JP2001009401A - 接液部材の洗浄方法 - Google Patents
接液部材の洗浄方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】超純水製造工程、医薬品製造工程、食品製造工
程などの高度な清浄化が要求される工程において、配
管、タンクなどの接液部材の洗浄を、少ない洗浄水を用
いて短時間に行い、効果的に付着した異物を除去するこ
とができる接液部材の洗浄方法を提供する。 【解決手段】水素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれ
る１種又は２種以上のガスを溶解したガス溶解水を接液
部に充填する充填工程、充填したガス溶解水を減圧し、
減圧することにより発生した微細気泡の存在下にガス溶
解水と接液部材とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶
解水を接液部から押し出す押し出し工程からなることを
特徴とする接液部材の洗浄方法。
程などの高度な清浄化が要求される工程において、配
管、タンクなどの接液部材の洗浄を、少ない洗浄水を用
いて短時間に行い、効果的に付着した異物を除去するこ
とができる接液部材の洗浄方法を提供する。 【解決手段】水素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれ
る１種又は２種以上のガスを溶解したガス溶解水を接液
部に充填する充填工程、充填したガス溶解水を減圧し、
減圧することにより発生した微細気泡の存在下にガス溶
解水と接液部材とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶
解水を接液部から押し出す押し出し工程からなることを
特徴とする接液部材の洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、接液部材の洗浄方
法に関する。さらに詳しくは、本発明は、超純水製造工
程、医薬品製造工程、食品製造工程などの高度な清浄化
が要求される工程において、配管、タンクなどの接液部
材の洗浄を、少ない洗浄水を用いて短時間に行い、効果
的に付着した異物を除去することができる接液部材の洗
浄方法に関する。
法に関する。さらに詳しくは、本発明は、超純水製造工
程、医薬品製造工程、食品製造工程などの高度な清浄化
が要求される工程において、配管、タンクなどの接液部
材の洗浄を、少ない洗浄水を用いて短時間に行い、効果
的に付着した異物を除去することができる接液部材の洗
浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】超純水製造工程、医薬品製造工程、食品
製造工程などにおいては、配管、タンクなどの接液部材
に高度な清浄化が要求される。従来より、このような接
液部材は、クリーンな環境で製造され、超純水などを洗
浄水として用いて十分にフラッシングすることにより清
浄化が図られてきた。特に、生産設備に組み込まれ、製
造に使用しはじめた後は、大量の洗浄水を用いて長時間
フラッシングすることにより洗浄されていた。これに対
し、本発明者らは、先に、特定のガスを溶解したガス溶
解水を用いる洗浄方法を発明した。特定のガスを溶解し
たガス溶解水は、微粒子により汚染された被洗浄物の洗
浄に優れた効果を発揮し、さらにガス溶解水を用いる洗
浄において、超音波を適用することにより、極めて効果
的に被洗浄物の表面に付着した異物を除去することがで
きる。この洗浄方法は、洗浄工程の省資源化や、環境保
全などに与える効果が絶大で、極めて有用なものであ
る。しかし、生産設備に組み込まれた接液部材は、設置
場所によっては超音波を適用しがたい場合が多く、ガス
溶解水を用いて超音波を適用することなく、効果的な洗
浄を行うことができる洗浄方法が求められていた。
製造工程などにおいては、配管、タンクなどの接液部材
に高度な清浄化が要求される。従来より、このような接
液部材は、クリーンな環境で製造され、超純水などを洗
浄水として用いて十分にフラッシングすることにより清
浄化が図られてきた。特に、生産設備に組み込まれ、製
造に使用しはじめた後は、大量の洗浄水を用いて長時間
フラッシングすることにより洗浄されていた。これに対
し、本発明者らは、先に、特定のガスを溶解したガス溶
解水を用いる洗浄方法を発明した。特定のガスを溶解し
たガス溶解水は、微粒子により汚染された被洗浄物の洗
浄に優れた効果を発揮し、さらにガス溶解水を用いる洗
浄において、超音波を適用することにより、極めて効果
的に被洗浄物の表面に付着した異物を除去することがで
