WO2010125787A1 - 光励起半導体及びそれを用いたデバイス - Google Patents

光励起半導体及びそれを用いたデバイス Download PDF

Info

Publication number
WO2010125787A1
WO2010125787A1 PCT/JP2010/002971 JP2010002971W WO2010125787A1 WO 2010125787 A1 WO2010125787 A1 WO 2010125787A1 JP 2010002971 W JP2010002971 W JP 2010002971W WO 2010125787 A1 WO2010125787 A1 WO 2010125787A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
semiconductor
bazr
photoexcited semiconductor
photoexcited
light
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/002971
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
谷口昇
徳弘憲一
鈴木孝浩
黒羽智宏
野村幸生
羽藤一仁
Original Assignee
パナソニック株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by パナソニック株式会社 filed Critical パナソニック株式会社
Priority to CN201080002312.6A priority Critical patent/CN102123792B/zh
Priority to EP10769487.9A priority patent/EP2425893B8/en
Priority to JP2011511299A priority patent/JP5799270B2/ja
Priority to US13/119,117 priority patent/US8951447B2/en
Publication of WO2010125787A1 publication Critical patent/WO2010125787A1/ja

Links

Images

Classifications

    • B01J35/39
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/002Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/08Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of gallium, indium or thallium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/10Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of rare earths
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/54Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/56Platinum group metals
    • B01J23/62Platinum group metals with gallium, indium, thallium, germanium, tin or lead
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/02Preparation of oxygen
    • C01B13/0203Preparation of oxygen from inorganic compounds
    • C01B13/0207Water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/04Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of inorganic compounds, e.g. ammonia
    • C01B3/042Decomposition of water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00Compounds of zirconium
    • C01G25/006Compounds containing, besides zirconium, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/50Processes
    • C25B1/55Photoelectrolysis
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2523/00Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50Solid solutions
    • C01P2002/52Solid solutions containing elements as dopants
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50Solid solutions
    • C01P2002/52Solid solutions containing elements as dopants
    • C01P2002/54Solid solutions containing elements as dopants one element only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/77Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by unit-cell parameters, atom positions or structure diagrams
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/84Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • C01P2004/34Spheres hollow
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40Electric properties
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/36Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis

Definitions

  • the present invention relates to a photoexcited semiconductor and a device using the same.
  • Hydrogen energy systems are attracting attention from the perspective of reducing carbon dioxide emissions and cleaning energy.
  • hydrogen as an energy medium, it can be used as electricity or heat in a fuel cell, or as heat or power in direct combustion. At this time, the end product becomes harmless and safe water, and a clean energy circulation cycle can be created.
  • Hydrogen as an energy medium exists in nature, but most is produced from petroleum or natural gas by catalytic cracking.
  • the system which changes light energy into electricity with a solar cell and performs electrolysis with the electric power is also possible.
  • a method for producing hydrogen using such a system is not necessarily an effective method.
  • photocatalytic material powdered directly in an aqueous solution is dispersed, and light and photocatalyst material particles are irradiated with light to generate hydrogen and oxygen.
  • oxygen and hydrogen are generated.
  • a photocatalyst material is formed into an electrode by applying it onto an ITO (Indium Tin Oxide) film or a conductive substrate.
  • the electrode provided with the photocatalyst film is connected to a conductor such as a platinum plate functioning as a counter electrode with a conducting wire, and the electrode provided with the photocatalyst film is irradiated with light, whereby oxygen is emitted from the electrode.
  • the generated electrons are guided simultaneously with the generation of oxygen to the counter electrode to generate hydrogen at the counter electrode.
  • the powder formula has a simple structure and is simple, but the efficiency is reduced because it is difficult to separate hydrogen and oxygen.
  • separation of hydrogen and oxygen is easy, but there is a restriction that a photocatalytic material is formed into an electrode.
  • a solar cell that is a device that directly converts sunlight into electricity has attracted a great deal of attention from the viewpoint of clean energy.
  • a solar cell usually has a mechanism in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are bonded together and a photovoltaic power generated between the p-type semiconductor and the n-type semiconductor is taken out as electricity.
  • Si crystal or amorphous Si is used as a central semiconductor material, and an n-type semiconductor and a p-type semiconductor are created by adding a dopant thereto.
  • SrTiO 3, BaTiO 3, CaTiO 3 and BaZrO perovskite oxide such as 3 although photocatalytic properties were found in simple oxides such as WO 3 (e.g., Non-Patent Documents 2), and there were very few oxides that can be used as a photocatalytic material that is water-decomposable and can be excited by visible light having a wavelength of 460 nm or more.
  • photocatalyst materials that decompose oils and fats, or partially oxidize or partially reduce there are very few materials that can be used with sunlight or fluorescent lamps, that is, that are excited by visible light.
  • chalcogenides such as CdS, CuInS, SiC, Te, Se, In, and Ga have been used as photoexcited semiconductors for solar cells, but oxide semiconductors that are resistant to moisture and that can absorb and excite visible light have been found. There wasn't.
  • an object of the present invention is to provide a material that can be excited by visible light and function as a photocatalyst.
  • the present invention relates to a perovskite oxide semiconductor having a general formula: BaZr 1-x M x O 3 - ⁇ (wherein M is at least one element selected from trivalent elements, and x Is a numerical value greater than 0 and less than 0.8, and ⁇ is an oxygen deficiency amount and is a numerical value greater than 0 and less than 1.5).
  • Tetragonal or orthorhombic where the lattice constant of the crystal system is a, b, c (where a ⁇ b ⁇ c), 0.41727 nm ⁇ a, b, c ⁇ 0.42716 nm, a / Provided is a photoexcited semiconductor that satisfies a condition of c ⁇ 0.98.
  • the present invention provides a device comprising the photoexcited semiconductor of the present invention.
  • the photoexcited semiconductor of the present invention can be excited by visible light having a wavelength of at least 460 nm and function as a photocatalyst. Therefore, according to the photoexcited semiconductor of the present invention, it is possible to provide unprecedented devices such as a highly efficient photocatalytic hydrogen generation device, an organic decomposition device, and a partial oxidation-reduction device of organic matter.
  • FIG. 3A is a diagram showing a band structure analysis based on the first principle of BaZrO 3
  • FIG. 3B is a diagram showing a band structure analysis based on the first principle of a material in which 25% of Zr is substituted with In in BaZrO 3 .
  • FIG. 8A is a diagram showing the results of ultraviolet light-visible light spectrophotometric analysis of examples and comparative examples of the photoexcited semiconductor of the present invention
  • FIG. 8B is the result of ultraviolet light-visible light spectrophotometric analysis of Example 3.
  • FIG. It is a figure which shows the relationship between the composition ratio of the photoexcited semiconductor of this invention, and the visible light absorption wavelength end.
  • FIG. 10A is a diagram showing the hydrogen generation characteristics of the photoexcited semiconductor of Example 1 when irradiated with ultraviolet rays (400 nm or less), and FIG. 10B is a diagram showing the oxygen generation characteristics.
  • FIG. 11A is a diagram showing the hydrogen generation characteristics of the photoexcited semiconductor of Example 3 by irradiation with visible light (420 nm to 800 nm), and FIG. 11B is a diagram showing the oxygen generation characteristics.
  • FIG. 12A is a schematic diagram illustrating an example of a hydrogen generation device using sunlight
  • FIG. 12B is a schematic diagram illustrating another example of a hydrogen generation device using sunlight. It is the schematic which shows an example of a solar cell. It is the schematic which shows an example of an antibacterial and deodorizing device.
  • FIG. 15A is a schematic diagram illustrating an example of a water purification device
  • FIG. 15B is a schematic diagram illustrating another example of the water purification device.
  • the photoexcited semiconductor of the present embodiment is a perovskite oxide semiconductor, and has a general formula: BaZr 1-x M x O 3- ⁇ (where M is at least one selected from trivalent elements) And x is a numerical value greater than 0 and less than 0.8, and ⁇ is an oxygen deficit amount and a numerical value greater than 0 and less than 1.5.
  • the crystal system is cubic, tetragonal or orthorhombic. When the lattice constants of the crystal system are a, b, and c (where a ⁇ b ⁇ c), the conditions of 0.41727 nm ⁇ a, b, c ⁇ 0.42716 nm, and a / c ⁇ 0.98 are satisfied. It is filled.
  • the photoexcited semiconductor of this embodiment is a material in which barium zirconate (BaZrO 3 ) is used as a base material and a part of Zr is substituted with a trivalent element such as In, Ga, and Gd, and is basically a perovskite oxide. It is a single-phase polycrystal.
  • the trivalent element substituting Zr (M in the general formula: BaZr 1-x M x O 3 - ⁇ ) is preferably at least one selected from the group consisting of In, Ga and Gd.
  • BaZrO 3 which is the matrix of the photoexcited semiconductor of the present embodiment, has been conventionally used for a ferroelectric matrix, a crucible for high-temperature firing, and the like, and is chemically and mechanically stable in the atmosphere and water.
  • Perovskite oxide The crystal system of BaZrO 3 is almost cubic and has excellent three-dimensional isotropy and mechanical strength.
  • the optical properties of BaZrO 3 are close to white and have a slight yellowish green color due to the influence of surrounding moisture.
  • BaZrO 3 is a very common ceramic having an absorption wavelength near 420 nm in the UV-Vis spectroscopic analysis and close to an insulator.
  • a semiconductor having a composition represented by the general formula: BaZr 1-x M x O 3 - ⁇ which is a photoexcited semiconductor of the present invention, can be synthesized by a general high-temperature solid phase reaction.
  • M is In, Ga and / or Gd
  • powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide, indium oxide, gallium oxide and / or gadolinium oxide are mixed in predetermined amounts, respectively, and agate Grind and mix with ethanol solvent in a mortar.
  • the fired product is coarsely pulverized and then planetary ball mill pulverized in a benzene or cyclohexane solvent and granulated to 3 ⁇ m or less.
  • the obtained powder was vacuum dried at 150 ° C., uniaxially pressed and hydrostatic pressed at 2 ton / cm 2 to form a cylinder, and immediately fired at 1500 ° C. to 1700 ° C. for 6 hours to 12 hours. Synthesize the ligature.
  • the sintered body obtained by this method is a single-phase perovskite oxide, is sufficiently dense, and can have a density of 96% or more of the theoretical density.
  • Sintered body samples having various compositions satisfying the general formula: BaZr 1-x M x O 3- ⁇ were prepared by the method as described above, and confirmed by, for example, cross-sectional observation using a scanning electron microscope (SEM). The agglomerate particle size was in the range of 1-30 ⁇ m.
  • a sintered body sample prepared by the above method is thick. It was processed into a disk shape having a thickness of 0.4 to 0.6 mm and a diameter of 13 to 16 mm, and each was analyzed and investigated. A method for analyzing physical properties will be described later.
  • the photocatalytic property is that a semiconductor close to an insulator is irradiated with light 4 from the outside so that the semiconductor exists between the conduction band 1 and the valence band 3 of the electronic structure ( Light corresponding to the width of (band gap) 2 is absorbed, and the electrons in the valence band 3 are first excited.
  • the excited electrons 6 move to the conduction band 1.
  • the electrons 6 move to the semiconductor bulk surface and cause a reduction reaction. It is thought that if water is present, water is reduced to produce hydrogen, and if oxygen is present, oxygen is reduced to produce a superoxide anion.
  • the oxidizing power of OH radicals is examined, and the lower the upper end of the valence band (oxidation potential) is at the vacuum level (the higher the standard hydrogen electrode potential), the higher the oxidizing power is.
  • the oxidation potential of titanium oxide is measured to be ⁇ 7.54 eV at the vacuum level and 3.1 V at the standard hydrogen electrode potential (see FIG. 2).
  • the lower end (reduction potential) of the conduction band of titanium oxide is ⁇ 4.34 eV at the vacuum level and ⁇ 0.1 V at the standard hydrogen electrode potential. That is, the band gap of titanium oxide is measured as 3.2 eV.
  • the photocatalytic reaction can be promoted.
  • the band gap is 3.2 eV, so that the wavelength of light becomes 1240 nm / 3.2 eV. Therefore, the photocatalytic reaction of titanium oxide can be caused by irradiating ultraviolet light having a wavelength of 387.5 nm or less.
  • the reaction that decomposes water by photocatalytic reaction and decomposes it into hydrogen and oxygen is a reaction toward a higher material energy, that is, a direction in which the free energy of the cast is increased. It is equivalent to converting it as a chemical energy potential. Therefore, to use light that contains a lot of visible light, such as sunlight, the band gap that absorbs visible light, the level at the top of the valence band (oxidation potential), and the level at the bottom of the conduction band (reduction potential) Must be at a potential that sandwiches the redox potential of water. In order to absorb visible light, it is necessary to reduce the band gap.
  • FIG. 2 shows the band gap (1.1 eV), the upper level (oxidation level) of the valence band, and the lower level (reduction potential) of the conduction band of the Si semiconductor. According to this, it can be seen that the Si semiconductor used in the solar cell cannot decompose water. In any case, no oxide semiconductor capable of causing a photocatalytic reaction with a narrow band gap has been found in conventional materials except for compound semiconductors.
  • the photoexcited semiconductor of the present invention is a material in which a part of Zr is substituted with a trivalent element such as In, Ga and Gd using BaZrO 3 as a base material, and is basically a single phase of a perovskite oxide. It is a polycrystal.
  • the crystal system is cubic, tetragonal or orthorhombic, and the lattice constants of the crystal system are a, b, c (where a ⁇ b ⁇ When c), a, b and c were crystal structures satisfying the conditions of 0.41727 nm ⁇ a, b, c ⁇ 0.42716 nm and a / c ⁇ 0.98.
  • the density of the photoexcited semiconductor of the present invention can be 96% or more of the theoretical density obtained from the crystal lattice.
  • perovskite oxide generally formula: BaZr 1-x M x O 3 - ⁇
  • perovskite oxides composed of alkaline earth metal elements and elements such as Ti and Zr
  • the big difference is the size of the lattice constant.
  • the photoexcited semiconductor of the present invention is a photocatalytic material having a specific valence band upper level (oxidation potential) and a conduction band lower level (reduction level), that is, a valence band upper level.
  • FIGS. 3A and 3B The results of band structure analysis based on the first principle are shown in FIGS. 3A and 3B.
  • FIG. 3A is a diagram of a band structure analysis of BaZrO 3
  • FIG. 3B is a diagram of a band structure analysis of a material in which 25% of Zr is substituted with In in BaZrO 3 .
  • the one in which 25% of Zr is substituted with In is further reduced to a lower potential from the bottom of the conduction band of BaZrO 3 where Zr is not substituted with a trivalent element.
  • the possibility of creating a 4d conduction band orbit of Zr was suggested. This is presumed to be a band gap in which a visible light absorption band appears.
  • oxygen vacancies that is, holes are introduced by introducing a trivalent element while maintaining a perovskite structure close to a cubic crystal. It is considered that oxygen vacancies were generated around Zr or the substitution element (In), so that an empty conduction band orbit was generated. It is presumed that the excited electrons will fall within this conduction band.
  • Examples of the photoexcited semiconductor of the present invention to be described later were used to examine various physical properties such as crystal structure, composition, ultraviolet light-visible light absorption spectral property, photocatalytic property, etc.
  • the analysis method is as follows.
  • composition analysis was performed using fluorescent X-rays.
  • an energy dispersive X-ray fluorescence spectrometer EDX-700 manufactured by Shimadzu Corporation was used, and the surface composition ratio of the sintered body sample was calculated.
  • (C) Density Density was calculated by measuring the volume using a He gas substitution type multi-volume pycnometer (MICROMERITICS 1305), and separately measuring the mass. The sintered body sample was used as a sample.
  • a powdery sample was dispersed in an aqueous solution, and the amount of hydrogen and oxygen generated when irradiated with light was evaluated. Since the generation reaction of hydrogen and oxygen is considered to proceed simultaneously on the material surface of the sample, taking into account the recombination of hydrogen and oxygen on the material surface and recombination in liquid and gas collection. Using a sacrificial reagent that compensates either the oxidation reaction or the reduction reaction, the amounts of hydrogen and oxygen produced were measured separately. A 10 vol% methanol aqueous solution was used as a sacrificial reagent when observing hydrogen evolution, and a 0.01 M (mol / L) AgNO 3 aqueous solution was used as a sacrificial reagent when observing oxygen evolution.
  • a powder (about 0.2 g) having a particle size of about 10 ⁇ m or less prepared by dry pulverizing the sintered body sample for about 1 hour in a mortar was used. Further, a Pt promoter that further promotes the catalytic activity was impregnated and fixed to the hydrogen generation sample at a weight ratio of 1 wt%.
  • the experiment is performed by irradiating the dispersion 7 with light 4 from the side of the quartz cell 8 using the light source 11 (the xenon lamp (mercury lamp when watching ultraviolet light excitation)) every other hour.
  • the amount of hydrogen or oxygen produced was quantified with a TCD (Thermal Conductivity Detector) detector using gas chromatography (GC-14b, manufactured by Shimadzu Corporation) 10.
  • generated inside the quartz cell 8 is sent to the gas chromatography 10 which is a gas analyzer by the gas line 9, respectively.
  • the quartz cell 8 itself was cooled in a constant temperature bath 12 provided with a cooling device 13.
  • Example 1 a material having a composition of BaZr 0.9 In 0.1 O 3- ⁇ was synthesized. As a production method, synthesis was performed by the above-described high temperature solid phase reaction. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In is 1: 0.9: 0.1, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, degreased with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1400 ° C. for 12 hours ( Provisional firing).
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum dried at 150 ° C., then formed into a cylinder by applying a uniaxial press and an isostatic press at 2 ton / cm 2 , and immediately fired at 1675 ° C. for 10 hours (main firing) and sintered.
  • the body was made.
  • Example 2 a material having a composition of BaZr 0.875 In 0.125 O 3- ⁇ was synthesized. Except that barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide powder raw materials were mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In was 1: 0.875: 0.125, the same as in Example 1, The material of Example 2 was synthesized.
  • Example 3 a material having a composition of BaZr 0.8 In 0.2 O 3- ⁇ was synthesized. Except that the powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide were mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In was 1: 0.8: 0.2, the same as in Example 1, The material of Example 3 was synthesized.
  • Example 4 a material having a composition of BaZr 0.6 In 0.4 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In is 1: 0.6: 0.4, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, and after degreasing with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar was repeated again, followed by press molding into a cylindrical shape and firing at 1300 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., then formed into a cylinder by applying a uniaxial press and an isostatic press at 2 ton / cm 2 , and immediately fired at 1550 ° C. for 10 hours to produce a sintered body. .
