WO2011062085A1

WO2011062085A1 - タッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル

Info

Publication number: WO2011062085A1
Application number: PCT/JP2010/069901
Authority: WO
Inventors: 安松　拓人
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2009-11-20
Filing date: 2010-11-09
Publication date: 2011-05-26
Also published as: CN102667678A; US9030427B2; US20120242610A1

Abstract

　タッチセンサ機能を有し、薄く、高い柔軟性を有する表示パネルを提供する。マトリクス状に配置された複数の絵素電極（４６）と対向電極（３５）とが対向し、これらを間に挟んで一対のフレキシブル基板（２１，３１）が対向している。対向電極に対する複数の絵素電極のそれぞれの電位を制御することにより所望の表示を行う。一対のフレキシブル基板の間に、加えられる圧縮力に応じてその電気抵抗値が変化する感圧導電樹脂（４８）が配置されている。一対のフレキシブル基板の一方に加えられた押力によって生じる一対のフレキシブル基板の間隔の変化を、感圧導電樹脂を流れる電流値に基づいて検出する。

Description

タッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル

　本発明は、タッチセンサ機能を有し、且つ、フレキシブル性を備えた表示パネルに関する。

　紙のように丸めたり、折り曲げたりすることができる、携帯性に優れたフレキシブルディスプレイの開発が進められている。さらに、その表示面に指やタッチペンで触れることにより情報を入力することが可能なタッチセンサ機能を付与することができれば、情報入力装置を別途設ける必要がなくなるので、携帯性が一層向上する。

　特開２００５－１８４９２号公報には、円筒状に丸めて収納できる情報入力表示装置が記載されている。この情報入力表示装置は、フレキシブルな画像表示部と、その観察者側の表面に積層されたフレキシブルな２次元的指示位置入力部とを備える。フレキシブルな２次元的指示位置入力部として、互いに対向する面に位置検出用電極が形成された一対の樹脂フィルムを備えた抵抗膜方式のタッチパネルを使用することができると記載されている。また、フレキシブルな画像表示部としては、液晶表示装置、ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置、電子ペーパー表示装置などを使用することができると記載されている。

　特開２００６－２２７２４９号公報には、電子ペーパーとして使用可能な、フレキシブルなマイクロカプセル型電気泳動方式の表示パネルが記載されている。この表示パネルは、柔軟性を有する一対の基板と、これら一対の基板間に挟持された電気泳動層とを備える。一対の基板の互いに対向する面には、電極がそれぞれ形成されている。電気泳動層は、一又は複数の色の帯電粒子を分散させた分散媒を内包した多数のマイクロカプセルからなる。電極を介して電気泳動層に電界を印加すると、マイクロカプセル内の帯電粒子が電界に応じていずれか一方の基板に向かって移動する。画素ごとに電気泳動層に印加する電界を制御することで、所望の表示を行うことができる。

　しかしながら、それぞれ単独では柔軟性を有するタッチパネルと電子ペーパーとを単に積層しただけでは、全体の厚みが厚くなり、せいぜい僅かに湾曲できる程度の柔軟性しか得られない。従って、特開２００５－１８４９２号公報に記載されているような円筒状に丸めることができる情報入力表示装置を実現することは困難である。

　本発明は、上記の従来の問題を解決し、タッチセンサ機能を有し、薄く、高い柔軟性を有する表示パネルを提供することを目的とする。

　本発明のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネルは、マトリクス状に配置された複数の絵素電極と、前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前記複数の絵素電極及び前記対向電極を間に挟んで対向する一対のフレキシブル基板とを備え、前記対向電極に対する前記複数の絵素電極のそれぞれの電位を制御することにより所望の表示を行う表示パネルであって、前記一対のフレキシブル基板の間に、加えられる圧縮力に応じてその電気抵抗値が変化する感圧導電樹脂が配置されており、前記一対のフレキシブル基板の一方に加えられた押力によって生じる前記一対のフレキシブル基板の間隔の変化を、前記感圧導電樹脂を流れる電流値に基づいて検出する。

　本発明によれば、タッチセンサ機能を有し、薄く、高い柔軟性を有する表示パネルを実現することができる。

図１は、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルの概略構成を示した平面図である。図２は、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルの概略構成を示した断面図である。図３は、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルのアクティブ基板の１画素分の平面透視図である。図４は、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルの一画素の等価回路図である。図５Ａは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図５Ｂは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図５Ｃは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図５Ｄは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図５Ｅは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図５Ｆは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板の製造における一工程を示した断面図である。図６Ａは、本発明の実施形態１において、オフセット印刷法により感圧導電樹脂をアクティブ基板の電極パッド上に付与する方法を示した概略図である。図６Ｂは、本発明の実施形態１において、インクジェット印刷法により感圧導電樹脂をアクティブ基板の電極パッド上に付与する方法を示した概略図である。図７Ａは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成する対向基板の製造における一工程を示した断面図である。図７Ｂは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成する対向基板の製造における一工程を示した断面図である。図７Ｃは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成する対向基板の製造における一工程を示した断面図である。図８Ａは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルを構成するアクティブ基板と対向基板とを貼り合わせる工程を示した断面図である。図８Ｂは、本発明の実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルの製造方法において、アクティブ基板及び対向基板に貼り合わされた支持基板としてのガラス基板を剥離する工程を示した断面図である。図９は、本発明の実施形態２に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネルの概略構成を示した断面図である。図１０は、本発明の実施形態３に係るタッチセンサ機能付きの電気泳動方式の表示パネルの概略構成を示した断面図である。図１１は、本発明の実施形態４に係るタッチセンサ機能付きの有機ＥＬ表示パネルの概略構成を示した断面図である。

　本発明の一実施形態に係るタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネルは、マトリクス状に配置された複数の絵素電極と、前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前記複数の絵素電極及び前記対向電極を間に挟んで対向する一対のフレキシブル基板とを備え、前記対向電極に対する前記複数の絵素電極のそれぞれの電位を制御することにより所望の表示を行う表示パネルであって、前記一対のフレキシブル基板の間に、加えられる圧縮力に応じてその電気抵抗値が変化する感圧導電樹脂が配置されており、前記一対のフレキシブル基板の一方に加えられた押力によって生じる前記一対のフレキシブル基板の間隔の変化を、前記感圧導電樹脂を流れる電流値に基づいて検出する（第１の構成）。

　第１の構成においては、一対のフレキシブル基板の間に配置された感圧導電樹脂を用いてタッチセンサを構成すれば、タッチセンサが一対のフレキシブル基板の間にインセル化された表示パネルを実現することができる。また、一対のフレキシブル基板の間に感圧導電樹脂を配置しても、表示パネルの厚さは実質的に厚くならない。従って、タッチセンサ機能を有し、薄く、高い柔軟性を有する表示パネルを実現することができる。

　前記第１の構成において、前記感圧導電樹脂がマトリクス状に配置されていることが好ましい（第２の構成）。これにより、二次元平面内でのタッチ位置の検出が可能となる。

　前記第１又は第２の構成において、前記感圧導電樹脂が、一対のフレキシブル基板を接着していることが好ましい（第３の構成）。感圧導電樹脂がこのような「接着機能」を有していることにより、表示パネルを屈曲させたり、折り曲げたりしたときに、一対のフレキシブル基板が剥離したり、一対のフレキシブル基板の一方が他方に対して位置ずれしたりするのを防止できる。従って、高い表示品位を劣化させることなく維持できる。ここで、感圧導電樹脂とフレキシブル基板との「接着」は、感圧導電樹脂がフレキシブル基板に直接接触して接着している場合に限定されず、感圧導電樹脂が他の層を介してフレキシブル基板に間接的に接着している場合をも含む。

