KR20090101174A - 비접촉 액 시일 장치 및 방법 - Google Patents

비접촉 액 시일 장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20090101174A
KR20090101174A KR1020097012138A KR20097012138A KR20090101174A KR 20090101174 A KR20090101174 A KR 20090101174A KR 1020097012138 A KR1020097012138 A KR 1020097012138A KR 20097012138 A KR20097012138 A KR 20097012138A KR 20090101174 A KR20090101174 A KR 20090101174A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
workpiece
jet
liquid sealing
liquid
contact
Prior art date
Application number
KR1020097012138A
Other languages
English (en)
Inventor
가즈노 오오하라
겐이찌로 아라이
Original Assignee
니치요 엔지니어링 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니치요 엔지니어링 가부시키가이샤 filed Critical 니치요 엔지니어링 가부시키가이샤
Publication of KR20090101174A publication Critical patent/KR20090101174A/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0628In vertical cells
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2252/00Sheets
    • B05D2252/02Sheets of indefinite length
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0736Methods for applying liquids, e.g. spraying
    • H05K2203/0746Local treatment using a fluid jet, e.g. for removing or cleaning material; Providing mechanical pressure using a fluid jet
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1509Horizontally held PCB

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

폭 방향을 대략 연직으로 한 상태에서 낱장 또는 띠 형상의 워크(12)가 통과하는 슬릿(20)이 측벽(18)에 설치되고, 처리액이 채워지는 침지조(10)에 대하여 슬릿(20)의 양측에 배치되고, 슬릿(20)을 통과하는 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 처리액의 분류를 분출하는 한 쌍의 분류 분출부(24)를 갖는 비접촉 액 시일 장치(22)가 설치되어 있다.
워크, 슬릿, 측벽, 침지조, 비접촉 액 시일 장치

Description

비접촉 액 시일 장치 및 방법 {APPARATUS AND METHOD FOR NON-CONTACT LIQUID SEALING}
본 발명은, 프린트 기판의 기재 등의 대상물에 도금 등의 습식 처리를 실시하는 습식 처리 장치의 액 시일 장치 및 방법에 관한 것이다.
IC 카드 등에 사용되는 프린트 기판에는 탑재되는 소자의 전기적인 접속을 취하기 위해 도금이 실시된다. 프린트 기판에 도금을 실시하는 방법으로서는, 프린트 기판의 기재를 절단한 상태로 도금액에 침지하는 낱장식의 방법, 혹은 띠 형상의 플렉시블 프린트 기판 자체를 연속적으로 도금액에 침지하는 연속식의 방법이 사용되고 있다.
이와 같이, 피처리물(워크라고도 한다)에 도금 등의 처리를 실시하는 습식 처리에는 워크의 형태에 따라 낱장식이나 연속식의 방법이 사용되고 있다.
낱장식의 방법의 경우, 워크는 반송 수단에 의해 처리액이 채워진 침지조의 상방으로 반송되고, 계속하여 침지조 내로 하강되어 처리액에 침지된다. 처리가 종료된 워크는 침지조로부터 상승되어 다음 공정으로 반송된다. 이 방법은, 낱장의 워크에 사용했으나, 띠 형상의 연속한 워크에 적용할 수는 없다.
이에 대해, 연속식의 방법의 경우, 침지조의 대향하는 측벽에 슬릿 형상의 출입구를 형성하고, 이 슬릿을 통과시켜 워크를 침지조로 반출입한다. 이 방법은, 낱장의 워크뿐만 아니라, 띠 형상의 워크에도 이용할 수 있다. 그러나, 이 방법에서는, 침지조 내의 처리액이 슬릿으로부터 유출되는 양이 많아, 침지조 내의 처리액의 액면을 높게 할 수 없다. 슬릿의 폭을 좁게 하면 처리액의 유출량을 저감할 수 있으나, 단순히 슬릿의 폭을 좁게 하는 것만으로는 워크가 슬릿 내면에 접촉되어 버린다. 이로 인해, 슬릿에는, 10㎜ 전후의 어느 정도의 폭이 필요하다. 이와 같이, 침지조 내의 액면을 높게 할 수 없기 때문에, 폭이 넓은 워크를 처리하는 것이 곤란하여 처리 가능한 워크의 폭은 최대로도 200㎜ 정도이다. 그 외에 추가로, 침지조 내의 처리액의 액면 높이를 유지하기 위해 유출액의 복귀 펌프에 능력이 큰 것이 필요해지는 등 유체 기기에 필요로 하는 에너지도 크다.
또한, 이 방법에서는, 슬릿을 통과하는 워크의 위치가 불안정해지기 쉽다. 워크가 슬릿 간극의 중앙 위치로부터 한 쪽의 슬릿 내면으로 치우치면, 슬릿으로부터 유출되는 처리액의 관성력에 의해 워크는 중심으로부터 더 이격되는 방향으로 움직인다. 그 결과, 워크는 최종적으로 한 쪽의 슬릿 내면에 접촉한 상태로 안정되게 된다. 이러한 상태가 되면, 슬릿 내면과의 접촉에 의해 워크면에 찰과상이 발생하여 품질의 열화 등의 원인이 된다. 워크를 슬릿 내면에 접촉하기 어렵게 하기 위해서는, 슬릿 간극의 폭을 넓게 할 필요가 있으나, 처리액의 유출량을 감소시키는 것이 곤란해진다. 슬릿의 두께를 두껍게 하거나, 슬릿 내면을 파형 등 유체 마찰이 큰 형상으로 함으로써, 슬릿으로부터의 처리액의 유출량을 어느 정도 저감시킬 수는 있다. 그러나, 워크와 슬릿 내면의 접촉을 완전하게 방지하는 것은 곤 란하다.
또한, 슬릿으로부터의 처리액의 유출을 억제 내지는 저감시키는 방법으로서, 슬릿 부분에 수지제나 고무제 등의 시트 형상, 스펀지 형상 혹은 주걱 형상의 액 제거 수단을 워크를 끼워 넣도록 설치하는 방법도 알려져 있다(예를 들어, 특허 문헌1 참조). 그러나, 워크와 이들 액 제거 수단의 마찰에 의한 워크면의 손상이 발생한다는 문제는 여전히 남는다.
또한, 침지조의 대향하는 측벽에 형성한 슬릿의 근방에, 슬릿에 대응한 부분을 사이에 두고 대향하는 2개의 회전 가능한 롤(시일 롤)을 설치하고, 워크를 2개의 시일 롤의 사이를 주행시켜 처리조로 반출입시키는 방법이 알려져 있다(예를 들어, 특허 문헌2 내지 4 참조). 이 방법도 띠 형상의 워크에 이용할 수 있는 방법이다. 2개의 시일 롤의 사이에 워크를 주행시키면 시일 롤의 회전에 의해 워크와 시일 롤의 밀착성이 증가하여 처리조로부터 처리액의 유출을 효과적으로 억제 내지는 저감시킬 수 있다. 이 때문에, 침지조 내의 처리액의 액면을 높게 할 수 있어, 폭이 넓은 워크의 처리가 가능해진다. 이 방법에서는, 최대 600㎜ 정도까지의 폭을 갖는 워크를 처리할 수 있다. 그 외에 추가로, 펌프 등의 유체 기기에 필요로 하는 에너지도 적다고 하는 장점이 있다. 또한, 이 방법에 있어서는, 워크와 시일 롤은 슬립하지 않으므로 시일 롤에 의한 워크의 찰과상의 발생을 억제할 수 있고, 워크가 롤에 의해 위치 결정되어 있으므로 워크를 안정되게 주행시킬 수 있다. 그러나, 워크와 접촉하는 시일 롤의 표면은 시간과 함께 열화되므로, 롤의 보수 관리를 행하는 것이 필요해진다.
<특허 문헌1> : 일본 실용신안 출원 공개 소59-17765호 공보
<특허 문헌2> : 일본 특허 출원 공개 평2-182895호 공보
<특허 문헌3> : 일본 특허 출원 공개 제2002-275681호 공보
<특허 문헌4> : 일본 특허 출원 공개 제2003-147582호 공보
<특허 문헌5> : 일본 실용신안 출원 공개 소61-155371호 공보
상술한 바와 같이, 프린트 배선 기판 및 그들에 사용되는 기재 등의 낱장 또는 띠 형상의 워크를, 처리액이 채워진 침지조에 측벽에 형성된 슬릿을 통해 반출입할 경우에 있어서는, 침지조로부터의 처리액의 유출을 억제 내지는 저감시키기 위해 시일이 행해지고 있다.
이때, 워크와는 비접촉으로 침지조로부터의 처리액의 유출을 억제 내지는 저감할 수 있으면, 워크의 불량의 발생을 확실하게 방지할 수 있다.
또한, 침지조로부터의 처리액의 유출을 충분히 억제 내지는 저감할 수 있으면, 침지조에 채워진 처리액의 액면을 높게 하는 것을 할 수 있기 때문에, 폭이 넓은 워크에 대해서도 처리액에 의한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
본 발명의 목적은, 처리액이 채워진 침지조의 측벽의 슬릿을 통하여 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크를 침지조로 반출입할 때에 있어서의 침지조로부터의 처리액의 유출을, 워크와는 비접촉으로 충분히 억제 내지는 저감할 수 있는 비접촉 액 시일 장치 및 방법을 제공하는 것에 있다.
본원 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 액체가 채워진 침지조의 개구부를, 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과할 때에 침지조의 개구부에 대응하는 범위에 있어서, 개구부를 통과하는 워크를 향하여 워크의 양측으로부터 유체의 분류(噴流)를 분출함으로써 워크의 위치를 안정화시켜 비접촉으로 침지조로 워크를 반출입할 수 있으며, 또한 침지조로부터의 액체의 유출을 충분히 억제 내지는 저감할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
또한, 예를 들어 워크의 양면에 처리를 실시하는 것이 아니라 워크의 한 쪽의 면에만 처리를 실시할 경우 등에 있어서는, 반드시 워크의 양측으로부터 유체의 분류를 분출할 필요는 없으며, 개구부를 통과하는 워크를 향하여 워크의 처리면측으로부터 유체의 분류를 분출하는 한편, 워크의 비처리면측에는 워크의 비처리면에 접촉하여 액 시일을 행하는 액 시일 수단을 배치하면 좋다.
