WO2010092694A1 - 色変換基板およびそれを用いた有機elディスプレイ - Google Patents
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- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
Definitions
- the present invention relates to a color conversion substrate, and particularly proposes a color conversion substrate capable of realizing higher luminous efficiency.
- an organic EL element can realize a high current density at a low voltage, it is expected to realize high light emission luminance and light emission efficiency.
- the practical application of an organic multicolor EL display capable of high-definition multi-color or full-color display is expected.
- JP-A-8-286033 proposes a color conversion (CCM) method as one of methods for realizing multicolor light emission using an organic EL element (see Patent Document 1).
- the CCM method is a method of expressing multiple colors by disposing a color conversion layer that absorbs light emitted from an organic EL element and emits light having a wavelength distribution different from the absorption wavelength on the front surface of the organic EL element. Since this method can use a monochromatic light-emitting organic EL element, it is easy to produce a display, and development to a large-screen display has been actively studied.
- a method in which an ink containing a constituent material of the color conversion layer is prepared and the color conversion layer is formed in a pattern by an ink jet method. ing.
- the advantages of the ink jet method are that the use efficiency of ink is high and the production cost of the film can be suppressed.
- Patent Document 2 and Patent Document 2). 3 Japanese Patent Laid-Open Nos. 9-203803 and 2000-353594 have proposed a method of forming a bank on the substrate side (Patent Document 2 and Patent Document 2). 3).
- the organic EL element has a problem in that not all of the light emitted from the organic EL layer can be taken out and the luminous efficiency is low. This is due to the low light extraction efficiency due to the refractive index structure of the organic EL element in addition to the non-directional light emission in the organic EL layer. Therefore, in order to realize high efficiency of the organic EL display panel, improvement of the light extraction efficiency of the organic EL element is an important and effective means.
- Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-199952 light emitted from a light emitting layer is totally reflected once by a protective layer, and angle-converted by an angle conversion unit disposed around the light emitting layer by multiple reflection, and output to the outside.
- a method for improving the light extraction efficiency from the light emitting layer has been proposed (see Patent Document 4).
- Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-31355 proposes a method of improving the light extraction efficiency from the light emitting layer by providing a reflective film in the partition wall that partitions the light emitting layer (see Patent Document 5).
- JP-A-8-286033 JP-A-9-203803 JP 2000-353594 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-199952 JP 2003-31355 A JP 2003-288029 A JP-A-7-142169 JP 2003-277743 A JP 2003-277744 A JP 2003-306454 A Japanese Journal of Polymer Science and Technology, 63 (10), 675, (2006)
- the material used for the color conversion layer is a fluorescent dye, and in addition to the non-directional light obtained in the same manner as the EL light emitting layer, all of the obtained light cannot be extracted to the outside. There is a problem that the extraction efficiency is low.
- the extraction rate ⁇ is the amount of light passing from the medium of refractive index n into the air and the total amount of light generated (the amount of light reflected at the interface between the medium and air and into the air).
- the refractive index of the base material mainly determines the extraction rate ⁇ .
- the refractive index n of glass, plastic film or the like used as a substrate is generally about 1.5 to 1.6. Therefore, from the formula (3), the extraction rate ⁇ is about 0.2 (about 20%).
- the remaining 80% is confined in the color conversion substrate by total reflection at the interface between the base material and air, and the multiple conduction in the lateral direction of the color conversion substrate (that is, the direction parallel to the light emission surface) Lost as wave light.
- the present invention is based on the problem of improving the extraction efficiency of the light whose wavelength distribution is converted in the color conversion layer (hereinafter sometimes referred to as “CCM light emission”).
- CCM light emission the color conversion layer
- the present invention provides a color conversion substrate for an organic EL display panel, characterized in that, in a CCM full color organic EL display, the refractive index of a bank surrounding the color conversion layer is sufficiently lower than that of the color conversion layer.
- the CCM light emission when CCM emission propagating laterally through the color conversion substrate encounters a medium having a lower refractive index than that of the color conversion layer, the CCM light emission is entirely at the interface between the color conversion layer and the low refractive index medium layer above the critical angle. Reflection occurs, and part of the light changes its propagation direction and propagates in the vertical direction of the substrate (the direction toward the light emission extraction surface).
- the difference in refractive index between the color conversion layer and the low refractive index medium layer is increased, and the critical angle ⁇ c between the color conversion layer and the low refractive index medium layer estimated by the equation (1) is reduced.
- the light that can propagate in the vertical direction can be increased. Therefore, the light extraction efficiency can be improved as compared with the conventional CCM system full color organic EL light emitting display panel.
- the conventional CCM method can be used without adding a manufacturing process. Compared with a full-color organic EL light-emitting display panel, the light extraction efficiency can be improved.
- FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL display panel using the color conversion substrate of the present invention.
- FIG. 1 shows an example of a color organic EL display using the color conversion substrate of the present invention.
- the organic EL display of FIG. 1 includes a transparent substrate 1 as a support, a plurality of color filter layers 2 (R, B, G), a plurality of banks 3 provided at the boundary of different color filter layers 2, and
- the color conversion substrate 10 of the present invention having two types of color conversion layers 4 (R, G) provided on the color filter layer 2 between adjacent banks, and the organic EL element 6 provided on the substrate 5
- an organic EL substrate 20 having a barrier layer 7 covering the organic EL element 6.
- the transparent substrate 1 used in the present invention has excellent light transmissivity and is used under the conditions (solvent, temperature, etc.) used for forming the color filter layer 2, the bank 3, the color conversion layer 4, and the organic EL display. It is formed using a material that can withstand. Furthermore, the transparent substrate 1 is preferably excellent in dimensional stability. It is also desirable not to cause performance degradation of the multicolor light emitting display. Examples of the material of the transparent substrate 1 include glass, various plastics, various films, and the like.
- the color filter layer 2 is a layer for transmitting a specific wavelength region of visible light, setting the transmitted light to a desired hue, and improving the color purity of the transmitted light.
- the color filter layer 2 can be formed using a material used for a flat panel display such as a liquid crystal display. In recent years, a pigment dispersion type material in which a pigment is dispersed in a photoresist is often used. As shown in FIG. 1, when three types of color filter layers 2 are used, a blue color filter layer 2B that transmits a wavelength of 400 nm to 550 nm, a green color filter layer 2G that transmits a wavelength of 500 nm to 600 nm, and a wavelength of 600 nm or more. It is desirable to use a red color filter layer 2R that transmits light.
