WO2011122023A1

WO2011122023A1 - 離型フィルム

Info

Publication number: WO2011122023A1
Application number: PCT/JP2011/001910
Authority: WO
Inventors: 谷口裕人
Original assignee: 住友ベークライト株式会社
Priority date: 2010-03-31
Filing date: 2011-03-30
Publication date: 2011-10-06
Also published as: TW201202035A; TWI494219B; CN104842621A; CN102821956A; SG184259A1; KR20130018237A

Abstract

　本発明の課題は、回路露出フィルムへのＣＬフィルム接着時において、離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着および離型層同士の密着を防ぎつつ、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも良好な埋め込み性を得ることができる離型フィルムを提供することである。本発明に係る離型フィルム１００は、少なくともポリブチレンテレフタレート共重合体（Ａ）と、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）成分とポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）成分との共重合体（Ｂ）とを含有する離型層１１０を備える。

Description

離型フィルム

　本発明は、離型フィルムに関する。

　過去に「ポリブチレンテレフタレート樹脂から成る離型層を備える離型フィルム（以下「ＰＢＴ離型フィルム」と称する）」が提案されている（例えば、国際公開第０５／０３０４６６号パンフレット等参照）。このような離型フィルムは、例えば、回路が露出したフレキシブルフィルム（以下「回路露出フィルム」と称する）に接着剤を介してカバーレイフィルム（以下「ＣＬフィルム」と称する）を加熱プレスにより接着してフレキシブルプリント回路基板（以下「ＦＰＣ」と称する）を作製する際に用いられる。そして、このような離型フィルムは、回路露出フィルムへのＣＬフィルムの接着時において、離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着、および離型層同士の密着を防ぎつつ、比較的良好な埋め込み性（ＣＬフィルムに覆われない回路パターン部分（凹凸部分）へのフィット性）を示し、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤がその回路パターン部分へシミ出す量を許容範囲内に止めることができる。

国際公開第０５／０３０４６６号パンフレット

　ところで、このようなＦＰＣ製造分野では、さらに埋め込み性に優れた離型フィルムが待ち望まれている。

　本発明の課題は、回路露出フィルムへのＣＬフィルム接着時において、離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着および離型層同士の密着を防ぎつつ、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも良好な埋め込み性を得ることができる離型フィルムを提供することにある。

　（１）
　本発明に係る離型フィルムは、少なくとも片側の表面層として離型層を備える。なお、この離型フィルムは、離型層のみから形成されてもかまわない。離型層は、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体（Ｂ）とのブレンド物を主成分とする。

　本発明の離型フィルムは、離型層にポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体（Ｂ）とを併用することで、従前の離型フィルム同様にＣＬフィルムの接着剤がその回路パターン部分へシミ出す量を低減できると共に、ＣＬ接着剤との過度の密着を抑制し、さらなる離型性の向上が可能となる。

　（２）
　上述（１）の離型フィルムにおいて、離型層中におけるポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重量比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝２５／７５以上８０／２０以下であることが好ましい。

　（３）
　上述（２）の離型フィルムにおいて、離型層中におけるポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重量比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝２５／７５以上５０／５０以下であることが好ましい。

　（４）
　上述（１）～（３）のいずれかの離型フィルムにおいて、共重合体（Ｂ）中のポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合比率（ＰＢＴ／ＰＴＭＧ）がＰＢＴ／ＰＴＭＧ＝８０／２０以上９０／１０以下であることが好ましい。

　（５）
　上述（１）～（４）のいずれかの離型フィルムにおいて、クッション層をさらに有することが好ましい。

　（６）
　上述（５）の離型フィルムにおいて、離型層の厚さが１５μｍ以下であることが好ましい。

　（７）
　本発明に係る離型フィルムは、少なくとも片側の表面層として離型層を備える。なお、この離型フィルムは、離型層のみから形成されてもかまわない。離型層は、ポリエーテルエステルブロック共重合体を主成分とする樹脂から形成される。ポリエーテルエステルブロック共重合体は、主に、ポリエステルセグメントと、ポリエーテルセグメントとから構成されている。

　ポリエーテルエステルブロック共重合体を主成分とする樹脂から離型層が形成されると、その離型フィルムは、従前のＰＢＴ離型フィルムと同様に離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着および離型層同士の密着を防ぐことができると共に、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤がその回路パターン部分へシミ出す量を、従前のＰＢＴ離型フィルムよりも低減することができる。

　（８）
　本発明に係る離型フィルムは、少なくとも片側の表面層として離型層を備える。なお、この離型フィルムは、離型層のみから形成されてもかまわない。離型層は、ポリブチレンテレフタレート系樹脂を主成分とする樹脂から形成される。そして、この離型層は、その厚さが０μｍ超１５μｍ以下である。

　上述のような離型フィルムは、従前のＰＢＴ系離型フィルムと同様に離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着および離型層同士の密着を防ぐことができると共に、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤がその回路パターン部分へシミ出す量を、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも低減することができる。なお、通常、離型層が薄くなれば薄くなるほど、応力負荷時に離型層にひび割れが生じやすくなるが、この離型フィルムは、応力負荷時であっても離型層にひび割れが生じない。

　また、この離型フィルムでは、離型層の厚さが０μｍ超１５μｍ以下であり、従前のＰＢＴ系離型フィルムにおける離型層よりも薄くなっている。このため、この離型フィルムは、従前のＰＢＴ系離型フィルムに比べて、離型層形成に用いられる樹脂の量を低減することができる。したがって、この離型フィルムは、環境負荷および製造コストの低減に貢献することができる。