  • Example 5 a material having a composition of BaZr 0.4 In 0.6 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In is 1: 0.4: 0.6, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, degreased with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1000 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., then formed into a cylinder by applying a uniaxial press and an isostatic press at 2 ton / cm 2 , and immediately fired at 1300 ° C. for 10 hours to produce a sintered body. .
  • Example 6 a material having a composition of BaZr 0.8 Ga 0.2 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and gallium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: Ga is 1: 0.8: 0.2, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thoroughly mixing, the solvent was removed, and after degreasing with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar was repeated again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1050 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., then formed into a cylinder by applying a uniaxial press and an isostatic press at 2 ton / cm 2 , and immediately fired at 1650 ° C. for 10 hours to produce a sintered body. .
  • Example 7 a material having a composition of BaZr 0.8 Gd 0.2 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and gadolinium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: Gd is 1: 0.8: 0.2, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, and after degreasing with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar was repeated again, followed by press molding into a cylindrical shape and firing at 1300 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., then formed into a cylinder by applying a uniaxial press and an isostatic press at 2 ton / cm 2 , and immediately fired at 1650 ° C. for 10 hours to produce a sintered body. .
  • Comparative Example 1 a material having a composition of BaZrO 3- ⁇ was synthesized.
  • the material of the comparative example was synthesized in the same manner as in Example 1 except that powder raw materials of barium acetate and zirconium hydroxide were mixed so that the composition ratio of Ba: Zr was 1: 1.
  • Comparative Example 2 a material having a composition of BaZr 0.2 In 0.8 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In is 1: 0.2: 0.8, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, degreased with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1000 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum dried at 150 ° C., then uniaxially pressed and hydrostatic pressed at 2 ton / cm 2 to form a cylinder, and immediately fired at 1100 ° C., 1200 ° C., 1300 ° C. for 10 hours, A ligature was prepared.
  • Comparative Example 3 a material having a composition of BaZr 0.5 Ce 0.5 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and cerium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: Ce is 1: 0.5: 0.5, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, and after degreasing with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar was repeated again, followed by press molding into a cylindrical shape and firing at 1350 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., uniaxially pressed and isostatically pressed at 2 ton / cm 2 to form a cylinder, and immediately fired at 1650 ° C. for 10 hours to produce a sintered body.
  • Comparative Example 4 a material having a composition of BaZr 0.35 In 0.65 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and indium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: In is 1: 0.35: 0.65, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, degreased with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1000 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized, and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene or cyclohexane solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., and then uniaxial press and isostatic press at 2 ton / cm 2 to form a cylinder, and immediately fired at 1500 ° C. for 10 hours to produce a sintered body.
  • Comparative Example 5 a material having a composition of BaZr 0.76 Gd 0.24 O 3- ⁇ was synthesized. Powder raw materials of barium acetate, zirconium hydroxide and gadolinium oxide are mixed so that the composition ratio of Ba: Zr: Gd is 1: 0.76: 0.24, and pulverized and mixed using an ethanol solvent in an agate mortar. Went. After thorough mixing, the solvent was removed, and after degreasing with a burner, pulverization and mixing in an agate mortar was repeated again, and then press-molded into a cylindrical shape and baked at 1200 ° C. for 12 hours.
  • the fired product was coarsely pulverized and then subjected to planetary ball mill pulverization in a benzene solvent, and granulated to have a particle size of 3 ⁇ m or less (actually measured by a particle size distribution meter).
  • the obtained powder was vacuum-dried at 150 ° C., and then uniaxial press and isostatic press at 2 ton / cm 2 to form a cylinder, and immediately fired at 1675 ° C. for 10 hours to produce a sintered body.
  • FIG. 5 shows the relationship between the charged composition and the synthetic composition of Examples 1 to 5.
  • FIG. 6 shows X-ray diffraction patterns of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1.
  • Table 2 shows crystal type estimation by Rietveld analysis of parameter fitting, lattice constants a, b, c, a / c, and density ratio with respect to theoretical density.
  • FIG. 7 shows the lattice constant a and the composition ratio dependence of a / c.
  • FIGS. 8A and 8B show the results of ultraviolet light-visible light spectrophotometric analysis of the materials of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • FIG. 8A and 8B show the results of analysis show that the absorption wavelength edge of the material of Comparative Example 4 is about 450 nm.
  • the absorption wavelength edge was about 420 nm, and visible light absorption at a wavelength of 460 nm or more was impossible.
  • FIG. 9 shows the relationship between the composition ratio and the visible light absorption wavelength edge for the materials of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1.
  • Example 3 the generation characteristics of hydrogen and oxygen were examined for the material of Example 3 using xenon lamp light (300 W, 20 V) having a continuous spectrum of 420 nm to 800 nm with a wavelength of 420 nm or less cut. Results are shown. Table 3 below shows the production rate of hydrogen and oxygen when xenon lamp light is used.
  • perovskite type oxide semiconductor having a general formula: BaZr 1-x M x O 3- ⁇ (wherein M is selected from trivalent elements) At least one element (for example, at least one element selected from the group consisting of In, Ga and Gd), x is a numerical value greater than 0 and less than 0.8, and ⁇ is the amount of oxygen deficiency.
  • the crystal system is cubic, tetragonal or orthorhombic, and the lattice constant of the crystal system is expressed as a, b.
  • the material satisfying the conditions of 0.41727 nm ⁇ a, b, c ⁇ 0.42716 nm and a / c ⁇ 0.98 is a catalyst activity and photoexcited semiconductor.
  • it has been confirmed to show characteristics, particularly in the visible light region (460 nm or more) such as sunlight and fluorescent lamps. ) was found to be a material that can effectively use light.
  • the value of x in the general formula: BaZr 1-x M x O 3- ⁇ should be in the range of 0.125 to 0.25.
  • Examples 8 to 13 having the same composition (BaZr 0.8 In 0.2 O 3- ⁇ ) as in Example 3 and different densities were prepared. .
  • the pre-baking and main baking methods were different from those in Example 3, but the other methods were the same as in Example 3.
  • the pre-baking and main baking methods of Examples 8 to 13 are as shown in Table 4 below.
  • Example 8 density analysis and constant temperature and humidity test were performed in the same manner as in the other examples and comparative examples.
  • Table 5 shows the density ratio to the theoretical density, the constant temperature and humidity test, and the boiling durability test result.
  • Table 5 also shows the density ratio, constant temperature and humidity test results, and boiling durability test results for Example 3.
  • the amount of substitution (general formula: BaZr 1-x M x O 3 ⁇ ) was set as a material in which barium zirconate was used as a base and a part of zirconium was substituted with a trivalent element of In, Ga, or Gd.
  • the values of x in ⁇ ) were In: 0.1, 0.125, 0.2, 0.4, 0.6, Ga: 0.2, Gd: 0.2.
  • the substitution amount may be 0.05 or 0.25, and the substitution amounts of Ga and Gd are not limited to these examples.
  • rare earth elements, Y, Sc, Al, B, and Tl can be considered as trivalent substitution elements.
  • the material of the present invention is basically composed of four elements of Ba, Zr, M (trivalent element) and O, but a composition containing Si, Al or Na as impurities, Or the composition which further contains the trivalent substitution element of a subcomponent is also considered. Basically, if a part of zirconium of barium zirconate is substituted with a trivalent element and the crystal structure constant satisfies the conditions of the present invention, the same effect appears.
  • the material synthesis is basically a method of repeatedly firing and synthesizing as a sintered body.
  • sputtering vapor deposition, thermal spraying, ion plating, coating, plating, CVD, etc.
  • a film using a phase method, a coprecipitation method, a sol-gel method, or a solution method using an organometallic compound may be used.
  • the baking temperature and pressure are not specified, and a hydrothermal synthesis method may be used.
  • the completed shape of the photoexcited semiconductor of the present invention may be any number of microns, nanoparticles, thick film or thin film.
  • the device includes a powder or a film containing the photoexcited semiconductor of the present invention, and generates water and / or oxygen by decomposing water by irradiating the photoexcited semiconductor with light.
  • a powder or a film containing the photoexcited semiconductor of the present invention generates water and / or oxygen by decomposing water by irradiating the photoexcited semiconductor with light.
  • the device of the present embodiment is a high-performance hydrogen generation device using the photoexcited semiconductor of the present invention as described in the first embodiment.
  • a schematic diagram of an example of a hydrogen generation device using sunlight is shown in FIGS. 12A and 12B.
  • the hydrogen generation device shown in FIG. 12A is a light source that emits visible light having a wavelength of at least 460 nm or more (for example, sunlight or a fluorescent lamp), and absorbs light 4 emitted from the light source to exhibit a catalytic reaction.
  • the quartz cell 8 is formed of a material that transmits the light 4 emitted from the light source.
  • the hydrogen generation device of this embodiment irradiates light 4 to the dispersion liquid 7 (the photoexcited semiconductor of the present invention) in the quartz cell 8, thereby decomposing water by the photoexcited semiconductor in the dispersion liquid 7 to generate hydrogen and oxygen. Is generated.
  • the generated hydrogen and oxygen are separated into hydrogen and oxygen by the separation membrane 15 and stored in tanks.
  • the hydrogen generation device shown in FIG. 12B is an example provided with the photoexcited semiconductor of the present invention as an electrode.
  • Such an electrode is formed on a substrate made of an oxide or glass on which a conductive current collector such as ITO or FTO (fluorine-doped tin-oxide) is previously provided, or on a metal substrate, or on the photoexcited semiconductor of the present invention. Can be formed by arranging them in a film.
  • a solar cell usually has a structure in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are joined. Since the photoexcited semiconductor of the present invention can be used as a p-type semiconductor, a solar cell can be constructed by joining a lead wire of an external circuit by joining with another n-type semiconductor. By irradiating the solar cell with sunlight or a fluorescent lamp, current can be taken out to an external circuit.
  • FIG. 13 shows a schematic diagram of a configuration example of the solar cell of the present embodiment.
  • the solar cell shown in FIG. 13 includes a p-type semiconductor layer 23 made of the photoexcited semiconductor of the present invention, an n-type semiconductor layer 24 joined to the p-type semiconductor layer 23, and a light irradiation side surface of the n-type semiconductor layer 24. And an electrode (positive electrode) 26 disposed on the p-type semiconductor layer 23, and an electrode (negative electrode) 27 disposed on the antireflection film 25, and an external circuit 28.
  • the antireflection film 25 is partially provided with a through portion, and the n-type semiconductor layer 24 and the negative electrode 27 are electrically connected through the through portion.
  • the fluorescent lamp 29 it is also possible to utilize the fluorescent lamp 29 as a light source.
  • Embodiment 4 In this embodiment mode, an example of a device that uses the photoexcited semiconductor of the present invention as described in Embodiment Mode 1 and decomposes an organic substance by irradiating the photoexcited semiconductor with light will be described.
  • FIG. 14 shows an example of an antibacterial and deodorizing device which is an organic matter decomposing device of the present embodiment.
  • the light-excited semiconductor filter 30 formed by applying and fixing the powder made of the photo-excited semiconductor of the present invention on the glass substrate is attached to the air / gas suction surface side of the light transmission housing 32 before processing. It is formed by providing.
  • a blower 31 is provided on the air / gas exhaust surface side of the light transmissive housing 32 after processing. The processing air / gas passes through the filter 30 when sucked into the light transmission housing 32.
  • organic matter in the air / gas is decomposed when passing through the filter 30 due to the photocatalytic action of the photoexcited semiconductor of the present invention provided in the filter 30.
  • a coating film of the photoexcited semiconductor of the present invention (in this case, BaZr 0.8 In 0.2 O 3- ⁇ is used) is put in a box of a certain volume, and an odor component such as acetaldehyde is enclosed, and light irradiation is performed for a certain time. After smelling the odor, it was found that the odor was reduced. Further, when the concentration before and after the light irradiation was measured with a detection tube or the like, it was confirmed that the concentration was reduced. Moreover, since it was also confirmed that the acetic acid was produced
  • Embodiment 5 In this embodiment, another example of a device that uses the photoexcited semiconductor of the present invention as described in Embodiment 1 and decomposes an organic substance by irradiating the photoexcited semiconductor with light will be described.
  • the device of the present embodiment is a water purification device that purifies water by decomposing organic substances in water.
  • FIG. 15A is a schematic view of a water purification device using the photoexcited semiconductor filter 30 used in the antibacterial and deodorizing device of Embodiment 4. The organic matter in the sewage sent to the inside of the light transmission casing 32 is decomposed by the photocatalytic action of the photoexcited semiconductor filter 30 disposed in the light transmission casing 32, and the liquid transmission pump 33 externally transmits the light transmission casing 32. Is drained.
  • FIG. 15B is a schematic view of a water purification device that uses a dispersion 7 in which a powder of a photoexcited semiconductor of the present invention is dispersed in water instead of the photoexcited semiconductor filter 30.
  • a fading test of the BTB liquid was performed using a dispersion liquid in which the powder of the photoexcited semiconductor of the present invention (in this case, BaZr 0.8 Ga 0.2 O 3- ⁇ was used) was dispersed in water.
  • a dispersion of a photoexcited semiconductor was placed in a beaker, and a BTB solution was added dropwise thereto to color the dispersion (yellow to blue).
  • the photoexcited semiconductor of the present invention is irradiated with light to decompose the BTB liquid, and as a result, it is determined that the BTB liquid has faded.
  • the photoexcited semiconductor of this invention it confirmed that it was possible to purify the organic substance and filth in water.
  • the photoexcited semiconductor powder of the present invention is used as a hydrogen generation sample
  • a powder sample having a particle size of about 10 ⁇ m or less has been described.
  • the sample may be nanoparticles. Further, it may be a film instead of powder.
  • the Pt promoter which further promotes catalytic activity was used for the sample for hydrogen generation, it may not be used and the amount thereof is not limited.
  • the cocatalyst may be Ni, Ru, Ag, Pd or the like instead of Pt, and the fixing method, the photoreduction method, or the impregnation method may be used.
  • the quartz cell 8 described in the first to fifth embodiments may be a cell made of another material that easily transmits light, and may be Pyrex (registered trademark) or glass.
  • a solution obtained by adding AgNO 3 , methanol, and pH adjusting agent La 2 O 3 to distilled water is used.
  • distilled water may be used, sodium bicarbonate, potassium sulfide, etc.
  • the buffer may be further added.
  • the aqueous solution may also contain trace amounts of KOH and HCl.
  • each component of the device described in Embodiments 2 to 5 are not particularly limited.
  • the film forming method for forming each layer may be a coating method or an electrolytic deposition method, and the film thickness and dimensions are not limited.
  • the photoexcited semiconductor of the present invention is used as an electrode for hydrogen generation, an example in which a platinum film is used as a counter electrode has been described.
  • the counter electrode material can be silver or copper, and the dimensions are not limited.
  • an example in which a xenon lamp, sunlight, or a fluorescent lamp is used as the light source is shown as the light source.
  • an LED can be used as long as it includes visible light. The light intensity is not specified.
  • the photoexcited semiconductor of the present invention includes, for example, devices that generate hydrogen from sunlight, solar cells, deodorizing devices such as air purification devices, antibacterial membranes, antifouling membranes, super hydrophilic membranes, antifogging membranes, water purification devices, and CO 2 Useful for photocatalyst-related technologies and solar cell-related technologies such as methanol synthesis from water.

