JP4212081B2 - 連続湿式処理方法及び装置並びに液シール方法及び装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキシブルプリント基板の基材等の帯状の対象物にめっき等の湿式処理を施す連続湿式処理方法及び装置、並びに湿式処理の際の液シール方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＩＣカード等に用いられるフレキシブルプリント基板には、搭載される素子の電気的な接続をとるためにめっきが施される。フレキシブルプリント基板にめっきを施す方法としては、帯状のフレキシブルプリント基板の基材を切断した状態でめっき液に浸漬する枚葉式の方法が用いられていた。また、帯状の基材自体を連続的にめっき液に浸漬する連続式の方法も用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の連続式めっき方法では、フレキシブルプリント基板の基板面を水平にした状態でめっきを施していたため、次のような不都合があった。すなわち、形成されためっきの厚さが、基板の同一面内或いは表裏面で不均一となり、基板毎にめっき特性のばらつきが生じていた。また、帯状の基材を、めっき液に送り込むための装置構成のために、基板表面に傷が発生してしまうことがあった。さらには、装置構成上、めっき槽へのアノードとなる金属の補給が困難であったり、めっき槽の掃除が困難であったりと、めっき装置のメンテナンス性が良好とはいえなかった。
【０００４】
本発明の目的は、フレキシブルプリント基板の基材等の帯状の対象物に対して連続的に安定して湿式処理を施し、かつ、対象物の表面での傷の発生を抑制しうる連続湿式処理方法及び装置、並びに湿式処理の際の液シール方法及び装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された側壁と、前記側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の円柱状部材とを有することを特徴とする液シール装置により達成される。
【０００６】
また、上記の液シール装置において、前記側壁の前記開口部近傍で前記一対の円柱状部材と前記側壁とが接するようにしてもよい。なお、本明細書において「接する」とは、液漏れが抑制されるように近接している状態をも含むものである。
【０００７】
また、上記の液シール装置において、前記側壁の前記開口部近傍で前記一対の円柱状部材を囲む周壁を有し、前記周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する開口部が形成されているようにしてもよい。
【０００８】
また、上記の液シール装置において、前記一対の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込むようにしてもよい。
【０００９】
また、上記の液シール装置において、前記円柱状部材を、その中心軸を回転軸として回転することができ、かつ、その回転軸を水平方向に移動できるように保持する円柱部材保持手段を更に有するようにしてもよい。
【００１０】
また、上記の液シール装置において、前記側壁は、液体が満たされる液槽の側壁であり、前記一対の円柱状部材は、前記液槽の内側に配置され、前記液槽内に満たされる液体の液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制するようにしてもよい。
【００１１】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第１の円柱状部材と、前記第１の側壁に対向するように配置され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された第２の側壁と、前記第２の側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第２の円柱状部材とを有することを特徴とする液シール装置により達成される。
【００１２】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽と、前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第１の円柱状部材と、前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第２の円柱状部材と、対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動する条材移動手段とを有することを特徴とする連続湿式処理装置により達成される。
【００１３】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍で前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁と接し、かつ、前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍で前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁と接するようにしてもよい。
【００１４】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍で前記第１の円柱状部材を囲む第１の周壁と、前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍で前記第２の円柱状部材を囲む第２の周壁とを有し、前記第１の周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第３の開口部が形成され、前記第２の周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第４の開口部が形成されているようにしてもよい。
【００１５】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の円柱状部材及び／又は前記第２の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込むようにしてもよい。
【００１６】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記条材は、フレキシブルプリント基板の基材であってもよい。上記連続湿式処理装置により、フレキシブルプリント基板を製造してもよい。
【００１７】
また、上記目的は、液体が満たされる液槽の側壁に形成され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部からの液漏れを抑制する液シール方法であって、前記液槽内の前記側壁の前記開口部近傍に、一対の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制することを特徴とする液シール方法により達成される。
【００１８】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽において、対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動することにより、前記条材に対して前記所定の処理を行う連続湿式処理方法において、前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に、一対の第１の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に、一対の第２の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁及び前記条材に接し、前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁及び前記条材に接することにより、前記液槽からの液漏れを抑制することを特徴とする連続湿式処理方法により達成される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態による連続湿式処理方法及び装置について図１乃至図８を用いて説明する。図１は本実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す上面図であり、図２は本実施形態による連続湿式処理装置における給電ロール部の構造を示す概略図であり、図３はめっき槽の構造を示す概略図であり、図４は液シール装置のシールロールの構造を示す概略図であり、図５は液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図であり、図６及び図７は液シール装置のシールロールの構造の他の例を示す概略図であり、図８はめっき槽の構造を示す断面図である。
【００２０】
本実施形態による連続湿式処理方法及び装置は、帯状のめっき対象物に電気銅めっきを施すものである。
【００２１】
〔１〕連続湿式処理装置
まず、本実施形態による連続湿式処理装置について図１乃至図８を用いて説明する。
【００２２】
本実施形態による連続湿式処理装置は、図１に示すように、めっき処理が行われるめっき処理部１０と、めっきを施すべき帯状の基材１２をめっき処理部１０に連続的に送り出す基材巻き出し部１４と、めっき処理部１０においてめっきが施された基材１２を連続的に回収する基材巻き取り部１６とから構成されている。
【００２３】
基材巻き出し部１４には、コイル状に巻かれた帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出し、めっき処理部１０へ導入するアンコイラー１８が設けらている。アンコイラー１８とめっき処理部１０との間には、アンコイラー１８から送り出された基材１２の張力を一定に保つアキューム装置２０が設けられている。
【００２４】
