WO2008072403A1 - 非接触液シール装置及び方法 - Google Patents

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WO2008072403A1
WO2008072403A1 PCT/JP2007/068573 JP2007068573W WO2008072403A1 WO 2008072403 A1 WO2008072403 A1 WO 2008072403A1 JP 2007068573 W JP2007068573 W JP 2007068573W WO 2008072403 A1 WO2008072403 A1 WO 2008072403A1
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contact liquid
liquid sealing
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PCT/JP2007/068573
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Inventor
Kazuo Ohara
Kenichiro Arai
Original Assignee
Nichiyo Engineering Corporation
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    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1509Horizontally held PCB

Definitions

  • the present invention relates to a liquid sealing apparatus and method for a wet processing apparatus that performs wet processing such as plating on an object such as a substrate of a printed circuit board.
  • a printed circuit board used for an IC card or the like is nailed in order to establish electrical connection between mounted elements.
  • a method for plating the printed circuit board a single-wafer method in which the substrate of the printed circuit board is cut and immersed in the plating solution, or a continuous type in which the strip-shaped flexible printed circuit board itself is continuously immersed in the plating solution. The method is used.
  • the work is conveyed by the conveying means above the immersion tank filled with the treatment liquid, and then lowered into the immersion tank and immersed in the treatment liquid.
  • the cake after the treatment is lifted from the dipping tank and conveyed to the next step.
  • This method is used for single-wafer workpieces, but cannot be applied to continuous strip-like workpieces.
  • a slit-shaped entrance / exit is provided on the opposite side wall of the immersion tank, and the workpiece is carried into and out of the immersion tank through this slit.
  • This method can be used not only for single-wafer workpieces but also for strip-shaped workpieces.
  • the liquid level of the treatment liquid in the immersion tank cannot be increased due to the large amount of the treatment liquid in the immersion tank flowing out of the slit. If the slit width is narrowed, the amount of outflow of the processing solution can be reduced. Simply reducing the slit width will cause the workpiece to contact the inner surface of the slit.
  • the slit needs to have a certain width of about 10 mm.
  • the liquid level in the immersion bath cannot be increased, it is difficult to process a wide workpiece, and the width of the workpiece that can be processed is about 200 mm at the maximum.
  • a large amount of energy is required for the fluid equipment, such as a high-capacity spill return pump is required to maintain the level of the treatment liquid in the immersion tank.
  • the position of the workpiece passing through the slit tends to become unstable.
  • the outflow amount of the processing liquid from the slit can be reduced to some extent.
  • the liquid level of the processing liquid in the immersion tank can be increased, and a wide workpiece can be processed.
  • this method it is possible to process a workpiece having a width of up to about 600 mm.
  • the work and the seal roll do not slip, the occurrence of scratches on the work by the seal roll can be suppressed, and since the work is positioned by the roll, it is possible to move the work stably.
  • the surface of the seal roll that comes into contact with the workpiece deteriorates with time, maintenance of the roll can be performed. Is required.
  • Patent Document 1 Japanese Utility Model Publication No. 59-17765
  • Patent Document 2 JP-A-2-182895
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-275681
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-147582
  • Patent Document 5 Japanese Utility Model Publication No. 61-155371
  • the liquid level of the treatment liquid filled in the immersion tank can be increased, so even for a wide workpiece. It is possible to perform processing with the processing liquid.
  • An object of the present invention is to immerse a single wafer or a strip-shaped workpiece into or out of a dip tank with the width direction being substantially vertical through a slit in the side wall of the dip tank filled with the treatment liquid. It is an object of the present invention to provide a non-contact liquid sealing device and method capable of sufficiently suppressing the outflow of the processing liquid from the tank without contact with the workpiece!
  • the inventors of the present application have passed a single wafer or a strip-shaped workpiece through the opening of the immersion tank filled with liquid with the width direction being substantially vertical. In doing so, in the range corresponding to the opening of the immersion bath, the fluid position is stabilized by non-contacting the immersion bath by jetting a fluid jet from both sides of the workpiece toward the workpiece passing through the opening.
  • the present inventors have found that the workpiece can be carried in and out and the outflow of the liquid from the immersion tank can be sufficiently suppressed or reduced, and the present invention has been completed.
  • the above object is a non-contact liquid sealing device for a dipping tank in which an opening through which a single wafer or a strip-shaped workpiece passes is provided in a side wall in a state where the width direction is substantially vertical, and is filled with liquid.
  • a jet ejecting part Arranged on one side of the opening, disposed on the other side of the opening, and a jet ejecting part for ejecting a jet of fluid from the one side toward the work passing through the opening,
  • a non-contact liquid sealing device comprising a liquid sealing portion that seals outflow of the liquid from the other side of the opening.
  • the liquid sealing portion is disposed on the other side of the opening, and is directed toward the workpiece passing through the opening.
  • the other side force may also be a jet jet part that jets a jet of fluid.
  • the gap between the parts may be narrower toward the bottom.
  • the liquid sealing portion is disposed on the other side of the opening and contacts the surface of the other side of the workpiece. It may be a columnar member.
  • the jet ejecting portion is provided on the work fluid side of the jet fluid conduit to which the fluid is supplied and the jet fluid conduit, You may make it have a jet nose which spouts the jet! /.
  • the jet nozzle may be oriented in a direction inclined toward the immersion tank with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece. It ’s good.
  • the jet nozzle may be oriented in a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece! /.
  • the jet jet section may include a plurality of jet nozzles arranged in the vertical direction.
  • the holes of the plurality of jet nozzles may be circular.
  • the hole diameter of the plurality of jet nozzles may be larger as the hole of the jet nozzle below.
  • the pitch of the holes of the plurality of jet nozzles arranged in the vertical direction may be denser toward the lower side! /.
  • the width of the opening may become narrower downward.
  • the above object is a non-contact liquid sealing method for a dipping tank in which an opening through which a single wafer or a strip-shaped workpiece passes is provided in the side wall in a state where the width direction is substantially vertical, and the liquid is filled.
  • a jet of fluid is ejected from both sides of the workpiece toward the workpiece passing through the opening.
  • the above object is a non-contact liquid sealing method for a dipping tank in which an opening through which a single wafer or a strip-shaped workpiece passes is provided in a side wall in a state where the width direction is substantially vertical, and the liquid is filled.
  • a liquid seal portion that contacts the surface of the one side of the workpiece and seals outflow of the liquid from the one side of the opening, on one side of the opening, and the liquid
  • a fluid jet is ejected from the other side of the opening toward the workpiece passing through the opening.
  • the non-contact liquid sealing method is characterized in that the outflow of the liquid from the other side of the opening is sealed in a non-contact manner.
  • the workpiece passes through the opening.
  • the outflow of the liquid from the immersion tank can be sufficiently suppressed or reduced without contact with the workpiece. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent contact between the peripheral members and parts and the workpiece, and to reliably prevent occurrence of defects in the workpiece such as damage, deformation, and discoloration.
  • the liquid level of the liquid filled in the immersion tank can be increased, and a wide work can be treated with the liquid S filled in the immersion tank.
  • one side of the opening of the immersion tank filled with liquid is brought into contact with the surface on one side of the work, and the liquid flows out from one side of the opening.
  • a sheet or strip-shaped workpiece passes through the opening with the liquid sealing portion to be sealed and the width direction being substantially vertical, the other side of the opening toward the workpiece passing through the opening Since the jet of fluid is ejected from the liquid, the outflow of liquid from the immersion tank is further suppressed or reduced while reliably preventing the occurrence of work defects such as scratches and discoloration on the other side of the work.
  • FIG. 1 is a schematic view (No. 1) showing the structure of a wet processing apparatus including a non-contact liquid sealing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic diagram (No. 2) showing the structure of a wet processing apparatus provided with the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic view (No. 3) showing the structure of a wet processing apparatus including a non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic view (No. 1) showing the structure of the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic diagram (No. 2) showing the structure of the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic view showing the structure of a non-contact liquid sealing device according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic view showing the structure of a non-contact liquid sealing device according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a non-contact liquid sealing device according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing the structure of a non-contact liquid sealing device according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the non-contact liquid sealing device according to the sixth embodiment of the present embodiment.
  • FIG. 11 is a schematic diagram showing another example of a single-sided roll in the non-contact liquid sealing apparatus according to the sixth embodiment of the present embodiment.
  • FIG. 12 is a plan view showing the structure of a continuous wet processing apparatus according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a plan view showing the structure of a continuous wet processing apparatus according to the eighth embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing another example of the structure of the non-contact liquid sealing device according to the present invention.
  • FIGS. 1 to 3 are schematic views showing the structure of a wet processing apparatus equipped with the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment
  • FIGS. 4 and 5 are schematic views showing the structure of the non-contact liquid seal apparatus according to the present embodiment.
  • FIG. 1 to 3 are schematic views showing the structure of a wet processing apparatus equipped with the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment
  • FIGS. 4 and 5 are schematic views showing the structure of the non-contact liquid seal apparatus according to the present embodiment.
  • FIG. 1 to 3 are schematic views showing the structure of a wet processing apparatus equipped with the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment
  • FIGS. 4 and 5 are schematic views showing the structure of the non-contact liquid seal apparatus according to the present embodiment.
  • FIGS. 1 is a plan view showing the structure of a wet processing apparatus equipped with a non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG.
  • the immersion tank 10 is filled with a treatment liquid for performing a predetermined treatment on the single-wafer workpiece 12.
  • the treatment liquid is supplied to the immersion tank 10 via the pump 16 from the treatment liquid storage tank 14 in which the treatment liquid is stored.
  • slits 20 for carrying in and out the single-wafer workpiece 12 are provided in a substantially vertical direction.
  • the workpiece 12 is carried into the immersion tank 10 from the slit 20 on one side wall 18 with the width direction being substantially vertical.
  • the workpiece 12 carried into the immersion tank 10 is carried out of the immersion tank 10 from the slit 20 of the other side wall 18 with the width direction being substantially vertical as it is.
  • a non-contact liquid sealing device 22 is provided on the opposite side wall 18 of the immersion tank 10 provided with the slit 20.
  • the non-contact liquid sealing device 22 has a pair of jetting jet parts 24 that jet the jets of the processing liquid evenly from both sides of the work 12 toward the work 12.
  • the pair of jet squirting portions 24 includes slits 20 on the outer surfaces of the end portions of the side walls 18 on both sides of the slit 20. It arrange
  • the treatment liquid ejected from the pair of jet ejection parts 24 is supplied from the treatment liquid storage tank 14 through a pump 16, a flow rate adjusting valve 26, and a flow rate indicator and controller (FIC) 28. It is like this.
  • a tray 30 for collecting the treatment liquid flowing out from the slit 20 and the treatment liquid ejected from the non-contact liquid sealing device 22 is provided below the carry-in and carry-out side walls 18 of the immersion tank 10.
  • the processing liquid collected in the receiving tray 30 is collected in the processing liquid storage tank 14.
  • a wet processing apparatus including the non-contact liquid sealing apparatus 22 is configured.
  • the workpiece 12 is, for example, a printed wiring board, a base material used for the printed wiring board, or the like.
  • the thickness of the workpiece 12 is, for example, in the range of 3 to 200 111, specifically, 38 m for mainstream, then 25 m for many, 50 m for special applications, 100 m, and the like.
  • the shape of the workpiece 12 is not limited to a single wafer, but may be a belt-like shape such as a continuous strip unwound from a roll.
  • the immersion tank 10 is, for example, a plating tank filled with a plating solution as a processing solution.
  • the immersion tank 10 may be a pretreatment tank, a post-treatment tank, a washing tank, or the like that is not limited to the plating tank.
  • the treatment performed in the dipping bath 10 can be selected from a treatment solution suitable for the treatment, such as the power of the plating treatment, etching treatment, degreasing treatment, fouling treatment, and washing treatment.
  • the width of 20 is, for example, substantially constant in the vertical direction.
  • the treatment liquid is appropriately supplied from the treatment liquid storage tank 14 via the pump 16 to the immersion tank 10, and the liquid level of the reaction liquid in the immersion tank 10 is obtained.
  • the height of is kept substantially constant.
  • the non-contact liquid sealing device 22 according to the present embodiment is mainly characterized by having a pair of jetting jetting parts 24 that jet the jets of the processing liquid evenly from both sides of the work 12 toward the work 12.
  • the non-contact liquid sealing device 22 according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. Fig. 4 is a cross-sectional view along CC 'in Figs. 2 and 3, and Fig. 5 (a) is A plan view, FIG. 5 (b) is a side view of the work side of the jet ejection part 24.
  • FIG. Fig. 4 is a cross-sectional view along CC 'in Figs. 2 and 3
  • Fig. 5 (a) is A plan view
  • FIG. 5 (b) is a side view of the work side of the jet ejection part 24.
  • FIG 4 shows the structure of the non-contact liquid sealing device 22 provided on the side wall 18 on the carry-out side of the workpiece 12 in the immersion tank 10, but the side wall 18 on the carry-in side of the work 12 in the immersion tank 10 is shown.
  • the provided non-contact liquid sealing device 22 has the same structure.
  • a pair of jet ejection portions 24 are arranged on the outer surfaces of the end portions of the side walls 18 on both sides of the slit 20 so as to face each other through the cake 12 passing through the slit 20.
  • Each of the pair of jet jet parts 24 is provided with a jet fluid pipe 32 that is a flow path of the processing liquid jetted as a jet, and a plurality of jet nozzles 36 through which the processing liquid in the jet fluid pipe 32 jets as jets. And a jet nozzle plate 34.
  • the jet fluid conduit 32 is, for example, a rectangular tube.
  • the same processing liquid as the processing liquid filled in the immersion tank 10 is supplied from the processing liquid storage tank 14 to the jet fluid pipe 32 via a pipe.
  • the treatment liquid may be supplied to the jet fluid line 32 at a single point (see FIG. 5B), or the treatment liquid may be supplied from a plurality of points.
  • the jet fluid line 32 is divided into a plurality of chambers, for example, upper and lower two stages, upper middle and lower three stages, and the processing liquid is supplied to each divided chamber. Gore.
  • the flow rate of the processing liquid supplied to the jet fluid pipe 32 is detected by the FIC 28. Based on the flow rate detection result, the FIC 28 controls the flow rate adjustment valve 26 so that the flow rates of the processing liquid ejected from the pair of jet ejection portions 24 facing each other through the workpiece 12 are equalized.
  • the jet nozzle plate 34 is provided on the work 12 side of the jet fluid conduit 32. Jet nozzle plate
  • the protrusion 34 has a projecting portion 38 projecting toward the workpiece 12 along the vertical direction of the jet fluid pipe 32.
  • the surface of the protrusion 38 that faces the workpiece 12 is a flat surface that is substantially parallel to the moving direction of the workpiece 12.
  • the side surface of the protrusion 38 on the immersion tank 10 side is a surface substantially parallel to the side wall 18 of the immersion tank 10.
  • the side surface of the protrusion 38 opposite to the immersion tank 10 is an inclined surface.
  • the surfaces on both sides of the protrusion 38 of the jet nozzle plate 34 are substantially parallel to the moving direction of the workpiece 12.
  • the plurality of jet nozzles 36 are arranged in a range corresponding to the slit 20 of the immersion bath 10 in the jet nozzle plate 3
  • the four protruding portions 38 are arranged in the vertical direction and are connected to the jet fluid conduit 32.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 36 have, for example, a substantially constant pin in the vertical direction.
  • the protrusions 38 are arranged in a line on a plane that faces the workpiece 12 of the protrusion 38.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 36 have, for example, circular shapes with the same diameter.
  • the diameter of the hole of the jet nozzle 36 is, for example, about 0.5 to 3 mm, specifically, for example, about 2 mm.
  • each jet nozzle 36 faces a direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • Each of the jet nozzles 36 facing in the inclined direction in this manner is directed toward the workpiece 12 in a substantially horizontal direction in the direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to the direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • the processing liquid supplied from 32 is ejected as a jet.
  • a jet slit 40 sandwiched between the faces of the protrusions 38 facing the work 12 is formed.
  • the width of the jet slit 40 is substantially constant in the vertical direction narrower than the width of the slit 20 of the immersion bath 10, and is, for example, about !! to 3 mm.
  • the thickness of the jet slit 40, that is, the length in the moving direction of the workpiece 12 of the surface of the protruding portion 38 facing the workpiece 12 is, for example, about 3 mm.
  • a throat portion 42 wider than the jet slit 40 is formed between the jet nozzle plates 34 of the pair of jet jet portions 24 on the immersion tank 10 side of the jet slit 40.
  • a throat portion 44 wider than the jet slit 40 is formed on the opposite side of the immersion slit 10 of the jet slit 40.
  • the throat portion 42 on the immersion tank 10 side has a substantially constant width that is narrower than the width of the slit 20 of the immersion tank 10.
  • the width of the throat portion 44 on the opposite side of the immersion bath 10 increases as it moves away from the jet slit 40 side, and is about the same width as the throat portion 42 on the immersion bath 10 side.
  • the length of the workpiece 12 in the moving direction is longer in the throat portion 44 on the opposite side of the immersion bath 10 than in the throat portion 42 on the immersion bath 10 side.
  • the throat portion 44 Is configured.
  • a plurality of jet nozzles 36 on both sides of the work 12 are also jetted uniformly from both sides of the work 12 toward the work 12.
  • the immersion tank 10 filled with the treatment liquid is loaded with the workpiece 12 force S and the slit 20 of the side wall 18 on the carry-in side with the width direction being substantially vertical, and the width direction is substantially vertical as it is with the carry-out side. It is carried out from the slit 20 of the side wall 18 of the slab.
  • the moving speed of the workpiece 12 is, for example, a relatively slow speed in the range of about 0.1 lm to about 30 m / min, and is usually about 0.;! To 2 m / min.
  • the treatment liquid is supplied to the jet fluid pipe 32, and the jet nozzle plate
  • a jet of the treatment liquid is ejected from 34 jet nozzles 36.
  • the flow rate of the processing liquid supplied to the jet fluid pipe 32 is controlled by the FIC 28 so that the flow rate of the processing liquid ejected from the jet nozzles 36 of the pair of jet nozzle plates 34 facing each other through the work 12 is uniform.
  • the In this way, the jets of the processing liquid are ejected from both sides of the work 12 evenly toward the work 12 from the jet nozzles 36 of the pair of jet nozzle plates 34 opposed via the work 12.
  • the velocity component of the jet in a direction substantially perpendicular to the workpiece 12 is expressed as the inertia force of the jet.
  • the work 12 is caused to flow from the jet nozzle 36 of the pair of jet nozzle plates 34 toward the work 12 by the treatment liquid jetted evenly from both sides of the work 12, so that the work 12 has the slit 20 inside the immersion tank 10 and the jet nozzle. It is stably carried in and out of the immersion bath 10 without touching the plate 34.
  • the non-contact liquid sealing device 22 According to the non-contact liquid sealing device 22 according to the present embodiment, contact between the slit 20 of the immersion tank 10 and peripheral members such as the jet nozzle plate 34, parts, and the workpiece 12 is prevented, and the loss is reduced. It is possible to reliably prevent the occurrence of defects in the work 12 such as scratches, deformations, and discoloration.
  • the jet slit 40 is non-contacted by the jet of the processing liquid that is uniformly jetted from both sides of the work 12 toward the work 12 in the jet slit 40. It is possible to sufficiently seal or reduce the outflow of the processing solution from the immersion bath 10 with a force S. Therefore, it is possible to increase the liquid level of the processing liquid filled in the dipping tank 10 and to process the wide workpiece 12 with the processing liquid. According to this embodiment, for example, a wide workpiece 12 having a width of about 1000 mm can be treated with the treatment liquid in the immersion tank 10.
  • the non-contact liquid sealing device 22 does not need to use moving parts such as rollers and bearings for the jet part 24 for jetting the processing liquid jet, and therefore can easily perform maintenance management. Can do.
  • the outflow of the processing liquid from the immersion tank 10 can be sufficiently suppressed or reduced, so that energy saving, resource saving and energy saving can be reduced. Space can be planned.
  • a single-wafer or strip-shaped workpiece such as a printed circuit board or flexible printed circuit board is carried in and out in a horizontal direction into a dipping tank such as a mating tank with a substantially vertical cross section.
  • the moving speed of the workpiece is relatively slow.
  • the moving speed of the workpiece is, for example, in the range of about 0.1 lm to 30 m / min, and is usually 0.1 to 2 m / min.
  • the workpiece moving speed is slow, unlike the case of moving the workpiece at a high speed of, for example, 30 Om / min, fluid lubrication due to the moving speed of the workpiece cannot be expected much.
  • the present invention by jetting a jet of the processing liquid to the workpiece, the position of the workpiece is stabilized by this fluid action, and the workpiece can be carried in and out without contact.
  • a non-contact liquid sealing device is provided on the side wall provided with the slit of the immersion tank, and a non-contact is achieved by stabilizing the position of the workpiece by ejecting a jet.
  • the outflow of the processing solution from the immersion tank is suppressed or reduced.
  • the spilled liquid is prevented from scattering or the processing liquid adhering to the workpiece.
  • a configuration is known in which fluid is blown against the effluent from the slit and the workpiece from a position away from the slit of the immersion tank.
  • the shape and dimensions of the non-contact liquid sealing device 22 are based on the analysis of the inertial and viscous forces of the fluid around the jet slit 40 based on fluid engineering, the fluid pressure distribution analysis by the finite element method, and the streamline simulation. It is desirable to set appropriately according to the above.
  • Specific examples of the shape and dimensions of the non-contact liquid sealing device 22 include the distance between a pair of jet nozzle plates 34 facing each other across the workpiece 12, the thickness of the jet slit 40, and the length and shape of the throat portions 42 and 44. The shape, hole diameter, number, etc. of the jet nozzle 36.
  • the single-wafer or strip-shaped workpiece 12 is immersed in the immersion tank 10 with the width direction being substantially vertical through the slit 20 of the immersion tank 10 filled with the treatment liquid.
  • the jets of the processing liquid are ejected from both sides of the workpiece 12 toward the workpiece 12 from the plurality of jet nozzles 36 on both sides of the workpiece 12 in the jet slit 40.
  • the outflow of the processing solution from 10 can be sufficiently suppressed or reduced without contact with the workpiece 12.
  • FIG. 6 (a) is a plan view of a jet jet part in the non-contact liquid sealing device according to the present embodiment
  • FIG. 6 (b) is a side view of the jet side of the jet jet part.
  • the non-contact liquid according to the first embodiment Constituent elements similar to those of the sealing device are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.
  • the basic configuration of the non-contact liquid sealing apparatus according to this embodiment is the same as that of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment.
  • the plurality of jet nozzles 36 arranged in the vertical direction on the protruding portion 38 of the jet nozzle plate 34, the holes of the jet nozzles 36 arranged below are as follows. Its main feature is that it has a long oval shape in the vertical direction.
  • the liquid pressure of the treatment liquid filled in the immersion tank 10 increases from the liquid surface to the lower part. For this reason, the liquid pressure of the treatment liquid flowing out of the immersion tank 10 becomes higher in the lower part of the immersion tank 10. Therefore, it is preferable that the action of suppressing the outflow of the treatment liquid from the immersion bath 10 is strengthened as the lower side of the immersion bath 10.
  • the plurality of jet nozzles arranged in the upper and lower directions on the protrusions 38 of the jet nozzle plate 34 are arranged below.
  • Nozzle No. 36 The hole is longer and longer in the vertical direction!
  • the flow rate of the processing liquid ejected as a jet can be increased as the jet nozzles 36 disposed below are provided. it can. Therefore, according to the present embodiment, the action of suppressing the outflow of the treatment liquid from the immersion tank 10 can be strengthened toward the lower part of the immersion tank 10, and the outflow of the treatment liquid from the immersion tank 10 can be further sufficiently suppressed or reduced. Can be reduced.
  • the configuration in which the flow rate of the processing liquid ejected as a jet is increased as the jet nozzle 36 disposed below is not limited to the above configuration.
  • the hole diameter of the jet nozzle 36 disposed below may be increased.
  • the pitch of the holes of the plurality of jet nozzles 36 arranged in the vertical direction may be made denser toward the lower side.
  • the number of rows of holes in the jet nozzles 36 arranged in the vertical direction may be changed according to the height, and the number of rows of holes in the jet nozzle 36 may be increased downward.
  • the jet fluid pipe 32 is divided into a plurality of chambers in the vertical direction, the processing liquid ejected from the jet nozzle 36 is supplied to each of the plurality of chambers, and the flow rate of the processing liquid supplied to the lower chamber is increased. Also good.
  • FIG. 7 (a) is a plan view of a jet ejection part in the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment
  • FIG. 7 (b) is a side view of the jet side of the jet ejection part. Note that the same components as those of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.
  • the basic configuration of the non-contact liquid sealing apparatus according to this embodiment is the same as that of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment.
  • the non-contact liquid sealing device according to the present embodiment is mainly characterized in that a slit-like jet nozzle 46 is provided in the jet nozzle plate 34 instead of the plurality of jet nozzles 36 having a circular hole.
  • the jet nozzle plate 34 is provided with a slit-like jet nozzle 46 in the vertical direction.
  • the width of the slit-like jet nozzle 46 becomes wider, for example, downward.
  • the width of the slit-like jet nozzle 46 may be substantially constant in the vertical direction.
  • the width of the slit-shaped jet nozzle 46 is, for example, about 0.;! To lmm.
  • the slit-shaped jet nozzle 46 is connected to the jet fluid line 32.
  • the slit-like jet nozzles 46 of the pair of jet nozzle plates 34 facing each other through the workpiece 12 are equally jetted from both sides of the workpiece 12 toward the workpiece 12, like the plurality of jet nozzles 36. Erupt.
  • slit-like jet nozzles 46 may be provided instead of the plurality of jet nozzles 36 having circular holes.
  • FIG. 8 is a sectional view showing the structure of the non-contact liquid sealing device according to the present embodiment. Note that the same components as those of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.
  • the basic configuration of the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment is the same as that of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment.
  • the non-contact liquid sealing device according to this embodiment is directed to a direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the work 12! Multiple jets facing in a direction substantially perpendicular to the moving direction
  • the main feature is that the nozzle 48 is provided in the jet nozzle plate 34.
  • the jet nozzle plate 34 provided on the work 12 side of the jet fluid pipe 32 has a surface facing the work 12 in the moving direction of the work 12. It has a substantially parallel flat portion 50.
  • the surfaces on both sides of the flat portion 50 of the jet nozzle plate 34 are inclined surfaces.
  • the plurality of jet nozzles 48 are arranged in the vertical direction on the immersion tank 10 side of the flat portion 50 in a range corresponding to the slit 20 of the immersion tank 10, and are connected to the jet fluid pipe 32. Yes.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 48 are arranged in a line on a plane facing the fork 12 of the flat portion 50, for example, at a substantially constant pitch in the vertical direction.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 48 are, for example, circular with the same diameter.
  • Each jet nozzle 48 is oriented in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • Each jet nozzle 48 ejects the processing liquid supplied from the jet fluid pipe 32 as a jet toward the workpiece 12 substantially horizontally in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • a throat part 42 whose width increases toward the immersion tank 10 side is formed on the immersion tank 10 side of the jet slit 40.
  • a throat portion 44 whose width increases toward the opposite side of the immersion tank 10 is formed on the opposite side of the jet slit 40 from the immersion tank 10. The length of the workpiece 12 in the moving direction is longer in the throat part 44 on the immersion tank 10 side than in the throat part 44 on the opposite side to the immersion tank 10.
  • the throat ⁇ , the jet slit 40, the throat portion 44, and the slit 20 in the immersion tank 10 are within a range corresponding to the slit 20. Is configured.
  • the jets of the processing liquid are ejected from the plurality of jet nozzles 48 on both sides of the workpiece 12 evenly from both sides of the workpiece 12 toward the workpiece.
  • the shape, pitch, and number of rows of the holes are changed, or the jet fluid pipe 32 is divided into a plurality of chambers, and the plurality of chambers are divided. You can also supply the processing liquid spouted from Nozure 48!
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing the structure of the non-contact liquid sealing device according to the present embodiment.
  • the same components as those of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first to fourth embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.
  • the basic configuration of the non-contact liquid sealing apparatus according to the present embodiment is the same as that of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment.
  • the non-contact liquid sealing device according to the present embodiment is directed to the direction inclined to the immersion tank 10 with respect to the direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • the main feature is that the jet nozzle plate 34 is provided with a plurality of jet nozzles 48 oriented in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • the jet nozzle plate 34 provided on the work 12 side of the jet fluid pipe 32 has a surface facing the work 12 in the moving direction of the work 12. It has a flat part 50 that is substantially parallel!
  • the surface of the jet nozzle plate 34 on the immersion tank 10 side of the flat part 50 is farther away from the position of the work 12 than the face of the flat part 50 facing the work 12, and is substantially parallel to the moving direction of the work 12. Yes.
  • the surface of the jet nozzle plate 34 on the opposite side of the immersion tank 10 in the flat part 50 is an inclined surface.
  • the jet nozzle plate 34 includes a plurality of jet nozzles 36 provided on the immersion tank 10 side of the flat part 50 and a plurality of jet nozzles 36 provided at positions farther from the immersion tank 10 than the jet nozzle 36 of the flat part 50. It has a jet nozzle 48!
  • the plurality of jet nozzles 36 are arranged in the vertical direction on the immersion tank 10 side of the flat portion 50 of the jet nozzle plate 34 in the range corresponding to the slit 20 of the immersion tank 10, and the jet fluid conduit Connected to 32.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 36 are formed, for example, in the vertical direction with a substantially constant pitch. Are arranged in a row at the corner facing the core 12.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 36 are, for example, circular with the same diameter.
  • Each jet nozzle 36 is directed in a direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • Each jet nozzle 36 is directed toward the workpiece 12 in a direction substantially inclined in the direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to the direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12, and the jet fluid pipe 3
  • the processing liquid supplied from 2 is ejected as a jet.
  • the plurality of jet nozzles 48 are flat in the range corresponding to the slits 20 of the immersion tank 10.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 48 are arranged in a line on a plane facing the fork 12 of the flat portion 50, for example, at a substantially constant pitch in the vertical direction.
  • the holes of the plurality of jet nozzles 48 are, for example, circular with the same diameter.
  • Each jet nozzle 48 faces in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • Each jet nozzle 48 ejects the processing liquid supplied from the jet fluid pipe 32 as a jet toward the workpiece 12 substantially horizontally in a direction substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece 12.
  • a throat portion 42 having a substantially constant width is formed between the jet nozzle plates 34 of the pair of jet jet portions 24 on the immersion tank 10 side of the jet slit 40.
  • a throat portion 44 whose width increases toward the opposite side of the immersion tank 10 is formed on the opposite side of the jet slit 40 from the immersion tank 10.
  • the throat ⁇ , the jet slit 40, the throat portion 44, and the slit 20 in the immersion tank 10 are within a range corresponding to the slit 20. Is configured.
  • the treatment liquid jets are ejected from both sides of the workpiece 12 evenly from the plurality of jet nozzles 36 toward the workpiece 12 in the inclined direction on both sides of the workpiece 12!
  • a plurality of jet nozzles 48 are provided on the jet nozzle plate 34! /!
  • the jet nozzles 36 and 48 may be changed by changing the hole shape, pitch, number of rows, or by dividing the jet fluid pipe 32 into a plurality of chambers.
  • the processing liquid ejected from the jet nozzles 36 and 48 may be supplied to each chamber.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the non-contact liquid sealing apparatus according to this embodiment
  • FIG. 11 is a schematic view showing another example of the seal roll in the non-contact liquid sealing apparatus according to this embodiment. Note that the same components as those of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first to fifth embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.
  • a pair of jets and jets are provided so as to face the outer surfaces of the end portions of the side walls 18 on both sides of the slit 20 via the workpiece 12 passing through the slit 20. 24 were arranged.
  • the workpiece 12 comes into contact with the inner surface of the slit 20 of the immersion tank 10 and the jet nozzle plate 34 by jets of the processing liquid ejected evenly from both sides of the workpiece 12 from the pair of jet ejection portions 24 toward the workpiece 12. It is carried in and out of the immersion tank 10 with stability.
  • both surfaces of the workpiece 12 are subjected to the mesh treatment.
  • defects such as scratches, misalignments, scratches, discoloration, and the like.
  • one surface of the workpiece 12 is a processing surface that should be subjected to processing such as a texture processing
  • the other surface is a non-processing surface that does not need to be processed or that does not perform processing.
  • liquid sealing means that contacts the non-processing surface of the workpiece 12 is provided on the non-processing surface side of the workpiece 12 in the slit 20. What is necessary is just to arrange.
  • the non-contact liquid sealing device is a double-side non-contact type that performs liquid sealing while realizing a non-contact state on both surfaces of the work 12, whereas this embodiment
  • the non-contact liquid sealing device according to is a one-side non-contact type that performs liquid sealing while realizing a non-contact state on one side of the work 12.
  • the processing surface of the workpiece 12 of the slit 20 is provided.
  • the non-processing surface 12b side of the work 12 of the slit 20 is provided as a liquid sealing means that contacts the non-processing surface of the work 12
  • a seal roll 82 is arranged.
  • FIG. 10 shows the structure of the non-contact liquid sealing device 78 according to the present embodiment provided on the side wall 18 on the carry-in side of the work 12 of the immersion tank 10.
  • the non-contact liquid sealing device 78 provided on the side wall 18 on the carry-out side of the work 12 of the immersion tank 10 has a similar structure.
  • a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, a jet ejection portion 24 similar to the non-contact liquid sealing device according to the first embodiment is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the
  • the side wall on the immersion tank 10 side of the jet squirting part 24 also serves as the side wall of the immersion tank 10! /, Shown as! /, Shown as 1 / S, for example, as shown in FIG.
  • the side wall of the jet squirting part 24 and the side wall of the immersion tank 10 may be further fixed as iJi solid.
  • a seal tank 80 opened on the workpiece 12 side is provided on the outer surface of the side wall 18 of the slit 20 on the non-processing surface 12b side of the workpiece 12.
  • a cylindrical or cylindrical seal roll 82 is accommodated in the seal tank 80 so as to be rotatable about the central axis thereof.
  • the seal roll 82 is a hollow pipe-shaped rigid body made of a resin such as polychlorinated bur and Teflon (registered trademark).
  • the outer peripheral surface of the seal roll 82 may be a smooth surface, and a plurality of grooves along the axial direction of the seal roll 82 are provided over the entire outer peripheral surface. May be. Further, the seal roll 82 may have a stepped shape having a large-diameter portion with a thicker diameter near the upper end and the lower end.
  • a weight (not shown) is provided on the bottom inside the seal roll 82 in order to stabilize the posture of the seal roll 82.
  • the sheet roll 82 is provided with a recess at the lower end and the central portion of the upper end.
  • a convex portion provided at the bottom of the seal tank 80 is fitted in the concave portion at the lower end.
  • a convex portion provided at the upper portion of the seal tank 80 is fitted in the concave portion at the upper end.
  • An appropriate gap is provided as an allowance for the fitting between the recess and the protrusion.
  • the seal roll 82 is accommodated in the seal tank 80 so that there is an appropriate gap for play, and the seal roll 82 rotates while preventing the seal roll 82 from overturning. You can make it freely!
  • the non-contact liquid sealing device 78 includes the jet ejection portion 24 disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, and the non-processing surface 12b side of the workpiece 12 of the slit 20.
  • the main feature is that it has a seal roll 82 disposed on the surface.
  • the jet fluid pipe is the same as in the first embodiment.
  • the treatment liquid is supplied to 32, and a jet of treatment liquid is ejected from the plurality of jet nozzles 36 of the jet nozzle plate 34.
  • the jet of the processing liquid is jetted from the jet nozzle 36 of the jet nozzle plate 34 toward the processing surface 12a of the workpiece 12 in the jet jet section 24.
  • the seal tank 80 that stores the seal roll 82 disposed on the non-processing surface 12b side of the workpiece 12 of the slit 20 is filled with the processing liquid in the immersion tank 10 through the slit 20. .
  • the seal roll 82 is automatically pressed against the non-processing surface 12b of the workpiece 12 by the liquid pressure of the processing liquid, and is pressed against the side wall of the sealing tank 80 facing the side wall 18 of the immersion tank 10.
  • the seal roll 82 force comes into close contact with the non-processed surface 12 b of the work 12 and also comes into close contact with the side wall of the seal tank 80.
  • the seal roll 82 in close contact with the non-processed surface 12b of the work 12 Rotate as the 12 moves.
  • the force that the seal roll 82 is pressed against the work 12 and the force that the work 12 is pushed by the treatment liquid that is jetted from the jet jet part 24 are jetted from the jet jet part 24 so as to be balanced.
  • the flow rate of the processing liquid is controlled so that the processing surface 12a of the workpiece 12 does not come into contact with peripheral members and parts such as the jet nozzle plate 34.
  • each jet nozzle 36 of the jet jet portion 24 is appropriately set so that the processing liquid is jetted toward the contact portion of the seal roll 82 with the workpiece 12.
  • each jet nozzle 36 faces a direction inclined toward the immersion tank 10 with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12! /
  • the direction in which each jet nozzle 36 is inclined toward the immersion tank 10 is set so that the processing liquid is jetted from each jet nozzle 36 toward the contact portion of the seal roll 82 with the workpiece 12.
  • the jet flow is ejected from the jet ejection portion 24 on the processing surface 12a side of the workpiece 12 of the slit 20, thereby
  • the outflow of the processing liquid from the slit 20 is suppressed or reduced while maintaining a non-contact state with peripheral members and parts such as the jet nozzle plate 34.
  • the outflow of the processing liquid from the slit 20 is reduced or suppressed by the seal roll 82 that contacts the non-processing surface 12b of the workpiece 12.
  • the processing surface 12a of the workpiece 12 is processed.
  • the occurrence of defects such as scratches and discoloration can be reliably prevented, and the outflow of the processing liquid from the slit 20 of the immersion tank 10 can be further suppressed or reduced.
  • the force S and the seal roll 82 are rotated by a motor such as a geared motor, which is described in the case where the seal roll 82 in close contact with the non-processed surface 12b of the work 12 rotates as the work 12 moves.
  • the seal roll 82 may function not only as a liquid sealing means but also as a conveying means for conveying the workpiece 12.
  • FIG. 11 shows a configuration in which the seal roll 82 is rotated by the geared motor 84.
  • the seal roll 82 is rotatably supported by bearings 86a and 86b provided on the upper side and the lower side, respectively.
  • the seal roll 82 may be configured to rotate by the geared motor 84 so that the seal roll 82 functions not only as a liquid seal means but also as a transport means.
  • the present embodiment is also applied to the work S in which one surface of the workpiece 12 is the processing surface 12a and the other surface is the non-processing surface 12b, and the force S and both surfaces are processing surfaces.
  • a non-contact liquid sealing device according to the form can be used.
  • FIG. 12 is a plan view showing the structure of the continuous wet processing apparatus according to this embodiment.
  • the same components as those of the non-contact liquid sealing device according to the first to sixth embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.
  • the scope of application of the control device is not limited to this.
  • the non-contact liquid sealing apparatus according to the present invention continuously wet-processes a strip-shaped workpiece using a plurality of immersion tanks, such as the continuous wet processing apparatus described in Patent Document 4 by the present applicant. It can also be used as a liquid seal device in a continuous wet processing apparatus.
  • the continuous wet processing apparatus according to the present embodiment uses the non-contact liquid sealing apparatus according to the present invention, for example, the non-contact liquid sealing apparatus according to the first embodiment as the liquid sealing apparatus.
  • the continuous wet processing apparatus includes a plating processing unit 52 where plating processing is performed, and a work unwinding unit that continuously feeds the strip-shaped workpiece 12 to be plated to the staking processing unit 52. 54 and a workpiece take-up unit 56 for continuously collecting the workpiece 12 plated in the plating unit 52! /.
  • the work unwinding section 54 is provided with an uncoiler 58 for feeding the strip-shaped work 12 wound in a coil shape in the longitudinal direction with its width direction being substantially vertical and introducing it into the plating processing section 52. .
  • an accumulator device 60 is provided that keeps the tension of the workpiece 12 fed from the uncoiler 58 constant.
  • the accumulator device 60 is provided with rollers 60a, 60b, 60c, and 60d for regulating the position of the work 12 from the side of the work 12 and for folding the work 12 back.
  • the plating section 52 has a plurality of plating tanks 62a, 62b, 62c, 62d filled with a plating solution.
  • the contact tanks 62a, 62b, 62c, 62d are provided with the non-contact liquid sealing device 22 according to the first embodiment on the opposite side walls, respectively.
  • the work 12 is moved so that the width direction of the work 12 is substantially vertical so that the work 12 can be carried in the holding tanks 62a, 62b, 62c, 62d.
  • the work 12 carried by the plating tanks 62a, 62b, 62c, 62di is transported out of the mating tanks 62a, 62b, 62c, 62d via the non-contact liquid sealing device 22 on the other side wall. It has become.
  • the non-contact liquid sealing device 22 of the plating tank 62b changes the direction of the work 12 that has also been carried out, and the non-contact liquid sealing device is supplied to the plating tank 62c.
  • a U-turn section 64 is provided for carrying in via 22.
  • the U-turn section 64 includes rollers 64a and 64b for changing the direction of the workpiece 12.
  • a power feed roll unit 66 for feeding power to the work 12 is provided in the vicinity of the non-contact liquid sealing device 22 on the work carry-in side and work carry-out side of each mating tank 62a, 62b, 62c, 62d.
  • the power supply roll unit 66 is arranged so as to sandwich the work 12 and includes power supply rolls 66a, 66b, and 66c that contact the work 12 and supply power.
  • a pretreatment tank 68 for removing dirt, etc. of the work 12 fed from the work unwinding part 54 is provided.
  • the non-contact liquid sealing device 22 according to the first embodiment may be provided for the pretreatment tank 68 filled in the night.
  • a cleaning chamber 70 for shower-cleaning the plated workpiece 12 is provided in the vicinity of the non-contact liquid sealing device 22 on the workpiece carry-out side of the plating tank 62d.
  • a drying chamber 72 for drying hot air on the workpiece 12 cleaned in the cleaning chamber is provided in the vicinity of the cleaning chamber 70.
  • a workpiece winding unit 56 for winding and collecting the workpiece 12 dried in the drying chamber 72 is arranged!
  • the work take-up unit 56 is provided with a recoiler 74 that takes up and collects the work 12 fed by the plating processing unit 52 and sent in a substantially vertical width direction. Between the recoiler 74 and the drying chamber 72 of the tacking processing unit 52, a driving device 76 for sending the workpiece 12 to the recoiler 74 at a predetermined speed is provided.
  • the driving device 76 includes rollers 76a, 76b, and 76c for folding the workpiece 12 and changing the moving direction of the workpiece 12.
  • the non-contact liquid sealing device 22 may be provided for the plating tanks 62a, 62b, 62c, 62d, and the pretreatment tank 68 in the continuous wet processing apparatus.
  • non-contact liquid sealing device 22 according to the first embodiment is provided as the liquid sealing device in the continuous wet processing apparatus, but according to the first embodiment.
  • any of the non-contact liquid sealing devices 22 and 78 according to the second to sixth embodiments may be provided.
  • FIG. 13 is a plan view showing the structure of the continuous wet processing apparatus according to the present embodiment.
  • the same components as those of the non-contact liquid sealing apparatus according to the first to sixth embodiments and the continuous wet processing apparatus according to the seventh embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.
  • the workpiece 12 whose one surface is the processing surface 12a and whose other surface is the non-processing surface 12b is the processing target.
  • the basic configuration of the continuous wet processing apparatus according to this embodiment is almost the same as the configuration of the continuous wet processing apparatus according to the seventh embodiment, but the non-contact liquid sealing apparatus 78 according to the sixth embodiment is used as the liquid sealing apparatus. This is different from the continuous wet processing apparatus according to the seventh embodiment in that each member is arranged to avoid contact with the processing surface 12a of the work 12 as much as possible.
  • the work 12 is wound around the uncoiler 58 in a coil shape with the processing surface 12a inside.
  • rollers 60a and 60d for regulating the position of the workpiece 12 from the side of the workpiece 12, and the rollers 60b and 60c for turning back the workpiece 12, only the roller 60b is The other roller 60a, 60c, 60d is in contact with the non-processing surface 12b of the workpiece 12 while being in contact with the processing surface 12a.
  • each power supply roll section 66 In each power supply roll section 66, one power supply roller 66a arranged on the processing surface 12a side of the work 12 and two power supply rolls 66b and 66c arranged on the non-processing surface 12b side of the work 12 Work 12 is sandwiched. In each power supply roll section 66, one power supply roll 66a is in contact with the processing surface 12a of the work 12, whereas two power supply rolls 66b and 66c are connected to the non-processing surface 12b of the work 12. Talk to me.
  • the non-contact liquid sealing device 78 according to the sixth embodiment is provided on the opposite side wall, respectively, and the non-contact liquid sealing device on one side wall is provided. 78 Then, the work 12 is moved so as to be loaded into the mating tanks 62a, 62b, 62c, 62d with the width direction being substantially vertical. Plating tanks 62a, 62b, 62c, 62di are loaded work pieces 12 (as is, they are carried out of the mating tanks 62a, 62b, 62c, 62d via the non-contact liquid sealing device 78 on the other side wall. It has become.
  • each non-contact liquid sealing device 78 as in the case shown in Fig. 10, the jet ejection portion 24 is disposed on the processing surface 12a side of the workpiece 12, and the seal roll 82 is disposed on the non-processing surface 12b side of the workpiece 12. Is placed.
  • the pretreatment tank 68 may also be provided with the non-contact liquid sealing device 78 according to the sixth embodiment, similarly to the plating tanks 62a, 62b, 62c, 62d.
  • both the rollers 64a and 64b for changing the direction of the workpiece 12 are in contact with the non-processed surface 12b of the workpiece 12.
  • rollers 76a and 76b for turning back the workpiece 12 and the workpiece.
  • rollers 76c for changing the moving direction of 12 only the roller 76a is in contact with the processing surface 12a of the workpiece 12, and the other rollers 76b and 76c are in contact with the non-processing surface 12b of the workpiece 12.
  • the workpiece 12 is wound and collected with the processing surface 12a facing inward.
  • the non-contact according to the sixth embodiment is performed on the workpiece 12 in which one surface is the processing surface 12a and the other surface is the non-processing surface 12b.
  • the liquid seal device 78 is used as a liquid seal device, and each member is arranged so as to avoid contact with the processing surface 12a of the workpiece 12 as much as possible.
  • the number of rollers in contact with the non-processing surface 12b of the workpiece 12 is larger than the number of rollers in contact with the processing surface 12a of the workpiece 12.
  • the number of power supply rolls in contact with the non-processing surface 12b of the work 12 is larger than the number of power supply rolls 66a in contact with the processing surface 12a of the work 12.
  • the roller does not come into contact with the processing surface 12a of the workpiece 12.
  • the number of rollers that contact the non-processing surface 12b of the workpiece 12 is larger than the number of rollers that contact the processing surface 12a of the workpiece 12.
  • the processing surface 12a of the workpiece 12 is continuously wet.
  • the force S it is possible to surely prevent the occurrence of defects such as scratches and discoloration due to contact with members in the processing apparatus, and to further suppress or reduce the outflow of the processing liquid from the slit 20 of the immersion bath 10.
  • the force described in the case where a jet of the same processing liquid as the processing liquid filled in the immersion tank 10 is jetted from the jet nozzles 36, 46, 48 is jetted from the jet nozzles 36, 46, 48.
  • the liquid jet 36, 46, 48, etc. may eject a liquid such as a treatment liquid or water different from the treatment liquid filled in the immersion tank 10.
  • the fluid ejected from the jet nozzles 36, 46, 48 may be ejected from the jet nozzles 36, 46, 48, such as air, which is not limited to liquid.
  • a gas such as a nitrogen gas that does not alter the work and the plating applied to the work may be ejected.
  • a gas-liquid mixed fluid in which a gas and a liquid are mixed may be ejected from a jet nose, nozzle 36, 46, or 48 force. In the case of jetting gas with jet nose, nozzle 36, 46, 48 force, the outflow amount of liquid can be reduced compared with the case of jetting liquid.
  • the width of the force jet slit 40 described in the case where the width of the jet slit 40 is substantially constant in the vertical direction may not be substantially constant.
  • the width of the jet slit 40 may be narrowed downward.
  • the fountain fluid pipe 32 is a rectangular tube.
  • the jet fluid line 32 may be a round tube.
  • a plurality of jet nozzles 36 may be provided directly in the round tubular jet fluid line 32.
  • the jet nozzle 36 and the direction of movement of the workpiece 12 are substantially perpendicular to the direction inclined to the immersion tank 10 with respect to the direction perpendicular to the direction of movement of the workpiece 12.
  • Direction The direction in which the force jet nozzle is directed in the case where either or both of the jet nozzles 48 facing in the direction is provided in the jet nozzle plate 34 is not limited to these.
  • the jet nozzle plate 34 may be provided with a jet nozzle directed in a direction inclined to the opposite side of the immersion tank 10 with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the workpiece 12. Further, these jet nozzles having different directions may be provided on the jet nozzle plate 34 in an appropriate combination.
  • the width of the slit 20 of the immersion bath 10 may not be substantially constant in the vertical direction.
  • the width of the slit 20 may be narrowed downward.
  • the liquid sealing means for sealing is not limited to this.
  • a liquid sealing means instead of the seal roll 82, for example, a plate-like or bar-like member made of sponge or rubber along the slit 20 on the side of the slit 20 is used as the non-processed surface of the workpiece 12. It may be provided in contact with 12b.
  • a seal roll fixed so as not to rotate may be provided.
  • the non-contact liquid sealing apparatus and method according to the present invention immerses a single wafer or a strip-shaped work in a state where the width direction is substantially vertical through a slit in a side wall of the immersion tank filled with the treatment liquid. This is extremely useful for reducing the outflow of the processing liquid from the immersion tank while preventing the occurrence of a workpiece defect during loading and unloading.

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Abstract

 幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワーク12が通過するスリット20が側壁18に設けられ、処理液が満たされる浸漬槽10に対して、スリット20の両側に配置され、スリット20を通過するワーク12へ向けてワーク12の両側から処理液の噴流を噴出する一対の噴流噴出部24を有する非接触液シール装置22が設けられている。

Description

明 細 書
非接触液シール装置及び方法
技術分野
[0001] 本発明は、プリント基板の基材等の対象物にめっき等の湿式処理を施す湿式処理 装置の液シール装置及び方法に関する。
背景技術
[0002] ICカード等に用いられるプリント基板には、搭載される素子の電気的な接続をとる ためにめつきが施される。プリント基板にめっきを施す方法としては、プリント基板の基 材を切断した状態でめっき液に浸漬する枚葉式の方法、或いは帯状のフレキシブル プリント基板自体を連続的にめっき液に浸漬する連続式の方法が用いられている。
[0003] このように、被処理物(ワークともいう)にめつき等の処理を施す湿式処理には、ヮー クの態様に応じて、枚葉式や連続式の方法が用いられてレ、る。
[0004] 枚葉式の方法の場合、ワークは搬送手段により処理液が満たされた浸漬槽の上方 に搬送され、次いで浸漬槽内に下降され、処理液に浸漬される。処理が終了したヮ ークは、浸漬槽から上昇され次の工程に搬送される。この方法は、枚葉のワークに使 用されるが、帯状の連続したワークに適用することはできない。
[0005] これに対し、連続式の方法の場合、浸漬槽の対向する側壁にスリット形状の出入口 を設け、このスリットを通過させてワークを浸漬槽に搬入出する。この方法は、枚葉の ワークのみならず、帯状のワークにも禾 IJ用すること力 sできる。し力、しながら、この方法で は、浸漬槽内の処理液がスリットから流出する量が多ぐ浸漬槽内の処理液の液面を 高くすることができない。スリットの幅を狭くすれば処理液の流出量を低減することが できる力 単にスリットの幅を狭くするだけではワークがスリット内面に接触してしまう。 このため、スリットには、 10mm前後のある程度の幅が必要である。このように、浸漬 槽内の液面を高くすることができないため、幅広のワークを処理することが困難であり 、処理可能なワークの幅は最大でも 200mm程度である。加えて、浸漬槽内の処理 液の液面高さを維持するために流出液の戻しポンプに能力の大きいものが必要とな るなど流体機器に要するエネルギーも大きレ、。 [0006] さらに、この方法では、スリットを通過するワークの位置が不安定になりやすい。ヮー クがスリット間隙の中央位置から一方のスリット内面に偏ると、スリットより流出する処理 液の'慣性力によりワークは更に中心から隔たる方向に動く。この結果、ワークは、最 終的に一方のスリット内面に接触した状態で安定するようになる。このような状態にな ると、スリット内面との接触によりワーク面に擦り傷が発生し、品質の劣化等の原因と なる。ワークをスリット内面に接触し難くするためには、スリット間隙の幅を広くする必 要があるが、処理液の流出量を減少させることが困難となる。スリットの厚さを厚くした り、スリット内面を波形など流体摩擦の大きい形状とすることで、スリットからの処理液 の流出量をある程度低減することはできる。しかしながら、ワークとスリット内面との接 触を完全に防止することは困難である。
[0007] また、スリットからの処理液の流出を抑制ないしは低減する方法として、スリット部分 に樹脂製やゴム製等のシート状、スポンジ状或レ、はヘラ状の液切り手段をワークを挟 み込むように設ける方法も知られている(例えば、特許文献 1参照)。し力もながら、ヮ ークとこれら液切り手段との摩擦によるワーク面の傷付きという問題は依然として残る
[0008] さらに、浸漬槽の対向する側壁に設けたスリットの近傍に、スリットに対応した部分を 挟んで対向する 2本の回転可能なロール(シールロール)を設け、ワークを 2本のシー ルロールの間を走行させて処理槽に搬入出させる方法が知られている(例えば、特 許文献 2〜4参照)。この方法も帯状のワークに利用できる方法である。 2本のシール ロールの間にワークを走行させると、シールロールの回転によりワークとシールロール との密着性が増し、処理槽から処理液の流出を効果的に抑制な!/、しは低減すること ができる。このため、浸漬槽内の処理液の液面を高くすることができ、幅広のワークの 処理が可能となる。この方法では、最大 600mm程度までの幅を有するワークを処理 すること力 Sできる。加えて、ポンプ等の流体機器に要するエネルギーも少ないというメ リット力 Sある。また、この方法においては、ワークとシールロールはスリップしないので シールロールによるワークの擦り傷の発生を抑制でき、ワークがロールにより位置決 めされているのでワークを安定して走行させること力 Sできる。しかしながら、ワークと接 触するシールロールの表面は時間とともに劣化するので、ロールの保守管理を行うこ とが必要となる。
特許文献 1 :実開昭 59— 17765号公報
特許文献 2:特開平 2— 182895号公報
特許文献 3 :特開 2002— 275681号公報
特許文献 4:特開 2003— 147582号公報
特許文献 5 :実開昭 61— 155371号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] 上述のように、プリント配線基板及びそれらに用いられる基材等の枚葉又は帯状の ワークを、処理液が満たされた浸漬槽に側壁に設けられたスリットを介して搬入出す る場合においては、浸漬槽からの処理液の流出を抑制ないしは低減するためにシー ノレが行われている。
[0010] この際、ワークとは非接触で浸漬槽からの処理液の流出を抑制な!/、しは低減するこ とができれば、ワークの不良の発生を確実に防止することができる。
[0011] また、浸漬槽からの処理液の流出を十分に抑制ないしは低減することができれば、 浸漬槽に満たされた処理液の液面を高くすることができるため、幅広のワークに対し ても処理液による処理を行うことが可能となる。
[0012] 本発明の目的は、処理液が満たされた浸漬槽の側壁のスリットを介して、幅方向を 略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークを浸漬槽に搬入出する際における浸漬 槽からの処理液の流出を、ワークとは非接触で十分に抑制な!/、しは低減することが できる非接触液シール装置及び方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0013] 本願発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、液体が満たされた浸 漬槽の開口部を、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過する 際に、浸漬槽の開口部に対応する範囲において、開口部を通過するワークへ向けて ワークの両側から流体の噴流を噴出することにより、ワークの位置を安定化し、非接 触で浸漬槽にワークを搬入出することができ、且つ、浸漬槽からの液体の流出を十 分に抑制ないしは低減することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 [0014] なお、例えばワークの両面に処理を施すのではなくワークの片方の面にのみ処理 を施す場合等においては、必ずしもワークの両側から流体の噴流を噴出する必要は なぐ開口部を通過するワークへ向けてワークの処理面側から流体の噴流を噴出す る一方、ワークの非処理面側には、ワークの非処理面に接触して液シールを行う液シ ール手段を配置すればよ!/、。
[0015] 上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過する開口 部が側壁に設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール装置であって、前 記開口部の一方の側に配置され、前記開口部を通過する前記ワークへ向けて前記 一方の側から流体の噴流を噴出する噴流噴出部と、前記開口部の他方の側に配置 され、前記開口部の前記他方の側からの前記液体の流出をシールする液シール部 とを有することを特徴とする非接触液シール装置により達成される。
[0016] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記液シール部は、前記開口部の前 記他方の側に配置され、前記開口部を通過する前記ワークへ向けて前記他方の側 力も流体の噴流を噴出する噴流噴出部であってもよい。
[0017] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記開口部の一方の側に配置された 前記噴流噴出部と前記開口部の前記他方の側に配置された前記噴流噴出部との間 の間隙は、下方ほど幅が狭くなつていてもよい。
[0018] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記液シール部は、前記開口部の前 記他方の側に配置され、前記ワークの前記他方の側の面に接触する円柱状部材で あってもよい。
[0019] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記噴流噴出部は、前記流体が供給 される噴流体管路と、前記噴流体管路の前記ワーク側に設けられ、前記噴流を噴出 する噴流ノズノレとを有するようにしてもよ!/、。
[0020] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記噴流ノズルは、前記ワークの移 動方向に垂直な方向に対して前記浸漬槽側に傾斜した方向を向いているようにして あよい。
[0021] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記噴流ノズルは、前記ワークの移 動方向に垂直な方向を向いてレ、るようにしてもよ!/、。 [0022] また、上記の非接触液シール装置において、
前記噴流噴出部は、上下方向に配列された複数の前記噴流ノズルを有するように してもよい。
[0023] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記複数の噴流ノズルの穴は、それ ぞれ円形であってもよい。
[0024] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記複数の噴流ノズルの穴は、下方 の前記噴流ノズルの穴ほど穴径が大きくてもよい。
[0025] また、上記の非接触液シール装置お!/、て、上下方向に配列された前記複数の噴流 ノズルの穴のピッチは、下方ほど密であってもよ!/、。
[0026] また、上記の非接触液シール装置にお!/、て、前記開口部は、下方ほど幅が狭くな つていてもよい。
[0027] また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過す る開口部が側壁に設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール方法であつ て、前記液体が満たされた前記浸漬槽の前記開口部を前記ワークが通過する際に、 前記開口部を通過する前記ワークへ向けて前記ワークの両側から流体の噴流を噴 出し、前記噴流により前記開口部を非接触でシールすることを特徴とする非接触液 シール方法により達成される。
[0028] また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過す る開口部が側壁に設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール方法であつ て、前記開口部の一方の側に、前記ワークの前記一方の側の面に接触し、前記開口 部の前記一方の側からの前記液体の流出をシールする液シール部を配置し、前記 液体が満たされた前記浸漬槽の前記開口部を前記ワークが通過する際に、前記開 口部を通過する前記ワークへ向けて前記開口部の他方の側から流体の噴流を噴出 し、前記噴流により、前記開口部の前記他方の側からの前記液体の流出を非接触で シールすることを特徴とする非接触液シール方法により達成される。
発明の効果
[0029] 本発明によれば、液体が満たされた浸漬槽の開口部を、幅方向を略鉛直にした状 態で枚葉又は帯状のワークが通過する際に、開口部を通過するワークへ向けてヮー クの両側から流体の噴流を噴出するので、浸漬槽からの液体の流出を、ワークとは非 接触で十分に抑制ないしは低減することができる。したがって、本発明によれば、周 辺部材、部品とワークとの接触を防止し、損傷、変形、変色等のワークの不良の発生 を確実に防止することができる。また、本発明によれば、浸漬槽に満たされた液体の 液面を高くすることができ、幅広のワークをも浸漬槽に満たされた液体により処理する こと力 Sでさる。
[0030] また、本発明によれば、流体の噴流を噴出するために可動部品を用いる必要がな いため、容易に保守管理を行うことができる。
[0031] また、本発明によれば、液体が満たされた浸漬槽の開口部の一方の側に、ワークの 一方の側の面に接触し、開口部の一方の側からの液体の流出をシールする液シー ル部を配置し、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが開口部を通 過する際に、開口部を通過するワークへ向けて開口部の他方の側から流体の噴流を 噴出するので、ワークの他方の側の面の傷付き、変色等のワークの不良の発生を確 実に防止しつつ、浸漬槽からの液体の流出を、更に十分に抑制ないしは低減するこ と力 Sできる。
図面の簡単な説明
[0032] [図 1]図 1は、本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置を備えた湿式処理 装置の構造を示す概略図(その 1 )である。
[図 2]図 2は、本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置を備えた湿式処理 装置の構造を示す概略図(その 2)である。
[図 3]図 3は、本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置を備えた湿式処理 装置の構造を示す概略図(その 3)である。
[図 4]図 4は、本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置の構造を示す概略 図(その 1 )である。
[図 5]図 5は、本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置の構造を示す概略 図(その 2)である。
[図 6]図 6は、本発明の第 2実施形態による非接触液シール装置の構造を示す概略 図である。 園 7]図 7は、本発明の第 3実施形態による非接触液シール装置の構造を示す概略 図である。
[図 8]図 8は、本発明の第 4実施形態による非接触液シール装置の構造を示す断面 図である。
[図 9]図 9は、本発明の第 5実施形態による非接触液シール装置の構造を示す断面 図である。
園 10]図 10は、本実施形態の第 6実施形態による非接触液シール装置の構造を示 す断面図である。
園 11]図 11は、本実施形態の第 6実施形態による非接触液シール装置におけるシ 一ノレローノレの他の例を示す概略図である。
園 12]図 12は、本発明の第 7実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す平面 図である。
園 13]図 13は、本発明の第 8実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す平面 図である。
園 14]図 14は、本発明による非接触液シール装置の構造の他の例を示す断面図で ある。
符号の説明
10·· '浸漬槽
12·· .ワーク
12a- ··処理面
12b' …非処理面
14·· •処理液貯留槽
16·· 'ホ フ
18·· •側壁
20·· 'スリット
22·· •非接触液シール装置
24·· •噴流噴出部
26·· '流量調整ノ ノレブ ---FIC
…受け皿
…噴流体管路
···噴流ノズノレ板
…噴流ノズル
…突出部
…噴流スリット
…スロー卜部
…スロー卜部
…噴流ノズノレ
…噴流ノズノレ
…平坦部
…めっき処理部
…ワーク巻き出し部 …ワーク巻き取り部 …アンコィラー
…アキユーム装置
a, 60b, 60b, 60c…ローラーa, 62b, 62c, 62d…めっき槽... uターン部
…給電ロール部
a, 66b, 66c…給電ロール …前処理槽
…洗浄室
· 乾燥室
…リコイラ一
…駆動装置
a, 76b, 76c…ローラー 78 · · ·非接触液シール装置
80…シーノレ槽
82· · ·シーノレローノレ
84· · ·ギヤドモーター
86a, 86b…ベアリング
発明を実施するための最良の形態
[0034] [第 1実施形態]
本発明の第 1実施形態による非接触液シール装置及び方法について図 1乃至図 5 を用いて説明する。図 1乃至図 3は本実施形態による非接触液シール装置を備えた 湿式処理装置の構造を示す概略図、図 4及び図 5は本実施形態による非接触液シ ール装置の構造を示す概略図である。
[0035] まず、本実施形態による非接触液シール装置を備えた湿式処理装置について図 1 乃至図 3を用いて説明する。図 1は本実施形態による非接触液シール装置を備えた 湿式処理装置の構造を示す平面図、図 2は図 1の A— 断面図、図 3は図 1の B—
B 矢視図である。
[0036] 浸漬槽 10には、枚葉のワーク 12に対して所定の処理を行うため処理液が満たされ ている。浸漬槽 10には、処理液が貯留された処理液貯留槽 14からポンプ 16を介し て処理液が供給されるようになっている。
[0037] 処理液で満たされた浸漬槽 10の対向する側壁 18には、枚葉のワーク 12を搬入出 するためのスリット 20が略鉛直方向に設けられている。ワーク 12は、一方の側壁 18 のスリット 20から幅方向を略鉛直にして浸漬槽 10内に搬入されるようになっている。 浸漬槽 10内に搬入されたワーク 12は、そのまま幅方向を略鉛直にして他方の側壁 1 8のスリット 20から浸漬槽 10外に搬出されるようになっている。
[0038] スリット 20が設けられた浸漬槽 10の対向する側壁 18には、本実施形態による非接 触液シール装置 22が設けられている。非接触液シール装置 22は、ワーク 12に向け てワーク 12の両側から均等に処理液の噴流を噴出する一対の噴流噴出部 24を有し ている。
[0039] 一対の噴流噴出部 24は、スリット 20両側の側壁 18の端部の外面に、スリット 20を 通過するワーク 12を介して対向するように配置されている。一対の噴流噴出部 24か ら噴出される処理液は、処理液貯留槽 14から、ポンプ 16、流量調整バルブ 26、流 量指示調節計(FIC : Flow Indicator and Controller) 28を介して供給されるように なっている。
[0040] 浸漬槽 10の搬入側及び搬出側の側壁 18の下方には、スリット 20から流出した処 理液、及び非接触液シール装置 22から噴出された処理液を回収するための受け皿 30が設けられている。受け皿 30に溜まった処理液は、処理液貯留槽 14に回収され るようになっている。
[0041] こうして、非接触液シール装置 22を備えた湿式処理装置が構成されている。
[0042] ワーク 12は、例えば、プリント配線基板、プリント配線基板に用いられる基材等であ る。ワーク 12の厚さは、例えば、 3〜200 111の範囲であり、具体的には、主流の 38 m、次いで多い 25 m、特殊用途向けの 50 m、 100 m等である。なお、ワーク 12の形状は、枚葉に限定されるものではなぐロールから巻き出される連続条材のよ うな帯状であってもよい。
[0043] 浸漬槽 10は、例えば、処理液としてめつき液が満たされためっき槽である。なお、 浸漬槽 10は、めっき槽に限定されるものではなぐ前処理槽、後処理槽、洗浄槽等 であってもよい。浸漬槽 10で行われる処理は、めっき処理のほ力、、エッチング処理、 脱脂処理、防鯖処理、洗浄処理等であってもよぐ処理に応じた処理液を選択するこ と力 Sできる。
[0044] 浸漬槽 10において、ワーク 12の搬入側及び搬出側の側壁 18に設けられたスリット
20の幅は、例えば、上下方向に略一定になっている。
[0045] 浸漬槽 10には、ワーク 12に対して処理液による処理を行う間、処理液貯留槽 14か らポンプ 16を介して処理液が適宜供給され、浸漬槽 10における反応液の液面の高 さが略一定に保たれる。
[0046] 本実施形態による非接触液シール装置 22は、ワーク 12に向けてワーク 12の両側 から均等に処理液の噴流を噴出する一対の噴流噴出部 24を有することに主たる特 徴がある。ここで、本実施形態による非接触液シール装置 22について図 1乃至図 5を 用いて詳述する。図 4は図 2及び図 3の C— C' 断面図、図 5 (a)は噴流噴出部 24の 平面図、図 5 (b)は噴流噴出部 24のワーク側側面図である。なお、図 4では、浸漬槽 10のワーク 12の搬出側の側壁 18に設けられた非接触液シール装置 22の構造を示 しているが、浸漬槽 10のワーク 12の搬入側の側壁 18に設けられた非接触液シール 装置 22も同様の構造を有している。
[0047] 図 4に示すように、スリット 20両側の側壁 18端部の外面に、スリット 20を通過するヮ ーク 12を介して対向するように一対の噴流噴出部 24が配置されている。一対の噴流 噴出部 24は、それぞれ、噴流として噴出される処理液の流路である噴流体管路 32と 、噴流体管路 32内の処理液が噴流として噴出する複数の噴流ノズル 36が設けられ た噴流ノズル板 34とにより構成されている。
[0048] 噴流体管路 32は、例えば角管状のものである。噴流体管路 32には、処理液貯留 槽 14から、浸漬槽 10に満たされた処理液と同じ処理液が配管を介して供給される。 噴流体管路 32には、 1箇所力も処理液を供給してもよいし(図 5 (b)参照)、複数箇所 力、ら処理液を供給してもよい。複数箇所から処理液を供給する場合においては、噴 流体管路 32を例えば上下 2段、上中下 3段等の複数の室に区分し、区分した室ごと に処理液を供給するようにしてもょレ、。
[0049] 噴流体管路 32に供給される処理液の流量は、 FIC28により検知される。 FIC28は 、流量の検知結果に基づき、ワーク 12を介して対向する一対の噴流噴出部 24から 噴出される処理液の流量が均等になるように、流量調整バルブ 26を制御する。
[0050] 噴流ノズル板 34は、噴流体管路 32のワーク 12側に設けられている。噴流ノズル板
34には、噴流体管路 32の上下方向に沿ってワーク 12側に突出した突出部 38を有 している。突出部 38のワーク 12に対向する面は、ワーク 12の移動方向に略平行な 平坦面となっている。突出部 38の浸漬槽 10側の側面は、浸漬槽 10の側壁 18に略 平行な面となっている。突出部 38の浸漬槽 10と反対側の側面は、傾斜面となってい る。噴流ノズル板 34の突出部 38の両側の面は、ワーク 12の移動方向に略平行な面 となっている。
[0051] 複数の噴流ノズル 36は、浸漬槽 10のスリット 20に対応する範囲に、噴流ノズル板 3
4の突出部 38に上下方向に配列して設けられ、噴流体管路 32に接続されている。
[0052] 複数の噴流ノズル 36の穴は、図 5 (b)に示すように、例えば上下方向に略一定のピ ツチで突出部 38のワーク 12に対向する平面に一列に配列されている。また、複数の 噴流ノズル 36の穴は、例えば、同一径の円形状となっている。噴流ノズル 36の穴の 直径は、例えば 0. 5〜3mm程度、具体的には、例えば 2mm程度である。
[0053] 各噴流ノズル 36は、図 4に示すように、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して 浸漬槽 10側に傾斜した方向を向いて!/、る。このように傾斜した方向を向いた各噴流 ノズル 36は、ワーク 12に向けて、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方向に略水平に、噴流体管路 32から供給される処理液を噴流とし て噴出する。
[0054] ワーク 12を介して対向して配置された一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間 には、突出部 38のワーク 12に対向する面に挟まれた噴流スリット 40が構成されてい る。噴流スリット 40の幅は、浸漬槽 10のスリット 20の幅よりも狭ぐ上下方向に略一定 になっており、例えば;!〜 3mm程度である。噴流スリット 40の厚さ、すなわち突出部 3 8のワーク 12に対向する面のワーク 12の移動方向における長さは、例えば 3mm程 度である。
[0055] さらに、一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間には、噴流スリット 40の浸漬槽 1 0側に、噴流スリット 40よりも幅広のスロート部 42が構成されている。また、噴流スリット 40の浸漬槽 10と反対側に、噴流スリット 40よりも幅広のスロート部 44が構成されてい
[0056] 浸漬槽 10側のスロート部 42は、浸漬槽 10のスリット 20の幅よりも狭い略一定の幅 を有している。浸漬槽 10と反対側のスロート部 44は、噴流スリット 40側から離れるに 従って幅が拡大していき、途中から浸漬槽 10側のスロート部 42とほぼ同じ幅になつ ている。ワーク 12の移動方向における長さは、浸漬槽 10側のスロート部 42よりも浸漬 槽 10と反対側のスロート部 44の方が長くなつている。
[0057] こうして、ワーク 12が通過する一対の噴流ノズル板 34の間に、浸漬槽 10のスリット 2 0に つてスリット 20に対応する範囲に、スロート咅 と、噴流スリット 40と、スロート 部 44とが構成されている。噴流スリット 40においては、ワーク 12の両側の複数の噴 流ノズル 36力も、ワーク 12に向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流が噴 出される。 [0058] 次に、本実施形態による非接触液シール装置 22を用いた液シール方法につ!/、て 図 1乃至図 5を用いて説明する。
[0059] 処理液が満たされた浸漬槽 10には、ワーク 12力 S、搬入側の側壁 18のスリット 20か ら幅方向を略鉛直にして搬入され、そのまま幅方向を略鉛直にして搬出側の側壁 18 のスリット 20から搬出される。ワーク 12の移動速度は、例えば、 0. lm〜30m/分程 度の範囲の比較的遅い速度であり、通常、 0. ;!〜 2m/分である。
[0060] ワーク 12が搬入出される間、噴流体管路 32には処理液が供給され、噴流ノズル板
34の複数の噴流ノズル 36から処理液の噴流が噴出する。噴流体管路 32に供給され る処理液の流量は、ワーク 12を介して対向する一対の噴流ノズル板 34の噴流ノズル 36から噴出する処理液の流量が均等になるように、 FIC28により制御される。こうし て、ワーク 12を介して対向する一対の噴流ノズル板 34の噴流ノズル 36から、ワーク 1 2に向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流が噴出される。
[0061] ワーク 12に対して略垂直な方向の噴流の速度成分は、噴流の慣性力としてワーク
12の表面に働き、一対の噴流ノズル板 34の間隙の中央にワーク 12を押し返す。こ の噴流によるワーク 12を押し返す力は、噴流ノズル 36とワーク 12との隙間が狭いほ ど大きくなる。このため、ワーク 12は噴流スリット 40の中央の位置で安定し、噴流ノズ ル板 34との非接触状態が維持される。
[0062] こうして、一対の噴流ノズル板 34の噴流ノズル 36からワーク 12に向けてワーク 12の 両側から均等に噴出する処理液の噴流により、ワーク 12は、浸漬槽 10のスリット 20 内面及び噴流ノズル板 34に接触することなぐ安定して浸漬槽 10へ搬入出される。
[0063] したがって、本実施形態による非接触液シール装置 22によれば、浸漬槽 10のスリ ット 20内面や噴流ノズル板 34等の周辺部材、部品とワーク 12との接触を防止し、損 傷、変形、変色等のワーク 12の不良の発生を確実に防止することができる。
[0064] このようにワーク 12が非接触で浸漬槽 10に搬入出される間、浸漬槽 10側のスロー ト部 42には、浸漬槽 10のスリット 20を介して浸漬槽 10内の処理液が流入している。 し力、しながら、噴流スリット 40内においては、噴流ノズル板 34の表面に流体摩擦が存 在する。このため、噴流ノズル 36から噴出される噴流により、噴流スリット 40内の圧力 が高くなる。このような噴流スリット 40内の高い圧力力 浸漬槽 10側の方向に向かう 速度成分を有する噴流の慣性力と相俟って、浸漬槽 10側のスロート部 42から浸漬 槽 10と反対側のスロート部 44への処理液の流出が十分に抑制ないしは低減される。
[0065] こうして、本実施形態による非接触液シール装置 22によれば、噴流スリット 40にお いてワーク 12に向けてワーク 12の両側から均等に噴出する処理液の噴流により噴流 スリット 40を非接触でシールし、浸漬槽 10からの処理液の流出を十分に抑制ないし は低減すること力 Sできる。したがって、浸漬槽 10に満たされる処理液の液面を高くす ること力 Sでき、幅広のワーク 12に対しても処理液による処理を行うことができる。本実 施形態によれば、例えば 1000mm程度の幅を有する幅広のワーク 12に対しても浸 漬槽 10において処理液による処理を行うことができる。
[0066] また、本実施形態による非接触液シール装置 22は、処理液の噴流を噴出する噴流 噴出部 24にローラー、ベアリング等の可動部品を用いる必要がないため、保守管理 を容易に行うことができる。
[0067] さらに、本実施形態による非接触液シール装置 22によれば、浸漬槽 10からの処理 液の流出を十分に抑制なレ、しは低減することができるので、省エネルギー、省資源、 省スペースを図ることができる。
[0068] なお、上述した湿式処理装置のように、プリント基板、フレキシブルプリント基板等の 枚葉又は帯状のワークを、その断面を略鉛直にしてめつき槽等の浸漬槽へ水平方向 に搬入出する処理方法においては、ワークの移動速度は比較的に遅い。上述のよう に、ワークの移動速度は、例えば、 0. lm〜30m/分程度の範囲であり、通常、 0. 1 〜2m/分である。このようにワークの移動速度が遅い場合には、ワークを例えば 30 Om/分などの高速で移動する場合と異なり、ワークの移動速度による流体潤滑をあ まり期待することができない。このため、本発明においては、ワークに対して処理液の 噴流を噴出することにより、この流体作用によりワークの位置を安定化し、非接触での ワークの搬入出を実現してレ、る。
[0069] また、本発明にお!/、ては、浸漬槽のスリットが設けられた側壁に非接触液シール装 置を設け、噴流を噴出することにより、ワークの位置の安定化による非接触でのヮー クの搬入出を実現するとともに、浸漬槽からの処理液の流出を抑制ないしは低減して いる。これに対して、流出液の飛散防止、或いはワークに付着した処理液が次の浸 漬槽に持ち越されることを防止することを目的として、浸漬槽のスリットから離れた位 置から、スリットからの流出液、ワークに対して流体を吹き付ける構成が知られている 。しかし、このような構成では、ワークの位置を安定化したり、浸漬槽からの処理液の 流出を抑制したりすることは不可能であり、本発明の構成とは全く異なるものである。
[0070] なお、非接触液シール装置 22の形状及び寸法は、流体工学に基づく噴流スリット 4 0周りの流体の慣性力及び粘性力の解析、有限要素法による液圧分布解析、流線シ ミュレーシヨン等により適宜設定することが望ましい。非接触液シール装置 22の形状 及び寸法の具体例としては、ワーク 12を介して対向する一対の噴流ノズル板 34間の 間隔、噴流スリット 40の厚さ、スロート部 42、 44の長さ及び形状、噴流ノズル 36の形 状、穴径、個数等である。これは、ワーク 12の材質等に基づく機械的物性、ワーク 12 の寸法、浸漬槽 10内の処理液の密度や粘度等の物性、浸漬槽 10内の処理液の液 面の高さ、噴流ノズル 36から噴出される噴流体の密度や粘度等の物性、並びに噴流 ノズル 36から噴出される噴流体の流速や液圧等の条件が相互に影響しあうためであ る。流体工学を用いた解析等の手法により、噴流スリット 40近傍の全域において噴流 スリット 40の間隙の中央にワーク 12の位置が安定化され、且つ、噴流スリット 40を通 して浸漬槽 10から流出する液量を最小にするための噴流条件の最適解を見出すこ とにより、非接触液シール装置 22の形状及び寸法を実用的に設定することができる
[0071] このように、本実施形態によれば、処理液が満たされた浸漬槽 10のスリット 20を介 して、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワーク 12を浸漬槽 10に搬入出 する際に、噴流スリット 40において、ワーク 12の両側の複数の噴流ノズル 36から、ヮ ーク 12に向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流を噴出するので、浸漬槽 1 0からの処理液の流出を、ワーク 12とは非接触で十分に抑制ないしは低減することが できる。
[0072] [第 2実施形態]
本発明の第 2実施形態による非接触液シール装置について図 6を用いて説明する 。図 6 (a)は本実施形態による非接触液シール装置における噴流噴出部の平面図、 図 6 (b)は噴流噴出部のワーク側側面図である。なお、第 1実施形態による非接触液 シール装置と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し或いは簡 略にする。
[0073] 本実施形態による非接触液シール装置の基本的構成は、第 1実施形態による非接 触液シール装置と同様である。本実施形態による非接触液シール装置は、噴流ノズ ル板 34の突出部 38に上下方向に配列して設けられた複数の噴流ノズル 36におい て、下方に配置された噴流ノズル 36の穴ほど、上下方向に長い長円形になっている ことに主たる特徴がある。
[0074] 浸漬槽 10内に満たされた処理液の液圧は、液面から下方ほど高くなる。このため、 浸漬槽 10から流出しょうとする処理液の液圧は、浸漬槽 10の下方ほど高くなる。した がって、浸漬槽 10からの処理液の流出を抑制する作用は、浸漬槽 10の下方ほど強 くすることが好ましい。
[0075] そこで、本実施形態では、図 6 (b)に示すように、噴流ノズル板 34の突出部 38に上 下方向に配列して設けられた複数の噴流ノズルにおいて、下方に配置された噴流ノ ズノレ 36の穴ほど、上下方向に長!/、長円形になって!/、る。
[0076] このように、複数の噴流ノズル 36の穴の形状が上下方向で変化しているので、下方 に配置された噴流ノズル 36ほど、噴流として噴出される処理液の流量を多くすること 力できる。したがって、本実施形態によれば、浸漬槽 10からの処理液の流出を抑制 する作用を浸漬槽 10の下方ほど強くすることができ、浸漬槽 10からの処理液の流出 を更に十分に抑制ないしは低減することができる。
[0077] なお、下方に配置された噴流ノズル 36ほど、噴流として噴出される処理液の流量を 多くする構成は、上記の構成に限定されるものではない。例えば、下方に配置された 噴流ノズル 36ほど穴径を大きくしてもよい。また、上下方向に配列された複数の噴流 ノズル 36の穴のピッチを下方ほど密にしてもよい。また、上下方向に配列する噴流ノ ズル 36の穴の列数を高さに応じて変更し、下方ほど噴流ノズル 36の穴の列数を多く してもよい。また、噴流体管路 32を上下方向に複数の室に区分し、複数の室ごとに 噴流ノズル 36から噴出される処理液を供給し、下方の室ほど供給する処理液の流量 を多くしてもよい。
[0078] [第 3実施形態] 本発明の第 3実施形態による非接触液シール装置について図 7を用いて説明する 。図 7 (a)は本実施形態による非接触液シール装置における噴流噴出部の平面図、 図 7 (b)は噴流噴出部のワーク側側面図である。なお、第 1及び第 2実施形態による 非接触液シール装置と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し 或いは簡略にする。
[0079] 本実施形態による非接触液シール装置の基本的構成は、第 1実施形態による非接 触液シール装置と同様である。本実施形態による非接触液シール装置は、穴が円形 状の複数の噴流ノズル 36に代えて、スリット状の噴流ノズル 46が噴流ノズル板 34に 設けられていることに主たる特徴がある。
[0080] 図 7 (a)及び図 7 (b)に示すように、噴流ノズル板 34には、上下方向にスリット状の 噴流ノズル 46が設けられている。スリット状の噴流ノズル 46の幅は、例えば下方ほど 広くなつている。なお、スリット状の噴流ノズル 46の幅は、上下方向に略一定であって もよい。スリット状の噴流ノズノレ 46の幅は、例えば 0. ;!〜 lmm程度である。スリット状 の噴流ノズル 46は、噴流体管路 32に接続されている。
[0081] ワーク 12を介して対向する一対の噴流ノズル板 34のスリット状の噴流ノズル 46は、 複数の噴流ノズル 36と同様に、ワーク 12に向けてワーク 12の両側から均等に処理 液の噴流を噴出する。
[0082] このように、穴が円形状の複数の噴流ノズル 36に代えて、スリット状の噴流ノズル 4 6を設けてもよい。
[0083] [第 4実施形態]
本発明の第 4実施形態による非接触液シール装置について図 8を用いて説明する 。図 8は本実施形態による非接触液シール装置の構造を示す断面図である。なお、 第 1乃至第 3実施形態による非接触液シール装置と同様の構成要素については同 一の符号を付し説明を省略し或いは簡略にする。
[0084] 本実施形態による非接触液シール装置の基本的構成は、第 1実施形態による非接 触液シール装置と同様である。本実施形態による非接触液シール装置は、ワーク 12 の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方向を向!/、た複数の噴 流ノズル 36に代えて、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向を向いた複数の噴流ノ ズル 48が噴流ノズル板 34に設けられていることに主たる特徴がある。
[0085] 図 8に示すように、非接触液シール装置 22において、噴流体管路 32のワーク 12側 に設けられた噴流ノズル板 34は、ワーク 12に対向する面がワーク 12の移動方向に 略平行な平坦部 50を有している。噴流ノズル板 34の平坦部 50の両側の面は、傾斜 面となっている。
[0086] 複数の噴流ノズル 48は、浸漬槽 10のスリット 20に対応する範囲に、平坦部 50の浸 漬槽 10側に上下方向に配列して設けられ、噴流体管路 32に接続されている。
[0087] 複数の噴流ノズル 48の穴は、例えば上下方向に略一定のピッチで平坦部 50のヮ ーク 12に対向する平面に一列に配列されている。複数の噴流ノズル 48の穴は、例え ば、同一径の円形状となっている。
[0088] 各噴流ノズル 48は、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向を向いている。各噴流ノ ズノレ 48は、ワーク 12に向けて、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向に略水平に、 噴流体管路 32から供給される処理液を噴流として噴出する。
[0089] ワーク 12を介して対向して配置された一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間 には、平坦部 50のワーク 12に対向する面に挟まれた噴流スリット 40が構成されてい
[0090] さらに、一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間には、噴流スリット 40の浸漬槽 1 0側に、浸漬槽 10側に向かって幅が拡大するスロート部 42が構成されている。また、 噴流スリット 40の浸漬槽 10と反対側に、浸漬槽 10と反対側に向かって幅が拡大する スロート部 44が構成されている。ワーク 12の移動方向における長さは、浸漬槽 10と 反対側のスロート部 44よりも浸漬槽 10側のスロート部 44の方が長くなつている。
[0091] こうして、ワーク 12が通過する一対の噴流ノズル板 34の間に、浸漬槽 10のスリット 2 0に つてスリット 20に対応する範囲に、スロート咅 と、噴流スリット 40と、スロート 部 44とが構成されている。噴流スリット 40においては、ワーク 12の両側の複数の噴 流ノズル 48から、ワークに向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流が噴出さ れる。
[0092] このように、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方 向を向いた複数の噴流ノズル 36に代えて、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向を 向いた複数の噴流ノズル 48が噴流ノズル板 34に設けられて!/、てもよ!/、。
[0093] なお、噴流ノズル 48について、第 2実施形態よる場合と同様に、穴の形状、ピッチ、 列数を変更したり、噴流体管路 32を複数の室に区分して複数の室ごとに噴流ノズノレ 48から噴出される処理液を供給してもよ!/、。
[0094] [第 5実施形態]
本発明の第 5実施形態による非接触液シール装置について図 9を用いて説明する 。図 9は本実施形態による非接触液シール装置の構造を示す断面図である。なお、 第 1乃至第 4実施形態による非接触液シール装置と同様の構成要素については同 一の符号を付し説明を省略し或いは簡略にする。
[0095] 本実施形態による非接触液シール装置の基本的構成は、第 1実施形態による非接 触液シール装置と同様である。本実施形態による非接触液シール装置は、ワーク 12 の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方向を向!/、た複数の噴 流ノズル 36に加えて、第 4実施形態による非接触液シール装置と同様に、ワーク 12 の移動方向に略垂直な方向を向いた複数の噴流ノズル 48が噴流ノズル板 34に設け られていることに主たる特徴がある。
[0096] 図 9に示すように、非接触液シール装置 22において、噴流体管路 32のワーク 12側 に設けられた噴流ノズル板 34は、ワーク 12に対向する面がワーク 12の移動方向に 略平行な平坦部 50を有して!/、る。平坦部 50の浸漬槽 10側の噴流ノズル板 34の面 は、平坦部 50のワーク 12に対向する面よりもワーク 12の位置から離間し、ワーク 12 の移動方向と略平行な面となっている。平坦部 50の浸漬槽 10と反対側の噴流ノズ ル板 34の面は、傾斜面となっている。
[0097] 噴流ノズル板 34は、平坦部 50の浸漬槽 10側に設けられた複数の噴流ノズル 36と 、平坦部 50の噴流ノズル 36よりも浸漬槽 10から離間した位置に設けられた複数の 噴流ノズル 48とを有して!/、る。
[0098] 複数の噴流ノズル 36は、浸漬槽 10のスリット 20に対応する範囲に、噴流ノズル板 3 4の平坦部 50の浸漬槽 10側に上下方向に配列して設けられ、噴流体管路 32に接 続されている。
[0099] 複数の噴流ノズル 36の穴は、例えば上下方向に略一定のピッチで平坦部 50のヮ ーク 12に対向する角部に一列に配列されている。複数の噴流ノズル 36の穴は、例え ば、同一径の円形状となっている。
[0100] 各噴流ノズル 36は、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾 斜した方向を向いている。各噴流ノズル 36は、ワーク 12に向けて、ワーク 12の移動 方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方向に略水平に、噴流体管路 3
2から供給される処理液を噴流として噴出する。
[0101] 他方、複数の噴流ノズル 48は、浸漬槽 10のスリット 20に対応する範囲に、平坦部 5
0の噴流ノズル 26よりも浸漬槽 10から離間した位置に上下方向に配列して設けられ
、噴流体管路 32に接続されている。
[0102] 複数の噴流ノズル 48の穴は、例えば上下方向に略一定のピッチで平坦部 50のヮ ーク 12に対向する平面に一列に配列されている。複数の噴流ノズル 48の穴は、例え ば、同一径の円形状となっている。
[0103] 各噴流ノズル 48は、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向を向いている。各噴流ノ ズノレ 48は、ワーク 12に向けて、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向に略水平に、 噴流体管路 32から供給される処理液を噴流として噴出する。
[0104] ワーク 12を介して対向して配置された一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間 には、平坦部 50のワーク 12に対向する面に挟まれた噴流スリット 40が構成されてい
[0105] さらに、一対の噴流噴出部 24の噴流ノズル板 34間には、噴流スリット 40の浸漬槽 1 0側に、幅が略一定のスロート部 42が構成されている。また、噴流スリット 40の浸漬槽 10と反対側に、浸漬槽 10と反対側に向かって幅が拡大するスロート部 44が構成さ れている。
[0106] こうして、ワーク 12が通過する一対の噴流ノズル板 34の間に、浸漬槽 10のスリット 2 0に つてスリット 20に対応する範囲に、スロート咅 と、噴流スリット 40と、スロート 部 44とが構成されている。
[0107] 噴流スリツト 40においては、ワーク 12の両側の傾斜方向を向!/、た複数の噴流ノズ ル 36からワーク 12に向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流が噴出される とともに、ワーク 12の両側の略垂直方向を向いた複数の噴流ノズル 48からワーク 12 に向けてワーク 12の両側から均等に処理液の噴流が噴出される。
[0108] このように、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10側に傾斜した方 向を向いた複数の噴流ノズル 36とともに、ワーク 12の移動方向に略垂直な方向を向 V、た複数の噴流ノズル 48が噴流ノズル板 34に設けられて!/、てもよ!/、。
[0109] なお、噴流ノズル 36、 48について、第 2実施形態よる場合と同様に、穴の形状、ピ ツチ、列数を変更したり、噴流体管路 32を複数の室に区分して複数の室ごとに噴流 ノズル 36、 48から噴出される処理液を供給してもよい。
[0110] [第 6実施形態]
本発明の第 6実施形態による非接触液シール装置及び方法について図 10及び図 11を用いて説明する。図 10は本実施形態による非接触液シール装置の構造を示す 断面図、図 11は本実施形態による非接触液シール装置におけるシールロールの他 の例を示す概略図である。なお、第 1乃至第 5実施形態による非接触液シール装置 と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し或いは簡略にする。
[0111] 上記第 1乃至第 5実施形態による非接触液シール装置では、スリット 20両側の側壁 18端部の外面に、スリット 20を通過するワーク 12を介して対向するように一対の噴流 噴出部 24が配置されていた。一対の噴流噴出部 24からワーク 12に向けてワーク 12 の両側から均等に噴出される処理液の噴流により、ワーク 12は、その両面が浸漬槽 10のスリット 20内面及び噴流ノズル板 34に接触することなぐ安定して浸漬槽 10へ 搬入出される。
[0112] このようにワーク 12の両面と周辺部材、部品との接触を防止することができる上記 第 1乃至第 5実施形態による非接触液シール装置によれば、ワーク 12の両面がメッ キ処理等の処理を施すべき処理面である場合にぉレ、て、両処理面のレ、ずれにっレ、 ても傷付き、変色等の不良の発生を確実に防止することができる。
[0113] これに対して、例えば、ワーク 12の一方の面がメツキ処理等の処理を施すべき処理 面であり、他方の面が処理を施す必要のない又は処理を行わない非処理面である場 合には、スリット 20両側に必ずしも一対の噴流噴出部 24を配置する必要はない。す なわち、スリット 20のワーク 12の処理面側に噴流噴出部 24を配置する一方、スリット 20のワーク 12の非処理面側にはワーク 12の非処理面に接触する液シール手段を 配置すればよい。
[0114] 上記第 1乃至第 5実施形態による非接触液シール装置が、ワーク 12に両面につい て非接触状態を実現しつつ液シールを行う両面非接触型であるのに対して、本実施 形態による非接触液シール装置は、ワーク 12の片面について非接触状態を実現し つつ液シールを行う片面非接触型のものである。具体的には、本実施形態による非 接触液シール装置は、ワーク 12の一方の面が処理面 12aであり、他方の面が非処理 面 12bである場合において、スリット 20のワーク 12の処理面 12a側に噴流噴出部 24 を配置して処理面 12aとの非接触を実現する一方、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b側には、ワーク 12の非処理面に接触する液シール手段としてシールロール 82を 配置したものである。
[0115] 図 10は、浸漬槽 10のワーク 12の搬入側の側壁 18に設けられた本実施形態による 非接触液シール装置 78の構造を示している。なお、浸漬槽 10のワーク 12の搬出側 の側壁 18に設けられた非接触液シール装置 78も同様の構造を有している。
[0116] 図示するように、スリット 20のワーク 12の処理面 12a側には、第 1実施形態による非 接触液シール装置と同様の噴流噴出部 24が配置されている。噴流噴出部 24は、噴 流として噴出される処理液の流路である噴流体管路 32と、噴流体管路 32内の処理 液が噴流としてワーク 12に向けて噴出する複数の噴流ノズル 36が設けられた噴流ノ ズル板 34とにより構成されている。なお、噴流噴出部 24は、第 2乃至第 5実施形態に よる非接触液シール装置と同様のものであってもよい。また、図 10では、噴流噴出部 24の浸漬槽 10側の側壁が浸漬槽 10の側壁を兼ねて!/、る場合につ!/、て示して!/、る 1S 例えば図 4に示す場合と同様に、噴流噴出部 24の側壁と浸漬槽 10の側壁とを 另 iJi固のあのとしてあよい。
[0117] 一方、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b側の側壁 18外面には、ワーク 12側が 開口したシール槽 80が設けられている。シール槽 80内には、円柱状又は円筒状の シールロール 82がその中心軸を回転軸として回転自在に収容されている。
[0118] シールロール 82は、例えば、ポリ塩化ビュルやテフロン (登録商標)等の樹脂製の 中空のパイプ状の剛性体である。シールロール 82の外周面は、平滑面であってもよ いし、外周面の全面にわたって、シールロール 82の軸方向に沿った複数の溝を設け てもよい。また、シールロール 82は、その上端及び下端近傍が径の太くなつた大径 部を有する段付きのものであってもよい。シールロール 82内部の底には、シールロー ル 82の姿勢を安定にするため、錘(図示せず)が設けられている。
[0119] シートロール 82の下端及び上端の中央部分には凹部が設けられている。下端の凹 部には、シール槽 80底部に設けられた凸部が嵌合している。また、上端の凹部には 、シール槽 80の上部に設けられた凸部が嵌合している。これら凹みと凸部との嵌合 にはあそびとして適度な間隙が設けられている。こうして、シール槽 80内でのシーノレ ロール 82の転倒が防止され、回転中心軸は水平方向に移動できる。なお、このよう な凹部及び凸部を設けずに、あそびとして適度な間隙があるようにシール槽 80内に シールロール 82を収容し、シールロール 82の転倒を防止しつつ、シールロール 82 が回転自在となるようにしてもよ!/、。
[0120] このように、本実施形態による非接触液シール装置 78は、スリット 20のワーク 12の 処理面 12a側に配置された噴流噴出部 24と、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b 側に配置されたシールロール 82とを有することに主たる特徴がある。
[0121] ワーク 12が浸漬槽 10に搬入出される間、スリット 20のワーク 12の処理面 12a側に 配置された噴流噴出部 24においては、第 1実施形態による場合と同様に、噴流体管 路 32に処理液が供給され、噴流ノズル板 34の複数の噴流ノズル 36から処理液の噴 流が噴出する。こうして、噴流噴出部 24において、噴流ノズル板 34の噴流ノズル 36 から、ワーク 12の処理面 12aに向けて処理液の噴流が噴出される。
[0122] このように、スリット 20のワーク 12の処理面 12a側では、噴流噴出部 24から噴流が 噴出されることにより、スリット 20からの処理液の流出が抑制ないし低減される。
[0123] 一方、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b側に配置されたシールロール 82を収 容するシール槽 80には、スリット 20を介して浸漬槽 10内の処理液が満たされている 。シールロール 82は、処理液の液圧により自動的にワーク 12の非処理面 12bに押し 付けられるとともに、浸漬槽 10の側壁 18に対向するシール槽 80の側壁に押し付けら れる。
[0124] こうして、シールロール 82力 ワーク 12の非処理面 12bと密着するとともに、シール 槽 80の側壁と密着する。ワーク 12の非処理面 12bに密着したシールロール 82は、ヮ ーク 12の移動に伴って回転する。
[0125] このように、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b側においては、ワーク 12の非処 理面 12bに密着するシールロール 82により、スリット 20からの処理液の流出が低減な いし抑制される。
[0126] ここで、シールロール 82がワーク 12に押し付けられる力と、噴流噴出部 24から噴出 される処理液によりワーク 12が押される力とが均衡するように、噴流噴出部 24から噴 出される処理液の流量を制御し、ワーク 12の処理面 12aが噴流ノズル板 34等の周 辺部材、部品と接触しないようにする。
[0127] また、噴流噴出部 24の各噴流ノズル 36は、処理液がシールロール 82のワーク 12 との接触部に向けて噴出するように、その向きを適宜設定することが望ましい。例え ば、第 1実施形態による場合と同様に、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して 浸漬槽 10側に傾斜した方向を各噴流ノズル 36が向いて!/、る場合にお!/、て、各噴流 ノズル 36から処理液がシールロール 82のワーク 12との接触部に向けて噴出するよう に、各噴流ノズル 36が浸漬槽 10側に傾斜する方向を設定する。処理液がシール口 ール 82のワーク 12との接触部に向けて噴出することにより、噴流噴出部 24とシール ロール 82との間を移動するワーク 12の位置を更に安定させることができる。
[0128] このように、本実施形態による非接触液シール装置 78では、スリット 20のワーク 12 の処理面 12a側において、噴流噴出部 24から噴流を噴出することにより、ワーク 12 の処理面 12aと噴流ノズル板 34等の周辺部材、部品との非接触状態を維持しつつ スリット 20からの処理液の流出を抑制ないし低減する。一方、スリット 20のワーク 12の 非処理面 12b側においては、ワーク 12の非処理面 12bに接触するシールロール 82 によりスリット 20からの処理液の流出を低減ないし抑制する。
[0129] ワーク 12の非処理面 12b側においてはワーク 12の非処理面 12bに接触するシー ルロール 82を用いて液シールを行うので、一対の噴流噴出部 24を用いた第 1乃至 第 5実施形態による非接触液シール装置と比較して、浸漬槽 10のスリット 20からの処 理液の流出を更に抑制ないし低減することができる。その一方で、ワーク 12の処理 面 12 a側におレ、ては噴流噴出部 24を用!/、て液シールを行うので、ワーク 12の処理 面 12aについては傷付き、変色等の不良の発生を確実に防止することができる。 [0130] このように、本実施形態によれば、一方の面が処理面 12aであり、他方の面が非処 理面 12bであるワーク 12を処理する場合において、ワーク 12の処理面 12aについて 傷付き、変色等の不良の発生を確実に防止するとともに、浸漬槽 10のスリット 20から の処理液の流出を更に抑制ないし低減することができる。
[0131] なお、上記では、ワーク 12の移動に伴って、ワーク 12の非処理面 12bに密着する シールロール 82が回転する場合について説明した力 S、シールロール 82をギヤドモー ター等のモーターにより回転し、液シール手段としてのみならずワーク 12を搬送する 搬送手段としてもシールロール 82が機能するようにしてもよい。
[0132] 図 11は、シールロール 82をギヤドモーター 84により回転するようにした構成を示し ている。
[0133] 図示するように、シールロール 82は、その上側及び下側にそれぞれ設けられたべ ァリング 86a、 86bにより回転自在に軸支されて!/、る。
[0134] シールロール 82には、カップリング 88を介してギヤドモーター 84の出力軸の回転 が伝達されるようになっている。こうして、ギヤドモーター 84により、シールロール 82
1S ワーク 12を搬送するように回転するようになっている。
[0135] このように、シールロール 82をギヤドモーター 84により回転するように構成し、液シ ール手段としてのみならず、搬送手段としてもシールロール 82が機能するようにして あよい。
[0136] また、上記では、ワーク 12の一方の面が処理面 12aであり、他方の面が非処理面 1 2bである場合について説明した力 S、両面が処理面であるワークについても本実施形 態による非接触液シール装置を用いることができる。
[0137] [第 7実施形態]
本発明の第 7実施形態による連続湿式処理装置について図 12を用いて説明する 。図 12は本実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す平面図である。なお、 第 1乃至第 6実施形態による非接触液シール装置と同様の構成要素については同 一の符号を付し説明を省略し或いは簡略にする。
[0138] 上記第 1乃至第 6実施形態では、 1つの浸漬槽 10を備えた湿式処理装置に非接触 液シール装置 22、 78を用いる場合について説明した力 S、本発明による非接触液シ ール装置の適用範囲はこれに限定されるものではない。本発明による非接触液シー ル装置は、例えば、本出願人による特許文献 4に記載された連続湿式処理装置等の ように、複数の浸漬槽を用いて帯状のワークに連続的に湿式処理を施す連続湿式処 理装置における液シール装置として用いることもできる。
[0139] 本実施形態による連続湿式処理装置は、本発明による非接触液シール装置、例え ば第 1実施形態による非接触液シール装置を液シール装置として用いたものである
[0140] 図 12に示すように、連続湿式処理装置は、めっき処理が行われるめっき処理部 52 と、めっきを施すべき帯状のワーク 12をめつき処理部 52に連続的に送り出すワーク 巻き出し部 54と、めっき処理部 52においてめっきが施されたワーク 12を連続的に回 収するワーク巻き取り部 56とから構成されて!/、る。
[0141] ワーク巻き出し部 54には、コイル状に巻かれた帯状のワーク 12を、その幅方向を略 鉛直にして長手方向に送り出し、めっき処理部 52へ導入するアンコィラー 58が設け られている。アンコィラー 58とめつき処理部 52との間には、アンコィラー 58から送り出 されたワーク 12の張力を一定に保つアキユーム装置 60が設けられている。アキユー ム装置 60は、ワーク 12の側方からワーク 12の位置を規制したり、また、ワーク 12を折 り返したりするためのローラー 60a、 60b、 60c、 60dを備えている。