Abstract

 本発明の光励起半導体は、ペロブスカイト型酸化物の半導体であって、一般式:BaZr1-xx3-α(式中、Mは3価の元素から選択される少なくとも1種の元素であり、xは0よりも大きく0.8未満の数値であり、αは酸素欠損量で、0よりも大きく1.5未満の数値である。)で表される組成を有し、結晶系が立方晶、正方晶又は斜方晶であり、前記結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、a/c≧0.98の条件を満たす。

Description

光励起半導体及びそれを用いたデバイス
 本発明は、光励起半導体と、それを用いたデバイスとに関する。
 炭酸ガス排出削減、エネルギーのクリーン化の観点から、水素エネルギーシステムが注目されている。水素をエネルギー媒体に使うことにより、燃料電池で電気や熱、直接燃焼で熱や動力として使用できる。この時、最終生成物は無害で安全な水となり、クリーンなエネルギー循環サイクルが創出できる。エネルギー媒体としての水素は、天然にも存在するが、ほとんどは、石油や天然ガスから触媒によるクラッキングにより製造される。また、水を電気分解することによって水素と酸素とを製造することも可能であるが、電気分解するための電気エネルギーが必要であり、根本的な解決策とはいえない。なお、太陽電池によって光エネルギーを電気に変え、その電力で電気分解するシステムも可能である。しかし、太陽電池の製造コスト、エネルギー消費量及び蓄電技術を考慮すると、このようなシステムを利用する水素の製造方法は、必ずしも有効な方法とはいえない。
 これに対し、光触媒を用いた水素生成は、水と太陽光とから直接水素を製造するシステムであり、太陽光エネルギーを有効に水素エネルギーに変換できる(特許文献1、2及び3参照)。ただし、代表的な光触媒のアナタース型の酸化チタンを用いても、太陽光変換効率は0.5%程度であり、まだまだ効率を向上させる必要がある。これは、酸化チタン光触媒自体が、太陽光のうち波長400nm以下の紫外線しか吸収励起しないところに課題がある。したがって、材料の可視光励起化、すなわち可視光応答型光触媒材料の開発が待たれている。一方、効率良く水素を製造するセル、デバイス及び装置の検討もされつつある。これらを大きく分けると、粉末式と電極式とに分けられる。
 粉末式は、水溶液に直接粉末化した光触媒材料を分散させて、光触媒材料の粒子に光を照射することによって水素と酸素とを生成させ、一定量のガスが生成したところで、酸素と水素とを互いに分離して取り出す方式である。一方、電極式では、光触媒材料をITO(Indium Tin Oxide)膜や導電性基板上に塗布することによって成膜し、電極化したものを用いる。電極式では、この光触媒膜が設けられた電極と、対極として機能する白金板等の導電体とを導線で接続し、光触媒膜が設けられた電極に光を照射することによって当該電極で酸素を発生させ、酸素発生と同時に励起した電子を対極に導いて、対極で水素を発生させる。粉末式は構造が簡単で簡便であるが、水素と酸素との分離が困難であるため、効率が低下する。電極式では、水素と酸素とが別々の極で発生するので水素と酸素との分離は簡単であるが、光触媒材料を電極に成形するという制約が発生する。
 また、上記のような水素をエネルギー媒体に使うシステムと同様に、太陽光を直接電気に変換するデバイスである太陽電池も、エネルギーのクリーン化という観点から非常に注目されている。太陽電池は、通常、p型半導体とn型半導体とを貼り合わせ、p型半導体とn型半導体との間に生じる光起電力を電気として取り出す仕組みである。太陽電池では、中心となる半導体材料としてSi結晶体又はアモルファスSiが用いられ、これにドーパントを添加してn型半導体とp型半導体とが創られていた。
 さて、現状、水を分解して水素及び酸素を生成できる光触媒性能を持ち合わせた化合物は少なく、稀である。今までに報告されている、水分解可能な可視光励起光触媒は、Ta35、Ag3VO4程度と、少なかった。そこで、可視光を吸収して励起し、且つ水を水素と酸素とに分解できる可視光励起の光触媒材料の開発が待たれていた。また、材料構造体別にみると、SrTiO3、BaTiO3、CaTiO3及びBaZrO3等のペロブスカイト型酸化物、WO3等の単純酸化物で光触媒特性は見出されていたものの(例えば、非特許文献2参照)、水分解可能で、かつ波長460nm以上の可視光で励起する光触媒材料として使用できる酸化物は非常に少なかった。また、油脂や有機物を分解する、あるいは部分酸化又は部分還元する光触媒材料についても、太陽光や蛍光灯が使えるような、すなわち可視光で励起する材料が非常に少ないというのが現状であった。また、太陽電池用の光励起半導体としても、CdS、CuInS、SiC、Te、Se、In、Ga等カルコゲナイドが使われてきたが、水分に強い、可視光を吸収励起できる酸化物半導体は見つけられていなかった。
特開平7-24329号公報 特開平8-196912号公報 特開平10-244164号公報 特開2005-103496号公報 特開2003-155440号公報
光機能材料研究会、会報光触媒(第11回シンポジウム)、Vol.15,26-29(2004) Yunpeng Yuanら、International J. of Hydrogen Energy、33、5941-5946(2008)
 太陽光等の光を光触媒に照射して水から水素を生成させるデバイスにおいて、水の酸化還元分解が可能で、かつ可視光を利用できる光触媒材料は非常に少なかった。また、有機物の分解や、有機物の部分酸化又は部分還元が可能な光触媒材料においても、紫外線で励起するものがほとんどで、太陽光や蛍光灯等の可視光を利用できる光触媒材料がほとんどなかった。可視光応答型光触媒材料として今までに報告されているTa35やAg3VO4は、窒化物や銀を用いる材料であるため、コストの点で課題があった。光触媒として、高い可視光吸光性のみならず、コストも考慮に入れた材料が必要であった。
 そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑み、可視光により励起して光触媒として機能できる材料を提供することを目的とする。
 本発明は、ペロブスカイト型酸化物の半導体であって、一般式:BaZr1-xx3-α(式中、Mは3価の元素から選択される少なくとも1種の元素であり、xは0よりも大きく0.8未満の数値であり、αは酸素欠損量で、0よりも大きく1.5未満の数値である。)で表される組成を有し、結晶系が立方晶、正方晶又は斜方晶であり、前記結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、a/c≧0.98の条件を満たす、光励起半導体を提供する。
 さらに、本発明は、上記本発明の光励起半導体を備えたデバイスを提供する。
 本発明の光励起半導体は、少なくとも460nm以上の波長を有する可視光により励起して、光触媒として機能することが可能である。したがって、本発明の光励起半導体によれば、従来にない、高い効率の光触媒水素生成デバイスや有機分解デバイス、ならびに有機物の部分酸化還元デバイス等のデバイスを提供できる。
水の酸化還元分解における光触媒特性を説明する模式図である。 従来物質及び本発明の光励起半導体のバンドギャップを示す図である。 図3Aは、BaZrO3の第一原理によるバンド構造解析を示す図であり、図3Bは、BaZrO3においてZrの25%をInで置換した材料の第一原理によるバンド構造解析を示す図である。 水素生成実験装置の概略図である。 本発明の光励起半導体の実施例における仕込組成と合成組成との相関図である。 本発明の光励起半導体の実施例及び比較例のX線回折パターンを示す図である。 本発明の光励起半導体の実施例の格子定数aとa/cとの組成比依存性を示す図である。 図8Aは、本発明の光励起半導体の実施例及び比較例の紫外光-可視光分光光度分析の結果を示す図であり、図8Bは、実施例3の紫外光-可視光分光光度分析の結果を示す図である。 本発明の光励起半導体の組成比と可視光吸収波長端との関係を示す図である。 図10Aは、実施例1の光励起半導体について、紫外線(400nm以下)照射による水素発生特性を示す図であり、図10Bは酸素発生特性を示す図である。 図11Aは、実施例3の光励起半導体について、可視光線(420nmから800nm)照射による水素発生特性を示す図であり、図11Bは、酸素発生特性を示す図である。 図12Aは、太陽光を利用した水素生成デバイスの一例を示す概略図であり、図12Bは、太陽光を利用した水素生成デバイスの別の例を示す概略図である。 太陽電池の一例を示す概略図である。 抗菌及び脱臭デバイスの一例を示す概略図である。 図15Aは、水質浄化デバイスの一例を示す概略図であり、図15Bは、水質浄化デバイスの別の例を示す概略図である。
 以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の実施の形態は一例であり、本発明は以下の実施の形態に限定されない。
 (実施の形態1)
 本発明の光励起半導体の実施の形態について説明する。
 本実施の形態の光励起半導体は、ペロブスカイト型酸化物の半導体であって、一般式:BaZr1-xx3-α(式中、Mは3価の元素から選択される少なくとも1種の元素であり、xは0よりも大きく0.8未満の数値であり、αは酸素欠損量で、0よりも大きく1.5未満の数値である。)で表される組成を有する。その結晶系は、立方晶、正方晶又は斜方晶である。結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、及び、a/c≧0.98の条件が満たされる。
 本実施の形態の光励起半導体は、ジルコン酸バリウム(BaZrO3)を母体として、Zrの一部をIn、Ga及びGd等の3価の元素で置換した材料であり、基本的にペロブスカイト型酸化物の単相多結晶体である。Zrを置換する3価の元素(前記一般式:BaZr1-xx3-α中のM)は、In、Ga及びGdからなる群から選択される少なくとも何れか1種が好ましい。
 本実施の形態の光励起半導体の母体であるBaZrO3は、従来、強誘電体母体や、高温焼成用のるつぼ等に使用されており、大気中及び水中で化学的にも機械的にも安定なペロブスカイト型酸化物である。BaZrO3の結晶系は、ほぼ立方晶をとり、3次元等方性に優れ、機械的強度に優れる。BaZrO3の光学的な性質としては、白色に近く、周囲の水分の影響で少し薄黄緑を帯びる。BaZrO3は、UV-Vis分光分析では420nm付近に吸収波長をもち、絶縁体に近い、ごく一般的なセラミックスである。この材料の電導性については、本発明者らが詳しく調べており、Zrの一部をIn、Gd及びGa等の3価の元素で置換した材料がプロトン伝導性を示すことを、既に報告している(特許第3733030、米国特許第6517693、欧州特許第1362831)。4価のZrの一部を3価の元素で置換することにより、酸素欠陥をバルク内で作り、酸素欠損が正孔により電荷補償されるとともに、正孔が外部のプロトンと交換反応してプロトン伝導性を発現することを見出している。また、これらの材料が、10000時間以上の恒温恒湿中でも、100時間以上の沸騰水中でも安定であることを確認している。
 本発明の光励起半導体の作製方法について、その一例を説明する。本発明の光励起半導体である、一般式:BaZr1-xx3-αで表される組成を有する半導体は、一般的な高温固相反応により合成できる。Mが、In、Ga及び/又はGdの場合は、例えば、酢酸バリウムと、水酸化ジルコニウムと、酸化インジウム、酸化ガリウム及び/又は酸化ガドリニウムとの粉末原料を、それぞれ所定の量で混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行う。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂して、再度メノウ乳鉢中で粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1200℃~1400℃、10時間~12時間焼成を行う。焼成したものを粗粉砕、その後ベンゼン又はシクロヘキサン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、3μm以下に造粒する。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレス及び静水圧プレスをして円柱に成形し、直ちに1500℃~1700℃、6時間~12時間焼成して、焼結体を合成する。この方法により得られる焼結体は単相のペロブスカイト型酸化物であり、充分緻密で、その密度を理論密度の96%以上とすることができる。上記のような方法で、前記一般式:BaZr1-xx3-αを満たす種々の組成の焼結体試料を作製し、例えばSEM(scanning electron microscope)による断面観察で確認したところ、粒塊粒径は1~30μmの範囲であった。