　（９）
　上述（８）の離型フィルムにおいて、離型層は、厚さが０μｍ超１０μｍ以下であることが好ましい。

　（１０）
　上述（８）または（９）の離型フィルムにおいて、ポリブチレンテレフタレート系樹脂はポリブチレンテレフタレート樹脂であることが好ましい。

　（１１）
　上述（８）または（９）の離型フィルムにおいて、ポリブチレンテレフタレート系樹脂はポリエーテルエステルブロック共重合体であるのが好ましい。ポリエーテルエステルブロック共重合体は、ポリエーテルセグメントとポリエステルセグメントとから主に構成される。

　（１２）
　上述（７）または（１１）の離型フィルムにおいて、ポリエステルセグメントとポリエーテルセグメントとの重量比は８０：２０から９０：１０の範囲内であることが好ましい。

　（１３）
　上述（１２）の離型フィルムにおいて、ポリエーテルセグメントの構成単位は主にオキシブチレン単位であるのが好ましく、ポリエステルセグメントの構成単位は主に下記化学式（Ｉ）に示されるエステル単位であることが好ましい。

　本発明に係る離型フィルムは、回路露出フィルムへのＣＬフィルム接着時において、離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着および離型層同士の密着を防ぎつつ、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも良好な埋め込み性を得ることができる。

本発明の実施の形態に係る積層フィルムの縦断面図である。変形例（Ａ）に係る積層フィルムの縦断面図である。本発明の実施の形態に係る積層フィルムの製造装置の一例を示す図である。本発明の実施の形態に係る積層フィルムの使用方法の一例を示す図である。本発明の実施の形態に係る積層フィルムを使用してＣＬフィルムを回路パターンの凹凸部に密着させるときの加熱プレスの加熱パターンを示す図である。

１００、１００Ａ　　　積層フィルム（離型フィルム）
１１０　　　離型層
１１０ａ　　第１離型層（離型層）
１１０ｂ　　第２離型層（離型層）
１２０　　　クッション層

－第１実施形態－
　図１に示されるように、本発明の第１実施形態に係る積層フィルム１００は、主に、離型層１１０およびクッション層１２０から構成される。なお、本実施形態において、積層フィルム１００の厚みは２５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。以下、これらの層についてそれぞれ詳述する。

　＜積層フィルムの構成層の詳細＞
　１．離型層
　離型層１１０は、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、ポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合体（Ｂ）とを含有する樹脂から形成される。

　離型層１１０中における単独重合体（Ａ）と共重合体（Ｂ）との重量比率（Ａ／Ｂ）は、Ａ／Ｂ＝１０／９０以上９０／１０以下であるのが好ましく、Ａ／Ｂ＝２０／８０以上８０／２０以下であるのがより好ましく、Ａ／Ｂ＝２５／７５以上８０／２０以下であるのがさらに好ましい。Ａ／Ｂ＝１０／９０以上９０／１０以下とした場合、離型層１１０は、ＣＬ接着剤との密着が過度に強くならないので離型性が低下せず、かつ、ＣＬ接着剤のシミ出し量が増大することを防ぐことができる。特に埋め込み性向上の観点からは、Ａ／Ｂ＝２５／７５以上５０／５０とすることが好ましい。

　離型層１１０に含有される共重合体（Ｂ）中のポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合比率（ＰＢＴ／ＰＴＭＧ）は、ＰＢＴ／ＰＴＭＧ＝８０／２０以上９０／１０以下であるのが好ましい。ＰＢＴ／ＰＴＭＧ＝８０／２０以上９０／１０以下とした場合、ＣＬ接着剤のシミ出し量が増大することを防ぐことができ、かつ、ＣＬ接着剤との密着性が悪化することを防ぐことができる。

　単独重合体（Ａ）および共重合体（Ｂ）以外の離型層形成樹脂に含有することができる樹脂成分としては、例えば、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられる。なお、これらの樹脂は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　なお、エラストマー樹脂としては、例えば、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ネオプレン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、スチレン－ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＲ）、水素添加スチレン－ブタジエンブロック共重合体（ＳＥＢ）、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、水素添加スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン－イソプレンブロック共重合体（ＳＩＲ）、水素添加スチレン－イソプレンブロック共重合体（ＳＥＰ）、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、水素添加スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）、またはエチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）、直鎖状低密度ポリエチレン系エラストマー等のオレフィン系ゴム、もしくはブタジエン－アクリロニトリル－スチレン－コアシェルゴム（ＡＢＳ）、メチルメタアクリレート－ブタジエン－スチレン－コアシェルゴム（ＭＢＳ）、メチルメタアクリレート－ブチルアクリレート－スチレン－コアシェルゴム（ＭＡＳ）、オクチルアクリレート－ブタジエン－スチレン－コアシェルゴム（ＭＡＢＳ）、アルキルアクリレート－ブタジエン－アクリロニトリル－スチレン－コアシェルゴム（ＡＡＢＳ）、ブタジエン－スチレン－コアシェルゴム（ＳＢＲ）、メチルメタアクリレート－ブチルアクリレート－シロキサン等のシロキサン含有コアシェルゴム等のコアシェルタイプの粒子状弾性体、またはこれらを変性したゴム等が挙げられる。

　ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、直鎖状高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタクチックポリプロピレン、ブロックポリプロピレン、ランダムポリプロピレン、ポリブテン、１，２－ポリブタジエン、ポリ（４－メチルペンテン）、環状ポリオレフィン及びこれらの共重合体（例えば、エチレン－メタアクリル酸メチル共重合体等）等が挙げられる。