　前記第１～第３の構成の何れか一つにおいて、前記感圧導電樹脂が、前記一対のフレキシブル基板の間隔を所定値に維持していることが好ましい（第４の構成）。感圧導電樹脂が、このような「スペーサ機能」を有していることにより、表示パネルを屈曲させたり、折り曲げたりしたときに、一対のフレキシブル基板の間隔が減少するのを防止できる。従って、高い表示品位を劣化させることなく維持できる。また、一対のフレキシブル基板の間隔を一定に保つために一般的に用いられるスペーサを省略することができる。その結果、スペーサを形成するためのプロセスが不要となる。

　本発明の一実施形態に係る表示パネルの画像表示方法は特に限定されず、反射型、透過型、自発光型など種々の表示パネルに適用することができる。

　例えば、本発明の一実施形態に係る表示パネルが液晶表示パネルであってもよい。このとき、液晶表示パネルは、反射型であっても良いし（第５の構成）、透過型であっても良いし（第６の構成）、半透過型であっても良い。透過型の液晶表示パネル（第５の構成）または半透過型の液晶表示パネルの場合には、前記一対のフレキシブル基板のうち、一方のフレキシブル基板には、他方のフレキシブル基板とは反対側において、柔軟性を有する照明装置が設けられることが好ましい（第７の構成）。

　本発明の一実施形態に係る表示パネルが液晶表示パネルである場合、前記複数の絵素電極と前記対向電極との間に設けられる液晶は、ツイスト・ネマチックやスーパーツイスト・ネマチック等の流動性を有する液晶であってもよいが、高分子分散型液晶であることが好ましい（第８の構成）。高分子分散型液晶を用いることにより、偏光板が不要となる。その結果、広視野角で明るい表示が可能となる。また、表示パネルを薄型化することができる。更に、配向膜も不要となる。

　高分子分散型液晶としては、ポリマーネットワーク液晶や、ゲスト－ホスト型液晶を用いることができる。

　あるいは、本発明の一実施形態に係る表示パネルが、電気泳動方式の表示パネルや、有機ＥＬ表示パネルであってもよい（第９，第１０の構成）。

　以下、本発明を好適な実施形態を示しながら詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されないことはいうまでもない。以下の説明において参照する各図は、説明の便宜上、本発明の実施形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要部材のみを簡略化して示したものである。従って、本発明は以下の各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。また、以下の各図中の部材の寸法は、実際の構成部材の寸法および各部材の寸法比率等を忠実に表したものではない。

　（実施形態１）
　実施形態１では、本発明を高分子分散型液晶を用いた反射型液晶表示パネルに適用した例を示す。図１は、本実施形態１に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネル１の概略構成を示した平面図である。

　液晶表示パネル１は、多数の絵素がマトリクス状に配置された表示領域１１と、表示領域１１の周囲の額縁領域１２を備えている。額縁領域１２には、ゲートドライバ１３、ソースドライバ１４、制御部１５等が設けられている。ゲートドライバ１３及びソースドライバ１４は、ポリシリコン（ｐ－Ｓｉ）もしくは微結晶シリコン（μ―Ｓｉ）を用いた薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）で構成することによりモノリシック化することが可能である。したがって、基板として柔軟なシート（例えば樹脂シート）を用いることにより、例えば点線枠１６で囲まれた広範囲な領域は良好な柔軟性を有している。但し、柔軟性を有する領域は、点線枠１６で囲まれた領域に限らず、基板の構成等を適宜変更等することにより、所望の範囲に設定することができる。

　図２は、本発明の実施形態１に係る液晶表示パネル１の概略構成を示した断面図である。表示パネル１は、互いに対向して配置されたアクティブ基板２０及び対向基板３０と、アクティブ基板２０及び対向基板３０の間に挟持された液晶層４０とを備える。対向基板３０のアクティブ基板２０とは反対側の面が、表示面であり、また、指などが触れるタッチ面である。

　アクティブ基板２０は、柔軟性を有する第１フレキシブル基板２１を備えている。第１フレキシブル基板２１の対向基板３０側の面には、ベースコート層２２、ゲート絶縁膜２３、層間絶縁膜２４、平坦化膜２５がこの順に積層されている。平坦化膜２５上には絵素電極４６及び電極パッド４７が形成されている。ベースコート層２２と層間絶縁膜２４との間には、絵素駆動用の絵素用ＴＦＴ４１とタッチ検出用のセンサ用ＴＦＴ４２が形成されている。絵素用ＴＦＴ４１は、絵素電極４６に接続されている。絵素用ＴＦＴ４１は、絵素電極４６の電位を切り替えるスイッチング素子として機能する。センサ用ＴＦＴ４２は、電極パッド４７に接続されている。

　第１フレキシブル基板２１は、例えば無色透明の樹脂膜で構成することができる。第１フレキシブル基板２１の材料としては、特に制限はないが、例えばポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂（例えばポリエチレンナフタレート）等を用いることができる。第１フレキシブル基板２１の厚さも特に制限はないが、例えば８～２０μｍに設定することができる。

　平坦化膜２５は省略することができる。平坦化膜２５を省略する場合、絵素電極４６及び電極パッド４７は、層間絶縁膜２４上に形成される。

　対向基板３０は、柔軟性を有する第２フレキシブル基板３１を備えている。対向基板３０のアクティブ基板２０側の面には、保護膜３２、カラーフィルター層３３、透明層３４、対向電極３５がこの順に形成されている。なお、保護膜３２は省略することが可能である。

　第２フレキシブル基板３１は、例えば無色透明の樹脂膜で構成することができる。第２フレキシブル基板３１の材料としては、特に制限はないが、例えばポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂（例えばポリエチレンナフタレート）等を用いることができる。第２フレキシブル基板３１の厚さも特に制限はないが、例えば８～２０μｍに設定することができる。

　カラーフィルタ層３３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各原色の波長帯域の光を選択的に透過させる３種類の色層と、隣り合う色層間に配置されたブラックマトリックスとからなる。各色層は、樹脂膜からなる。ブラックマトリクスは、Ｃｒ（クロム）等の金属又は黒色樹脂により形成された遮光膜である。後述する感圧導電樹脂４８が形成された領域には、ブラックマトリクスが形成される。

　対向電極３５は、アクティブ基板２０の絵素電極４６が形成された領域（図１の表示領域１１）に対向する領域内に連続して形成されている。

　アクティブ基板２０上の電極パッド４７と対向基板３０上の対向電極３５とを接続するように、感圧導電樹脂４８が設けられている。感圧導電樹脂４８は、表示パネル１に対して指やタッチペンが触れたことを検出するタッチセンサ機能を発揮するセンサ部を構成する。感圧導電樹脂４８は、アクティブ基板２０及び対向基板３０に接着し、これらアクティブ基板２０と対向基板３０とを接続する接着機能を備えている。感圧導電樹脂４８は、アクティブ基板２０と対向基板３０との間隔（セルギャップ）を所定の一定値に維持するスペーサ機能を備えている。