상기 목적은, 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 장치이며, 상기 개구부의 한 쪽에 배치되어, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 한 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하는 분류 분출부와, 상기 개구부의 다른 쪽에 배치되어, 상기 개구부의 상기 다른 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 시일하는 액 시일부를 갖는 것을 특징으로 하는 비접촉 액 시일 장치에 의해 달성된다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 액 시일부는, 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치되어, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 다른 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하는 분류 분출부이어도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 개구부의 한 쪽에 배치된 상기 분류 분출부와 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치된 상기 분류 분출부 사이의 간극은 하방일수록 폭이 좁게 되어 있어도 된다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 액 시일부는, 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치되어, 상기 워크의 상기 다른 쪽의 면에 접촉하는 원기둥 형상 부재이어도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 분류 노즐은, 상기 유체가 공급되는 분류체 관로와, 상기 분류체 관로의 상기 워크측에 설치되고, 상기 분류를 분출하는 분류 노즐을 갖도록 해도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 분류 노즐은, 상기 워크의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 상기 침지조측으로 경사진 방향을 향하고 있도록 해도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 분류 분출부는 상기 워크의 이동 방향에 수직한 방향을 향하고 있도록 해도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서,
상기 분류 분출부는 상하 방향으로 배열된 복수의 상기 분류 노즐을 갖도록 해도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 복수의 분류 노즐의 구멍은 각각 원형이어도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 복수의 분류 노즐의 구멍은 하방의 상기 분류 노즐의 구멍일수록 구멍 직경이 커도 좋다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상하 방향으로 배열된 상기 복수의 분류 노즐의 구멍의 피치는 하방일수록 밀해도 된다.
또한, 상기한 비접촉 액 시일 장치에 있어서, 상기 개구부는 하방일수록 폭이 좁게 되어 있어도 된다.
또한, 상기 목적은 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 방법이며, 상기 액체가 채워진 상기 침지조의 상기 개구부를 상기 워크가 통과할 때에 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 워크의 양측으로부터 유체의 분류를 분출하여 상기 분류에 의해 상기 개구부를 비접촉으로 시일하는 것을 특징으로 하는 비접촉 액 시일 방법에 의해 달성된다.
또한, 상기 목적은 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 방법이며, 상기 개구부의 한 쪽에, 상기 워크의 상기 한 쪽의 면에 접촉하여 상기 개구부의 상기 한 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 시일하는 액 시일부를 배치하고, 상기 액체가 채워진 상기 침지조의 상기 개구부를 상기 워크가 통과할 때에, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 개구부의 다른 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하고, 상기 분류에 의해, 상기 개구부의 상기 다른 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 비접촉으로 시일하는 것을 특징으로 하는 비접촉 액 시일 방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면, 액체가 채워진 침지조의 개구부를, 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과할 때에, 개구부를 통과하는 워크를 향하여 워크의 양측으로부터 유체의 분류를 분출하므로 침지조로부터의 액체의 유출을 워크와는 비접촉으로 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따르면, 주변 부재, 부품과 워크의 접촉을 방지하여 손상, 변형, 변색 등의 워크의 불량의 발생을 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 침지조에 채워진 액체의 액면을 높게 할 수 있어, 폭이 넓은 워크까지 침지조에 채워진 액체에 의해 처리할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 유체의 분류를 분출하기 위하여 가동 부품을 사용할 필요가 없기 때문에, 용이하게 보수 관리를 행할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 액체가 채워진 침지조의 개구부의 한 쪽에, 워크의 한 쪽의 면에 접촉하여 개구부의 한 쪽으로부터의 액체의 유출을 시일하는 액 시일부를 배치하고, 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 개구부를 통과할 때에, 개구부를 통과하는 워크를 향하여 개구부의 다른 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하므로, 워크의 다른 쪽의 면의 손상, 변색 등의 워크의 불량의 발생을 확실하게 방지하면서, 침지조로부터의 액체의 유출을 더 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치의 구조를 도시한 개략도(그 1)이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치의 구조를 도시한 개략도(그 2)이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치의 구조를 도시한 개략도(그 3)이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시한 개략도(그 1)이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시한 개략도(그 2)이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시한 개략도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시한 개략도이다.
도 8은 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 11은 본 발명의 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 있어서의 시일 롤의 다른 예를 도시하는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 제7 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 구조를 도시하는 평면도이다.
도 13은 본 발명의 제8 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 구조를 도시하는 평면도이다.
도 14는 본 발명에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조의 다른 예를 도시하는 단면도이다.
<부호의 설명>
10 : 침지조
12 : 워크
12a : 처리면
12b : 비처리면
14 : 처리액 저류조
16 : 펌프
18 : 측벽
20 : 슬릿
22 : 비접촉 액 시일 장치
24 : 분류 분출부
26 : 유량 조정 밸브
28 : FIC
30 : 받이 접시
32 : 분류체 관로
34 : 분류 노즐판
36 : 분류 노즐
38 : 돌출부
40 : 분류 슬릿
42, 44 : 스로트(throat)부
46, 48 : 분류 노즐
50 : 평탄부
52 : 도금 처리부
54 : 워크 권출부(unwinding part)
56 : 워크 권취부(rewinding part)
58 : 언코일러
60 : 어큠 장치
60a, 60b , 60b, 60c : 롤러
62a, 62b, 62c, 62d : 도금조
64 : U턴부
66 : 급전 롤부
66a, 66b, 66c : 급전 롤
68 : 전처리조
70 : 세정실
72 : 건조실
74 : 리코일러
76 : 구동 장치
76a, 76b, 76c : 롤러
78 : 비접촉 액 시일 장치
80 : 시일 조
82 : 시일 롤
84 : 기어드 모터
86a, 86b : 베어링
[제1 실시 형태]
본 발명의 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치 및 방법에 대하여 도 1 내지 도 5를 사용하여 설명한다. 도 1 내지 도 3은 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치의 구조를 도시한 개략도, 도 4 및 도 5는 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시한 개략도이다.
우선, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치에 대하여 도 1 내지 도 3를 사용하여 설명한다. 도 1은 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 구비한 습식 처리 장치의 구조를 도시하는 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A' 단면도, 도 3은 도 1의 B-B' 화살표도이다.
침지조(10)에는, 낱장의 워크(12)에 대하여 소정의 처리를 행하기 위하여 처리액이 채워져 있다. 침지조(10)에는 처리액이 저류된 처리액 저류조(14)로부터 펌프(16)를 통하여 처리액이 공급되게 되어 있다.
처리액으로 채워진 침지조(10)의 대향하는 측벽(18)에는 낱장의 워크(12)를 반출입하기 위한 슬릿(20)이 대략 연직 방향으로 설치되어 있다. 워크(12)는 한 쪽의 측벽(18)의 슬릿(20)으로부터 폭 방향을 대략 연직으로 하여 침지조(10) 내로 반입되도록 되어 있다. 침지조(10) 내로 반입된 워크(12)는, 그대로 폭 방향을 대략 연직으로 하여 다른 쪽의 측벽(18)의 슬릿(20)으로부터 침지조(10) 밖으로 반출되도록 되어 있다.
슬릿(20)이 설치된 침지조(10)의 대향하는 측벽(18)에는, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)가 설치되어 있다. 비접촉 액 시일 장치(22)는 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류를 분출하는 한 쌍의 분류 분출부(24)를 갖고 있다.
한 쌍의 분류 분출부(24)는, 슬릿(20) 양측의 측벽(18)의 단부의 외면에 슬릿(20)을 통과하는 워크(12)를 사이에 두고 대향하도록 배치되어 있다. 한 쌍의 분류 분출부(24)로부터 분출되는 처리액은 처리액 저류조(14)로부터, 펌프(16), 유량 조정 밸브(26), 유량 지시 조절계(FIC:Flow Indicator and Controller)(28)를 통하여 공급되게 되어 있다.
침지조(10)의 반입측 및 반출측의 측벽(18)의 하방에는 슬릿(20)으로부터 유출된 처리액 및 비접촉 액 시일 장치(22)로부터 분출된 처리액을 회수하기 위한 받 이 접시(30)가 설치되어 있다. 받이 접시(30)에 저류된 처리액은 처리액 저류조(14)에 회수되도록 되어 있다.
이와 같이 하여, 비접촉 액 시일 장치(22)를 구비한 습식 처리 장치가 구성되어 있다.
워크(12)는, 예를 들어 프린트 배선 기판, 프린트 배선 기판에 사용되는 기재 등이다. 워크(12)의 두께는, 예를 들어 3 내지 200㎛의 범위이며, 구체적으로는 주류의 38㎛, 다음으로 많은 25㎛, 특수 용도를 위한 50㎛, 100㎛ 등이다. 또한, 워크(12)의 형상은 낱장에 한정되는 것이 아니라, 롤로부터 풀리는 연속 스트립 부재(continuous strip material)조재와 같은 띠 형상이어도 좋다.
침지조(10)는, 예를 들어 처리액으로서 도금액이 채워진 도금조이다. 또한, 침지조(10)는, 도금조에 한정되는 것이 아니라, 전처리조, 후처리조, 세정조 등이어도 좋다. 침지조(10)에서 행하여지는 처리는 도금 처리 외에, 에칭 처리, 탈지 처리, 방청 처리, 세정 처리 등이어도 되고, 처리에 따른 처리액을 선택할 수 있다.
침지조(10)에 있어서, 워크(12)의 반입측 및 반출측의 측벽(18)에 형성된 슬릿(20)의 폭은, 예를 들어 상하 방향으로 대략 일정하게 되어 있다.
침지조(10)에는 워크(12)에 대하여 처리액에 의한 처리를 행하는 동안, 처리액 저류조(14)로부터 펌프(16)를 통하여 처리액이 적절하게 공급되어 침지조(10)에 있어서의 반응액의 액면의 높이가 대략 일정하게 유지된다.