きる。この洗浄方法は、洗浄工程の省資源化や、環境保
全などに与える効果が絶大で、極めて有用なものであ
る。しかし、生産設備に組み込まれた接液部材は、設置
場所によっては超音波を適用しがたい場合が多く、ガス
溶解水を用いて超音波を適用することなく、効果的な洗
浄を行うことができる洗浄方法が求められていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、超純水製造
工程、医薬品製造工程、食品製造工程などの高度な清浄
化が要求される工程において、配管、タンクなどの接液
部材の洗浄を、少ない洗浄水を用いて短時間に行い、効
果的に付着した異物を除去することができる接液部材の
洗浄方法を提供することを目的としてなされたものであ
る。
工程、医薬品製造工程、食品製造工程などの高度な清浄
化が要求される工程において、配管、タンクなどの接液
部材の洗浄を、少ない洗浄水を用いて短時間に行い、効
果的に付着した異物を除去することができる接液部材の
洗浄方法を提供することを目的としてなされたものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、水素ガス、酸素ガ
ス又は希ガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填し、
ガス溶解水を減圧することにより発生した微細気泡の存
在下にガス溶解水と接液部材を接触させることにより、
ガス溶解水に超音波を適用した場合と同様な高い洗浄効
果が得られることを見いだし、この知見に基づいて本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は、（１）水
素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれる１種又は２種
以上のガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する充
填工程、充填したガス溶解水を減圧し、減圧することに
より発生した微細気泡の存在下にガス溶解水と接液部材
とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶解水を接液部か
ら押し出す押し出し工程からなることを特徴とする接液
部材の洗浄方法、を提供するものである。さらに、本発
明の好ましい態様として、（２）ガス溶解水が、加圧下
に大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガス
溶解水である第(１)項記載の接液部材の洗浄方法、
（３）ガス溶解水の減圧を、ガス溶解水を充填した接液
部を大気圧に解放することにより行う第(２)項記載の接
液部材の洗浄方法、（４）接液部が、超純水、純水又は
高純度薬液用の配管又はタンクである第(１)項記載の接
液部材の洗浄方法、（５）ガス溶解水が、超純水にガス
を溶解したものである第(１)項記載の接液部材の洗浄方
法、（６）ガス溶解水が、高純度アルカリを含有する第
(１)項記載の接液部材の洗浄方法、（７）高純度アルカ
リが、アンモニア又は水酸化テトラメチルアンモニウム
である第(６)項記載の接液部材の洗浄方法、及び、
（８）ガス溶解水の接液部からの押し出しを、製造工程
でその後使用する液体により行う第(１)項記載の接液部
材の洗浄方法、を挙げることができる。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、水素ガス、酸素ガ
ス又は希ガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填し、
ガス溶解水を減圧することにより発生した微細気泡の存
在下にガス溶解水と接液部材を接触させることにより、
ガス溶解水に超音波を適用した場合と同様な高い洗浄効
果が得られることを見いだし、この知見に基づいて本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は、（１）水
素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれる１種又は２種
以上のガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する充
填工程、充填したガス溶解水を減圧し、減圧することに
より発生した微細気泡の存在下にガス溶解水と接液部材
とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶解水を接液部か
ら押し出す押し出し工程からなることを特徴とする接液