[0142] めっき処理部 52は、めっき液で満たされた複数のめっき槽 62a、 62b、 62c, 62dを 有している。各めつき槽 62a、 62b、 62c、 62dには、対向する側壁にそれぞれ例えば 第 1実施形態による非接触液シール装置 22が設けられており、一方の側壁の非接 触液シール装置 22を介してワーク 12が幅方向を略鉛直にしてめつき槽 62a、 62b、 62c, 62d内 ίこ搬人されるよう ίこなって!/、る。めっき槽 62a、 62b, 62c, 62diこ搬人さ れたワーク 12は、そのまま他方の側壁の非接触液シール装置 22を介してめつき槽 6 2a、 62b、 62c, 62d外に搬出されるようになっている。めっき槽 62bのワーク搬出側 とめつき槽 62cのワーク搬入側の近傍には、めっき槽 62bの非接触液シール装置 22 力も搬出されたワーク 12を方向転換し、めっき槽 62cに非接触液シール装置 22を介 して搬入するための Uターン部 64が設けられている。 Uターン部 64は、ワーク 12を 方向転換するためのローラー 64a、 64bを備えている。 [0143] 各めつき槽 62a、 62b、 62c、 62dのワーク搬入側とワーク搬出側の非接触液シー ル装置 22近傍には、ワーク 12に給電するための給電ロール部 66が設けられている 。給電ロール部 66は、ワーク 12を挟むように配置され、ワーク 12に接触して給電する 給電ローノレ 66a、 66b, 66cを備えて!/、る。
[0144] めっき槽 62aのワーク搬入側とワーク巻き出し部 54との間には、ワーク巻き出し部 5 4から送り出されたワーク 12の汚れの除去等を行う前処理槽 68が設けられている。処 理 ί夜で満たされた前処理槽 68についても、めっき槽 62a、 62b, 62c, 62dと同様に 、例えば第 1実施形態による非接触液シール装置 22を設けてもよ!/、。
[0145] めっき槽 62dのワーク搬出側の非接触液シール装置 22近傍には、めっきが施され たワーク 12をシャワー洗浄する洗浄室 70が設けられている。洗浄室 70近傍には、洗 浄室内で洗浄されたワーク 12を熱風乾燥する乾燥室 72が設けられている。
[0146] 乾燥室 72近傍には、乾燥室 72内で乾燥されたワーク 12を巻き取り回収するワーク 巻き取り部 56が配置されて!/、る。
[0147] ワーク巻き取り部 56には、めっき処理部 52によりめつきが施され、幅方向を略鉛直 にして送り出されたワーク 12を巻き取って回収するリコイラ一 74が設けられている。リ コィラー 74とめつき処理部 52の乾燥室 72との間には、ワーク 12を所定の速度でリコ イラ一 74に送るための駆動装置 76が設けられている。駆動装置 76は、ワーク 12を 折り返したり、ワーク 12の移動方向を変えたりするためのローラー 76a、 76b、 76cを 備えている。
[0148] こうして、ワーク巻き出し部 54からその幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出さ れたワーク 12力 めっき処理部 52の前処理槽 68、めっき槽 62a、 62b、 62c、 62d、 洗浄室 70、乾燥室 72を順次通過し、ワーク巻き取り部 56により回収される構成とな つている。
[0149] 本実施形態のように、連続湿式処理装置におけるめっき槽 62a、 62b、 62c、 62d、 前処理槽 68に対して例えば第 1実施形態による非接触液シール装置 22を設けても よい。
[0150] なお、上記では、連続湿式処理装置における液シール装置として第 1実施形態に よる非接触液シール装置 22を設ける場合について説明したが、第 1実施形態による 非接触液シール装置 22に代えて、第 2乃至第 6実施形態による非接触液シール装 置 22、 78のいずれかを設けてもよい。
[0151] [第 8実施形態]
本発明の第 8実施形態による連続湿式処理装置について図 13を用いて説明する 。図 13は本実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す平面図である。なお、 第 1乃至第 6実施形態による非接触液シール装置及び第 7実施形態による連続湿式 処理装置と同様の構成要素については同一の符号を付し説明を省略し或いは簡略 にする。
[0152] 本実施形態による連続湿式処理装置は、一方の面が処理面 12aであり、他方の面 が非処理面 12bであるワーク 12をその処理対象とするものである。本実施形態による 連続湿式処理装置の基本的構成は、第 7実施形態による連続湿式処理装置の構成 とほぼ同様であるが、液シール装置として第 6実施形態による非接触液シール装置 7 8が用いられている点、及びワーク 12の処理面 12aとの接触を極力回避するように各 部材が配置されている点で、第 7実施形態による連続湿式処理装置とは異なってい
[0153] 図 13に示すように、アンコィラー 58には、処理面 12aを内側にしてワーク 12がコィ ル状に巻かれている。
[0154] アキユーム装置 60においては、ワーク 12の側方からワーク 12の位置を規制するた めのローラー 60a、 60d、及びワーク 12を折り返すためのローラー 60b、 60cのうち、 ローラー 60bのみカワーク 12の処理面 12aに接角虫し、他のローラー 60a、 60c、 60d は、ワーク 12の非処理面 12bに接触している。
[0155] 各給電ロール部 66においては、ワーク 12の処理面 12a側に配置された 1つの給電 ローノレ 66aと、ワーク 12の非処理面 12b側に配置された 2つの給電ロール 66b、 66c とによりワーク 12が挟まれている。各給電ロール部 66において、ワーク 12の処理面 1 2aには 1つの給電ロール 66aが接触するのに対して、ワーク 12の非処理面 12bには 2つの給電ローノレ 66b、 66c力接角虫してレヽる。
[0156] 各めつき槽 62a、 62b、 62c、 62dには、対向する側壁にそれぞれ第 6実施形態によ る非接触液シール装置 78が設けられており、一方の側壁の非接触液シール装置 78 を介してワーク 12が幅方向を略鉛直にしてめつき槽 62a、 62b、 62c, 62d内に搬入 されるよう ίこなってレヽる。めっき槽 62a、 62b、 62c、 62diこ搬入されたワーク 12(ま、そ のまま他方の側壁の非接触液シール装置 78を介してめつき槽 62a、 62b, 62c, 62d 外に搬出されるようになっている。
[0157] 各非接触液シール装置 78では、図 10に示す場合と同様に、ワーク 12の処理面 12 a側に噴流噴出部 24が配置され、ワーク 12の非処理面 12b側にシールロール 82が 配置されている。
[0158] なお、前処理槽 68についても、めっき槽 62a、 62b、 62c、 62dと同様に、第 6実施 形態による非接触液シール装置 78を設けてもよい。
[0159] Uターン部 64においては、ワーク 12を方向転換するためのローラー 64a、 64bのい ずれもワーク 12の非処理面 12bに接触している。
[0160] 駆動装置 76においては、ワーク 12を折り返すためのローラー 76a、 76b及びワーク
12の移動方向を変えるためのローラー 76cのうち、ローラー 76aのみがワーク 12の 処理面 12aに接触し、他のローラー 76b、 76cは、ワーク 12の非処理面 12bに接触し ている。
[0161] リコイラ一 74には、処理面 12aを内側にしてワーク 12が巻取られて回収されるように なっている。
[0162] このように、本実施形態による連続湿式処理装置では、一方の面が処理面 12aで あり、他方の面が非処理面 12bであるワーク 12に対して、第 6実施形態による非接触 液シール装置 78を液シール装置として用い、更に、ワーク 12の処理面 12aとの接触 を極力回避するように各部材が配置されて!/、る。
[0163] すなわち、アキユーム装置 60においては、ワーク 12の処理面 12aに接触するロー ラーの数よりもワーク 12の非処理面 12bに接触するローラーの数が多くなつている。 また、各給電ロール部 66においては、ワーク 12の処理面 12aに接触する給電ロール 66aの数よりもワーク 12の非処理面 12bに接触する給電ロールの数が多くなつている 。 Uターン部 64においては、ワーク 12の処理面 12aにローラーが接触しないようにな つている。駆動装置 76においても、ワーク 12の処理面 12aに接触するローラーの数 よりもワーク 12の非処理面 12bに接触するローラーの数が多くなつている。 [0164] したがって、本実施形態によれば、一方の面が処理面 12aであり、他方の面が非処 理面 12bであるワーク 12を処理する場合において、ワーク 12の処理面 12aについて 連続湿式処理装置における部材との接触による傷付き、変色等の不良の発生を確 実に防止するとともに、浸漬槽 10のスリット 20からの処理液の流出を更に抑制ないし 低減すること力 Sでさる。
[0165] [変形実施形態]
本発明は上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
[0166] 例えば、上記実施形態では、浸漬槽 10に満たされた処理液と同じ処理液の噴流を 噴流ノズル 36、 46、 48から噴出する場合について説明した力 噴流ノズル 36、 46、 48から噴流として噴出する流体は、浸漬槽 10に満たされた処理液と同じ処理液に限 定されるものではない。噴流ノズノレ 36、 46、 48力、らは、浸漬槽 10に満たされた処理 液とは異なる処理液、水等の液体を噴出してもよい。また、噴流ノズル 36、 46、 48か ら噴出する流体は、液体に限定されるものではなぐ空気等の気体を噴流ノズル 36、 46、 48から噴出してもよい。また、ワークやワークに施されためっきを変質させない窒 素ガス等の気体を噴出してもよい。また、気体と液体とが混合された気液混合流体を 噴流ノス、ノレ 36、 46、 48力、ら噴出してもよい。噴流ノス、ノレ 36、 46、 48力、ら気体を噴出 する場合は、液体を噴出する場合と比較して液の流出量を低減することができる。
[0167] また、上記実施形態では、噴流スリット 40の幅が上下方向に略一定になっている場 合について説明した力 噴流スリット 40の幅は略一定でなくてもよい。例えば、噴流ス リット 40の幅を下方ほど狭くしてもよい。処理液の液圧が高くなる下方ほど噴流スリツ ト 40の幅を狭くすることにより、浸漬槽 10からの処理液の流出を更に十分に抑制な Vヽしは低減すること力 Sでさる。
[0168] また、上記実施形態では、噴流体管路 32が角管状である場合について説明したが 、噴流体管路 32は、角管状のものに限定されるものではない。例えば、噴流体管路 32は、丸管状のものであってもよい。この場合において、図 14に示すように、複数の 噴流ノズル 36を丸管状の噴流体管路 32に直接設けてもよい。
[0169] また、上記実施形態では、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10 側に傾斜した方向を向!/、た噴流ノズル 36、及びワーク 12の移動方向に略垂直な方 向を向いた噴流ノズル 48のいずれか一方又は両方が噴流ノズル板 34に設けられて いる場合について説明した力 噴流ノズノレが向く方向はこれらに限定されるものでは ない。例えば、ワーク 12の移動方向に垂直な方向に対して浸漬槽 10と反対側に傾 斜した方向を向いた噴流ノズルを噴流ノズル板 34に設けてもよい。また、これら向く 方向の異なる噴流ノズルを適宜組み合わせて噴流ノズル板 34に設けてもよい。
[0170] また、上記実施形態では、浸漬槽 10のスリット 20の幅が上下方向に略一定になつ ている場合について説明したカ、スリット 20の幅は略一定でなくてもよい。例えば、ス リット 20の幅を下方ほど狭くしてもよい。処理液の液圧が高くなる下方ほどスリット 20 の幅を狭くすることにより、浸漬槽 10からの処理液の流出を更に十分に抑制ないしは 低減すること力 Sでさる。
[0171] また、上記実施形態では、浸漬槽 10のワーク搬入側とワーク搬出側とにそれぞれ 1 つずつ非接触液シール装置 22、 78が設けられている場合について説明した力 非 接触液シール装置 22、 78を複数段連ねて設けてもよい。非接触液シール装置 22、 78を複数段連ねて設けることにより、浸漬槽 10からの処理液の流出を更に十分に抑 制な!/、しは低減すること力 Sでさる。
[0172] また、上記実施形態では、ワーク 12の非処理面 12b側にシールロール 82を配置す る場合について説明した力 S、スリット 20のワーク 12の非処理面 12b側からの処理液 の流出をシールする液シール手段は、これに限定されるものではない。液シール手 段としては、シールロール 82に代えて、例えば、スリット 20の側方にスリット 20に沿つ て、スポンジやゴム等よりなる例えば板状、棒状等の部材をワーク 12の非処理面 12b に接触するように設けてもよい。また、回転しないように固定されたシールロールを設 けてもよい。
産業上の利用可能性
[0173] 本発明による非接触液シール装置及び方法は、処理液が満たされた浸漬槽の側 壁のスリットを介して、幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークを浸漬槽 に搬入出する際に、ワークの不良の発生を防止しつつ浸漬槽からの処理液の流出を 低減するのにきわめて有用である。

Claims

請求の範囲
[1] 幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過する開口部が側壁に 設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール装置であって、
前記開口部の一方の側に配置され、前記開口部を通過する前記ワークへ向けて前 記一方の側から流体の噴流を噴出する噴流噴出部と、
前記開口部の他方の側に配置され、前記開口部の前記他方の側からの前記液体 の流出をシールする液シール部とを有する
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[2] 請求の範囲第 1項記載の非接触液シール装置において、
前記液シール部は、前記開口部の前記他方の側に配置され、前記開口部を通過 する前記ワークへ向けて前記他方の側から流体の噴流を噴出する噴流噴出部であ る
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[3] 請求の範囲第 2項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記開口部の一方の側に配置された前記噴流噴出部と前記開口部の前記他方の 側に配置された前記噴流噴出部との間の間隙は、下方ほど幅が狭くなつている ことを特徴とする非接触液シール装置。
[4] 請求の範囲第 1項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記液シール部は、前記開口部の前記他方の側に配置され、前記ワークの前記他 方の側の面に接触する円柱状部材である
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[5] 請求の範囲第 1項乃至第 4項のいずれ力、 1項に記載の非接触液シール装置にお いて、
前記噴流噴出部は、前記流体が供給される噴流体管路と、前記噴流体管路の前 記ワーク側に設けられ、前記噴流を噴出する噴流ノズルとを有する
を有することを特徴とする非接触液シール装置。
[6] 請求の範囲第 5項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記噴流ノズルは、前記ワークの移動方向に垂直な方向に対して前記浸漬槽側に 傾斜した方向を向いている
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[7] 請求の範囲第 5項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記噴流ノズルは、前記ワークの移動方向に垂直な方向を向いて!/、る ことを特徴とする非接触液シール装置。
[8] 請求の範囲第 5項乃至第 7項のいずれ力、 1項に記載の非接触液シール装置にお いて、
前記噴流噴出部は、上下方向に配列された複数の前記噴流ノズルを有する ことを特徴とする非接触液シール装置。
[9] 請求の範囲第 8項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記複数の噴流ノズルの穴は、それぞれ円形である
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[10] 請求の範囲第 9項記載の非接触液シール装置にお!/、て、
前記複数の噴流ノズルの穴は、下方の前記噴流ノズルの穴ほど穴径が大き!/、 ことを特徴とする非接触液シール装置。
[11] 請求の範囲第 8項乃至第 10項のいずれ力、 1項に記載の非接触液シール装置おい て、
上下方向に配列された前記複数の噴流ノズルの穴のピッチは、下方ほど密である ことを特徴とする非接触液シール装置。
[12] 請求の範囲第 1項乃至第 11項のいずれ力、 1項に記載の非接触液シール装置にお いて、
前記開口部は、下方ほど幅が狭くなつている
ことを特徴とする非接触液シール装置。
[13] 幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過する開口部が側壁に 設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール方法であって、
前記液体が満たされた前記浸漬槽の前記開口部を前記ワークが通過する際に、前 記開口部を通過する前記ワークへ向けて前記ワークの両側から流体の噴流を噴出し 、前記噴流により前記開口部を非接触でシールする ことを特徴とする非接触液シール方法。
幅方向を略鉛直にした状態で枚葉又は帯状のワークが通過する開口部が側壁に 設けられ、液体が満たされる浸漬槽の非接触液シール方法であって、
前記開口部の一方の側に、前記ワークの前記一方の側の面に接触し、前記開口 部の前記一方の側からの前記液体の流出をシールする液シール部を配置し、 前記液体が満たされた前記浸漬槽の前記開口部を前記ワークが通過する際に、前 記開口部を通過する前記ワークへ向けて前記開口部の他方の側から流体の噴流を 噴出し、前記噴流により、前記開口部の前記他方の側からの前記液体の流出を非接 触でシールする
ことを特徴とする非接触液シール方法。
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