본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)는, 워크(12)를 향하여 워 크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류를 분출하는 한 쌍의 분류 분출부(24)를 갖는 것에 주된 특징이 있다. 여기서, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)에 대하여 도 1 내지 도 5를 사용하여 상세하게 서술한다. 도 4는 도 2 및 도 3의 C-C' 단면도, 도 5의 (a)는 분류 분출부(24)의 평면도, 도 5의 (b)는 분류 분출부(24)의 워크측 측면도이다. 또한, 도 4에서는 침지조(10)의 워크(12)의 반출측의 측벽(18)에 설치된 비접촉 액 시일 장치(22)의 구조를 도시하고 있으나, 침지조(10)의 워크(12)의 반입측의 측벽(18)에 설치된 비접촉 액 시일 장치(22)도 마찬가지의 구조를 갖고 있다.
도 4에 도시한 바와 같이, 슬릿(20) 양측의 측벽(18) 단부의 외면에, 슬릿(20)을 통과하는 워크(12)를 사이에 두고 대향하도록 한 쌍의 분류 분출부(24)가 배치되어 있다. 한 쌍의 분류 분출부(24)는, 각각 분류로서 분출되는 처리액의 유로인 분류체 관로(32)와, 분류체 관로(32) 내의 처리액이 분류로서 분출되는 복수의 분류 노즐(36)이 설치된 분류 노즐판(34)에 의해 구성되어 있다.
분류체 관로(32)는, 예를 들어 각관 형상의 것이다. 분류체 관로(32)에는, 처리액 저류조(14)로부터 침지조(10)에 채워진 처리액과 동일한 처리액이 배관을 통하여 공급된다. 분류체 관로(32)에는, 1개소로부터 처리액을 공급해도 되고[도 5의 (b) 참조], 복수 개소로부터 처리액을 공급해도 좋다. 복수 개소로부터 처리액을 공급할 경우에 있어서는, 분류체 관로(32)를 예를 들어 상하 2단, 상중하 3단 등의 복수의 실로 구분하여, 구분한 실마다 처리액을 공급하도록 해도 좋다.
분류체 관로(32)에 공급되는 처리액의 유량은 FIC(28)에 의해 검지된다. FIC(28)는 유량의 검지 결과에 기초하여 워크(12)를 사이에 두고 대향하는 한 쌍의 분류 분출부(24)로부터 분출되는 처리액의 유량이 균등하게 되도록 유량 조정 밸브(26)를 제어한다.
분류 노즐판(34)은, 분류체 관로(32)의 워크(12)측에 설치되어 있다. 분류 노즐판(34)에는 분류체 관로(32)의 상하 방향을 따라 워크(12)측으로 돌출된 돌출부(38)를 갖고 있다. 돌출부(38)의 워크(12)에 대향하는 면은 워크(12)의 이동 방향에 대략 평행한 평탄면으로 되어 있다. 돌출부(38)의 침지조(10)측의 측면은, 침지조(10)의 측벽(18)과 대략 평행한 면으로 되어 있다. 돌출부(38)의 침지조(10)와 반대측의 측면은 경사면으로 되어 있다. 분류 노즐판(34)의 돌출부(38)의 양측의 면은 워크(12)의 이동 방향에 대략 평행한 면으로 되어 있다.
복수의 분류 노즐(36)은 침지조(10)의 슬릿(20)에 대응하는 범위에, 분류 노즐판(34)의 돌출부(38)에 상하 방향으로 배열되어 설치되어 분류체 관로(32)에 접속되어 있다.
복수의 분류 노즐(36)의 구멍은, 도 5의 (b)에 도시한 바와 같이, 예를 들어 상하 방향에 대략 일정한 피치로 돌출부(38)의 워크(12)에 대향하는 평면에 일렬로 배열되어 있다. 또한, 복수의 분류 노즐(36)의 구멍은, 예를 들어 동일 직경의 원형 형상으로 되어 있다. 분류 노즐(36)의 구멍의 직경은, 예를 들어 0.5 내지 3㎜ 정도, 구체적으로는 예를 들어 2㎜ 정도이다.
각 분류 노즐(36)은, 도 4에 도시한 바와 같이 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향하고 있다. 이렇게 경사진 방향을 향한 각 분류 노즐(36)은 워크(12)를 향하여 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향과 대략 수평하게, 분류체 관로(32)로부터 공급되는 처리액을 분류로서 분출한다.
워크(12)를 사이에 두고 대향하여 배치된 한 쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 돌출부(38)의 워크(12)에 대향하는 면에 끼워진 분류 슬릿(40)이 구성되어 있다. 분류 슬릿(40)의 폭은, 침지조(10)의 슬릿(20)의 폭보다도 좁고, 상하 방향으로 대략 일정하게 되어 있으며, 예를 들어 1 내지 3㎜ 정도이다. 분류 슬릿(40)의 두께, 즉 돌출부(38)의 워크(12)에 대향하는 면의 워크(12)의 이동 방향에 있어서의 길이는, 예를 들어 3㎜ 정도이다.
또한, 한쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 분류 슬릿(40)의 침지조(10)측에 분류 슬릿(40)보다도 폭이 넓은 스로트부(42)가 구성되어 있다. 또한, 분류 슬릿(40)의 침지조(10)와 반대측에 분류 슬릿(40)보다도 폭이 넓은 스로트부(44)가 구성되어 있다.
침지조(10)측의 스로트부(42)는 침지조(10)의 슬릿(20)의 폭보다도 좁은 대략 일정한 폭을 갖고 있다. 침지조(10)와 반대측의 스로트부(44)는 분류 슬릿(40)측으로부터 이격됨에 따라 폭이 확대되어 가, 도중에서 침지조(10)측의 스로트부(42)와 거의 동일한 폭으로 되어 있다. 워크(12)의 이동 방향에 있어서의 길이는 침지조(10)측의 스로트부(42)보다도 침지조(10)와 반대측의 스로트부(44)가 더 길게 되어 있다.
이와 같이 하여, 워크(12)가 통과하는 한 쌍의 분류 노즐판(34) 사이에 침지 조(10)의 슬릿(20)을 따라 슬릿(20)에 대응하는 범위에, 스로트부(42)와, 분류 슬릿(40)과, 스로트부(44)가 구성되어 있다. 분류 슬릿(40)에 있어서는 워크(12)의 양측의 복수의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류가 분출된다.
다음에, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)를 사용한 액 시일 방법에 대하여 도 1 내지 도 5를 사용하여 설명한다.
처리액이 채워진 침지조(10)에는 워크(12)가 반입측의 측벽(18)의 슬릿(20)으로부터 폭 방향을 대략 연직으로 하여 반입되고, 그대로 폭 방향을 대략 연직으로 하여 반출측의 측벽(18)의 슬릿(20)으로부터 반출된다. 워크(12)의 이동 속도는, 예를 들어 0.1m 내지 30m/분 정도의 범위의 비교적 느린 속도이며, 통상 0.1 내지 2m/분이다.
워크(12)가 반출입되는 동안, 분류체 관로(32)로는 처리액이 공급되어, 분류 노즐판(34)의 복수의 분류 노즐(36)로부터 처리액의 분류가 분출된다. 분류체 관로(32)로 공급되는 처리액의 유량은 워크(12)를 사이에 두고 대향하는 한 쌍의 분류 노즐판(34)의 분류 노즐(36)로부터 분출되는 처리액의 유량이 균등하게 되도록 FIC(28)에 의해 제어된다. 이와 같이 하여, 워크(12)를 사이에 두고 대향하는 한 쌍의 분류 노즐판(34)의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류가 분출된다.
워크(12)에 대하여 대략 수직한 방향의 분류의 속도 성분은, 분류의 관성력으로서 워크(12)의 표면에 작용하여, 한 쌍의 분류 노즐판(34)의 간극의 중앙에 워 크(12)를 되민다. 이 분류에 의한 워크(12)를 되미는 힘은, 분류 노즐(36)과 워크(12)의 간극이 좁을수록 커진다. 이 때문에, 워크(12)는 분류 슬릿(40)의 중앙의 위치에서 안정되어 분류 노즐판(34)과의 비접촉 상태가 유지된다.
이와 같이 하여, 한 쌍의 분류 노즐판(34)의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 분출되는 처리액의 분류에 의해, 워크(12)는 침지조(10)의 슬릿(20) 내면 및 분류 노즐판(34)과 접촉하는 일 없이 안정적으로 침지조(10)로 반출입된다.
따라서, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)에 따르면 침지조(10)의 슬릿(20) 내면이나 분류 노즐판(34) 등의 주변 부재, 부품과 워크(12)의 접촉을 방지하여 손상, 변형, 변색 등의 워크(12)의 불량의 발생을 확실하게 방지할 수 있다.
이와 같이 워크(12)가 비접촉으로 침지조(10)로 반출입되는 동안 침지조(10)측의 스로트부(42)에는 침지조(10)의 슬릿(20)을 통하여 침지조(10) 내의 처리액이 유입되어 있다. 그러나, 분류 슬릿(40) 내에 있어서는 분류 노즐판(34)의 표면에 유체 마찰이 존재한다. 이로 인해, 분류 노즐(36)로부터 분출되는 분류에 의해 분류 슬릿(40) 내의 압력이 높아진다. 이러한 분류 슬릿(40) 내의 높은 압력이 침지조(10)측의 방향을 향하는 속도 성분을 갖는 분류의 관성력과 어울려, 침지조(10)측의 스로트부(42)로부터 침지조(10)와 반대측의 스로트부(44)로의 처리액의 유출이 충분히 억제 내지는 저감된다.