　感圧導電樹脂４８の電気抵抗値は、感圧導電樹脂４８に加えられる押力（圧縮力）に応じて変化する。例えば、感圧導電樹脂４８の電気抵抗値は、押力がゼロのとき１×１０⁷Ω以上、押力が１kgf（９．８Ｎ）のとき１×１０⁴Ω以下に設定されることが好ましい。本実施形態では、感圧導電樹脂４８の抵抗値の変化によって生じる感圧導電樹脂４８を流れる電流値の変化を検出することで、感圧導電樹脂４８に加えられる押力、即ち表示パネル１に加えられる押力（タッチ圧）を検出する。

　感圧導電樹脂４８としては、基材樹脂中に導電性粒子をフィラーとして含有させたものを使用することができる。基材樹脂としては、シリコーン、ウレタン、ポリイミド等の弾性を有する樹脂を用いることができる。これらの弾性を有する樹脂の中でも、シリコーンが好ましい。また、導電性粒子としては、カーボン、Ａｇ、Ｎｉ等のナノ粒子を用いることができる。これらのナノ粒子の中でも、Ａｇは高感度の感圧センサを実現できるので好ましい。

　感圧導電樹脂４８の弾性率は、５００ＭＰａ以下であることが好ましい。弾性率が５００ＭＰａより大きいと、押力に対する感圧導電樹脂４８の変形量が小さいので、電気抵抗値の変化が小さくなる。その結果、タッチセンサとしての感度が低下する。

　感圧導電樹脂４８の電極パッド４７及び対向電極３５に対する接着強さは、１ＭＰａ以上であることが好ましい。接着強さが１ＭＰａより小さいと、アクティブ基板２０又は対向基板３０に、両者の間隔が拡大するような力が作用したときに、感圧導電樹脂４８が電極パッド４７又は対向電極３５から剥離しやすくなる。その結果、感圧導電樹脂４８の接着機能が低下する。

　液晶層４０は、ポリマーネットワーク中に液晶を含有させたポリマーネットワーク液晶（ＰＮＬＣ：Polymer Network Liquid Crystal）を含む。液晶分子がポリマーネットワーク中に保持されており、液晶層４０に電界が印加されていないときには、ポリマーネットワークの高分子繊維に沿って液晶分子が不規則に配向するので不透明表示が得られる。一方、液晶層４０に電界が印加されているときには、液晶分子が厚さ方向（アクティブ基板２０及び対向基板３０に垂直な方向）に配向するので透明表示が得られる。ポリマーネットワーク液晶の材料は特に制限はなく、例えば公知の材料（例えば特開平５－２８１５２１号公報）を用いることができる。例えば、重合性モノマーに液晶及び光重合開始材を混合し、これに紫外線を照射することによりポリマーネットワークを形成することができる。重合方法は、光重合に限られず、熱重合、プラズマ重合など公知の方法を用いることができる。

　液晶層４０の厚み（アクティブ基板２０と対向基板３０との間隔、即ち、セルギャップ）は、特に制限はないが、例えば５μｍ程度に設定することができる。

　図３にアクティブ基板２０の一画素分の平面透視図を示す。また、図４に本実施形態の表示パネル１の一画素分の等価回路図を示す。一画素は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３つの色の絵素から構成される。図３、図４において、符号に付された添字Ｒ，Ｇ，Ｂは、赤、緑、青の各色に対応することを意味する。

　図示したように、補助容量線ＣｓＬ、ゲート線（走査線）ＧＬ、センサー線ＳenＬが水平方向に延設され、これらが上下方向に繰り返し配置されている。これら補助容量線ＣｓＬ、ゲート線ＧＬ、センサー線ＳenＬは、ゲートドライバ１３（図１参照）に接続されている。また、ソース線（信号線）ＳＬＲ，ＳＬＧ，ＳＬＢが上下方向に延設され、これらが水平方向に繰り返し配置されている。ソース線ＳＬＲ，ＳＬＧ，ＳＬＢは、ソースドライバ１４（図１参照）に接続されている。ゲート線ＧＬとソース線ＳＬＲ，ＳＬＧ，ＳＬＢのいずれかとの各交点位置に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の絵素が形成される。

　各絵素は、絵素用ＴＦＴ（４１Ｒ，４１Ｇ又は４１Ｂ）と、液晶素子（４０Ｒ，４０Ｇ又は４０Ｂ）と、静電容量（ＣｓＲ，ＣｓＧ又はＣｓＢ）とを備えている。ここで、液晶素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂのそれぞれは、図２に示した絵素電極４６、対向電極３５、液晶層４０により構成される。

　絵素用ＴＦＴ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂのソース領域は、ソース線ＳＬＲ，ＳＬＧ，ＳＬＢに接続されている。絵素用ＴＦＴ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂのゲート電極は、ゲート線ＧＬに接続されている。絵素用ＴＦＴ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂのドレイン領域は、液晶素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂの絵素電極４６Ｒ，４６Ｇ，４６Ｂ及び静電容量ＣｓＲ，ＣｓＧ，ＣｓＢの一方の電極に接続されている。静電容量ＣｓＲ，ＣｓＧ，ＣｓＢの他方の電極は、補助容量線ＣｓＬに接続されている。

　タッチセンサ機能を発揮するセンサ部は、センサ用ＴＦＴ４２と、電極パッド４７（図２参照）と、感圧導電樹脂４８と、センサー線ＳenＬとを含む。本実施形態において、センサ部は、一画素に１つずつ配置されている。具体的には、センサ用ＴＦＴ４２のソース領域は、電極パッド４７に接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のゲート電極は、センサー線ＳenＬに接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のドレイン領域は、ソース線ＳＬＧに接続されている。

　図３において、参照符号４９は、スペーサである。本実施形態では、スペーサ４９は、補助容量線ＣｓＬとソース線ＳＬＢとが交差する位置に形成されている。スペーサ４９は、アクティブ基板２０と対向基板３０とに挟持され、アクティブ基板２０と対向基板３０の間隔（液晶層４０の厚さ、即ち、セルギャップ）が所定値以下にならないように維持するためのものである。スペーサ４９の構成や形成方法は特に制限はない。例えば、スペーサ４９は、従来より公知の構成を有していても良い。また、スペーサ４９は、従来より公知の方法で形成されていても良い。なお、スペーサ４９の機能を感圧導電樹脂４８に担わせて、スペーサ４９を省略してもよい。

　本実施形態１の液晶表示パネル１の動作を以下に説明する。

　最初に表示動作を説明する。ゲート線ＧＬに正のパルスが印加されると、当該ゲート線に接続された絵素用ＴＦＴ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂがオン状態となる。これにより、ソース線ＳＬＲ，ＳＬＧ，ＳＬＢに印加された信号電圧が、絵素用ＴＦＴ４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂのソース電極からドレイン電極を経て、液晶素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ及び静電容量ＣｓＲ，ＣｓＧ，ＣｓＢへ送られる。その結果、液晶素子４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂの絵素電極４６Ｒ，４６Ｇ，４６Ｂと対向電極３５（図２参照）とによって液晶層４０（図２参照）に電界が印加され、液晶層４０の液晶分子はアクティブ基板２０及び対向基板３０に垂直な方向（厚さ方向）に配向する。液晶分子が厚さ方向に配向した絵素では、図２に示すように、外光Ｌ１が対向基板３０及び液晶層４０を通過して絵素電極４６で反射され再び液晶層４０及び対向基板３０を通過して液晶表示パネル１から出射する。液晶分子が厚さ方向に配向しなかった絵素では、外光Ｌ１は対向基板３０を通過した後、液晶層４０で吸収されてしまう。正のパルスを印加するゲート線ＧＬを順次変える（走査）ことにより、所望のカラー画像を表示させることができる。

　次に、タッチセンサとしての動作を説明する。センサー線ＳｅｎＬに正のパルスが印加されると、当該センサー線ＳｅｎＬに接続されたセンサ用ＴＦＴ４２がオン状態となる。その結果、対向電極３５から、感圧導電樹脂４８、電極パッド４７、オン状態となったセンサ用ＴＦＴ４２を通じて、ソース線ＳＬＧに電流が流れる。対向基板３０の外表面に指などが接触すると、その接触位置で対向基板３０が変形し、対向基板３０とアクティブ基板２０との間隔が減少し、その接触位置にある感圧導電樹脂４８は圧縮される。その結果、当該感圧導電樹脂４８の抵抗値が低下し、ソース線ＳＬＧに流れる電流値は大きくなる。各ソース線ＳＬＧを流れる電流値を検出することにより、センサー線ＳｅｎＬの延設方向における接触位置を検出することができる。また、正のパルスを印加したセンサー線ＳｅｎＬの位置より、ソース線ＳＬＧの延設方向における接触位置を検出することができる。正のパルスを印加するセンサー線ＳｅｎＬを順次変える（走査）ことにより、表示領域１１内での接触の有無と接触位置を検出することが可能となる。

　以上のように構成された本実施形態の液晶表示パネル１の製造方法の一例を説明する。但し、液晶表示パネル１の製造方法は以下の例に限定されない。

　液晶表示パネル１は、アクティブ基板２０及び対向基板３０をそれぞれ別個に作成し、次いで、アクティブ基板２０と対向基板３０とを貼り合わせ、これらアクティブ基板２０と対向基板３０との間に液晶を封入することで得られる。

　最初に、アクティブ基板２０の製造方法を説明する。

　まず、図５Ａに示すように、支持基板として、例えば厚さ０．７ｍｍ程度のガラス基板５１を準備する。

　次に、ガラス基板５１上に第１フレキシブル基板２１を積層する。第１フレキシブル基板２１としてポリイミド系樹脂を用いる場合には、例えばポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の溶液をガラス基板５１上に塗布し乾燥させた後、イミド化させることで第１フレキシブル基板２１を形成することができる。また、第１フレキシブル基板２１としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、別途作成した所定厚さのポリエステル系樹脂のシートを、接着層を介して、ガラス基板５１に積層する。

　次に、第１フレキシブル基板２１上にベースコート層２２を、例えばプラズマＣＶＤ法を用いて、形成する。ベースコート層２２の材料としては、ＳｉＯ₂やＳｉＮ等を用いることができる。ベースコート層２２の厚さは、例えば５００ｎｍ程度とすることができる。ベースコート層２２は、単層であってもよいし、異なる材料からなる複層であってもよい。

　次に、ベースコート層２２の全面に非晶質半導体膜を形成する。非晶質半導体膜を構成する半導体としては、好ましくはシリコンを用いることができるが、これ以外の例えばＧｅ、ＳｉＧｅ、化合物半導体、カルコゲナイドなどの半導体を用いることもできる。以下ではシリコンを用いる場合を説明する。非晶質シリコン膜は、例えばプラズマＣＶＤ法やスパッタ法などの公知の方法を用いて、例えば２５～１００ｎｍ程度の厚さで形成することができる。次いで、非晶質シリコン膜を、レーザー光を照射して結晶化させて、多結晶シリコン膜とする。次いで、多結晶シリコン膜の不要な領域を除去して素子間分離を行い、図５Ｂに示すように半導体層６１ａ，６１ｂを得る。

　次に、図５Ｃに示すように、島状の半導体層６１ａ，６１ｂを覆うゲート絶縁膜２３を形成した後、ゲート絶縁膜２３の上に絵素用ＴＦＴ４１のゲート電極６２ａ及びセンサ用ＴＦＴ４２のゲート電極６２ｂを形成する。

　ゲート絶縁膜２３の材料としては、例えばＳｉＯ₂又はＳｉＮを用いることができる。ゲート絶縁膜２３の厚さは、２０～１５０ｎｍが好ましい。

　ゲート電極６２ａ，６２ｂは、スパッタ法またはＣＶＤ法などを用いてゲート絶縁膜２３の全面に導電膜を堆積し、これをパターニングすることによって形成することができる。導電膜の材料としては、高融点金属であるＷ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏまたはその合金材料を用いることができる。また、導電膜の厚さは３００～６００ｎｍであることが好ましい。

　次に、上方よりｎ型不純物（例えばリン）を全面にイオンドーピングする。ｎ型不純物は、ゲート絶縁膜２３をスルーして半導体層６１ａ，６１ｂに注入される。半導体層６１ａ，６１ｂのうち、ｎ型不純物が注入された領域は、ＴＦＴ４１，４２のソース領域及びドレイン領域となる。ゲート電極６２ａ，６２ｂにマスクされてｎ型不純物が注入されない領域は、ＴＦＴ４１，４２のチャネル領域となる。

　次に、図５Ｄに示すように、ゲート絶縁膜２３の全面に層間絶縁膜２４を形成する。層間絶縁膜２４としては、例えばＴＥＯＳ膜やＳｉＮ膜等を用いることができる。その後、層間絶縁膜２４にコンタクトホールを形成し、ＴＦＴ４１，４２のソース領域及びドレイン領域と電気的に接続したメタル配線６３を形成する。

　次に、図５Ｅに示すように、層間絶縁膜２４の全面に平坦化膜２５を形成する。平坦化膜２５としては、層間絶縁膜２４と同様に、例えばＴＥＯＳ膜やＳｉＮ膜等を用いることができる。その後、平坦化膜２５にコンタクトホールを形成し、メタル配線６３と電気的に接続した絵素電極４６及び電極パッド４７を形成する。かくして、アクティブ基板２０が得られる。

　次に、図５Ｆに示すように、電極パッド４７上に感圧導電樹脂４８を盛り上がるように形成する。感圧導電樹脂４８を電極パッド４７上に付与する方法としては、特に制限はなく、感圧導電樹脂４８の物性等を考慮して適宜選択することができる。感圧導電樹脂を、電極パッド４７上に位置ずれすることなく、所定高さに所定量だけ付与することができる方法が好ましい。

　例えば、図６Ａに示すように、オフセット印刷法により電極パッド４７上に感圧導電樹脂４８を付与してもよい。即ち、感圧導電樹脂材料７０を、回転するグラビアローラ７１の外周面に所定パターンで形成された凹部７１ａ内に、スクレーパ７２を用いて一定量保持させる。凹部７１ａ内の感圧導電樹脂材料７０は、ブランケットローラ７３の外周面に転写され、さらに、アクティブ基板２０の電極パッド４７上に転写される。

　あるいは、図６Ｂに示すように、インクジェット印刷法により電極パッド４７上に感圧導電樹脂４８を付与してもよい。即ち、感圧導電樹脂材料７６をインクジェットノズル７５から液滴状に吐出して、アクティブ基板２０の電極パッド４７上に付与する。このとき、アクティブ基板２０を静止させて印刷してもよく、あるいは移動させながら印刷してもよい。

