liquid may be water.
  • the said structure By having the said structure, it can wash
  • the nanobubbles are composed of microbubbles such as air and nitrogen gas, so that post-treatment such as neutralization when the drug is used is not necessary.
  • cleaning method which is the said aspect may further be equipped with the washing
  • the stationary time in the said stationary soaking process may be in the range of 1 minute to 30 minutes.
  • ozone gas may be sufficient as the gas which comprises the said nano bubble.
  • the apparatus cleaning method is a stationary cleaning of a liquid passage of a device such as a filling device for filling a beverage such as a bottle or a can, a liquid processing device for a filling liquid, or a piping device connected to the device.
  • the stationary soaking step of the liquid containing the nanobubbles or the nanobubble water of the device is performed as a pre-process of the cleaning step with the chemical of the device, so that the dirt adhering to the liquid passage is adsorbed by the nanobubbles.
  • the action of detachment it is possible to perform cleaning with a high degree of cleaning, to shorten the time for stationary cleaning, and to reduce the amount of chemicals used during stationary cleaning.
  • nanobubbles are composed of microbubbles such as air and nitrogen gas, the effect of eliminating post-treatment such as neutralization when chemicals are used There is.
  • cleaning can be efficiently performed by having made the predetermined time of the stationary immersion process of the liquid containing the said nanobubble or the said nanobubble water from 1 minute to the maximum 30 minutes. It has the effect.
  • the equipment cleaning method according to the aspect of the present invention has an effect that a bactericidal action and a deodorizing action are added by using ozone gas as the gas constituting the nanobubbles.
  • FIG. 1 is a schematic flowchart showing an apparatus cleaning method according to the first embodiment of the present invention, and shows only the main part.
  • FIG. 2 is a diagram showing a dirty portion in the back of the gap of the pipe connecting portion for explaining the cleaning action by immersion of nanobubble water of the present invention, and is a diagram corresponding to a partially enlarged view of FIG. ) Is a state in which the surface of the device before cleaning is dirty, (b) is a state in which nanobubbles are adsorbed to the soil by immersion of nanobubble water, and (c) is a state in which the soil is detached from the device due to nanobubbles from the soiled location. It is a figure which shows a state.
  • FIG. 1 and FIG. 2 the same parts as those in FIG. 5 and FIG.
  • generation apparatus 1 is sent to the nano bubble water tank 2 with the pump P1, and is stored.
  • the nanobubble water generator 1 has been introduced in Japanese Patent Application Publication No. 2006-289183 and the like, and thus detailed description thereof is omitted here.
  • the hot water is switched from the hot water cleaning liquid tank 7 to the switching valve V7 by the pump P7 on the basis of a control command from the control device 15 after the completion of the filling production.
  • Hot water circulation that is sent to the liquid processing equipment 3, the piping equipment 4p and the filling equipment 4 as shown by the arrow through the heating device 8, and then returned to the hot water washing liquid tank 7 through the switching valve V10 by the pump P4.
  • a hot water rinsing process is performed for a predetermined time through the switching valve V10, the switching valve V9, and the switching valve V8 and discharged from the switching valve V11 to the outside in the direction of arrow E.
  • the liquid processing device 3, the piping device 4p, and the filling device 4 are immersed in nanobubble water.
  • the nanobubble water immersed in the liquid passages of the liquid processing device 3, the piping device 4p, and the filling device 4 for a predetermined time is switched by a pump P4 based on a control command from the control device 15 It is discharged out of the system in the direction of arrow E from the switching valve V11 via V10, the switching valve V9, and the switching valve V8.
  • the nanobubble water immersed in the liquid passages of the liquid processing device 3, the piping device 4p, and the filling device 4 for a predetermined time may be switched by the pump P4 depending on the purpose of use by the switching valve V10, the switching valve V9, the switching valve V8, and the switching valve. Although it may return to the said nano bubble water tank 2 via V11 as shown by the dashed-two dotted line in the figure, detailed description is abbreviate
  • an acid cleaning liquid is supplied from the acid cleaning liquid tank 6 to the switching valve V6, the switching valve V7, and the switching valve by the pump P7 based on a control command from the control device 15.