이와 같이 하여, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)에 따르면, 분류 슬릿(40)에 있어서 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 분출되는 처리액의 분류에 의해 분류 슬릿(40)을 비접촉으로 시일하여 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다. 따라서, 침지조(10)에 채워지는 처리액의 액면을 높게 할 수 있어, 폭이 넓은 워크(12)에 대해서도 처리액에 의한 처리를 행할 수 있다. 본 실시 형태에 따르면, 예를 들어 1000㎜ 정도의 폭을 갖는 폭이 넓은 워크(12)에 대해서도 침지조(10)에 있어서 처리액에 의한 처리를 행할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(2, 2)는 처리액의 분류를 분출하는 분류 분출부(24)에 롤러, 베어링 등의 가동 부품을 사용할 필요가 없기 때문에 보수 관리를 용이하게 행할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)에 따르면 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 충분히 억제 내지는 저감할 수 있으므로 에너지 절약, 자원 절약, 공간 절약을 도모할 수 있다.
또한, 상술한 습식 처리 장치와 같이 프린트 기판, 플렉시블 프린트 기판 등의 낱장 또는 띠 형상의 워크를 그 단면을 대략 연직으로 하여 도금조 등의 침지조로 수평 방향으로 반출입하는 처리 방법에 있어서는, 워크의 이동 속도는 비교적 느리다. 상술한 바와 같이, 워크의 이동 속도는 예를 들어 0.1m 내지 30m/분 정도의 범위이며, 통상 0.1 내지 2m/분이다. 이와 같이 워크의 이동 속도가 느릴 경우에는 워크를 예로 들어 300m/분 등의 고속으로 이동하는 경우와 달리, 워크의 이동 속도에 의한 유체 윤활을 그다지 기대할 수 없다. 이로 인해, 본 발명에 있어서는 워크에 대하여 처리액의 분류를 분출함으로써 이 유체 작용에 의해 워크의 위치를 안정화하여 비접촉에 의한 워크의 반출입을 실현하고 있다.
또한, 본 발명에 있어서는 침지조의 슬릿이 형성된 측벽에 비접촉 액 시일 장치를 설치하여 분류를 분출함으로써 워크의 위치의 안정화에 의한 비접촉에 의한 워크의 반출입을 실현하는 동시에, 침지조로부터의 처리액의 유출을 억제 내지는 저감하고 있다. 이에 대해, 유출액의 비산 방지, 혹은 워크에 부착된 처리액이 다음의 침지조로 들어가게 것을 방지하는 것을 목적으로 하여 침지조의 슬릿으로부터 이격된 위치로부터 슬릿으로부터의 유출액, 워크에 대하여 유체를 분사하는 구성이 알려져 있다. 그러나, 이와 같은 구성에서는 워크의 위치를 안정화하거나, 침지조로부터의 처리액의 유출을 억제하거나 하는 것은 불가능하여 본 발명의 구성과는 전혀 다른 것이다.
또한, 비접촉 액 시일 장치(22)의 형상 및 치수는 유체 공학에 근거하는 분류 슬릿(40) 주위의 유체의 관성력 및 점성력의 해석, 유한 요소법에 의한 액압 분포 해석, 유선 시뮬레이션 등에 의해 적절하게 설정하는 것이 바람직하다. 비접촉 액 시일 장치(22)의 형상 및 치수의 구체예로서는 워크(12)를 사이에 두고 대향하는 한 쌍의 분류 노즐판(34) 사이의 간격, 분류 슬릿(40)의 두께, 스로트부(42, 44)의 길이 및 형상, 분류 노즐(36)의 형상, 구멍 직경, 개수 등이다. 이것은, 워크(12)의 재질 등에 근거하는 기계적 물성, 워크(12)의 치수, 침지조(10) 내의 처리액의 밀도나 점도 등의 물성, 침지조(10) 내의 처리액의 액면의 높이, 분류 노즐(36)로부터 분출되는 분류체의 밀도나 점도 등의 물성, 및 분류 노즐(36)로부터 분출되는 분류체의 유속이나 액압 등의 조건이 서로 영향을 미치기 때문이다. 유체 공학을 사용한 해석 등의 수법에 의해 분류 슬릿(40) 근방의 전역에 있어서 분류 슬릿(40)의 간극의 중앙에 워크(12)의 위치가 안정화되고, 또한 분류 슬릿(40)을 통하여 침지조(10)로부터 유출되는 액량을 최소한으로 하기 위한 분류 조건의 최적해를 발견함으로써 비접촉 액 시일 장치(22)의 형상 및 치수를 실용적으로 설정할 수 있다.
이렇게, 본 실시 형태에 따르면, 처리액이 채워진 침지조(10)의 슬릿(20)을 통하여 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크(12)를 침지조(10)로 반출입할 때에 분류 슬릿(40)에 있어서, 워크(12)의 양측의 복수의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류를 분출하므로 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 워크(12)와는 비접촉으로 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
[제2 실시 형태]
본 발명의 제2 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 대하여 도 6을 사용하여 설명한다. 도 6의 (a)는 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 있어서의 분류 분출부의 평면도, 도 6의 (b)는 분류 분출부의 워크측 측면도이다. 또한, 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 기본적 구성은, 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지이다. 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시 일 장치는 분류 노즐판(34)의 돌출부(38)에 상하 방향으로 배열하여 설치된 복수의 분류 노즐(36)에 있어서, 하방에 배치된 분류 노즐(36)의 구멍일수록 상하 방향으로 긴 타원형으로 되어 있는 것에 주된 특징이 있다.
침지조(10) 내에 채워진 처리액의 액압은 액면으로부터 하방일수록 높아진다. 이로 인해, 침지조(10)로부터 유출하려는 처리액의 액압은 침지조(10)의 하방일수록 높아진다. 따라서, 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 억제하는 작용은 침지조(10)의 하방일수록 강하게 하는 것이 바람직하다.
따라서, 본 실시 형태에서는 도 6의 (b)에 도시한 바와 같이 분류 노즐판(34)의 돌출부(38)에 상하 방향으로 배열하여 설치된 복수의 분류 노즐에 있어서, 하방에 배치된 분류 노즐(36)의 구멍일수록 상하 방향으로 긴 타원형으로 되어 있다.
이와 같이, 복수의 분류 노즐(36)의 구멍의 형상이 상하 방향에서 변화되고 있으므로, 하방에 배치된 분류 노즐(36)일수록 분류로서 분출되는 처리액의 유량을 많게 할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 따르면 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 억제하는 작용을 침지조(10)의 하방일수록 강하게 할 수 있어 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 더 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
또한, 하방에 배치된 분류 노즐(36)일수록 분류로서 분출되는 처리액의 유량을 많게 하는 구성은 상기한 구성에 한정되는 것이 아니다. 예를 들어, 하방에 배치된 분류 노즐(36)일수록 구멍 직경을 크게 해도 좋다. 또한, 상하 방향으로 배열된 복수의 분류 노즐(36)의 구멍의 피치를 하방일수록 밀하게 해도 좋다. 또한, 상하 방향으로 배열되는 분류 노즐(36)의 구멍의 열 수를 높이에 따라 변경하여 하방일수록 분류 노즐(36)의 구멍의 열 수를 많게 해도 좋다. 또한, 분류체 관로(32)를 상하 방향으로 복수의 실로 구분하여 복수의 실마다 분류 노즐(36)로부터 분출되는 처리액을 공급하여 하방의 실일수록 공급하는 처리액의 유량을 많게 해도 좋다.
[제3 실시 형태]
본 발명의 제3 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 대하여 도 7을 사용하여 설명한다. 도 7의 (a)는 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 있어서의 분류 분출부의 평면도, 도 7의 (b)는 분류 분출부의 워크측 측면도이다. 또한, 제1 및 제2 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 기본적 구성은 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지이다. 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치는 구멍이 원형 형상의 복수의 분류 노즐(36) 대신에 슬릿 형상의 분류 노즐(46)이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있는 것에 주된 특징이 있다.
도 7의 (a) 및 도 7의 (b)에 도시한 바와 같이, 분류 노즐판(34)에는 상하 방향으로 슬릿 형상의 분류 노즐(46)이 설치되어 있다. 슬릿 형상의 분류 노즐(46)의 폭은, 예를 들어 하방일수록 넓게 되어 있다. 또한, 슬릿 형상의 분류 노즐(46)의 폭은, 상하 방향으로 대략 일정해도 좋다. 슬릿 형상의 분류 노즐(46)의 폭은, 예를 들어 0.1 내지 1㎜ 정도이다. 슬릿 형상의 분류 노즐(46)은 분류체 관로(32)에 접속되어 있다.
워크(12)를 사이에 두고 대향하는 한 쌍의 분류 노즐판(34)의 슬릿 형상의 분류 노즐(46)은 복수의 분류 노즐(36)과 마찬가지로 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류를 분출한다.
이와 같이, 구멍이 원형 형상의 복수의 분류 노즐(36) 대신에 슬릿 형상의 분류 노즐(46)을 설치해도 좋다.
[제4 실시 형태]
본 발명의 제4 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 대하여 도 8을 사용하여 설명한다. 도 8은 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이다. 또한, 제1 내지 제3 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 기본적 구성은, 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지이다. 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치는 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향한 복수의 분류 노즐(36) 대신에 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향한 복수의 분류 노즐(48)이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있는 것에 주된 특징이 있다.
도 8에 도시한 바와 같이, 비접촉 액 시일 장치(22)에 있어서 분류체 관로(32)의 워크(12)측에 설치된 분류 노즐판(34)은 워크(12)에 대향하는 면이 워 크(12)의 이동 방향에 대략 평행한 평탄부(50)를 갖고 있다. 분류 노즐판(34)의 평탄부(50)의 양측의 면은 경사면으로 되어 있다.
복수의 분류 노즐(48)은 침지조(10)의 슬릿(20)에 대응하는 범위에, 평탄부(50)의 침지조(10)측에 상하 방향으로 배열되어 설치되고, 분류체 관로(32)에 접속되어 있다.
복수의 분류 노즐(48)의 구멍은, 예를 들어 상하 방향에 대략 일정한 피치로 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 평면에 일렬에 배열되어 있다. 복수의 분류 노즐(48)의 구멍은, 예를 들어 동일 직경의 원형 형상으로 되어 있다.