 後に示す本発明の光励起半導体の実施例では、結晶構造、組成、紫外光-可視光吸収分光特性、光触媒特性等の諸物性を調べるため、上記のような方法で作製した焼結体試料を厚さ0.4~0.6mm、直径13~16mmのディスク状に加工し、各々分析調査を行った。物性の分析方法については、後述する。
 まず、光触媒特性について説明する。光触媒特性は、図1に示すように、絶縁体に近い半導体に外部から光4を照射することにより、半導体が、電子構造の伝導帯1と価電子帯3との間に存在する禁制帯(バンドギャップ)2の幅に相当する光を吸収し、まず価電子帯3の電子が励起する。励起した電子6は、伝導帯1に移る。この電子6が半導体のバルク表面に移動して、還元反応を起こす。水があれば水を還元して水素を生成し、酸素があれば酸素を還元してスーパーオキサイドアニオンが生成すると考えられている。一方、価電子帯3から電子が抜けた後は、正の電荷をもった正孔5が生成する。この正孔5が半導体のバルク表面に移動し、強い酸化反応を起こす。水があればOHラジカルを生成し、近くに有機物があれば有機物を強力に酸化して水とCO2とに分解する。また、水が周りにあれば水を酸化して、酸素を生成する。従来、光触媒として知られている酸化チタンでは、有機分解することも、水から水素と酸素を生成させることも確認されており、光触媒性能特性を有機物や水の分解により確認できる。一般に、有機物分解の光触媒特性では、特にOHラジカルの酸化力が検討され、価電子帯の上端(酸化電位)が真空準位で小さいほど(標準水素電極電位では大きいほど)、酸化力が大きいとされている。例えば、酸化チタンの酸化電位は、真空準位で-7.54eV、標準水素電極電位で3.1Vと計測されている(図2参照)。また、酸化チタンの伝導帯の下端(還元電位)は、真空準位で-4.34eV、標準水素電極電位で-0.1Vとなる。すなわち、酸化チタンのバンドギャップは3.2eVと計測されている。有機物分解では、標準水素電極電位で、特に酸化電位が水の酸化電位1.23Vよりも大きい材料であれば、問題なく使用できると考えられており、バンドギャップに相当する光を照射することで、光触媒反応を推進させることができる。例えば酸化チタンであると、バンドギャップは3.2eVであるので、光の波長にすると1240nm/3.2eVとなる。したがって、波長が387.5nm以下の紫外光線を照射することで、酸化チタンの光触媒反応を起こすことができる。しかしながら、水を光触媒反応で分解し、水素と酸素とに分解する反応は、より物質エネルギーを高い状態にする方向、すなわちギプスの自由エネルギーを高くする方向への反応になるので、光エネルギーを水素等の化学エネルギーポテンシャルとして変換することに相当する。従って、太陽光等の可視光をたくさん含む光を利用するには、可視光吸収するバンドギャップと、価電子帯の上端の準位(酸化電位)と伝導帯の下端の準位(還元電位)とが水の酸化還元電位を挟むような電位であることとが必要である。可視光吸収にするためにはバンドギャップを縮める必要があり、バンドギャップを縮めると、価電子帯の上端の準位が真空準位において上昇(酸化電位が縮小)し、トレードオフとなる。Si半導体のバンドギャップ(1.1eV)と、価電子帯の上端の準位(酸化準位)と、伝導帯の下端の準位(還元電位)とを、図2に併せて示す。これによると、太陽電池で使われるSi半導体では、水の分解ができないことがわかる。いずれにせよ、従来の材料では、化合物半導体を除いて、バンドギャップの狭い、光触媒反応を起こすことができる酸化物半導体は見つかっていなかった。また、バンドギャップの小さいCdS、CuInS等の化合物半導体のほとんどは、水中で光照射させると、自己酸化してしまい(SよりもOの結合が強いため)、物質自体が溶解してゆく。つまり、バンドギャップの小さい、水中で安定な酸化物が見つけられていなかった。
 以上の説明で明らかなように、水中で、評価対象である材料に可視光を照射し、水素及び酸素を発生させることができれば、その材料について光触媒反応が指向するものと判断できる。また、そのように可視光照射によって水を分解できる材料(光励起半導体)であれば、可視光照射による励起によって電子と正孔の流れが生じるので、太陽電池にも使用できる。特に、p型半導体として得られる材料は重要となる。光励起半導体が設けられた光触媒電極と、当該光触媒電極と電気的に接続された対極とを水中に配置して光を照射した際に、水素と酸素とが発生する反応式を次に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 前述のとおり、本発明の光励起半導体は、BaZrO3を母体として、Zrの一部をIn、Ga及びGd等の3価の元素で置換した材料であり、基本的にペロブスカイト型酸化物の単相多結晶体である。このような材料の結晶構造をX線回折により調べた結果、結晶系は立方晶、正方晶又は斜方晶であり、前記結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、a,b,cが0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、a/c≧0.98の条件を満たす結晶構造であった。また、本発明の光励起半導体は、その密度を、結晶格子から求められる理論密度の96%以上とすることができる。本発明におけるペロブスカイト型酸化物(一般式:BaZr1-xx3-α)と、アルカリ土類金属元素とTi、Zr等の元素とによって構成される他のペロブスカイト型酸化物とを比較した際に大きく違う点は、その格子定数の大きさにある。他のペロブスカイト型酸化物の格子定数を示すと、例えば、立方晶のCaTiO3(a:0.38967nm)、SrTiO3(a:0.39034nm)、BaTiO3(a:0.3993nm、c:4.033nm)、CaZrO3(a:0.402nm)、SrZrO3(a:0.41539nm)であり、BaZrO3の0.4127nmが大きな格子定数を持っていることがわかる。しかしながら、BaZrO3は、可視光を吸収する材料とはいえず、可視光吸収帯をほとんどもたない。BaZrO3について紫外-可視光分光光度分析を行ったところ、Zrの一部をInやGa等の3価の元素に置換することにより可視光吸収帯を発現することが、今回明らかになった。すなわち、このような材料は、狭いバンドギャップを持つ半導体であることが明らかになった。また、InやGa等の置換モル比(前記一般式:BaZr1-xx3-αにおいて、式中のxの値)が、0.1以上0.6以下の範囲でより長い波長の可視光吸収(より狭いバンドギャップ)を実現でき、0.1以上0.25以下の範囲で600nm以上の波長を有する可視光吸収(さらに狭いバンドギャップ)も実現できることがわかった。例えば、BaZr0.8In0.23-α(αは不確定酸素欠損量)は、850nm以上の可視光を吸収でき(バンドギャップ:1.46eV)、電子励起することが明らかになった。
 電子励起は、水の光分解で実証される。光触媒反応でもあるが、水を水素と酸素とに分解するには、前述のとおり、その光触媒材料が特定の価電子帯上端準位(酸化電位)と伝導帯下端準位(還元準位)とを持ち合わせないと、光励起しても水分解が起こらない。そこで、本発明の光励起半導体の種々の材料について、水分解の実験を行った。ここでは、粉末材料に、疑似可視光としてXeランプの光を照射して、水素と酸素との発生反応を調べた。なお、この方法では、水素と酸素とが同時に発生した場合に、材料表面、水中等で水素と酸素とが再結合し、正確な量が測定できない。そのため、犠牲試薬等を用いる方法で調べた。この結果、本発明の光励起半導体の構成要件を満たすいずれの材料(前記一般式:BaZr1-xx3-αの組成を有する材料)でも、水素と酸素の発生が確認された。すなわち、本発明の光励起半導体は、特定の価電子帯上端準位(酸化電位)と伝導帯下端準位(還元準位)とを持ち合わせた光触媒材料、つまり、価電子帯上端準位-5.67eV以下(酸化電位:NHE1.23V以上)の真空エネルギー準位(酸化電位)を持ち、伝導帯下端準位-4.44eV以上(還元準位:NHE0.0V以下)の真空エネルギー準位(還元準位)を持つことが実証され、太陽光等の光で、太陽電池の半導体材料としてのみならず、水分解の光触媒材料としても実用できることがわかった。
 触媒特性は、Zrの一部を3価の元素に置換しないBaZrO3等も発現することが以前から示唆されていたが(非特許文献2参照)、Zrの一部を3価の元素に置換して可視光励起化する(バンドギャップが縮まる)機構はまだよくわかっていない。第一原理によるバンド構造解析を行った結果を、図3A及び図3Bに示す。図3Aは、BaZrO3のバンド構造解析の図であり、図3Bは、BaZrO3においてZrの25%をInで置換した材料のバンド構造解析の図である。擬ポテンシャル法による電子状態密度関数推算の結果、Zrの25%をInで置換したものは、Zrを3価の元素で置換しないBaZrO3の伝導帯下端位置からさらに低電位に、Inの5sやZrの4dの伝導帯軌道を創る可能性が示唆された。これが、可視光吸収帯が出現するバンドギャップと推測される。本発明の光励起半導体は、立方晶に近いペロブスカイト型構造を保ちながら、3価の元素が導入されることで酸素空孔、すなわち正孔が導入されることになる。Zr又は置換元素(In)の周りが酸素欠損し、その為、空の伝導帯軌道が生じたと考えられる。励起電子は、この伝導帯に収まることになるのではないかと推測される。
 後に示す本発明の光励起半導体の実施例について、結晶構造、組成、紫外光-可視光吸収分光特性、光触媒特性等の諸物性を調べるために、前記焼結体試料を用いて行った前記諸物性の分析方法は、以下のとおりである。
 (A)組成分析
 蛍光X線を用いて組成分析を行った。装置は、株式会社島津製作所製のエネルギー分散型蛍光X線分析装置EDX-700を用い、前記焼結体試料の表面組成比を算出した。
 (B)結晶構造分析
 結晶構造は、株式会社リガク製の粉末X線回折装置(CuKα)rint2100システムにより回折パターンを観察し、粉末X線回折パターン総合解析ソフトウェアJADE6.0によるリートベルト解析により、格子定数をフィティッング推算により求めた。試料には、前記焼結体試料を用いた。
 (C)密度
 密度は、Heガス置換型のマルチボリュームピクノメーター(MICROMERITICS1305)を用い、体積を求め、別途質量を測量し、算出した。試料は、前記焼結体試料を用いた。
 (D)紫外光-可視光分光光度分析
 吸光度分析は、日本分光株式会社製のU-650 Spectrophotometerを用い、Kubelka-Munk変換して、分析した。試料には、前記焼結体試料を用いた。
 (E)恒温恒湿試験及び煮沸耐久性試験
 恒温恒湿試験として、前記焼結体試料を、85℃、85%RH(Relative Humidity)中に放置し、表面劣化観察を行った。また、煮沸耐久性試験として、焼結体試料をpH7の100℃の水中に投入し、100時間までの溶解の度合いをpHにより調べた。pHは、堀場製作所pHメーターF14により、一旦降温して25℃にて計測した。
 (F)光触媒特性、光励起半導体
 光触媒特性を調べる方法には、有機物の分解、接触角の測定等、いくつかあるが、本実施の形態では、直接的に試料に波長420nm~800nmの連続スペクトルを持つキセノンランプ光(300W、20V)、又は紫外光励起する場合のための水銀灯(254nm)を照射し、最も酸化還元が困難な、水を直接分解する反応で調査した。水の分解が可能であるということは、同様に、有機物の分解も可能な材料であるといえる。さらに、水の分解が可能であるということは、有機物の部分酸化又は部分還元も可能な材料であることも意味する。もちろん、酸化還元が発生することは、試料からの電子の受供与があるという事実となるので、その試料が光励起半導体である証拠となる。
 水溶液中に粉末状の試料を分散させ、光照射したときの水素及び酸素の発生量で評価した。なお、水素及び酸素の発生反応は、試料の材料表面で同時に進行すると考えられるので、材料表面の水素と酸素との再結合、及び、液中、気体捕集上での再結合を考慮して、酸化反応及び還元反応のどちらか一方をコンペンサイトする犠牲試薬を用い、水素及び酸素の生成量を別々に測量した。水素発生を観るときの犠牲試薬としては10vol%のメタノール水溶液を用い、酸素発生を観るときの犠牲試薬としては0.01M(mol/L)のAgNO3水溶液を用いた。