  • V2 is sent to the liquid processing device 3, the piping device 4p and the filling device 4 as shown by the arrow through the heating device 8, and is further pumped by the pump P4 via the switching valve V10 and the switching valve V9.
  • the acid cleaning liquid is circulated for a predetermined time.
  • the hot water circulation or hot water rinsing process described above is performed for a predetermined time.
  • the caustic cleaning liquid is switched from the caustic cleaning liquid tank 5 by the pump P7 to the switching valve V5, the switching valve V7, and the switching valve.
  • V2 is sent to the liquid processing device 3, the piping device 4p and the filling device 4 through the heating device 8 as shown by the arrow in the figure, and further via the switching valve V10, the switching valve V9 and the switching valve V8 by the pump P4.
  • the caustic cleaning liquid is returned to the caustic cleaning liquid tank 5 for a predetermined time.
  • the above-described hot water circulation or hot water rinsing step is performed for a predetermined time.
  • the heating device 8 is configured to heat the cleaning liquid or the like to a predetermined temperature according to a command from the control device 15, but detailed description thereof is omitted.
  • acid and caustic only one of acid and caustic may be used, and neither acid nor caustic may be used.
  • other chemicals different from acid and caustic are used, and they are selected depending on the contamination of the object to be fixedly cleaned, but a detailed description thereof is omitted.
  • FIGS. 3A and 3B are diagrams for explaining the time reduction of stationary cleaning by immersion of nanobubble water according to the present invention.
  • FIG. 3A shows a conventional stationary cleaning process and cleaning time
  • FIG. 3B shows the stationary cleaning process and cleaning of the present invention. Show time.
  • the coffee grinder baked on the apparatus after filling with the coffee beverage has the time of warm water cleaning, acid cleaning, warm water cleaning, caustic cleaning, and warm water cleaning, respectively.
  • the coffee cake baked into the apparatus after filling with the coffee beverage is washed with warm water, immersed in nanobubble water, acid washed, washed with warm water, caustic washed, The hot water was washed for 1 minute, 10 minutes, 3 minutes, 10 minutes, 4.5 minutes, and 10 minutes, respectively, and the total washing time was 38.5 minutes.
  • the cleaning time is 16.5 minutes compared to the conventional cleaning method by stationary cleaning by immersion of nanobubble water. Time, that is, 30% of the time, and the consumption of the acid cleaning solution, caustic cleaning solution and hot water could be reduced.
  • the conventional equipment cleaning method by stationary cleaning when the time of hot water cleaning, acid cleaning, hot water cleaning, caustic cleaning, hot water cleaning is 1 minute, 3 minutes, 10 minutes, 4.5 minutes, 10 minutes, respectively However, the coffee grinder remained dirty and did not clean properly.
  • the gas of the nano bubble or the micro bubble includes nitrogen, ozone, etc. in addition to air.
  • ozone gas when ozone gas is used, a bactericidal effect and a deodorizing effect by ozone are added, and the filling liquid line of the food and beverage is fixed. Cleaning is effective.
  • FIG. 4 is a partially enlarged view of an apparatus incorporating the apparatus cleaning method according to the second embodiment of the present invention.
  • An ultrasonic oscillation device 40 having a power supply terminal (not shown) is provided in the middle of the piping device 4p.
  • the ultrasonic oscillation device 40 has a vibrating surface 41 that is double-fastened via a packing 42 toward the liquid Q. It is configured to be attached by a tool 43 and is controlled by the control device 16.