部材の洗浄方法、を提供するものである。さらに、本発
明の好ましい態様として、（２）ガス溶解水が、加圧下
に大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガス
溶解水である第(１)項記載の接液部材の洗浄方法、
（３）ガス溶解水の減圧を、ガス溶解水を充填した接液
部を大気圧に解放することにより行う第(２)項記載の接
液部材の洗浄方法、（４）接液部が、超純水、純水又は
高純度薬液用の配管又はタンクである第(１)項記載の接
液部材の洗浄方法、（５）ガス溶解水が、超純水にガス
を溶解したものである第(１)項記載の接液部材の洗浄方
法、（６）ガス溶解水が、高純度アルカリを含有する第
(１)項記載の接液部材の洗浄方法、（７）高純度アルカ
リが、アンモニア又は水酸化テトラメチルアンモニウム
である第(６)項記載の接液部材の洗浄方法、及び、
（８）ガス溶解水の接液部からの押し出しを、製造工程
でその後使用する液体により行う第(１)項記載の接液部
材の洗浄方法、を挙げることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の接液部材の洗浄方法は、
水素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれる１種又は２
種以上のガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する
充填工程、充填したガス溶解水を減圧し、減圧すること
により発生した微細気泡の存在下にガス溶解水と接液部
材とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶解水を接液部
から押し出す押し出し工程からなるものである。本発明
方法は、通常、水と接触している配管、タンク類などの
洗浄に適用することができ、例えば、超純水製造ライン
やその配管系統、医薬品製造工程の配管系統、食品製造
の配管系統などの洗浄に効果的に用いることができる。
本発明方法において、ガス溶解水を減圧して微細気泡を
発生させる方法に特に制限はなく、例えば、加圧条件下
において、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解
したガス溶解水を、大気圧に解放することにより減圧し
て微細気泡を発生させることができ、あるいは、大気圧
における飽和溶解量以下にガスを溶解したガス溶解水
を、大気圧以下に減圧することにより微細気泡を発生さ
せることもできる。これらの方法の中で、加圧条件下に
おいて、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解し
たガス溶解水を、大気圧に解放することにより減圧して
微細気泡を発生させる方法は、装置及び工程が簡単であ
り、高濃度のガス溶解水を利用することができるので、
好適に用いることができる。
水素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれる１種又は２
種以上のガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する
充填工程、充填したガス溶解水を減圧し、減圧すること
により発生した微細気泡の存在下にガス溶解水と接液部
材とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶解水を接液部
から押し出す押し出し工程からなるものである。本発明
方法は、通常、水と接触している配管、タンク類などの
洗浄に適用することができ、例えば、超純水製造ライン
やその配管系統、医薬品製造工程の配管系統、食品製造
の配管系統などの洗浄に効果的に用いることができる。
本発明方法において、ガス溶解水を減圧して微細気泡を
発生させる方法に特に制限はなく、例えば、加圧条件下
において、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解
したガス溶解水を、大気圧に解放することにより減圧し
て微細気泡を発生させることができ、あるいは、大気圧
における飽和溶解量以下にガスを溶解したガス溶解水
を、大気圧以下に減圧することにより微細気泡を発生さ
せることもできる。これらの方法の中で、加圧条件下に
おいて、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解し
たガス溶解水を、大気圧に解放することにより減圧して
微細気泡を発生させる方法は、装置及び工程が簡単であ
り、高濃度のガス溶解水を利用することができるので、