めっき処理部１０は、めっき液で満たされた複数のめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを有している。各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄには、対向する側壁にそれぞれ液シール装置２４が設けられており、一方の側壁の液シール装置２４から基材１２が幅方向を略鉛直にしてめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内に導入されるようになっている。めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄに導入された基材１２は、そのまま他方の側壁の液シール装置２４を介してめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ外に導出されるようになっている。
【００２５】
めっき槽２２ｂの基材導出側とめっき槽２２ｃの基材導入側の近傍には、めっき槽２２ｂの液シール装置２４から導出された基材１２を方向転換し、めっき槽２２ｃに液シール装置２４を介して導入するためのＵターン部２６が設けられている。
【００２６】
各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの基材導入側と基材導出側の液シール装置２４近傍には、基材１２に給電するための給電ロール部２８が設けられている。
【００２７】
めっき槽２２ａの基材導入側と基材巻き出し部１４との間には、基板巻き出し部１４から送り出された基材１２の汚れの除去等を行う前処理槽３０が設けられている。前処理槽３０についても、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄと同様の液シール装置（図示せず）が設けられている。
【００２８】
めっき槽２２ｄの基材導出側の液シール装置２４近傍には、めっきが施された基材１２をシャワー洗浄する洗浄室３２が設けられている。洗浄室３２近傍には、洗浄室内で洗浄された基材１２を熱風乾燥する乾燥室３４が設けられている。
【００２９】
乾燥室３４近傍には、乾燥室３４内で乾燥された基材１２を巻き取り回収する基材巻き取り部１６が配置されている。
【００３０】
基材巻き取り部１６には、めっき処理部１０によりめっきが施され、幅方向を略鉛直にして送り出された基材１２を巻き取って回収するリコイラー３６が設けられている。リコイラー３６とめっき処理部１０の乾燥室３４との間には、基材１２を所定の速度でリコイラー３６に送るための駆動装置３８が設けられている。
【００３１】
こうして、基材巻き出し部１４からその幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出された基材１２が、めっき処理部１０の前処理槽３０、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、洗浄室３２、乾燥室３４を順次通過し、基材巻き取り部１６により回収される構成となっている。
【００３２】
このように、本実施形態による連続湿式処理装置は、めっき処理の対象物である帯状の基材１２が、液シール装置２４を介してその幅方向を略垂直にして長手方向にめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を通過するものである。そして、液シール装置２４が、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄからのめっき液の液漏れを効果的に低減することに主たる特徴を有する。液シール装置２４の機構の詳細については後述する。
【００３３】
次に、本実施形態による連続湿式処理装置によるめっき処理の対象物及び本実施形態による連続湿式処理装置の各構成要素について詳述する。
【００３４】
（１）基材１２
基材１２は、例えば幅２５０ｍｍ、厚さ２５μｍのフレキシブルプリント基板の基材のような薄板幅広の条材で、その長さが例えば５０メートル程度の帯状のものである。このような基材１２が、コイル状に巻かれた状態で基材巻き出し部１４のアンコイラー１８にセットされる。
【００３５】
（２）基材巻き出し部１４
アンコイラー１８は、コイル状に巻かれた帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出し、めっき処理部１０へ導入するものである。
【００３６】
アキューム装置２０は、アンコイラー１８から送り出された基材１２の張力を一定に保ち、送り出された基材１２が折れ曲がって破損したり表面に傷がつくのを防止するものである。また、アキューム装置２０により、アンコイラー１８によって送り出すコイル状の基材１２を交換する際の時間をかせぐことができ、基材１２の交換が容易なものとなっている。
【００３７】
（３）めっき処理部１０
（ａ）前処理槽３０
前処理槽３０は、めっき処理を施す前に、エッチング等により基材１２表面を清浄化するためのものであり、槽内には、かかる表面処理用の薬液が満たされている。また、前処理槽３０には、後述するめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの液シール装置２４と同様の液シール装置を有している。この液シール装置を介して基材１２が幅方向を略鉛直方向にした状態で前処理槽３０内を通過することにより、めっき処理前に所定の前処理が施される。
【００３８】
（ｂ）給電ロール部２８
給電ロール部２８について図２を用いて説明する。図２（ａ）は給電ロール部の構造を示す上面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。
【００３９】
給電ロール部２８は、無駆動で自由に回転可能な３本のロール４２で幅方向を略鉛直方向にして送り出される基材１２を挟むように構成されている。各ロール４２の上端には、ロータリーコネクター４４が接続されており、ロール４２が回転した状態でも電気的に接続され、基材１２に給電できるようになっている。各ロール４２は、スパーク防止のため給電時には常時水洗により濡らしている。
【００４０】
各ロール４２は回転するため、これらに挟まれた基材１２は、給電されながら送り出される。ここで、各ロール４２自体は駆動しないが、基材１２の通過速度に応じて自由に回転するので、送られる基材１２に速度誤差が生じることがなくロール４２による擦り傷の発生を抑制することができる。
【００４１】
また、給電ロール部２８には、送り出される基材１２の蛇行を修正する蛇行修正装置（ＥＰＣ、Edge Position Controller）（図示せず）が備えられている。ＥＰＣは基材１２の端を検出するセンサーを有しており、基材１２が上下方向に蛇行すると、センサーがズレ量を検出する。このズレ量に基づき、ＥＰＣは、蛇行を修正するようにロール４２を傾ける。
【００４２】
上記の給電ロール部２８が、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの基材導入側と基材導出側の両側の液シール装置２４近傍にそれぞれ設けられている。給電ロール部２８が各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの外に設けられているので、給電ロール部２８による影響が、基材１２に形成されるめっきの品質に及ぶこともない。すなわち、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内に給電ロール部２８を設けた場合、ロール４２表面にもめっきが施されることとなる。このため、ロール４２の径が厚くなっってしまったり、表面状態が荒れるため基材１２に悪影響を与えてしまう。給電ロール部２８を各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの外に設けることにより、このような弊害を回避することができる。
【００４３】
（ｃ）めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ
めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄについて図３乃至図８を用いて説明する。図３（ａ）はめっき槽の構造を示す上面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。図４は液シール装置のシールロールの構造を示す概略図であり、図５は液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図であり、図６及び図７は液シール装置のシールロールの構造の他の例を示す概略図である。なお、ここでは、めっき槽２２ａを例に説明するが、他のめっき槽２２ｂ、２２ｃ、２２ｄも図３に示すめっき槽２２ａと同様の構造及び機能を有している。
【００４４】
めっき槽２２ａの液シール装置２４が設けられている対向する側壁４６には、図３（ａ）に示すように、基材１２が通過できる幅を有するスリット４８が略鉛直方向に設けられている。
【００４５】
液シール装置２４は、スリット４８を囲むように設けられたシール槽５０と、シール槽５０内に収容された２本のシールロール５２から構成されている。シール槽５０のめっき槽２２ａのスリット４８に対向する側壁には、スリット４８と同様に、基材１２が通過できる幅を有するスリット５４が設けられている。また、液シール装置２４の近傍は、液シール装置２４から漏れためっき液を回収するための区画となっており、底部に排液口５８が設けられている。排液口５８から回収されためっき液は、ポンプ（図示せず）により再びめっき槽２２ａに戻され循環している。
【００４６】
シール槽５０内のシールロール５２は、例えば、ポリ塩化ビニルやテフロン（登録商標）等の樹脂製の中空のパイプ状の剛性体である。図４は、シール槽５０に収容されたシールロールの構造を示す断面図である。図示するように、シールロール５２内部の底には、シールロール５２の姿勢を安定にするため、錘６０が設けられている。
【００４７】
シートロール５２の下端及び上端の中央部分には凹み６２ａ、６２ｂが設けられている。下端の凹み６２ａには、シール槽５０底部に設けられた凸部６４ａが嵌合している。また、上端の凹み６２ｂには、シール槽５０の上部に固定されている凸部６４ｂが嵌合している。これら凹み６２ａ、６２ｂと凸部６４ａ、６４ｂとの嵌合にはあそびとして適度な間隙が設けられている。こうして、シール槽５０内でのシールロール５２の転倒が防止され、回転中心軸は水平方向に移動できる。
【００４８】
めっきをする際には、図３（ａ）に示すように、一方のスリット５４、上述した２本のシールロール５２の間、及びスリット４８を順次通して基材１２が幅方向を略鉛直にした状態でめっき槽２２ａ内に導入される。そして、他方のスリット４８、上述した２本のシールロール５２の間、及びスリット５４を順次通して基材１２が幅方向を鉛直にした状態でめっき槽２２ａ外に導出される。