　ポリスチレン系樹脂としては、例えば、アタクチックポリスチレン、アイソタクチックポリスチレン、高耐衝撃ポリスチレン（ＨＩＰＳ）、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）、アクリロニトリル－スチレン共重合体（ＡＳ）、スチレンーメタアクリル酸共重合体、スチレンーメタアクリル酸・アルキルエステル共重合体、スチレンーメタアクリル酸・グリシジルエステル共重合体、スチレンーアクリル酸共重合体、スチレンーアクリル酸・アルキルエステル共重合体、スチレンーマレイン酸共重合体、スチレンーフマル酸共重合体等が挙げられる。

　ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。

　ポリアミド系樹脂としては、例えば、ナイロン（登録商標）６、ナイロン（登録商標）６，６等が挙げられる。

　離型層形成樹脂には、各種の添加剤、例えば、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、核剤、帯電防止剤、プロセスオイル、可塑剤、離型剤、難燃剤、難燃助剤、顔料等が配合されてもかまわない。

　なお、アンチブロッキング剤としては、以下のような無機粒子または有機粒子が挙げられる。無機粒子としては、ＩＡ族、IIＡ族、IVＡ族、VIＡ族、VIIＡ族、VIIIＡ族、ＩＢ族、IIＢ族、IIIＢ族、IVＢ族元素の酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、並びにそれらを中心とする複合化合物及び天然鉱物粒子が挙げられる。

　このような無機粒子の具体的な例としては、フッ化リチウム、ホウ砂（ホウ酸ナトリウム含水塩）等のＩＡ族元素化合物；炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、酸化マグネシウム（マグネシア）、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、フッ化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウム含水塩（タルク）、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、亜リン酸カルシウム、硫酸カルシウム（石膏）、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、ケイ酸カルシウム、フッ化カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウム、リン酸バリウム、硫酸バリウム、亜硫酸バリウム等のIIＡ族元素化合物；二酸化チタン（チタニア）、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム（ジルコニア）、一酸化ジルコニウム等のIVＡ族元素化合物；二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のVIＡ族元素化合物；塩化マンガン、酢酸マンガン等のVIIＡ族元素化合物；塩化コバルト、酢酸コバルト等のVIII族元素化合物；ヨウ化第一銅等のＩＢ族元素化合物；酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIＢ族元素化合物；酸化アルミニウム（アルミナ）、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、アルミナシリケート（ケイ酸アルミナ、カオリン、カオリナイト）等のIIIＢ族元素化合物；酸化ケイ素（シリカ、シリカゲル）、石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のIVＢ族元素化合物；カーナル石、カイナイト、雲母（マイカ、キンウンモ）、バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。

　有機粒子としては、フッ素樹脂、メラミン系樹脂、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体、アクリル系レジンシリコーン及びそれらの架橋体が挙げられる。

　上述の無機粒子および有機粒子の平均粒径は０．１μｍ以上１０μｍ以下であるのが好ましく、添加量は０.０１重量％以上１５重量％以下であるのが好ましい。

　なお、これらのアンチブロッキング剤は単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

　酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、２－［（１－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ペンチルフェニル）エチル］－４，６－ジ－ｔ－ペンチルフェニルアクリレートなどが挙げられる。なお、これらの酸化防止剤は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　核剤としては、アルミニウムジ（ｐ－ｔ－ブチルベンゾエート）等のカルボン酸の金属塩、メチレンビス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェノール）アシッドホスフェートナトリウム等のリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。なお、これらの核剤は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　可塑剤としては、ポリエチレングリコール、ポリアミドオリゴマー、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エステル、ポリスチレンオリゴマー、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等が挙げられる。なお、これらの可塑剤は、単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　離型剤としては、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル、長鎖カルボン酸、長鎖カルボン酸金属塩等が挙げられる。なお、これらの離型剤は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　プロセスオイルとしては、パラフィン系オイル、ナフテン系オイル、アロマ系オイルが挙げられる。なお、これらの中でもｎ－ｄ－Ｍ法で算出されるパラフィン（直鎖）に関わる炭素数の全炭素数に対する百分率が６０％Ｃｐ以上のパラフィン系オイルが好ましい。

　プロセスオイルの粘度は、４０℃での動粘度が１５ｃｓ以上６００ｃｓ以下であるのが好ましく、１５ｃｓ以上５００ｃｓ以下であるのがさらに好ましい。また、プロセスオイルの添加量は、離型層形成樹脂１００重量部に対して０.０１重量部以上１.５重量部以下であるのが好ましく、０.０５重量部以上１.４重量部以下であるのがより好ましく、０.１重量部以上１．３重量部以下であるのがさらに好ましい。なお、これらのプロセスオイルは、単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　２．クッション層
　クッション層１２０は、本実施の形態において、エチレン－メタアクリル酸メチル共重合体を主成分とする樹脂（以下「クッション層形成樹脂」と称する）から形成される。なお、クッション層形成樹脂は、エチレン－メタアクリル酸メチル共重合体のみから形成されてもかまわない。このクッション層形成樹脂には、離型層１１０との接着性を良好にする目的で、上述の離型層形成樹脂と同組成の樹脂が添加されてもかまわない。このクッション層形成樹脂には、加熱時における流れ出しを防止する目的で、ポリオレフィン系樹脂を添加してもかまわない。なお、ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、直鎖状高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン、アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタクチックポリプロピレン、ブロックポリプロピレン、ランダムポリプロピレン、ポリブテン、１，２－ポリブタジエン、ポリ（４－メチルペンテン）、環状ポリオレフィン及びこれらの共重合体等が挙げられる。本実施の形態において、クッション層１２０の厚みは離型層１１０の厚みの３倍以上であるのが好ましく、５倍以上であるのがより好ましく、８倍以上であるのがさらに好ましい。本実施の形態において、離型層１１０とクッション層１２０との接着性が良好でない場合、それらの層の間にアンカー層またはプライマー層（接着層）を介在させてもかまわない。