好適に用いることができる。
【０００６】本発明方法に使用するガス溶解水の調製に
おいては、原水をあらかじめ脱気して溶存ガスの飽和度
を低下させ、ガス溶解キャパシティーに空きをつくった
のち、水素ガス、酸素ガス又は希ガスを溶解させること
が好ましい。例えば、温度２０℃、圧力０.１MPaにおい
て、窒素ガスで飽和した水は、窒素ガス１９.０mg／リ
ットルを溶解して飽和度１.０倍となっているので、脱
気により窒素ガスの溶解量を１.９mg／リットルとする
ことにより、飽和度の０.９倍に相当するガス溶解キャ
パシティーの空きができ、水素ガス、酸素ガス又は希ガ
スを容易に溶解することができる。本発明方法におい
て、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガ
ス溶解水を調製する方法に特に制限はないが、原水を膜
脱気装置に送って脱気によりガス溶解キャパシティーに
空きをつくり、次いで脱気された原水に特定のガスを溶
解することが好ましい。使用するガス溶解装置に特に制
限はなく、例えば、気体透過膜装置、エジェクターなど
を挙げることができる。これらの中で、気体透過膜装置
を用いて加圧下にガスを溶解する方法が好ましい。温度
２０℃、圧力０.１MPaにおける飽和溶解量は、水素ガス
１.６mg／リットル、酸素ガス４４mg／リットル、ヘリ
ウム１.５mg／リットル、ネオン９.５mg／リットル、ア
ルゴン６０mg／リットル、クリプトン２２０mg／リット
ル、キセノン６３０mg／リットルである。加圧条件下で
は、水へのガスの溶解量はヘンリーの法則にしたがって
増加するので、例えば、温度２０℃、圧力０.２MPaの条
件下では、溶存水素ガス濃度２.０mg／リットル以上の
水素ガス溶解水を容易に調製することができる。
おいては、原水をあらかじめ脱気して溶存ガスの飽和度
を低下させ、ガス溶解キャパシティーに空きをつくった
のち、水素ガス、酸素ガス又は希ガスを溶解させること
が好ましい。例えば、温度２０℃、圧力０.１MPaにおい
て、窒素ガスで飽和した水は、窒素ガス１９.０mg／リ
ットルを溶解して飽和度１.０倍となっているので、脱
気により窒素ガスの溶解量を１.９mg／リットルとする
ことにより、飽和度の０.９倍に相当するガス溶解キャ
パシティーの空きができ、水素ガス、酸素ガス又は希ガ
スを容易に溶解することができる。本発明方法におい
て、大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガ
ス溶解水を調製する方法に特に制限はないが、原水を膜
脱気装置に送って脱気によりガス溶解キャパシティーに
空きをつくり、次いで脱気された原水に特定のガスを溶
解することが好ましい。使用するガス溶解装置に特に制
限はなく、例えば、気体透過膜装置、エジェクターなど
を挙げることができる。これらの中で、気体透過膜装置
を用いて加圧下にガスを溶解する方法が好ましい。温度
２０℃、圧力０.１MPaにおける飽和溶解量は、水素ガス
１.６mg／リットル、酸素ガス４４mg／リットル、ヘリ
ウム１.５mg／リットル、ネオン９.５mg／リットル、ア
ルゴン６０mg／リットル、クリプトン２２０mg／リット
ル、キセノン６３０mg／リットルである。加圧条件下で
は、水へのガスの溶解量はヘンリーの法則にしたがって
増加するので、例えば、温度２０℃、圧力０.２MPaの条
件下では、溶存水素ガス濃度２.０mg／リットル以上の
水素ガス溶解水を容易に調製することができる。
【０００７】本発明方法において、水素ガス、酸素ガス
又は希ガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する方
法に特に制限はなく、例えば、ガス溶解水が加圧下にお
いて大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガ
ス溶解水である場合には、配管、タンクなどを圧力調整
弁などにより加圧状態に保ちつつ、ガス溶解水を配管、
タンクなどに充填することができる。また、ガス溶解水
が大気圧における飽和溶解量以下にガスを溶解したガス
溶解水である場合は、配管、タンクなどを大気圧に保っ
たまま密閉してガス溶解水を充填することができる。本
発明方法において、充填したガス溶解水を減圧する方法
に特に制限はなく、例えば、ガス溶解水が加圧下におい
て大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガス
溶解水である場合は、圧力調整弁などを一気に開いて大
気圧に解放することにより減圧することができ、ガス溶
解水が大気圧における飽和溶解量以下にガスを溶解した