【００４９】
ここで、液シール装置２４によるめっき槽２２ａからのめっき液の液漏れ防止の機構を図５を用いて説明する。図５は、図３（ａ）の基材導入側の液シール装置近傍の上面図である。
【００５０】
基材１２のめっきを開始する際には、まず、めっき液をめっき槽２２ａに満たす前に、基材１２を２本のシールロール５２に挟み込むように設置する。
【００５１】
次いで、めっき槽２２ａにめっき液を満たしていくとスリット４８を介してシール槽５０内にもめっき液が満たされる。すると、図５に示すように、めっき液の液圧により自動的にシールロール５２が基材１２に押し付けられ、さらに、シールロール５２がシール槽５０のスリット５４が設けられている側壁に押し付けられる。
【００５２】
上述のようにして、基材１２とシールロール５２とが密着し、シールロール５２とシール槽５０のスリット５４が設けられている側壁とが密着する。これにより、シール槽５０のスリット５４がシールされ、スリット５４からのめっき槽２２ａのめっき液の漏れを十分に抑えることができる。また、２本のシールロール５２には均等にめっき液の液圧が加わるので、２本のシールロール５２に挟まれた基材１２の中心の位置を維持することができ、基材１２が折れ曲がったりすることもない。
【００５３】
また、基材１２は、液圧によってシールロール５２に挟まれているだけなので、基材１２にかかる負荷が小さい。このように液シール装置２４での負荷が小さいので、基材１２は連続的に安定してめっき槽２２ａ内を通過することができ、その際に、基材１２表面における傷の発生や基材１２の変形を抑制することができる。
【００５４】
上述のようにして、めっき液を満たした際に、めっき槽２２ａの基材導入側と基材導出側が、液シール装置２４により効果的にシールされることとなる。
【００５５】
また、液シール装置２４に用いるシールロール５２の構造は、他の構造とすることもできる。
【００５６】
例えば、図６に示すように、シールロール５２の上端及び下端近傍が径が太くなった大径部６６を有する段付きのシールロール５２とする。このような２本のシールロール５２の大径部６６により基材１２の上端及び下端を押さえるようにしてもよい。これにより、基材１２の下端及び上端以外には、シールロール５２が接触することがないので、基材１２表面の傷の発生を防止することができる。なお、この場合には、スリット５４からめっき液が漏れることとなるが、大径部６６の径の大きさを調整することにより、スリット５４からのめっき液の液漏れ量を調整することができる。
【００５７】
また、シールロール５２が回転できる構造としてもよい。例えば、図７に示すように、転倒防止のための凸部６４ａ、６４ｂに代えて、円錐コマ６８ａ、６８ｂによりシールロール５２を上下から挟み込んで保持する。こうすることで、基材１２がシールロール５２間を通過するとともにシールロール５２が回転するので、基材１２とシールロール５２との間の摩擦抵抗が低減される。これにより、基材１２表面での傷の発生を抑制することができる。
【００５８】
次に、めっき槽２２ａの他の構成要素について図３及び図８を用いて説明する。図８は、図３（ａ）のＢ−Ｂ′線断面図である。
【００５９】
めっき槽２２ａの液シール装置２４が設けられていない側壁の近傍には、図３（ａ）及び図８に示すように、アノードバスケット７０が設けられている。アノードバスケット７０内には、電気めっきのアノードとして、例えば銅ボールが収容されている。アノードの補給は、めっき槽２２ａの直上から行うことができる。この際、めっき槽２２ａ内では、図３（ａ）に示すように、基材１２が幅方向を略鉛直にした状態となっている。したがって、基材１２が邪魔になることなく、めっき槽２２ａ内へのアノードの補給を容易に行うことができる。なお、アノードバスケットに収容するアノード金属は、めっきの種類に応じて適宜選択することができる。
【００６０】
また、めっき槽２２ａ内には、基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で送られる基材１２の揺れを防止するため、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、基材１２の両側に幅方向に沿って略鉛直方向に配された複数本のガラス棒７２が設けられている。これにより、めっき槽２２ａ内を、安定して基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で通過することができる。
【００６１】
また、めっき槽２２ａ内には、図８に示すように、幅方向を略鉛直にした状態で通過する基材１２の上端及び下端を両側から遮蔽するエッジカバー７４が設けられている。エッジカバー７４は、基材１２との距離を調整するための保持用板７５に取り付けられている。これにより、基材１２の上端及び下端表面に、めっきが厚く形成されるのを防止することができ、基材１２の全面にめっきを均一に施すことができる。なお、エッジカバー７４により基材１２の上端及び下端を遮蔽する幅は、めっきの状態に応じて適宜調整することができる。
【００６２】
また、めっき槽２２ａ底部には、図８に示すように、エアー導入口７６が設けられている。このエアー導入口７６からエアーを導入することにより、めっき槽２２ａ内のめっき液を攪拌することができる。これにより、より均一に基材１２表面にめっきを施すことができる。
【００６３】
また、メンテナンス時には、めっき槽２２ａからめっき液を完全に排液することができ、槽内を容易に清掃することができる。
【００６４】
（ｄ）Ｕターン部２６
Ｕターン部２６は、回転駆動する２本のロールを有している。これらが回転して基材１２を送ることにより、めっき槽２２ｂの液シール装置２４から導出された基材１２をＵ字状に方向転換し、めっき槽２２ｃに液シール装置２４を介して導入することができる。このように、Ｕターン部２６を介してめっき槽２２ｂからめっき槽２２ｃに基材１２を送ることにより、装置の設置に要する場所の面積を小さくすることができる。また、Ｕターン部２６には、基材１２の乾燥を防止するために、基材１２に対して水或いは所定の溶液を噴射するシャワー（図示せず）が設けられている。
【００６５】
（ｅ）洗浄室３２、乾燥室３４
洗浄室３２には、純水等を噴射するシャワー（図示せず）が設けられている。シャワーにより基材１２に対して純水等を噴射することにより、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを順次通過して表面にめっきが施された基材１２を洗浄することができる。
【００６６】
乾燥室３４には、熱風を発生するドライヤー（図示せず）が設けられており、洗浄室３２で洗浄された基材１２を熱風乾燥することができる。
【００６７】
（３）基材巻き取り部１６
駆動装置３８は、乾燥室３４により乾燥されためっき処理後の基材１２をリコイラー３６に一定の速度で送るものである。例えば、駆動装置３８は、回転するゴムロールにより基材１２を牽引することにより、基材１２を一定速度で送るものである。
【００６８】
リコイラー３６は、駆動装置３８から幅方向を略鉛直にして送り出された基材１２を巻き取って回収するものである。
【００６９】
なお、基材巻き取り部１６に、回収されためっき処理後の基材１２を、その後の工程等に応じて所定の長さに切断するスリッター（切断装置）を設けてもよい。
【００７０】
〔２〕連続湿式処理方法
次に、本実施形態による連続湿式処理方法について図１乃至図３を用いて説明する。
【００７１】
まず、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内をめっき液で満たす前に、めっきすべき帯状の基材１２を、連続湿式処理装置にセットする。すなわち、コイル状に巻かれた基材１２をアンコイラー１８にセットする。次いで、アンコイラー１８から基材１２を幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送り出して、アキューム装置２０を介してめっき処理部１０に導入する。
【００７２】
めっき処理部１０では、基材１２を、前処理槽３０、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、洗浄室３２、乾燥室３４を順次通過するようにセットする。
【００７３】
めっき槽２２ａでは、基材導入側の液シール装置２４のスリット５４、２本のシールロール５２の間、側壁４６のスリット４８を通して基材１２をめっき槽２２ａ内に導入する。そして、対向する基板導出側の側壁４６のスリット４８、液シール装置２４の２本のシールロール５２の間、スリット５４を通してめっき槽２２ａ外に導出する。めっき槽２２ａ外に導出した基材１２を、同様にめっき槽２２ｂ内に通過させた後、Ｕターン部２６を介してめっき槽２２ｃ、２２ｄ内に基材１２を通過させる。このとき、給電ロール部２８において、ロール４２により図２に示すように基材１２を挟み、ロール４２が基材１２に接触した状態にする。
【００７４】
また、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄのアノードバスケット７０には、アノードとして例えば銅ボールを収容しておく。なお、めっき処理開始後は、銅ボールの減少等に応じて、めっき槽の直上から適宜アノードバスケット７０に銅ボールを補充することが望ましい。
【００７５】
めっき槽２２ｄを通過した基材１２を、洗浄室３２と乾燥室３４とに順次通過させた後、基材巻き取り部１６の駆動装置３８を介してリコイラー３６に基材１２の端部を取り付ける。こうして、基材１２をリコイラー３６により巻き取れるようにする。
【００７６】
以上のようにして、基材１２の連続湿式処理装置への導入を終了する。
【００７７】
次いで、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄにめっき液を満たしていく。このとき、各液シール装置２４のシールロール５２により、効果的に液漏れが抑制される。
【００７８】
各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄが所定の液量のめっき液で満たされた後、基材１２の電気めっきを開始する。
【００７９】
まず、各給電ロール部２８により基材１２への給電を開始する。
【００８０】