　なお、このクッション層形成樹脂には、必要に応じて、本発明の趣旨を損ねない範囲で、その他、上述のエラストマー樹脂および添加剤が配合されてもかまわない。

　＜積層フィルムの製造方法＞
　本実施の形態に係る積層フィルム１００は、共押出法、押出ラミネート法などの方法で製造することができる。

　共押出法では、フィードブロック、マルチマニホールドダイを使用して離型層１１０とクッション層１２０とを同時に押し出すことにより積層フィルム１００を製造する。なお、共押出法では、図３に示されるように、ダイス２１０を通過した融解物Ｍは、第１ロール２３０に誘導され、第１ロール２３０から脱離するまでの間に第１ロール２３０により冷却され、積層フィルム１００となる。その後、その積層フィルム１００は、第２ロール２４０によりフィルム送り方向（図３の矢印参照）下流側に送られ、最終的に巻取ロール（図示せず）に巻き取られる。なお、このとき、第１ロール２３０の温度は３０℃以上１００℃以下であるのが好ましく、第１ロール２３０に対する第２ロール２４０の周速比は０．９９０以上０．９９８以下であるのが好ましい。なお、必要に応じて、第１ロール近傍にタッチロールを配設してもかまわない。

　押出しラミネート法では、押出機シリンダーの温度を２２５℃以上２５０℃以下に設定して離型層１１０を押出し、その離型層１１０をクッション層１２０と合流させることにより離型層１１０とクッション層１２０とを積層して積層フィルム１００を製造する。なお、押出しラミネート法では、図３に示されるように、ダイス２１０を通過した離型層形成樹脂の融解物Ｍは、第１ロール２３０に誘導され、第１ロール２３０から脱離するまでの間に第１ロール２３０により冷却されて離型層フィルムＦとなる。その後、その離型層フィルムＦは、第２ロール２４０によりフィルム送り方向（図３の矢印参照）下流側に送られる。そして、フィルム送り方向下流側に送られた離型層フィルムＦに、クッション層１２０を形成する樹脂ブレンド物の溶融物（図示せず）が合流させられて離型層フィルムＦと一体化され、積層フィルム１００が製造される。なお、このようにして製造された積層フィルム１００は、さらにフィルム送り方向下流側に設けられる巻取ロール（図示せず）に巻き取られる。なお、このときも、第１ロール２３０の温度は３０℃以上１００℃以下であるのが好ましく、第１ロール２３０に対する第２ロール２４０の周速比は０．９９０以上０．９９８以下であるのが好ましい。なお、必要に応じて、第１ロール近傍にタッチロールを配設してもかまわない。

　また、離型層１１０を上記方法で薄く形成することが困難な場合は、溶液キャスト成形法等の成形方法を利用して、離型層形成樹脂溶液から離型層１１０を形成してもかまわない。

　＜積層フィルムの使用の一例＞
　本発明の実施の形態に係る積層フィルム１００は、回路露出フィルムへのＣＬフィルム接着時にＣＬフィルムを回路パターンの凹凸部に密着させるためにＣＬフィルムを包むように配置され、回路露出フィルム及びＣＬフィルムと共にプレス装置により加圧される。具体的には、積層フィルム１００は、図４に示されるように、回路露出フィルムとＣＬフィルムとが接着剤により仮止めされたもの３４０を、離型層１１０が対向するように挟み込んだ後、テフロン（登録商標）シート３３０、ゴムクッション３２０及びステンレス板３１０で順次挟み込まれ、熱盤３００でプレスされる（図４の白抜矢印参照）。なお、その熱盤３００による加熱方法としては、図５に示される通りである。つまり、熱盤３００は、加圧を開始してから１５分で常温から１７０℃まで昇温された後、３５分間その温度に維持される。その後、熱盤３００は、５０分かけて１７０℃から常温まで冷却される。なお、熱盤３００による加圧は、０分の時点で開始され、１００分の時点で開放される。なお、このときのプレス圧力は、５ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下で適宜調節される。

　＜変形例＞
　（Ａ）
　第１実施形態、後述する第２実施形態または第３実施形態では、クッション層１２０の片側にのみ離型層１１０が設けられる積層フィルム１００が紹介されたが、図２に示されるように、クッション層１２０の両側に離型層１１０ａ、１１０ｂが設けられる積層フィルム１００Ａも本発明の一実施の形態に含まれる。なお、以下、符号１１０ａの離型層を「第１離型層」と称し、符号１１０ｂの離型層を「第２離型層」と称する。

　第１離型層１１０ａは、上記の離型層１１０と同一の構造を有する。その一方、第２離型層１１０ｂは、第１離型層１１０ａと同一の構造を有していてもよいし、第１離型層１１０ａと異なる構造を有していてもよい。

　第２離型層１１０ｂが第１離型層１１０ａと同一の構造を有する場合、第２離型層１１０ｂの厚みは、０μｍ超１５μｍ以下であるのが好ましく、０μｍ超１２μｍ以下であるのがより好ましく、０μｍ超１０μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超８μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超６μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超５μｍ未満であるのがさらに好ましく、０μｍ超４μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超３μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超２μｍ以下であるのがさらに好ましく、０μｍ超１μｍ以下であるのがさらに好ましい。