- Each of the color filter layers 2 described above may be formed by forming a pattern on the entire surface of the transparent substrate 1 using a coating method such as a spin coating method, and then performing patterning using a photolithographic method or the like.
- a pattern may be formed using a printing method or the like.
- the bank 3 is a layer for preventing the ink from spreading other than the necessary portion when the color conversion layer 4 is produced using an ink jet method described later.
- the bank 3 can prevent color mixing due to leakage of the color conversion layer forming ink.
- the refractive index (n1) of the bank 3 needs to be lower than the refractive index (n2) of the color conversion layer 4.
- the ratio (n2 / n1) of the refractive index n2 of the color conversion layer 4 to the refractive index n1 of the bank 3 is 1 to 1.4, preferably 1 to 1.3, more preferably 1 to 1.2.
- Specific materials that can be used for the bank 3 include LiF, MgF 2 , a porous airgel agent, a fluorine resin, a composite filler film having a low refractive index, and the like.
- alumina airgel, polyimide pores and the like described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-288029 can also be used as the material of the bank 3 (see Patent Document 6).
- the bank 3 forms a predetermined thin film on the surface of the color filter layer 2 by a wet coating method such as spin coating, dip coating, roll coating, gravure coating, dispenser, etc., and further resist coating, pre-baking, exposure, development, post
- a pattern may be formed by using a photolithography method including baking, etching, resist removal, and the like.
- a film is formed by a dry process such as vacuum deposition or sputtering, and then the above photolithography method or dry etching is performed.
- a predetermined pattern may be formed by this dry process.
- the film thickness of the bank 3 is desirably larger than the film thickness of the color conversion layer 5 because a depth that does not leak the inkjet coating liquid described later is required, and is preferably in the range of 0.5 to 5 ⁇ m.
- the pattern of the bank 3 may be sufficient to prevent ink mixture for forming the color conversion layer, and can be formed with a width of 1 to 20 ⁇ m, preferably 5 to 15 ⁇ m.
- the form of the bank 3 is not particularly limited.
- the section of the bank 3 shown in FIG. 1 (cut in the direction perpendicular to the transparent substrate 1) may be rectangular or tapered. It is preferable to have a taper.
- the color conversion layer 4 is a layer having a function of absorbing light from the light source (organic EL element 6) and emitting fluorescence having different wavelength distributions.
- FIG. 1 shows an example in which two types of color conversion layers, a red conversion layer 4R and a green conversion layer 4G, are formed. Only the red color conversion layer 4R may be provided as necessary. Alternatively, a blue conversion layer 4B (not shown) may be provided in addition to the red conversion layer 4R and the green conversion layer 4G.
- an ink containing a color conversion dye is attached using an ink jet method to form the color conversion layer 4.
- the ink for forming the color conversion layer 4 includes at least one color conversion pigment and a solvent.
- the color conversion pigment may be a dye or a pigment.
- DCJTB rhodamine B, rhodamine 6G, which is used as a color conversion dye for forming the red conversion layer 4R, absorbs light in the blue or blue-green region emitted by the light emitter and emits fluorescence in the red region.
- Rhodamine 3B rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet 11, basic red 2, and other rhodamine dyes; 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM) ); Cyanine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridium-perchlorate (pyridine 1); or oxazine dyes including. Furthermore, various fluorescent dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be used.
- DCM 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran
- Cyanine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-
- a fluorescent dye that absorbs light in the blue or blue-green region emitted from the light emitter and emits fluorescence in the green region used as a color conversion pigment for forming the green conversion layer 4G is, for example, 3- (2 ′ -Benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2'-benzoimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2'-N-methylbenzimidazolyl) -7-N , N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153) Or basic yellow 51 which is a coumarin pigment, solvent yellow 11 and solvent yellow 116 How such as naphthalimide-based dyes, and the like.
- Non-Patent Document 1 a soluble tris (8-quinolinolate) aluminum-containing dendrimer AlClq3 described in Japanese Journal Polymer Science and Technology, 63 (10), 675, (2006) may be used (see Non-Patent Document 1). Furthermore, various fluorescent dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be used.
- a mixture of two or more dyes may be used as the color conversion dye.
- the use of a dye mixture is an effective means when the wavelength shift width is wide, such as when converting from blue light to red light.
- the dye mixture may be a mixture of the aforementioned dyes.
- any solvent capable of dissolving the above color conversion dye can be used.
- non-polar solvents such as benzene, toluene, and tetralin
- polar solvents such as chloroform, alcohols, and ketones
- the ink solvent may be composed of a single component.
- an ink solvent may be prepared by mixing a plurality of solvents for the purpose of adjusting viscosity, vapor pressure, solubility, fluidity and / or wettability.
- a color conversion layer forming ink may be produced by adding a solvent to the above-described color conversion dye dispersed in a thermosetting resin composition.
- an ink for forming a color conversion layer can be produced by mixing at least one color conversion dye in a solvent.
- a solvent for example, a solvent
- an inert gas for example, nitrogen gas or a rare gas such as argon
- any means known in the art such as degassing, treatment with a water absorbent, treatment with an oxygen absorbent, distillation, etc., is used to remove moisture and oxygen in the solvent.
- the solvent may be pretreated.
- the inkjet apparatus and method may be a thermal inkjet system or a piezo inkjet system.
- the drying of the ink deposited using the inkjet method can be carried out by heating to a temperature at which the solvent evaporates in the inert gas or in vacuum. Further, when the ink contains a thermosetting resin composition, the ink can be dried by heating at a temperature at which the thermosetting resin composition is cured. At this time, it is desirable to set the heating temperature so that the color conversion pigment in the ink does not deteriorate or decompose.
- the color conversion layer prepared with the ink of the present invention has a thickness of 2000 nm (2 ⁇ m) or less, preferably 100 to 2000 nm, more preferably 100 to 1000 nm.
- the formed color conversion layer 4 has a higher refractive index than the bank 3.
- the color conversion layer 4 of the present invention has a refractive index of 1.7 to 2.1, for example.
- the organic EL element 6 includes at least one organic light emitting layer having a component that emits blue light having a wavelength shorter than 500 nm.
- the organic EL element 7 has a structure in which a hole injecting / transporting layer and / or an electron injecting / transporting layer are interposed as required (for example, (1) to (4) below).
- Anode / organic light emitting layer / cathode (2) Anode / hole injection / transport layer / organic light emitting layer / cathode (3) Anode / organic light emitting layer / electron injection / transport layer / cathode (4) Anode / hole Injection / transport layer / organic light emitting layer / electron injection / transport layer / cathode
- Blue EL light-emitting materials that can be applied to the organic EL element 6 include oxazal metal complexes disclosed in JP-A-7-142169, distyrylbenzene derivatives disclosed in the publication, styrylamine-containing polycarbonates disclosed in the publication, The oxadiazole derivative shown, the oxadiazole derivative shown in the publication, the azomethine zinc complex shown in the publication, the formula and the aluminum complex of the publication can be used, and if necessary, doped with a blue fluorescent dye It is also possible.
- a luminescent organic substance may be used as disclosed in JP 2003-277743 A, JP 2003-277744 A, JP 2003-306454 A, and the like (see Patent Documents 7 to 10). .
- the hole injecting and transporting material a compound having an ability to inject and transport holes and an excellent thin film forming ability can be used for the organic material constituting the organic EL element 6.
- the electron injection transport material applicable to the organic EL element 6 uses a compound having an excellent electron injection effect for the organic light emitting layer, an ability to prevent the movement of holes to the electron transport layer, and an excellent thin film forming ability. May be.
- the anode and cathode can be formed using any material and method known in the art.
- One of the anode and the cathode is transparent in order to transmit light from the organic light emitting layer to the color conversion layer 4.
- the other electrode is desirably reflective in order to improve the light extraction efficiency. Whether the electrode in contact with the substrate 5 is an anode or a cathode can be set as appropriate.
- Example 1 a production example of the color conversion substrate 10 of the present invention and an organic EL display to which the color conversion substrate 10 is applied will be described.
- the organic EL display was formed with a pixel number of 160 ⁇ 120 ⁇ RGB and a pixel pitch of 0.33 mm.
- a red color filter material (Fuji Film Electronic Materials: Sakai Color Mosaic CR-7001) and a green color filter material (Fuji Film Electronic Materials: Sakai Color Mosaic CG-7001) were used.
- the produced color filter layers (2R and 2G) each had a line pattern with a line width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 2 ⁇ m.
- an MgF 2 film (refractive index: 1.37) having a film thickness of 5 ⁇ m was formed by sputtering.
- a UV curable resin epoxy-modified acrylate
- the UV curable resin film was irradiated with a high-pressure mercury lamp from the resin side using a photomask to form a line pattern having a thickness of 1 ⁇ m, a line width of 0.071 mm, and a pitch of 0.33 mm.
- the exposed MgF 2 film with 5 wt% sulfuric acid was etched. Thereafter, the UV curable resin on the substrate was removed with a resist stripping solution, and the bank 3 was produced.
- Red Conversion Layer 4R Ink was prepared by mixing DCJTB (0.2 wt%) and polymethyl methacrylate (PMMA) (manufactured by Kuraray) (3 wt%) in a tetralin solvent. The prepared ink was attached to the surface of the red color filter layer 2R in a nitrogen atmosphere using an inkjet method. Thereafter, the substrate was dried at 200 ° C. for 30 minutes to produce a red color conversion layer 4R having a thickness of 300 nm. The red conversion layer 4R had a refractive index of 1.5.
- Green Color Conversion Layer 4G An ink was prepared by dissolving a soluble tris (8-quinolinolate) aluminum-containing dendrimer AlClq3 (1.5 wt%) in a tetralin solvent. The prepared ink was attached to the surface of the green color filter layer 2G in a nitrogen atmosphere using an inkjet method. Then, this board
- an electron transport layer, an organic light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer were formed in this order on the cathode buffer layer without breaking the vacuum.
- the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa.
- Each layer was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / s.
- the electron transport layer has a thickness of 20 nm of tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq3), and the organic light-emitting layer has a thickness of 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi).
- a metal mask having a rectangular opening at a position corresponding to the display portion was applied. Further, the substrate was moved to a CVD apparatus without breaking the vacuum, and a 2 ⁇ m-thick SiN film was formed as the barrier layer 7 on the entire surface of the substrate, thereby producing an organic EL substrate 20.
- the bank 4 is formed of a forward taper shape (lower bottom portion) using a coating material TU2203 (trade name) (refractive index: 1.37) manufactured by JSR, which is a fluorine resin.
- the color conversion substrate 10 was produced in the same procedure except that the width was 10 ⁇ m and the upper bottom width was 4 ⁇ m.
- the coating material was applied on the color filter layer 2 by a spin coating method so as to have a film thickness of 5 ⁇ m.
- the coating material film was patterned by a photolithography method to form a bank 3 having a line pattern with a film thickness of 1 ⁇ m, a line width of 0.071 mm, and a pitch of 0.33 mm.
- the color conversion substrate 10 produced as described above and the organic EL substrate 20 produced in Example 1 were bonded together in a nitrogen atmosphere to produce an organic EL display.
- the CIExy chromaticity coordinates at that time were R (0.620; 0.330); G (0.302; 0.672); B (0.133; 0.136).
- the CIExy chromaticity coordinates at that time were R (0.620; 0.330); G (0.302; 0.672); B (0.133; 0.136), as in the example.
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Abstract
CCM方式フルカラー有機ELディスプレイにおいて、色変換層を囲むバンクの屈折率が色変換層より十分低いことを特徴とする有機ELディスプレイパネル用色変換基板を提供する。異種のカラーフィルタ層の境界の上に形成された複数のバンクの屈折率を色変換層の屈折率より低くすることにより、製造プロセスを追加することなく、従来のCCM方式フルカラー有機EL発光ディスプレイパネルに比べ、光取り出し効率を向上することができる。
Description
本発明は、色変換基板に関し、特により高い発光効率を実現できる色変換基板を提案するものである。
近年、マルチメディア指向の商品をはじめとして、機械の小型化に伴い、表示素子の小型化、および薄型化に対する要求も高まってきている。そのために、薄型ディスプレイパネルについての研究が盛んに行われている。
なかでも、有機EL素子は、低電圧で高い電流密度が実現できるために、高い発光輝度および発光効率を実現することが期待される。特に、高精細なマルチカラーまたはフルカラー表示が可能な有機多色ELディスプレイの実用化が期待されている。
有機EL素子を用いて多色発光を実現する方法の一つとして、特開平8-286033号公報では、色変換(CCM)法を提案している(特許文献1参照)。CCM法は、有機EL素子の発光を吸収し、吸収波長と異なる波長分布の発光を行う色変換層を有機EL素子の前面に配設して多色を表現する方法である。本方式は単色発光の有機EL素子を用いることができるため、ディスプレイの製造が容易であり、大画面ディスプレイへの展開も積極的に検討されている。
高精細度(例えば150ppi以上)のパターンを有する色変換層を形成するために、色変換層の構成材料を含むインクを調製し、インクジェット法で色変換層をパターン状に形成する方法が知られている。インクジェット法の利点は、インクの利用効率が高く、膜の作製コストを抑制できることである。
しかし、精密なパターン形成を行う際は、吐出されたインク液滴の着弾位置のずれ、あるいは着弾後の隣接画素へのはみ出しなどを抑制する必要があることが知られている。この問題点を解決するための手段として、例えば特開平9-203803号公報および特開2000-353594号公報には、基板側にバンクを形成する方法が提案されている(特許文献2および特許文献3参照)。
さらに、有機EL素子には、有機EL層からの発光の全てを外部に取り出すことができず、発光効率が低いという問題点がある。これは、有機EL層における発光が無指向性であることに加えて、有機EL素子の屈折率構造による低い光取り出し効率に起因している。従って、有機ELディスプレイパネルの高効率化を実現するために、有機EL素子の光取り出し効率の向上は重要かつ有効的な手段である。
特開2004-199952号公報は、発光層から出射された光を保護層により一度全反射し、それを多重反射により発光層の周囲に配置された角度変換部で角度変換して、外界に出力することにより、発光層からの光の取り出し効率を向上させる方法を提案している(特許文献4参照)。また、特開2003-31355号公報では、発光層を区画する隔壁内に反射膜を設け、発光層からの光の取り出し効率を向上させる方法を提案している(特許文献5参照)。
通常、色変換層に用いられる材料は蛍光色素であり、EL発光層と同様に得られる光が無指向性であることに加え、得られた光の全てを外部に取り出すことができず、光取り出し効率が低いという問題点がある。
一般的に、色変換層の内部で発生した光は、全方位に伝播する。その取出率ηは、古典光学の法則に基づいて、屈折率n2の媒体中から屈折率n1の媒体に出射される際の全反射の臨界角θcで決まる。屈折の法則からこの臨界角θcは次の式(1)で与えられる。
sinθc=n1/n2 (1)
sinθc=n1/n2 (1)
例えば、屈折率nの媒体から屈折率1.0の空気中へ光が伝播する場合を述べる。発生した光の伝播方向に偏りが存在しない場合、取出率ηは、屈折率nの媒体から空気中へ通過する光量と発生した全光量(媒体と空気の界面で反射される光量と空気中へ通過する光量の和)の比から次の式(2)で求められる。
η=1-(n2 -1)1/2 /n (2)
η=1-(n2 -1)1/2 /n (2)
なお、媒体の屈折率nが1.5より大きい場合には、次の近似式(3)を用いることができる。
η=1/(2n2 ) (3)
η=1/(2n2 ) (3)
したがって、色変換層、有機EL素子などの薄膜型発光体においては、主として基材の屈折率が取出率ηを律することになる。通常、基材として用いられるガラス、プラスチックフィルム等の屈折率nは一般に1.5~1.6程度である。よって、式(3)から、取出率ηは約0.2(約20%)となる。
これに対し、残りの約80%は基材と空気との間の界面の全反射によって色変換基板内に閉じ込められ、色変換基板の横方向(すなわち、発光取り出し面と平行方向)の多重導波光として失われている。
そこで、本発明は、色変換層において波長分布を変換された光(以下、「CCM発光」と称する場合がある)の取り出し効率の向上という課題に基づき、従来のCCM方式フルカラー有機ELディスプレイパネルの製造プロセスは変更せずに、より高い発光効率を実現できるCCM方式フルカラー有機ELディスプレイパネル用色変換基板を提案するものである。
本発明は、CCM方式フルカラー有機ELディスプレイにおいて、色変換層を囲むバンクの屈折率が色変換層より十分低いことを特徴とする有機ELディスプレイパネル用色変換基板を提供する。
詳細には、色変換基板を横方向に伝播するCCM発光は、色変換層より低屈折率の媒質に遭遇した場合、臨界角以上では、色変換層と低屈折率媒質層との界面で全反射が発生して、一部の光は伝播方向を変え、該基板の縦方向(発光取り出し面に向かう方向)へ伝播することになる。色変換層の屈折率と低屈折率媒質層との屈折率の差が大きくして、式(1)により見積もられる色変換層と低屈折率媒質層との間の臨界角θcを小さくすることにより、縦方向に伝播できる光が増加できる。このため、従来のCCM方式フルカラー有機EL発光ディスプレイパネルに比べ、光取り出し効率を向上することができる。
本発明によれば、異種のカラーフィルタ層の境界の上に形成された複数のバンクの屈折率を色変換層の屈折率より低くすることにより、製造プロセスを追加することなく、従来のCCM方式フルカラー有機EL発光ディスプレイパネルに比べ、光取り出し効率を向上することができる。
1 透明基板
2R カラーフィルタ(赤)
2G カラーフィルタ(緑)
2B カラーフィルタ(青)
3 バンク
4R 赤色変換層
4G 緑色変換層
5 基板
6 有機EL素子
7 バリア層
10 色変換基板
20 有機EL基板
2R カラーフィルタ(赤)
2G カラーフィルタ(緑)
2B カラーフィルタ(青)
3 バンク
4R 赤色変換層
4G 緑色変換層
5 基板
6 有機EL素子
7 バリア層
10 色変換基板
20 有機EL基板
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の単なる一例であって、当業者であれば、適宜設計変更可能である。
図1は本発明の色変換基板を用いたカラー有機ELディスプレイの例である。図1の有機ELディスプレイは、支持体たる透明基板1上に、3種のカラーフィルタ層2(R、B、G)、異種のカラーフィルタ層2の境界に設けられた複数のバンク3、ならびに隣接するバンクの間のカラーフィルタ層2の上に設けられた2種の色変換層4(R、G)を有する本発明の色変換基板10と、基板5上に設けられた有機EL素子6および有機EL素子6を覆うバリア層7を有する有機EL基板20とを含む。
(透明基板1)
本発明において用いる透明基板1は、優れた光透過性を有し、かつ、カラーフィルタ層2、バンク3、色変換層4、および有機ELディスプレイの形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐える材料を用いて形成される。さらに、透明基板1は寸法安定性に優れていることが好ましい。また、多色発光ディスプレイの性能低下を引き起こさないことが望ましい。透明基板1の材料の例は、ガラス、各種プラスチック、各種フィルム等を含む。
本発明において用いる透明基板1は、優れた光透過性を有し、かつ、カラーフィルタ層2、バンク3、色変換層4、および有機ELディスプレイの形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐える材料を用いて形成される。さらに、透明基板1は寸法安定性に優れていることが好ましい。また、多色発光ディスプレイの性能低下を引き起こさないことが望ましい。透明基板1の材料の例は、ガラス、各種プラスチック、各種フィルム等を含む。
(カラーフィルタ層2)
カラーフィルタ層2は、可視光の特定波長域を透過させ、透過光を所望の色相とし、および透過光の色純度を向上させるための層である。カラーフィルタ層2は、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられる材料を用いて形成することができる。近年はフォトレジストに顔料を分散させた顔料分散型材料がよく用いられる。図1に示したように3種のカラーフィルタ層2を用いる場合、400nm~550nmの波長を透過する青色カラーフィルタ層2B、500nm~600nmの波長を透過する緑色カラーフィルタ層2G、600nm以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層2Rを用いることが望ましい。
カラーフィルタ層2は、可視光の特定波長域を透過させ、透過光を所望の色相とし、および透過光の色純度を向上させるための層である。カラーフィルタ層2は、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられる材料を用いて形成することができる。近年はフォトレジストに顔料を分散させた顔料分散型材料がよく用いられる。図1に示したように3種のカラーフィルタ層2を用いる場合、400nm~550nmの波長を透過する青色カラーフィルタ層2B、500nm~600nmの波長を透過する緑色カラーフィルタ層2G、600nm以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層2Rを用いることが望ましい。
上述のカラーフィルタ層2のそれぞれは、スピンコート法などの塗布法を用いて透明基板1全面に形成した後にフォトリソグラフ法などを用いてパターニングを実施することによって形成してもよいし、あるいはスクリーン印刷法などを用いてパターン状に形成してもよい。
(バンク3)
バンク3は、後述するインクジェット法を用いて色変換層4を作製する際にインクが必要部位以外には広がることを防止するための層である。バンク3によって、色変換層形成用インクの漏れによる混色を防ぐことができる。また、本発明において、バンク3の屈折率(n1)は色変換層4の屈折率(n2)より低いことが必要である。バンク3の屈折率n1に対する色変換層4の屈折率n2の比(n2/n1)は、1~1.4、好ましくは1~1.3、より好ましくは1~1.2である。バンク3に用いることのできる具体的な材料は、LiF、MgF2、多孔質エアロゲル剤、フッ素系樹脂、屈折率が低い複合充填剤膜などを含む。一方、特開2003-288029号公報に記述されたアルミナエアロゲル、ポリイミド空孔体などもバンク3の材料として利用できる(特許文献6参照)。
バンク3は、後述するインクジェット法を用いて色変換層4を作製する際にインクが必要部位以外には広がることを防止するための層である。バンク3によって、色変換層形成用インクの漏れによる混色を防ぐことができる。また、本発明において、バンク3の屈折率(n1)は色変換層4の屈折率(n2)より低いことが必要である。バンク3の屈折率n1に対する色変換層4の屈折率n2の比(n2/n1)は、1~1.4、好ましくは1~1.3、より好ましくは1~1.2である。バンク3に用いることのできる具体的な材料は、LiF、MgF2、多孔質エアロゲル剤、フッ素系樹脂、屈折率が低い複合充填剤膜などを含む。一方、特開2003-288029号公報に記述されたアルミナエアロゲル、ポリイミド空孔体などもバンク3の材料として利用できる(特許文献6参照)。
バンク3は、スピンコート、ディップコート、ロールコート、グラビアコート、ディスペンサーなどのような湿式コーティング法でカラーフィルタ層2の表面に所定の薄膜を形成し、さらにレジスト塗布、プリベーク、露光、現像、ポストベーク、エッチング、レジスト除去などを含むフォトリソグラフィ法を利用し、パターンを作製してもよい。また、LiF、MgF2などのような固体物を用いてバンク3を形成する場合、真空蒸着、スパッタリングなどのドライプロセスで膜を形成した後、さらに上記のようなフォトリソグラフィ法、またはドライエッチングなどのドライプロセスで所定のパターンを形成してもよい。
バンク3の膜厚は、後述するインクジェットの塗布液を漏らさない深さが必要であるから色変換層5の膜厚よりも大きいことが望ましく、0.5~5μmの範囲が好ましい。また、バンク3のパターンは色変換層を形成するためのインクの混色を防ぐのに十分なものであればよく、1~20μm、好ましくは5~15μmの幅で形成することができる。
また、バンク3の形態は特に限定されないが、例えば、バンク3の図1に示す断面(透明基板1と垂直方向に切断)が、長方形、またはテーパを有するものであってもよい。テーパを有することが好ましい。
(色変換層4)
色変換層4は、光源(有機EL素子6)からの光を吸収し、異なる波長分布の蛍光を発する機能を有する層である。図1においては、赤色変換層4Rおよび緑色変換層4Gの2種の色変換層を形成する例を示した。必要に応じて、赤色変換層4Rのみを設けてもよい。あるいはまた、赤色変換層4Rおよび緑色変換層4Gに加えて、青色変換層4B(不図示)を設けてもよい。
色変換層4は、光源(有機EL素子6)からの光を吸収し、異なる波長分布の蛍光を発する機能を有する層である。図1においては、赤色変換層4Rおよび緑色変換層4Gの2種の色変換層を形成する例を示した。必要に応じて、赤色変換層4Rのみを設けてもよい。あるいはまた、赤色変換層4Rおよび緑色変換層4Gに加えて、青色変換層4B(不図示)を設けてもよい。
隣接する前記バンク3の間に位置するカラーフィルタ層2の上に、インクジェット法を用いて色変換色素を含むインクを付着させ、色変換層4を形成する。色変換層4を形成するためのインクは、少なくとも1種の色変換色素と、溶媒とを含む。色変換色素は、染料であっても、顔料であってもよい。
赤色変換層4Rを形成するための色変換色素として使用される、発光体の発する青色ないし青緑色領域の光を吸収して赤色領域の蛍光を発する蛍光色素は、例えばDCJTB;ローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレッド2等のローダミン系色素;4-ジシアノメチレン-2-メチル-6-(p-ジメチルアミノスチリル)-4H-ピラン(DCM)などのシアニン系色素;1-エチル-2-[4-(p-ジメチルアミノフェニル)-1,3-ブタジエニル]-ピリジウム-パークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素;あるいはオキサジン系色素などを含む。さらに各種の蛍光性染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も使用することができる。
また、緑色変換層4Gを形成するための色変換色素として使用される、発光体から発する青色ないし青緑色領域の光を吸収して緑色領域の蛍光を発する蛍光色素は、例えば3-(2’-ベンゾチアゾリル)-7-ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3-(2’-ベンゾイミダゾリル)-7-N,N-ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、3-(2’-N-メチルベンゾイミダゾリル)-7-N,N-ジエチルアミノクマリン(クマリン30)、2,3,5,6-1H,4H-テトラヒドロ-8-トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1-gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。また、Japanese Journal of Polymer Science and Technology, 63 (10), 675, (2006)に記載されている可溶性トリス(8-キノリノレート)アルミニウム含有デンドリマーAlClq3を用いても良い(非特許文献1参照)。さらに各種の蛍光性染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も使用することができる。
必要に応じて、色変換色素として、2種以上の色素の混合物を用いてもよい。色素混合物の使用は、青色光から赤色光への変換時などのように波長シフト幅が広い場合に有効な手段である。色素混合物は、前述の色素同士の混合物であってもよい。
本発明における色変換層形成のためのインク用溶媒は、上記の色変換色素を溶解することができる任意の溶媒を用いることができる。例えば、ベンゼン、トルエン、テトラリンのような非極性溶媒、クロロホルム、アルコール系、ケトン系などの極性溶媒を、インク用溶媒として用いることができる。インク用溶媒は、単一成分で構成されていてもよい。あるいはまた、粘度、蒸気圧、溶解性、流動性および/または濡れ性の調整を目的として、複数の溶媒を混合してインク用溶媒を調製してもよい。また、上記の色変換色素を熱硬化型樹脂組成物に分散させたものに溶媒を添加して、色変換層形成用インクを製造してもよい。
本実施形態において、少なくとも1種の色変換色素を、溶媒中に混合することによって、色変換層形成用インクを作製することができる。水分および酸素の影響を排除するため、不活性ガス(例えば、窒素ガス、またはアルゴンなどの希ガス)雰囲気下でインクを作製することが好ましい。インクを作製する前に、溶媒中の水分および酸素を除去するために、脱気処理、水分吸収剤による処理、酸素吸収剤による処理、蒸留などの当該技術において知られている任意の手段を用いて、溶媒を前処理してもよい。
作製したインクは、所望される解像度での塗布が可能であることを条件として、当該技術において知られている任意のインクジェット装置及び方法を用いて、隣接するバンク3の間に位置するカラーフィルタ層2上に付着される。インクジェット装置及び方法は、サーマルインクジェット方式であっても、ピエゾインクジェット方式であってもよい。
インクジェット方法を用いて付着されたインクの乾燥は、前述不活性ガス中もしくは真空中で溶媒が蒸発する温度に加熱することによって、実施することができる。また、インクが熱硬化型樹脂組成物を含む場合、熱硬化型樹脂組成物が硬化する温度で加熱することによって、インクの乾燥を実施することができる。この際に、インク中の色変換色素の劣化または熱分解が発生しないように加熱温度を設定することが望ましい。
本発明のインクにより作製した色変換層は、2000nm(2μm)以下、好ましくは100~2000nm、より好ましくは100~1000nmの膜厚を有する。形成された色変換層4は、バンク3に比して高い屈折率を有する。本発明の色変換層4は、例えば、1.7~2.1の屈折率を有する。
(有機EL素子6)
本発明において、有機EL素子6は、少なくとも1種の500nmより短波長の青色光を発光する成分を有する有機発光層を含む。また、有機EL素子7は、必要に応じて正孔注入輸送性層および/または電子注入輸送性層を介在させた構造(例えば、以下(1)~(4)等)を有する。
(1)陽極/有機発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入輸送性層/有機発光層/陰極
(3)陽極/有機発光層/電子注入輸送性層/陰極
(4)陽極/正孔注入輸送性層/有機発光層/電子注入輸送性層/陰極
本発明において、有機EL素子6は、少なくとも1種の500nmより短波長の青色光を発光する成分を有する有機発光層を含む。また、有機EL素子7は、必要に応じて正孔注入輸送性層および/または電子注入輸送性層を介在させた構造(例えば、以下(1)~(4)等)を有する。
(1)陽極/有機発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入輸送性層/有機発光層/陰極
(3)陽極/有機発光層/電子注入輸送性層/陰極
(4)陽極/正孔注入輸送性層/有機発光層/電子注入輸送性層/陰極
有機EL素子6に応用できる青色EL発光材料は、特開平7-142169号公報に示されるオキサザール金属錯体、同公報に示されるジスチリルベンゼン誘導体、同公報に示されるスチリルアミン含有ポリカーボネート、同公報に示されるオキサジアゾール誘導体、同公報に示されるオキサジアゾール誘導体、同公報に示されるアゾメチン亜鉛錯体、同公報の式及びアルミニウム錯体を用いることができ、必要に応じて、青色蛍光色素をドープすることも可能である。また、特開2003-277743号公報、特開2003-277744号公報、特開2003-306454号公報などに示されているように発光性有機物質を用いてもよい(特許文献7~10参照)。
有機EL素子6を構成する有機材料には、正孔注入輸送性材料として、正孔を注入および輸送する能力、かつ優れた薄膜形成能力を有する化合物を用いることができる。
また、有機EL素子6に適用できる電子注入輸送材料は、有機発光層に対する優れた電子注入効果、正孔の電子輸送層への移動を防止する能力、かつ優れた薄膜形成能力を有する化合物を用いてもよい。
陽極および陰極は、当該技術において知られている任意の材料および方法を用いて形成することができる。陽極または陰極のいずれか一方は、有機発光層からの光を色変換層4へ透過させるために透明である。他方の電極は、光取り出し効率を向上させるために、反射性であることが望ましい。基板5に接触する電極を陽極または陰極のいずれとするかは、適宜設定することができる。
以下、本発明および効果について具体的な例を用いて説明するが、実施例は本発明の適用範囲を限定するものではない。
(実施例1)
以下、本発明の色変換基板10およびこれを適用した有機ELディスプレイの作製例を説明する。当該有機ELディスプレイは画素数160×120×RGB、画素ピッチ0.33mmで形成した。
以下、本発明の色変換基板10およびこれを適用した有機ELディスプレイの作製例を説明する。当該有機ELディスプレイは画素数160×120×RGB、画素ピッチ0.33mmで形成した。
(色変換基板10の作製)
1.カラーフィルタ2の作製
透明基板1(コーニング1737ガラス:50×50×1.1mm)上に、青色カラーフィルタ材料(富士フィルムエレクトロニックマテリアルズ製: カラーモザイクCB-7001)をスピンコート法を用いて塗布した。形成された膜にフォトリソグラフィ法によりパターニングを実施し、線幅0.1mm、ピッチ0.33mm、膜厚7μmのラインパターンを有する青色カラーフィルタ層2Bを作製した。
1.カラーフィルタ2の作製
透明基板1(コーニング1737ガラス:50×50×1.1mm)上に、青色カラーフィルタ材料(富士フィルムエレクトロニックマテリアルズ製: カラーモザイクCB-7001)をスピンコート法を用いて塗布した。形成された膜にフォトリソグラフィ法によりパターニングを実施し、線幅0.1mm、ピッチ0.33mm、膜厚7μmのラインパターンを有する青色カラーフィルタ層2Bを作製した。
次に、赤色カラーフィルタ材料(富士フィルムエレクトロニックマテリアルズ製: カラーモザイクCR-7001)および緑色カラーフィルタ材料(富士フィルムエレクトロニックマテリアルズ製: カラーモザイクCG-7001)を用いたことを除いて、青色カラーフィルタ層2Bと同様の手順を用いて、赤色カラーフィルタ層2Rおよび緑色カラーフィルタ層2Gを作製した。作製したカラーフィルタ層(2Rおよび2G)は、それぞれ線幅0.1mm、ピッチ0.33mm、膜厚2μmのラインパターンを有した。
2.バンク3の作製
カラーフィルタ層2の上に、スパッタ法を用いて膜厚5μmのMgF2膜(屈折率1.37)を形成した。次いで、スピンコート法により、UV硬化型樹脂(エポキシ変性アクリレート)を上記MgF2膜表面に塗布した。続いて、当該UV硬化型樹脂膜にフォトマスクを用いて樹脂側から高圧水銀灯を照射し、厚さ1μm、線幅0.071mm、ピッチ0.33mmのラインパターンを形成した。次いで、5重量%硫酸で露出したMgF2膜をエッチングした。その後、レジスト剥離液によって基板上のUV硬化型樹脂を除去し、バンク3を作製した。
カラーフィルタ層2の上に、スパッタ法を用いて膜厚5μmのMgF2膜(屈折率1.37)を形成した。次いで、スピンコート法により、UV硬化型樹脂(エポキシ変性アクリレート)を上記MgF2膜表面に塗布した。続いて、当該UV硬化型樹脂膜にフォトマスクを用いて樹脂側から高圧水銀灯を照射し、厚さ1μm、線幅0.071mm、ピッチ0.33mmのラインパターンを形成した。次いで、5重量%硫酸で露出したMgF2膜をエッチングした。その後、レジスト剥離液によって基板上のUV硬化型樹脂を除去し、バンク3を作製した。
3.赤色変換層4Rの作製
テトラリン溶媒中にDCJTB(0.2重量%)とポリメタクリル酸メチル(PMMA)(クラレ製)(3重量%)を混合して、インクを調製した。調製したインクを、インクジェット法を用いて、窒素雰囲気中で、赤色カラーフィルタ層2Rの表面へ付着させた。その後、該基板を200℃で30分間、乾燥させ、膜厚300nmの赤色変換層4Rを作製した。該赤色変換層4Rの屈折率は1.5であった。
テトラリン溶媒中にDCJTB(0.2重量%)とポリメタクリル酸メチル(PMMA)(クラレ製)(3重量%)を混合して、インクを調製した。調製したインクを、インクジェット法を用いて、窒素雰囲気中で、赤色カラーフィルタ層2Rの表面へ付着させた。その後、該基板を200℃で30分間、乾燥させ、膜厚300nmの赤色変換層4Rを作製した。該赤色変換層4Rの屈折率は1.5であった。
4.緑色色変換層4Gの作製
テトラリン溶媒中へ可溶性トリス(8-キノリノレート)アルミニウム含有デンドリマーAlClq3(1.5重量%)を溶解させてインクを調製した。調製したインクを、インクジェット法を用いて、窒素雰囲気中で、緑色カラーフィルタ層2Gの表面へ付着した。その後、該基板を200℃で30分間、乾燥させ、膜厚300nmの緑色変換層4Gを作製した。該緑色変換層4Gの屈折率は1.7であった。
テトラリン溶媒中へ可溶性トリス(8-キノリノレート)アルミニウム含有デンドリマーAlClq3(1.5重量%)を溶解させてインクを調製した。調製したインクを、インクジェット法を用いて、窒素雰囲気中で、緑色カラーフィルタ層2Gの表面へ付着した。その後、該基板を200℃で30分間、乾燥させ、膜厚300nmの緑色変換層4Gを作製した。該緑色変換層4Gの屈折率は1.7であった。
(有機EL基板20の作製)
上記により作製された色変換基板10上にパターニングされた画素形状に対応して、有機EL基板上にTFTを配列した。続いて、該有機EL基板にスパッタ法を用いてAg膜を100nmの厚さで形成した。次いで、前記Ag膜に、フォトリソグラフ法を用いて、反射性の陰極をパターン状に形成した。次に、同基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、陰極上に厚さ1.5nmのLiを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。さらに該陰極バッファ層上に、電子輸送層、有機発光層、正孔輸送層、正孔注入層の順で真空を破らずに成膜した。成膜の際には、真空槽内圧を1×10-4Paまで減圧した。それぞれの層は0.1nm/sの蒸着速度で堆積された。電子輸送層には膜厚20nmのトリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)、有機発光層には膜厚30nmの4,4’-ビス(2,2’-ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)、正孔輸送層には膜厚10nmの4,4’-ビス[N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ]ビフェニル(α-NPD)、および正孔注入層には膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)をそれぞれ用いた。さらに、この上にMgAgを5nmの厚さで蒸着し、陽極をスパッタ成膜する際のダメージ緩和層とした。これを対向スパッタ装置に真空を破らずに移動させ、透明性の陽極としてインジウム亜鉛酸化物(IZO(登録商標))を100nmの厚さで成膜した。これらの蒸着やスパッタ成膜の際は、表示部に対応する位置に矩形の開口部を有するメタルマスクを適用した。さらに真空を破らずに基板をCVD装置に移動させ、バリア層7として膜厚2μmのSiN膜を基板全面に形成し、有機EL基板20を作製した。
上記により作製された色変換基板10上にパターニングされた画素形状に対応して、有機EL基板上にTFTを配列した。続いて、該有機EL基板にスパッタ法を用いてAg膜を100nmの厚さで形成した。次いで、前記Ag膜に、フォトリソグラフ法を用いて、反射性の陰極をパターン状に形成した。次に、同基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、陰極上に厚さ1.5nmのLiを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。さらに該陰極バッファ層上に、電子輸送層、有機発光層、正孔輸送層、正孔注入層の順で真空を破らずに成膜した。成膜の際には、真空槽内圧を1×10-4Paまで減圧した。それぞれの層は0.1nm/sの蒸着速度で堆積された。電子輸送層には膜厚20nmのトリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)、有機発光層には膜厚30nmの4,4’-ビス(2,2’-ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)、正孔輸送層には膜厚10nmの4,4’-ビス[N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ]ビフェニル(α-NPD)、および正孔注入層には膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)をそれぞれ用いた。さらに、この上にMgAgを5nmの厚さで蒸着し、陽極をスパッタ成膜する際のダメージ緩和層とした。これを対向スパッタ装置に真空を破らずに移動させ、透明性の陽極としてインジウム亜鉛酸化物(IZO(登録商標))を100nmの厚さで成膜した。これらの蒸着やスパッタ成膜の際は、表示部に対応する位置に矩形の開口部を有するメタルマスクを適用した。さらに真空を破らずに基板をCVD装置に移動させ、バリア層7として膜厚2μmのSiN膜を基板全面に形成し、有機EL基板20を作製した。
(有機ELディスプレイの作製)
上記のとおり作製した色変換基板10および有機EL基板20を窒素雰囲気で貼り合わせ、有機ELディスプレイを作製した。該有機ELディスプレイを各色に対して同じ電流密度で駆動したところ、RGBの発光輝度比はR:G:B=0.6:1.1:1.0であった。また、その際のCIExy色度座標はR(0.620;0.330);G(0.302;0.672);B(0.133;0.136)であった。
上記のとおり作製した色変換基板10および有機EL基板20を窒素雰囲気で貼り合わせ、有機ELディスプレイを作製した。該有機ELディスプレイを各色に対して同じ電流密度で駆動したところ、RGBの発光輝度比はR:G:B=0.6:1.1:1.0であった。また、その際のCIExy色度座標はR(0.620;0.330);G(0.302;0.672);B(0.133;0.136)であった。
(実施例2)
上記実施例1に記載の色変換基板10の製造方法において、バンク4をフッ素系樹脂であるJSR社製コート材料TU2203(商品名)(屈折率1.37)を用いて順テーパ形状(下底部幅10μm、上底部幅4μm)に形成する以外は同様の手順で、色変換基板10を作製した。具体的には、カラーフィルタ層2の上に、該コート材料をスピンコート法により、膜厚が5μmとなるように塗布した。次いで、該コート材料膜に対しフォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、膜厚1μm、線幅0.071mm、ピッチ0.33mmのラインパターンを有するバンク3を形成した。
上記実施例1に記載の色変換基板10の製造方法において、バンク4をフッ素系樹脂であるJSR社製コート材料TU2203(商品名)(屈折率1.37)を用いて順テーパ形状(下底部幅10μm、上底部幅4μm)に形成する以外は同様の手順で、色変換基板10を作製した。具体的には、カラーフィルタ層2の上に、該コート材料をスピンコート法により、膜厚が5μmとなるように塗布した。次いで、該コート材料膜に対しフォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、膜厚1μm、線幅0.071mm、ピッチ0.33mmのラインパターンを有するバンク3を形成した。
上記のとおり作製した色変換基板10と実施例1で作製した有機EL基板20とを窒素雰囲気で貼り合わせ、有機ELディスプレイを作製した。該有機ELディスプレイを各色に対して同じ電流密度で駆動したところ、RGBの発光輝度比はR:G:B=0.6:1.1:1.0であった。その際のCIExy色度座標はR(0.620;0.330);G(0.302;0.672);B(0.133;0.136)であった。
(比較例)
上記実施例1に記載の色変換基板10の製造方法において、バンク3をJSR社製エポキシ変性アクリレートJEM-700-R2(商品名)(屈折率1.52)を用いて形成する以外は同様の手順で、色変換基板10を作製した。さらに、作製した色変換基板10を用いて、実施例1と同様に有機ELディスプレイを作製した。
上記実施例1に記載の色変換基板10の製造方法において、バンク3をJSR社製エポキシ変性アクリレートJEM-700-R2(商品名)(屈折率1.52)を用いて形成する以外は同様の手順で、色変換基板10を作製した。さらに、作製した色変換基板10を用いて、実施例1と同様に有機ELディスプレイを作製した。
比較例で作製した有機ELディスプレイを各色について同じ電流密度で駆動したところ、RGBの発光輝度比はR:G:B=0.45:0.9:1.0であった。その際のCIExy色度座標は実施例と同様、R(0.620;0.330);G(0.302;0.672);B(0.133;0.136)であった。
Claims (5)
- 透明基板と、
少なくとも2種のカラーフィルタ層と、
異種のカラーフィルタ層の境界の上に形成された複数のバンクと、
隣接する前記バンクの間に位置する色変換層と
を有し、
前記バンクは色変換層の屈折率より低い屈折率を有することを特徴とする色変換基板。 - 前記バンクがLiF、MgF2、フッ素系樹脂、エアロゲル、複合充填剤膜、ポリイミド空孔体から構成されることを特徴とする請求項1に記載の色変換基板。
- 前記バンクの屈折率に対する前記色変換層の屈折率の比は、1~1.4であることを特徴とする請求項1に記載の色変換基板。
- 隣接する前記バンクの間に、インクジェット法を用いて色変換層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色変換基板。
- 請求項1に記載の色変換基板と、一対の電極および該一対の電極に挟持される有機EL層を含む有機EL素子とを貼り合わせて形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイ。
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