WO2011074464A1 - 弾性境界波装置 - Google Patents

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Abstract

 3媒質型の弾性境界波装置において、高次モードに起因するスプリアスを抑圧する。 弾性境界波装置1は、圧電体からなる第1の媒質2と、第2の媒質7と、第3の媒質6と、IDT電極3とを備えている。第1の媒質2は、速い横波と遅い横波とを有する。第2の媒質7は、第1の媒質2の上方に設けられている。第3の媒質6は、第1の媒質2と、第2の媒質7との間に設けられている。第3の媒質6の横波の音速は、第1の媒質2の遅い横波の音速より低く、かつ第2の媒質7の横波の音速より低い。IDT電極3は、第1の媒質2と第3の媒質6との間の境界に形成されている。第2の媒質7の横波の音速は、第1の媒質2の速い横波の音速よりも遅い。

Description

弾性境界波装置
 本発明は、弾性境界波装置に関し、特には、SH型弾性境界波を用いた3媒質型の弾性境界波装置に関する。
 従来、例えば下記の特許文献1、2などにおいて、通信機器の帯域フィルタなどに用いられる弾性波装置として、3媒質型の弾性境界波装置が提案されている。3媒質型の弾性境界波装置は、圧電体からなる第1の媒質と、第2の媒質と、第1の媒質と第2の媒質との間に設けられている第3の媒質と、第1の媒質と第3の媒質との間の境界に形成されているIDT電極とを備えている。特許文献1には、第1の媒質をLiNbO単結晶基板とし、第2の媒質を、LiNbOの速い横波の音速より高音速な多結晶珪素膜とすることが記載されている。
WO98/52279 A1号公報 WO2006/114930 A1号公報
 特許文献1に記載のように、第1の媒質をLiNbO単結晶基板とし、第2の媒質を多結晶珪素膜とした場合、高次モードが閉じこもりやすくなり、高次モードに起因するスプリアスが発生するという問題があった。
 本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、3媒質型の弾性境界波装置において、高次モードに起因するスプリアスを抑圧することにある。
 本発明に係る弾性境界波装置は、第1の媒質と、第2の媒質と、第3の媒質と、IDT電極とを備えている。第1の媒質は、圧電体からなる。第1の媒質は、速い横波と遅い横波とを有する。第2の媒質は、第1の媒質の上方に設けられている。第3の媒質は、第1の媒質と、第2の媒質との間に設けられている。第3の媒質の横波の音速は、第1の媒質の遅い横波の音速より遅くかつ第2の媒質の横波の音速よりも遅い。IDT電極は、第1の媒質と第3の媒質との間の境界に形成されている。本発明に係る弾性境界波装置において、第2の媒質の横波の音速は、第1の媒質の速い横波の音速よりも遅い。
 本発明に係る弾性境界波装置のある特定の局面では、第2の媒質の横波の音速は、第1の媒質の遅い横波の音速よりも速い。この構成によれば、基本モードの音速を高くすることが可能となる。このため、IDT電極のピッチを大きくできるため、基本モードの応答の挿入損失を小さくすることができ、かつ、耐サージ性や耐電力性を高めることができる。
 本発明に係る弾性境界波装置の他の特定の局面では、弾性境界波の基本モードの音速が第1の媒質の遅い横波の音速及び第2の媒質の横波の音速よりも遅く、弾性境界波の高次モードの音速が第2の媒質の横波の音速よりも速い。この構成によれば、弾性境界波の基本モードを第3の媒質内に効果的に閉じ込めることができ、かつ、弾性境界波の高次モードを第2の媒質側に漏洩させることができる。従って、高次モードに起因するスプリアスの発生を効果的に抑制することができる。
 本発明に係る弾性境界波装置の別の特定の局面では、第2の媒質の上に吸音層が設けられている。この構成によれば、第2の媒質側に漏洩した高次モードが吸音層において減衰する。従って、高次モードに起因するスプリアスの発生をより効果的に抑制することができる。
 本発明に係る弾性境界波装置のさらに他の特定の局面では、第1の媒質が、0°~37°回転YカットLiNbOであり、弾性境界波のうちのSH型弾性境界波を用いる。
 本発明に係る弾性境界波装置のさらに別の特定の局面では、第3の媒質が酸化珪素である。第3の媒質を、正の周波数温度係数(TCF)を有する酸化珪素により形成することで、例えば、第1の媒質がLiNbOである場合など、第1の媒質が負のTCFを有する場合に、弾性境界波装置のTCFの絶対値を小さくすることができる。
 本発明に係る弾性境界波装置のまたさらに他の特定の局面では、第2の媒質の横波の音速が3800m/秒~4750m/秒の範囲内にある。この構成では、第1の媒質をLiNbOとし、第3の媒質を酸化珪素とした場合に、第2の媒質の横波の音速を、LiNbOからなる第1の媒質の速い横波の音速(4753m/秒)以下、酸化珪素からなる第3の媒質の横波の音速(3757m/秒)以上とすることができる。従って、高次モードを第2の媒質側に効率的に漏洩させることができる。