  • the ultrasonic oscillation device 40 oscillates ultrasonically for a predetermined time in response to a command from the control device 16. 2 (b) and 2 (c), the separation of the dirt D by the nanobubbles B is promoted, and the movement of the detached dirt D is promoted to shorten the time for cleaning the equipment and improve the cleaning degree. There is an effect.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

　びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器又は前記機器を接続する配管機器等の機器を定置洗浄する洗浄方法において、充填液に接する箇所の洗浄度を大幅に向上させ、しかも洗浄時間を短縮でき、洗浄液等のユーティリティの使用量を軽減できる機器洗浄方法を提供する。びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器（４）、充填液の液処理機器（３）、又は前記機器を接続する配管機器（４ｐ）等の機器の液通路を定置洗浄する洗浄方法において、前記機器にナノバブルを含んだ液体を送液して所定時間静置浸漬する。

Description

ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法
　本発明は、びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器或いは充填液の液処理機器或いはこれらの機器を接続する配管機器等の機器において、該機器を生産終了後或いは生産開始前に定置洗浄等の洗浄を行う際の機器洗浄方法に関する。
　本願は、２０１０年８月３０日に、日本に出願された特願２０１０－１９２６１９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器或いは充填液の液処理機器或いはこれらの機器を接続する配管機器等の機器の液通路を、生産終了後或いは生産開始前に定置洗浄を行う場合、一般的には温水の循環あるいは一回すすぎ、酸、苛性等の薬剤の循環を行って洗浄している。
　近年、洗浄用の液体に直径が１マイクロメートル（μｍ）以下の小さい気泡（ナノバブル）が含まれていると、洗浄効果を高める等の効果があることが分り、ナノバブルの生成に関する研究が行われている（特許文献１）。
特開２００６－２８９１８３号公報（図１～図１０）
　びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器或いは充填液の液処理機器或いはこれらの機器を接続する配管機器等の機器の従来の定置洗浄方法について、図５および図６に基づいて説明する。
　図５は、従来の機器洗浄方法を示した概略フロー図である。
　図６は、図５における配管接続部の洗浄後の汚れを説明する図である。
　図において、液処理機器３、充填機器４および配管機器４ｐの定置洗浄では、まず最初に、充填生産終了後に制御装置１７からの制御指令に基づいて、温水が温水洗浄液タンク７からポンプＰ７によって、切替えバルブＶ７、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって、切替えバルブＶ１０を経由して温水洗浄液タンク７へ戻されるという温水循環、或いは、切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８を経て切替えバルブＶ１１より矢印Ｅの方向の系外へ排出される温水すすぎ工程が所定時間なされる。次いで、制御装置１７からの制御指令に基づいて、酸洗浄液が酸洗浄液タンク６からポンプＰ７によって、切替えバルブＶ６、切替えバルブＶ７、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって、切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９を経由して酸洗浄液タンク６へ戻されるという酸洗浄液循環が所定時間なされる。次いで、制御装置１７からの制御指令に基づいて、前記説明の温水循環或いは温水すすぎ工程が所定時間なされる。次いで、制御装置１７からの制御指令に基づいて、苛性洗浄液が苛性洗浄液タンク５からポンプＰ７によって、切替えバルブＶ５、切替えバルブＶ７、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８を経由して苛性洗浄液タンク５へ戻されるという苛性洗浄液循環が所定時間なされた後、制御装置１７からの制御指令に基づいて前記説明の温水循環或いは温水すすぎ工程が所定時間なされるようになっている。