 水素生成用の粉末状試料には、前記焼結体試料を乳鉢で約1時間乾式粉砕して作製した、粒径10μm以下程度の粉末(約0.2g)を用いた。また、水素生成用の試料には、より触媒活性を促進させるPt助触媒を、1wt%の重量比で含浸固着させた。
 実験は、図4に示す実験装置を用いて行った。
 水素発生を観るときは、200mLの蒸留水にAgNO310mL及びpH調整剤La230.2gを加えた水溶液を用い、この水溶液と約0.2gの粉末状試料とを混合して調製した分散液7を密閉できる石英セル8に投入し、攪拌機(マグネティックスターラー)14で攪拌できるようにした。また、酸素発生を観るときは、180mLの蒸留水にメタノール20mLを加えた水溶液を使った。
 図4に示すように、実験は、石英セル8の横側から分散液7に光源11(前記キセノンランプ(紫外光励起を観る場合は水銀灯))を用いて光4を照射し、1時間おきに、生成する水素量又は酸素量を、ガスクロマトグラフィー(株式会社島津製作所製GC-14b)10を用いてTCD(Thermal Conductivity Detector)検出器により定量した。なお、石英セル8内部で生成した水素又は酸素は、それぞれ、ガスライン9によってガス分析機であるガスクロマトグラフィー10に送られる。また、水温を一定に保つために、石英セル8自体を冷却装置13が設けられた恒温槽12で冷却した。
[実施例]
 以下に、実施例を挙げて本発明の光励起半導体を説明するが、本発明の光励起半導体はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
 (実施例1)
 実施例1では、BaZr0.9In0.13-αの組成を有する材料を合成した。作製方法としては、前述の高温固相反応により合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.9:0.1になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1400℃で12時間焼成を行った(仮焼成)。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスとをかけて円柱に成形し、直ちに1675℃で10時間焼成して(本焼成)、焼結体を作製した。
 (実施例2)
 実施例2では、BaZr0.875In0.1253-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.875:0.125になるように混合したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2の材料を合成した。
 (実施例3)
 実施例3では、BaZr0.8In0.23-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.8:0.2になるように混合したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例3の材料を合成した。
 (実施例4)
 実施例4では、BaZr0.6In0.43-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.6:0.4になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1300℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスとをかけて円柱に成形し、直ちに1550℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (実施例5)
 実施例5では、BaZr0.4In0.63-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.4:0.6になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1000℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスとをかけて円柱に成形し、直ちに1300℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (実施例6)
 実施例6では、BaZr0.8Ga0.23-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化ガリウムの粉末原料を、Ba:Zr:Gaの組成比が1:0.8:0.2になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1050℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスとをかけて円柱に成形し、直ちに1650℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (実施例7)
 実施例7では、BaZr0.8Gd0.23-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化ガドリニウムの粉末原料を、Ba:Zr:Gdの組成比が1:0.8:0.2になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1300℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスとをかけて円柱に成形し、直ちに1650℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (比較例1)
 比較例1では、BaZrO3-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム及び水酸化ジルコニウムの粉末原料を、Ba:Zrの組成比が1:1になるように混合したこと以外は、実施例1と同様にして、比較例の材料を合成した。
 (比較例2)
 比較例2では、BaZr0.2In0.83-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.2:0.8になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1000℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスをして円柱に成形し、直ちに1100℃、1200℃、1300℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (比較例3)
 比較例3では、BaZr0.5Ce0.53-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化セリウムの粉末原料を、Ba:Zr:Ceの組成比が1:0.5:0.5になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1350℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスをして円柱に成形し、直ちに1650℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (比較例4)
 比較例4では、BaZr0.35In0.653-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化インジウムの粉末原料を、Ba:Zr:Inの組成比が1:0.35:0.65になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1000℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン又はシクロヘキサン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスをして円柱に成形し、直ちに1500℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 (比較例5)
 比較例5では、BaZr0.76Gd0.243-αの組成を有する材料を合成した。酢酸バリウム、水酸化ジルコニウム及び酸化ガドリニウムの粉末原料を、Ba:Zr:Gdの組成比が1:0.76:0.24になるように混合し、メノウ乳鉢中でエタノール溶媒を用いて粉砕混合を行った。充分に混合した後、溶媒を除去し、更にバーナーで脱脂してから、再度メノウ乳鉢中での粉砕混合を繰り返した後、円柱状にプレス成形して、1200℃で12時間焼成を行った。焼成したものを粗粉砕し、その後ベンゼン溶媒中で遊星ボールミル粉砕をして、粒径が3μm以下(実際に粒度分布計により測定)となるように造粒した。得られた粉末を150℃で真空乾燥させた後、2ton/cm2で一軸プレスと静水圧プレスをして円柱に成形し、直ちに1675℃で10時間焼成して、焼結体を作製した。
 実施例1~7及び比較例1~5の材料について、前述の(A)組成分析、(B)結晶構造分析、(C)密度、(D)紫外光-可視分光光度分析、(E)恒温恒湿試験、(F)光触媒特性、の方法をそれぞれ分析した。
 (1)組成分析(蛍光X線表面組成分析)の結果
 実施例1~7及び比較例1~5について、仕込組成と合成組成とを、以下の表1にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 実施例1~4の結果から、ZrのIn置換体として、置換体40mol%までは、ほぼ仕込組成通りに合成されていることがわかった。また、実施例5の結果から、仕込組成で置換体60mol%としても、55mol%程度までしか置換できなかった。さらに、比較例2の結果から、仕込組成で置換体80mol%とすると、固相法では合成不能であった。図5に、実施例1~5の仕込組成と合成組成との関係を示す。
 (2)結晶構造分析と密度の結果
 図6に、実施例1~7と比較例1のX線回折パターンを示す。また、表2に、パラメーターフィッティングのリートベルト解析による結晶型推算と、格子定数a,b,cと、a/cと、理論密度に対する密度比とを示す。図7に、格子定数aと、a/cの組成比依存性を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 (3)紫外光-可視光分光光度分析の結果
 図8A及び図8Bに、実施例1~7及び比較例1,3の材料についての紫外光-可視光分光光度分析の結果を示す。なお、比較例4,5の材料についての結果は図8A及び図8Bに示されていないが、分析の結果、比較例4の材料の吸収波長端は450nm程度であり、比較例5の材料の吸収波長端は420nm程度であり、波長460nm以上の可視光吸収が不可能であった。また、実施例1~5及び比較例1の材料について、組成比と可視光吸収波長端との関係を図9に示す。
 (4)恒温恒湿試験及び煮沸耐久性試験の結果
 10000時間の恒温恒湿試験(85℃、85%RH)を行った結果、実施例1~7の材料は、目視では試験前後で変化が見られなかった。さらに、試験前後でX線回折パターンにもなんら変化はなく、組成、ペロブスカイト型構造単相、結晶構造を保持していることが確認された。また、煮沸耐久性試験では、100時間の間、pH最高値は9を超えることがなく安定していた。
 (5)光触媒特性についての結果
 実施例1~7及び比較例1,3~5の材料について、光照射時の水分解による水素及び酸素の生成量を調べることにより、光触媒特性を明らかにした。まずは、光源に水銀灯(波長254nm)を用い、実施例1~7の材料が全て触媒活性を示し、光励起半導体であることを確認した。図10A及び図10Bに、実施例1の材料について、水銀灯(紫外線、波長400nm以下)を用いて水素及び酸素の発生特性を調べた結果を示す。図11A及び図11Bに、実施例3の材料について、420nm以下の波長をカットした420nm~800nmの連続スペクトルを有するキセノンランプ光(300W、20V)を用いて、水素及び酸素の発生特性を調べた結果を示す。以下の表3に、キセノンランプ光を用いた場合の水素と酸素との生成率を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 以上の結果より、実施例1~7の本発明の構成要件を満たす材料の場合、紫外光及び可視光を照射することで、水素及び酸素が発生する反応が確認された。これにより、実施例1~7の材料が、光(紫外光及び可視光を含む)照射により原理的に電子移動が発生していることが実証され、光触媒としても機能する光励起半導体であることが確認された。特に、実施例1~7の本発明の材料は、キセノンランプ(波長:420nm~800nm)による可視光応答性が実証され、可視光励起光触媒、可視光励起半導体であることが検証された。