 本発明に係る弾性境界波装置のまたさらに別の局面では、第2の媒質の横波の音速が4030m/秒~4300m/秒の範囲内にある。この構成では、第1の媒質をLiNbOとした場合に、第2の媒質の横波の音速を、音速が安定しやすい、LiNbOからなる第1の媒質の遅い横波の音速(4030m/秒)以上とすることができる。このため、基本モードの応答の挿入損失を安定させることができる。また、IDT電極の電極指ピッチを大きくし得るため、耐サージ性や耐電力性を向上することができる。
 本発明に係る弾性境界波装置のまた別の特定の局面では、第2の媒質が酸化窒化珪素である。この構成によれば、周波数温度係数(TCF)を良好にできる。成膜時に酸素と窒素の組成比を制御することにより、周波数温度係数(TCF)の正負を制御できる。また、酸素と窒素の組成比を制御することにより、第2の媒質の音速を制御することができる。
 本発明に係る弾性境界波装置のさらにまた別の特定の局面では、第2の媒質が酸化窒化珪素膜で構成されており、その酸化窒化珪素膜の屈折率が1.56~1.61の範囲内にある。この構成では、第2の媒質を構成する酸化窒化珪素膜の音速が高次モードの抑制される音速となるように、酸素と窒素の組成比が制御されている。
 なお、本明細書において、屈折率とは、常温において波長が633nmのHe-Neレーザー光を用いて測定した屈折率を意味する。
 本発明における3媒質構造の弾性境界波装置では、速い横波と遅い横波を有する第1の媒質と第2の媒質の間に積層されている第3の媒質の横波の音速が、第1の媒質の遅い横波の音速と第2の媒質の横波の音速よりも低く設定されている。さらに、第2の媒質の横波の音速は、第1の媒質の速い横波の音速よりも遅い。従って、本発明によれば、高次モードに起因するスプリアスが抑制されており、かつ設計が容易な弾性境界波装置を提供することができる。
図1(a)は、実施形態に係る弾性境界波装置の要部を示す部分切欠拡大正面断面図である。図1(b)は、実施形態に係る弾性境界波装置の模式的平面図である。 図2は、実施形態における基本モード及び高次モードの音速と、各媒質の横波の音速との関係を表すグラフである。 図3は、第1の媒質がLiNbOであり、第2の媒質が窒化珪素であり、第3の媒質が酸化珪素である場合の基本モード及び高次モードの音速と、各媒質の横波の音速との関係を表すグラフである。 図4は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が0°Yカットである場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図5は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が0°Yカットである場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図6は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が10°Yカットである場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図7は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が10°Yカットである場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図8は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が25°Yカットである場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図9は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が25°Yカットである場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図10は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が37°Yカットである場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図11は、第2の媒質が窒化珪素であり、LiNbO基板のカット角が37°Yカットである場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図12は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