각 분류 노즐(48)은 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향하고 있다. 각 분류 노즐(48)은 워크(12)를 향하여 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향에 대략 수평하게 분류체 관로(32)로부터 공급되는 처리액을 분류로서 분출한다.
워크(12)를 사이에 두고 대향하여 배치된 한 쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 면에 끼워진 분류 슬릿(40)이 구성되어 있다.
또한, 한 쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 분류 슬릿(40)의 침지조(10)측에 침지조(10)측을 향하여 폭이 확대된 스로트부(42)가 구성되어 있다. 또한, 분류 슬릿(40)의 침지조(10)와 반대측에 침지조(10)와 반대측을 향하여 폭이 확대되는 스로트부(44)가 구성되어 있다. 워크(12)의 이동 방향에 있어서의 길이는 침지조(10)와 반대측의 스로트부(44)보다도 침지조(10)측의 스로트 부(44)가 더 길게 되어 있다.
이와 같이 하여, 워크(12)가 통과하는 한 쌍의 분류 노즐판(34) 사이에 침지조(10)의 슬릿(20)을 따라 슬릿(20)에 대응하는 범위에 스로트부(42)와, 분류 슬릿(40)과, 스로트부(44)가 구성되어 있다. 분류 슬릿(40)에 있어서는, 워크(12)의 양측의 복수의 분류 노즐(48)로부터 워크를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류가 분출된다.
이와 같이, 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향한 복수의 분류 노즐(36) 대신에, 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향한 복수의 분류 노즐(48)이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있어도 된다.
또한, 분류 노즐(48)에 대해 제2 실시 형태에 따른 경우와 마찬가지로, 구멍의 형상, 피치, 열 수를 변경하거나, 분류체 관로(32)를 복수의 실로 구분하여 복수의 실마다 분류 노즐(48)로부터 분출되는 처리액을 공급해도 좋다.
[제5 실시 형태]
본 발명의 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 대하여 도 9를 사용하여 설명한다. 도 9는 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이다. 또한, 제1 내지 제4 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 기본적 구성은, 제1 실시 형태 에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지이다. 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치는 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향한 복수의 분류 노즐(36) 외에 추가로 제4 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지로, 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향한 복수의 분류 노즐(48)이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있는 것에 주된 특징이 있다.
도 9에 도시한 바와 같이, 비접촉 액 시일 장치(22)에 있어서, 분류체 관로(32)의 워크(12)측에 설치된 분류 노즐판(34)은 워크(12)에 대향하는 면이 워크(12)의 이동 방향에 대략 평행한 평탄부(50)를 갖고 있다. 평탄부(50)의 침지조(10)측의 분류 노즐판(34)의 면은 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 면보다도 워크(12)의 위치로부터 이격되어 워크(12)의 이동 방향과 대략 평행한 면으로 되어 있다. 평탄부(50)의 침지조(10)와 반대측의 분류 노즐판(34)의 면은 경사면으로 되어 있다.
분류 노즐판(34)은 평탄부(50)의 침지조(10)측에 설치된 복수의 분류 노즐(36)과, 평탄부(50)의 분류 노즐(36)보다도 침지조(10)로부터 이격된 위치에 설치된 복수의 분류 노즐(48)을 갖고 있다.
복수의 분류 노즐(36)은 침지조(10)의 슬릿(20)에 대응하는 범위에 분류 노즐판(34)의 평탄부(50)의 침지조(10)측에 상하 방향으로 배열되어 설치되고, 분류체 관로(32)에 접속되어 있다.
복수의 분류 노즐(36)의 구멍은, 예를 들어 상하 방향에 대략 일정한 피치로 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 코너부에 일렬로 배열되어 있다. 복수의 분류 노즐(36)의 구멍은, 예를 들어 동일 직경의 원형 형상으로 되어 있다.
각 분류 노즐(36)은, 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향하고 있다. 각 분류 노즐(36)은, 워크(12)를 향하여 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향에 대략 수평하게 분류체 관로(32)로부터 공급되는 처리액을 분류로서 분출한다.
한편, 복수의 분류 노즐(48)은 침지조(10)의 슬릿(20)에 대응하는 범위에 평탄부(50)의 분류 노즐(26)보다도 침지조(10)로부터 이격된 위치에 상하 방향으로 배열되어 설치되고, 분류체 관로(32)에 접속되어 있다.
복수의 분류 노즐(48)의 구멍은, 예를 들어 상하 방향에 대략 일정한 피치로 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 평면에 일렬로 배열되어 있다. 복수의 분류 노즐(48)의 구멍은, 예를 들어 동일 직경의 원형 형상으로 되어 있다.
각 분류 노즐(48)은 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향하고 있다. 각 분류 노즐(48)은 워크(12)를 향하여 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향에 대략 수평하게 분류체 관로(32)로부터 공급되는 처리액을 분류로서 분출한다.
워크(12)를 사이에 두고 대향하여 배치된 한 쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 평탄부(50)의 워크(12)에 대향하는 면에 끼워진 분류 슬릿(40)이 구성되어 있다.
또한, 한 쌍의 분류 분출부(24)의 분류 노즐판(34) 사이에는 분류 슬릿(40)의 침지조(10)측에 폭이 대략 일정한 스로트부(42)가 구성되어 있다. 또한, 분류 슬릿(40)의 침지조(10)와 반대측에 침지조(10)와 반대측을 향하여 폭이 확대되는 스로트부(44)가 구성되어 있다.
이와 같이 하여, 워크(12)가 통과하는 한 쌍의 분류 노즐판(34) 사이에 침지조(10)의 슬릿(20)을 따라 슬릿(20)에 대응하는 범위에 스로트부(42)와 분류 슬릿(40)과 스로트부(44)가 구성되어 있다.
분류 슬릿(40)에 있어서는 워크(12)의 양측의 경사 방향을 향한 복수의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류가 분출되는 동시에, 워크(12)의 양측의 대략 수직 방향을 향한 복수의 분류 노즐(48)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 처리액의 분류가 분출된다.
이와 같이, 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향한 복수의 분류 노즐(36)과 함께, 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향한 복수의 분류 노즐(48)이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있어도 된다.
또한, 분류 노즐(36, 48)에 대해, 제2 실시 형태에 따른 경우와 마찬가지로, 구멍의 형상, 피치, 열 수를 변경하거나, 분류체 관로(32)를 복수의 실로 구분하여 복수의 실마다 분류 노즐(36, 48)로부터 분출되는 처리액을 공급해도 좋다.
[제6 실시 형태]
본 발명의 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치 및 방법에 대하여 도 10 및 도 11을 사용하여 설명한다. 도 10은 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치의 구조를 도시하는 단면도이고, 도 11은 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 있어서의 시일 롤의 다른 예를 도시하는 개략도이다. 또한, 제1 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
상기 제1 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에서는 슬릿(20) 양측의 측벽(18) 단부의 외면에 슬릿(20)을 통과하는 워크(12)를 사이에 두고 대향하도록 한 쌍의 분류 분출부(24)가 배치되어 있었다. 한 쌍의 분류 분출부(24)로부터 워크(12)를 향하여 워크(12)의 양측으로부터 균등하게 분출되는 처리액의 분류에 의해 워크(12)는 그 양면이 침지조(10)의 슬릿(20) 내면 및 분류 노즐판(34)과 접촉하는 일 없이, 안정되게 침지조(10)로 반출입된다.
이와 같이 워크(12)의 양면과 주변 부재, 부품과의 접촉을 방지할 수 있는 상기 제1 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치에 따르면, 워크(12)의 양면이 도금 처리 등의 처리를 실시해야 할 처리면일 경우에 있어서, 양 처리면의 어느 쪽에 대해서도 손상, 변색 등의 불량의 발생을 확실하게 방지할 수 있다.
이에 대해, 예를 들어 워크(12)의 한 쪽의 면이 도금 처리 등의 처리를 실시해야 할 처리면이며, 다른 쪽의 면이 처리를 실시할 필요가 없거나 또는 처리를 행하지 않는 비처리면일 경우에는 슬릿(20) 양측에 반드시 한 쌍의 분류 분출부(24)를 배치할 필요는 없다. 즉, 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면측에 분류 분출부(24)를 배치하는 한편, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면측에는 워크(12)의 비처리면에 접촉하는 액 시일 수단을 배치하면 좋다.
상기 제1 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치가 워크(12)에 양면에 대하여 비접촉 상태를 실현하면서 액 시일을 행하는 양면 비접촉형인 것에 대해, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치는 워크(12)의 편면에 대하여 비접촉 상태를 실현하면서 액 시일을 행하는 편면 비접촉형의 것이다. 구체적으로는, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치는 워크(12)의 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)일 경우에 있어서 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에 분류 분출부(24)를 배치하여 처리면(12a)과의 비접촉을 실현하는 한편, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측에는 워크(12)의 비처리면에 접촉하는 액 시일 수단으로서 시일 롤(82)을 배치한 것이다.
도 10은 침지조(10)의 워크(12)의 반입측의 측벽(18)에 설치된 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)의 구조를 도시하고 있다. 또한, 침지조(10)의 워크(12)의 반출측의 측벽(18)에 설치된 비접촉 액 시일 장치(78)도 마찬가지의 구조를 갖고 있다.
도시한 바와 같이, 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에는 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 분류 분출부(24)가 배치되어 있다. 분류 분출부(24)는 분류로서 분출되는 처리액의 유로인 분류체 관로(32)와, 분류체 관로(32) 내의 처리액이 분류로서 워크(12)를 향하여 분출되는 복수의 분류 노즐(36)이 설치된 분류 노즐판(34)에 의해 구성되어 있다. 또한, 분류 분출부(24)는 제2 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 것이어도 좋다. 또한, 도 10에서는 분류 분출부(24)의 침지조(10)측의 측벽이 침지조(10)의 측벽을 겸하고 있는 경우에 대하여 도시하고 있으나, 예를 들어 도 4에 도시하는 경우와 마찬가지로 분류 분출부(24)의 측벽과 침지조(10)의 측벽을 별개의 것으로 해도 좋다.