次いで、アンコイラー１８による基材１２の送り出しと、リコイラー３６による基材１２の巻き取りを開始する。このとき、必要に応じて、アキューム装置２０により基材１２の張力を調整し、駆動装置３８により基材１２の送り速度を調整する。
【００８１】
こうして、基材１２は、幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送られながら、めっき処理部１０において、前処理槽３０で清浄化された後、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄでめっきが施されていく。めっきが施された基材１２は、洗浄室３２で洗浄され、乾燥室３４で乾燥される。
【００８２】
めっき処理部１０においてめっきが施された基材１２は、基材巻き取り部１６のリコイラー３６により順次コイル状に巻き取られていく。
【００８３】
こうして、帯状の基材１２を幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送りながら、基材１２にめっきを連続的に施していく。
【００８４】
このように、本実施形態によれば、スリット５４近傍で基材１２を液圧により挟み込む２本のシールロール５２を有する液シール装置２４を介して、帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にした状態で連続的に長手方向に送りながらめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を通過させてめっきを施すので、基材１２に均一にめっきを施すことができ、基材１２表面での傷の発生を抑制することができる。また、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に通過するので、アノードとなる金属を槽の直上から容易に補給することができるなど、装置のメンテナンス性を向上することができる。
【００８５】
［変形実施形態］
本発明の上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
【００８６】
例えば、上記実施形態では、液シール装置２４をめっき槽の基材導入側と基材導出側にそれぞれ一つずつ設けていたが、液シール装置２４を複数段設けてもよい。図９（ａ）は、液シール装置２４を２段とした場合の構造を示す上面図、図９（ｂ）は、図９（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。
【００８７】
図９に示すように、めっき槽２２ａに設けられた液シール装置２４のスリット５４側に、さらに液シール装置２４を設ける。これにより、めっき槽２２ａに設けられた液シール装置２４からのめっき液の漏れを、さらに液シール装置２４により抑制するので、効果的にめっき槽２２ａをシールすることができる。
【００８８】
また、上記実施形態では、基材１２に対してめっき処理を行っていたが、液シール装置２４は、他の湿式処理を行う処理槽に適用することができる。
【００８９】
また、上記実施形態では、シール槽５０内に、シールロール５２を収容していたが、シール槽５０を設けずに、２本のシールロール５２をめっき槽内のスリット４８の近傍に直接配置してスリット４８を通過する基材１２を挟み込むようにしてもよい。
【００９０】
また、上記実施形態では、シールロール５２をポリ塩化ビニルやテフロン等の樹脂製の中空のパイプ状のものとしていたが、これに限定されるものではない。例えば、シールロール５２は金属製のものであってもよいし、中空のパイプ状でなくても円柱状のものであればよい。
【００９１】
また、上記実施形態では、Ｕターン部２６により基材１２の送る方向を転換していたが、連続湿式処理装置の設置場所のスペース等に応じて、転換する方向の角度を変えてもよい。また、Ｕターン部２６を設けずに、メッキ槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを一直線上に配置してもよい。
【００９２】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、液体が満たされる液槽の側壁に形成され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部からの液漏れを抑制する液シール方法において、液槽内の側壁の開口部近傍に、一対の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽に液体を満たしたときに、液圧によって一対の円柱状部材が側壁及び条材に接するので、液槽の側壁の開口部からの液漏れを抑制することができる。
【００９３】
また、本発明によれば、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽において、対向する第１の開口部から第２の開口部に条材を長手方向に連続的に移動することにより、条材に対して所定の処理を行う連続湿式処理方法において、液槽内の第１の側壁の第１の開口部近傍に、一対の第１の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽内の第２の側壁の第２の開口部近傍に、一対の第２の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽に液体を満たしたときに、液圧によって第１の円柱状部材が第１の側壁及び条材に接し、第２の円柱状部材が第２の側壁及び条材に接するので、液槽からの液漏れを抑制することができ、連続的に安定して所定の処理を条材に施し、かつ、条材の表面での傷の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す上面図である。
【図２】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における給電ロール部の構造を示す概略図である。
【図３】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置におけるめっき槽の構造を示す概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造を示す概略図である。
【図５】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図である。
【図６】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造の他の例（その１）を示す概略図である。
【図７】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造の他の例（その２）を示す概略図である。
【図８】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置におけるめっき槽の構造を示す断面図である。
【図９】本発明の一実施形態の変形例による連続湿式処理装置における液シール装置の構造を示す概略図である。
【符号の説明】
１０…めっき処理部
１２…基材
１４…基材巻き出し部
１６…基材巻き取り部
１８…アンコイラー
２０…アキューム装置
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ…めっき槽
２４…液シール装置
２６…Ｕターン部
２８…給電ロール部
３０…前処理槽
３２…洗浄室
３４…乾燥室
３６…リコイラー
３８…駆動装置
４２…ロール
４４…ロータリーコネクター
４６…側壁
４８…スリット
５０…シール槽
５２…シールロール
５４…スリット
５８…排液口
６０…錘
６２ａ、６２ｂ…凹み
６４ａ、６２ｂ…凸部
６６…大径部
６８ａ、６８ｂ…円錐コマ
７０…アノードバスケット
７２…ガラス棒
７４…エッジカバー
７５…保持用板
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキシブルプリント基板の基材等の帯状の対象物にめっき等の湿式処理を施す連続湿式処理方法及び装置、並びに湿式処理の際の液シール方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＩＣカード等に用いられるフレキシブルプリント基板には、搭載される素子の電気的な接続をとるためにめっきが施される。フレキシブルプリント基板にめっきを施す方法としては、帯状のフレキシブルプリント基板の基材を切断した状態でめっき液に浸漬する枚葉式の方法が用いられていた。また、帯状の基材自体を連続的にめっき液に浸漬する連続式の方法も用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の連続式めっき方法では、フレキシブルプリント基板の基板面を水平にした状態でめっきを施していたため、次のような不都合があった。すなわち、形成されためっきの厚さが、基板の同一面内或いは表裏面で不均一となり、基板毎にめっき特性のばらつきが生じていた。また、帯状の基材を、めっき液に送り込むための装置構成のために、基板表面に傷が発生してしまうことがあった。さらには、装置構成上、めっき槽へのアノードとなる金属の補給が困難であったり、めっき槽の掃除が困難であったりと、めっき装置のメンテナンス性が良好とはいえなかった。
【０００４】
本発明の目的は、フレキシブルプリント基板の基材等の帯状の対象物に対して連続的に安定して湿式処理を施し、かつ、対象物の表面での傷の発生を抑制しうる連続湿式処理方法及び装置、並びに湿式処理の際の液シール方法及び装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された側壁と、前記側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の円柱状部材とを有することを特徴とする液シール装置により達成される。
【０００６】
また、上記の液シール装置において、前記側壁の前記開口部近傍で前記一対の円柱状部材と前記側壁とが接するようにしてもよい。なお、本明細書において「接する」とは、液漏れが抑制されるように近接している状態をも含むものである。
【０００７】
また、上記の液シール装置において、前記側壁の前記開口部近傍で前記一対の円柱状部材を囲む周壁を有し、前記周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する開口部が形成されているようにしてもよい。
【０００８】
また、上記の液シール装置において、前記一対の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込むようにしてもよい。
【０００９】
また、上記の液シール装置において、前記円柱状部材を、その中心軸を回転軸として回転することができ、かつ、その回転軸を水平方向に移動できるように保持する円柱部材保持手段を更に有するようにしてもよい。
【００１０】
また、上記の液シール装置において、前記側壁は、液体が満たされる液槽の側壁であり、前記一対の円柱状部材は、前記液槽の内側に配置され、前記液槽内に満たされる液体の液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制するようにしてもよい。
【００１１】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第１の円柱状部材と、前記第１の側壁に対向するように配置され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された第２の側壁と、前記第２の側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第２の円柱状部材とを有することを特徴とする液シール装置により達成される。
【００１２】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽と、前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第１の円柱状部材と、前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第２の円柱状部材と、対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動する条材移動手段とを有することを特徴とする連続湿式処理装置により達成される。
【００１３】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍で前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁と接し、かつ、前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍で前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁と接するようにしてもよい。
【００１４】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍で前記第１の円柱状部材を囲む第１の周壁と、前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍で前記第２の円柱状部材を囲む第２の周壁とを有し、前記第１の周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第３の開口部が形成され、前記第２の周壁には、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第４の開口部が形成されているようにしてもよい。
【００１５】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記第１の円柱状部材及び／又は前記第２の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込むようにしてもよい。
【００１６】
また、上記の連続湿式処理装置において、前記条材は、フレキシブルプリント基板の基材であってもよい。上記連続湿式処理装置により、フレキシブルプリント基板を製造してもよい。
【００１７】
また、上記目的は、液体が満たされる液槽の側壁に形成され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部からの液漏れを抑制する液シール方法であって、前記液槽内の前記側壁の前記開口部近傍に、一対の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制することを特徴とする液シール方法により達成される。
【００１８】
また、上記目的は、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽において、対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動することにより、前記条材に対して前記所定の処理を行う連続湿式処理方法において、前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に、一対の第１の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に、一対の第２の円柱状部材を略垂直に配置して前記条材を挟み込み、前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁及び前記条材に接し、前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁及び前記条材に接することにより、前記液槽からの液漏れを抑制することを特徴とする連続湿式処理方法により達成される。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態による連続湿式処理方法及び装置について図１乃至図８を用いて説明する。図１は本実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す上面図であり、図２は本実施形態による連続湿式処理装置における給電ロール部の構造を示す概略図であり、図３はめっき槽の構造を示す概略図であり、図４は液シール装置のシールロールの構造を示す概略図であり、図５は液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図であり、図６及び図７は液シール装置のシールロールの構造の他の例を示す概略図であり、図８はめっき槽の構造を示す断面図である。
【００２０】
本実施形態による連続湿式処理方法及び装置は、帯状のめっき対象物に電気銅めっきを施すものである。
【００２１】
〔１〕連続湿式処理装置
まず、本実施形態による連続湿式処理装置について図１乃至図８を用いて説明する。
【００２２】
本実施形態による連続湿式処理装置は、図１に示すように、めっき処理が行われるめっき処理部１０と、めっきを施すべき帯状の基材１２をめっき処理部１０に連続的に送り出す基材巻き出し部１４と、めっき処理部１０においてめっきが施された基材１２を連続的に回収する基材巻き取り部１６とから構成されている。
【００２３】
基材巻き出し部１４には、コイル状に巻かれた帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出し、めっき処理部１０へ導入するアンコイラー１８が設けらている。アンコイラー１８とめっき処理部１０との間には、アンコイラー１８から送り出された基材１２の張力を一定に保つアキューム装置２０が設けられている。
【００２４】
めっき処理部１０は、めっき液で満たされた複数のめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを有している。各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄには、対向する側壁にそれぞれ液シール装置２４が設けられており、一方の側壁の液シール装置２４から基材１２が幅方向を略鉛直にしてめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内に導入されるようになっている。めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄに導入された基材１２は、そのまま他方の側壁の液シール装置２４を介してめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ外に導出されるようになっている。
【００２５】
めっき槽２２ｂの基材導出側とめっき槽２２ｃの基材導入側の近傍には、めっき槽２２ｂの液シール装置２４から導出された基材１２を方向転換し、めっき槽２２ｃに液シール装置２４を介して導入するためのＵターン部２６が設けられている。
【００２６】
各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの基材導入側と基材導出側の液シール装置２４近傍には、基材１２に給電するための給電ロール部２８が設けられている。
【００２７】
めっき槽２２ａの基材導入側と基材巻き出し部１４との間には、基板巻き出し部１４から送り出された基材１２の汚れの除去等を行う前処理槽３０が設けられている。前処理槽３０についても、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄと同様の液シール装置（図示せず）が設けられている。
【００２８】
めっき槽２２ｄの基材導出側の液シール装置２４近傍には、めっきが施された基材１２をシャワー洗浄する洗浄室３２が設けられている。洗浄室３２近傍には、洗浄室内で洗浄された基材１２を熱風乾燥する乾燥室３４が設けられている。
【００２９】
乾燥室３４近傍には、乾燥室３４内で乾燥された基材１２を巻き取り回収する基材巻き取り部１６が配置されている。
【００３０】
基材巻き取り部１６には、めっき処理部１０によりめっきが施され、幅方向を略鉛直にして送り出された基材１２を巻き取って回収するリコイラー３６が設けられている。リコイラー３６とめっき処理部１０の乾燥室３４との間には、基材１２を所定の速度でリコイラー３６に送るための駆動装置３８が設けられている。
【００３１】
こうして、基材巻き出し部１４からその幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出された基材１２が、めっき処理部１０の前処理槽３０、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、洗浄室３２、乾燥室３４を順次通過し、基材巻き取り部１６により回収される構成となっている。
【００３２】
このように、本実施形態による連続湿式処理装置は、めっき処理の対象物である帯状の基材１２が、液シール装置２４を介してその幅方向を略垂直にして長手方向にめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を通過するものである。そして、液シール装置２４が、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄからのめっき液の液漏れを効果的に低減することに主たる特徴を有する。液シール装置２４の機構の詳細については後述する。
【００３３】
次に、本実施形態による連続湿式処理装置によるめっき処理の対象物及び本実施形態による連続湿式処理装置の各構成要素について詳述する。
【００３４】
（１）基材１２
基材１２は、例えば幅２５０ｍｍ、厚さ２５μｍのフレキシブルプリント基板の基材のような薄板幅広の条材で、その長さが例えば５０メートル程度の帯状のものである。このような基材１２が、コイル状に巻かれた状態で基材巻き出し部１４のアンコイラー１８にセットされる。
【００３５】
（２）基材巻き出し部１４
アンコイラー１８は、コイル状に巻かれた帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にして長手方向に送り出し、めっき処理部１０へ導入するものである。
【００３６】
アキューム装置２０は、アンコイラー１８から送り出された基材１２の張力を一定に保ち、送り出された基材１２が折れ曲がって破損したり表面に傷がつくのを防止するものである。また、アキューム装置２０により、アンコイラー１８によって送り出すコイル状の基材１２を交換する際の時間をかせぐことができ、基材１２の交換が容易なものとなっている。
【００３７】
（３）めっき処理部１０
（ａ）前処理槽３０
前処理槽３０は、めっき処理を施す前に、エッチング等により基材１２表面を清浄化するためのものであり、槽内には、かかる表面処理用の薬液が満たされている。また、前処理槽３０には、後述するめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの液シール装置２４と同様の液シール装置を有している。この液シール装置を介して基材１２が幅方向を略鉛直方向にした状態で前処理槽３０内を通過することにより、めっき処理前に所定の前処理が施される。
【００３８】
（ｂ）給電ロール部２８
給電ロール部２８について図２を用いて説明する。図２（ａ）は給電ロール部の構造を示す上面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。
【００３９】
給電ロール部２８は、無駆動で自由に回転可能な３本のロール４２で幅方向を略鉛直方向にして送り出される基材１２を挟むように構成されている。各ロール４２の上端には、ロータリーコネクター４４が接続されており、ロール４２が回転した状態でも電気的に接続され、基材１２に給電できるようになっている。各ロール４２は、スパーク防止のため給電時には常時水洗により濡らしている。
【００４０】
各ロール４２は回転するため、これらに挟まれた基材１２は、給電されながら送り出される。ここで、各ロール４２自体は駆動しないが、基材１２の通過速度に応じて自由に回転するので、送られる基材１２に速度誤差が生じることがなくロール４２による擦り傷の発生を抑制することができる。
【００４１】
また、給電ロール部２８には、送り出される基材１２の蛇行を修正する蛇行修正装置（ＥＰＣ、Edge Position Controller）（図示せず）が備えられている。ＥＰＣは基材１２の端を検出するセンサーを有しており、基材１２が上下方向に蛇行すると、センサーがズレ量を検出する。このズレ量に基づき、ＥＰＣは、蛇行を修正するようにロール４２を傾ける。
【００４２】
上記の給電ロール部２８が、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの基材導入側と基材導出側の両側の液シール装置２４近傍にそれぞれ設けられている。給電ロール部２８が各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの外に設けられているので、給電ロール部２８による影響が、基材１２に形成されるめっきの品質に及ぶこともない。すなわち、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内に給電ロール部２８を設けた場合、ロール４２表面にもめっきが施されることとなる。このため、ロール４２の径が厚くなっってしまったり、表面状態が荒れるため基材１２に悪影響を与えてしまう。給電ロール部２８を各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄの外に設けることにより、このような弊害を回避することができる。
【００４３】
（ｃ）めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ
めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄについて図３乃至図８を用いて説明する。図３（ａ）はめっき槽の構造を示す上面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。図４は液シール装置のシールロールの構造を示す概略図であり、図５は液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図であり、図６及び図７は液シール装置のシールロールの構造の他の例を示す概略図である。なお、ここでは、めっき槽２２ａを例に説明するが、他のめっき槽２２ｂ、２２ｃ、２２ｄも図３に示すめっき槽２２ａと同様の構造及び機能を有している。
【００４４】
めっき槽２２ａの液シール装置２４が設けられている対向する側壁４６には、図３（ａ）に示すように、基材１２が通過できる幅を有するスリット４８が略鉛直方向に設けられている。
【００４５】
液シール装置２４は、スリット４８を囲むように設けられたシール槽５０と、シール槽５０内に収容された２本のシールロール５２から構成されている。シール槽５０のめっき槽２２ａのスリット４８に対向する側壁には、スリット４８と同様に、基材１２が通過できる幅を有するスリット５４が設けられている。また、液シール装置２４の近傍は、液シール装置２４から漏れためっき液を回収するための区画となっており、底部に排液口５８が設けられている。排液口５８から回収されためっき液は、ポンプ（図示せず）により再びめっき槽２２ａに戻され循環している。
【００４６】
シール槽５０内のシールロール５２は、例えば、ポリ塩化ビニルやテフロン（登録商標）等の樹脂製の中空のパイプ状の剛性体である。図４は、シール槽５０に収容されたシールロールの構造を示す断面図である。図示するように、シールロール５２内部の底には、シールロール５２の姿勢を安定にするため、錘６０が設けられている。
【００４７】
シートロール５２の下端及び上端の中央部分には凹み６２ａ、６２ｂが設けられている。下端の凹み６２ａには、シール槽５０底部に設けられた凸部６４ａが嵌合している。また、上端の凹み６２ｂには、シール槽５０の上部に固定されている凸部６４ｂが嵌合している。これら凹み６２ａ、６２ｂと凸部６４ａ、６４ｂとの嵌合にはあそびとして適度な間隙が設けられている。こうして、シール槽５０内でのシールロール５２の転倒が防止され、回転中心軸は水平方向に移動できる。
【００４８】
めっきをする際には、図３（ａ）に示すように、一方のスリット５４、上述した２本のシールロール５２の間、及びスリット４８を順次通して基材１２が幅方向を略鉛直にした状態でめっき槽２２ａ内に導入される。そして、他方のスリット４８、上述した２本のシールロール５２の間、及びスリット５４を順次通して基材１２が幅方向を鉛直にした状態でめっき槽２２ａ外に導出される。
【００４９】
ここで、液シール装置２４によるめっき槽２２ａからのめっき液の液漏れ防止の機構を図５を用いて説明する。図５は、図３（ａ）の基材導入側の液シール装置近傍の上面図である。
【００５０】
基材１２のめっきを開始する際には、まず、めっき液をめっき槽２２ａに満たす前に、基材１２を２本のシールロール５２に挟み込むように設置する。
【００５１】
次いで、めっき槽２２ａにめっき液を満たしていくとスリット４８を介してシール槽５０内にもめっき液が満たされる。すると、図５に示すように、めっき液の液圧により自動的にシールロール５２が基材１２に押し付けられ、さらに、シールロール５２がシール槽５０のスリット５４が設けられている側壁に押し付けられる。
【００５２】
上述のようにして、基材１２とシールロール５２とが密着し、シールロール５２とシール槽５０のスリット５４が設けられている側壁とが密着する。これにより、シール槽５０のスリット５４がシールされ、スリット５４からのめっき槽２２ａのめっき液の漏れを十分に抑えることができる。また、２本のシールロール５２には均等にめっき液の液圧が加わるので、２本のシールロール５２に挟まれた基材１２の中心の位置を維持することができ、基材１２が折れ曲がったりすることもない。
【００５３】
また、基材１２は、液圧によってシールロール５２に挟まれているだけなので、基材１２にかかる負荷が小さい。このように液シール装置２４での負荷が小さいので、基材１２は連続的に安定してめっき槽２２ａ内を通過することができ、その際に、基材１２表面における傷の発生や基材１２の変形を抑制することができる。
【００５４】
上述のようにして、めっき液を満たした際に、めっき槽２２ａの基材導入側と基材導出側が、液シール装置２４により効果的にシールされることとなる。
【００５５】
また、液シール装置２４に用いるシールロール５２の構造は、他の構造とすることもできる。
【００５６】
例えば、図６に示すように、シールロール５２の上端及び下端近傍が径が太くなった大径部６６を有する段付きのシールロール５２とする。このような２本のシールロール５２の大径部６６により基材１２の上端及び下端を押さえるようにしてもよい。これにより、基材１２の下端及び上端以外には、シールロール５２が接触することがないので、基材１２表面の傷の発生を防止することができる。なお、この場合には、スリット５４からめっき液が漏れることとなるが、大径部６６の径の大きさを調整することにより、スリット５４からのめっき液の液漏れ量を調整することができる。
【００５７】
また、シールロール５２が回転できる構造としてもよい。例えば、図７に示すように、転倒防止のための凸部６４ａ、６４ｂに代えて、円錐コマ６８ａ、６８ｂによりシールロール５２を上下から挟み込んで保持する。こうすることで、基材１２がシールロール５２間を通過するとともにシールロール５２が回転するので、基材１２とシールロール５２との間の摩擦抵抗が低減される。これにより、基材１２表面での傷の発生を抑制することができる。
【００５８】
次に、めっき槽２２ａの他の構成要素について図３及び図８を用いて説明する。図８は、図３（ａ）のＢ−Ｂ′線断面図である。
【００５９】
めっき槽２２ａの液シール装置２４が設けられていない側壁の近傍には、図３（ａ）及び図８に示すように、アノードバスケット７０が設けられている。アノードバスケット７０内には、電気めっきのアノードとして、例えば銅ボールが収容されている。アノードの補給は、めっき槽２２ａの直上から行うことができる。この際、めっき槽２２ａ内では、図３（ａ）に示すように、基材１２が幅方向を略鉛直にした状態となっている。したがって、基材１２が邪魔になることなく、めっき槽２２ａ内へのアノードの補給を容易に行うことができる。なお、アノードバスケットに収容するアノード金属は、めっきの種類に応じて適宜選択することができる。
【００６０】
また、めっき槽２２ａ内には、基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で送られる基材１２の揺れを防止するため、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、基材１２の両側に幅方向に沿って略鉛直方向に配された複数本のガラス棒７２が設けられている。これにより、めっき槽２２ａ内を、安定して基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で通過することができる。
【００６１】
また、めっき槽２２ａ内には、図８に示すように、幅方向を略鉛直にした状態で通過する基材１２の上端及び下端を両側から遮蔽するエッジカバー７４が設けられている。エッジカバー７４は、基材１２との距離を調整するための保持用板７５に取り付けられている。これにより、基材１２の上端及び下端表面に、めっきが厚く形成されるのを防止することができ、基材１２の全面にめっきを均一に施すことができる。なお、エッジカバー７４により基材１２の上端及び下端を遮蔽する幅は、めっきの状態に応じて適宜調整することができる。
【００６２】
また、めっき槽２２ａ底部には、図８に示すように、エアー導入口７６が設けられている。このエアー導入口７６からエアーを導入することにより、めっき槽２２ａ内のめっき液を攪拌することができる。これにより、より均一に基材１２表面にめっきを施すことができる。
【００６３】
また、メンテナンス時には、めっき槽２２ａからめっき液を完全に排液することができ、槽内を容易に清掃することができる。
【００６４】
（ｄ）Ｕターン部２６
Ｕターン部２６は、回転駆動する２本のロールを有している。これらが回転して基材１２を送ることにより、めっき槽２２ｂの液シール装置２４から導出された基材１２をＵ字状に方向転換し、めっき槽２２ｃに液シール装置２４を介して導入することができる。このように、Ｕターン部２６を介してめっき槽２２ｂからめっき槽２２ｃに基材１２を送ることにより、装置の設置に要する場所の面積を小さくすることができる。また、Ｕターン部２６には、基材１２の乾燥を防止するために、基材１２に対して水或いは所定の溶液を噴射するシャワー（図示せず）が設けられている。
【００６５】
（ｅ）洗浄室３２、乾燥室３４
洗浄室３２には、純水等を噴射するシャワー（図示せず）が設けられている。シャワーにより基材１２に対して純水等を噴射することにより、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを順次通過して表面にめっきが施された基材１２を洗浄することができる。
【００６６】
乾燥室３４には、熱風を発生するドライヤー（図示せず）が設けられており、洗浄室３２で洗浄された基材１２を熱風乾燥することができる。
【００６７】
（３）基材巻き取り部１６
駆動装置３８は、乾燥室３４により乾燥されためっき処理後の基材１２をリコイラー３６に一定の速度で送るものである。例えば、駆動装置３８は、回転するゴムロールにより基材１２を牽引することにより、基材１２を一定速度で送るものである。
【００６８】
リコイラー３６は、駆動装置３８から幅方向を略鉛直にして送り出された基材１２を巻き取って回収するものである。
【００６９】
なお、基材巻き取り部１６に、回収されためっき処理後の基材１２を、その後の工程等に応じて所定の長さに切断するスリッター（切断装置）を設けてもよい。
【００７０】
〔２〕連続湿式処理方法
次に、本実施形態による連続湿式処理方法について図１乃至図３を用いて説明する。
【００７１】
まず、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内をめっき液で満たす前に、めっきすべき帯状の基材１２を、連続湿式処理装置にセットする。すなわち、コイル状に巻かれた基材１２をアンコイラー１８にセットする。次いで、アンコイラー１８から基材１２を幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送り出して、アキューム装置２０を介してめっき処理部１０に導入する。
【００７２】
めっき処理部１０では、基材１２を、前処理槽３０、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、洗浄室３２、乾燥室３４を順次通過するようにセットする。
【００７３】
めっき槽２２ａでは、基材導入側の液シール装置２４のスリット５４、２本のシールロール５２の間、側壁４６のスリット４８を通して基材１２をめっき槽２２ａ内に導入する。そして、対向する基板導出側の側壁４６のスリット４８、液シール装置２４の２本のシールロール５２の間、スリット５４を通してめっき槽２２ａ外に導出する。めっき槽２２ａ外に導出した基材１２を、同様にめっき槽２２ｂ内に通過させた後、Ｕターン部２６を介してめっき槽２２ｃ、２２ｄ内に基材１２を通過させる。このとき、給電ロール部２８において、ロール４２により図２に示すように基材１２を挟み、ロール４２が基材１２に接触した状態にする。
【００７４】
また、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄのアノードバスケット７０には、アノードとして例えば銅ボールを収容しておく。なお、めっき処理開始後は、銅ボールの減少等に応じて、めっき槽の直上から適宜アノードバスケット７０に銅ボールを補充することが望ましい。
【００７５】
めっき槽２２ｄを通過した基材１２を、洗浄室３２と乾燥室３４とに順次通過させた後、基材巻き取り部１６の駆動装置３８を介してリコイラー３６に基材１２の端部を取り付ける。こうして、基材１２をリコイラー３６により巻き取れるようにする。
【００７６】
以上のようにして、基材１２の連続湿式処理装置への導入を終了する。
【００７７】
次いで、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄにめっき液を満たしていく。このとき、各液シール装置２４のシールロール５２により、効果的に液漏れが抑制される。
【００７８】
各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄが所定の液量のめっき液で満たされた後、基材１２の電気めっきを開始する。
【００７９】
まず、各給電ロール部２８により基材１２への給電を開始する。
【００８０】
次いで、アンコイラー１８による基材１２の送り出しと、リコイラー３６による基材１２の巻き取りを開始する。このとき、必要に応じて、アキューム装置２０により基材１２の張力を調整し、駆動装置３８により基材１２の送り速度を調整する。
【００８１】
こうして、基材１２は、幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送られながら、めっき処理部１０において、前処理槽３０で清浄化された後、各めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄでめっきが施されていく。めっきが施された基材１２は、洗浄室３２で洗浄され、乾燥室３４で乾燥される。
【００８２】
めっき処理部１０においてめっきが施された基材１２は、基材巻き取り部１６のリコイラー３６により順次コイル状に巻き取られていく。
【００８３】
こうして、帯状の基材１２を幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に送りながら、基材１２にめっきを連続的に施していく。
【００８４】
このように、本実施形態によれば、スリット５４近傍で基材１２を液圧により挟み込む２本のシールロール５２を有する液シール装置２４を介して、帯状の基材１２を、その幅方向を略鉛直にした状態で連続的に長手方向に送りながらめっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を通過させてめっきを施すので、基材１２に均一にめっきを施すことができ、基材１２表面での傷の発生を抑制することができる。また、めっき槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ内を基材１２が幅方向を略鉛直にした状態で長手方向に通過するので、アノードとなる金属を槽の直上から容易に補給することができるなど、装置のメンテナンス性を向上することができる。
【００８５】
［変形実施形態］
本発明の上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
【００８６】
例えば、上記実施形態では、液シール装置２４をめっき槽の基材導入側と基材導出側にそれぞれ一つずつ設けていたが、液シール装置２４を複数段設けてもよい。図９（ａ）は、液シール装置２４を２段とした場合の構造を示す上面図、図９（ｂ）は、図９（ａ）のＡ−Ａ′線断面図である。
【００８７】
図９に示すように、めっき槽２２ａに設けられた液シール装置２４のスリット５４側に、さらに液シール装置２４を設ける。これにより、めっき槽２２ａに設けられた液シール装置２４からのめっき液の漏れを、さらに液シール装置２４により抑制するので、効果的にめっき槽２２ａをシールすることができる。
【００８８】
また、上記実施形態では、基材１２に対してめっき処理を行っていたが、液シール装置２４は、他の湿式処理を行う処理槽に適用することができる。
【００８９】
また、上記実施形態では、シール槽５０内に、シールロール５２を収容していたが、シール槽５０を設けずに、２本のシールロール５２をめっき槽内のスリット４８の近傍に直接配置してスリット４８を通過する基材１２を挟み込むようにしてもよい。
【００９０】
また、上記実施形態では、シールロール５２をポリ塩化ビニルやテフロン等の樹脂製の中空のパイプ状のものとしていたが、これに限定されるものではない。例えば、シールロール５２は金属製のものであってもよいし、中空のパイプ状でなくても円柱状のものであればよい。
【００９１】
また、上記実施形態では、Ｕターン部２６により基材１２の送る方向を転換していたが、連続湿式処理装置の設置場所のスペース等に応じて、転換する方向の角度を変えてもよい。また、Ｕターン部２６を設けずに、メッキ槽２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを一直線上に配置してもよい。
【００９２】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、液体が満たされる液槽の側壁に形成され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部からの液漏れを抑制する液シール方法において、液槽内の側壁の開口部近傍に、一対の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽に液体を満たしたときに、液圧によって一対の円柱状部材が側壁及び条材に接するので、液槽の側壁の開口部からの液漏れを抑制することができる。
【００９３】
また、本発明によれば、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽において、対向する第１の開口部から第２の開口部に条材を長手方向に連続的に移動することにより、条材に対して所定の処理を行う連続湿式処理方法において、液槽内の第１の側壁の第１の開口部近傍に、一対の第１の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽内の第２の側壁の第２の開口部近傍に、一対の第２の円柱状部材を略垂直に配置して条材を挟み込み、液槽に液体を満たしたときに、液圧によって第１の円柱状部材が第１の側壁及び条材に接し、第２の円柱状部材が第２の側壁及び条材に接するので、液槽からの液漏れを抑制することができ、連続的に安定して所定の処理を条材に施し、かつ、条材の表面での傷の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置の構造を示す上面図である。
【図２】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における給電ロール部の構造を示す概略図である。
【図３】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置におけるめっき槽の構造を示す概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造を示す概略図である。
【図５】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置の液漏れ防止機構を説明する図である。
【図６】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造の他の例（その１）を示す概略図である。
【図７】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置における液シール装置のシールロールの構造の他の例（その２）を示す概略図である。
【図８】本発明の一実施形態による連続湿式処理装置におけるめっき槽の構造を示す断面図である。
【図９】本発明の一実施形態の変形例による連続湿式処理装置における液シール装置の構造を示す概略図である。
【符号の説明】
１０…めっき処理部
１２…基材
１４…基材巻き出し部
１６…基材巻き取り部
１８…アンコイラー
２０…アキューム装置
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ…めっき槽
２４…液シール装置
２６…Ｕターン部
２８…給電ロール部
３０…前処理槽
３２…洗浄室
３４…乾燥室
３６…リコイラー
３８…駆動装置
４２…ロール
４４…ロータリーコネクター
４６…側壁
４８…スリット
５０…シール槽
５２…シールロール
５４…スリット
５８…排液口
６０…錘
６２ａ、６２ｂ…凹み
６４ａ、６２ｂ…凸部
６６…大径部
６８ａ、６８ｂ…円錐コマ
７０…アノードバスケット
７２…ガラス棒
７４…エッジカバー
７５…保持用板
Claims (9)
- 幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部が形成された側壁と、
前記側壁の前記開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の円柱状部材とを有し、
前記一対の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込む
ことを特徴とする液シール装置。 - 請求項１記載の液シール装置において、
前記側壁の前記開口部近傍で前記一対の円柱状部材と前記側壁とが接している
ことを特徴とする液シール装置。 - 請求項１又は２記載の液シール装置において、
前記円柱状部材を、その中心軸を回転軸として回転することができ、かつ、その回転軸を水平方向に移動できるように保持する円柱部材保持手段を更に有する
ことを特徴とする液シール装置。 - 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液シール装置において、
前記側壁は、液体が満たされる液槽の側壁であり、
前記一対の円柱状部材は、前記液槽の内側に配置され、
前記液槽内に満たされる液体の液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制する
ことを特徴とする液シール装置。 - 幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽と、
前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第１の円柱状部材と、
前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に略鉛直に配置され、前記条材を挟み込むための一対の第２の円柱状部材と、
対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動する条材移動手段とを有し、
前記第１の円柱状部材及び／又は前記第２の円柱状部材は、上端及び下端に大径部を有する段付の形状であり、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込む
ことを特徴とする連続湿式処理装置。 - 請求項５記載の連続湿式処理装置において、
前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍で前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁と接し、かつ、前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍で前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁と接する
ことを特徴とする連続湿式処理装置。 - 請求項５又は６記載の連続湿式処理装置において、
前記条材は、フレキシブルプリント基板の基材である
ことを特徴とする連続湿式処理装置。 - 液体が満たされる液槽の側壁に形成され、幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する開口部からの液漏れを抑制する液シール方法であって、
前記液槽内の前記側壁の前記開口部近傍に、上端及び下端に大径部を有する段付の形状の一対の円柱状部材を略垂直に配置して、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込み、
前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記一対の円柱状部材が前記側壁及び前記条材に接することにより、前記開口部からの液漏れを抑制する
ことを特徴とする液シール方法。 - 幅方向を略鉛直にした状態で条材が貫通する第１の開口部が形成された第１の側壁と、前記第１の側壁に対向し、幅方向を略鉛直にした状態で前記条材が貫通する第２の開口部が形成された第２の側壁とを有し、前記条材に対し所定の処理を行うための液体が満たされる液槽において、対向する前記第１の開口部から前記第２の開口部に前記条材を長手方向に連続的に移動することにより、前記条材に対して前記所定の処理を行う連続湿式処理方法において、
前記液槽内の前記第１の側壁の前記第１の開口部近傍に、上端及び下端に大径部を有する段付の形状の一対の第１の円柱状部材を略垂直に配置して、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込み、
前記液槽内の前記第２の側壁の前記第２の開口部近傍に、上端及び下端に大径部を有する段付の形状の一対の第２の円柱状部材を略垂直に配置して、前記大径部により前記条材の上端及び下端を挟み込み、
前記液槽に液体を満たしたときに、液圧によって前記第１の円柱状部材が前記第１の側壁及び前記条材に接し、前記第２の円柱状部材が前記第２の側壁及び前記条材に接することにより、前記液槽からの液漏れを抑制する
ことを特徴とする連続湿式処理方法。
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