　上記の他、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などを用いても良い。

　感圧導電樹脂４８を電極パッド４７上に付与した後、例えば１００～１２０℃で数分間の熱処理（仮焼成）を行う。

　次に、対向基板３０の製造方法を説明する。

　まず、図７Ａに示すように、支持基板として、例えば厚さ０．７ｍｍ程度のガラス基板５２を準備する。

　次いで、ガラス基板５２上に第２フレキシブル基板３１を積層する。第２フレキシブル基板３１としてポリイミド系樹脂を用いる場合には、例えばポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の溶液をガラス基板５２上に塗布し乾燥させた後、イミド化させることで第２フレキシブル基板３１を形成することができる。また、第２フレキシブル基板３１としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、別途作成した所定厚さのポリエステル系樹脂のシートを、接着層を介して、ガラス基板５２に積層する。

　次いで、第２フレキシブル基板３１上に保護膜３２を、例えばプラズマＣＶＤ法を用いて、形成する。保護膜３２の材料としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＯＮ、又は、ＳｉＮｘ等を用いることができる。保護膜３２の厚さは、例えば５００ｎｍ程度とすることができる。

　次に、図７Ｂに示すように、保護膜３２上にカラーフィルタ層３３を形成する。最初に、保護膜３２上にブラックマトリクスを所定パターンで形成する。次いで、ブラックマトリクスの非形成領域に赤、緑、青の各色層を形成する。

　次に、図７Ｃに示すように、カラーフィルタ層３３上に透明層３４を形成する。透明層３４の材料としては、例えばアクリル樹脂、ＳｉＯ₂等を用いることができる。透明層３４の厚さは、例えば１～３μｍ程度に設定することができる。

　次に、透明層３４上に対向電極３５を形成する。対向電極３５としては、例えばＩＴＯ（インジウム－錫酸化物）又はＩＺＯ（インジウム－亜鉛酸化物）等の透明導電体を採用できる。対向電極３５は、スパッタリング法により形成することができる。

　次に、図８Ａに示すように、図５Ｆで得られたアクティブ基板２０と、図７Ｃで得られた対向基板３０とを、アクティブ基板２０の絵素電極４６及び電極パッド４７が形成された面と対向基板３０の対向電極３５が形成された面とを対向させて貼り合わせる。貼り合わせに先立って、アクティブ基板２０又は対向基板３０の貼り合わせ面の周囲に、開孔部を設けた枠状のシール材を形成しておく。貼り合わせにより、シール材がアクティブ基板２０及び対向基板３０に密着するとともに、感圧導電樹脂４８が対向電極３５に密着する。

　次いで、シール材の開孔部を通じて、紫外線硬化性樹脂液、光重合開始剤、及び液晶からなる混合液を注入し、開孔部を封止する。そして、外部から紫外線を照射する。紫外線照射により、樹脂は光重合反応を起こしてポリマーネットワークを形成し、液晶は相分離してポリマーネットワーク内に分散する。

　その後、例えば１２０～１８０℃で６０分間の熱処理（本焼成）を行い、シール材及び感圧導電樹脂４８をアクティブ基板２０及び対向基板３０に接着させる。

　次に、図８Ｂに示すように、ガラス基板５１，５２の外表面からレーザ光５５を照射することにより、アクティブ基板２０及び対向基板３０からガラス基板５１，５２を剥離し除去する。なお、ガラス基板５１，５２の除去方法は、レーザ光照射による剥離に限定されず、例えば研磨装置を用いてガラス基板５１，５２を研磨除去してもよい。

　かくして、本実施形態１の液晶表示パネル１が得られる。

　以上のように、本実施形態１の液晶表示パネル１では、タッチセンサ機能を発揮するための感圧導電樹脂４８が液晶層４０内に配置されている。即ち、タッチセンサがフレキシブル基板２１，３１間にインセル化されている。従って、従来のポリマーネットワーク液晶を用いた柔軟な反射型液晶表示パネルとほとんど同一厚さ（例えば５０μｍ程度）でタッチセンサ機能を備えさせることができる。よって、高い柔軟性を有し、例えば円筒状にロールしたり、折り畳んだりすることが可能となり、携帯性が向上する。

　感圧導電樹脂４８は、タッチセンサ機能に加えて、アクティブ基板２０と対向基板３０とを接着する接着機能、アクティブ基板２０と対向基板３０との間隔（セルギャップ）をほぼ一定に維持するスペーサ機能をも有している。したがって、液晶表示パネル１を曲げても、アクティブ基板２０と対向基板３０とが位置ずれすることはない。また、液晶層４０の厚み（セルギャップ）は、ほとんど変化せずにほぼ一定に維持される。よって、高い表示品位が安定して得られる。さらに、感圧導電樹脂４８の弾性率や配置密度等を適切に設定すれば、スペーサ（図３のスペーサ４９）が有するスペーサ機能を感圧導電樹脂４８に担わせて、スペーサを省略することも可能である。

　本実施形態１の液晶表示パネル１の構成は、センサ用ＴＦＴ４２、電極パッド４７、感圧導電樹脂４８、センサー線ＳenＬ等で構成されるセンサ部を除いて特に制限はなく、例えば従来より公知のポリマーネットワーク型液晶を用いた反射型表示パネルと同様であってもよい。換言すれば、例えばポリマーネットワーク型液晶を用いた従来より公知の柔軟性を有する反射型液晶表示パネルに上述したセンサ部を追加するという僅かな設計変更を行うだけで、タッチセンサ機能付きの液晶表示パネルを実現できる。センサ部を追加したことによって、液晶表示パネルの柔軟性はほとんど変化しない。また、センサ部を追加することによる製造プロセスの追加・変更は僅かである。その結果、従来の柔軟性を有する液晶表示パネルの製造プロセスを大幅に変更することなく、タッチセンサ機能付きの液晶表示パネルを製造することができる。

　また、上述した製造方法によれば、第１、第２フレキシブル基板２１，２２はガラス基板５１，５２で支持されるので、第１、第２フレキシブル基板２１，２２として薄いシートを用いても、第１、第２フレキシブル基板２１，２２のハンドリング性（取扱い性）が低下することはない。換言すれば、製造工程における第１、第２フレキシブル基板２１，２２のハンドリング性を確保するために、第１、第２フレキシブル基板２１，２２を厚くする必要がない。従って、薄く、高い柔軟性を有したタッチセンサ機能付きの液晶表示パネルを実現できる。

　上記の実施形態では、液晶層４０を構成する高分子分散型液晶として、ポリマーネットワーク中に液晶を含有させたポリマーネットワーク液晶（ＰＮＬＣ）を用いた例を説明したが、液晶を内包する微細なカプセルを高分子材料中に分散させた、いわゆるゲスト－ホスト型液晶（米国特許第４，４３５，０４７号公報、特開平５－２１６０１７号公報参照）を用いても良い。

　上記の実施形態では、赤、緑、青の３つの色の絵素から構成される一画素に対して１つの感圧導電樹脂４８が設けられていたが、本発明はこれに限定されない。例えば、複数の画素に対して１つの感圧導電樹脂４８を設けても良い。あるいは、赤、緑、青の各絵素に対して１つの感圧導電樹脂４８を設けても良い。また、上記の実施形態ではカラー表示を行う液晶パネルに本発明を適用した例を示したが、モノクロ表示を行う液晶パネルに本発明を適用することもできる。