ガス溶解水である場合は、配管、タンクなどを密閉して
大気圧以下に減圧することができる。超純水や高純度薬
液供給系の配管やタンクは、通常は０.２MPa程度に耐え
る耐圧強度を有するので、例えば、０.２MPaの加圧下で
大気圧における飽和溶解量の１.５倍のガスを溶解した
ガス溶解水を用いることができる。溶存ガス濃度が大気
圧における飽和溶解量の１.５倍のガス溶解水を配管や
タンク内に充填し、一気に大気圧に解放して減圧するこ
とにより、飽和溶解量の０.５倍のガスに相当する微細
気泡を発生させることができる。配管やタンクは、通常
は大気と連通する通気管を有するので、通気管の弁を開
放することによってガス溶解水を減圧することができ
る。通気管がない系では、弁を有する通気管を新たに設
置して大気と連通させることができる。弁を開放する
と、減圧されて微細気泡が発生し、ガス溶解水の体積が
増加するので、通気管を通して一部のガス溶解水が流出
するおそれがある場合は、通気管を膨張体積を吸収し得
る程度の長さにすることが好ましい。
又は希ガスを溶解したガス溶解水を接液部に充填する方
法に特に制限はなく、例えば、ガス溶解水が加圧下にお
いて大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガ
ス溶解水である場合には、配管、タンクなどを圧力調整
弁などにより加圧状態に保ちつつ、ガス溶解水を配管、
タンクなどに充填することができる。また、ガス溶解水
が大気圧における飽和溶解量以下にガスを溶解したガス
溶解水である場合は、配管、タンクなどを大気圧に保っ
たまま密閉してガス溶解水を充填することができる。本
発明方法において、充填したガス溶解水を減圧する方法
に特に制限はなく、例えば、ガス溶解水が加圧下におい
て大気圧における飽和溶解量以上にガスを溶解したガス
溶解水である場合は、圧力調整弁などを一気に開いて大
気圧に解放することにより減圧することができ、ガス溶
解水が大気圧における飽和溶解量以下にガスを溶解した
ガス溶解水である場合は、配管、タンクなどを密閉して
大気圧以下に減圧することができる。超純水や高純度薬
液供給系の配管やタンクは、通常は０.２MPa程度に耐え
る耐圧強度を有するので、例えば、０.２MPaの加圧下で
大気圧における飽和溶解量の１.５倍のガスを溶解した
ガス溶解水を用いることができる。溶存ガス濃度が大気
圧における飽和溶解量の１.５倍のガス溶解水を配管や
タンク内に充填し、一気に大気圧に解放して減圧するこ
とにより、飽和溶解量の０.５倍のガスに相当する微細
気泡を発生させることができる。配管やタンクは、通常
は大気と連通する通気管を有するので、通気管の弁を開
放することによってガス溶解水を減圧することができ
る。通気管がない系では、弁を有する通気管を新たに設
置して大気と連通させることができる。弁を開放する
と、減圧されて微細気泡が発生し、ガス溶解水の体積が
増加するので、通気管を通して一部のガス溶解水が流出
するおそれがある場合は、通気管を膨張体積を吸収し得
る程度の長さにすることが好ましい。
【０００８】本発明方法においては、ガス溶解水を配
管、タンクなどの接液部に充填し、ガス溶解水を減圧し
て微細気泡を発生させることにより、配管、タンクなど
の内面の接液部材に付着した異物を効果的に脱離させる
ことができる。ガス溶解水を減圧して微細気泡を発生さ
せた状態は、数十秒ないし数分程度保つことが好まし
い。本発明方法を、超純水、純水、高純度薬液用の配
管、タンクなどに適用する場合は、ガス溶解水を調製す
るための原水として超純水を用いることが好ましい。本
発明方法においては、ガス溶解水を減圧して微細気泡を
発生させたのち、ガス溶解水を配管、タンクなどの接液
部から押し出す。微細気泡が発生したガス溶解水中に
は、脱離した異物が浮遊しているので、ガス溶解水を押
し出すことにより異物を接液部外に排出し、異物の再付
着を防止することができる。また、このときガス溶解水
中の微細気泡も同時に排出されるので、安全性の確保に
留意する必要がある。水素ガス溶解水よりも異物除去効
果は若干劣るが、より安全性の高い酸素ガス溶解水や希
ガス溶解水を用いることが好ましい場合もある。ガス溶
解水の押し出しは、超純水、純水、高純度薬液など、通
常の製造工程においてその後使用する液体により行うこ
とが好ましい。通常の製造工程においてその後使用する
液体を用いて押し出すことにより、押し出し終了後直ち
に生産などの通常の製造工程に移行することができる。
本発明方法においては、ガス溶解水に高純度アルカリを
含有させることができる。含有させるアルカリに特に制