　なお、前記液処理機器３、充填機器４およびこれらの機器を接続する配管機器４ｐでは、配管３１と配管３２を接続するそれぞれのヘルール３１ｈとヘルール３２ｈが、Ｏリング３３を介してヘルール継手３４によって液密に接続されるようになっている。
　しかしながら、図５および図６に示す従来の定置洗浄では、配管機器４ｐの前記接続部において、ヘルール３１ｈとヘルール３２ｈとの間に隙間３５があり、この隙間３５の洗浄が十分に行われないという恐れがある。特に、前記隙間３５の奥のＯリング３３に面した箇所３５ｐは洗浄が不十分となり、食品衛生上好ましくない状態となる恐れがある。なお、前記説明では配管機器４ｐの接続部における隙間の洗浄について説明したが、液処理機器或いは充填機器の液通路の接続部等における隙間の洗浄についても同様であり、詳細な説明は省略する。
　また、前記特許文献１によれば、１マイクロメータ（μｍ）以上の大きさの気泡を含む液体を貯留槽に供給して、該液体に超音波振動装置による超音波振動を印加する等により、ナノバブルを生成するとしている。
　しかしながら、前記特許文献１の技術では、ナノバブル生成についての技術は開示されているが、充填ラインの充填機器、液処理機器或いはこれらの機器を接続する配管機器等のナノバブルを含んだ液体を利用した機器洗浄の技術については開示されていない。
　本発明は、びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器、又は前記機器を接続する配管機器等の機器を定置洗浄する洗浄方法において、充填液に接する箇所の洗浄度を大幅に向上させ、しかも洗浄時間を短縮でき、洗浄液等のユーティリティの使用量を軽減できる機器洗浄方法を提供することを目的としている。
　前記の課題に対し、本発明は以下の手段により解決を図る。
本発明の態様である機器洗浄方法は、びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器、または前記充填機器および前記液処理機器を接続する配管機器の液通路を定置洗浄する洗浄方法であって、前記液通路にナノバブルを含んだ液体を送液する液送液工程と、前記ナノバブル液送液工程後に、前記液通路内を前記液体で満たしたまま、所定時間静置浸漬する静置浸漬工程とを備える機器洗浄方法である。
　上記構成を有することにより、前記液通路に付着した汚れのナノバブルによる吸着、離脱の作用によって、高い洗浄度で洗浄できるとともに定置洗浄時間を短縮することがでる。また、薬剤等を使用しない場合には、ナノバブルが空気、窒素ガスのような微小気泡から成り立っていることから、薬剤を使用した場合の中和等の後処理が不要となる。
上記態様である機器洗浄方法では、前記液体が、水であってもよい。
　上記構成を有することにより、前記液通路に付着した汚れのナノバブルによる吸着、離脱の作用によって、高い洗浄度で洗浄できるとともに定置洗浄時間を短縮することができ。また、薬剤等を使用しない場合には、ナノバブルが空気、窒素ガスのような微小気泡から成り立っていることから、薬剤を使用した場合の中和等の後処理が不要となる。
また、上記態様である機器洗浄方法は、前記静置浸漬工程後に、前記液通路を薬剤により洗浄する洗浄工程をさらに備えてもよい。
　上記構成を有することにより、前記液通路に付着した汚れのナノバブルによる吸着、離脱の作用によって、高い洗浄度で洗浄できるとともに定置洗浄時間を短縮することができ、また、定置洗浄の際の薬剤等の使用量が軽減できる。
また、上記態様である機器洗浄方法では、前記静置浸漬工程における静置時間が、１分間から３０分間の範囲内であってもよい。
　上記構成を有することにより、効率的に機器洗浄ができる。
また、上記態様である機器洗浄方法では、前記ナノバブルを構成する気体がオゾンガスであってもよい。
　上記構成を有することにより、殺菌作用、消臭作用が付加される。
また、上記態様である機器洗浄方法では、前記静置静置工程において、前記ナノバブルを含んだ液体又は前記ナノバブル水に超音波振動を与えてもよい。