한편, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측의 측벽(18) 외면에는 워크(12)측이 개방된 시일 조(80)가 설치되어 있다. 시일 조(80) 내에는 원기둥 형상 또는 원통 형상의 시일 롤(82)이 그 중심축을 회전축으로 하여 회전 가능하게 수용되어 있다.
시일 롤(82)은, 예를 들어 폴리염화비닐이나 테프론(등록상표) 등의 수지제의 중공의 파이프 형상의 강성체이다. 시일 롤(82)의 외주면은 평활면이어도 되고, 외주면의 전면에 걸쳐 시일 롤(82)의 축 방향을 따른 복수의 홈을 형성해도 좋다. 또한, 시일 롤(82)은 그 상단부 및 하단부 근방이 직경이 굵어진 대경부를 갖는 단차가 있는 것이어도 좋다. 시일 롤(82) 내부의 바닥에는 시일 롤(82)의 자세를 안정적으로 하기 위해 추(도시하지 않음)가 설치되어 있다.
시트 롤(82)의 하단부 및 상단부의 중앙 부분에는 오목부가 형성되어 있다. 하단부의 오목부에는 시일 조(80) 저부에 설치된 볼록부가 끼워 맞추어져 있다. 또한, 상단부의 오목부에는 시일 조(80)의 상부에 설치된 볼록부가 끼워 맞추어져 있다. 이들 오목부와 볼록부의 끼워 맞춤에는 여유로서 적당한 간극이 형성되어 있다. 이와 같이 하여, 시일 조(80) 내에서의 시일 롤(82)의 전도가 방지되어, 회전 중심축은 수평 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 이러한 오목부 및 볼록부를 형성하지 않고, 여유로서 적당한 간극이 있도록 시일 조(80) 내에 시일 롤(82)을 수 용하여 시일 롤(82)의 전도를 방지하면서 시일 롤(82)이 회전 가능해지도록 해도 좋다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)는 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에 배치된 분류 분출부(24)와, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측에 배치된 시일 롤(82)을 갖는 것에 주된 특징이 있다.
워크(12)가 침지조(10)로 반출입되는 동안, 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에 배치된 분류 분출부(24)에 있어서는, 제1 실시 형태에 따른 경우와 마찬가지로 분류체 관로(32)로 처리액이 공급되어 분류 노즐판(34)의 복수의 분류 노즐(36)로부터 처리액의 분류가 분출된다. 이와 같이 하여, 분류 분출부(24)에 있어서, 분류 노즐판(34)의 분류 노즐(36)로부터 워크(12)의 처리면(12a)을 향하여 처리액의 분류가 분출된다.
이와 같이, 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에서는 분류 분출부(24)로부터 분류가 분출됨으로써 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출이 억제 내지는 저감된다.
한편, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측에 배치된 시일 롤(82)을 수용하는 시일 조(80)에는 슬릿(20)을 통하여 침지조(10) 내의 처리액이 채워져 있다. 시일 롤(82)은 처리액의 액압에 의해 자동적으로 워크(12)의 비처리면(12b)에 압박되는 동시에 침지조(10)의 측벽(18)에 대향하는 시일 조(80)의 측벽에 압박된다.
이와 같이 하여, 시일 롤(82)이 워크(12)의 비처리면(12b)과 밀착되는 동시에, 시일 조(80)의 측벽과 밀착된다. 워크(12)의 비처리면(12b)에 밀착된 시일 롤(82)은 워크(12)의 이동에 수반하여 회전한다.
이와 같이, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측에 있어서는, 워크(12)의 비처리면(12b)에 밀착되는 시일 롤(82)에 의해 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출이 저감 내지는 억제된다.
여기서, 시일 롤(82)이 워크(12)에 압박되는 힘과, 분류 분출부(24)로부터 분출되는 처리액에 의해 워크(12)가 밀리는 힘이 균형을 잡도록 분류 분출부(24)로부터 분출되는 처리액의 유량을 제어하여 워크(12)의 처리면(12a)이 분류 노즐판(34) 등의 주변 부재, 부품과 접촉되지 않도록 한다.
또한, 분류 분출부(24)의 각 분류 노즐(36)은 처리액이 시일 롤(82)의 워크(12)의 접촉부를 향하여 분출되도록 그 방향을 적절하게 설정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 제1 실시 형태에 따른 경우와 마찬가지로, 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 각 분류 노즐(36)이 향하고 있는 경우에 있어서, 각 분류 노즐(36)로부터 처리액이 시일 롤(82)의 워크(12)의 접촉부를 향하여 분출되도록 각 분류 노즐(36)이 침지조(10)측으로 경사지는 방향을 설정한다. 처리액이 시일 롤(82)의 워크(12)의 접촉부를 향하여 분출 됨으로써 분류 분출부(24)와 시일 롤(82) 사이를 이동하는 워크(12)의 위치를 더 안정시킬 수 있다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)에서는 슬릿(20)의 워크(12)의 처리면(12a)측에 있어서, 분류 분출부(24)로부터 분류를 분출함으로써 워크(12)의 처리면(12a)과 분류 노즐판(34) 등의 주변 부재, 부품의 비접촉 상태를 유지하면서 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출을 억제 내지는 저감한다. 한편, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측에 있어서는 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하는 시일 롤(82)에 의해 슬릿(20)로부터의 처리액의 유출을 저감 내지는 억제한다.
워크(12)의 비처리면(12b)측에 있어서는 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하는 시일 롤(82)을 사용하여 액 시일을 행하므로, 한 쌍의 분류 분출부(24)를 사용한 제1 내지 제5 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 비교하여 침지조(10)의 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출을 더 억제 내지는 저감할 수 있다. 그런 한편, 워크(12)의 처리면(12a)측에 있어서는 분류 분출부(24)를 사용하여 액 시일을 행하므로, 워크(12)의 처리면(12a)에 대해서는 손상, 변색 등의 불량의 발생을 확실하게 방지할 수 있다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)인 워크(12)를 처리할 경우에 있어서, 워크(12)의 처리면(12a)에 대하여 손상, 변색 등의 불량의 발생을 확실하게 방지하는 동시에 침지조(10)의 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출을 더 억제 내지는 저감할 수 있다.
또한, 상기에서는 워크(12)의 이동에 수반하여, 워크(12)의 비처리면(12b)에 밀착되는 시일 롤(82)이 회전할 경우에 대하여 설명했으나, 시일 롤(82)을 기어드 모터 등의 모터에 의해 회전하여 액 시일 수단으로서뿐만 아니라 워크(12)를 반송하는 반송 수단으로서도 시일 롤(82)이 기능하도록 해도 좋다.
도 11은 시일 롤(82)을 기어드 모터(84)에 의해 회전하도록 한 구성을 도시 하고 있다.
도시한 바와 같이, 시일 롤(82)은 그 상측 및 하측에 각각 설치된 베어링(86a, 86b)에 의해 회전 가능하게 축지지되어 있다.
시일 롤(82)에는 커플링(88)을 통하여 기어드 모터(84)의 출력축의 회전이 전달되게 되어 있다. 이와 같이 하여, 기어드 모터(84)에 의해 시일 롤(82)이 워크(12)를 반송하도록 회전하게 되어 있다.
이와 같이, 시일 롤(82)을 기어드 모터(84)에 의해 회전하도록 구성하고, 액 시일 수단으로서뿐만 아니라, 반송 수단으로서도 시일 롤(82)이 기능하도록 해도 좋다.
또한, 상기에서는 워크(12)의 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)일 경우에 대하여 설명했으나, 양면이 처리면인 워크에 대해서도 본 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 사용할 수 있다.
[제7 실시 형태]
본 발명의 제7 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치에 대하여 도 12를 사용하여 설명한다. 도 12는 본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 구조를 도시하는 평면도이다. 또한, 제1 내지 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
상기 제1 내지 제6 실시 형태에서는, 1개의 침지조(10)를 구비한 습식 처리 장치에 비접촉 액 시일 장치(22, 78)를 사용할 경우에 대하여 설명했으나, 본 발명 에 의한 비접촉 액 시일 장치의 적용 범위는 이것에 한정되는 것이 아니다. 본 발명에 의한 비접촉 액 시일 장치는, 예를 들어 본 출원인에 의한 특허 문헌4에 기재된 연속 습식 처리 장치 등과 같이, 복수의 침지조를 사용하여 띠 형상의 워크에 연속적으로 습식 처리를 실시하는 연속 습식 처리 장치에 있어서의 액 시일 장치로서 사용할 수도 있다.
본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치는, 본 발명에 의한 비접촉 액 시일 장치, 예를 들어 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치를 액 시일 장치로서 사용한 것이다.
도 12에 도시한 바와 같이, 연속 습식 처리 장치는 도금 처리가 행하여지는 도금 처리부(52)와, 도금을 실시해야 할 띠 형상의 워크(12)를 도금 처리부(52)에 연속적으로 송출하는 워크 권출부(54)와, 도금 처리부(52)에 있어서 도금이 실시된 워크(12)를 연속적으로 회수하는 워크 권취부(56)로 구성되어 있다.
워크 권출부(54)에는, 코일 형상으로 감긴 띠 형상의 워크(12)를, 그 폭 방향을 대략 연직으로 하여 길이 방향으로 송출하여 도금 처리부(52)에 도입하는 언코일러(58)가 설치되어 있다. 언코일러(58)와 도금 처리부(52) 사이에는 언코일러(58)로부터 송출된 워크(12)의 장력을 일정하게 유지하는 어큠 장치(60)가 설치되어 있다. 어큠 장치(60)는 워크(12)의 측방으로부터 워크(12)의 위치를 규제하거나, 또한 워크(12)를 되꺾기 위한 롤러(60a, 60b, 60c, 60d)를 구비하고 있다.