.65である場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図13は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.65である場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図14は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.61である場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図15は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.61である場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図16は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.56である場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図17は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.56である場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。 図18は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.51である場合の弾性境界波装置のインピーダンス特性を表すグラフである。 図19は、酸化窒化珪素膜の屈折率が1.51である場合の弾性境界波装置の位相特性を表すグラフである。
 以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
 図1(a)は、実施形態に係る弾性境界波装置の要部を示す部分切欠拡大正面断面図である。図1(b)は、実施形態に係る弾性境界波装置の模式的平面図である。
 図1に示す弾性境界波装置1は、弾性境界波を利用した装置であり、詳細には、SH型弾性境界波を利用した装置である。なお、本実施形態の弾性境界波装置1は、1ポート型弾性境界波共振子であるが、本発明において、弾性境界波装置は、弾性境界波共振子に限定されず、例えば、弾性境界波フィルタなどであってもよい。
 図1(a)に示すように、弾性境界波装置1は、第1の媒質2を備えている。第1の媒質2は、圧電体からなり、速い横波と、遅い横波とを有する。すなわち、第1の媒質2は、圧電単結晶からなる。第1の媒質2を構成する圧電体は、弾性境界波装置1に求められる特性などに応じて適宜選択することができる。具体的には、第1の媒質2は、例えば、LiNbOやLiTaOなどの適宜の圧電体により形成することができる。なかでも、第1の媒質2は、LiNbOにより形成されていることが好ましく、さらには、0°~37°回転YカットLiNbOにより形成されていることがより好ましい。
 第1の媒質2の上方には、第2の媒質7が配置されている。第1の媒質2と第2の媒質7との間には、第3の媒質6が配置されている。そして、第2の媒質7の上には、吸音層8が配置されている。すなわち、第1の媒質2、第3の媒質6、第2の媒質7及び吸音層8がこの順番で積層されている。そして、第1の媒質2と第3の媒質6との間の境界に、IDT電極3と、反射器4,5とが形成されている。図1(b)に示すように、反射器4,5は、IDT電極3の弾性境界波伝搬方向の両側に形成されている。
 IDT電極3は、互いに間挿し合う複数本の電極指3aを有している。IDT電極3には、交叉幅重み付けが施されている。具体的には、IDT電極3では、IDT電極3の弾性境界波伝搬方向の端部における交叉幅Wに比べ、IDT電極3の弾性境界波伝搬方向中央における交叉幅Wが大きくされている。すなわち、IDT電極3には、中央における交叉幅Wが最大交叉幅であり、IDT電極3の端部に向うにつれ、交叉幅が順次小さくなるように重み付けが施されている。
 IDT電極3及び反射器4,5は、適宜の導電材料からなる。導電材料の具体例としては、例えば、Al、Au、Ag、Cu、Pt、Ta、W、Ni、Fe、Cr、Mo、Tiなどの金属、またはこれらの金属の1種以上を主成分とするAlCu、NiCr等の合金などが挙げられる。なかでも、Pt及びAlをIDT電極3及び反射器4,5の材料として用いることが好ましく、この場合、IDT電極3の導電性を高めることができる。また、反射係数を高めることができる。