限はなく、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭ
ＡＨ）などを挙げることができる。これらの中で、アン
モニアと水酸化テトラメチルアンモニウムを特に好適に
用いることができる。ガス溶解水にアルカリを含有させ
ることにより、微粒子の除去効果と再付着防止効果を高
めることができる。
管、タンクなどの接液部に充填し、ガス溶解水を減圧し
て微細気泡を発生させることにより、配管、タンクなど
の内面の接液部材に付着した異物を効果的に脱離させる
ことができる。ガス溶解水を減圧して微細気泡を発生さ
せた状態は、数十秒ないし数分程度保つことが好まし
い。本発明方法を、超純水、純水、高純度薬液用の配
管、タンクなどに適用する場合は、ガス溶解水を調製す
るための原水として超純水を用いることが好ましい。本
発明方法においては、ガス溶解水を減圧して微細気泡を
発生させたのち、ガス溶解水を配管、タンクなどの接液
部から押し出す。微細気泡が発生したガス溶解水中に
は、脱離した異物が浮遊しているので、ガス溶解水を押
し出すことにより異物を接液部外に排出し、異物の再付
着を防止することができる。また、このときガス溶解水
中の微細気泡も同時に排出されるので、安全性の確保に
留意する必要がある。水素ガス溶解水よりも異物除去効
果は若干劣るが、より安全性の高い酸素ガス溶解水や希
ガス溶解水を用いることが好ましい場合もある。ガス溶
解水の押し出しは、超純水、純水、高純度薬液など、通
常の製造工程においてその後使用する液体により行うこ
とが好ましい。通常の製造工程においてその後使用する
液体を用いて押し出すことにより、押し出し終了後直ち
に生産などの通常の製造工程に移行することができる。
本発明方法においては、ガス溶解水に高純度アルカリを
含有させることができる。含有させるアルカリに特に制
限はなく、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭ
ＡＨ）などを挙げることができる。これらの中で、アン
モニアと水酸化テトラメチルアンモニウムを特に好適に
用いることができる。ガス溶解水にアルカリを含有させ
ることにより、微粒子の除去効果と再付着防止効果を高
めることができる。
【０００９】図１は、本発明方法の実施の一態様の工程
系統図である。タンク１に貯留された超純水は、ポンプ
２により送水され、限外ろ過膜モジュール３でポンプか
らの発塵が除去されて配管４へ送られる。本発明方法に
より配管を洗浄するときは、バルブ５を閉じ、バルブ６
とバルブ７を開いて超純水を全量バイパスラインに流
す。また、サンプリングバルブ８を閉じ、配管の末端に
ある圧力調整弁９により、配管系を大気圧以上の加圧状
態に保つ。超純水は、真空ポンプ１０により気相側が減
圧された膜脱気装置１１で溶存ガスが除去されてガス溶
解キャパシティーに空きをつくったのち、気体透過膜モ
ジュール１２に送られ、特定のガスが大気圧における飽
和溶解量以上に溶解されてガス溶解水となる。配管系が
ガス溶解水で満たされたとき、圧力調整弁９を一気に開
くか、ガス溶解水で満たされたのちにバルブ７と圧力調
整弁９をいったん閉じ、その後圧力調整弁を一気に開い
て大気圧に解放し、減圧することにより、配管内のガス
溶解水に微細気泡を発生させ、この状態を数十秒ないし
数分保って、配管内壁に付着した異物を脱離させる。次
いで、バルブ５を開いてポンプ２により超純水を配管に
送り、脱離した異物が浮遊しているガス溶解水を押し出
す。ガス溶解水の押し出しが終了したとき、配管内には
超純水が流れているので、そのまま、通常の製造工程な
どに移行することができる。配管内を流れる超純水の水
質は、サンプリングバルブ８を開き、サンプリングポー
ト１３から超純水のサンプルを微粒子モニターに送って
分析する。本発明方法によれば、超音波発振装置などを
適用することが困難な現場設備についても、超音波など
のキャビテーションを発生させる物理力を用いることな
しに、配管、タンクなどの接液部材に付着した異物を効
果的に除去することができる。
系統図である。タンク１に貯留された超純水は、ポンプ
２により送水され、限外ろ過膜モジュール３でポンプか
らの発塵が除去されて配管４へ送られる。本発明方法に
より配管を洗浄するときは、バルブ５を閉じ、バルブ６
とバルブ７を開いて超純水を全量バイパスラインに流
す。また、サンプリングバルブ８を閉じ、配管の末端に
ある圧力調整弁９により、配管系を大気圧以上の加圧状
態に保つ。超純水は、真空ポンプ１０により気相側が減
圧された膜脱気装置１１で溶存ガスが除去されてガス溶
解キャパシティーに空きをつくったのち、気体透過膜モ