도금 처리부(52)는, 도금액으로 채워진 복수의 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)를 갖고 있다. 각 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)에는 대향하는 측벽에 각각 예를 들 어 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)가 설치되어 있고, 한 쪽의 측벽의 비접촉 액 시일 장치(22)를 통하여 워크(12)가 폭 방향을 대략 연직으로 하여 도금조(62a, 62b, 62c, 62d) 내로 반입되도록 되어 있다. 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)로 반입된 워크(12)는 그대로 다른 쪽의 측벽의 비접촉 액 시일 장치(22)를 통하여 도금조(62a, 62b, 62c, 62d) 밖으로 반출되도록 되어 있다. 도금조(62b)의 워크 반출측과 도금조(62c)의 워크 반입측의 근방에는 도금조(62b)의 비접촉 액 시일 장치(22)로부터 반출된 워크(12)를 방향 전환하여 도금조(62c)로 비접촉 액 시일 장치(22)를 통하여 반입하기 위한 U턴부(64)가 설치되어 있다. U턴부(64)는 워크(12)를 방향 전환하기 위한 롤러(64a, 64b)를 구비하고 있다.
각 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)의 워크 반입측과 워크 반출측의 비접촉 액 시일 장치(22) 근방에는 워크(12)에 급전하기 위한 급전 롤부(66)가 설치되어 있다. 급전 롤부(66)는 워크(12)를 사이에 두도록 배치되고, 워크(12)와 접촉하여 급전하는 급전 롤(66a, 66b, 66c)을 구비하고 있다.
도금조(62a)의 워크 반입측과 워크 권출부(54) 사이에는 워크 권출부(54)로부터 송출된 워크(12)의 오물 제거 등을 행하는 전처리조(68)가 설치되어 있다. 처리액으로 채워진 전처리조(68)에 대해서도 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)와 마찬가지로, 예를 들어 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)를 설치해도 좋다.
도금조(62d)의 워크 반출측의 비접촉 액 시일 장치(22) 근방에는 도금이 실시된 워크(12)를 샤워 세정하는 세정실(70)이 설치되어 있다. 세정실(70) 근방에는 세정실 내에서 세정된 워크(12)를 열풍 건조하는 건조실(72)이 설치되어 있다.
건조실(72) 근방에는 건조실(72) 내에서 건조된 워크(12)를 권취하여 회수하는 워크 권취부(56)가 배치되어 있다.
워크 권취부(56)에는 도금 처리부(52)에 의해 도금이 실시되어, 폭 방향을 대략 연직으로 하여 송출된 워크(12)를 권취하여 회수하는 리코일러(74)가 설치되어 있다. 리코일러(74)와 도금 처리부(52)의 건조실(72) 사이에는 워크(12)를 소정의 속도로 리코일러(74)로 보내기 위한 구동 장치(76)가 설치되어 있다. 구동 장치(76)는 워크(12)를 되꺾거나, 워크(12)의 이동 방향을 바꾸거나 하기 위한 롤러(76a, 76b, 76c)를 구비하고 있다.
이와 같이 하여, 워크 권출부(54)로부터 그 폭 방향을 대략 연직으로 하여 길이 방향으로 송출된 워크(12)가 도금 처리부(52)의 전처리조(68), 도금조(62a, 62b, 62c, 62d), 세정실(70), 건조실(72)을 순차적으로 통과하여 워크 권취부(56)에 의해 회수되는 구성으로 되어 있다.
본 실시 형태와 같이, 연속 습식 처리 장치에 있어서의 도금조(62a, 62b, 62c, 62d), 전처리조(68)에 대하여 예를 들어 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)를 설치해도 좋다.
또한, 상기에서는 연속 습식 처리 장치에 있어서의 액 시일 장치로서 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22)를 설치하는 경우에 대하여 설명했으나, 제1 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22) 대신에, 제2 내지 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(22, 78) 중 어느 하나를 설치해도 좋다.
[제8 실시 형태]
본 발명의 제8 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치에 대하여 도 13을 사용하여 설명한다. 도 13은 본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 구조를 도시하는 평면도이다. 또한, 제1 내지 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치 및 제7 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치와 마찬가지의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략하거나 혹은 간략하게 한다.
본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치는 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)인 워크(12)를 그 처리 대상으로 하는 것이다. 본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 기본적 구성은, 제7 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치의 구성과 거의 마찬가지이나, 액 시일 장치로서 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)가 사용되고 있는 점 및 워크(12)의 처리면(12a)과의 접촉을 최대한 회피하도록 각 부재가 배치되어 있는 점에서, 제7 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치와는 상이하다.
도 13에 도시한 바와 같이, 언코일러(58)에는 처리면(12a)을 내측으로 하여 워크(12)가 코일 형상으로 감겨 있다.
어큠 장치(60)에 있어서는, 워크(12)의 측방으로부터 워크(12)의 위치를 규제하기 위한 롤러(60a, 60d) 및 워크(12)를 되꺾기 위한 롤러(60b, 60c) 중 롤러(60b)만이 워크(12)의 처리면(12a)과 접촉하고, 다른 롤러(60a, 60c, 60d)는 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하고 있다.
각 급전 롤부(66)에 있어서는, 워크(12)의 처리면(12a)측에 배치된 1개의 급전 롤(66a)과, 워크(12)의 비처리면(12b)측에 배치된 2개의 급전 롤(66b, 66c)에 의해 워크(12)가 끼워져 있다. 각 급전 롤부(66)에 있어서, 워크(12)의 처리면(12a)에는 1개의 급전 롤(66a)이 접촉되는 것에 비해, 워크(12)의 비처리면(12b)에는 2개의 급전 롤(66b, 66c)이 접촉되어 있다.
각 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)에는 대향하는 측벽에 각각 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)가 설치되어 있고, 한 쪽의 측벽의 비접촉 액 시일 장치(78)를 통하여 워크(12)가 폭 방향을 대략 연직으로 하여 도금조(62a, 62b, 62c, 62d) 내로 반입되도록 되어 있다. 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)로 반입된 워크(12)는 그대로 다른 쪽의 측벽의 비접촉 액 시일 장치(78)를 통하여 도금조(62a, 62b, 62c, 62d) 밖으로 반출되도록 되어 있다.
각 비접촉 액 시일 장치(78)에서는, 도 10에 도시한 경우와 마찬가지로 워크(12)의 처리면(12a)측에 분류 분출부(24)가 배치되고, 워크(12)의 비처리면(12b)측에 시일 롤(82)이 배치되어 있다.
또한, 전처리조(68)에 대해서도 도금조(62a, 62b, 62c, 62d)와 마찬가지로, 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)를 설치해도 좋다.
U턴부(64)에 있어서는 워크(12)를 방향 전환하기 위한 롤러(64a, 64b) 모두 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하고 있다.
구동 장치(76)에 있어서는 워크(12)를 되꺾기 위한 롤러(76a, 76b) 및 워크(12)의 이동 방향을 바꾸기 위한 롤러(76c) 중 롤러(76a)만이 워크(12)의 처리면(12a)과 접촉하고, 다른 롤러(76b, 76c)는 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하고 있다.
리코일러(74)에는 처리면(12a)을 내측으로 하여 워크(12)가 권취되어 회수 되도록 되어 있다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따른 연속 습식 처리 장치에서는 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)인 워크(12)에 대하여 제6 실시 형태에 따른 비접촉 액 시일 장치(78)를 액 시일 장치로서 사용하고, 또한 워크(12)의 처리면(12a)과의 접촉을 최대한 회피하도록 각 부재가 배치되어 있다.
즉, 어큠 장치(60)에 있어서는 워크(12)의 처리면(12a)과 접촉하는 롤러의 수보다도 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하는 롤러의 수가 많게 되어 있다. 또한, 각 급전 롤부(66)에 있어서는, 워크(12)의 처리면(12a)과 접촉하는 급전 롤(66a)의 수보다도 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하는 급전 롤의 수가 많게 되어 있다. U턴부(64)에 있어서는 워크(12)의 처리면(12a)과 롤러가 접촉하지 않게 되어 있다. 구동 장치(76)에 있어서도 워크(12)의 처리면(12a)과 접촉하는 롤러의 수보다도 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하는 롤러의 수가 많게 되어 있다.
따라서, 본 실시 형태에 따르면, 한 쪽의 면이 처리면(12a)이며, 다른 쪽의 면이 비처리면(12b)인 워크(12)를 처리할 경우에 있어서, 워크(12)의 처리면(12a)에 대하여 연속 습식 처리 장치에 있어서의 부재와의 접촉에 의한 손상, 변색 등의 불량의 발생을 확실하게 방지하는 동시에, 침지조(10)의 슬릿(20)으로부터의 처리액의 유출을 더 억제 내지는 저감할 수 있다.
[변형 실시 형태]
본 발명은 상기 실시 형태에 한하지 않고 다양한 변형이 가능하다.
예를 들어, 상기 실시 형태에서는 침지조(10)에 채워진 처리액과 동일한 처리액의 분류를 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 분출할 경우에 대하여 설명했으나, 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 분류로서 분출되는 유체는, 침지조(10)에 채워진 처리액과 동일한 처리액에 한정되는 것은 아니다. 분류 노즐(36, 46, 48)로부터는 침지조(10)에 채워진 처리액과는 다른 처리액, 물 등의 액체를 분출해도 된다. 또한, 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 분출되는 유체는, 액체에 한정되는 것이 아니고, 공기 등의 기체를 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 분출해도 좋다. 또한, 워크나 워크에 실시된 도금을 변질시키지 않는 질소 가스 등의 기체를 분출해도 좋다. 또한, 기체와 액체가 혼합된 기액 혼합 유체를 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 분출해도 좋다. 분류 노즐(36, 46, 48)로부터 기체를 분출하는 경우에는 액체를 분출하는 경우와 비교하여 액의 유출량을 저감할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 분류 슬릿(40)의 폭이 상하 방향으로 대략 일정하게 되어 있는 경우에 대하여 설명했으나, 분류 슬릿(40)의 폭은 대략 일정하지 않아도 좋다. 예를 들어, 분류 슬릿(40)의 폭을 하방일수록 좁게 해도 좋다. 처리액의 액압이 높아지는 하방일수록 분류 슬릿(40)의 폭을 좁게 함으로써, 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 더 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 분류체 관로(32)가 각관 형상인 경우에 대하여 설명했으나, 분류체 관로(32)는 각관 형상의 것에 한정되는 것이 아니다. 예를 들어, 분류체 관로(32)는 환관 형상의 것이어도 좋다. 이 경우에 있어서, 도 14에 도시한 바와 같이 복수의 분류 노즐(36)을 환관 형상의 분류체 관로(32)에 직접 설 치해도 좋다.