 IDT電極3及び反射器4,5のそれぞれは、単一の導電膜により構成されていてもよいし、複数の導電膜が積層された積層導電膜により構成されていてもよい。本実施形態では、IDT電極3及び反射器4,5は、積層導電膜により構成されている。具体的には、図1(a)に示すように、IDT電極3及び反射器4,5のそれぞれは、Ti膜11a、Pt膜11b、Ti膜11c、Al膜11d、Ti膜11e,Pt膜11f及びTi膜11gが第1の媒質2側からこの順番で積層された積層金属膜により構成されている。
 この積層金属膜において、Pt膜11b、Al膜11d及びPt膜11fは、Ti膜11a,11c,11e,11gよりも厚くされている。すなわち、積層金属膜は、Pt膜11b、Al膜11d及びPt膜11fを主体としている。
 Ti膜11aは、IDT電極3の圧電基板としての第1の媒質2への密着性を高める密着層として機能している。Ti膜11cは、Pt膜11bとAl膜11dとの相互拡散を抑制するバリア層として機能している。Ti膜11eも、Ti膜11cと同様に、バリア層として機能している。Ti膜11gは、第3の媒質6と、Pt膜11fとの密着性を高める密着層として機能している。
 図1(a)に示すように、第3の媒質6は、IDT電極3及び反射器4,5を覆うように第1の媒質2上に形成されている。本実施形態では、具体的には、第3の媒質6は、酸化珪素からなる。第3の媒質6は、アモルファス膜または多結晶膜であり、等方性であるため、1種類の横波のみを有する。第3の媒質6の厚みは、特に限定されないが、IDT電極3の電極指間ピッチにより決定される弾性境界波の波長をλとすると、0.3λ~0.7λ程度とすることができる。
 第3の媒質6の上には、第2の媒質7が形成されている。本実施形態では、第2の媒質7は、酸化窒化珪素からなる。具体的には、第2の媒質7は、屈折率が1.56~1.61の範囲内にある酸化窒化珪素からなる。第2の媒質7は、アモルファス膜または多結晶膜であり、等方性であるため、1種類の横波のみを有する。
 第2の媒質7は、後に詳述するように、IDT電極3において発生する弾性境界波の基本モードを第3の媒質6内に閉じ込める機能を有する。第2の媒質7の厚さが小さすぎると基本モードが第2の媒質7側に漏洩しやすくなり、第2の媒質7の厚さが大きすぎると、IDT電極3において発生する弾性境界波の高次モードが吸音層8にまで到達しなくなる。その結果、高次モードが減衰しにくくなり、高次モードに起因するスプリアスが大きくなる傾向にある。従って、第2の媒質7の厚みの下限値は、1.25λ程度であり、第2の媒質7の厚みの上限値は、3λ~4λ程度であることが好ましい。
 なお、第2及び第3の媒質7,6の形成方法は、特に限定されず、例えば、スパッタ法や蒸着法などの適宜の薄膜形成方法により形成することができる。また、第2の媒質7は、特開平10-84247号公報に示されているように、基板貼り合わせ工法により形成してもよい。
 第2の媒質7の上には吸音層8が形成されている。この吸音層8は、弾性波の減衰定数が第2の媒質7よりも大きな材料により形成されている。よって、吸音層8に到達した高次モードは、吸音層8において減衰する。なお、弾性波の減衰定数が第2の媒質7よりも大きな材料の具体例としては、エポキシ系樹脂やポリイミドなどの合成樹脂などが挙げられる。
 吸音層8の厚さは、特に限定されないが、例えば、2λ~3λ程度とすることができる。
 次に、IDT電極3において発生する弾性境界波の基本モード及び高次モードと、各媒質の音速との関係について説明する。ここで、基本モードとは、第3の媒質6中に腹が1箇所存在するモードである。基本モードは、0次モードとも呼ばれる。一方、高次モードとは、第3の媒質6中に複数の腹が存在するモードである。高次モードには、1次モードと、2次以上のモードとがあり、1次モードは、第3の媒質6中に節が1カ所存在し、節の両側に変位の向きが互いに異なる腹が存在するモードである。比較的大きなスプリアス応答となって問題となる高次モードは1次モードのみであるため、一般的には、高次モードのうち、1次モードのみを考慮すれば十分である。以下、高次モードのうち、2次以上のモードを無視し、1次モードのみを高次モードとして説明する。
 図2は、本実施形態における基本モード及び高次モードの音速と、各媒質の横波の音速との関係を表すグラフである。本実施形態では、上述のように、第1の媒質2がLiNbOにより形成されており、第2の媒質7が酸化窒化珪素により形成されており、第3の媒質6が酸化珪素により形成されている。そして、LiNbOの速い横波の音速は、4753m/秒であり、LiNbOの遅い横波の音速は、4030m/秒である。酸化珪素の横波の音速は、3757m/秒である。酸化窒化珪素の横波の音速は、酸素と窒素との組成比によって変化するが、酸化珪素の横波の音速(3757m/秒)より大きく、窒化珪素の横波の音速(5950m/秒)より小さい範囲内となる。
 このため、図2に示すように、本実施形態では、第3の媒質6の横波の音速は、第1の媒質2の遅い横波の音速と、第2の媒質7の横波の音速とのいずれよりも遅い。第2の媒質7の横波の音速は、第1の媒質2の速い横波の音速よりも遅く、第1の媒質2の遅い横波の音速よりも速い。
 それに対して、図3は、第1の媒質がLiNbOであり、第2の媒質が窒化珪素であり、第3の媒質が酸化珪素である場合の、基本モード及び高次モードの音速と、各媒質の横波の音速との関係を表すグラフである。図3に示すように、窒化珪素の音速は、5950m/秒と非常に速いため、第2の媒質が窒化珪素である場合は、本実施形態の場合とは異なり、第2の媒質7の横波の音速の方が、第1の媒質2の速い横波の音速よりも速くなる。
 ここで、IDT電極3において発生する弾性境界波の基本モードを第3の媒質6内に閉じ込めるためには、基本モードの音速を第1の媒質2の遅い横波の音速及び第2の媒質の横波の音速よりも遅くする必要がある。一方、IDT電極3において発生する弾性境界波の高次モードを第1の媒質2または第2の媒質7側に漏洩させ、高次モードに起因するスプリアスを抑圧するためには、第2の媒質の横波の音速もしくは第1の媒質の速い横波の音速よりも高次モードの音速を速くする必要がある。このため、第2の媒質が窒化珪素である場合は、基本モードの音速を4030m/秒以下とし、高次モードの音速を4753m/秒以上とする必要がある。従って、基本モードの音速と高次モードの音速とを非常に大きく離さなければならず、従来、高次モードを十分に減衰させることは困難であった。
 具体例として、下記の設計パラメータを有する1ポート型の弾性境界波共振子のインピーダンス特性及び位相特性を図4~図11に示す。なお、図4~図11及び後述する図12~図19において、横軸は、周波数と波長との積(音速)である。また、図4,図6,図8,図10及び、後述する、図12,図14,図16,図18において、縦軸は、インピーダンス(Z)の絶対値のlogに20を乗じた値である。
 第1の媒質:LiNbO
 図4及び図5の場合のLiNbOのカット角:0°
 図6及び図7の場合のLiNbOのカット角:10°
 図8及び図9の場合のLiNbOのカット角:25°
 図10及び図11の場合のLiNbOのカット角:37°
 IDT電極の電極指のピッチで定まる波長(λ):1.9μm
 第2の媒質の材料:窒化珪素
 第2の媒質の膜厚:2000nm(1.05λ)
 第3の媒質の材料:酸化珪素
 第3の媒質の膜厚:712nm(0.37λ)
 IDT電極及び反射器の膜構成:第1の媒質側から、Ti膜(10nm(0.005λ))、Pt膜(31nm(0.016λ))、Ti膜(10nm(0.005λ))、Al膜(300nm(0.158λ))、Ti膜(10nm(0.005λ))、Pt膜(31nm(0.016λ))、Ti膜(10nm(0.005λ))
 IDT電極におけるデューティ=0.5
 IDT電極における電極指の対数=60対
 開口長(対向し合うバスバーの間隔)=30λ
 IDT電極のアポダイズ比(最小交叉幅W/最大交叉幅W)=0.40
 反射器の電極指の本数=各51本
 図4~図11に示すように、窒化珪素からなる第2の媒質を用いた場合は、カット角に関わらず、3500m/秒付近に現れる基本モードの応答の他に、4500m/秒付近に高次モードの応答が現れている。詳細には、図4~図11に示す結果から、少なくともカット角が0°~37°の範囲内にあるときには、4500m/秒付近に高次モードに起因するスプリアス応答が現れている。
 それに対して、本実施形態では、第2の媒質7が音速の低い酸化窒化珪素からなり、図2に示すように、第2の媒質7の横波の音速が第1の媒質2の速い横波の音速(4753m/秒)以下とされている。このため、高次モードの音速と基本モードの音速とが近い場合であっても、高次モードを第2の媒質7側に漏洩させることができる。具体的には、高次モードの音速が4753m/秒未満であっても、高次モードの音速が第2の媒質7の横波の音速よりも大きければ、高次モードを第2の媒質7側に漏洩させることができる。
 例を挙げて説明すると、高次モードを第1の媒質2または第2の媒質7側に漏洩させるためには、第2の媒質が窒化珪素からなる場合は、高次モードの音速を4753m/秒以上とする必要があるのに対して、第2の媒質7の横波の音速が4300m/秒である場合は、高次モードの音速を4300m/秒以上にすれば高次モードを第2の媒質7側に漏洩させることができる。よって、この例では、高次モードの音速のとり得る範囲が453m/秒も広がることとなる。従って、高次モードの音速のとり得る範囲が拡大する分、弾性境界波装置の設計自由度も向上する。
 第2の媒質7の横波の音速が遅い方が高次モードの音速のとり得る範囲が拡大するが、第2の媒質7の横波の音速が第3の媒質6の横波の音速以下となると、基本モードを第3の媒質6間に閉じ込めることができない。このため、第2の媒質7の横波の音速は、第3の媒質6の横波の音速よりも速い必要がある。本実施形態においては第3の媒質6が3757m/秒の横波の音速を有する酸化珪素からなる。従って、第2の媒質7の横波の音速は、3757m/秒より速く、3800m/秒~4750m/秒の範囲内にあることが好ましい。
 また、基本モードの音速を高くすることができると、IDT電極のピッチを大きくできるため、耐サージ性や耐電力性を高めることができる。従って、第2の媒質7の横波の音速は、4030m/秒より速いことがより好ましい。
 また、酸化窒化珪素からなる第2の媒質7の横波の音速を4030m/秒より速くするためには、第2の媒質7の屈折率を1.56以上とする必要がある。従って、第2の媒質7が酸化窒化珪素からなる場合、第2の媒質7の屈折率は、1.56以上であることが好ましい。
 なお、第2の媒質7の横波の音速を第1の媒質2の遅い横波の音速よりも速くしておくことにより、基本モードの音速を第1の媒質2の遅い横波の音速にまで高めることができる。よって、IDT電極3の電極指ピッチを大きくすることができる。従って、基本モードの応答の挿入損失を小さくでき、また、耐サージ特性、耐電力性を高めることができる。
 本発明者らが鋭意研究した結果、酸化窒化珪素からなる第2の媒質7の横波の音速の上限は、4300m/秒であり、そのときの第2の媒質7の屈折率は、1.61であることが分かった。従って、第2の媒質7の横波の音速は、4300m/秒以下であることが好ましく、第2の媒質7の屈折率は、1.61以下であることが好ましい。
 また、本実施形態では、高次モードが漏洩する第2の媒質7の上に、吸音層8が設けられている。従って、第2の媒質7側に漏洩し、吸音層8に達した高次モードは、吸音層8によって減衰する。従って、高次モードに起因するスプリアスをより効果的に抑圧することができる。
 本実施形態では、LiNbOからなり負のTCFを有する第1の媒質2の上に、正のTCFを有する酸化珪素からなる第3の媒質6が形成されている。従って、TCFの絶対値が小さな弾性境界波装置1を実現することができる。また、第3の媒質の上に酸化窒化珪素からなる第2の媒質7が形成されている。酸化窒化珪素の窒素の比率が大きくなるに従いTCFは正から負へ変化する。弾性境界波装置1のTCFの絶対値をより小さくする観点からは、より大きな正のTCFを有する酸化窒化珪素膜を第2の媒質7として形成することが好ましく、具体的には、屈折率が1.61以下の酸化窒化珪素膜を第2の媒質7として形成することが好ましい。
 なお、高次モードに起因するスプリアスを抑制する方法としては、例えば、上記の特許文献2に記載のように、酸化珪素からなる第3の媒質を薄くする方法が考えられる。しかしながら、この方法では、正のTCFを有する酸化珪素の膜厚が小さくなるので、弾性境界波装置のTCFの絶対値が大きくなる傾向にある。それに対して、本実施例では、酸化珪素からなる第3の媒質6を薄くする必要がないばかりか、第3の媒質の上に、正のTCFを有する酸化珪素と負のTCFを有する窒化珪素の中間値であるTCFを有する酸化窒化珪素からなる第2の媒質7が形成されている。従って、本実施形態によれば、TCFの絶対値が小さく、かつ、高次モードに起因するスプリアスが抑圧されている弾性境界波装置1を実現することができる。
 (実験例)
 図1(a)及び(b)に示した弾性境界波装置1、すなわち1ポート型弾性境界波共振子を下記の設計パラメータで作製し、インピーダンス特性及び位相特性を測定した。なお、第2の媒質7の形成は、Siターゲットを用い、窒素ガス、酸素ガス及びアルゴンガスを導入して、RFスパッタ法により行った。酸化窒化珪素中の酸素と窒素との組成比の調整は、窒素ガスと酸素ガスとの比率を変更することにより行った。なお、酸化珪素の理論上の屈折率は、1.48であり、窒化珪素の理論上の屈折率は2.05であり、上記方法によれば、屈折率が1.48~2.05の範囲内にある酸化窒化珪素膜を適宜形成することができる。
 第1の媒質2:15° Y-X LiNbO
 第3の媒質6:酸化珪素(膜厚:850nm(0.53λ))
 第2の媒質7:酸化窒化珪素(膜厚:2000nm(1.25λ))
 図12及び図13の場合の酸化窒化珪素の屈折率:1.65
 図14及び図15の場合の酸化窒化珪素の屈折率:1.61
 図16及び図17の場合の酸化窒化珪素の屈折率:1.56
 図18及び図19の場合の酸化窒化珪素の屈折率:1.51
 吸音層8:ポリイミド(膜厚8.0μm)
 IDT電極3及び反射器4,5の膜構成:第1の媒質2側から、Ti膜(膜厚:10nm(0.006λ))、Pt膜(膜厚:23nm(0.014λ))、Ti膜(膜厚:10nm(0.006λ))、AlCu膜(膜厚:200nm(0.125λ))、Ti膜(膜厚:10nm(0.006λ))、Pt膜(膜厚:22.5nm(0.014λ))、NiCr膜(膜厚:10nm(0.006λ))
 IDT電極の電極指のピッチで定まる波長(λ):1.6μm
 IDT電極におけるデューティ:0.5
 IDT電極における電極指の対数:60対
 対向し合うバスバーの間隔:30λ
 IDT電極のアポダイズ比(最小交叉幅W/最大交叉幅W):0.40
 反射器の電極指の本数:各51本
 図12~図19に示す結果から、第2の媒質7の屈折率が小さくなるにつれて、4000~4500m/秒付近に生じる高次モードの応答が小さくなることがわかる。これは、第2の媒質7の屈折率が小さくなるほど、第2の媒質7内の酸素の組成比が増大し、窒素の組成比が小さくなり、第2の媒質7の音速が遅くなるため、高次モードが第2の媒質7側に漏洩しやすくなるためであると考えられる。
 図12及び図13に示す場合では、音速が約4450m/秒の高次モードの応答が大きく現れていることから、第2の媒質7の横波の音速は、4450m/秒以上であると考えられる。図14及び図15に示す場合では、音速が約4300m/秒の高次モードの応答が小さくなり始めていることから、第2の媒質7の横波の音速は、約4300m/秒であると考えられる。同様に、図16及び図17に示す場合は、第2の媒質7の横波の音速は、約4150m/秒であると考えられる。これらの結果から、高次モードの音速が同じであれば、第2の媒質7の横波の音速を遅くすることにより、高次モードに起因するスプリアスを効果的に抑圧できることがわかる。また、第2の媒質7の屈折率は、第2の媒質7の横波の音速と相関し、第2の媒質7の横波の音速が遅くなるほど第2の媒質7の屈折率が低下することが分かる。
 図18及び図19に示す場合は、音速が4000m/秒に位相の浮きが生じていることから、第2の媒質7の横波の音速は、4000m/秒以下であると考えられる。従って、第2の媒質7の横波の音速が、第1の媒質2の遅い横波の音速よりも低くなっており、基本モードを第3の媒質6内に閉じ込めるための基本モードの音速の上限は、第1の媒質2の遅い横波の音速ではなく、第2の媒質7の音速となっている。
 また、本実験例において作成した弾性境界波装置のTCFを測定したところ、屈折率が1.65である場合は、-13ppm/℃であり、屈折率が1.61である場合は、-12ppm/℃であり、屈折率が1.56である場合は、-11ppm/℃であり、屈折率が1.51である場合は、-9ppm/℃であった。この結果から、酸化窒化珪素からなる第2の媒質7を形成することにより、弾性境界波装置のTCFの絶対値を小さくできることが分かる。また、第2の媒質7の屈折率が小さい方が弾性境界波装置のTCFの絶対値を小さくできることが分かる。
1…弾性境界波装置
2…第1の媒質
3…IDT電極
3a…電極指
4,5…反射器
6…第3の媒質
7…第2の媒質
8…吸音層
11a…Ti膜
11b…Pt膜
11c…Ti膜
11d…Al膜
11e…Ti膜
11f…Pt膜
11g…Ti膜

Claims (10)

  1.  圧電体からなり、速い横波と遅い横波とを有する第1の媒質と、
     前記第1の媒質の上方に設けられている第2の媒質と、
     前記第1の媒質と、前記第2の媒質との間に設けられており、前記第1の媒質の遅い横波の音速より遅くかつ前記第2の媒質の横波の音速よりも遅い横波の音速を有する第3の媒質と、
     前記第1の媒質と前記第3の媒質との間の境界に形成されているIDT電極とを備える弾性境界波装置であって、
     前記第2の媒質の横波の音速は、前記第1の媒質の速い横波の音速よりも遅い、弾性境界波装置。
  2.  前記第2の媒質の横波の音速は、前記第1の媒質の遅い横波の音速よりも速い、請求項1に記載の弾性境界波装置。
  3.  前記弾性境界波の基本モードの音速が前記第1の媒質の遅い横波の音速及び前記第2の媒質の横波の音速よりも遅く、前記弾性境界波の高次モードの音速が前記第2の媒質の横波の音速よりも速い、請求項1または2に記載の弾性境界波装置。
  4.  前記第2の媒質の上に設けられた吸音層をさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の弾性境界波装置。
  5.  前記第1の媒質が、0°~37°回転YカットLiNbOであり、前記弾性境界波のうちのSH型弾性境界波を用いる、請求項1~4のいずれか一項に記載の弾性境界波装置。
  6.  前記第3の媒質が酸化珪素である、請求項1~5のいずれか一項に記載の弾性境界波装置。
  7.  前記第2の媒質の横波の音速が3800m/秒~4750m/秒の範囲内にある、請求項1~6のいずれか一項に記載の弾性境界波装置。
  8.  前記第2の媒質の横波の音速が4030m/秒~4300m/秒の範囲内にある、請求項7に記載の弾性境界波装置。