　上記構成を有することにより、高い洗浄度で確実に洗浄をすることができる。
　本発明の態様である機器洗浄方法は、びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器、又は前記機器を接続する配管機器等の機器の液通路を定置洗浄する洗浄方法であって、前記機器にナノバブルを含んだ液体を送液して所定時間静置浸漬するようにしたこと、また、前記ナノバブルを含んだ液体を水（ナノバブル水）としたこと、また、前記機器の前記ナノバブルを含んだ液体或いは前記ナノバブル水の静置浸漬工程を、前記機器の薬剤による洗浄工程の前工程として行うようにしたことにより、前記液通路に付着した汚れのナノバブルによる吸着、離脱の作用によって、高い洗浄度で洗浄できるとともに定置洗浄時間を短縮することができ、また、定置洗浄の際の薬剤等の使用量が軽減できるという効果を有する。
　また、薬剤等を使用しない機器洗浄の場合には、ナノバブルが空気、窒素ガスのような微小気泡から成り立っていることから、薬剤を使用した場合の中和等の後処理が不要となるという効果がある。
　また、本発明の態様である機器洗浄方法では、前記ナノバブルを含んだ液体或いは前記ナノバブル水の静置浸漬工程の所定時間を１分間から最長３０分間としたことにより、効率的に機器洗浄ができるという効果を有する。
　また本発明の態様である機器洗浄方法では、前記ナノバブルを構成する気体をオゾンガスとしたことにより、殺菌作用、消臭作用が付加されるという効果を有する。
　また本発明の態様である機器洗浄方法では、前記浸漬静置工程において、前記ナノバブルを含んだ液体又は前記ナノバブル水に超音波振動を与えるようにしたことにより、高い洗浄度で確実に洗浄をすることができるという効果を有する。
本発明の第１の実施の形態に係わる機器洗浄方法を示した概略フロー図で、要部のみ示した図である。 本発明のナノバブル水の浸漬による洗浄作用を説明するための配管接続部の隙間奥の汚れ箇所を示した図で、図６の一部拡大図に相当する図であり、（ａ）は洗浄前の機器表面が汚れている状態、（ｂ）はナノバブル水の浸漬によりナノバブルが汚れに吸着している状態、（ｃ）は前記汚れ箇所から汚れがナノバブルにより機器から離脱している状態を示す図である。 本発明のナノバブル水の浸漬による定置洗浄の時間短縮を説明する図で、（ａ）は従来の定置洗浄工程および洗浄時間を示し、（ｂ）は本発明の定置洗浄工程および洗浄時間を示す。 本発明の第２の実施の形態に係わる機器洗浄方法を取り込んだ機器の部分拡大図である。 従来の機器洗浄方法を示した概略フロー図で、要部のみ示した図である。 図５における配管接続部の機器洗浄後の汚れを説明する図である。
　以下、この発明の実施の形態につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
（発明の第１の実施の形態）
　本発明の第１の実施の形態を図１に基づいて説明する。
　図１は、本発明の第１の実施の形態に係わる機器洗浄方法を示した概略フロー図で、要部のみ示した図である。
　図２は、本発明のナノバブル水の浸漬による洗浄作用を説明するための配管接続部の隙間奥の汚れ箇所を示した図で、図６の一部拡大図に相当する図であり、（ａ）は洗浄前の機器表面が汚れている状態、（ｂ）はナノバブル水の浸漬によりナノバブルが汚れに吸着している状態、（ｃ）は前記汚れ箇所から汚れがナノバブルにより機器から離脱している状態を示す図である。
　図１および図２において、図５および図６と同じ箇所については同じ記号を記してあり、重複する説明は省略する。
　ナノバブル水生成装置１によって生成されたナノバブル水は、ポンプＰ１によってナノバブル水タンク２に送られて貯留される。
　前記ナノバブル水生成装置１については、日本特許出願公開番号２００６－２８９１８３号等に紹介されているので、ここでは詳細な説明は省略する。
　液処理機器３、充填機器４および配管機器４ｐの定置洗浄は、充填生産終了後に制御装置１５からの制御指令に基づいて、温水が温水洗浄液タンク７からポンプＰ７によって切替えバルブＶ７、切替えバルブＶ２、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０を経由して温水洗浄液タンク７へ戻されるという温水循環、或いは、切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８を経て切替えバルブＶ１１より矢印Ｅの方向の系外へ排出される温水すすぎ工程が所定時間なされる。