 前記(1)~(5)に示した結果より、ペロブスカイト型酸化物の半導体であって、一般式:BaZr1-xx3-α(式中、Mは3価の元素から選択される少なくとも1種の元素(例えばIn、Ga及びGdからなる群から選択される少なくとも1種の元素)であり、xは0よりも大きく0.8未満の数値であり、αは酸素欠損量で、0よりも大きく1.5未満の数値である。)で表される組成を有し、その結晶系が、立方晶、正方晶又は斜方晶であり、結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、及び、a/c≧0.98の条件を満たす材料は、触媒活性及び光励起半導体特性を示すことが確認され、特に、太陽光や蛍光灯等の可視光領域(460nm以上)の光を有効に利用できる材料であることがわかった。図9に示された組成比と可視光吸収波長端との関係から、一般式:BaZr1-xx3-αにおけるxの値を0.125以上0.25以下の範囲とすることにより、波長600nm以上の可視光で光励起する光励起半導体を得られることが分かった。
 次に、密度と耐水性との関係を観るために、実施例3と同様の組成(BaZr0.8In0.23-α)を有し、密度が異なる、実施例8~13の材料を作製した。実施例8~13では、仮焼成及び本焼成の方法が実施例3とは異なるが、それ以外は実施例3と同様の方法が用いられた。実施例8~13の仮焼成及び本焼成の方法は、以下の表4に示すとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 実施例8~13について、密度分析及び恒温恒湿試験を、他の実施例及び比較例の場合と同様の方法で行った。理論密度に対する密度比と恒温恒湿試験、さらに煮沸耐久性試験結果とを、表5に示す。なお、表5には、実施例3についての密度比、恒温恒湿試験結果及び煮沸耐久性試験結果も示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 表5に示す結果によれば、理論密度に対する密度比を96%以上とすることにより、より良好な耐水性を備えた光励起半導体が得られることが分かった。
 なお、本実施例では、ジルコン酸バリウムを母体として、ジルコニウムの一部をIn、Ga又はGdの3価の元素で置換した材料として、置換量(一般式:BaZr1-xx3-αにおけるxの値)が、In:0.1、0.125、0.2、0.4、0.6、Ga:0.2、Gd:0.2の事例を示したが、Inの置換量としては0.05でも0.25でもよく、Ga及びGdの置換量についても、これらの事例に限定されない。また、3価の置換元素としては、希土類元素、Y、Sc、Al、B及びTlが考えられる。ジルコン酸バリウムの4価のジルコニウムイオンを3価のイオンで置換することにより、酸素欠損ができ、Zr(Zrの4d軌道)の周りの電子状態密度が減少し、その結果、空の伝導帯が出現したものと予想している。また、本発明の材料は、基本的にはBa、Zr、M(3価の元素)及びOの4元素で構成されることを示しているが、不純物としてSi、Al又はNaを含む組成、あるいは、副成分の3価の置換元素をさらに含む組成も考えられる。基本的にジルコン酸バリウムのジルコニウムの一部を3価の元素に置換した系であって、結晶構造定数が、本発明の条件を満たしていれば、同様の効果を出現させる。また、本実施例では、材料合成は、基本的に焼成を繰り返し、焼結体として合成する方法を示したが、例えば、スパッタ、蒸着、溶射、イオンプレーティング、塗布、メッキ及びCVD等の気相法を用いた膜でもよいし、共沈法やゾルゲル法、有機金属化合物を用いた溶液法を用いたものでもよい。焼成温度、圧力も規定するものでなく、水熱合成法を用いてもよい。また、本発明の光励起半導体の出来上がりの形状としては、何ミクロンの粒子でもよいし、ナノ粒子でもよいし、厚膜でも薄膜であってもよい。
 (実施の形態2)
 本発明のデバイスの一実施形態について説明する。本実施の形態では、本発明の光励起半導体を含む粉末又は膜を備えたデバイスであり、前記光励起半導体に光を照射することによって水を分解して水素及び酸素の少なくとも何れか一方を生成するデバイスの例について説明する。
 本実施の形態のデバイスは、実施の形態1で説明したような本発明の光励起半導体を用いた、高性能な水素生成デバイスである。太陽光を利用した水素生成デバイスの例について、その概略図を図12A及び図12Bに示す。
 図12Aに示す水素生成デバイスは、少なくとも460nm以上の波長を有する可視光を発する光源(例えば太陽光や蛍光灯)と、前記光源から発せられた光4を吸収して触媒反応を示す本発明の光励起半導体の粉末を、水素及び酸素源となる水に分散させた分散液7と、分散液7を保持する石英セル8と、発生する気体を分離する分離膜15と、気体を捕集するタンク(図示せず)と、石英セル8と各タンクとを連結するガス管16,17と、を備えている。石英セル8は、光源から発せられた光4を透過させる材料によって形成されている。本実施の形態の水素生成デバイスは、光4を石英セル8中の分散液7(本発明の光励起半導体)に照射することで、分散液7中の光励起半導体によって水を分解して水素及び酸素を生成する。生成した水素及び酸素は、分離膜15で、水素と酸素とに分離されて各々タンクに貯蔵される。
 図12Bに示す水素生成デバイスは、本発明の光励起半導体を電極として備えた例である。このような電極は、ITOやFTO(fluorine doped tin oxide)等の導電性を有する集電体が予め設けられた酸化物やガラス等からなる基板上、もしくは金属基板上に、本発明の光励起半導体を膜化して配置することによって形成できる。図12Bに示す水素生成デバイスは、本発明の光励起半導体を含む電極(光触媒電極)19と、電極19と導線21によって電気的に接続された対極20と、水素及び酸素源となる水18と、電極19と対極20との間に配置された塩橋22と、これらを収容する石英セル8と、気体を捕集するタンク(図示せず)と、石英セル8と各タンクとを連結するガス管16,17と、を備えている。対極20には白金等が使われるが、水素を発生できるのであれば、他の金属でも問題ない。
 (実施の形態3)
 本実施の形態では、実施の形態1で説明したような本発明の光励起半導体を用い、前記光励起半導体に光を照射することによって発電させるデバイスである、太陽電池の例について説明する。
 太陽電池は、通常、p型半導体とn型半導体とを接合させた構造を有する。本発明の光励起半導体はp型半導体として使用できるので、他のn型半導体と接合させて、外部回路の導線を繋げることによって、太陽電池を構成できる。この太陽電池に太陽光や蛍光灯を照射することで、外部回路に電流を取り出せる。
 図13に、本実施の形態の太陽電池の構成例について、その概略図を示す。図13に示す太陽電池は、本発明の光励起半導体からなるp型半導体層23と、p型半導体層23と接合されたn型半導体層24と、n型半導体層24の光照射側の表面上に配置された反射防止膜25と、p型半導体層23上に配置された電極(正極)26と、反射防止膜25上に配置された電極(負極)27と、を備えており、外部回路28に接続されている。なお、図示されていないが、反射防止膜25には部分的に貫通部が設けられており、当該貫通部を介してn型半導体層24と負極27とが電気的に接続されている。また、本実施の形態の太陽電池では、光源として蛍光灯29を利用することも可能である。
 (実施の形態4)
 本実施の形態では、実施の形態1で説明したような本発明の光励起半導体を用い、前記光励起半導体に光を照射することによって有機物を分解するデバイスの例について説明する。
 図14に、本実施の形態の有機物分解デバイスである、抗菌及び脱臭デバイスの一例を示す。この抗菌及び脱臭デバイスは、本発明の光励起半導体からなる粉末をガラス基板上に塗布固着させることによって形成された光励起半導体フィルタ30を、光透過筐体32における処理前の空気・気体の吸入面側に設けることによって形成されている。光透過筐体32における処理後の空気・気体の排気面側には、送風機31が設けられている。処理空気・気体は、光透過筐体32に吸入される際にフィルタ30を通過する。このフィルタ30に光を照射することによって、フィルタ30に設けられた本発明の光励起半導体による光触媒作用により、フィルタ30通過時に空気・気体中の有機物が分解される。
 実際に、一定容積のボックス中に本発明の光励起半導体(ここでは、BaZr0.8In0.23-αを用いた。)の塗布膜を入れ、アセトアルデヒド等の臭気成分を封入し、一定時間光照射した後の臭気を嗅いでみると、臭気が低減されていることがわかった。また、検知管等で光照射前後の濃度を測定すると、濃度が低減していることが確認された。また同様のデバイスを用いて、アセトアルデヒドから酢酸が生成していることも確認されていることから、有機物の部分酸化又は部分還元反応も観察された。
 (実施の形態5)
 本実施の形態では、実施の形態1で説明したような本発明の光励起半導体を用い、前記光励起半導体に光を照射することによって有機物を分解するデバイスのさらに別の例について説明する。
 本実施の形態のデバイスは、水中の有機物を分解することによって水を浄化する水質浄化デバイスである。図15Aは、実施の形態4の抗菌及び脱臭デバイスに用いられた光励起半導体フィルタ30を利用する水質浄化デバイスの概略図である。光透過筐体32の内部に送られた汚水中の有機物は、光透過筐体32内に配置された光励起半導体フィルタ30の光触媒作用によって分解され、送液ポンプ33によって光透過筐体32の外部に排液される。図15Bは、光励起半導体フィルタ30の代わりに、本発明の光励起半導体の粉末を水に分散させた分散液7を利用する水質浄化デバイスの概略図である。
 実際に、本発明の光励起半導体(ここでは、BaZr0.8Ga0.23-αを用いた。)の粉末を水に分散させた分散液を用いて、BTB液の退色試験を行った。まずビーカーに光励起半導体の分散液を入れ、さらにこれにBTB液を滴下して分散液に色(黄色から青色)をつけた。ビーカー外から光を照射したところ、色が退色するのを観察した。この結果から、本発明の光励起半導体が光照射されることによってBTB液を分解し、その結果、BTB液が退色したと判断される。このように、本発明の光励起半導体によれば、水中の有機物、汚物を浄化することが可能であることを確認した。
 なお、実施の形態1では、本発明の光励起半導体の粉末を水素生成用の試料として用いた場合の例として、粒径10μm以下程度の粉末試料を用いた例を説明したが、粉末の粒径は特には限定されず、試料はナノ粒子でもよい。また、粉末でなく、膜であってもよい。また、水素生成用の試料には、より触媒活性を促進させるPt助触媒を用いたが、用いなくてもよいし、その量も限定されない。また、助触媒はPtでなく、例えばNi、Ru、Ag、Pd等でもよいし、固着法についても光還元法でも含浸法でもよい。また、実施の形態1~5で説明した石英セル8は、光の透過しやすい他の材質のセルであってもよく、パイレックス(登録商標)やガラスでもよい。また、水を分解する評価方法では、蒸留水にAgNO3、メタノール、pH調整剤のLa23を添加した溶液用いているが、もちろん蒸留水だけでもよいし、重炭酸ナトリウム及び硫化カリウム等の緩衝剤をさらに添加してもよい。水溶液も、KOHやHClが微量に含まれていてもよい。
 また、実施の形態2~5で説明したデバイスの各構成の寸法は特に限定されない。例えば、各層を形成する際の成膜方法は、塗布法でも電解析出法でもよく、その膜厚や寸法も限定されない。また、本発明の光励起半導体を水素生成用の電極として用いる場合、対極として白金膜を用いた例を説明したが、対極の材料としては銀や銅でも可能であり、寸法も限定されない。さらに、実施の形態1~5では、光源に、疑似太陽光としてのキセノンランプ、太陽光、蛍光灯を用いた例を示したが、可視光を含む光であればLEDの使用も可能であり、その光強度も規定するものではない。もちろん水銀灯のような紫外光ランプ、ブラックライトを用いても、デバイス上問題はない。また、水素生成の評価方法では、室温又は恒温槽を用いた事例を示しているが、実際のデバイス、評価では、周囲温度も規定するものではない。
 本発明の光励起半導体は、例えば太陽光から水素を生成するデバイス、太陽電池、空質浄化装置等の脱臭デバイス、抗菌膜、防汚膜、超親水性膜、防曇膜、水質浄化デバイス及びCO2と水からのメタノール合成等の、光触媒関連技術及び太陽電池関連技術に有用である。