  9.  前記第2の媒質が酸化窒化珪素である、請求項1~8のいずれか一項に記載の弾性境界波装置。
  10.  前記第2の媒質の屈折率が1.56~1.61の範囲内にある、請求項9に記載の弾性境界波装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2763315A4 (en) * 2011-09-30 2015-10-07 Murata Manufacturing Co ELASTIC WAVING DEVICE
JP2018157564A (ja) * 2017-03-16 2018-10-04 スカイワークス ソリューションズ, インコーポレイテッドSkyworks Solutions, Inc. 酸窒化ケイ素膜により覆われたインターディジタル電極を含む弾性波デバイス
JP2020150415A (ja) * 2019-03-13 2020-09-17 太陽誘電株式会社 弾性波デバイスおよびその製造方法、ウエハ、フィルタ並びにマルチプレクサ

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006114930A1 (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波装置
WO2008078481A1 (ja) * 2006-12-25 2008-07-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波装置
JP2009267905A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Panasonic Corp 弾性波素子と、これを用いたフィルタ及び電子機器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4917396B2 (ja) * 2006-09-25 2012-04-18 太陽誘電株式会社 フィルタおよび分波器
JP5125728B2 (ja) * 2008-04-28 2013-01-23 パナソニック株式会社 弾性波素子と、これを用いた共振器、フィルタ、及び電子機器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006114930A1 (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波装置
WO2008078481A1 (ja) * 2006-12-25 2008-07-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. 弾性境界波装置
JP2009267905A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Panasonic Corp 弾性波素子と、これを用いたフィルタ及び電子機器

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2763315A4 (en) * 2011-09-30 2015-10-07 Murata Manufacturing Co ELASTIC WAVING DEVICE
US9190981B2 (en) 2011-09-30 2015-11-17 Murata Manufacturing Co., Ltd. Elastic wave device including a supporting substrate, medium layer, and piezoelectric body
JP2018157564A (ja) * 2017-03-16 2018-10-04 スカイワークス ソリューションズ, インコーポレイテッドSkyworks Solutions, Inc. 酸窒化ケイ素膜により覆われたインターディジタル電極を含む弾性波デバイス
US11522515B2 (en) 2017-03-16 2022-12-06 Skyworks Solutions, Inc. Acoustic wave device including interdigital electrodes covered by silicon oxynitride film
JP2020150415A (ja) * 2019-03-13 2020-09-17 太陽誘電株式会社 弾性波デバイスおよびその製造方法、ウエハ、フィルタ並びにマルチプレクサ
JP7403960B2 (ja) 2019-03-13 2023-12-25 太陽誘電株式会社 弾性波デバイスおよびその製造方法、フィルタ並びにマルチプレクサ

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