その後、制御装置１５からの制御指令に基づいて、前記ナノバブル水タンク２からポンプＰ７によって切替えバルブＶ２、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られて、前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４はナノバブル水に浸漬される。前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４の液通路に所定時間（時間は製品により異なる）浸漬された前記ナノバブル水は、制御装置１５からの制御指令に基づいて、ポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８を経て切替えバルブＶ１１から矢印Ｅの方向の系外へ排出される。
　なお、前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４の液通路に所定時間浸漬された前記ナノバブル水は、使用目的によってはポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８、切替えバルブＶ１１を経由して図示二点鎖線に示すように前記ナノバブル水タンク２へ戻される場合もあるが、詳細な説明は省略する。
　次いで、前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４には、制御装置１５からの制御指令に基づいて、酸洗浄液が酸洗浄液タンク６からポンプＰ７によって切替えバルブＶ６、切替えバルブＶ７、切替えバルブＶ２、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９を経由して酸洗浄液タンク６へ戻されるという酸洗浄液循環が所定時間なされる。次いで、前記説明の温水循環或いは温水すすぎ工程が所定時間なされ、次いで、制御装置１５からの制御指令に基づいて、苛性洗浄液が苛性洗浄液タンク５からポンプＰ７によって切替えバルブＶ５、切替えバルブＶ７、切替えバルブＶ２、加熱装置８を経由して図示矢印のように前記液処理機器３、配管機器４ｐおよび充填機器４に送られ、さらにポンプＰ４によって切替えバルブＶ１０、切替えバルブＶ９、切替えバルブＶ８を経由して苛性洗浄液タンク５へ戻されるという苛性洗浄液循環が所定時間なされる。その後、制御装置１５からの制御指令に基づいて、前記説明の温水循環或いは温水すすぎ工程が所定時間なされるようになっている。
　なお、前記加熱装置８は、制御装置１５からの指令により、必要に応じて洗浄液等を所定温度に加熱するようになっているが、詳細な説明は省略する。
　次に、本発明の第１の実施の形態に係わる機器洗浄方法の作用を説明する。
　先ず、図２に基づいてナノバブル水の浸漬による洗浄作用を説明する。
　１０分間のナノバブル水の浸漬において、機器の表面に焼き付いた図２（ａ）に示すようなコーヒー滓等の汚れＤは、図２（ｂ）に示すようにナノバブルの吸着作用によってナノバブルＢに吸着され、図２（ｃ）に示すように次第に機器の表面から汚れＤがナノバブルＢとともに離脱して、離脱後は前記酸洗浄液の循環洗浄によって洗い流される。
　なお、前記説明では定置洗浄の薬剤に酸、苛性を使用する場合について説明したが、酸、苛性の一方だけを使用する場合もあり、また、酸、苛性の両方とも使用しない場合もあり、さらには、酸、苛性とは異なった他の薬剤を使用する場合もあって、定置洗浄をする対象の汚れ等により選択されるが、詳細な説明は省略する。
　次に、従来の機器洗浄方法の場合とナノバブル水の浸漬を付加した本発明の機器洗浄の場合についての実験結果を図３に基づいて説明する。
　図３は、本発明のナノバブル水の浸漬による定置洗浄の時間短縮を説明する図で、（ａ）は従来の定置洗浄工程および洗浄時間を示し、（ｂ）は本発明の定置洗浄工程および洗浄時間を示す。
　図３（ａ）の従来の定置洗浄による機器洗浄方法によれば、コーヒー飲料の充填後の機器に焼き付いたコーヒー滓は、温水洗浄、酸洗浄、温水洗浄、苛性洗浄、温水洗浄の時間をそれぞれ１０分、１０分、１０分、１５分、１０分とすることで洗浄されており、合計洗浄時間は５５分であった。
　一方、図３（ｂ）の本発明の定置洗浄による機器洗浄方法では、コーヒー飲料の充填後の機器に焼き付いたコーヒー滓は、温水洗浄、ナノバブル水の浸漬、酸洗浄、温水洗浄、苛性洗浄、温水洗浄の時間をそれぞれ１分、１０分、３分、１０分、４．５分、１０分とすることで洗浄されており、合計洗浄時間は３８．５分であった。
　上記説明のように、前記液処理機器３、充填機器４および配管機器４ｐの定置洗浄は、ナノバブル水の浸漬により、洗浄時間が従来の定置洗浄による機器洗浄方法と対比して、１６．５分の時間短縮、即ち、３０％の時間短縮ができ、これにより酸洗浄液、苛性洗浄液および温水の消費量も軽減することができた。
　なお、従来の定置洗浄による機器洗浄方法で、温水洗浄、酸洗浄、温水洗浄、苛性洗浄、温水洗浄の時間をそれぞれ１分、３分、１０分、４．５分、１０分とした場合には、前記コーヒー滓の汚れは残留しており、適正な洗浄とはならなかった。
　また、前記説明では空気の気泡の直径が１μ以下のナノバブルを使用する場合について説明したが、食品飲料の種類によっては液通路の汚れがひどくならない場合もあり、その場合には気泡の直径が１０～数十μのマイクロバブルを使用することもでき、その作用はナノバブルを使用する場合と同様であるので、詳細な説明は省略する。
　さらに、前記ナノバブルまたは前記マイクロバブルの気体は、空気の他に窒素、オゾン等があるが、オゾンガスを使用すると、オゾンによる殺菌効果および消臭効果が付加されて、食品飲料の充填液ラインの定置洗浄が効果的なものになる。
（発明の第２の実施の形態）
　次に、本発明の第２の実施の形態を図４に基づいて説明する。
　図４は、本発明の第２の実施の形態に係わる機器洗浄方法を取り込んだ機器の部分拡大図である。
　図において、第１の実施の形態と同じものは同じ記号を付しているか図示を省略してあり、重複する説明は省略する。配管機器４ｐの途中に、図示しない電源端子を有する超音波発振装置４０が設けられており、該超音波発振装置４０は、液体Ｑに向けて振動面４１がパッキン４２を介して二重の締結具４３によって取り付けられている構成となっていて、制御装置１６により制御されるようになっている。
　次に、本発明の第２の実施の形態に係わる機器洗浄方法の作用を説明する。
　前記液処理機器３、充填機器４および配管機器４ｐに前記ナノバブル水を静置浸漬している間に、制御装置１６からの指令により超音波発振装置４０が所定時間超音波発振して超音波振動を与えると、図２（ｂ）および（ｃ）に示すような汚れＤのナノバブルＢによる離脱が促進され、また、離脱した汚れＤの移動が促進されて、機器洗浄の時間短縮とともに洗浄度向上の効果がある。
　びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器、又は前記機器を接続する配管機器等の機器を定置洗浄する洗浄方法において、充填液に接する箇所の洗浄度を大幅に向上させ、しかも洗浄時間を短縮でき、洗浄液等のユーティリティの使用量を軽減できる。
　１　　ナノバブル水生成装置
　２　　ナノバブル水タンク
　３　　液処理機器
　４　　充填機器
　４ｐ　　配管機器
　１５、１６　　制御装置
　４０　　超音波発振装置
　Ｂ　　ナノバブル
　Ｄ　　汚れ

Claims (10)

  1. 　びん、缶等の容器に飲料等を充填する充填機器、充填液の液処理機器、または前記充填機器および前記液処理機器を接続する配管機器の液通路を定置洗浄する洗浄方法であって、前記液通路にナノバブルを含んだ液体を送液する液送液工程と、前記ナノバブル液送液工程後に、前記液通路内を前記液体で満たしたまま、所定時間静置浸漬する静置浸漬工程とを備える機器洗浄方法。
  2. 　請求項１に記載される機器洗浄方法であって、前記液体が、水である機器洗浄方法。
  3. 　請求項１または２に記載される機器洗浄方法であって、前記静置浸漬工程後に、前記液通路を薬剤により洗浄する洗浄工程をさらに備える機器洗浄方法。
  4. 　請求項１または２に記載される機器洗浄方法であって、前記静置浸漬工程における静置時間が、１分間から３０分間の範囲内である機器洗浄方法。
  5. 　請求項３に記載される機器洗浄方法であって、前記静置浸漬工程における静置時間が、１分間から３０分間の範囲内である機器洗浄方法。
  6. 　請求項１または２に記載される機器洗浄方法であって、前記ナノバブルを構成する気体がオゾンガスである機器洗浄方法。
  7. 　請求項３に記載される機器洗浄方法であって、前記ナノバブルを構成する気体がオゾンガスである機器洗浄方法。
  8. 　請求項４に記載される機器洗浄方法であって、前記ナノバブルを構成する気体がオゾンガスである機器洗浄方法。
  9. 　請求項５に記載される機器洗浄方法であって、前記ナノバブルを構成する気体がオゾンガスである機器洗浄方法。
  10. 　請求項１または２に記載される機器洗浄方法であって、前記静置静置工程において、前記ナノバブルを含んだ液体又は前記ナノバブル水に超音波振動を与える機器洗浄方法。
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