　（実施形態２）
　実施形態１では反射型の液晶表示パネル１を説明した。本実施形態２では、本発明を透過型の液晶表示パネルに適用した例を説明する。本実施形態２の表示パネルの全体構成は、実施形態１で説明した図１と概略同じである。

　図９は、本実施形態２に係るタッチセンサ機能付き液晶表示パネル２の概略構成を示した断面図である。実施形態１の液晶表示パネル１を示す図２に示された構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し、それらの説明を省略する。

　本実施形態２の表示パネル２は、実施形態１で説明した表示パネル１と同様に、互いに対向して配置されたアクティブ基板２０及び対向基板３０と、アクティブ基板２０及び対向基板３０の間に挟持された液晶層４０とを備える。本実施形態２では、表示パネル２は、更に、アクティブ基板２０の液晶層４０とは反対側にアクティブ基板２０に密着してフレキシブルバックライト（照明装置）５５を備える。対向基板３０のアクティブ基板２０とは反対側の面が、表示面であり、また、指などが触れるタッチ面である。

　フレキシブルバックライト５５の構成は特に制限はないが、例えば、導光板と、導光板の一方の主面に積層された光学シートと、導光板の一側面に配置された光源とを含むエッジライト型照明装置を用いることができる。導光板は、柔軟性及び透光性を有し、例えばシリコーン樹脂等で構成することができる。導光板のアクティブ基板２０側の面には、光の出射効率を向上させるため、あるいは光を拡散させるために凹凸が形成されていてもよい。光学シートは、導光板から出射された光の光学特性を調整するためのものであって、導光板とアクティブ基板２０との間に配置される。光学シートは、柔軟性を有し、例えば拡散シート及びプリズムシート等で構成することができる。光源としては、例えば冷／熱陰極管やＬＥＤを用いることができる。光源から発せられた光は、導光板に導かれ、光学シートを通過して、アクティブ基板２０を照明する。

　フレキシブルバックライト５５からの照明光Ｌ２は、アクティブ基板２０、液晶層４０、対向基板３０を順に通過して観察者に視認される。照明光を通過させるために、絵素電極４６等は透光性を有する材料で形成されることはいうまでもない。

　本実施形態の液晶表示パネル２は、実施形態１の液晶表示パネル１と同様に、タッチセンサ機能を発揮するための感圧導電樹脂４８が液晶層４０内に配置されている。また、フレキシブルバックライト５５が柔軟性を有している。従って、従来のポリマーネットワーク液晶を用いた柔軟な透過型液晶表示パネルとほとんど同一厚さでタッチセンサ機能を備えさせることができる。よって、高い柔軟性を有し、例えば円筒状にロールしたり、折り畳んだりすることが可能である。

　液晶表示パネル２の構成は、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部を除いて特に制限はなく、例えば従来より公知のポリマーネットワーク型液晶を用いた透過型表示パネルと同様であってもよい。換言すれば、例えばポリマーネットワーク型液晶を用いた従来より公知の柔軟性を有する透過型液晶表示パネルにセンサ部を追加するという僅かな設計変更を行うだけで、タッチセンサ機能付きの液晶表示パネルを実現できる。センサ部を追加したことによって、液晶表示パネルの柔軟性はほとんど変化しない。また、センサ部を追加することによる製造プロセスの追加・変更は僅かである。その結果、従来の柔軟性を有する液晶表示パネルの製造プロセスを大幅に変更することなく、タッチセンサ機能付きの液晶表示パネルを製造することができる。

　本実施形態２は、上記以外は実施形態１と同様である。また、実施形態１で説明したのと同様の変更を行うことができる。

　実施形態２では透過型液晶表示パネルを説明したが、本発明を半透過型液晶表示パネルに適用することもできる。

　（実施形態３）
　本実施形態３では、本発明を電気泳動方式の表示パネルに適用した例を説明する。電気泳動方式の表示パネルの構成は、実施形態１で説明した液晶表示パネル１において、液晶層４０に代えて、荷電粒子を含む電気泳動層を用いた構成と概略同じである。本実施形態３の表示パネルの全体構成は、実施形態１で説明した図１と概略同じである。

　図１０は、本実施形態３に係るタッチセンサ機能付きの電気泳動方式の表示パネル３の概略構成を示した断面図である。実施形態１の液晶表示パネル１を示す図２に示された構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し、それらの詳細な説明を省略する。

　本実施形態３の表示パネル３は、互いに対向して配置されたアクティブ基板３２０及び対向基板３３０と、アクティブ基板３２０及び対向基板３３０の間に挟持された電気泳動層３４０とを備える。実施形態１の表示パネル１と同様に、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部を構成する感圧導電樹脂４８が、電気泳動層３４０内に配置されている。対向基板３３０のアクティブ基板３２０とは反対側の面が、表示面であり、また、指などが触れるタッチ面である。

　アクティブ基板３２０は、柔軟性を有する第１フレキシブル基板３２１を備えている。アクティブ基板３２０の対向基板３３０側の面には、ベースコート層３２２、ゲート絶縁膜３２３、層間絶縁膜３２４、平坦化膜３２５がこの順に積層されている。平坦化膜３２５上には、絵素電極３４６及び電極パッド４７が形成されている。ベースコート層３２２と層間絶縁膜３２４との間には、絵素駆動用の絵素用ＴＦＴ３４１とタッチ検出用のセンサ用ＴＦＴ４２が形成されている。絵素用ＴＦＴ３４１は、絵素電極３４６に接続されている。絵素用ＴＦＴ３４１は、絵素電極３４６の電位を切り替えるスイッチング素子として機能する。センサ用ＴＦＴ４２は、電極パッド４７に接続されている。絵素電極３４６及び電極パッド４７は、表示パネル３の表示領域（図１の表示領域１１を参照）内にマトリクス状に配置されている。

　対向基板３３０は、柔軟性を有する第２フレキシブル基板３３１を備えている。対向基板３３０のアクティブ基板３２０側の面には、対向電極３３５が形成されている。

　電気泳動層３４０は、多数のマイクロカプセル３４３と、これらのマイクロカプセル３４３を固定するための絶縁性を有するバインダ３４４とを備えたマイクロカプセル型電気泳動層である。電気泳動層３４０の構成は特に限定されず、例えば公知のマイクロカプセル型電気泳動層の構成を用いることができる。

　各マイクロカプセル３４３として、透明樹脂からなるマイクロカプセル内に、透明で絶縁性を有する分散媒と、正（＋）に帯電された第１電気泳動粒子と、負（－）に帯電された第２電気泳動粒子とを封入したものを用いることができる。例えば、第１電気泳動粒子は、黒色顔料であるカーボンブラックを含んでいてもよく、第２電気泳動粒子は、白色顔料である二酸化チタンを含んでいてもよい。第１電気泳動粒子及び第２電気泳動粒子は、分散媒中に分散され、電界に応じて電気泳動により分散媒中を移動する。

　表示パネル３の表示動作は、特に限定されず、例えば公知のマイクロカプセル型電気泳動層を備えた表示パネルと同様に行うことができる。例えば、絵素電極３４６の電位を対向電極３３５の電位よりも高くすると、対向電極３３５から絵素電極３４６に向かう電界が形成される。従って、この電界内に配されたマイクロカプセル３４３内において、正（＋）に帯電した黒色の第１電気泳動粒子は、対向電極３３５側に移動（泳動）し、負（－）に帯電した白色の第２電気泳動粒子は、絵素電極３４６側に移動（泳動）する。従って、当該絵素電極３４６が配された絵素では黒表示となる。これとは逆に、絵素電極３４６の電位を対向電極３３５の電位よりも低くすると、マイクロカプセル３４１内において、第１電気泳動粒子及び第２電気泳動粒子が、上記とは逆に移動（泳動）して、当該絵素電極３４６が配された絵素では白表示となる。

　上記の表示動作を行うための回路構成は特に制限はなく、例えば公知の電気泳動方式の表示パネルと同じであってもよい。

　本実施形態３において、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部は、実施形態１と同様に、センサ用ＴＦＴ４２、電極パッド４７、及び感圧導電樹脂４８を含む。

　感圧導電樹脂４８は、アクティブ基板３２０上の電極パッド４７と対向基板３３０上の対向電極３３５とを接続するように設けられている。感圧導電樹脂４８は、表示パネル３に対して指やタッチペンが触れたことを検出するタッチセンサとして機能する。感圧導電樹脂４８は、アクティブ基板３２０と対向基板３３０とを接着する接着機能を有している。感圧導電樹脂４８は、アクティブ基板３２０と対向基板３３０との間隔（セルギャップ）をほぼ一定に維持するスペーサ機能を有している。感圧導電樹脂４８の構成は、例えば実施形態１と同じであってもよい。

　センサ部の回路構成は、実施形態１と同様に構成することができる。即ち、センサ用ＴＦＴ４２のソース領域は、電極パッド４７に接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のゲート電極は、表示パネル３の表示領域を水平方向に延びるセンサー線（図２、図３のセンサー線ＳenＬを参照）に接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のドレイン領域は、表示領域を上下方向に延びる配線に接続されている。タッチセンサとしての動作は、実施形態１と同様に行うことができ、実施形態１と同様に表示領域内での接触の有無と接触位置を検出することができる。

　本実施形態の表示パネル３の製造方法の一例を説明する。但し、表示パネル３の製造方法は以下の例に限定されない。

　本実施形態の表示パネル３は、実施形態１の液晶表示パネル１と同様に、アクティブ基板３２０及び対向基板３３０をそれぞれ別個に作成し、次いで、電気泳動層３４０を挟んでアクティブ基板２０と対向基板３０とを貼り合わせることで得られる。

　アクティブ基板３２０は、実施形態１のアクティブ基板２０と同様に、ガラス基板上に、第１フレキシブル基板３２１、ベースコート層３２２、ゲート絶縁膜３２３、層間絶縁膜３２４、平坦化膜３２５、絵素電極３４６、電極パッド４７を順に積層することで作成することができる。絵素用ＴＦＴ３４１及びセンサ用ＴＦＴ４２は、実施形態１の絵素用ＴＦＴ４１及びセンサ用ＴＦＴ４２と同様に、ベースコート層３２２と層間絶縁膜３２４との間に形成される。感圧導電樹脂４８は、電極パッド４７上に、実施形態１と同様の方法により形成することができる。

　対向基板３３０は、実施形態１の対向基板３０と同様に、ガラス基板上に、第２フレキシブル基板３３１、対向電極３３５を順に積層することで作成することができる。

　アクティブ基板３２０の絵素用ＴＦＴ４１及びセンサ用ＴＦＴ４２が形成された面に、マイクロカプセル３４３及びバインダ３４４を含む混合液を、ロールコータなどを用いて、均一に塗布し、乾燥させて、電気泳動層３４０を形成する。次いで、減圧下で、電気泳動層３４０上に対向基板３３０を重ね合わせる。次いで、熱処理（本焼成）を行い、感圧導電樹脂４８をアクティブ基板３２０及び対向基板３３０に接着させる。最後に、実施形態１と同様に、アクティブ基板２０及び対向基板３０からガラス基板を剥離し除去して、本実施形態３の表示パネル３が得られる。

　本実施形態の表示パネル３は、実施形態１，２の液晶表示パネル１，２と同様に、タッチセンサ機能を発揮するための感圧導電樹脂４８が、電気泳動層３４０内に配置されている。従って、従来の電気泳動方式の柔軟な表示パネルとほとんど同一厚さでタッチセンサ機能を備えさせることができる。よって、高い柔軟性を有し、例えば円筒状にロールしたり、折り畳んだりすることが可能である。

　感圧導電樹脂４８は、タッチセンサ機能に加えて、アクティブ基板３２０と対向基板３３０とを接着する接着機能、アクティブ基板３２０と対向基板３３０との間隔（セルギャップ）をほぼ一定に維持するスペーサ機能をも有している。したがって、表示パネル３を曲げても、アクティブ基板３２０と対向基板３３０とが位置ずれすることはない。また、電気泳動層３４０の厚み（セルギャップ）は、ほとんど変化せずにほぼ一定に維持される。よって、高い表示品位が安定的に得られる。さらに、感圧導電樹脂４８の弾性率や配置密度等を適切に設定すれば、スペーサ（図３のスペーサ４９を参照）が有するスペーサ機能を感圧導電樹脂４８に担わせて、スペーサを省略することも可能である。

　表示パネル３の構成は、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部を除いて特に制限はなく、例えば従来より公知の電気泳動方式の表示パネルと同様であってもよい。換言すれば、例えば従来より公知の柔軟性を有する電気泳動方式の表示パネルにセンサ部を追加するという僅かな設計変更を行うだけで、タッチセンサ機能付きの表示パネルを実現できる。センサ部を追加したことによって、表示パネルの柔軟性はほとんど変化しない。また、センサ部を追加することによる製造プロセスの追加・変更は僅かである。その結果、従来の柔軟性を有する電気泳動方式の表示パネルの製造プロセスを大幅に変更することなく、タッチセンサ機能付きの表示パネルを製造することができる。

　上記の実施形態３では、電気泳動粒子が封入されたマイクロカプセルを用いるマイクロカプセル型電気泳動方式を示したが、電気泳動粒子が電気泳動層を厚さ方向に移動する垂直型や、電気泳動粒子が電気泳動層を水平方向（アクティブ基板２０及び対向基板３０と平行な方向）に移動する水平型（In-Plane型）等、マイクロカプセル型以外の電気泳動方式の表示パネルに本発明を適用することもできる。

　（実施形態４）
　本実施形態４では、本発明を有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示パネルに適用した例を説明する。本実施形態４の表示パネルの全体構成は、実施形態１で説明した図１と概略同じである。

　図１１は、本実施形態４に係るタッチセンサ機能付きの有機ＥＬ表示パネル４の概略構成を示した断面図である。実施形態１の液晶表示パネル１を示す図２に示された構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付し、それらの詳細な説明を省略する。

　図１１に示すように、それぞれが柔軟性を有する第１フレキシブル基板４２１及び第２フレキシブル基板４３１が互いに対向して配置されている。第２フレキシブル基板４３１の第１フレキシブル基板４２１とは反対側の面が、表示面であり、また、指などが触れるタッチ面である。

　第１フレキシブル基板４２１の第２フレキシブル基板４３１側の面には、ベースコート層４２２、ゲート絶縁膜４２３、層間絶縁膜４２４、平坦化膜４２５がこの順に積層されている。平坦化膜４２５には、絵素電極４４６及び電極パッド４７が形成されている。ベースコート層４２２と層間絶縁膜４２４との間には、絵素駆動用の絵素用ＴＦＴ４４１とタッチ検出用のセンサ用ＴＦＴ４２が形成されている。絵素用ＴＦＴ４４１は、絵素電極４４６に接続されている。絵素用ＴＦＴ４４１は、絵素電極４４６の電位を切り替えるスイッチング素子として機能する。センサ用ＴＦＴ４２は、電極パッド４７に接続されている。絵素電極４４６及び電極パッド４７は、表示パネル４の表示領域（図１の表示領域１１を参照）内にマトリクス状に配置されている。