　第２離型層１１０ｂが第１離型層１１０ａと異なる構造を有する場合、第２離型層１１０ｂは、例えば、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、メチルペンテン－αオレフィン共重合体、またはシンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂を主成分とする樹脂から形成される。なお、ポリメチルペンテン樹脂、またはメチルペンテン－αオレフィン共重合体は、三井化学株式会社から商品名ＴＰＸ（登録商標）として市販されている。また、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂は、出光興産株式会社から商品名ザレック（登録商標）として市販されている。かかる場合、第２離型層１１０ｂとクッション層１２０との接着力が低下するおそれがあるが、そのような場合には、第２離型層１１０ｂとクッション層１２０との間にアンカー層およびプライマー層（接着層）を介在させてもかまわない。なお、第２離型層１１０ｂがポリプロピレン樹脂を主成分とする樹脂から形成される場合、上記クッション層１２０と第２離型層１１０ｂとの接着性が良好であるため、それらの層の間にアンカー層またはプライマー層（接着層）を介在させる必要はない。また、かかる場合、第２離型層１１０ｂの厚みは、５μｍ以上であるのが好ましく、１０μｍ以上であるのがより好ましい。

　（Ｂ）
　第１実施形態、後述する第２実施形態または第３実施形態に係る積層フィルムの使用の一例では、積層フィルム１００と熱盤３００との間にテフロン（登録商標）シート３３０、ゴムクッション３２０及びステンレス板３１０で順次挟み込まれていたが、テフロン（登録商標）シート３３０、ゴムクッション３２０及びステンレス板３１０は省かれてもかまわない。

　以下、実施例および参考例を示して本発明をより詳細に説明する。

　（実施例１）
　１．積層フィルムの製造
　（１）第１離型層の原料
　第１離型層の原料としては、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重合比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝８０／２０である樹脂組成物を用いた。
　ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）：
　　　　三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバデュラン５０２０
　ポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合体（Ｂ）：
　　　　三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバデュラン５５０５Ｓ
　　　　（共重合比：ＰＢＴ成分／ＰＴＭＧ成分＝９０／１０）

　（２）クッション層の原料
　クッション層の原料としては、エチレン－メタアクリル酸メチル共重合体（メタアクリル酸メチル誘導単位含有量：５重量％）（住友化学株式会社製のアクリフト（登録商標）ＷＤ１０６）を用いた。

　（３）第２離型層の原料
　第２離型層の原料として、ポリプロピレン（住友化学株式会社製のノーブレンＦＳ２０１１ＤＧ２）を用いた。

　（４）接着層
　第１離型層とクッション層とを接着する接着層を形成する樹脂として、変性ポリエチレン（三菱化学株式会社製のモディック（登録商標）Ｆ５１５Ａ）を用いた。

　（５）積層フィルムの作製
　共押出法を利用して、クッション層の表裏に第１離型層および第２離型層を有する積層フィルム（図２参照）を作製した。

　なお、具体的には、フィードブロック、マルチマニホールドダイを使用してポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体、変性ポリエチレン、エチレン－メタアクリル酸メチル共重合体およびポリプロピレンを同時に押し出して積層フィルムを作製した。なお、この際、図３に示される装置を用いたが、第１ロール２３０の温度は６０℃であり、第１ロール２３０に対する第２ロール２４０の周速比は１であった。

　この積層フィルムの第１離型層の厚みは１２μｍであり、接着層の厚みは１０μｍであり、クッション層の厚みは８８μｍであり、第２離型層の厚みは１０μｍであった。

　２．ＣＬフィルム接着試験
　実際に、ＣＬフィルムが接着剤を介して仮止めされた回路露出フィルムを、第１離型層が回路露出フィルムに対向するように上記積層フィルムで両側から包み込み、熱盤プレスにより図５に示される加熱パターンで加熱プレスした。その結果、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、９０μｍ未満であった（表１参照）。また、積層フィルムは回路露出フィルムから容易に剥離することが可能であり、加熱プレス後の積層フィルムの剥離不良（回路上へのフィルム残り、トラレ）発生率は、１．０％未満であった（表１参照）。

　３．ＣＬ接着剤からの剥離試験
　第１離型層を、ポリイミドフィルム上に形成されたＣＬ接着剤層面に直接貼り合わせ、１７０℃、４ＭＰａ、１０分間のプレス処理を行なった。その後、貼り合わせたフィルム同士を剥離することにより、第１離型層とＣＬ接着剤が容易に剥離できるかどうかを確認した。結果、容易に剥離可能であり、離型フィルムのトラレも発生しなかった（表１参照）。

　（実施例２）
　第１離型層の原料としては、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重合比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝７０／３０である樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムに対して実施例１と同様の評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、９０μｍ未満であった（表１参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムは回路露出フィルムから容易に剥離することが可能であり、積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であった（表１参照）。ＣＬ接着剤からの剥離試験については、容易に剥離可能であり、離型フィルムのトラレも発生しなかった（表１参照）。

　（実施例３）
　第１離型層の原料としては、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重合比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝５０／５０である樹脂組成物を用いた以外は、以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムに対して実施例１と同様の評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は８０μｍ未満であった（表１参照）。また、積層フィルムは回路露出フィルムから容易に剥離することが可能であり、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であった（表１参照）。ＣＬ接着剤からの剥離試験については、容易に剥離可能でありトラレも発生しなかった（表１参照）。

　（実施例４）
　第１離型層の原料としては、ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、共重合体（Ｂ）との重合比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝２５／７５である樹脂組成物を用いた以外は、以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムに対して実施例１と同様の評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、８０μｍ未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルムよりも優れていた（表１参照）。また、積層フィルムは回路露出フィルムから容易に剥離することが可能であり、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルムと同様に良好であった（表１参照）。ＣＬ接着剤からの剥離試験については、容易に剥離可能でトラレも発生しなかった（表１参照）。

　（参考例１）
　第１離型層の原料として、ポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合体（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバデュラン５５０５Ｓ、共重合比：ＰＢＴ成分／ＰＴＭＧ成分＝９０／１０）のみを用いた以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。なお、参考例は、あくまで実施例の効果を裏付けるためのものであって、比較例のように従前の技術の例を示すものではない。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、８０μｍ未満であった（表１参照）。加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であった（表１参照）。しかしながら、ＣＬ接着剤からは容易に剥離することはできず、トラレが発生した（表１参照）。

　なお、表１中、「ホモＰＢＴ」はポリブチレンテレフタレート単独重合体、「共重合ＰＢＴ」はポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合体を示す。

－第２実施形態－
　本発明の第２実施形態に係る積層フィルム１００について説明する。第２実施形態に係る積層フィルム１００と、上記の第１実施形態に係る積層フィルム１００との主な違いは、離型層１１０の必須の構成が異なる点である。なお、第２実施形態に係る積層フィルム１００と、上記の第１実施形態に係る積層フィルム１００とで共通する構成については、適宜その説明を省略する。また、本実施形態において、積層フィルム１００の厚みは２５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。以下、これらの層についてそれぞれ詳述する。

　離型層１１０は、ポリエーテルエステルブロック共重合体を主成分とする樹脂（以下「離型層形成樹脂」と称する）から形成される。離型層形成樹脂におけるポリエーテルエステルブロック共重合体の含有率は、９０重量％以上であるが、９５重量％以上であるのが好ましい。なお、離型層１１０はポリエーテルエステルブロック共重合体のみから形成されてもかまわない。以下、離型層形成樹脂の構成成分について詳述する。

　（１）ポリエーテルエステルブロック共重合体
　ポリエーテルエステルブロック共重合体は、ポリエーテルセグメントと、ポリエステルセグメントとから主に構成される。なお、ポリエステルセグメントとポリエーテルセグメントとの重量比は、８０：２０から９０：１０の範囲内であるのが好ましい。また、ポリエーテルセグメントの構成単位は主にオキシブチレン単位であるのが好ましく、ポリエステルセグメントの構成単位は主に下記化学式（Ｉ）に示されるエステル単位であるのが好ましい。なお、このようなポリエーテルエステルブロック共重合体は、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社から商品名ノバデュラン（登録商標）５５０５Ｓ、５５１０Ｓとして市販されている。

　（２）ポリエーテルエステルブロック共重合体以外の樹脂
　離型層形成樹脂を構成するポリエーテルエステルブロック共重合体以外の樹脂としては、例えば、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられる。なお、これらの樹脂は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　なお、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂としては、上記の第１実施形態と同様の樹脂が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。

　（３）その他
　離型層形成樹脂には、上記の第１実施形態と同様の各種の添加剤、例えば、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、核剤、帯電防止剤、プロセスオイル、可塑剤、離型剤、難燃剤、難燃助剤、顔料等が配合されてもかまわない。

　２．クッション層
　クッション層１２０は、上記の第１実施形態と同様にして形成される。

　＜積層フィルムの製造・使用＞
　本実施の形態に係る積層フィルム１００は、上記の第１実施形態と同様にして、製造および使用することができる。

　以下、実施例および比較例を示して本発明をより詳細に説明する。

　（実施例１）
　１．積層フィルムの製造
　（１）第１離型層の原料
　第１離型層の原料として、ポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレート構成単位／ポリテトラメチレングリコール構成単位　９０重量部／１０重量部）（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製のノバデュラン（登録商標）５５０５Ｓ）を用いた。

　この積層フィルムの第１離型層の厚みは２８μｍであり、接着層の厚みは１０μｍであり、クッション層の厚みは７２μｍであり、第２離型層の厚みは１０μｍであった。

　２．ＣＬフィルム接着試験
　実際に、ＣＬフィルムが接着剤を介して仮止めされた回路露出フィルムを、第１離型層が回路露出フィルムに対向するように上記積層フィルムで両側から包み込み、熱盤プレスにより図５に示される加熱パターンで加熱プレスした。その結果、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、８０μｍ未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルム（比較例１参照）よりも優れていた（表２参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルムと同様に良好であった（表２参照）。

　（実施例２）
　第１離型層の原料として、ポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレート構成単位／ポリテトラメチレングリコール構成単位　８０重量部／２０重量部）（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製のノバデュラン（登録商標）５５１０Ｓ）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、８０μｍ未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルム（比較例１参照）よりも優れていた（表２参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ離型フィルムと同様に良好であった（表２参照）。

　（比較例１）
　第１離型層の原料として、ポリブチレンテレフタレート（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製のノバデュラン（登録商標）５０２０）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、１５０μｍ以上であった（表２参照）。加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であった（表２参照）。

　なお、表２中、「ＰＢＴ／ＰＴＭＧ（９０／１０）」はポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレートセグメント／ポリテトラメチレングリコールセグメント　９０重量部／１０重量部）を示し、「ＰＢＴ／ＰＴＭＧ（８０／２０）」はポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレートセグメント／ポリテトラメチレングリコールセグメント　８０重量部／２０重量部）を示し、「ＰＢＴ」はポリブチレンテレフタレートを示し、「変性ＰＥ」は変性ポリエチレンを示し、「ＥＭＭＡ」はエチレン－メタアクリル酸メチル共重合体（メタアクリル酸メチル誘導単位含有量：５重量％）を示し、「ＰＰ」はポリプロピレンを示す。

－第３実施形態－
　本発明の第３実施形態に係る積層フィルム１００について説明する。第３実施形態に係る積層フィルム１００と、上記の第１実施形態および第２実施形態に係る積層フィルム１００との主な違いは、離型層１１０の必須の構成が異なる点である。なお、第３実施形態に係る積層フィルム１００と、上記の第１実施形態に係る積層フィルム１００とで共通する構成については、適宜その説明を省略する。また、本実施形態において、積層フィルム１００の厚みは２５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。以下、これらの層についてそれぞれ詳述する。

　＜積層フィルムの構成層の詳細＞
　１．離型層
　離型層１１０は、ポリブチレンテレフタレート系樹脂を主成分とする樹脂（以下「離型層形成樹脂」と称する）から形成される。なお、本実施の形態において、離型層１１０の厚みは０μｍ超１５μｍ以下である。また、離型層の厚みは、０μｍ超１２μｍ以下であるのが好ましく、０μｍ超１０μｍ以下であることがより好ましく、０μｍ超８μｍ以下であることがさらに好ましく、０μｍ超６μｍ以下であることがさらに好ましく、０μｍ超５μｍ未満であることがさらに好ましく、０μｍ超４μｍ以下であることがさらに好ましく、０μｍ超３μｍ以下であることがさらに好ましく、０μｍ超２μｍ以下であることがさらに好ましく、０μｍ超１μｍ以下であることがさらに好ましい。なお、国際公開第０５／０３０４６６号パンフレットの段落［００５２］には、「上記離型層の厚さの好ましい下限は５μｍ」と記載されているが、実施例には２５μｍ厚さの離型層しか開示されていない。以下、離型層形成樹脂の構成成分について詳述する。

　（１）ポリブチレンテレフタレート系樹脂
　ポリブチレンテレフタレート系樹脂とは、例えば、ポリブチレンテレフタレート樹脂、またはブチレンテレフタレート単位（下記化学式（Ｉ）参照）を主成分とする共重合体などである。「ブチレンテレフタレート単位を主成分とする共重合体」としては、例えば、主にポリブチレンテレフタレートセグメントとポリオキシブチレンセグメントとから構成されるポリエーテルエステルブロック共重合体等が挙げられる。なお、ポリブチレンテレフタレートセグメントとポリオキシブチレンセグメントとの重量比は、８０：２０から９０：１０の範囲内であるのが好ましい。なお、このようなポリエーテルエステルブロック共重合体は、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社から商品名ノバデュラン（登録商標）５５０５Ｓ、５５１０Ｓとして市販されている。

　本実施の形態において、離型層形成樹脂におけるポリブチレンテレフタレート系樹脂の含有率は、９０重量％以上であるが、９５重量％以上であるのが好ましい。なお、離型層１１０はポリブチレンテレフタレート系樹脂のみから形成されてもかまわない。

　（２）ポリブチレンテレフタレート系樹脂以外の樹脂
　離型層形成樹脂を構成するポリブチレンテレフタレート系樹脂以外の樹脂としては、例えば、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、およびポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられる。なお、これらの樹脂は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。

　なお、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂としては、上記の第１実施形態と同様の樹脂が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。

　以下、実施例を示して本発明をより詳細に説明する。

　（実施例１）
　１．積層フィルムの製造
　（１）第１離型層の原料
　第１離型層の原料としてポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレート構成単位／ポリテトラメチレングリコール構成単位　８０重量部／２０重量部）（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社のノバデュラン（登録商標）５５１０Ｓ）を用いた。

　（２）クッション層の原料
　クッション層の原料としてエチレン－メタアクリル酸メチル共重合体（メタアクリル酸メチル誘導単位含有量：５重量％）（住友化学株式会社製のアクリフト（登録商標）ＷＤ１０６）を用いた。

　（３）第２離型層の原料
　第２離型層の原料としてポリプロピレン（住友化学株式会社製のノーブレンＦＳ２０１１ＤＧ２）を用いた。

　（４）接着層
　第１離型層とクッション層とを接着する接着層を形成する樹脂として変性ポリエチレン（三菱化学株式会社製のモディック（登録商標）Ｆ５１５Ａ）を用いた。

　この積層フィルムの第１離型層の厚みは６μｍであり、接着層の厚みは１０μｍであり、クッション層の厚みは９４μｍであり、第２離型層の厚みは１０μｍであった。

　２．ＣＬフィルム接着試験
　実際に、ＣＬフィルムが接着剤を介して仮止めされた回路露出フィルムを、第１離型層が回路露出フィルムに対向するように上記積層フィルムで両側から包み込み、熱盤プレスにより図５に示される加熱パターンで加熱プレスした。その結果、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、６０μｍであり、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも優れていた（表３参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ系離型フィルムと同様に良好であった（表３参照）。

　（実施例２）
　第１離型層の原料としてポリブチレンテレフタレート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製のノバデュラン（登録商標）５０２０）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、７０μｍであり、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも優れていた（表３参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ系離型フィルムと同様に良好であった（表３参照）。

　（実施例３）
　第１離型層の原料としてポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレート構成単位／ポリテトラメチレングリコール構成単位　９０重量部／１０重量部）（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製のノバデュラン（登録商標）５５０５Ｓ）を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　（実施例４）
　第１離型層の厚みを１２μｍとし、クッション層の厚みを９８μｍとし、第２離型層を設けなかったこと以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤が回路パターンへシミ出した量は、９０μｍであり、従前のＰＢＴ系離型フィルムよりも優れていた（表３参照）。また、加熱プレス後の積層フィルムの離型不良発生率は、１．０％未満であり、従前のＰＢＴ系離型フィルムと同様に良好であった（表３参照）。

　（実施例５）
　第１離型層の厚みを１２μｍとし、クッション層の厚みを８８μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　（実施例６）
　第１離型層の厚みを４μｍとし、クッション層の厚みを６２μｍとし、第２離型層の厚みを７μｍとし、接着層の厚みを７μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　（実施例７）
　第１離型層の厚みを５μｍとし、クッション層の厚みを７９μｍとし、第２離型層の厚みを８μｍとし、接着層の厚みを８μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして積層フィルムを作製し、その積層フィルムの評価を行った。

　なお、表３中、「ＰＢＴ／ＰＴＭＧ（９０／１０）」はポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレートセグメント／ポリテトラメチレングリコールセグメント　９０重量部／１０重量部）を示し、「ＰＢＴ／ＰＴＭＧ（８０／２０）」はポリブチレンテレフタレート／ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体（ポリブチレンテレフタレートセグメント／ポリテトラメチレングリコールセグメント　８０重量部／２０重量部）を示し、「ＰＢＴ」はポリブチレンテレフタレートを示し、「変性ＰＥ」は変性ポリエチレンを示し、「ＥＭＭＡ」はエチレン－メタアクリル酸メチル共重合体（メタアクリル酸メチル誘導単位含有量：５重量％）を示し、「ＰＰ」はポリプロピレンを示す。

　本発明に係る離型フィルムは、従前のＰＢＴ離型フィルムと同様に離型層の回路露出フィルム及びＣＬフィルムへの密着、および離型層同士の密着を防ぐことができると共に、回路露出フィルムとＣＬフィルムとの間の接着剤がその回路パターン部分へシミ出す量を、従前のＰＢＴ離型フィルムよりも低減することができるという特徴を有し、加圧プレスによる回路露出フィルムへのＣＬフィルム接着時にＣＬフィルムを回路パターンの凹凸部に密着させるためにカバーレイフィルムを包むように用いられる離型フィルムとして特に有用である。

　離型フィルムとしては他に（１）積層板製造時に用いられるもの、（２）先端複合材料製品製造時に用いられるもの、（３）スポーツ・レジャー用品製造時に用いられるものが知られているが、本発明に係る離型フィルムは、これらの離型フィルムとしても有用である。なお、積層板製造時に用いられる離型フィルムとは、多層プリント基板を製造する際のプレス成形において、プリント基板とセパレータープレート又は他のプリント基板との間の接着を防止するためにそれらの間に介在させるフィルムである。先端複合材料製品製造時に用いられる離型フィルムとは、例えば、ガラスクロス、炭素繊維又はアラミド繊維とエポキシ樹脂からなるプリプレグを硬化させて種々の製品を製造する際に用いられるフィルムである。スポーツ・レジャー用品製造時に用いられる離型フィルムとは、例えば、釣り竿、ゴルフクラブのシャフト、ウィンドサーフィンのポール等の製造において、プリプレグを円筒状に巻いてオートクレーブ中で硬化させる際にそのプリプレグの上に巻かれるフィルムである。

　この離型フィルムは、その他、粘着テープ、両面テープ、マスキングテープ、ラベル、シール、ステッカー、皮膚貼付用湿布剤等の剥離フィルムとしても有用である。

　この離型フィルムは、プリント回路基板、セラミックス電子部品、熱硬化性樹脂製品、または化粧板等の製造時に用いられる工程フィルムとしても有用である。なお、ここにいう工程フィルムとは、プリント基板、セラミックス電子部品、熱硬化性樹脂製品、または化粧板等を製造する時、金属板同士または樹脂同士が接着してしまわないように、成形工程時に金属板同士の間または樹脂同士の間に挟み込まれるフィルムをいい、特に積層板製造時、フレキシブルプリント基板製造時、先端複合材料製品製造時、スポーツ・レジャー用品製造時に好適に用いられるものである。また、この離型フィルムは、包装フィルムしても有用である。

Claims

　少なくともポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）成分とポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）成分との共重合体（Ｂ）とを含有する離型層を備える、離型フィルム。
　前記離型層中における前記ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、前記共重合体（Ｂ）との重量比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝２５／７５以上８０／２０以下である
請求項１に記載の離型フィルム。
　前記離型層中における前記ポリブチレンテレフタレート単独重合体（Ａ）と、前記共重合体（Ｂ）との重量比率（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝２５／７５以上５０／５０以下である
請求項２に記載の離型フィルム。
　前記共重合体（Ｂ）中のポリブチレンテレフタレート成分とポリテトラメチレングリコール成分との共重合比率（ＰＢＴ／ＰＴＭＧ）がＰＢＴ／ＰＴＭＧ＝８０／２０以上９０／１０以下である
請求項１～３のいずれか１項に記載の離型フィルム。
　クッション層をさらに有する
請求項１～４のいずれか１項に記載の離型フィルム。
　前記離型層の厚さが１５μm以下である
請求項５に記載の離型フィルム。
　ポリエーテルセグメントと、ポリエステルセグメントとから主に構成されるポリエーテルエステルブロック共重合体を主成分とする樹脂から形成される離型層を少なくとも片側の表面層として備える、離型フィルム。
　ポリブチレンテレフタレート系樹脂を主成分とする樹脂から形成される厚さ１５μｍ以下の離型層を少なくとも片側の表面層として備える、離型フィルム。
　前記離型層は、厚さが１０μｍ以下である
請求項８に記載の離型フィルム。
　前記ポリブチレンテレフタレート系樹脂は、ポリブチレンテレフタレート樹脂である
請求項８または９に記載の離型フィルム。
　前記ポリブチレンテレフタレート系樹脂は、ポリエーテルセグメントとポリエステルセグメントとから主に構成されるポリエーテルエステルブロック共重合体である
請求項８または９に記載の離型フィルム。
　前記ポリエステルセグメントと前記ポリエーテルセグメントとの重量比は、８０：２０から９０：１０の範囲内である
請求項７または１１に記載の離型フィルム。
　前記ポリエーテルセグメントの構成単位は、主に、オキシブチレン単位であり、
　前記ポリエステルセグメントの構成単位は、主に、下記化学式（Ｉ）に示されるエステル単位である
請求項１２に記載の離型フィルム。