ジュール１２に送られ、特定のガスが大気圧における飽
和溶解量以上に溶解されてガス溶解水となる。配管系が
ガス溶解水で満たされたとき、圧力調整弁９を一気に開
くか、ガス溶解水で満たされたのちにバルブ７と圧力調
整弁９をいったん閉じ、その後圧力調整弁を一気に開い
て大気圧に解放し、減圧することにより、配管内のガス
溶解水に微細気泡を発生させ、この状態を数十秒ないし
数分保って、配管内壁に付着した異物を脱離させる。次
いで、バルブ５を開いてポンプ２により超純水を配管に
送り、脱離した異物が浮遊しているガス溶解水を押し出
す。ガス溶解水の押し出しが終了したとき、配管内には
超純水が流れているので、そのまま、通常の製造工程な
どに移行することができる。配管内を流れる超純水の水
質は、サンプリングバルブ８を開き、サンプリングポー
ト１３から超純水のサンプルを微粒子モニターに送って
分析する。本発明方法によれば、超音波発振装置などを
適用することが困難な現場設備についても、超音波など
のキャビテーションを発生させる物理力を用いることな
しに、配管、タンクなどの接液部材に付着した異物を効
果的に除去することができる。
【００１０】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、比較例及び実施例におい
ては、図１に示す構成を有する内径１インチ、全長１０
０ｍの新品のクリーン塩化ビニル樹脂製配管を敷設した
超純水配管系を用いて、配管系の使用を開始したのち３
日目に試験を行った。 比較例１ 粒径０.２μｍ以上の微粒子数が０〜１個／mlの超純水
を、タンク１からポンプ２を用いて、１ｍ3／ｈの流量
で配管４に通水した。ポンプ出口には限外ろ過膜モジュ
ール３を装着し、ポンプからの発塵を除去した。限外ろ
過膜モジュールから８０ｍの位置に設けたサンプリング
ポート１３から超純水を分岐して取り出し、レーザー散
乱式インライン微粒子モニターで０.２μｍ以上の微粒
子数を測定したところ、２〜５個／mlであった。さらに
限外ろ過膜モジュールから２０ｍの位置Ａの配管を金槌
で３回たたいて刺激したところ、その直後の超純水から
最大１５０個／mlの微粒子が検出された。 実施例１ 超純水配管系に接続したバイパスラインに一時的に超純
水を全量通水し、真空ポンプ１０により気相側が減圧さ
れた膜脱気装置１１により脱気を行い、気体透過膜モジ
ュール１２を用いて０.２MPaの加圧下に水素ガスを溶解
して、溶存水素ガス濃度２.４mg／リットルの水素ガス
溶解水を調製して超純水配管系に満たしたのち、バイパ
スラインを閉じて送水を止めた。次いで、超純水配管系
の末端に設けた圧力調整弁９を一気に開き、水圧を０.
２MPaから一気に大気圧に解放した。その３０秒後に超
純水を１ｍ3／ｈの流量で送って押し出しを開始し、１
０分間継続した。以上の処理を施した後に、比較例１と
同様にして、通常通水時の微粒子数及び限外ろ過膜モジ
ュールから２０ｍの位置Ａの配管を金槌で３回たたいて
刺激した直後の微粒子数を測定した。微粒子数は、通常
の状態では０〜１個／ml、金槌でたたいた直後では最大
７個／mlであった。比較例１及び実施例１の結果を、第
１表に示す。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、比較例及び実施例におい
ては、図１に示す構成を有する内径１インチ、全長１０
０ｍの新品のクリーン塩化ビニル樹脂製配管を敷設した
超純水配管系を用いて、配管系の使用を開始したのち３
日目に試験を行った。 比較例１ 粒径０.２μｍ以上の微粒子数が０〜１個／mlの超純水
を、タンク１からポンプ２を用いて、１ｍ3／ｈの流量
で配管４に通水した。ポンプ出口には限外ろ過膜モジュ
ール３を装着し、ポンプからの発塵を除去した。限外ろ
過膜モジュールから８０ｍの位置に設けたサンプリング
ポート１３から超純水を分岐して取り出し、レーザー散
乱式インライン微粒子モニターで０.２μｍ以上の微粒
子数を測定したところ、２〜５個／mlであった。さらに
限外ろ過膜モジュールから２０ｍの位置Ａの配管を金槌
で３回たたいて刺激したところ、その直後の超純水から
最大１５０個／mlの微粒子が検出された。 実施例１ 超純水配管系に接続したバイパスラインに一時的に超純
水を全量通水し、真空ポンプ１０により気相側が減圧さ
れた膜脱気装置１１により脱気を行い、気体透過膜モジ
ュール１２を用いて０.２MPaの加圧下に水素ガスを溶解
して、溶存水素ガス濃度２.４mg／リットルの水素ガス
溶解水を調製して超純水配管系に満たしたのち、バイパ
スラインを閉じて送水を止めた。次いで、超純水配管系
の末端に設けた圧力調整弁９を一気に開き、水圧を０.
２MPaから一気に大気圧に解放した。その３０秒後に超
純水を１ｍ3／ｈの流量で送って押し出しを開始し、１
０分間継続した。以上の処理を施した後に、比較例１と
同様にして、通常通水時の微粒子数及び限外ろ過膜モジ
ュールから２０ｍの位置Ａの配管を金槌で３回たたいて
刺激した直後の微粒子数を測定した。微粒子数は、通常
の状態では０〜１個／ml、金槌でたたいた直後では最大
７個／mlであった。比較例１及び実施例１の結果を、第
１表に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】第１表の結果から、超純水配管系に水素ガ
ス溶解水を満たし、大気圧に解放して微細気泡を発生さ
せることにより、配管中の微粒子が除去され、配管の清
浄度が格段に向上したことが分かる。
ス溶解水を満たし、大気圧に解放して微細気泡を発生さ
せることにより、配管中の微粒子が除去され、配管の清
浄度が格段に向上したことが分かる。
【００１３】
【発明の効果】本発明方法によれば、特殊な振動機材な
どを用いることなしに、高清浄度が要求される配管、タ
ンクなどの接液部材に付着した異物を効果的に除去する
ことができ、従来の単純なフラッシングに比べて、使用
水量を低減し、洗浄時間を短縮することができる。
どを用いることなしに、高清浄度が要求される配管、タ
ンクなどの接液部材に付着した異物を効果的に除去する
ことができ、従来の単純なフラッシングに比べて、使用
水量を低減し、洗浄時間を短縮することができる。
【図１】図１は、本発明方法の実施の一態様の工程系統
図である。
図である。
１ タンク ２ ポンプ ３ 限外ろ過膜モジュール ４ 配管 ５ バルブ ６ バルブ ７ バルブ ８ サンプリングバルブ ９ 圧力調整弁 １０ 真空ポンプ １１ 膜脱気装置 １２ 気体透過膜モジュール １３ サンプリングポート
Claims (1)
- 【請求項１】水素ガス、酸素ガス及び希ガスより選ばれ
る１種又は２種以上のガスを溶解したガス溶解水を接液
部に充填する充填工程、充填したガス溶解水を減圧し、
減圧することにより発生した微細気泡の存在下にガス溶
解水と接液部材とを接触させる洗浄工程、及び、ガス溶
解水を接液部から押し出す押し出し工程からなることを
特徴とする接液部材の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185709A JP2001009401A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 接液部材の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185709A JP2001009401A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 接液部材の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001009401A true JP2001009401A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16175497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11185709A Pending JP2001009401A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 接液部材の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001009401A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009522771A (ja) * | 2005-12-30 | 2009-06-11 | ラム リサーチ コーポレーション | 基板から汚染を除去するための方法および装置 |
| JP2009297621A (ja) * | 2008-06-11 | 2009-12-24 | Sanoh Industrial Co Ltd | 中空部品の洗浄方法 |
| JP2012045528A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法 |
| JP2013146714A (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | Idec Corp | 微細気泡生成装置 |
| US9206380B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-12-08 | Ecolab Usa Inc. | Method of generating carbonate in situ in a use solution and of buffered alkaline cleaning under an enriched CO2 atmosphere |
| US10099264B2 (en) | 2008-02-11 | 2018-10-16 | Ecolab Usa Inc. | Bubble enhanced cleaning method and chemistry |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11185709A patent/JP2001009401A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009522771A (ja) * | 2005-12-30 | 2009-06-11 | ラム リサーチ コーポレーション | 基板から汚染を除去するための方法および装置 |
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| US9919349B2 (en) | 2010-08-30 | 2018-03-20 | Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems, Ltd. | Instrument-cleaning method that uses soaking with nanobubble water |
| JP2012045528A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法 |
| WO2012029552A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | ナノバブル水の浸漬による機器洗浄方法 |
| CN102821879A (zh) * | 2010-08-30 | 2012-12-12 | 三菱重工食品包装机械株式会社 | 利用纳米气泡水的浸渍进行的设备清洗方法 |
| EP2612714A1 (en) * | 2010-08-30 | 2013-07-10 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co., Ltd. | Instrument-cleaning method that uses soaking with nanobubble water |
| KR101442372B1 (ko) | 2010-08-30 | 2014-09-17 | 미쯔비시 쥬우꼬오 쇼구힌호오소오기까이 가부시키가이샤 | 나노 버블수의 침지에 의한 기기 세정 방법 |
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| JP2013146714A (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | Idec Corp | 微細気泡生成装置 |
| US9845447B2 (en) | 2013-03-14 | 2017-12-19 | Ecolab Usa Inc. | Method of generating carbonate in situ in a use solution and of buffered alkaline cleaning under an enriched CO2 atmosphere |
| US9206380B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-12-08 | Ecolab Usa Inc. | Method of generating carbonate in situ in a use solution and of buffered alkaline cleaning under an enriched CO2 atmosphere |
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