　平坦化膜４２５の絵素電極４４６及び電極パッド４７が形成されていない領域には、バンク層４２６が形成されている。バンク層４２６は、ポリイミドやアクリル系樹脂などの絶縁材料を用いて形成することができるが、これに限定されず、例えば有機ＥＬ表示パネルのバンク層として公知の構成を用いることができる。

　絵素電極４４６上には、有機ＥＬ層４４０が形成されている。有機ＥＬ層４４０の構成は特に制限はなく、例えば有機ＥＬ表示パネルの有機ＥＬ層として公知の構成を用いることができる。例えば、有機ＥＬ層４４０は、絵素電極４４６側から、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層を順に有していてもよい。

　電極パッド４７上には、感圧導電樹脂４８が形成されている。感圧導電樹脂４８は、実施形態１と同様の方法により、バンク層４２６が形成されていない電極パッド４７上に形成することができる。

　バンク層４２６、有機ＥＬ層４４０、感圧導電樹脂４８上には、透明な対向電極４３５が連続的に形成されている。

　第１フレキシブル基板４２１と該第１フレキシブル基板４２１上の上記積層構造物は、例えば実施形態１のアクティブ基板２０と同様にガラス基板上に作成することができる。

　対向電極４３５上に、接着層４２７を介して、第２フレキシブル基板４３１が積層されている。

　本実施形態４において、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部は、実施形態１と同様に、センサ用ＴＦＴ４２、電極パッド４７、及び感圧導電樹脂４８を含む。感圧導電樹脂４８は、電極パッド４７と対向電極４３５とを接続し、表示パネル４に対して指やタッチペンが触れたことを検出するタッチセンサとして機能する。感圧導電樹脂４８の構成は、例えば実施形態１と同じであってもよい。

　センサ部の回路構成は、実施形態１と同様に構成することができる。即ち、センサ用ＴＦＴ４２のソース領域は、電極パッド４７に接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のゲート電極は、表示パネル４の表示領域を水平方向に延びるセンサー線（図２、図３のセンサー線ＳenＬを参照）に接続されている。センサ用ＴＦＴ４２のドレイン領域は、表示領域を上下方向に延びる配線に接続されている。タッチセンサとしての動作は、実施形態１と同様に行うことができ、実施形態１と同様に表示領域内での接触の有無と接触位置を検出することができる。

　陽極としての対向電極４３５と、陰極としての絵素電極４４６とに、それぞれ所定の電圧を印加することで、有機ＥＬ層４４０は所望の色光Ｌ４を発する。表示パネル４の表示動作を行うための回路構成は特に制限はなく、例えば公知の有機ＥＬ表示パネルと同じであってもよい。

　本実施形態の表示パネル４は、実施形態１～３の表示パネル１～３と同様に、タッチセンサ機能を発揮するための感圧導電樹脂４８が、第１フレキシブル基板４２１と第２フレキシブル基板４３１との間に配置されている。従って、従来の柔軟な有機ＥＬ表示パネルとほとんど同一厚さでタッチセンサ機能を備えさせることができる。よって、高い柔軟性を有し、例えば円筒状にロールしたり、折り畳んだりすることが可能である。

　表示パネル４の構成は、タッチセンサ機能を発揮するセンサ部を除いて特に制限はなく、例えば従来より公知の有機ＥＬ表示パネルと同様であってもよい。換言すれば、例えば従来より公知の柔軟性を有する有機ＥＬ表示パネルにセンサ部を追加するという僅かな設計変更を行うだけで、タッチセンサ機能付きの表示パネルを実現できる。センサ部を追加したことによって、表示パネルの柔軟性はほとんど変化しない。また、センサ部を追加することによる製造プロセスの追加・変更は僅かである。その結果、従来の柔軟性を有する有機ＥＬ表示パネルの製造プロセスを大幅に変更することなく、タッチセンサ機能付きの表示パネルを製造することができる。

　上記の実施形態４では、トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルを示したが、本発明はこれに限定されず、例えばボトムエミッション型の有機ＥＬパネルに本発明を適用することもできる。

　上記の実施形態１～４では、表示パネルの表示領域（図１の表示領域１１を参照）内にセンサ部を配置する例を示したが、本発明はこれに限定されず、例えば表示領域外にセンサ部を配置してもよい。

　上述したように、本発明の一実施形態に係る表示パネルは、タッチセンサ機能を有しながら高い柔軟性を有している。従って、本発明の一実施形態に係る表示パネルは、このような特性を利用して、各種用途に用いることができる。例えば、円筒状に巻き取ったり、または、折り畳んだりすることができることで携帯性に優れ、しかもタッチセンサ機能により情報入力が可能な表示装置に利用できる。また、本発明の一実施形態に係る表示パネルのタッチセンサ機能を、指紋センサとして、利用することもできる。その結果、例えば指紋により本人認証を行う非接触型ＩＣカード（米国特許第７，２７８，０２５号公報参照）や、表示機能とタッチ入力機能と指紋センサ機能とを具備した非接触型ＩＣカード（特開２００２－９９８８６号公報参照）、指紋センサを備えた柔軟な生体認証フィルム等に適用することが可能である。その他、手袋状など人体の形状にフィットする形状に加工して、情報表示と情報入力とが可能な人体装着型のＵＩデバイスとして利用することもできる。

　本発明の利用分野は特に制限はなく、タッチセンサ機能と高い柔軟性とを有することから、巻き取り可能な電子ペーパー、非接触型ＩＣカード、人体装着型ＵＩデバイスなど広範囲に利用することができる。

Claims

　マトリクス状に配置された複数の絵素電極と、前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前記複数の絵素電極及び前記対向電極を間に挟んで対向する一対のフレキシブル基板とを備え、前記対向電極に対する前記複数の絵素電極のそれぞれの電位を制御することにより所望の表示を行う表示パネルであって、
　前記一対のフレキシブル基板の間に、加えられる圧縮力に応じてその電気抵抗値が変化する感圧導電樹脂が配置されており、
　前記一対のフレキシブル基板の一方に加えられた押力によって生じる前記一対のフレキシブル基板の間隔の変化を、前記感圧導電樹脂を流れる電流値に基づいて検出することを特徴とするタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記感圧導電樹脂がマトリクス状に配置されている請求項１に記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記感圧導電樹脂が、一対のフレキシブル基板を接着している請求項１又は２に記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記感圧導電樹脂が、前記一対のフレキシブル基板の間隔を所定値に維持している請求項１～３のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記表示パネルが反射型液晶表示パネルである請求項１～４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記表示パネルが透過型液晶表示パネルである請求項１～４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記一対のフレキシブル基板のうち、一方のフレキシブル基板には、他方のフレキシブル基板とは反対側において、柔軟性を有する照明装置を更に備える請求項６に記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記複数の絵素電極と前記対向電極との間に高分子分散型液晶が設けられている請求項１～７のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記表示パネルが電気泳動方式の表示パネルである請求項１～４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。
　前記表示パネルが有機ＥＬ表示パネルである請求項１～４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付きフレキシブル表示パネル。