Claims (17)

  1.  ペロブスカイト型酸化物の半導体であって、
     一般式:BaZr1-xx3-α
    (式中、Mは3価の元素から選択される少なくとも1種の元素であり、xは0よりも大きく0.8未満の数値であり、αは酸素欠損量で、0よりも大きく1.5未満の数値である。)
    で表される組成を有し、結晶系が立方晶、正方晶又は斜方晶であり、前記結晶系の格子定数をa,b,c(ただし、a≦b≦c)としたとき、0.41727nm≦a,b,c≦0.42716nm、a/c≧0.98の条件を満たす、光励起半導体。
  2.  前記一般式:BaZr1-xx3-αにおいて、xが0.1以上0.6以下の数値である、請求項1に記載の光励起半導体。
  3.  前記一般式:BaZr1-xx3-αにおいて、xが0.1以上0.25以下の数値である、請求項2に記載の光励起半導体。
  4.  前記一般式:BaZr1-xx3-αにおいて、MがIn、Ga及びGdからなる群から選択される少なくとも何れか1種である、請求項1に記載の光励起半導体。
  5.  前記一般式:BaZr1-xx3-αが、BaZr0.9In0.13-α、BaZr0.875In0.1253-α、BaZr0.8In0.23-α、BaZr0.8Ga0.23-α及びBaZr0.8Gd0.23-αから選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の光励起半導体。
  6.  前記一般式:BaZr1-xx3-αがBaZr0.8In0.23-αである、請求項5に記載の光励起半導体。
  7.  前記ペロブスカイト型酸化物が単相の焼結体であって、密度が理論密度の96%以上である、請求項1に記載の光励起半導体。
  8.  前記光励起半導体が光触媒である、請求項1に記載の光励起半導体。
  9.  請求項1に記載の光励起半導体を備えたデバイス。
  10.  前記光励起半導体が粉末又は膜の状態で設けられている、請求項9に記載のデバイス。
  11.  前記光励起半導体が電極として設けられている、請求項9に記載のデバイス。
  12.  前記光励起半導体に光を照射することによって発電させる、請求項9に記載のデバイス。
  13.  前記光励起半導体に光を照射することによって水を分解し、水素及び酸素の少なくとも何れか一方を生成する、請求項9に記載のデバイス。
  14.  前記光励起半導体に光を照射することによって有機物を分解する、請求項9に記載のデバイス。
  15.  前記光励起半導体に光を照射することによって有機物の部分還元又は部分酸化を行う、請求項9に記載のデバイス。
  16.  前記光励起半導体が、太陽光を透過させるセル内に収容されている、請求項9に記載のデバイス。
  17.  前記光励起半導体に光を照射する際に、蛍光灯が用いられる、請求項9に記載のデバイス。
PCT/JP2010/002971 2009-04-28 2010-04-26 光励起半導体及びそれを用いたデバイス WO2010125787A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201080002312.6A CN102123792B (zh) 2009-04-28 2010-04-26 光激发半导体和使用它的设备
EP10769487.9A EP2425893B8 (en) 2009-04-28 2010-04-26 Device for catalytic hydrolysis comprising an optically pumped semiconductor
JP2011511299A JP5799270B2 (ja) 2009-04-28 2010-04-26 光励起半導体及びそれを用いたデバイス
US13/119,117 US8951447B2 (en) 2009-04-28 2010-04-26 Optically pumped semiconductor and device using the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009110097 2009-04-28
JP2009-110097 2009-04-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010125787A1 true WO2010125787A1 (ja) 2010-11-04

Family

ID=43031945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/002971 WO2010125787A1 (ja) 2009-04-28 2010-04-26 光励起半導体及びそれを用いたデバイス

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8951447B2 (ja)
EP (1) EP2425893B8 (ja)
JP (1) JP5799270B2 (ja)
CN (1) CN102123792B (ja)
WO (1) WO2010125787A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120156578A1 (en) * 2010-03-31 2012-06-21 Panasonic Corporation Photoelectrochemical cell and energy system using same
JP2017148810A (ja) * 2017-05-26 2017-08-31 住友化学株式会社 アンモニア合成触媒及びアンモニアの製造方法
US10533257B2 (en) 2016-08-10 2020-01-14 Fujitsu Limited Photochemical electrode and hydrogen evolution device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012046362A1 (ja) * 2010-10-06 2012-04-12 パナソニック株式会社 二酸化炭素を還元する方法
WO2013031062A1 (ja) * 2011-08-31 2013-03-07 パナソニック株式会社 二酸化炭素を還元する方法
JP5236125B1 (ja) * 2011-08-31 2013-07-17 パナソニック株式会社 二酸化炭素を還元する方法
WO2014006864A1 (ja) * 2012-07-05 2014-01-09 パナソニック株式会社 アルコールを生成する方法
US20170274345A1 (en) 2014-10-02 2017-09-28 Sabic Global Technologies B.V. Photocatalytic reactors and related methods
CN108404910B (zh) * 2018-03-27 2020-08-25 辽宁大学 一种新型Z-scheme声催化剂及其制备方法和应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001307546A (ja) * 2000-02-14 2001-11-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd イオン伝導体
JP2003033662A (ja) * 2001-07-23 2003-02-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 可視光領域で触媒活性を有する光触媒
US6517693B2 (en) 2000-02-14 2003-02-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Ion conductor
JP2003155440A (ja) 2001-11-22 2003-05-30 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 抗菌性光触媒塗料および抗菌性光触媒性部材
JP2005103496A (ja) 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光触媒

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04243690A (ja) 1991-01-21 1992-08-31 Suzuki Motor Corp 船外機の保護装置
JPH0724329A (ja) 1993-07-07 1995-01-27 Nikon Corp 光触媒
JPH08196912A (ja) 1995-01-26 1996-08-06 Nikon Corp 光触媒
JPH10244164A (ja) 1997-03-07 1998-09-14 Nikon Corp 可視光領域で触媒活性をもつ光触媒
CA2298850A1 (en) * 1999-02-17 2000-08-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Mixed ionic conductor and device using the same
US6235417B1 (en) * 1999-04-30 2001-05-22 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Natural Resources Two-phase hydrogen permeation membrane
JP4736267B2 (ja) 2001-08-08 2011-07-27 住友金属鉱山株式会社 可視光域でも触媒活性を有する光触媒
JP4243690B2 (ja) 2004-08-30 2009-03-25 国立大学法人東北大学 部分硫化ペロブスカイト型ABO3―xSx酸化物粉末
DE112008000841T5 (de) * 2007-03-29 2010-02-11 Sumitomo Chemical Company, Limited Verbindung, photoelektrischer Wandler und photoelektrochemische Zelle

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001307546A (ja) * 2000-02-14 2001-11-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd イオン伝導体
US6517693B2 (en) 2000-02-14 2003-02-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Ion conductor
EP1362831A2 (en) 2000-02-14 2003-11-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Ion conductor
JP3733030B2 (ja) 2000-02-14 2006-01-11 松下電器産業株式会社 イオン伝導体
JP2003033662A (ja) * 2001-07-23 2003-02-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 可視光領域で触媒活性を有する光触媒
JP2003155440A (ja) 2001-11-22 2003-05-30 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 抗菌性光触媒塗料および抗菌性光触媒性部材
JP2005103496A (ja) 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光触媒

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PHOTO FUNCTIONALIZED MATERIALS SOCIETY, REPORT PHOTOCATALYSIS, vol. 15, 2004, pages 26 - 29
See also references of EP2425893A4
YUNPENG YUAN ET AL., INTERNATIONAL J. OF HYDROGEN ENERGY, vol. 33, 2008, pages 5941 - 5946

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120156578A1 (en) * 2010-03-31 2012-06-21 Panasonic Corporation Photoelectrochemical cell and energy system using same
US9157155B2 (en) * 2010-03-31 2015-10-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Photoelectrochemical cell and energy system using same
US10533257B2 (en) 2016-08-10 2020-01-14 Fujitsu Limited Photochemical electrode and hydrogen evolution device
JP2017148810A (ja) * 2017-05-26 2017-08-31 住友化学株式会社 アンモニア合成触媒及びアンモニアの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2425893A1 (en) 2012-03-07
EP2425893B1 (en) 2018-06-13
CN102123792B (zh) 2014-09-03
CN102123792A (zh) 2011-07-13
EP2425893A4 (en) 2012-10-17
JPWO2010125787A1 (ja) 2012-10-25
US20110203661A1 (en) 2011-08-25
EP2425893B8 (en) 2018-10-17
US8951447B2 (en) 2015-02-10
JP5799270B2 (ja) 2015-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5799270B2 (ja) 光励起半導体及びそれを用いたデバイス
Sun et al. Photocatalytic hydrogen production over chromium doped layered perovskite Sr2TiO4
Reddy et al. Fabrication of novel p-BiOI/n-ZnTiO3 heterojunction for degradation of rhodamine 6G under visible light irradiation
Zhou et al. Effect of metal doping on electronic structure and visible light absorption of SrTiO3 and NaTaO3 (Metal= Mn, Fe, and Co)
Sun et al. Activating layered perovskite compound Sr2TiO4 via La/N codoping for visible light photocatalytic water splitting
Xiao et al. Ruddlesden–Popper perovskite oxides for photocatalysis-based water splitting and wastewater treatment
Drouilly et al. ZnO oxygen vacancies formation and filling followed by in situ photoluminescence and in situ EPR
Kong et al. Defect-induced yellow color in Nb-doped TiO2 and its impact on visible-light photocatalysis
Xie et al. Enhanced photocatalytic degradation of RhB driven by visible light-induced MMCT of Ti (IV)− O− Fe (II) formed in Fe-doped SrTiO3
Chen et al. In situ synthesis of V4+ and Ce3+ self-doped BiVO4/CeO2 heterostructured nanocomposites with high surface areas and enhanced visible-light photocatalytic activity
Zhang et al. Increasing the oxygen vacancy density on the TiO2 surface by La-doping for dye-sensitized solar cells
Zou et al. Substitution effects of In3+ by Al3+ and Ga3+ on the photocatalytic and structural properties of the Bi2InNbO7 photocatalyst
Georgekutty et al. A highly efficient Ag-ZnO photocatalyst: synthesis, properties, and mechanism
Serpone Is the band gap of pristine TiO2 narrowed by anion-and cation-doping of titanium dioxide in second-generation photocatalysts?
Zou et al. Preparation and photocatalytic activities of two new Zn-doped SrTiO3 and BaTiO3 photocatalysts for hydrogen production from water without cocatalysts loading
Liu et al. Promoted photo-oxidation reactivity of particulate BiVO4 photocatalyst prepared by a photoassisted sol-gel method
Ikeda et al. Preparation of K2La2Ti3O10 by polymerized complex method and photocatalytic decomposition of water
Yin et al. Photophysical and photocatalytic properties of MIn0. 5Nb0. 5O3 (M= Ca, Sr, and Ba)
Xu et al. Role of surface composition upon the photocatalytic hydrogen production of Cr-doped and La/Cr-codoped SrTiO 3
JP5165155B2 (ja) 光半導体およびその製造方法、並びに、光半導体デバイス、光触媒、水素生成デバイスおよびエネルギーシステム
Kumar et al. A facile low temperature (350 C) synthesis of Cu 2 O nanoparticles and their electrocatalytic and photocatalytic properties
Yamakata et al. Core–shell double doping of Zn and Ca on β-Ga2O3 photocatalysts for remarkable water splitting
Zhang et al. (00 l)-facet-exposed planelike ABi2Nb2O9 (A= Ca, Sr, Ba) powders with a single-crystal grain for enhancement of photocatalytic activity
Sitara et al. Enhanced photoelectrochemical water splitting using zinc selenide/graphitic carbon nitride type-II heterojunction interface
Sharma et al. Ag-nanoparticles-loaded Ba0. 85Ca0. 15Ti0. 9Zr0. 1O3 for multicatalytic dye degradation

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080002312.6

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10769487

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011511299

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010769487

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13119117

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE