JP2008165108A - リブ機能を併せ持つカラーフィルタ基板、リブ機能を併せ持つ色変換フィルタ基板、および、これらを用いたカラー有機ｅｌ素子、並びに、これらの製造方法 - Google Patents

リブ機能を併せ持つカラーフィルタ基板、リブ機能を併せ持つ色変換フィルタ基板、および、これらを用いたカラー有機ｅｌ素子、並びに、これらの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】リブを形成する際の工程数を増加させることなく、機械的強度に優れたリブを有し、リブが充填剤の充填に悪影響を与えない色変換基板を提供すること。
【解決手段】本発明は、カラーフィルタ基板および色変換フィルタ基板に関する。カラーフィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部が第１および第２の方向のブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在している。色変換フィルタ基板は、色変換層をさらに含み、カラーフィルタ層に代えて色変換層の端部の一部が重なるように延在している。
【選択図】図１

Description

本発明は、リブ機能を併せ持つカラーフィルタ基板、リブ機能を併せ持つ色変換フィルタ基板、および、これらを用いたカラー有機ＥＬ素子、並びに、これらの製造方法に関する。特に、本発明のカラーフィルタ基板および色変換フィルタ基板は、カラーフィルタ層または色変換層の端部の一部を積層し、その積層部分にリブ機能を持たせたものである。
近年、有機エレクトロルミネッセンス（以下有機ＥＬとも称する）素子は実用化に向けての研究が活発に行われている。有機ＥＬ素子は低電圧で高い電流密度が実現できるために高い発光輝度および発光効率を実現することが期待され、特に高精細なマルチカラーまたはフルカラー表示が可能な有機多色ＥＬディスプレイの実用化が期待されている。
有機ＥＬディスプレイをマルチカラーまたはフルカラー化する方法として、近年では、カラーフィルタ層を含むカラーフィルタ基板を用いるものや、色変換層を含む色変換フィルタ基板を用いるものが開示されている（以下、本明細書では、カラーフィルタ基板および色変換フィルタ基板を併せて、色変換基板とも称する）。これらの基板を用いてカラー化するもののうち、これらの基板を発光源としての有機ＥＬ素子に貼り合わせた、いわゆる貼り合わせ方式のトップエミッション型カラー有機ＥＬ素子がある。
この貼り合わせ方式では、色変換基板と有機ＥＬ素子との間のギャップの調節や、これらの接触による有機ＥＬ素子の破壊を防止する等の観点から、画素の間のサブピクセル間にリブを形成することが行われている。リブは、ディスプレイ駆動時の熱応力および外部から印加される力を発散させるために設けられる。特に、リブとして、圧縮弾性率が０．５〜５０ｋｇ／ｍｍ２（４．９〜４９０ＭＰａ）程度の弾性材料を用いることが好ましい。なぜなら基板間に発生する応力を、リブが弾性変形することにより緩和することができるからである。
例えば、特開平１１−２９７４７７号公報（特許文献１）には、製造が容易で、有機ＥＬ構造体の破壊がなく、信頼性が高く、低コストのアクティブマトリクス駆動タイプの有機ＥＬカラーディスプレイが開示されている。この発明の有機ＥＬカラーディスプレイでは、基板上に、電子注入電極と、１種以上の有機層と、透明ホール注入電極とが順次積層された有機ＥＬ構造体が存在し、この有機ＥＬ構造体が積層されていない部分にリブを有している。このリブに支えられて、透明基板が有機ＥＬ構造体を封止している。この透明基板は、有機ＥＬ構造体と対向する面に蛍光性物質を含む蛍光変換層および／またはカラーフィルタ層を有している。この文献に記載のリブは、有機ＥＬ構造体が存在する基板上に形成されるため、リブを形成する際に有機ＥＬ構造体などにダメージを与える可能性がある。また、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ構造体を貼り合わせる際のアライメントの精度が低下する可能性もある。
また、特開２００３−２５７６５８号公報（特許文献２）には、色変換基板側にリブを形成した例が開示されている。この公報には、ブラックマトリックス上にリブを形成した色変換基板と、この色変換基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせた有機ＥＬディスプレイが開示されている。この有機ＥＬディスプレイでは、ＣＣＭ方式の有機ＥＬディスプレイの色変換蛍光体層等と有機ＥＬ素子やＴＦＴとの間で、前記リブにより空隙を設ける際の有機ＥＬ素子やＴＦＴへの悪影響を排除し、色変換蛍光体層等を適用可能とするものである。この文献に従えば、有機ＥＬ素子のダメージは回避可能であるが、ブラックマトリックス上に別途リブを形成しなければならず、工程数の増加に繋がる。また、ブラックマトリックス自体を厚膜化してリブとすることも可能であるが、この場合でも、ブラックマトリックスの厚膜化を行わなければならず、困難が伴う。
また、特開２００５−２９４０５７号公報（特許文献３）には、カラーフィルタ層を形成する際に、ブラックマトリックス上に各色のカラーフィルタ層を残して積層してリブとしたカラーフィルタ基板が開示されている。この文献に従えば、リブの形成のための工程が増加することはないが、リブの形成時にそれぞれのカラーフィルタ層のアライメントを行わなければならず、アライメントの精度が要求される。また、リブが複数の材料の単なる積層体であるため、強度が低下する可能性もある。
特開平１１−２９７４７７号公報 特開２００３−２５７６５８号公報 特開２０００−１２２３６号公報 Ｊ． Ｋｉｄｏ， Ｋ． Ｈｏｎｇａｗａ， Ｋ． Ｏｋｕｙａｍａ ａｎｄ Ｋ． Ｎａｇａｉ， Ａｐｐｌ． Ｐｙｓｓ． Ｌｅｔｔ．， ６４ （１９９４） ８１．
したがって、リブを形成する際の工程数を増加させることなく、色変換基板の形成時のアライメントが容易であり、且つ機械的強度に優れたリブを有する色変換基板を提供する必要性がある。さらに、貼り合わせ方式のトップエミッション型カラー有機ＥＬ素子では、色変換基板と有機ＥＬ素子との間に充填剤を充填する場合がある。このような場合であっても、リブが充填剤の充填に悪影響を与えないことも必要となる。
本発明の色変換基板は、カラーフィルタ層または色変換層の端部の一部を積層し、その積層部分にリブ機能を持たせることを特徴とする。さらに本発明は、この色変換基板を用いたカラー有機ＥＬ素子に関する。さらに本発明は、色変換基板およびカラー有機ＥＬ素子の製造方法に関する。具体的には、以下の各発明を包含する。
本発明のカラーフィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在していることを特徴とする。
本発明の色変換フィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数の色変換層を少なくとも含み、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在していることを特徴とする。
本発明の第１の実施形態に係るカラー有機ＥＬ素子は、（１）下記の（ａ）〜（ｃ）を少なくとも含むカラーフィルタ基板と、（ａ）透明基板、（ｂ）該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックス、（ｃ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層であって、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているもの、（２）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を含み、前記の、ブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているカラーフィルタ層の端部が、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間でリブとして機能することを特徴とする。
本発明の第２の実施形態に係るカラー有機ＥＬ素子は、（１）下記の（ａ）〜（ｄ）を少なくとも含む色変換フィルタ基板と、（ａ）透明基板、（ｂ）該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックス、（ｃ）該透明基板上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層、（ｄ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数の色変換層であって、色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているもの、（２）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を含み、前記の、ブラックマトリックスの格子点または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在している色変換層の端部が、色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子の間でリブとして機能することを特徴とする。
本発明のカラー有機ＥＬ素子において、カラーフィルタ層または色変換層の端部は、ブラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在していることが好ましい。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする。
本発明の色変換フィルタ基板の製造方法は、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、（ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成する工程を少なくとも含み、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする。
本発明のから有機ＥＬ素子の製造方法は、以下の第１の実施形態および第２の実施形態を含む。
第１の実施形態では、（ア）カラーフィルタ基板を製造する工程であって、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成すると共に、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含むカラーフィルタ基板を製造する工程と、（イ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、（ウ）前記工程（ア）および（イ）で製造したカラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、ブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているカラーフィルタ層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とする。
第２の実施形態では、（Ｉ）色変換フィルタ基板を製造する工程であって、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、（ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成すると共に、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含む色変換フィルタ基板を製造する工程と、（ＩＩ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、（ＩＩＩ）前記工程（Ｉ）および（ＩＩ）で製造した色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、ブラックマトリックスの格子点または該格子点領域以外の領域で重なるように延在している色変換層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とする。
本発明の製造方法では、前記工程（ア）の（ｉｉ）または前記工程（Ｉ）の（ｉｉｉ）において、カラーフィルタ層または色変換層は、その端部の一部がラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在して形成されることが好ましい。
本発明によれば、色変換基板の製造の際の工程数を増加することなく、色変換基板の形成時のアライメントが容易であり、且つ機械的強度に優れたリブを有する色変換基板を提供することができる。さらに、本発明のカラー有機ＥＬ素子は、充填剤の充填が容易である。
本発明は、カラーフィルタ基板に関する。このカラーフィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在している。
図１は上記カラーフィルタ基板の第１の実施形態を示す部分概略図である。図１（Ａ）は、上面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のａ−ａ断面図であり、図１（Ｃ）は、図１（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。図１（Ｄ）は、カラーフィルタ基板が重なった部分を部分的に拡大した図である。
図１に示すように、本発明のカラーフィルタ基板（１００）には、基板（１０２）上にブラックマトリックス（１０４）と、赤、緑および青の各色のカラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）が設けられている。ブラックマトリックスは、第１の方向および第２の方向に互いに直交して、格子状に設けられる。透明基板上のブラックマトリックスが設けられない開口部分（１１２）は、複数のサブピクセルに相当する部分である。本発明では、上記第１の方向に沿って、各色のカラーフィルタ層を形成することが好ましい。図１（Ａ）では、紙面の上下方向（図１において座標で示されているＸ方向）を第１の方向としている。また、図１（Ａ）の紙面の左右方向（図１において座標で示されているＹ方向）を第２の方向としている。
第１の実施形態では、図１（Ａ）および（Ｂ）に示したように、各カラーフィルタ層は、カラーフィルタ層の両端部に突出した部分、すなわち図１に示した座標のＹ方向に延在した部分（１１４、１１６、１１８）を有する。この突出した部分は、隣り合うカラーフィルタ層同士が、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分で重なるように（すなわち柱状部を形成するように）、サブピクセルに相当する開口部（１１２）からブラックマトリックス上に延在している。
具体的には、図１（Ｂ）に示されるように、赤色カラーフィルタ層（１０６）の縁部（１１４）は、ブラックマトリックス（１０４）上で、一方の縁部が緑色カラーフィルタ層（１０８）の突出した縁部（１１６）で覆われ、他の一方の縁部が、青色カラーフィルタ層（１１０）の突出した縁部（１１８）で覆われており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−赤色フィルタ層−青色フィルタ層の順で重なり合った部分（１２０）、並びに、ブラックマトリックス−赤色フィルタ層−緑色フィルタ層の順で重なり合った（１２０’）が存在する。
また、緑色カラーフィルタ層（１０８）は、その一方の縁部が赤色カラーフィルタ層（１０６）の突出した縁部（１１４）を覆い、他の一方の縁部が青色カラーフィルタ層（１１０）により覆われており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−赤色フィルタ層−緑色フィルタ層の順で重なり合った部分（１２０’）、並びに、ブラックマトリックス−緑色フィルタ層−青色フィルタ層の順で重なり合った（１２０”）が存在する。
さらに、青色カラーフィルタ層（１１０）は、その一方の縁部が緑色カラーフィルタ層（１０８）の突出した縁部（１１６）を覆い、他の一方の縁部が赤色カラーフィルタ層（１０６）を覆っており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−赤色フィルタ層−青色フィルタ層の順で重なり合った部分（１２０）、並びに、ブラックマトリックス−緑色フィルタ層−青色フィルタ層の順で重なり合った（１２０”）が存在する。
なお、上述の重なり合いの順序は、各カラーフィルタ層を、赤色カラーフィルタ層、緑色カラーフィルタ層、青色カラーフィルタ層の順で形成した場合の例である。したがって、各色のカラーフィルタ層の形成順序を変えると、上記の重なり合いの順序は変化する。すなわち、三色のカラーフィルタ層のうち、最初に形成されるカラーフィルタ層の突出した縁部がブラックマトリックス上に形成され、次いで２番目に形成されるカラーフィルタ層の突出した縁部の一方が最初に形成されたカラーフィルタ層の縁部の上まで重なり、２番目に形成されるカラーフィルタ層の突出した縁部の他の一方は、ブラックマトリックス上に形成される。そして、３番目に形成されるカラーフィルタ層の突出した縁部は、最初および２番目に形成されたカラーフィルタ層の突出した縁部の上まで重なることになる。但し、最終的に形成される柱状部の構造は、各色のカラーフィルタ層をいずれの順序で形成した場合であっても同じである。
また、第１の実施形態では、図１（Ａ）および（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層は、ブラックマトリックスの格子点の領域（図２（Ｂ）の「ａ」で示した領域）において、上述のような突出した縁部を有しておらず、上述のような重なり部分（柱状部）は存在しない。
具体的には、図１（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）は重なり合うことなくブラックマトリックス（１０４）上に形成されている。なお、図１（Ｃ）では、各カラーフィルタ層は、隣接するように図示してあるが、ブラックマトリックスの格子点領域においては、カラーフィルタ層は、必ずしも隣接している必要はない。
このように、本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板では、隣り合ったカラーフィルタ層の縁部の一部が突出して、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分でこの縁部が重なった構造を有している。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ａ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点以外の部分（図２（Ａ）の「ａ」で示された領域）に、リブ（または支柱とも称する）に相当する柱状部が形成される。
なお、カラーフィルタ層の突出した縁部の形状は、隣接したカラーフィルタ層が重なり合う限り、特に限定されない、例えば、三角形、矩形、台形状等、いずれの形状であってもよい。
この柱状部は、ブラックマトリックス（１０４）上において形成されるが、柱状部の最も厚い領域（最も高さのある領域）（図１（Ｄ）のＭ部分）の高さは、リブとして機能する高さであればよい。本発明では、例えば、カラーフィルタ層の２層分を併せた厚さでる。リブの好ましい高さは、２μｍ〜５μｍ、好ましくは３μｍ程度である。また、柱状部は、パターンニングのし易さから、図１（Ｄ）に示すように、ブラックマトリックスの幅の中央領域でブラックマトリックスおよび２種類のカラーフィルタ層が重なり合っていることが好ましい。本発明では、図１（Ｄ）に示すような、ブラックマトリックスと一色のカラーフィルタ層が重なっている部分（Ｌ部分およびＮ部分）と、ブラックマトリックス上に２種類のカラーフィルタ層が重なっている部分（Ｍ部分）の幅、ｒ、ｒ’およびｒ”とする。例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、ｒ’は０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍである。しかし、カラーフィルタ基板を有機ＥＬ素子と貼り合わせる際に、柱状部の機械的強度が十分である限り、幅ｒ’は、幅ｒまたは幅ｒ”よりも狭くてもよく、逆に、幅ｒまたは幅ｒ”よりも広くてもかまわない。
本発明では、上述のような柱状部の構造とすることで、後述するような有機ＥＬ素子と貼り合わせて充填剤を充填する際に、柱状部の形成されていない部分から充填剤が広がり、充填剤の充填が容易となる。
また、本発明では、柱状部はカラーフィルタ層の端部の一部を突出させているので、十分な機械的強度が保持できる。
次に、本発明のカラーフィルタ基板の第２の実施形態について、図３を参照して説明する。図３（Ａ）は、上面図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のａ−ａ断面図であり、図３（Ｃ）は、図３（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。
図３（Ａ）から（Ｃ）に示したように、第２の実施形態では、各カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）は、図３（Ａ）に示したように、ブラックマトリックス（１０４）の第１の方向に沿って形成される。また、各カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）は、図３（Ｂ）に示したように、ブラックマトリックスの第２の方向（図３に示した座標のＹ軸方向（図１のＹ軸方向と同じ））であって、ブラックマトリックスの格子点の領域に、突出した縁部（１１４、１１６、１１８）を有する。したがって、カラーフィルタ層により形成される柱状部（１２０、１２０’、１２０”）は、ブラックマトリックス（１０４）の格子点の領域（図２（Ｂ）の「ａ」で示された領域）に存在する。なお、図３（Ｂ）における各カラーフィルタ層の突出した縁部による重なりの様式、および柱状部の厚み、突出した縁部の形状などは、第１の実施形態で説明した通りである。なお、第２の実施形態においては、柱状部の重なり部分の幅は、例えば、第１の実施形態で説明したとおり、例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、０．０１ｍｍとした。しかし、カラーフィルタ基板を有機ＥＬ素子と貼り合わせる際に、柱状部の機械的強度が十分である限り、重なりの幅は、これよりも狭くてもよく、逆に、これよりも広くてもかまわない。
また、第２の実施形態では、図３（Ａ）および（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層は、ブラックマトリックスの格子点以外の領域（図２（Ａ）の「ａ」で示した領域）において、上述のような突出した縁部を有しておらず、上述のような重なり部分（柱状部）は存在しない。
具体的には、図３（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）は、サブピクセル間のブラックマトリックス（１０４）の形成されている領域上で重なり合うことなく形成されている。なお、図３（Ｃ）では、各カラーフィルタ層は、隣接するように図示してあるが、ブラックマトリックスの形成されている領域に一部重なるようにして、形成されていればよく、ブラックマトリックス上で接触している必要はない。例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、各色のカラーフィルタ層は、０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍ程度ブラックマトリックス上に一部重なって形成されていることが好ましい。しかし、重なりの幅は、ブラックマトリックスと一部重なっている限り、これよりも狭くてもよく、逆に、これよりも広くてもかまわない。
なお、本発明のカラーフィルタ基板は、上記構成に加え、カラーフィルタ層上にガスバリア層を設けてもよい。ガスバリア層は、外部環境からの酸素、低分子成分および水分の透過を防止することができるものである。ガスバリア層は、任意選択の層であるが、後述するように、本発明のカラーフィルタ基板を有機ＥＬ素子と組み合わせて、カラー有機ＥＬ素子を形成する場合、有機ＥＬ層の機能低下を防止することに有効である。したがって、この目的のために、ガスバリア層を設けることが好ましい。
本発明のカラーフィルタ基板は、カラー表示素子の構成要素として用いることができるが、この場合、表示素子の発光部には白色光を発するものを選択すればよい。
以下に、カラーフィルタ基板の各構成要素について説明する。
Ｉ）透明基板（１０２）
透明基板（１０２）の材料として好ましいものは、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
ＩＩ）ブラックマトリックス（１０４）
各色に対応するカラーフィルタ層の間の領域には、ブラックマトリックス（１０４）を形成する。ブラックマトリックスを設けることによって、隣接するサブピクセルの色変換フィルタ層への光の漏れを防止して、にじみのない所望される蛍光変換色のみを得ることが可能となる。後述する有機ＥＬディスプレイの封止を妨げないことが好ましい。ブラックマトリックスの材料は、従来から用いられているものをそのまま使用することができる。例えば、カラーモザイクＣＫ７８００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）などを用いることができる。ブラックマトリックス（１０４）は、好ましくは０．５〜２．０μｍの厚さを有する。
ＩＩＩ）カラーフィルタ層
本発明におけるカラーフィルタ層は、従来から用いられている材料から形成することができる。例えば、赤色カラーフィルタ層としてカラーモザイクＣＲ−７００１、緑色カラーフィルタ層としてカラーモザイクＣＧ−７００１、青色カラーフィルタ層としてカラーモザイクＣＢ−７００１（各々、富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）等を用いることができる。
ＩＶ）ガスバリア層
本発明では、カラーフィルタ層を覆うガスバリア層（図示せず）を設けることが好ましい。ガスバリア層は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有し、好ましくは鉛筆硬度２Ｈ以上の膜硬度を有する材料で形成される。例えば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。
ガスバリア層は、０．１〜１μｍ程度の厚さを有することができる。本発明では、ガスバリア層は、柱状部をトレースできる膜厚でなければならない。
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する。本発明の製造方法は、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする。
以下に、図４を参照して製造方法を説明する。以下の説明では、図１に示した第１の実施形態のカラーフィルタ基板を例に取る。図４（Ａ）および（Ｂ）は本発明の製造工程を説明するための図であるが、それぞれ図１のａ−ａ断面に相当する部分およびｂ−ｂ断面に相当する部分の工程図である。
（ｉ）第１の工程（図４（Ａ）（ｉ）、（Ｂ）（ｉ））
第１の工程は、透明基板（１０２）上において格子状にブラックマトリックス（１０４）を形成する工程である。ブラックマトリックスは、スピンコート法とフォトレジスト法を組み合わせた湿式法などにより形成することができる。例えば、ブラックマトリックスの材料をスピンコート法により透明基板の全面に塗布し、次いでフォトリソグラフィー法により、第１の方向および第２の方向（例えば、図１のＸおよびＹ方向）が互いに直交する格子状のパターンに、パターンニングすればよい。
（ｉｉ）第２の工程（図４（Ａ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）、（Ｂ）（ｉｉ）〜（ｉｖ））
第２の工程は、透明基板（１０２）上において、ブラックマトリックス（１０４）の第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）を形成する工程である。
本工程では、上述の第１の実施形態および第２の実施形態のそれぞれのカラーフィルタ基板に応じて、各色カラーフィルタ層の重なり部分（柱状部が形成される部分）の位置が異なるので、それぞれの実施形態に沿った位置に各色カラーフィルタ層の重なり部分ができるようにパターンニングを行う。
第１の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法については、第２工程は、図４（Ａ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）、（Ｂ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）に示したように、各色のカラーフィルタ層を順次ブラックマトリックスの第１の方向（図４においては、座標のＸ方向）に沿って形成することを含む。この際、図４（Ａ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）に示したように、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分（すなわち、サブピクセル間）で、隣り合ったカラーフィルタ層の縁部の一部が突出して、この縁部が重なるようにパターンニングを行う。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ａ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点以外の部分（図２（Ａ）の「ａ」で示された領域）に、リブに相当する柱状部が形成される。
各色カラーフィルタ層の成膜は、例えば、以下のように行うことができる。まず、スピンコート法によりブラックマトリックス（１０４）を形成した透明基板（１０２）上に、第１のカラーフィルタ層（例えば赤色カラーフィルタ層）の材料を塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターンニングして、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分（すなわち、サブピクセル間）にカラーフィルタ層の縁部の一部が突出するように、第１のカラーフィルタ層を形成する。次いで、第１のカラーフィルタ層の成膜と同様の手順で、第２および第３のカラーフィルタ層を形成すればよい。このようにすることで、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分（すなわち、サブピクセル間）で、隣り合ったカラーフィルタ層の縁部の一部が重なって、柱状部を形成できる。
第２の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法は、上述の第１の実施形態の場合とほぼ同じである。但し、第２工程において、ブラックマトリックスの格子点領域の部分で、隣り合ったカラーフィルタ層の縁部の一部が突出して、この縁部が重なるようにパターンニングを行う。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ｂ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点領域の部分（図２（Ｂ）の「ａ」で示された領域）に、リブに相当する柱状部が形成される。
上記製造方法で形成される柱状部の形状、寸法等の諸条件は先に説明した通りである。
本発明のカラーフィルタ基板には、カラーフィルタ層上に任意選択的な層としてガスバリア層を形成することができる。ガスバリア層は、透明基板上のブラックマトリックスおよび各色カラーフィルタ層を覆うように形成することが好ましいが、柱状部の形状をトレースしていなければならない。ガスバリア層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成できる。
次に、本発明の色変換フィルタ基板について説明する。本発明の色変換フィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数の色変換層を少なくとも含み、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在していることを特徴とする。
図５は上記色変換フィルタ基板の第１の実施形態を示す部分概略図である。図５（Ａ）は、上面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）のａ−ａ断面図であり、図５（Ｃ）は、図５（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。図５（Ｄ）は、色変換フィルタ基板の、色変換層が重なった部分を部分的に拡大した図であり、透明基板とブラックマトリックス部分と、色変換層の重なり合っている上部を表す。なお、図５においては、図１を用いて先に説明したのと同様の方向付けで以下の説明を行う。すなわち、図５では、紙面の上下方向（図５において座標で示されているＸ方向）を第１の方向とし、図５の紙面の左右方向（図５において座標で示されているＹ方向）を第２の方向としている。
図５に示すように、本発明の色変換フィルタ基板（２００）には、基板（１０２）上にブラックマトリックス（１０４）と、色変換フィルタ層が設けられる。色変換フィルタ層には、赤、緑および青の各色のカラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）と、赤、緑および青の各色色変換層（５０６、５０８、５１０）が含まれる。なお、カラーフィルタ層は、上述のカラーフィルタ基板で説明した通りのものである。
本明細書においては、色変換フィルタ層の用語を用いるが、この用語は、カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）、色変換層（５０６、５０８、５１０）、およびカラーフィルタ層と色変換層との積層体の総称として用いる。
色変換層は、後述するカラー有機ＥＬ素子の一部として用いられる場合、有機ＥＬ層で発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。フルカラー表示を可能にするためには、少なくとも青色（Ｂ）領域、緑色（Ｇ）領域および赤色（Ｒ）領域の光を放出する独立した色変換層が設けられる。有機ＥＬ層が青色から青緑色の光を発する場合、青色領域には、青色カラーフィルタ層のみを用いることができ、このようにすることが好ましい。この場合、青色変換層（５１０）が形成される部分には、透明層を、赤色および緑色の色変換層の膜厚と同等の膜厚で形成する必要がある。ＲＧＢそれぞれの色変換層は、少なくとも有機蛍光色素とマトリクス樹脂とを含む。
ブラックマトリックスは、上述したカラーフィルタ基板で説明した通りの構成とすることができる。また、各カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）は、図５（Ｂ）および（Ｃ）に示したように、ブラックマトリックスの第１の方向（図５（Ｂ）の座標でＸ方向）に沿って形成されるが、ブラックマトリックスの格子点以外の領域（サブピクセル間）および格子点領域で互いに重なり合うことなく設けられる。なお、図５（Ｂ）および（Ｃ）では、各カラーフィルタ層は、互いに隣り合うカラーフィルタ層同士で隣接するように図示されているが、これらは必ずしも隣接している必要はない。
第１の実施形態では、図５（Ａ）および（Ｂ）に示したように、各色変換層は、色変換層の両端部に突出した部分、すなわち図５に示した座標のＹ方向に延在した部分（５１４、５１６、５１８）を有する。この突出した部分は、隣り合うカラーフィルタ層同士が、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分で重なるように（すなわち柱状部を形成するように）、サブピクセルに相当する開口部（１１２）からブラックマトリックスとカラーフィルタ層の縁部上に延在している。
具体的には、図５（Ｂ）に示されるように、赤色変換層（５０６）の縁部（５１４）は、ブラックマトリックス（１０４）の存在する領域上で、一方の縁部が緑色変換層（５０８）の突出した縁部（５１６）で覆われ、他の一方の縁部が、青色変換層（または、透明層）（５１０）の突出した縁部（５１８）で覆われており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−赤色変換層−青色変換層（または透明層）の順で重なり合った部分（５２０）、並びに、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−赤色変換層−緑色変換層の順で重なり合った（１２０’）が存在する。
また、緑色変換層（５０８）は、その一方の縁部が赤色変換層（５０６）の突出した縁部（５１４）を覆い、他の一方の縁部が青色変換層（または透明層）（５１０）により覆われており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−赤色変換層−緑色変換層の順で重なり合った部分（５２０’）、並びに、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−緑色変換層−青色変換層（または透明層）の順で重なり合った（５２０”）が存在する。
さらに、青色変換層（または透明層）（５１０）は、その一方の縁部が緑色変換層（５０８）の突出した縁部（５１６）を覆い、他の一方の縁部が赤色変換層（５０６）を覆っており、これにより、色変換フィルタ基板には、それぞれ、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−緑色変換層−青色変換層（または透明層）の順で重なり合った部分（５２０”）、並びに、ブラックマトリックス−カラーフィルタ層−赤色変換層−青色変換層（透明層）の順で重なり合った（５２０）が存在する。
なお、上述の重なり合いの順序は、各色変換層を、赤色変換層、緑色変換層、青色変換層の順で形成した場合の例である。したがって、各色の色変換層の形成順序を変えると、上記の重なり合いの順序は変化する。すなわち、三色の色変換層のうち、最初に形成される色変換層の突出した縁部が、カラーフィルタ層上で、且つブラックマトリックスが形成されている領域上に形成され、次いで２番目の色変換層の突出した縁部の一方が最初に形成された色変換層の縁部の上まで重なり、２番目に形成される色変換層の突出した縁部の他の一方は、カラーフィルタ層上に形成される。そして、３番目に形成される色変換層の突出した縁部は、最初および２番目に形成された色変換層の突出した縁部の上まで重なることになる。但し、最終的に形成される柱状部の構造は、各色の色変換層をいずれの順序で形成した場合であっても同じである。
また、第１の実施形態では、図５（Ａ）および（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層は、ブラックマトリックスの格子点の領域（図２（Ｂ）の「ａ」で示した領域）において、上述のような突出した縁部を有しておらず、上述のような重なり部分（柱状部）は存在しない。
具体的には、図５（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層（５０６、５０８、５１０）は重なり合うことなくブラックマトリックス（１０４）の形成されている領域の上に形成されている。なお、図５（Ｃ）では、各色変換層は、隣接するように図示してあるが、ブラックマトリックスの格子点領域においては、必ずしも隣接している必要はない。
このように、本発明の第１の実施形態の色変換フィルタ基板では、隣り合った色変換層の縁部の一部が突出して、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の部分でこの縁部が重なった構造を有している。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ａ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点以外の領域（図２（Ａ）の「ａ」で示された領域）に、リブに相当する柱状部が形成される。
なお、色変換層の突出した縁部の形状は、隣接した色変換層が重なり合う限り、特に限定されない、例えば、三角形、矩形、台形状等、いずれの形状であってもよい。
この柱状部は、ブラックマトリックス（５０４）が形成されている領域において形成されるが、柱状部の最も厚い領域（最も高さのある領域）（図５（Ｄ）のＭ部分）の高さは、リブとして機能する高さであればよい。本発明では、色変換層２層分を併せた厚さとすることができる。好ましい厚さは、３μｍ〜１５μｍ、好ましくは５μｍ〜１０μｍである。また、柱状部は、パターンニングのし易さから、図５（Ｄ）に示すように、ブラックマトリックスの幅の中央部に相当する領域で２種類の色変換層が重なり合っていることが好ましい。本発明では、図５（Ｄ）に示すような、ブラックマトリックスと一色の色変換層が重り合った領域（Ｌ部分およびＮ部分）と、ブラックマトリックス上に２種類の色変換層が重なり合った領域（Ｍ部分）の幅、ｒ、ｒ’およびｒ”とする。例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、ｒ’は０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍであることが好ましい。しかし、色変換フィルタ基板を有機ＥＬ素子と貼り合わせる際に、柱状部の機械的強度が十分である限り、幅ｒ’は、幅ｒまたは幅ｒ”よりも狭くてもよく、逆に、幅ｒまたは幅ｒ”よりも広くてもかまわない。また、各色変換層の突出した縁部が重なり合った部分の各色変換層の厚さはパターニングの際の条件により種々異なる。好ましくは、この部分の厚さは同じである。
本発明では、上述のような柱状部の構造とすることで、後述するような有機ＥＬ素子と貼り合わせて充填剤を充填する際に、柱状部の形成されていない部分から充填剤が広がり、充填剤の充填が容易となる。
また、本発明では、柱状部は色変換層の端部の一部を突出させているので、十分な機械的強度が保持できる。
次に、本発明の色変換フィルタ基板の第２の実施形態について、図６を参照して説明する。図６（Ａ）は、上面図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）のａ−ａ断面図であり、図６（Ｃ）は、図６（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。
図６（Ａ）から（Ｃ）に示したように、第２の実施形態では、各色変換層（５０６、５０８、５１０）は、ブラックマトリックス（１０４）の格子点の領域（図２（Ｂ）の「ａ」で示された領域）に突出した縁部（５１４、５１６、５１８）を有する。したがって、カラーフィルタ層により形成される柱状部（５２０、５２０’、５２０”）は、図６（Ｂ）に示したように、ブラックマトリックス（１０４）の第２の方向（図６に示した座標のＹ軸方向（図５のＹ軸方向と同じ））であって、ブラックマトリックスの格子点の領域に存在する。図６（Ｂ）における各色変換層の突出した縁部による重なりの様式、および柱状部の厚み、突出した縁部の形状などは、第１の実施形態で説明した通りである。なお、第２の実施形態においては、柱状部の重なり部分の幅は、例えば、第１の実施形態で説明したとおり、例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍであることが好ましい。しかし、色変換フィルタ基板を有機ＥＬ素子と貼り合わせる際に、柱状部の機械的強度が十分である限り、重なりの幅は、これよりも狭くてもよく、逆に、これよりも広くてもかまわない。
また、第２の実施形態では、図６（Ａ）および（Ｃ）に示したように、各カラーフィルタ層は、ブラックマトリックスの格子点以外の領域（図２（Ａ）の「ａ」で示した領域）において、上述のような突出した縁部を有しておらず、上述のような重なり部分（柱状部）は存在しない。
具体的には、図６（Ｃ）に示したように、各色変換層（５０６、５０８、５１０）は、サブピクセル間のブラックマトリックス（１０４）の形成されている領域で重なり合うことなく形成されている。なお、図６（Ｃ）では、各色変換層は、隣接するように図示してあるが、ブラックマトリックスの形成されている領域に、色変換層の縁部が一部重なるようにして、形成されていればよく、ブラックマトリックスの領域で接触している必要はない。例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、各色の色変換層は、０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍ程度ブラックマトリックスの領域に重なるように形成されていることが好ましい。しかし、重なりの幅は、ブラックマトリックスの領域に重なっている限りこれよりも狭くてもよく、逆に、これよりも広くてもかまわない。
なお、本発明の色変換フィルタ基板は、上記構成に加え、色変換層上にガスバリア層を設けてもよい。ガスバリア層は、外部環境からの酸素、低分子成分および水分の透過を防止することができるものであり、先にカラーフィルタ基板の項で説明でした通りである。ガスバリア層は、任意選択の層であるが、後述するように、本発明のカラーフィルタ基板を有機ＥＬ素子と組み合わせて、カラー有機ＥＬ素子を形成する場合、有機ＥＬ層の機能低下を防止することに有効である。したがって、この目的のために、ガスバリア層を設けることが好ましい。
以下に、色変換フィルタ基板の各構成要素について説明する。
（１）透明基板（１０２）、（２）ブラックマトリックス（１０４）、（３）カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）および（４）ガスバリア層（任意選択層）は先に説明した通りである。
Ｖ）色変換フィルタ層
１）有機蛍光色素
本発明において、好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせてもよい。これは、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機ＥＬ層を用いる場合、有機ＥＬ層からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまうからである。
したがって、有機ＥＬ層からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
さらに、青色領域の光に関しては、有機ＥＬ層が発する近紫外光または青緑色光の波長分布変換を行って青色光を出力する青色変換層を含んでもよい。ただし、有機ＥＬ層が青色から青緑色の光を発する場合、青色カラーフィルタ層のみを用いることが好ましい。
有機ＥＬ層（９１２）が白色発光する場合には、カラーフィルタ層のみにて所望の色を得ることができるが、各色変換層を用いることによりカラーフィルタ層のみの場合よりも高い効率で３原色の発光を得ることが可能となる。
なお、本発明に用いる有機蛍光色素を、スパッタ法、蒸着法で膜形成してもよく、また、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、これらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料（本明細書中で、前記２つを合わせて有機蛍光色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の樹脂に混入して用いる色変換層は、該色変換層の重量を基準として０．０１〜５質量％、より好ましくは０．１〜２質量％の有機蛍光色素を含有する。前記含有量範囲の有機蛍光色素を用いることにより、濃度消光などの効果による色変換効率の低下を伴うことなしに、充分な波長変換を行うことが可能となる。
２）マトリクス樹脂
次に、本発明の色変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、色変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
具体的には、マトリクス樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。
本発明で用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の色変換層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
マトリクス樹脂（色変換層）は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、有機蛍光色素および添加剤を含有する溶液または分散液を、支持基板上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。
３）構成および形状
各色の色変換フィルタ層は、色変換層（５０６、５０８、５１０）のみから形成されてもよい。しかし、蛍光色素による変換のみでは十分な色純度が得られない場合は、変換層とカラーフィルタ層（１０６）との積層体とすることが好ましい。カラーフィルタ層を併用する場合、カラーフィルタ層の厚さは１〜１．５μｍであることが好ましい。
青色に関しては、カラーフィルタ層（１１０）のみとすることができる。カラーフィルタ層（１１０）のみを用いる場合、上述のように、透明層を設けることが好ましい。
色変換フィルタ層の形状は、よく知られているように各色ごとに分離したストライプパターンとしてもよいし、各画素のサブピクセルごとに分離させた構造を有してもよい。
色変換層の厚さは２〜１５μｍであることが好ましい。
ＶＩ）透明層
青色変換層を設けない場合に、これに代えて設ける透明層は、上述の色変換層を形成する透明樹脂材料と同じもの含む材料で形成される。膜厚等の諸条件は、上記色変換層と同じである。
次に、本発明の色変換フィルタ基板の製造方法を説明する。色変換フィルタ基板の製造方法は、（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、（ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成する工程を少なくとも含み、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする。
以下に、図７および図８を参照して色変換フィルタ基板の製造方法を説明する。
（ｉ）第１の工程（図７（Ａ）（ｉ）、（Ｂ）（ｉ））
第１の工程は、透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程である。この工程は、先のカラーフィルタ基板の製造方法の項で説明した通りである。
（ｉｉ）第２の工程（図７（Ａ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）、（Ｂ）（ｉｉ）〜（ｉｖ））
第２の工程は、透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程である。
図７（Ａ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）、（Ｂ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）に示したように、各色のカラーフィルタ層を順次ブラックマトリックスの第１の方向（図７においては、座標のＸ方向）に沿って形成する。この際、格子状のブラックマトリックスによって形成される開口部（すなわちサブピクセル部分）で、隣り合ったカラーフィルタ層の縁部は、ブラックマトリックスの第１の方向において、ブラックマトリックス（１０４）の縁部と一部重なるように形成することが好ましい。この重なり部分は、例えば、ブラックマトリックスが幅０．０３ｍｍで形成される場合、各色のカラーフィルタ層は、０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍ程度ブラックマトリックスの領域に重なるように形成されていることが好ましい。しかし、重なりの幅は、ブラックマトリックスの領域に重なっている限りこれよりも狭くてもよく、逆に、これよりも広くてもかまわない。
各色カラーフィルタ層の成膜は、例えば、以下のように行うことができる。まず、スピンコート法によりブラックマトリックス（１０４）を形成した透明基板（１０２）上に、第１のカラーフィルタ層（例えば赤色カラーフィルタ層）の材料を塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターンニングして、ブラックマトリックスの第１の方向にカラーフィルタ層を形成する。次いで、第１のカラーフィルタ層の成膜と同様の手順で、第２および第３のカラーフィルタ層を形成すればよい。なお、サブピクセルに相当する開口部の間のブラックマトリックスには、図７（Ｂ）（ｉｉ）〜（ｉｖ）に示されるように、ブラックマトリックスとカラーフィルタ層の縁部が重なるように、カラーフィルタ層を形成することが好ましい。
（ｉｉｉ）第３工程（図８（Ａ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）、（Ｂ）（ｉ）〜（ｉｉｉ））
第３工程は、カラーフィルタ層上において、ブラックマトリックスの第１の方向（すなわち、カラーフィルタ層と同じ方向）に沿って複数の色変換層を形成する工程である。
本工程では、上述の第１の実施形態および第２の実施形態のそれぞれの色変換フィルタ基板に応じて、各色変換層の重なり部分（柱状部が形成される部分）の位置が異なるので、それぞれの実施形態に沿った位置に各色変換層の重なり部分ができるようにパターンニングを行う。なお、各色変換層は、対応したカラーフィルタ層上に形成する。また、青色変換層は、透明層とすることができるが、この場合には、色変換層を形成する透明樹脂材料と同じもの含む材料により透明層を形成すればよい。
第１の実施形態の色変換フィルタ基板の製造方法については、第３工程は、図８（Ａ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）、（Ｂ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）に示したように、各色の色変換層を順次ブラックマトリックスの第１の方向（図８においては、座標のＸ方向）に沿って形成することを含む。この際、図８（Ａ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）に示したように、ブラックマトリックスの格子点領域以外の領域（すなわち、サブピクセル間）で、隣り合った色変換層の縁部の一部が突出して、この縁部が重なるようにパターンニングを行う。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ａ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点以外の領域（図２（Ａ）の「ａ」で示された領域）に、リブに相当する柱状部が形成される。
各色変換層の成膜は、例えば、以下のように行うことができる。まず、スピンコート法により、ブラックマトリックス（１９４）および各色カラーフィルタ層（１０６、１０８、１１０）を形成した透明基板（１０２）上に、第１の色変換層（例えば赤色色変換層）の材料を塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターンニングして、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の領域（すなわち、サブピクセル間）にカラーフィルタ層の縁部の一部が突出するように、第１の色変換層を形成する。次いで、第１の色変換層の成膜と同様の手順で、第２および第３の色変換層を形成すればよい。このようにすることで、ブラックマトリックスの格子点の領域以外の領域（すなわち、サブピクセル間）で、隣り合った色変換層の縁部の一部が重なって、柱状部を形成できる。
第２の実施形態の色変換フィルタ基板の製造方法は、上述の第１の実施形態の場合とほぼ同じである。但し、第３工程において、ブラックマトリックスの格子点領域で、隣り合った色変換層の縁部の一部が突出して、この縁部が重なるようにパターンニングを行う。このようにすることで、色変換フィルタ基板は、図２（Ｂ）に示したような、ブラックマトリックスの格子点領域の部分（図２（Ｂ）の「ａ」で示された領域）に、リブに相当する柱状部が形成される。
上記製造方法で形成される柱状部の形状、寸法等の諸条件は先に説明した通りである。
本発明の色変換フィルタ基板には、色変換フィルタ層上に任意選択的な層としてガスバリア層を形成することができる。ガスバリア層は、透明基板上のブラックマトリックス、各色カラーフィルタ層および各色変換層を覆うように形成することが好ましいが、柱状部の形状をトレースしていなければならない。ガスバリア層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法、スピンコート法等の慣用の手法により形成できる。
次に、本発明のカラー有機ＥＬ素子について説明する。本発明のカラー有機ＥＬ素子は、先に説明した、カラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板を、有機ＥＬ素子と貼り合わせた、トップエミッション方式の貼り合わせ型カラー有機ＥＬ素子である。
第１の実施形態は、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子である。第２の実施形態は、色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子である。
以下に第１に実施形態のカラー有機ＥＬ素子について説明する。図９は、第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の一例（アクティブマトリックス型）を表す概略図であり、図９（Ａ）および（Ｂ）は、上述のカラーフィルタ基板の第１の実施形態と第２の実施形態に対応したものを貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子をそれぞれ表す。
本発明のカラー有機ＥＬ素子は、図９（Ａ）および（Ｂ）に示したように、有機ＥＬ素子の光を取り出す側（透明電極側）に、本発明のカラーフィルタ基板の柱状部の形成されている側を突き合わせて、貼り合わせた構造を有する。図９（Ａ）のカラー有機ＥＬ素子では、リブ（支柱）が図２（Ａ）の「ａ」領域（ブラックマトリックスの第１の方向の格子点領域以外の領域）に形成され、図９（Ｂ）のカラー有機ＥＬ素子では、図２（Ｂ）に示した「ａ」領域（ブラックマトリックスの格子点領域）にリブが形成されている。本発明では、充填剤の充填を考慮すると、より空間の広い、図２（Ｂ）の「ａ」領域にリブが形成される方がより好ましいと考えられる。
第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子において、カラーフィルタ基板は先に説明した通りである。有機ＥＬ素子は、カラーフィルタ基板を用いる場合、白色光を発するものであれば、特に限定されない。図９では、アクティブマトリックス型のものを例示した。以下に、図９に示した有機ＥＬ素子について説明する。
図９に示した例では、基板（９０２）の上にスイッチング素子（９０４）が設けられる。スイッチング素子は、ＴＦＴ、ＭＩＭのような当該技術において知られている任意の構造であってもよい。任意選択的であるが、スイッチング素子（９０４）と反射電極（９０８）とを接続する端子部分を除いて、スイッチング素子（９０４）を覆ってその上面を平坦化する平坦化絶縁膜（９０６）を形成してもよい。平坦化絶縁膜（９０６）は、当該技術において知られている任意の材料を用いることができる。基板（９０２）は、上記のカラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板で説明したものと同様の材料を用いてもよい。しかしながら、基板（９０２）は光の経路とはならないため、シリコンなどの半導体あるいはセラミックのような光学的に不透明な材料を用いることもできる。
反射電極（９０８）は、本実施形態のカラー有機ＥＬ素子の独立した発光部を画定する電極であり、複数の部分電極から構成され、該部分電極のそれぞれはスイッチング素子（９０４）と１対１に接続される。反射電極（９０８）は、高反射率の金属（Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなど）、アモルファス合金（ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰ、ＣｒＢなど）、微結晶性合金（ＮｉＡｌなど）を用いることができる。また、任意選択的であるが、反射電極（９０８）の複数の部分電極の間隙に、絶縁性金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＡｌＯｘなど）あるいは絶縁性金属窒化物（ＡｌＮ、ＳｉＮなど）などを用いて、絶縁膜（９１０）を設けてもよい。
反射電極（９０８）上には有機ＥＬ層（９１２）が設けられる。第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子では、上述の通り白色光を発する有機ＥＬ素子を用いるため、有機ＥＬ層としては、例えば、三原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を発する色素を適切に選択し、これを適切なホスト分子または高分子に分散させて含むものを挙げることができる。例えば、下記に示すＰＶＫ（ポリビニルカルバゾール）、ＴＰＢ（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン）、ＤＣＭ−１およびクマリン６を、濃度を低めにして混入した複合体薄膜を用いることができる。これに電圧を印加することで、Ｒ、Ｇ、Ｂ三色が同時に発色し、白色ＥＬが発光される（例えば非特許文献１参照）。
Figure 2008165108
有機ＥＬ層（９１２）の上に、透明電極（９１４）を形成する。透明電極（９１４）は、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＺＯ、酸化亜鉛、亜鉛−アルミニウム酸化物、亜鉛−ガリウム酸化物、またはこれらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。
上述の他、白色光を発する有機ＥＬ素子としては、赤、緑、青の各色を同時に発光させるもの、あるいは、平面上にＲ、Ｇ、Ｂの三色を微細にパターンニングして、または、積層して白色光を発光するようにしたものなどを用いることができる。
上記のようにして形成された、反射電極、有機ＥＬ層および透明電極は、ガスバリア層（図示せず）によって保護されてもよい。ガスバリア層の材料には、上述した公知のものが使用できる。
次に、第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子について説明する。図１０は、第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子（アクティブマトリックス型）の一例を表す概略図であり、図１０（Ａ）および（Ｂ）は、上述の色変換フィルタ基板の第１の実施形態と第２の実施形態に対応したものを貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子をそれぞれ表すものである。
本発明のカラー有機ＥＬ素子は、図１０（Ａ）および（Ｂ）に示したように、有機ＥＬ素子の光を取り出す側（透明電極側）に、本発明の色変換フィルタ基板の柱状部の形成されている側を突き合わせて、貼り合わせた構造を有する。図１０（Ａ）のカラー有機ＥＬ素子では、リブ（支柱）が図２（Ａ）の「ａ」領域（ブラックマトリックスの第１の方向の格子点領域以外の領域）に形成され、図９（Ｂ）のカラー有機ＥＬ素子では、図２（Ｂ）に示した「ａ」領域（ブラックマトリックスの格子点領域）にリブが形成されている。本発明では、充填剤の充填を考慮すると、より空間の広い、図２（Ｂ）の「ａ」領域にリブが形成される方がより好ましいと考えられる。
第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子において、色変換フィルタ基板は先に説明した通りである。有機ＥＬ素子は、アクティブマトリックス型を用いることができる。図１０では、アクティブマトリックス型のものを例示した。以下に、図１０に示した有機ＥＬ素子（青色または青緑色の光を発するもの）について説明する。なお、スイッチング素子（９０４）、平坦化層（９０６）反射電極（９０８）、絶縁層（９１０）、透明電極（９１４）は、第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子で説明した通りである。
第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ層（９１２）は、少なくとも有機発光層を含み、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を介在させた構造を有する。具体的には、有機ＥＬ素子は陰極および陽極を含めて下記のような層構造からなるものが採用される。
（１）陽極／有機発光層／陰極
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
（５）陽極／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（７）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
上記の層構成において、陽極および陰極は、反射電極（９０８）または透明電極（９１４）のいずれかである。
有機ＥＬ層（９１２）を構成する各層の材料としては、公知のものが使用される。第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子では、青色から青緑色の光を発光する有機ＥＬ素子を用いることができる。このような有機ＥＬ素子では、有機発光層にこのような光を発する材料を用いればよい。
青色から青緑色の発光を得るための有機発光層の材料としては、たとえばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。
第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子においても、上記のようにして形成された、反射電極、有機ＥＬ層および透明電極は、平坦化層および／またはガスバリア層（図示せず）によって保護されてもよい。これらは先に説明した通りである。
また、上記第１の実施形態および第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子は、カラーフィルタ層または色変換層の突出した縁部の重なりにより所定箇所に柱状部が形成されている。したがって、カラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板と、有機ＥＬ素子との間に空隙が存在する。この空隙部分（すなわち、柱状部以外のカラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板と、有機ＥＬ素子との間部分）には、充填剤を充填し、充填剤層（９１６）とすることができる。本発明のカラー有機ＥＬ素子では、上述のように図２（Ａ）または（Ｂ）に示す領域に柱状部が形成されていることにより、充填剤の充填が容易であるという特徴を有する。
また、カラー有機ＥＬ素子には、その外周部に封止層（図示せず）設け、有機ＥＬ発光素子と、カラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板を接着するとともに、内部の各構成要素を外部環境の酸素、水分などから保護することができる。
ＶＩＩＩ）充填剤層（９１６）
充填剤層（９１６）は、本発明のカラー有機ＥＬ素子において形成される内部空間を充填して、有機ＥＬ層の発光の内部空間界面における反射を抑制し、該発光を色変換フィルタ基板へと効率よく透過させるために設けられる。充填剤層（９１６）は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の可視光透過率と、１．３〜２．５の屈折率とを有する材料から形成される。そのような材料の例は、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＡｌＮｘ、ＳｉＡｌＯｘＮｙ、およびＴｉＯｘのような無機材料、ならびに、アクリル樹脂、シリコンゲルおよびシリコーンゴムのような有機材料を含む。
このような充填剤を用いることにより、有機ＥＬ層（９１２）からの発光の伝達経路の屈折率差を小さくすることができ、各界面における反射を抑制し、色変換フィルタ層への光の伝達をより効率的に行うことが可能となる。
ＩＸ）封止層
封止層は、熱硬化型または紫外線硬化型接着剤から形成され、直径３〜５０μｍ、好ましくは直径３〜２０μｍのガラスビーズ、シリカビーズなどを含む。これらのビーズ類は、有機ＥＬ発光素子と色変換フィルタ基板との貼り合わせにおいて、基板間距離を規定するとともに、接着のために印加される圧力を負担する。さらに、ディスプレイ駆動時に発生する応力（特にディスプレイ外周部における応力）も負担して、該応力によるディスプレイの劣化を防止する。
次に、カラー有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。本発明のカラー有機ＥＬ素子の製造方法は、上記第１の実施形態に係るカラー有機ＥＬ素子を製造する方法（第１の実施形態）と、上記第２の実施形態に係るカラー有機ＥＬ素子を製造する方法（第２の実施形態）を包含する。
まず、第１の実施形態の製造方法について説明する。第１の実施形態の製造方法は、以下の通りである。
（ア）カラーフィルタ基板を製造する工程であって、
（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成すると共に、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含むカラーフィルタ基板を製造する工程と、
（イ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、
（ウ）前記工程（ア）および（イ）で製造したカラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、第１および第２の方向のブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているカラーフィルタ層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とする。
図１１を参照して第１の実施形態の製造方法を説明する。図１１は、第１の実施形態の製造方法を説明するための工程図である。図１１では、アクティブマトリックス型の有機ＥＬ素子を形成する場合の例である。なお、第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の製造方法の工程（ア）は、先に説明したカラーフィルタ基板の製造方法と同じである。
工程（イ）は、有機ＥＬ素子を製造する工程である。図１１（Ａ）〜（Ｃ）はこの工程を説明するための図である。まず最初に、基板（９０２）の上にスイッチング素子（９０４）を形成する。スイッチング素子は任意の既知の方法で形成することができる。任意選択的であるが、平坦化絶縁膜（９０６）を形成してもよい。平坦化絶縁膜（９０６）は、当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。
反射電極（９０８）は、蒸着法などのドライプロセスによって形成することができる。また、任意選択的であるが、反射電極（９０８）の複数の部分電極の間隙に、絶縁膜（図示せず）を形成してもよい。
次いで、反射電極（９０８）の上に有機ＥＬ層（９１２）を形成する。有機ＥＬ層は、蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて、上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を適宜組合せ、真空中で連続的に形成することができる。白色発光は発光層のなかに赤、青などの複数の発光材料を含ませるか、赤色発光層、青色発光層などの複数の発光層を積層することで得られる。
続いて、有機ＥＬ層（９１２）の上に、透明電極（９１４）を形成する。透明電極（９１４）は、蒸着法、スパッタ法または化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて形成される。
上記のようにして形成された、反射電極、有機ＥＬ層および透明電極は、平坦化層および／またはガスバリア層によって保護することができる。平坦化層およびガスバリア層の形成方法は特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成できる。平坦化層およびガスバリア層の膜厚等の条件は従来の通りである。
工程（ウ）（図１１（Ｄ）および（Ｅ））は、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程である。図１１（Ｄ）および（Ｅ）に示されるように、工程（ア）で調製したカラーフィルタ基板と、工程（イ）で調製した有機ＥＬ素子を、カラーフィルタ基板の柱状部の形成されている側と、有機ＥＬ素子の光取り出し側とを互いに突き合わせて、位置合わせし、封止接合する。封止工程は、グローブボックス内のような乾燥条件下で行うことが好ましい。例えば、有機ＥＬ素子の外周部に、乾燥窒素雰囲気下（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）において、所望の接着距離を与えるように封止層を形成する。
本発明では、カラー有機ＥＬ素子の空隙（９１６）に充填剤を充填することができる。充填剤は、２つの基板を貼り合わせる前に、有機ＥＬ発光素子あるいは色変換フィルタ基板上に塗布または分散されてもよいし、それらが貼り合わされた後に、封止層に設けられた注入口を通して、基板間の間隙に充填されてもよい。貼り合わせの後に充填剤層の形成を行う場合には、封止層は、注入口として用いる１つ未形成部分を有してＣ形状に形成される。あるいはまた、複数の注入口を形成してもよい。貼り合わせ前に充填剤層が形成されている場合には、封止層に未形成部分を形成せずに封止層を形成（例えば四角形状）してもよい。
次に、第２の実施形態の製造方法について説明する。第２の実施形態の製造方法は、以下の通りである。
（Ｉ）色変換フィルタ基板を製造する工程であって、
（ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
（ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、
（ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成すると共に、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含む色変換フィルタ基板を製造する工程と、
（ＩＩ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、
（ＩＩＩ）前記工程（Ｉ）および（ＩＩ）で製造した色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、ブラックマトリックスの格子点または該格子点領域以外の領域で重なるように延在している色変換層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とする。
図１２を参照して第２の実施形態の製造方法を説明する。図１２は、第２の実施形態の製造方法を説明するための工程図である。図１２では、アクティブマトリックス型の有機ＥＬ素子を形成する場合の例である。なお、第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の製造方法の工程（Ｉ）は、先に説明した色変換フィルタ基板の製造方法と同じである。
工程（ＩＩ）は、有機ＥＬ素子を製造する工程である。図１２（Ａ）〜（Ｃ）はこの工程を表す図である。また、工程（ＩＩＩ）は、有機ＥＬ素子と色変換フィルタ基板を貼り合わせ、カラー有機ＥＬ素子を製造する工程である。図１２（Ｄ）および（Ｅ）はこの工程を表す図である。
これらの工程（ＩＩ）および（ＩＩＩ）は、カラーフィルタ基板の代わりに、色変換フィルタ基板を有機ＥＬ素子と貼り合わせること以外、上記第１の実施形態で説明した工程（イ）および（ウ）と同じである。
上述のカラーフィルタ基板、色変換フィルタ基板、これらを備えた有機ＥＬ素子において、リブは、有機ＥＬ素子（あるいは、カラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板を備えた表示素子）の強度が保証される限り、ブラックマトリックスの交点領域以外の領域（図２（Ａ）の「ａ」で示した領域）の全てに設ける必要はない。配置密度は、１００箇所／ｍｍ２以上が望ましい。また、ブラックマトリックスの交点領域以外の領域の全てにリブを設けない場合、設置されるリブは、ランダムな配列であっても、規則正しき配列であってもよい。
さらに、ブラックマトリックスの格子点の領域（図２（Ｂ）の「ａ」で示した領域）にリブを設ける場合も上述と同様、全ての格子点領域にリブを設ける必要はなく、リブの設ける位置もランダムな配列、規則正しい配列のいずれであってもよい。
（実施例１）
［ブラックマトリックスの形成］
厚さ０．７ｍｍのガラス基板（縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ）を純粋中で超音波洗浄し、乾燥させた後に、さらにＵＶオゾン洗浄した。洗浄済みのガラス基板に対して、スピンコート法を用いて、カラーモザイクＣＫ−７８００（富士フイルムエレクトロニクス（株）製）を塗布し、フォトリソグラフィー法を用いてパターンニングを行った。これにより、幅０．０３ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの
格子状のパターンを持つ膜厚１μｍのブラックマトリックスを形成した。
［カラーフィルタ層の形成］
引き続いて、赤色、緑色、および青色の各色カラーフィルタ層の成膜は、それぞれ、カラーモザイクＣＲ−７００１、ＣＧ−７００１およびＣＢ−７００１を用いてスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィー法により行った。各色のカラーフィルタ層は、突出した縁部を除いた部分で、幅０．１０ｍｍ、ガラス基板上に膜厚１μｍの複数のストライプ状で形成され、ストライプ状部分のピッチは０．３３ｍｍであった。本実施例では、図３に示すような、ブラックマトリックスの格子点領域にカラーフィルタ層の突出した縁部を設け、この領域でカラーフィルタ層が重なるようにした。この構造において、各色カラーフィルタ層は、サブピクセル間のブラックマトリックスに両端から０．０１ｍｍの領域が重なるように形成された。また、ブラックマトリックスの格子点領域の各色のカラーフィルタ層は、それぞれ互いに、０．０１ｍｍ重なるように突出部を形成した。
また、同様の手順で、図１に示すような、ブラックマトリックスの格子点領域以外の領域にカラーフィルタ層の突出した縁部を設け、この領域でカラーフィルタ層が重なるように各色カラーフィルタ層を成膜し、カラーフィルタ基板を作成した。この場合、ブラックマトリックス、隣り合ったカラーフィルタ層の重なりの幅（図１（Ｄ）のｒ、ｒ’およびｒ”）は、それぞれ、０．０１ｍｍであった。
［ガスバリア層の形成］
次に、得られたカラーフィルタ基板の表面上にガスバリア層を成膜した。プラズマＣＶＤ方を用いて、膜厚１μｍのＳｉＮｘ膜を積層して、ガスバリア層を得た。原料ガスとして１００ＳＣＣＭのＳｉＨ４、５００ＳＣＣＭのＮＨ３、および２００ＳＣＣＭのＮ２を用い、ガス圧を８０Ｐａとした。また、プラズマ発生用電力として、１３．５６ＭＨｚのＲＦ電力を０．５ｋＷ印加した。
（実施例２）
本実施例は、色変換フィルタ基板の製造を例示する。
上記実施例１と同様にして、ブラックマトリックスを形成した。
次に、赤色、緑色、および青色の各色カラーフィルタ層を幅０．１０ｍｍ、膜厚１μｍ、ピッチ０．３３ｍｍで形成した。各色カラーフィルタ層は、突出した端部を有しておらず、サブピクセル間のブラックマトリックスに両端から０．０１ｍｍの領域が重なるように隣り合ったカラーフィルタ層をパターンニングした。
［透明層の形成］
青色カラーフィルタ層上に、ＶＰＡ１００（新日鐵化学製）をスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィー法により、厚み１０μｍ、幅０．１０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍの透明なストライプパターンを形成した。この透明層は、赤色、緑色の色変換層が形成された際に、色ごとの各層の膜厚差を生じないように形成するものである。
［緑色変換層の形成］
蛍光色素として、クマリン６（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に１００重量部のＶ２５９ＰＡＰ５（新日鐵化学社製）を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布溶液を、スピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターンニングを実施して、緑色カラーフィルタ層の上面へ、幅０．１０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍのパターンを形成して、緑色蛍光変換層を得た。
［赤色蛍光変換層の作製］
蛍光色素としてローダミン６Ｇ（０．３重量部）およびベーシックバイオレット１１（０．３重量部）を、１００重量部のＶ２５９ＰＡＰ５（新日鐵化学（株）製）に加えて溶解させた。この塗布溶液を用いてスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターンニングを実施して、赤色カラーフィルタ層の上面へ、幅０．１０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍのパターンを形成して、赤蛍光変換層を得た。
なお、各色変換層は、図５または図６に示したような突出した端部を有しており、隣り合った色変換層の端部が、０．０１ｍｍ重なるようにパターンニングした。
［ガスバリア層の形成］
次に、得られたカラーフィルタ基板の表面上にガスバリア層を成膜した。プラズマＣＶＤ方を用いて、膜厚１μｍのＳｉＮｘ膜を積層して、ガスバリア層を得た。原料ガスとして１００ＳＣＣＭのＳｉＨ４、５００ＳＣＣＭのＮＨ３、および２００ＳＣＣＭのＮ２を用い、ガス圧を８０Ｐａとした。また、プラズマ発生用電力として、１３．５６ＭＨｚのＲＦ電力を０．５ｋＷ印加した。
（実施例３）
カラーフィルタ基板を備えたカラー有機ＥＬ素子の製造例
［白色有機ＥＬ素子の製造］
５０ｍｍ□のガラス基板上にＴＦＴデバイスが形成されたＴＦＴ基板上に以下の手順で反射電極、有機膜、透明電極の形成を行った。
反射電極として銀をスパッタリングにより形成する。９９．９９９％の銀をターゲットに、スパッタガスとしてアルゴンを用いてパワー０．５ｋＷ、ガス圧０．５Ｐａで膜厚１００ｎｍ形成した。反射電極はＴＦＴ基板にあらかじめ設けられたコンタクトホールを介して、ＴＦＴの配線電極と接続する。
次いで、ポジ型レジスト（東京応化工業株式会社製：ＴＦＲ−１２５０）を塗布し、露光を行い、レジストパターンを形成し、エッチャント（関東化学：Ｓ５１８７０）によりエッチングし所定の銀の反射電極パターンを得た。
ついで、平行平板型プラズマＣＶＤ装置を用い、画素分離膜（ＳｉＮｘ膜）をおよそ３００ｎｍ成膜した。雰囲気をＳｉＨ４ガスとＮＨ３ガスの流量比を１：１とし、ガス圧１８０Ｐａ、ＲＦ印加電力を１．２ｋＷ、基板ステージ温度を１５０℃とした。
次いで、ポジ型レジスト（東京応化工業株式会社製：ＴＦＲ−１２５０）を塗布し、画素部に開口部をもつマスクを用いて露光を行い、レジストパターンを形成した。
次いで、プラズマエッチング装置を用いて雰囲気をＳＦ６ガスとＨＣｌガスと酸素ガスの流量比を１：８：３とし、ガス圧３０Ｐａ、印加電力０．５ｋＷとし、窒化シリコ層のエッチングを行った。この後、レジストの剥離を行い、画素分離膜のパターンを得た。
次いで、画素分離膜以下の構造を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧を１×１０−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層として、膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を、正孔輸送層として、膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を、電子注入層として、膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を積層した。有機発光層は白色発光するもので、青色発光層と赤色発光層の二層構造からなり、青色発光層（３０ｎｍ）のホスト物質は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、ゲストは４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）、赤色発光層（１０ｎｍ）のホストはＤＰＶＢｉ、ゲストは４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−ｐ−ジメチルアミノスチリル−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）とした。
次に、真空を破ることなしに、膜厚２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（質量比１０／１）を堆積させて透明電極としてＩｎ−Ｚｎ酸化物を対向式スパッタ法で、ターゲットをＩｎ−Ｚｎ酸化物、Ｏ２とＡｒの分圧比を１対１とするスパッタガスをもちいて、パワー０．２５ｋＷ、ガス圧０．５Ｐａで膜厚２００ｎｍ形成した。
［貼り合わせ］
上記のようにして得られた有機ＥＬ素子を大気の曝さずに、窒素置換されたグローブボックスに移動させ、水分、酸素１ｐｐｍ以下の雰囲気でカラーフィルター基板と接着させて、有機ＥＬディスプレイを完成した。
［充填剤の充填］
カラーフィルター基板の外周部分にディスペンサーロボットにより、紫外線硬化型接着剤を塗布し外周封止層を形成する。次に、その内側に内部充填層としてシリコン樹脂（信越化学工業製）を内部空間量に合わせて注入する。このとき、シリコン樹脂は気泡も生じず、カラーフィルター基板上に均等に広がった。次に有機ＥＬ発光素子側のガラス基板を貼り合せる。その後、有機ＥＬ発光層とカラーフィルターに対応させてアライメントを行い、紫外線硬化条件として１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０ｓｅｃ間照射して外周封止層の硬化を行う。さらに８０℃６０分の加熱硬化を行い、内部充填層の硬化を完了し完成される。
（実施例４）
色変換フィルタ基板を備えたカラー有機ＥＬ素子の製造例
［有機ＥＬ素子の製造］
有機ＥＬ発光層の作製には、ホスト物質は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、ゲストは４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）として青色発光層のみ形成し、その他は実施例３におけると同様とした。
［貼り合わせ］
実施例３と同様に貼り合わせを行った。
［充填剤の充填］
実施例３と同様に貼り合わせを行った。
（実施例５）
本発明のカラー有機ＥＬ素子の評価（強度の測定）
実施例１のカラーフィルタ基板の支柱また実施例２の色変換フィルター基板では、貼り合わせ工程で発生する圧力は支柱の弾性変形により吸収され、素子の破壊は発生しなかった。また、本発明の有機ＥＬディスプレイを９０℃と−４０℃とを反復するヒートサイクルにさらしたが、発生する応力による素子の破壊が起こることはなかった。
本発明の第１の実施形態の本発明のカラーフィルタ基板を表す概略図である。（Ａ）は、上面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）のａ−ａ断面図であり、（Ｃ）は、（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。（Ｄ）は、カラーフィルタ基板が重なった部分を部分的に拡大した図である。 カラーフィルタ基板または色変換フィルタ基板のリブが形成される部分を示す図である。 本発明の第２の実施形態のカラーフィルタ基板を表す図である。（Ａ）は、上面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）のａ−ａ断面図であり、（Ｃ）は、（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。 （Ａ）（ｉ）〜（ｉｖ）および（Ｂ）（ｉ）〜（ｉｖ）は本発明のカラーフィルタ基板の製造工程を説明するための図であるが、それぞれ図１のａ−ａ断面に相当する部分およびｂ−ｂ断面に相当する部分の工程図である。 第１の実施形態の色変換フィルタ基板を示す部分概略図である。（Ａ）は、上面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）のａ−ａ断面図であり、（Ｃ）は、（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。（Ｄ）は、色変換フィルタ基板の、色変換層が重なった部分を部分的に拡大した図であり、透明基板とブラックマトリックス部分と、色変換層の重なり合っている上部を表す。 （Ａ）は、上面図であり、（Ｂ）は、（Ａ）のａ−ａ断面図であり、（Ｃ）は、（Ａ）のｂ−ｂ断面図である。 （Ａ）（ｉ）〜（ｉｖ）および（Ｂ）（ｉ）〜（ｉｖ）は本発明の色変換フィルタ基板の製造工程を説明するための図であるが、それぞれ図５のａ−ａ断面に相当する部分およびｂ−ｂ断面に相当する部分の工程図である。 （Ａ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）および（Ｂ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）は本発明の色変換フィルタ基板の製造工程を説明するための図であるが、それぞれ図５のａ−ａ断面に相当する部分およびｂ−ｂ断面に相当する部分の工程図である。 第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の一例（アクティブマトリックス型）を表す概略図であり、（Ａ）および（Ｂ）は、カラーフィルタ基板の第１の実施形態と第２の実施形態に対応したものを貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子をそれぞれ表す。 第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子（アクティブマトリックス型）の一例を表す概略図であり、（Ａ）および（Ｂ）は、色変換フィルタ基板の第１の実施形態と第２の実施形態に対応したものを貼り合わせたカラー有機ＥＬ素子をそれぞれ表す。 （Ａ）〜（Ｅ）は、第１の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程図である。 （Ａ）〜（Ｅ）は、第２の実施形態のカラー有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための工程図である。
符号の説明
１００ カラーフィルタ基板
１０２ 透明基板
１０４ ブラックマトリックス
１０６、１０８、１１０ カラーフィルタ層
１１２ 開口部
１１４、１１６、１１８ カラーフィルタ層の突出した縁部
１２０、１２０’、１２０” カラーフィルタ層が重なり合った部分
２００ 色変換フィルタ基板
５０６、５０８、５１０ 色変換層
５１４、５１６、５１８ 色変換層の突出した縁部
５２０、５２０’、５２０” 色変換層が重なり合った部分
９０２ 基板
９０４ スイッチング素子
９０６ 平坦化層
９０８ 反射電極
９１０ 絶縁層
９１２ 有機ＥＬ層
９１４ 透明電極
９１６ 充填剤層

Claims (12)

  1. 透明基板と、
    該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、
    該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層を少なくとも含み、
    該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在していることを特徴とするカラーフィルタ基板。
  2. 透明基板と、
    該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、
    該透明基板上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層と、
    該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数の色変換層を少なくとも含み、
    該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在していることを特徴とする色変換フィルタ基板。
  3. （１）下記の（ａ）〜（ｃ）を少なくとも含むカラーフィルタ基板と、
    （ａ）透明基板、
    （ｂ）該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックス、
    （ｃ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層であって、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているもの、
    （２）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を含み、
    前記の、第１および第２の方向のブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているカラーフィルタ層の端部が、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間でリブとして機能することを特徴とするカラー有機ＥＬ素子。
  4. 前記カラーフィルタ層の端部は、ブラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在していることを特徴とする請求項３に記載のカラー有機ＥＬ素子。
  5. （１）下記の（ａ）〜（ｄ）を少なくとも含む色変換フィルタ基板と、
    （ａ）透明基板、
    （ｂ）該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックス、
    （ｃ）該透明基板上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層、
    （ｄ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数の色変換層であって、色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているもの、
    （２）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を含み、
    前記の、ブラックマトリックスの格子点または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在している色変換層の端部が、色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子の間でリブとして機能することを特徴とするカラー有機ＥＬ素子。
  6. 前記色変換層の端部は、ブラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在していることを特徴とする請求項５に記載のカラー有機ＥＬ素子。
  7. （ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
    （ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程を少なくとも含み、
    該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
  8. （ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
    （ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、
    （ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成する工程を少なくとも含み、
    該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする色変換フィルタ基板の製造方法。
  9. （ア）カラーフィルタ基板を製造する工程であって、
    （ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
    （ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成すると共に、該カラーフィルタ層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含むカラーフィルタ基板を製造する工程と、
    （イ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、
    （ウ）前記工程（ア）および（イ）で製造したカラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、ブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在しているカラーフィルタ層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とするカラー有機ＥＬ素子の製造方法。
  10. 前記工程（ｉｉ）において、前記カラーフィルタ層は、その端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする請求項９に記載のカラー有機ＥＬ素子の製造方法。
  11. （Ｉ）色変換フィルタ基板を製造する工程であって、
    （ｉ）透明基板上において格子状にブラックマトリックスを形成する工程と、
    （ｉｉ）該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数のカラーフィルタ層を形成する工程と、
    （ｉｉｉ）該カラーフィルタ層上において、該ブラックマトリックスの第１の方向に沿って複数の色変換層を形成すると共に、該色変換層の端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在して形成されることを含む色変換フィルタ基板を製造する工程と、
    （ＩＩ）少なくとも、一対の電極とこれらの電極間に挟持された有機層が基板上に設けられた有機ＥＬ素子を製造する工程と、
    （ＩＩＩ）前記工程（Ｉ）および（ＩＩ）で製造した色変換フィルタ基板と有機ＥＬ素子を貼り合わせる工程であって、前記の、ブラックマトリックスの格子点または該格子点領域以外の領域で重なるように延在している色変換層の端部を、カラーフィルタ基板と有機ＥＬ素子の間のリブとして用いることを特徴とするカラー有機ＥＬ素子の製造方法。
  12. 前記工程（ｉｉｉ）において、前記色変換層は、その端部の一部がブラックマトリックスの格子点領域で重なるように延在して形成されることを特徴とする請求項１１に記載のカラー有機ＥＬ素子の製造方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015161624A1 (zh) * 2014-04-23 2015-10-29 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及制备方法、有机电致发光显示面板、显示装置
WO2016136042A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 ソニー株式会社 表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器
JP2019024024A (ja) * 2018-11-22 2019-02-14 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置及び電子機器
CN110491925A (zh) * 2019-08-27 2019-11-22 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
CN110581159A (zh) * 2014-02-14 2019-12-17 精工爱普生株式会社 有机发光装置的制造方法、有机发光装置以及电子设备
JP2020173471A (ja) * 2013-05-21 2020-10-22 株式会社半導体エネルギー研究所 携帯電話機
US11026301B2 (en) 2012-10-29 2021-06-01 Seiko Epson Corporation Organic EL device, method of manufacturing organic EL device, and electronic apparatus
CN114256438A (zh) * 2021-12-21 2022-03-29 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 一种显示面板及显示装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11026301B2 (en) 2012-10-29 2021-06-01 Seiko Epson Corporation Organic EL device, method of manufacturing organic EL device, and electronic apparatus
JP2020173471A (ja) * 2013-05-21 2020-10-22 株式会社半導体エネルギー研究所 携帯電話機
CN110581159A (zh) * 2014-02-14 2019-12-17 精工爱普生株式会社 有机发光装置的制造方法、有机发光装置以及电子设备
CN110581159B (zh) * 2014-02-14 2023-08-25 精工爱普生株式会社 有机发光装置的制造方法、有机发光装置以及电子设备
WO2015161624A1 (zh) * 2014-04-23 2015-10-29 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及制备方法、有机电致发光显示面板、显示装置
US9575227B2 (en) 2014-04-23 2017-02-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter substrate and manufacturing method thereof, organic electroluminescent display panel and display device
CN107251648A (zh) * 2015-02-24 2017-10-13 索尼公司 显示装置、用于制造显示装置的方法和电子设备
US10566403B2 (en) 2015-02-24 2020-02-18 Sony Corporation Display device, manufacturing method for display device, and electronic device with substrate spacer
CN107251648B (zh) * 2015-02-24 2020-08-14 索尼公司 显示装置、用于制造显示装置的方法和电子设备
WO2016136042A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 ソニー株式会社 表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器
JP2019024024A (ja) * 2018-11-22 2019-02-14 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置及び電子機器
CN110491925A (zh) * 2019-08-27 2019-11-22 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
CN114256438A (zh) * 2021-12-21 2022-03-29 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 一种显示面板及显示装置

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