또한, 상기 실시 형태에서는 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)측으로 경사진 방향을 향한 분류 노즐(36) 및 워크(12)의 이동 방향에 대략 수직한 방향을 향한 분류 노즐(48) 중 어느 한 쪽 또는 양쪽이 분류 노즐판(34)에 설치되어 있는 경우에 대하여 설명했으나, 분류 노즐이 향하는 방향은 이들에 한정되는 것이 아니다. 예를 들어, 워크(12)의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 침지조(10)와 반대측에 경사진 방향을 향한 분류 노즐을 분류 노즐판(34)에 설치해도 좋다. 또한, 이들 향하는 방향이 다른 분류 노즐을 적절하게 조합하여 분류 노즐판(34)에 설치해도 좋다.
또한, 상기 실시 형태에서는 침지조(10)의 슬릿(20)의 폭이 상하 방향으로 대략 일정하게 되어 있는 경우에 대하여 설명했으나, 슬릿(20)의 폭은 대략 일정하지 않아도 좋다. 예를 들어, 슬릿(20)의 폭을 하방일수록 좁게 해도 좋다. 처리액의 액압이 높아지는 하방일수록 슬릿(20)의 폭을 좁게 함으로써 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 더 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는 침지조(10)의 워크 반입측과 워크 반출측에 각각 1개씩 비접촉 액 시일 장치(22, 78)가 설치되어 있는 경우에 대하여 설명했으나, 비접촉 액 시일 장치(22, 78)를 복수단 연결하여 설치해도 좋다. 비접촉 액 시일 장치(22, 78)를 복수단 연결하여 설치함으로써, 침지조(10)로부터의 처리액의 유출을 더 충분히 억제 내지는 저감할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 워크(12)의 비처리면(12b)측에 시일 롤(82)을 배치할 경우에 대하여 설명했으나, 슬릿(20)의 워크(12)의 비처리면(12b)측으로부터의 처리액의 유출을 시일하는 액 시일 수단은 이것에 한정되는 것이 아니다. 액 시일 수단으로서는, 시일 롤(82) 대신에, 예를 들어 슬릿(20)의 측방에 슬릿(20)을 따라 스펀지나 고무 등으로 이루어지는, 예를 들어 판 형상, 막대 형상 등의 부재를 워크(12)의 비처리면(12b)과 접촉하도록 설치해도 좋다. 또한, 회전하지 않도록 고정된 시일 롤을 설치해도 좋다.
본 발명에 따른 비접촉 액 시일 장치 및 방법은, 처리액이 채워진 침지조의 측벽의 슬릿을 통하여 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크를 침지조로 반출입할 때에 워크의 불량의 발생을 방지하면서 침지조로부터의 처리액의 유출을 저감하는데 매우 유용하다.

Claims (14)

  1. 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 장치이며,
    상기 개구부의 한 쪽에 배치되어, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 한 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하는 분류 분출부와,
    상기 개구부의 다른 쪽에 배치되어, 상기 개구부의 상기 다른 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 시일하는 액 시일부를 갖는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 액 시일부는, 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치되어, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 다른 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하는 분류 분출부인 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 개구부의 한 쪽에 배치된 상기 분류 분출부와 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치된 상기 분류 분출부 사이의 간극은, 하방일수록 폭이 좁게 되어 있는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 액 시일부는, 상기 개구부의 상기 다른 쪽에 배치되어, 상기 워크의 상기 다른 쪽의 면에 접촉하는 원기둥 형상 부재인 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분류 분출부는, 상기 유체가 공급되는 분류체 관로와, 상기 분류체 관로의 상기 워크측에 설치되고, 상기 분류를 분출하는 분류 노즐을 갖는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 분류 노즐은, 상기 워크의 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 상기 침지조측으로 경사진 방향을 향하고 있는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 분류 노즐은, 상기 워크의 이동 방향에 수직한 방향을 향하고 있는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  8. 제5항 내지 제7항 중 한 항에 있어서, 상기 분류 분출부는, 상하 방향으로 배열된 복수의 상기 분류 노즐을 갖는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 복수의 분류 노즐의 구멍은, 각각 원형인 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 복수의 분류 노즐의 구멍은, 하방의 상기 분류 노즐의 구멍일수록 구멍 직경이 큰 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상하 방향으로 배열된 상기 복수의 분류 노즐의 구멍의 피치는 하방일수록 밀한 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  12. 제1항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 개구부는 하방일수록 폭이 좁게 되어 있는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 장치.
  13. 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 방법이며,
    상기 액체가 채워진 상기 침지조의 상기 개구부를 상기 워크가 통과할 때에 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 워크의 양측으로부터 유체의 분류를 분출하고, 상기 분류에 의해 상기 개구부를 비접촉으로 시일하는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 방법.
  14. 폭 방향을 대략 연직으로 한 상태로 낱장 또는 띠 형상의 워크가 통과하는 개구부가 측벽에 설치되고, 액체가 채워지는 침지조의 비접촉 액 시일 방법이며,
    상기 개구부의 한 쪽에, 상기 워크의 상기 한 쪽의 면에 접촉하여 상기 개구부의 상기 한 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 시일하는 액 시일부를 배치하고,
    상기 액체가 채워진 상기 침지조의 상기 개구부를 상기 워크가 통과할 때에, 상기 개구부를 통과하는 상기 워크를 향하여 상기 개구부의 다른 쪽으로부터 유체의 분류를 분출하고, 상기 분류에 의해, 상기 개구부의 상기 다른 쪽으로부터의 상기 액체의 유출을 비접촉으로 시일하는 것을 특징으로 하는, 비접촉 액 시일 방법.
KR1020097012138A 2006-12-14 2007-09-25 비접촉 액 시일 장치 및 방법 KR20090101174A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006337464 2006-12-14
JPJP-P-2006-337464 2006-12-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20090101174A true KR20090101174A (ko) 2009-09-24

Family

ID=39511434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097012138A KR20090101174A (ko) 2006-12-14 2007-09-25 비접촉 액 시일 장치 및 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2008072403A1 (ko)
KR (1) KR20090101174A (ko)
TW (1) TW200831719A (ko)
WO (1) WO2008072403A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5718172B2 (ja) * 2011-06-15 2015-05-13 丸仲工業株式会社 表面処理装置における薄板状被処理物の水平搬送装置、及びこの水平搬送装置のクランプ
EP2854490A1 (en) * 2013-09-25 2015-04-01 ATOTECH Deutschland GmbH Method and apparatus for a wet-chemical or electrochemical treatment
KR101886782B1 (ko) * 2016-12-20 2018-08-08 주식회사 포스코 수평셀 도금장치 및 처리 장치
JP6895927B2 (ja) * 2018-05-28 2021-06-30 三菱電機株式会社 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法
CN112981499B (zh) * 2021-02-05 2022-03-18 太原科技大学 在电极集流体上电沉积活性材料微粒的方法及装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5118231A (en) * 1974-08-07 1976-02-13 Nippon Kokan Kk Sutoritsupuno hyomenshorisochi
JPS61155371U (ko) * 1985-03-15 1986-09-26
JPH01156494A (ja) * 1987-12-15 1989-06-20 Nippon Mining Co Ltd 電気メッキ方法及び装置
JPH01168890A (ja) * 1987-12-25 1989-07-04 Nippon Mining Co Ltd 電気めつき装置
JPH11343597A (ja) * 1998-05-29 1999-12-14 Heelios:Kk 外気遮断方法及びその装置並びに表面処理装置
JP4212081B2 (ja) * 2001-11-09 2009-01-21 日陽エンジニアリング株式会社 連続湿式処理方法及び装置並びに液シール方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW200831719A (en) 2008-08-01
WO2008072403A1 (ja) 2008-06-19
JPWO2008072403A1 (ja) 2010-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5881750A (en) Substrate treating apparatus
KR20090101174A (ko) 비접촉 액 시일 장치 및 방법
TWI648807B (zh) 用以利用具有多孔性材料的支持滾子處理基板之裝置和方法
US5188135A (en) Method and apparatus for processing sheet metal blanks and continuous strip
CA2630885A1 (en) Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrates in a continuous method
JP6470724B2 (ja) 表面処理装置
CN103789816A (zh) 表面处理装置、槽体以及喷出装置
US20170323810A1 (en) Single use rinse in a linear marangoni drier
GB2031036A (en) Liquid Treatment of Metal Strip
TWI597799B (zh) 溼式製程設備
CN210788356U (zh) 喷液管、节能降耗型清洗装置及带材处理系统
JP2010280925A (ja) 表面処理装置および表面処理システム、表面処理方法、これによって処理された帯状薄体
TW201703864A (zh) 噴灑蝕刻裝置
JP2003096584A (ja) 金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法
CN210796645U (zh) 紊流型酸洗装置及带材处理系统
KR20020038888A (ko) 열연강대의 제조방법 및 산화막제거장치
JP2009032868A (ja) 基板処理装置
JP3992234B2 (ja) 連続式めっき装置における水洗装置
KR102666521B1 (ko) 기판 표면 처리장치
JP2004035949A (ja) 金属箔テープの連続表面処理槽及び液中方向転換ロール
KR102351696B1 (ko) 기판세정장치
KR20190059430A (ko) 강판 이물 제거 장치
JP2003342788A (ja) 液漏れ防止装置
EP2854490A1 (en) Method and apparatus for a wet-chemical or electrochemical treatment
JP4687192B2 (ja) 金属材の表面処理方法および表面処理槽

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid