WO2010038503A1

WO2010038503A1 - 酸化セリウム及びその製造方法

Info

Publication number: WO2010038503A1
Application number: PCT/JP2009/057822
Authority: WO
Inventors: 靖英山口; 純和尾形
Original assignee: 三井金属鉱業株式会社
Priority date: 2008-10-03
Filing date: 2009-04-20
Publication date: 2010-04-08
Also published as: TW201014793A; JP2010083741A

Abstract

本発明は、微細且つ立方体形状の多角形粒子を含む酸化セリウムを提供する。本発明は、透過型電子顕微鏡による多角形粒子の観察像が矩形であり、一辺の長さが５ｎｍ～２００ｎｍである立方体状の多角形粒子を含むことを特徴する酸化セリウムに関する。この研摩材の製造法は、塩化セリウムとアルカリ性物質とを不活性ガス雰囲気中で反応させて水酸化セリウム（ＩＩＩ）を生成する工程と、該水酸化セリウムを酸化して酸化セリウムとする工程とを含むことを特徴とする。

Description

酸化セリウム及びその製造方法

　本発明は、酸化セリウム及びその製造方法に関し、特に研摩材として好適な酸化セリウムに関する。

　酸化セリウムは、研摩材、紫外線吸収剤、触媒用担持媒体、ガラス消色材、セラミックス用など多様な用途に用いられており、それぞれの用途に合わせた特性が要求されている。例えば研摩材用途としては、液晶ディスプレイ用のガラスや、ハードディスク又はフォトマスク用基板等の表面仕上げに用いられている。

　研摩材用途においては、研摩後の被研摩面が平滑であることや、研摩速度の大きいことが要求されるため、研摩材の材料である酸化セリウムについても、純度や物性等を制御することが必要となる。

　また、紫外線吸収剤用途においては、紫外線遮断効率及び可視光透過率をさらに向上させることが求められており、触媒用担持媒体としては、高温の熱処理を行った場合にも、触媒粒子である貴金属等が凝集することなく、分散性の高い状態であることが求められている。

　この酸化セリウムに関しては、様々な研摩特性を満足するものが提案されているが、例えば、研摩速度を向上させる場合には、研摩材を構成する研摩材粒子（以下、単に粒子と称す場合がある）の粒径や、その粒度分布などを調整することが行われている。また、粒子を特定形状に調整することで、その研摩速度を向上させる技術も提案もされている（例えば、特許文献１）。

　しかしながら、このような酸化セリウムが提案されているものの、従来の酸化セリウムのうち、粒子の形状を特定したものについては、その実物の研摩材粒子を観察すると、その表現とは異なり、粒子形状自体がその特定形状になっていないものがほとんどである。

　この特定形状になっている粒子形状を有するものとしては、例えば、立方体形状をした酸化セリウム粉末が提案されている（特許文献２）。しかし、この酸化セリウムは平均粒径が１．５μｍもあり、かなり大きな粒径である。この先行技術における立方体形状の酸化セリウム粉末を研摩材として使用する場合には、かなり深い研摩傷を形成するため、現在の酸化セリウム系の研摩材が研摩対象としている、ガラス基板や光学用レンズ等などの平滑性が要求される被研摩物に対しては、好適なものとはいえない。

特開２００３－２０６４７５号公報特開平７－１８７６１３号公報

　本発明は、以上のような事情の背景になされたもので、立方体形状を有し、微粒の多角形粒子を含む酸化セリウムを提供することを目的とする。

　本発明者らは、水酸化セリウム（ＩＩＩ）を酸化することにより得られる酸化セリウムの製造方法について、種々の検討を行ったところ、所定の条件により、生成物質の結晶成長をコントロールすることで、微細で、且つ、立方体状の多角形粒子を含む酸化セリウムを製造できることを見出し、本発明を想到するに至った。

　本発明は、透過型電子顕微鏡による多角形粒子の観察像が矩形であり、一辺の長さが５ｎｍ～２００ｎｍである立方体状の多角形粒子を含むことを特徴する酸化セリウムに関する。

　本発明に係る酸化セリウムは、一辺の長さが５ｎｍ～２００ｎｍであって、立方体状の多角形粒子を含むものである。非常に微細な粒子であるため、透過電子顕微鏡で観察する必要があり、その観察像（以下、ＴＥＭ像と称する）において、矩形、すなわち、四角形状の粒子が認められる。特に、正方形の粒子像が観察されることから、本発明に係る酸化セリウムは、立方体状の多角形粒子を含むものである。本発明のセリウム系研摩材に含まれる立方体状の多角形粒子は、透過電子顕微鏡による電子線回折により、（００１）面を有するものであることが確認できる。なお、酸化セリウム（ＣｅＯ_２）では、（００１）面は（１００）面と等価である。

　本発明の酸化セリウムは、研摩材、紫外線吸収剤、触媒用担持媒体、ガラス消色材、セラミックス用などの用途に好適なもので、特に研摩材用に好適なものである。

　そして、本発明に係る酸化セリウムは、透過型電子顕微鏡により得られる粒子径（ＴＥＭ径）と、Ｘ線回折により得られる結晶子径（ＸＲＤ径）との比が、（ＴＥＭ径）／（ＸＲＤ径）＝０．５～２である。

　本発明に係る酸化セリウムは、次のような製造方法により得ることができる。水酸化セリウム（ＩＩＩ）を酸化することにより酸化セリウムを得る酸化セリウムの製造方法において、塩化セリウムとアルカリ性物質とを不活性ガス雰囲気中で反応させて水酸化セリウム（ＩＩＩ）を生成する工程と、該水酸化セリウムを酸化して酸化セリウムとする工程とを含むことを特徴とする。尚、（ＩＩＩ）とは、セリウムの価数が３価であることを示す。

　本発明の製造方法においては、塩化セリウムとアルカリ性物質とを不活性ガス雰囲気下において反応させることとしているが、このような条件下での反応によると、急速に反応が進行するため、生成される水酸化セリウムの粒子が微細な正方晶となり、それを酸化することにより、立方体状で、微細な多角形粒子が生成される。不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどを用いることができる。

　本発明における酸化セリウムの製造方法においては、塩化セリウムとアルカリ性物質との反応は、液温６０℃～１０４℃、ｐＨ５～９で行うことが好ましい。本発明の製造方法においては、原料として塩化セリウムを用いるものであり、それ以外の硝酸セリウムや硝酸セリウムアンモニウム等を用いた場合、粒子径が大きくなる傾向となる。反応時の液温６０℃未満であると、高粘度となり撹拌が困難となる傾向になり、１０４℃より高くするには、かなりの高圧条件で行う必要になる。また、ｐＨ５未満になると、粒径が大きくなる傾向となり、ｐＨ９を超えると、粒子形状が棒状になりやすく、例えば、研摩特性等が悪くなる傾向となる。

　水酸化セリウム（ＩＩＩ）を生成させる反応は、塩化セリウムとアルカリ性物質とを、それぞれ一定の添加速度に保って溶媒に添加することが好ましい。例えば、溶媒中に、塩化セリウムとアルカリ性物質とを同時に滴下する方法や、塩化セリウムとアルカリ性物質とを接触させた後、直ちに剪断する方法によって反応させることが好ましい。このような方法によれば、反応時のゲル化が抑制されるとともに、水酸化セリウム（ＩＩＩ））を均一な立方体形状で生成することが可能となる。このため、酸化工程が均一に進行しやすいものとなり、粒径が均一で、微細な粒子の酸化セリウムを得ることができる。

　溶媒中に塩化セリウムとアルカリ性物質とを同時に滴下して反応させる場合には、両試薬を少量ずつ添加して反応させることが好ましい。一度に大量に添加した場合には、液中の反応が均一に進行しにくい傾向となり、ゲル化する場合があるからである。このときの溶媒としては、水を用いることが好ましい。

　また、塩化セリウムとアルカリ性物質とを接触させた後、直ちに剪断する方法によると、さらに反応の進行を促進させることができる。剪断は、はさみで物を２つに切るように、液体の供給方向に対して異なる方向に液体が変形するような力を作用させることをいい、ホモジナイザーやディスパーサー等を用いて行うことができる。例えば、塩化セリウムとアルカリ性物質とを一定量ずつ接触するような速度で添加し、反応が進行してｐＨが変化する前に、回転する剪断装置内側に溶液を流入させ、ローター歯に当てた後、遠心力によって装置外側に排出させる方法を用いることができ、剪断装置外側に、ローターと歯数の異なる固定歯（ステーター）を備えることで、溶液に強い剪断力を与えることができる。特に、高剪断速度で撹拌が可能なローターやステーターを用いると、さらに反応の進行を促進できる。

　そして、上記により得られた水酸化セリウム（ＩＩＩ）は、酸化剤により酸化して酸化セリウムを製造する。酸化剤としては、過酸化水素水、次亜塩素酸、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸カルシウム、オゾン等を使用できる。

　酸化させる際の液温は、大気圧下において８０℃以上とすることが好ましく、９０℃以上であることがより好ましい。８０℃未満であると、酸化反応が進行しにくい場合があり、７０℃以下では、反応が完全には進行しにくく、均一な形状の粒子とすることが困難な傾向となる。大気圧を超える条件で加熱を行った場合は、酸化剤である過酸化水素が熱分解されて、発生した酸素が酸化反応に使用され、粗大粒子の発生しやすい傾向がある。

　また、本発明における酸化セリウムの製造方法においては、酸化後の酸化セリウムを洗浄する工程を含むことが好ましい。また、水酸化セリウム（ＩＩＩ）も洗浄することも好ましい。洗浄を行うと、酸化セリウムの粒子径分布がシャープとなる傾向がある。洗浄は、濾過、遠心分離、フィルタープレス等の方法によって行うことができる。例えば、濾過により濾液を排出しながら循環洗浄する方法が好ましい。洗浄後のスラリー濃度を調整することができるためである。

　以上説明したように、本発明の酸化セリウムは、従来に実現し得なかった、微細で、且つ、立方体状の多角形粒子を含むものあるため、研摩材、紫外線吸収剤、触媒用担持媒体、ガラス消色材、セラミックス用などの様々な用途への適用が可能となる。特に、研摩速度を調整する場合、本発明の酸化セリウムを用いることにより、その速度調整を自在にコントロールすることが可能となる。

実施例１の透過電子顕微鏡写真。実施例１の電子線回折対象粒子のＴＥＭ像及び電子線回折結果。比較例１の透過電子顕微鏡写真。光透過率測定グラフ。

　本発明の実施形態について説明する。

第一実施形態：この第一実施形態では、酸化セリウムの製造方法と、その酸化セリウムの粒子形状を調査した結果について説明する。

　実施例１として、まず、塩化セリウム水溶液を酸化セリウム換算で２５０ｇ／Ｌ、水酸化ナトリウムを１７４．５ｇ／Ｌになるようにそれぞれ調整した。次に２００Ｌの反応槽中へ７３Ｌの純水を加え、９０℃以上まで加温し、脱気処理を行った。そして、さらに、窒素ガスを２．５Ｌ／分の流量で導入し、３０分間放置することで、反応槽内を不活性雰囲気とした。

　その後、塩化セリウム水溶液を１７０ｍＬ／分、水酸化ナトリウム水溶液を１６０ｍＬ／分の流量で、両者を同時に反応槽中へ投入した。この反応により、紫色の沈殿物が反応槽内に生成された。この得られた沈殿物は、Ｘ線回折分析（ＸＲＤ）したところ、水酸化セリウムと同定された。

　反応槽内では、塩化セリウム水溶液と水酸化ナトリウム水溶液を槽内に投入したときから沈殿し始め、その時点からスラリー状態となり、槽内の撹拌（撹拌速度２５０ｒｐｍ）を継続して、ある程度の熟成処理を行うことで、槽内は均一なスラリーとなった。そして、このようにして得られた水酸化セリウム（ＩＩＩ）スラリーを液温９０℃以上で反応が完結するまで１０分間熟成処理を行った。その後、１２質量％の過酸化水素水２４００ｍＬを流量８０ｍＬ／分の速度で加え、酸化処理を行った。

　酸化処理の反応完了後、得られたスラリーを回収し、クロスフロー型のろ過器にて、スラリー中のＮａイオンが、＜１０ｐｐｍ、Ｃｌイオンが＜１００ｐｐｍとなるまで脱塩処理を行った。得られたスラリー中の固形分をＸ線回折（ＸＲＤ）にて分析したところ、酸化セリウム（ＩＶ）と同定された。

　得られた酸化セリウムを透過電子顕微鏡（（株）日立製作所；Ｈ－９００ＮＡＲ）のより観察したところ、図１に示すように、四角形の粒子形状のものが多数含くまれていることが判明した。また、その一つの粒子を観察したところ、図２に示すように、一辺が約７５ｎｍの四角形であり、その角度は９０°で、ほぼ正方形であることが判明した。さらに、この正方形の粒子像に対して、透過電子顕微鏡の電子線回折（ＥＤ）にて調べたところ、（００１）面を有するものであることが確認された。このＴＥＭ観察結果より、この実施例１で得られた酸化セリウムは、立方体状の多角形粒子を含むものと断定した。

比較例１：比較のために、上記実施例の製造方法において、窒素を導入しない状態、つまり、大気雰囲気中で、塩化セリウム水溶液と水酸化ナトリウムとを反応させて、酸化セリウムを製造した。この比較例の製造条件は、窒素を導入しない以外は全て実施例と同様な操作を実施した。

　具体的には、塩化セリウム水溶液を酸化セリウム換算で２５０ｇ／Ｌ、水酸化ナトリウムを１７４．５ｇ／Ｌになるようにそれぞれ調整した。次に２００Ｌの反応槽中へ７３Lの純水を加え、９０℃以上まで加温し、塩化セリウム水溶液を１７０ｍＬ／分、水酸化ナトリウム水溶液を１６０ｍＬ／分の流量で、両者を同時に反応槽中へ投入した。
この反応により、白色の沈殿物が反応槽内に生成された。この得られた白色の沈殿物は、Ｘ線回折分析（ＸＲＤ）したところ、水酸化セリウムと酸化セリウムの混合物と同定された。

　反応槽内では、塩化セリウム水溶液と水酸化ナトリウム水溶液を槽内に投入したときから沈殿し始め、その時点からスラリー状態となり、槽内の撹拌（撹拌速度２５０ｒｐｍ）を継続して、ある程度の熟成処理を行うことで、槽内は均一なスラリーとなった。そして、このようにして得られたスラリーを液温９０℃以上で反応が完結するまで１０分間熟成処理を行った。その後、１２質量％の過酸化水素水２４００ｍＬを流量８０ｍＬ／分の速度で加え、酸化処理を行った。

　酸化処理の反応完了後、得られたスラリーを回収し、クロスフロー型のろ過器にて、スラリー中のＮａイオンが、＜１０ｐｐｍ、Ｃｌイオンが＜１００ｐｐｍとなるまで脱塩処理を行った。得られたスラリー中の固形分をＸ線粉末回折（ＸＲＤ）にて分析したところ、酸化セリウム（ＩＶ）と同定された。

　得られた酸化セリウムを透過電子顕微鏡のより観察したところ、図３に示すように、矩形（四角形）の形状を有する粒子は認められず、２００個の粒子を個別に確認したところ、図２で示したような立方体状の多角形粒子は全く存在していないことが判明した。

第二実施形態：続いて、この第二実施形態では、反応槽への塩化セリウム水溶液と酸化セリウ水酸化ナトリウムとの添加流量を変化させて酸化セリウムを製造し、各酸化セリウムによる研摩材スラリーの研摩特性を調査した結果について説明する。

　表１には、上記第一実施形態での実施例１及び比較例１に加えて、各研摩材を作成した際の、塩化セリウム水溶液と酸化セリウ水酸化ナトリウムとの添加流量を変えた場合（実施例２、３及び比較例２、３）の結果も示している。この実施例２、３及び比較例２、３の製造条件は、表１に記載する流量以外に関しては、上記第一実施形態で説明した実施例１、比較例１と同様とした。

　また、研摩特性は、研摩試験を行い、その際の研摩速度を測定することで評価した。測定条件は、以下の通りである。

研摩試験：片面ポリッシングマシン（（株）エムエーティー社製）を使用して行った。研摩条件は、石英ガラス（直径６０ｍｍ）を被研摩物としてポリウレタン製の研摩パッドを用いて研摩した。そして、研摩材スラリーを２５ｍＬ／ｍｉｎの速度で供給し、研摩面に対する圧力を９．０ｋＰａ（０．０８８ｋｇ／ｃｍ^２）に設定して研摩機回転速度を６０ｒｐｍで３０分間の研摩を行った。

研摩速度：特定時間の研摩処理を行い、研摩前後のガラス質量を測定して研摩によるガラス質量の減少量を求め、この値に基づき研摩速度を求めた。

　また、各研摩材に関し、透過型電子顕微鏡により得られる粒子径（ＴＥＭ径）と、Ｘ線回折により得られる結晶子径（ＸＲＤ径）とを測定し、その比率関係についても調べた。

　透過型電子顕微鏡により得られる粒子径（ＴＥＭ径）は、次のようにして特定した。まず、透過型電子顕微鏡にて、１視野内に２００個～１０００個の粒子が含まれる倍率によってＴＥＭ像を撮った。そして、そのＴＥＭ像写真上に、トレーシングペーパ或いはＯＨＰシートを置き、総ての粒子の輪郭をトレースする。このトレース図面をスキャナー（フラットヘッドスキャナーＣａｎｏｎＳｃａｎ８２００Ｆ：出力解像度４００ｄｐｉ）により読み込み、電子データ化して、画像解析ソフト（Ｉｍａｇｅ　Ｐｒｏ　Ｐｌｕｓ：Ｍｅｄｉａ　Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）により、対象物（個々の粒子）の重心を通る径を２°刻みで測定し、その平均値をその粒子の粒径とし、電子データ化された総ての粒子の粒径を測定し、その合計を粒子個数で割ることにより、ＴＥＭ径を特定した。

　また、Ｘ線回折により得られるの結晶子径（ＸＲＤ径）は、次のようにして特定した。Ｘ線分析装置（ブルカー・エイエックスエス（株）製、ＭＸＰ１８）により、各試料の結晶回折分析を行った。測定条件は、銅ターゲットによるＣｕ－Ｋα線を用い、管電圧４０ｋＶ、管電流１５０ｍＡ、走査速度（２θ）４°／分、サンプリング幅０．０２°、スキャン範囲２θ＝５°～９０°とした。測定後、Ｃｕ－Ｋα１線のものと、Ｃｕ－Ｋα２線によるものとを分離し、Ｃｕ－Ｋα１線によるものを用いて結晶子径を測定した。結晶子径（ＸＲＤ径）は、２θで、２８．６°、３３．１°、４７．５°、５６．３°、５９．１°、６９．４°、７６．７°、７９．１°付近の８本のピークをシェラー法解析モードにて解析して求めた。このＸＲＤ径の特定方法は、ＪＩＳ　Ｋ　０１３１－１９９６「Ｘ線回折分析通則」の１２．結晶子の大きさと不均一ひずみの測定の（３）結晶子の大きさと不均一ひずみの両方を測定する方法、及び、ＪＩＳ　Ｈ　７８０５：２００５「Ｘ線回折法による金属触媒の結晶子径測定方法」の１０．１結晶子径の測定のａ）得られる回折Ｘ線が複数（３本以上）の場合の規格を参照して行った。

　表１に示すように、塩化セリウム水溶液と酸化セリウ水酸化ナトリウムとの添加流量を変えることにより、得られた酸化セリウムの粒径を調整できた。実施例２～実施例４については、ＴＥＭ径／ＸＲＤ径の値が０．５３～１．９９の範囲にあり、その研摩速度が０．１６μｍ／分以上であることが判明した。一方、比較例１～４については、ＴＥＭ径／ＸＲＤ径の値が総て２を超えるもので、その研摩速度も実施例１～４に比べ、かなり低下することが認められた。

第三実施形態：ここでは、上記実施例１及び比較例１で得られた酸化セリウム並びに市販の高純度酸化セリウムについて光透過率を測定した結果について説明する。

　この光透過率の測定は、分散媒を水として、各酸化セリウムを０．０２質量％分散させて酸化セリウムスラリーを調製し、分光光度計（（株）島津製作所製、Ｕ－４０００）にて、波長２５０～８００ｎｍにおける光透過率を測定することによって行った。結果を図４に示す。尚、試料Ａは実施例１の酸化セリウムを測定した場合、試料Ｂは比較例１の酸化セリウムを測定した場合、試料Ｃは市販の高純度酸化セリウム（関東化学（株）製　酸化セリウム（IV）、商品名：ＮａｎｏＴｅｋ(登録商標)）を測定した場合の結果を示したものである。

　図４より、実施例１の酸化セリウム（試料Ａ）は及び比較例１の酸化セリウム（試料Ｂ）は、波長２５０～４００ｎｍにおける紫外線の遮断効率が良好で、４００～８００ｎｍの可視光領域における透過率も高いものであった。特に、実施例１の酸化セリウム（試料Ａ）は、波長２５０～４００ｎｍにおける紫外線の遮断効率が優れており、紫外線吸収剤として好適なものであった。

第四実施形態：ここでは、貴金属触媒としてパラジウム、ロジウム、又は白金を、実施例１の酸化セリウムに担持した後、貴金属触媒の分散度を測定した結果について説明する。尚、分散度は、貴金属粒子が原子レベルで単分散している場合の分散度を１．００として表し、分散度が低い場合には、貴金属粒子が粗大化し、触媒活性が低くなる傾向があると考えられる。

分散度の測定
試料１：実施例１の酸化セリウムに、硝酸パラジウム（酸化セリウム１ｇに対しパラジウムメタル換算で０．１ｇ）を吸着含浸させた後、クロスフロー方式の濾過器にて、ＮＯ^３－イオン濃度が２５０ｍｇ／Ｌ以下になるまで洗浄及び濃縮を行い、２０質量％まで濃縮したパラジウム担持酸化セリウムスラリーを得た。このスラリー５．５ｇに、市販のアルミナ粒子（関東化学（株）製、酸化アルミニウム１５０塩基性（タイプＴ））を８．９ｇ添加し、三本ロールで混練し、１５０℃で３時間乾燥させた後、大気中にて９００℃で１０時間熱処理を行った。この熱処理品（Ｍ／ＣｅＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３）０．１ｇについて、金属分散度測定装置により分散度を測定した。また、硝酸パラジウムに代えて、硝酸ロジウム又は塩化第二白金を用いて得られた熱処理品についても、同様に分散度を測定した。但し、塩化第二水銀を用いた場合は、Ｃｌ^－イオン濃度が１５０ｍｇ／Ｌ以下になるまで洗浄した。結果を表２に示す。

　分散度の測定は、金属分散度測定装置ＢＥＬ－ＭＥＴＡＬ－１（日本ベル（株）製）を用いてＣＯパルス法により行った。但し、前処理温度は触媒学会参照触媒委員会の標準化マニュアルでは４００℃とされているが、４００℃で前処理を行うと酸化セリウムがＣＯを吸着する場合があるため、前処理温度は３００℃とした（駒井慎一、他３名、「ＣＯパルス法によるＰｔ／ＣｅＯ_２触媒の金属分散度の測定」、Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆＪａｐａｎＰｅｔｒｏｌｅｕｍＩｎｓｔｉｔｕｔｅ、社団法人石油学会、２００５年、４８巻、３号、ｐ１７３－１７７参照）。

試料２：実施例１の酸化セリウムの代えて比較例１の酸化セリウムを使用し、分散度を測定した。

試料３：実施例１の酸化セリウムの代えて市販のアルミナ粒子を使用し、分散度を測定した。

試料４：実施例１の酸化セリウムに代えて、市販の高純度酸化セリウム（関東化学（株）製　酸化セリウム（IV）、商品名：ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標））を使用して、分散度を測定した。

　各試料の分散度の測定結果を表２に示す。

　表２より、実施例１の酸化セリウムを担持媒体とした試料１及び試料２（Ｍ／ＣｅＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３）では、パラジウム、ロジウム、又は白金のいずれを用いた場合にも分散度が高く、貴金属粒子を高分散させるために好適な担持媒体であることが分かった。

　本発明は、微細で、且つ、立方体状の多角形粒子を含む酸化セリウムであるため、研摩材、紫外線吸収剤、触媒用担持媒体、ガラス消色材、セラミックス用などの様々な用途への適用が可能となる。特に、研摩速度を自在にコントロールすることが可能となる。

Claims

透過型電子顕微鏡による多角形粒子の観察像が矩形であり、一辺の長さが５ｎｍ～２００ｎｍである立方体状の多角形粒子を含むことを特徴する酸化セリウム。
透過型電子顕微鏡により得られる粒子径（ＴＥＭ径）と、Ｘ線回折により得られる結晶子径（ＸＲＤ径）との比が、（ＴＥＭ径）／（ＸＲＤ径）＝０．５～２である請求項１に記載の酸化セリウム。
請求項１または請求項２の酸化セリウムからなる研摩材。
水酸化セリウム（ＩＩＩ）を酸化して酸化セリウムを得る酸化セリウムの製造方法において、
塩化セリウムとアルカリ性物質とを不活性ガス雰囲気中で反応させて水酸化セリウム（ＩＩＩ）を生成する工程と、
該水酸化セリウムを酸化して酸化セリウムとする工程とを含むことを特徴とする酸化セリウムの製造方法。
塩化セリウムとアルカリ性物質との反応は、液温６０℃～１０４℃、ｐＨ５～９で行う請求項４に記載の酸化セリウムの製造方法。
酸化セリウムを洗浄する工程を含む請求項４または請求項５に記載の酸化セリウムの製造方法。
水酸化セリウム（ＩＩＩ）を洗浄する工程を含む請求項４～請求項６いずれかに記載の酸化セリウムの製造方法。