WO2007132705A1

WO2007132705A1 - 液滴吐出描画装置

Info

Publication number: WO2007132705A1
Application number: PCT/JP2007/059569
Authority: WO
Inventors: Chiyoshi Yoshioka; Yoshinori Nakajima; Toshihiro Tamura
Original assignee: Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date: 2006-05-12
Filing date: 2007-05-09
Publication date: 2007-11-22
Also published as: JP2007301510A; EP2022570A1; JP4018120B2; US20090309905A1; EP2022570A4

Abstract

　大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことのできるインクジェット方式による欠陥修復装置（１）は、対象基板に液滴を吐出する液滴吐出ユニット（３）と、液滴吐出ユニット（３）を保持するヘッドガントリーユニット（４）と、ヘッドガントリーユニット（４）と対象基板とを相対的に移動させるガントリースライド機構（５）と、前記ガントリースライド機構（５）の移動方向を反転させる移動方向反転部（６）とを備える。

Description

明細書

液滴吐出描画装置

技術分野

[0001] 本発明は、被記録物に対して相対的に移動する保持部材に保持された液滴吐出ユニットにより被記録物に液滴を吐出する液滴吐出描画装置に関するものである。背景技術

[0002] 近年、インクジェット技術は紙媒体上に画像を形成するプリンター装置としてだけでなぐ製造装置としての用途が期待されている。例えば、特許文献 1では、液晶ディスプレイ、有機 ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置などの製造装置として、インクジェット方式による液滴吐出素子を搭載した製造装置の構成が示されている。この特許文献 1では、基板上への着弾位置精度を向上させるために、装置基体を石定盤として、基板を同一方向に搬送するステージと、ステージ進行方向と直交する方向にインクジェットヘッドを移動させるキャリッジ機構とを、それぞれ石定盤上に直結して設けている。

[0003] インクジェット方式による汎用プリンターには、通常は液滴を吐出させる素子として 1 50〜300ノズノレ/インチの間隔でノズノレ孔が規則配列した幅 1Z2〜2インチのインクジェットヘッド素子を各色毎に数個ずつ搭載した 1個のインクジェットヘッドユニットを用いて画像を形成する。画像形成方法としては、記録紙を紙送りローラーで送りつつ、記録紙の搬送方向に対して直交する方向にインクジェットヘッドユニットを複数回走查することで、記録紙に画像を形成していた。

[0004] このインクジェット方式を製造装置として用いる場合でも、インクジェットヘッド素子は汎用プリンター用と同等であり、ノズル列方向のサイズは高々 1〜2インチ程度しかないのが現状である。

[0005] 一方、液晶ディスプレイ、有機 ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置の製造プロセスは、大面積基板を使用して採れ数を増やすことによって低コスト及びタクトの短縮を図る傾向にあり、インクジェット方式によりこれらを製造するためには、一辺数 mにも及ぶ大面積基板に対応できる製造装置が必要とされてきた。

[0006] 大面積基板に対して高速で処理できるインクジェット方式を用いた製造装置としては、複数のインクジェットヘッド素子を並べて基板サイズ以上の長さにしたラインへッド方式がある。この方式は、高々 1〜2インチの幅のインクジェット素子を、基板サイズに至る長さまで千鳥配列させるものであり、基板サイズが数 mとすると少なくとも 100 〜200個のヘッドを配列させる必要がある。このラインヘッド方式による製造装置は、例えばカラーフィルタ基板のような、基板全面に吐出を必要とし、さらに吐出箇所が規則的である基板には、非常に効果的であるといえる。

[0007] また、カラーフィルタ基板の製造方法の一部として、カラーフィルタ基板に着色不良部分があった場合に、不良箇所のみにカラーフィルタ材料を吐出させる構成が知られている（特許文献 2)。

特許文献 1 :特開 2003— 191462号公報（平成 15年 7月 8日（2003. 7. 8)公開）特許文献 2 :特開 2003— 66218号公報（平成 15年 3月 5日（2003· 3. 5)公開）発明の開示

[0008] し力しながら、特許文献 1に記載のラインヘッド方式により、特許文献 2に示されてレ、るカラーフィルタ基板の修復を実施しょうとすると、以下のような問題を生じる。

[0009] カラーフィルタ基板に点在する欠陥（不良箇所）を修正する手段としてラインヘッド方式を用いると、基板全面に液滴を吐出させるのと同一の処理時間を要する上に、殆どが吐出されない非動作ノズノレとなり、ノズル詰まりを発生しやすい。さらに全てのノズノレに対してメンテナンス動作を行うことが必要で、不要な廃液が増加する。また、吐出量を均一化させたい場合において、ラインヘッド方式では、点在する所望箇所に対して液滴を吐出させるだけであるにもかかわらず、合計数千個にも及ぶノズルに対して逐一吐出量補正を行うことが必要となり極めて非効率的である。

[0010] また、汎用プリンターで多用されてきたインクジェットヘッドユニットを複数個同一ガントリー上に並べて往復させる方式では、インクジェットヘッドユニットの走査距離は増加する上に、安定動作の面で走査速度にも限界があり、処理時間が短縮できない

[0011] また、大面積基板上の全面に限らず、所望の箇所に液滴を効率よく吐出させたいとレ、う要望は、カラーフィルタの修復に限らず様々な製造分野で今後求められるものである。

[0012] 以上のように、大面積基板に対応できる方式であって、点在する複数の所望箇所に効率的に液滴を吐出させることのできる装置の開発が望まれていた。そして、必須ではないものの、その装置が全面吐出にも対応できるものであることが望ましかった。

[0013] 本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことのできるインクジェット方式による液滴塗布装置を提供する。さらに、望ましくは大面積基板上の全面吐出にも対応できる上記装置を提供する。

[0014] 本発明に係る液滴吐出描画装置は、上記課題を解決するために、被記録物に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、前記保持手段と前記被記録物とを相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段とを備えたことを特徴とする。

[0015] 上記特徴により、移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段を設けたので、移動手段の移動方向を反転させることにより、移動手段による 1回の主走査では修復することができない互いに近接した 2個の吐出標的を修復することができる。

[0016] 本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記液滴吐出ユニットは、前記被記録物上に点在する複数個の吐出標的に液滴を吐出し、前記移動手段は、前記保持手段を前記被記録物に対して主走査方向に沿って等速度で相対的に移動させ、前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿って移動可能であり、前記液滴吐出ユニットは、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第 1吐出標的から第 2吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出することが好ましレ、。

[0017] 上記構成によれば、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第 1 吐出標的から第 2吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出する巡回修復アルゴリズムに従って欠陥を修復する液滴吐出描画装置において、主走査方向移動時間よりも副走査方向移動時間が長いために、 1回の主走查では修復することができなレ、 2個の吐出標的を修復することができる。

[0018] 本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段をさらに備えることが好ましい。

[0019] 上記構成によれば、事前に吐出標的の位置データを取得し、この取得した位置データに基づいて、移動方向反転手段の反転回数を決定することができる。

[0020] 本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿って前記保持手段に複数個設けられ、各液滴吐出ユニットに前記複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含むことが好ましい。

[0021] 上記構成によれば、液滴吐出ユニットは、保持手段に複数個設けられており、必要な反転回数は液滴吐出ユニット毎に異なるが、これらの液滴吐出ユニットは、一体となって主走査方向に移動するので、移動手段の反転回数を、各液滴吐出ユニットの反転回数のうちの最大の反転回数以上とすることにより、すべての吐出標的に液滴を吐出することができる。

[0022] 本発明に係る液滴吐出描画装置では、反転毎に定義される前記移動手段の移動量が一部異なることが好ましレ、。

[0023] 上記構成によれば、被記録物上の吐出標的の点在状況に応じて、移動手段を移動させて、効率的に液滴を吐出し、タクトタイムを短縮することができる。

[0024] 本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記移動手段の移動量が前記反転の度に小さくなることが好ましい。

[0025] 上記構成によれば、主走查方向への保持手段の走查を重ねるにつれて残修復箇所は減少してゆく。このため、被記録物の端力端まで保持手段を走査させる必要がなくなるので、事前マッピングで認識している必要な走査領域のみを走査することにより、タクトタイムを 40%削減することができる。

[0026] 本発明に係る他の液滴吐出描画装置は、個別に移動可能な N個（Nは整数）の液滴吐出ユニットと、前記 N個の液滴吐出ユニットと基板とを相対的に移動させる移動手段とを備え、前記基板上の（N + 1)個以上の修復箇所へ前記 N個の液滴吐出ュニットにより液滴を吐出するために、前記移動手段による移動方向を反転させることを特徴とする。

[0027] 上記特徴によれば、移動手段による移動方向を反転させることにより、液滴吐出ュニット数以上の修復箇所を修復することができる。

[0028] 本発明に係るさらに他の液滴吐出描画装置は、媒体上の複数個の吐出標的に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、前記保持手段を前記媒体に対して主走査方向に沿って相対的に移動させる移動手段とを備え、前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿つて移動可能であり、前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿った移動を停止した状態で前記吐出標的に液滴を吐出することを特徴とする。

[0029] 上記特徴によれば、媒体上の欠陥を修復する液滴吐出描画装置にぉレ、て、液滴吐出ユニットは、副走査方向の移動を停止した状態で液滴を吐出するので、液滴の吐出を安定化させることができる。

[0030] 本発明に係る液滴吐出描画装置は、以上のように、移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段を備えているので、移動手段による 1回の主走査では修復することができない互いに近接した 2個の吐出標的を修復することができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。

[0031] 本発明に係る他の液滴吐出描画装置は、以上のように、基板上の（N+ 1)個以上の修復箇所へ N個の液滴吐出ユニットにより液滴を吐出するために、移動手段による移動方向を反転させるので、液滴吐出ユニット数以上の修復箇所を修復することができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。 [0032] 本発明に係るさらに他の液滴吐出描画装置は、以上のように、液滴吐出ユニットが、副走査方向に沿った移動を停止した状態で吐出標的に液滴を吐出するので、液滴の吐出を安定化させることができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。

図面の簡単な説明

[0033] [図 1]実施の形態 1に係る欠陥修復装置の外観を示す斜視図である。

[図 2]上記欠陥修復装置の模式的断面図である。

[図 3]上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニット及び基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。

[図 4]上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの構成を説明するための図であり、（a)は、上面から見た要部構成を示し、（b)は、正面から見た要部構成を示す。

[図 5]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部側面図である。

[図 6]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた吐出ユニットスライド機構の構成を説明するための要部正面図である。

[図 7]上記液滴吐出ユニットの構成を説明するための図であり、（a)は、下面から見た構成を示し、 (b)は、下面から見た他の構成を示す。

[図 8]上記ヘッドガントリーユニット及び上記基板載置台の動作を説明するため模式的断面図であり、（a)は対象基板を処理した後の状態を示し、（b)は対象基板を受け渡すときの状態を示し、（c)は次の対象基板を受け取るときの状態を示す。

[図 9]上記欠陥修復装置に設けられたメンテナンス機構の不吐出検出器の構成を説明するための図であり、（a)は、その正面から見た構成を示し、（b)は、その下面から見た構成を示す。

[図 10]従来の欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。

[図 11]上記欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。園 12]上記欠陥修復装置のシステム構成を示すブロック図である。

園 13]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの不吐出検出の概略手順を示すフローチャートである。

園 14]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの不吐出検出の詳細手順を示すフローチャートである。

園 15]上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットのメンテナンス動作と基板搬出入動作との手順を示すフローチャートである。

園 16]上記欠陥修復装置の液滴吐出制御ユニットを説明するためのブロック図である。

園 17]上記液滴吐出制御ユニットの動作を説明するためのフローチャートである。園 18]本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法によるインクの吐出順路を示す模式図である。

園 19]本実施の形態の液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する態様を示す図である。

[図 20]本実施の形態の液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する他の態様を示す図である。

園 21]画素に対する本実施の形態の液滴吐出ユニットの移動方向を示す図であり、 ( a)は上面から見た移動方向を示し、 (b)は上面から見た他の移動方向を示す。

[図 22]隣接した 2個の欠陥画素を修復するインク吐出部を示す平面図である。

[図 23]隣接した 3個の欠陥画素を修復するインク吐出部を示す平面図である。

園 24]ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するための図であり、（a)は上面から見た反転動作を示し、（b)はその反転動作を説明するためのグラフを示す。

園 25]上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための図であり、（a)及び (b) は、その上面から見たァライメント動作を示す。

園 26]上記ヘッドガントリーユニットに設けられたァライメントカメラの構成を説明するための図であり、（a)はその上面から見た要部構成を示し、（b)はその上面から見た拡大構成を示す。園 27]上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための図であり、（a)及び (b) は、その上面から見たァライメント動作を示す。

園 28]上記欠陥修復装置のァライメント動作を説明するための図であり、（a)及び (b) は、その上面から見たァライメント動作を示す。

園 29]上記欠陥修復装置のァライメント動作を示すフローチャートである。

園 30]上記欠陥修復装置に設けられた観察力メラユニットによる液滴着弾位置の計測動作を説明するための図であり、（a)及び (b)は、その上面から見た計測動作を示す。

園 31]上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの往復動作を説明するための図であり、（a)及び (b)は、その上面から見た往復動作を示す。

園 32]上記ヘッドガントリーユニットの対象基板に対する動作を説明するための図であり、（a)及び (b)は、その上面から見た対象基板に対する動作を示す。

園 33]上記液滴吐出ユニットの欠損部に対する吐出動作を説明するための図であり

、（a)〜（d)は、その上面から見た模式的吐出動作を示す。

[図 34]3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す図であり、（a)〜（c)は、その上面から見た吐出動作を示す。

[図 35]3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図であり、（a)〜（c)は、その上面から見た吐出動作を示す。

園 36]実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットを説明するための図であり、（a)は、その上面から見た構成を示し、（b)は、その動作を示す。

園 37]実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。

園 38]実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す図であり、（a)はその上面から見た構成を示し、（b)はその側面から見た構成を示す。

符号の説明欠陥修復装置 (液滴吐出描画装置）対象基板 (被記録物）

、 3R、 3G、 3B 液滴吐出ユニットa- 〜3i 液滴吐出ユニット

ヘッドガントリーユニット (保持手段）ガントリースライド機構 (移動手段）移動方向反転手段 (移動方向反転部) 反転回数決定手段 (反転回数決定部) 個別算出手段 (個別算出部）最終決定手段 (最終決定部）

0 分担決定手段 (分担決定部）

1 欠損部（吐出標的）

2 ノズル孔

3 不吐出検出器

4 判別部

5 吐出ノズル決定部

6 基体

6a メインステージ

6b、 16c サブステージ

7 基板載置台

8 メンテナンス機構

9 キャップ部材

0a, 20b, 20c ガン卜リーガイド、

1 リニアスケール

2 浮上スライド機構

3 ガントリー

吐出ユニットスライド機構

5 ァライメントカメラ 26 カメラスライド機構

27 観察力メラユニット

28 筐体

29 吐出素子

30 駆動制御回路

31 ケーブル

32a インクタンク

32b インク配管

33 ノズノレプレート

34 リニア駆動機構

35 LMガイド

36 ガントリーリニアスケール

37 リニア駆動機構

38 カメラスライド機構

39 LMガイド

40 カメラ用リニアスケール

41 レーザ発光素子

42 レーザ受光素子

43 ァライメントマーク

43a 外側円環部

43b 内側円部

44 ダミー基板

45 液滴着弾位置

46 領域

47R、47G、47B 画素

発明を実施するための最良の形態

本発明の一実施形態について図 1ないし図 38に基づいて説明すると以下の通りである。 [0036] (実施の形態 1)

<装置全体の構成説明 >

図 1は、実施の形態 1に係る欠陥修復装置 (液滴吐出描画装置） 1の外観を示す斜視図である。図 2は、欠陥修復装置 1の模式的断面図である。

[0037] 欠陥修復装置 1は、基体 16を備えている。欠陥修復装置 1には、基体 16上に搭載されて基板搬入及び搬出時に移動する基板載置台 17と、基板載置台 17の上方を該基板載置台 17に接触することなく横断しているヘッドガントリーユニット 4とが設けられている。ヘッドガントリーユニット 4は、基体 16に連結しているガントリースライド機構 5により、一方向（図 1の Y方向に平行な方向）に沿って往復移動できる構成となつている。

[0038] ヘッドガントリーユニット 4の側面には、複数個の液滴吐出ユニット 3が設けられている。各液滴吐出ユニット 3は、ヘッドガントリーユニット 4の移動方向（図 1の Y方向に平行な方向）とは異なる方向（図 1の X方向に平行な方向）に液滴吐出ユニット 3を移動させることのできる吐出ユニットスライド機構 24の上に搭載されている。吐出ユニットスライド機構 24上に搭載された液滴吐出ユニット 3は、吐出ユニットスライド機構 24上の移動可能領域の範囲内で、ヘッドガントリーユニット 4の移動方向と異なる方向（図 1 の X方向に平行な方向）にスライド可能となっている。

[0039] 液滴吐出ユニット 3は、ヘッドガントリーユニット 4の側面に、複数個（図 1では 9個）搭載され、それぞれに個別の吐出ユニットスライド機構 24を有している。そして、複数の液滴吐出ユニット 3は、それぞれの吐出ユニットスライド機構 24上を、欠陥修復装置からの制御指令に基づいて、個別に独立して図 1の X方向に平行な方向にスライドする。

[0040] また、液滴吐出ユニット 3は、その下側にヘッド吐出面を有している。ヘッド吐出面は、基板載置台 17に略平行であって、かつ、ヘッド吐出面には液滴を吐出するためのノズル孔が形成されている。液滴吐出ユニット 3は、欠陥修復装置からの制御指令に基づいて、基板載置台 17上に載置した対象基板にヘッド吐出面から液滴を滴下する。

[0041] 装置基体 16上には、基板載置台 17の他に、液滴吐出ユニット 3に対して、非使用時に吐出面をキャップする機構、不良吐出口を検出する機構、不良吐出口を回復する機構、などを有するメンテナンス機構 18が設けられている。メンテナンス時は、ガントリースライド機構 5により、ヘッドガントリーユニット 4が、メンテナンス機構 18の直上に移動し、液滴吐出ユニット 3に対して各種メンテナンス動作を行う。

[0042] ぐ装置基体 16の説明 >

装置基体 16の構成について図 2を用いて説明する。

[0043] 装置基体 16は、中央に位置するメインステージ 16aを有しており、メンテナンス機構

18を有するサブステージ 16cと、サブステージ 16bとをメインステージ 16aの両脇に機械的に連結している。

[0044] メインステージ 16aは、御影石製の高精度のステージであり、液滴吐出ユニット 3から基板載置台 17上の対象基板に向けて液滴が吐出される間は、基板載置台 17を正確に固定するものである。

[0045] サブステージ 16cは、メンテナンス機構 18を搭載するもので、メインステージ 16aに比べ精度良く製造する必要はない。

[0046] サブステージ 16bは、基板載置台 17上に基板を搬入、または基板載置台 17上から基板を搬出する際に、基板載置台 17を装置端部に移動させる際に使用するステージである。

[0047] それぞれのステージには、メインステージ用ガントリーガイド 20a、及びサブステージ用ガントリーガイド 20b ' 20cがそれぞれ搭載されており、ガントリーガイド 20a ' 20b ' 2 Ocは、ヘッドガントリーユニット 4が異なるガントリーガイド 20a ' 20b ' 20c間を跨いで自由にスライドできるように、それぞれの間に繋ぎ目を有しつつ連結されている。

[0048] 図 1では、ヘッドガントリーユニット 4は、浮上スライド機構 22とガントリースライド機構 5との間で常時エアー浮上しており、ガントリースライド機構 5上の磁石式リニアスケーノレ 21と'浮上スライド機構 22との間のリニアモータ制 ί卸により、ヘッドガントリーユニット 4の移動を可能としている。

[0049] そして、ガントリースライド機構 5及びリニアスケール 21は、ヘッドガントリーユニット 4 がそれぞれのステージ 16a ' 16b ' 16cを跨って自由に移動できるよう連続的に構成されている。また、装置基体 16の地面側には図示しない従来技術の除振機構が設けられている。

[0050] <基板載置台 17の説明 >

基板載置台 17の上面には、図示しない微小な孔が複数形成されており、その孔の全てが図示しない吸引/送風機構に連結され、吸引 Z送風制御を行うことにより、基板載置台 17上に載置された対象基板の吸着固定、もしくは基板載置台 17からの対象基板の解放を行うことが可能となっている。

[0051] 図 3は、欠陥修復装置 1に設けられたヘッドガントリーユニット 4及び基板載置台 17 の動作を説明するための模式的断面図である。基板載置台 17は、装置基体 16上に設けられた図示しないスライドレール上をリニアモータ制御により移動することが可能であり、基板搬入若しくは基板搬出時には、図 3に示すように基板載置台 17は、矢印 rlの方向に沿ってメンテナンス機構 18と反対方向の装置端部に移動する。

[0052] さらに、基板載置台 17には、図示しない Θ回転機構が内在しており、スライドレール上をリニアモータ制御により一方向に移動することが可能となっており、また、載置した基板を面内方向に自在に回転させることが可能となっている。

[0053] さらに、基板載置台 17は、スライドレールと直交する方向にも微調移動できる機構を有している。また、基板載置台 17の上面は、平坦性が良い石定盤によって形成されており、液滴吐出ユニット 3の吐出面と平行である。

[0054] くヘッドガントリーユニット 4の説明〉

図 4の（a)は、ヘッドガントリーユニット 4の構成を説明するための Z方向から見た要部平面図であり、図 4の（b)は、 X方向から見た要部正面図である。ヘッドガントリーュニット 4の構成について、図 4の（a)、図 4の（b)を参照して説明する。

[0055] ヘッドガントリーユニット 4は、一対のガントリー 23を浮上スライド機構 16により連結した構成となっている。ガントリー 23の一方の装置外側に向いた側面には、液滴吐出ユニット 3及び吐出ユニットスライド機構 24が複数個設けられている（図 1に示す例では 4ユニット）。

[0056] その反対面で、かつ 2本のガントリー 23の間に位置する部分には、基板の面内回転制御用のァライメントカメラ 25が 2台固定設置されている。図 4の（a)、図 4の（b)では 1台のみ図示されているが、同等のカメラ 25が図 4の（a)の上方にさらに一台設置されている。

[0057] ガントリー 23の他方は、装置外側に向いた側面に、ガントリー 23の一方と同様に液滴吐出ユニット 3及び吐出ユニットスライド機構 24とを複数有する（図 1に示す例では 5ユニット）。その反対面で、かつ 2本のガントリー 23に挟まれた部分に、観察用カメラユニット 27が、観察用カメラユニット 27をガントリー 23の長手方向に移動可能にするカメラスライド機構 26を介して移動可能に取り付けられている。

[0058] くガントリースライド機構 5の説明〉

ガントリースライド機構 5は、浮上スライド機構 16との間でヘッドガントリーユニット 4をエアー浮上させるとともに、浮上スライド機構 16との間のリニア駆動制御により、欠陥修復装置 1本体からの制御信号に従って、ヘッドガントリーユニット 4を図 1の Y方向に平行な方向に沿って任意の位置に移動させることが可能である。

[0059] <液滴吐出ユニット 3の説明 >

図 5は、液滴吐出ユニット 3の構成を説明するための図 1の Y方向から見た要部側面図である。液滴吐出ユニット 3は、ヘッドガントリーユニット 4上に設置された吐出ュニットスライド機構 24に搭載されており、矢印 r3方向に沿ってそれぞれ独立して移動可能である。

[0060] 液滴吐出ユニット 3は、吐出素子 29と、駆動制御回路 30と、電気接続ケーブル 31 と、インクタンク 32aと、インク配管 32bと、それらを収納する筐体 28とを有している。筐体 28が、吐出ユニットスライド機構 24上をスライドする。

[0061] 吐出素子 29の基板載置台 17の上面との平行面には、ノズノレプレート 33が接着されており、ノズルプレート 33には複数のノズノレ孔 12が形成されている。このノズル孔 12の直径は、 10〜20 μ πιである。

[0062] 吐出素子 29は、圧電体基板に複数のインク室となる溝を形成した後、隔壁側面の一部に電極を形成して、隔壁の両側面の間に電界を印加して隔壁自体をせん断変形させて吐出エネルギーを発生させる公知の構成を使用した。駆動制御回路 30は、図示しないケーブルにより、図示しない駆動制御システムに接続されて吐出制御が行われる。基板載置台 17上に対象基板を載置した場合、ノズルプレート 33の最下面である液滴吐出面と対象基板の上面との間の隙間は、 0. 5〜： 1mmになるように予め調整されている。

[0063] <吐出ユニットスライド機構 24の説明 >

図 6は、吐出ユニットスライド機構 24の構成を説明するための図 1の X方向から見た要部正面図である。図 6を参照して吐出ユニットスライド機構 24の構成を説明する。

[0064] 吐出ユニットスライド機構 24は、 2歹 IJの LMガイド 35 (株式会社 THK製）と、 2列の L Mガイド 35の間に設置したガントリーリニアスケール 36からなり、液滴吐出ユニット 3 に取り付けられているリニア駆動機構 34を駆動制御することで、図 1の X方向に平行な方向（図 6において紙面に垂直な方向）の所定の位置に液滴吐出ユニット 3を摺動させることが可能である。リニアスケール 36は、小型の N極及び S極の永久磁石を交互に規則配列させたものである。

[0065] リニア駆動機構 34は、交流制御で N極及び S極を自在に発生できるものであり、リユアスケール 36とリニア駆動機構 34との間の磁石力により吐出ユニットスライド機構 2 4上の液滴吐出ユニット 3の位置制御を可能としている。なお、 LMガイド 35の有効移動ストロークは 250mmであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール 36は設置されている。吐出ユニットスライド機構 24による液滴吐出ユニット 3の摺動は、基板載置台 17の上面と、液滴吐出ユニット 3の液滴吐出面であるノズルプレート 33との間のギャップが常に一定となるように予め調整されている。このギャップは、例えば 0. 2mm以上 0. 8mm以下に調整される。一般にこのギャップを 0. 2mm以下に設定すると、基板面にヘッドが接触して装置を故障させる可能性が高まるとともに、液滴を基板へ着弾させたときに生じる微小な跳ね返り滴がノズノレ面に到達し、ノズル面上に蓄積されて結果的に大滴化してしまう恐れがある。一方、 0. 8mm以上とすると、液滴が飛翔する時に風の影響を受け、着弾精度が悪化する。なお、他のガントリー 23の側面に設けられている吐出ユニットスライド機構 24も同様の構成であるため説明を除く

[0066] くカメラスライド機構 38の説明〉

カメラスライド機構 38の構成を、図 6を用いて説明する。観察力メラユニット 27は、ガントリースライド機構 5に設けられた Y方向に平行な方向の情報取得機能と、カメラスライド機構 38に設けられた X方向に平行な方向の情報取得機能とにより、ァライメントマークに対する対象基板のアドレス情報を出力することが可能である。観察力メラュニット 27は、主に液滴吐出ユニット 3から基板上に着弾した液滴の着弾画像を観察し、それぞれの液滴吐出ユニット 3の吐出状態、若しくはァライメントマーク基準の着弾位置のアドレスを出力することができる。

[0067] 観察力メラユニット 27で得た着弾位置座標を用いて、それぞれの液滴吐出ユニット 3について、 Y方向に対しては吐出タイミングの補正により、 X方向に対しては吐出ュニットスライド機構 24の移動量の補正により、対象基板上の所望の位置に液滴を着弾させることができる。

[0068] カメラスライド機構 38は、前述の吐出ユニットスライド機構 24と同様に、 2列の LMガイド 39 (株式会社 THK製）と、 2列の LMガイド 39の列間に設置したカメラ用リニアスケール 40とからなり、観察力メラユニット 27に取り付けられているリニア駆動機構 37を駆動制御することで、図 1の X方向（図 6における紙面に垂直な方向）の所定の位置に観察力メラユニット 27を移動させることが可能である。なお、 LMガイド 39の有効移動ストロークは 2500mmであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール 40 は設置されている。

[0069] <ノズノレ列の配列 >

図 7の（a)は、液滴吐出ユニット 3の構成を説明するための要部下面図であり、図 7 の（b)は、他の構成の液滴吐出ユニット 3aを説明するための要部下面図である。液滴吐出ユニット内のノズノレ孔の配列を図 7の（a)、図 7の（b)を用いて説明する。図 7 の（a)は、 1種類の液体を吐出する液滴吐出ユニット 3を複数搭載した装置を示す。ヘッドガントリーユニット 4には、吐出ユニットスライド機構 24を介して、液滴吐出ュニット 3が矢印 X方向（図 1)に移動可能に取り付けられている。液滴吐出面であるノズルプレート 33に形成されたノズノレ孔 12は一列に配列し、矢印 Bに対して直角な方向から数度傾いている。配列しているノズル孔 12からは全て同一の液滴材料が吐出する

[0070] 図 7の（b)は、 3種類の液体を吐出するノズルプレートを複数搭載した液滴吐出ュニット 3aを有する装置を示す。液滴吐出ユニット 3aには、第一の液滴材料を吐出するノズル孔 12Rの歹 1J、第二の液滴材料を吐出するノズル孔 12Gの歹 IJ、及び第三の液滴材料を吐出するノズル孔 12Bの列を有し、それぞれのノズノレ孔列が方向 Bに対して直角な方向力数度傾いており、それぞれの列の B方向への投影領域はほぼ一致するように構成されている。また、それぞれのノズル孔列は、液滴吐出ユニット 3a内で B方向に微小に移動可能となってレ、てもよレ、。

[0071] A方向からのノズル孔列の傾きを Θとし、ノズノレピッチを pとすると、 B方向に投影したノズノレピッチ Qは、

Q = p X sin θ、

となるため、実際のノズルピッチに比べて Β方向のピッチ Qを高密度化できる利点がある。ピッチ Qを高密度化することで、複数のヘッドを組み合わせて 1つのユニットを作製する際に、各ヘッドの位置合わせを厳密に行わなくとも、少なくともピッチ Qの精度以内で配列させることが可能となる。

[0072] なお、 100〜200DPI ( 1インチ幅に 100〜200個の孔が等ピッチで配歹 IJ)のノズノレ孔ピッチで、 1吐出素子あたり 20〜80孔の吐出素子を Θ = 3〜： 10° 傾斜させて用いることが好ましぐこれは、吐出素子あたりの孔数が小さいほど、複数の素子を配列させてなる液滴吐出ユニットの全幅が小さくなり、不能領域が小さくすることができるためである。また、製造コストが安価な 100〜200DPIの吐出素子を Θ = 3〜： 10° の範囲で傾斜させることにより、複数の吐出素子間の位置合わせを厳密に行わなくても、一度、試験吐出を行って吐出タイミング制御を行えば、 B方向に投影したノズルピッチを 5〜35 /i mにまで高密度化でき、カラーフィルタや、有機 EL表示装置などの、画素サイズよりも高密度の配列を実現することができる。

[0073] <基板搬入動作の説明 >

図 8の（a)〜図 8の（c)は、ヘッドガントリーユニット 4及び基板載置台 17の動作を説明するための図 1の X方向から見た模式的断面図である。

[0074] 従来技術では、同一基板上の有効画素部以外の領域に、インクのダミー吐出を行うことにより、不吐出検查を行っているのに対し、本実施の形態の欠陥修復装置は、不吐出検出器を含むメンテナンス機構 18を、基板に塗布処理を行う領域以外の領域であるサブステージ 16cに設けた構成を有している。

[0075] 図 8の（a)は対象基板 2を処理した後の状態を示す。基板処理後は図 8の（b)に示すように、欠陥修復装置の基板載置台 17は矢印 rlの方向に沿って紙面左側（サブステージ 16b側）にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット 4は、矢印 r2の方向に沿ってメンテナンス機構 18の直上に移動する。そして、基板載置台 17は、処理済の対象基板 2の吸着を解放した後に、図示しない搬送ロボットに受け渡す。その後、搬送ロボットは次の対象基板 2aを基板載置台 17に載せる。そして、載せられた対象基板 2aは、即座に基板載置台 17にエアー吸着され、基板載置台 17は図 8の（c)の矢印 r4に示す方向に沿って元の位置（図 8の（a)に示す位置）に戻る。

[0076] 基板載置台 17から対象基板 2が搬出され、次の対象基板 2aが搬入されて、基板載置台 17が元の位置に戻る間に、並行して液滴吐出ユニット 3に対して、通常のメンテナンス動作が行われる。メンテナンス動作では、ヘッドガントリーユニット 4は、メンテナンス機構 18上に移動し、移動を完了した後はメンテナンス作業を行う。具体的には、液滴吐出ユニット 3のノズノレプレート面は、図 8の（b)に示すように、ゴム製のキャップ部材 19によりキャップされる。また、キャップされた後、キャップ部材 19の底部にある通気口より負圧吸引されて、ノズルプレートのノズノレ孔から液を強制排出することによりノズノレ孔のダスト等を除去する。その後、ノズルプレート面を図示しないワイプブレードでワイプする。そして、後述する不吐出検出器により、ノズル孔からの吐出状態をチェックする。これら一連のメンテナンス動作の順序は、前述した順序と異なっていても良い。

[0077] 新たな対象基板 2aが載置された基板載置台 17と、液滴吐出ユニット 3のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット 4とは、ほぼ同時に図 8の（c)に示す矢印 r 4 'r5の方向にそれぞれ移動し、図 8の（a)に示す位置に到達する。

[0078] <メンテナンス動作の説明 >

基板の搬出及び搬入を実行する間、または基板への液滴吐出動作を長期間実施しないときは、液滴吐出ユニット 3に対してメンテナンス動作を実行する。このメンテナンス動作は、不吐出検出動作と、キャップ動作と、キャップ内吸引パージ動作と、ワイビング動作とを含む。先の対象基板を処理した後に、次の対象基板の処理を直ちに行う場合、先の対象基板の搬出動作の命令が与えられるのと同時に、液滴吐出ュニット 3を搭載したヘッドガントリーユニット 4は、メンテナンス機構 18の直上への移動命令が与えられる。

[0079] 図 9の（a)は、不吐出検出器 13の構成を説明するための図 1の X方向から見た正面図であり、図 9の（b)は、図 1の Z方向から見たその下面図である。メンテナンス機構 1 8は、レーザー発光素子 41とレーザー受光素子 42とを有する不吐出検出器 13を有している。この不吐出検出器 13は、液滴吐出ユニット 3a毎に設置されている。

[0080] 図示しないレーザー発光回路に接続されたレーザー発光素子 41は、不吐出検出の指令を受けると、レーザー受光素子 42に向けてレーザー光を連続的に照射する。レーザー受光素子 42に接続された受光量計測回路は、通常の受光量を記憶している。レーザー照射方向は、図 9の（a)、図 9の（b)に示すように基板面及びノズルプレート 33 ( .33R.33G.33B)の表面に略平行で、かつノズノレ孔 12R' 12G' 12Bの列に略平行である。レーザー光は直径 lmmであり、一つの液滴吐出ユニット 3aの全てのノズノレ孔 12R' 12G' 12Bから吐出される液滴は、このレーザー光軸内を通過するように配置されている。

[0081] レーザー発光素子 41及びレーザー受光素子 42は、微動機構を有しており、万一レーザー光軸内を液滴が通過しない場合は、位置を調整する。まず初めに第一番目のノズル孔 12R力液滴を一定時間吐出させて受光量計測回路からの光量を読み取り、通常の受光量と比較して、遮光量を計測し、その値が予め設定した設定値の範囲内にあるか判断し、設定値の範囲内の場合は正常吐出とみなし、それ以外は吐出不良とみなす。

[0082] 次に 2番目、 3番目と順次同様の吐出制御及び遮光量計測を行い、液滴吐出ュニット 3aの全てのノズル孔 12R' 12G' 12Bについて、吐出不良の有無を確認する。吐出不良が無ければ、液滴吐出ユニット 3aをキャップ位置に移動させて、基板搬入動作が完了する直前までキヤッビングを行う。

[0083] 吐出不良がある場合、従来技術で行われている回復動作を実行する。例えば、液滴吐出ユニット 3aをキャップ位置に移動させ、そして、キヤッビングし、次に、キャップを負圧に引いてノズノレ孔から強制排出させ、その後、キャップ解除して、ワイビングを行い、再度、不吐出検出を行う。

[0084] この不吐出検出と回復動作とを、吐出不良が無くなるまで数回を限度に繰り返して実行する。そして、吐出不良が回復しない場合は、その旨を欠陥修復装置に出力する。なお、先の対象基板を処理する直前の不吐出検出結果と、先の対象基板を搬出中に行う不吐検出結果とを比較して、吐出状態に変化が認められる場合には、先の対象基板の処理が不適として廃棄する力 \修復工程に回すことができる。

[0085] 図 10は、従来の欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。図 11は、本実施の形態に係る欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。

[0086] 本実施の形態に係る欠陥修復装置のように、不吐出検出器を含むメンテナンス機構 18を、基板に塗布処理を行う領域以外の領域であるサブステージ 16cに設けて構成することにより、基板のロードと不吐出検査とをほぼ同時に行うことが可能となり、基板処理のタクトタイムが短縮できることを、図 10 ·図 11に示すタイムチャートに従って、以下に説明する。

[0087] まず、従来技術では、図 10に示すように、基板搬出指令（P1)が出た後に、同図のように、基板載置台 17が移動を開始する（P2)。この時、メンテナンス機構は、次の基板が新たに搬入されるまで、動作に入れないために、待機状態となっている。

[0088] そして、基板載置台 17の移動が完了した後、基板吸着が解除されて（P3)、基板が搬出される（P4)。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

[0089] 基板が搬出された後、次の基板が基板載置台 17の上に新たに搬入されて (P5)、さらに同図のように、次の基板が基板載置台 17の上に吸着される（P6)。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

[0090] 次の基板が吸着された後、基板載置台 17が移動を開始する（P7)。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

[0091] 基板載置台 17が移動した後、最初の画素を着色する前に、液滴吐出ユニットは同一基板上の有効画素部以外の領域にインクのダミー吐出を行い、不吐出検查を行う (P8)。このように従来の構成では、基板上でなければ、不吐出検査ができないために、メインステージ 16a上の基板載置台 17に基板が存在しなレ、搬出'搬入中はメンテナンス機構が動作に入れず待機状態となっている。

[0092] そして、次の基板を載置した基板載置台 17が移動した後、次の基板処理の前に、メンテナンス動作を行うために、図 10に示すメンテナンス時間 Tmlは、基板処理のタタトタイムとして加算される。

[0093] 次に、本実施の形態に係る基板処理のタイムチャートを図 11に従って説明する。基板処理後に、基板搬出指令 (P1)と不吐検出指令 (メンテナンス指令）（P11)とを同時に発令する。そして、基板載置台 17の移動（P2)とヘッドガントリーユニット 4の不吐出検出位置への移動 (P12)とが同時に開始する。

[0094] 図 8の（b)に示すように、欠陥修復装置の基板載置台 17は矢印 rlの方向に沿って紙面左側にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット 4は、矢印 r2の方向に沿ってメンテナンス機構 18の直上に移動する。本実施の形態の欠陥修復装置の構成のように、不吐出検出器を含むメンテナンス機構 18を、基板に液滴吐出処理を行う領域以外の領域に設けることにより、このような並行動作が可能となる。

[0095] そして、液滴吐出処理済の対象基板の吸着を解放する（P3)。その後、図示しない搬送ロボットに対象基板を受け渡して搬出する（P4)。

[0096] 次に、搬送ロボットは、次の対象基板を基板載置台 17に載せる（P5)。そして、基板載置台 17に載せられた次の対象基板は、即座に基板載置台 17にエアー吸着される (P6)。その後、次の対象基板を載せた基板載置台 17は元の位置（図 8の（a)の位置 )に戻る。

[0097] 図 11に示す (P3) · (P4) · (P5) · (P6) · (P8)のように、基板載置台 17から対象基板が吸着解除'搬出され、新たな対象基板が搬入されて、基板載置台 17によって吸着されるまでの間に、並行して液滴吐出ユニット 3は、通常の不吐出検出を含むメンテナンス動作が行われる。したがって、従来のメンテナンス時間（図 10の Tml)に比ベて、メンテナンス時間（図 11の Tm2)を長く取ることができ、十分な検查を行うことができる。

[0098] ヘッドガントリーユニット 4は、メンテナンス機構 18の上に移動し（P12)、移動を完了後に、不吐出検出を含むメンテナンス作業を行う（P8)。図 8の（a)、図 8の（b)、図 8の（c)に示すように、メンテナンス機構 18は、基板処理を行う領域が設けられたメインステージ 16aを挟んで、搬送ロボットにより基板を搬出入するサブステージ 16bと反対側の領域に存在する。不吐出検査では、ダミー吐出により液滴が周囲へ飛散する恐れがあるため、基板と離れたサブステージ 16c上の位置でダミー吐出を行うことで、基板汚染を防止する効果がある。

[0099] メンテナンス機構 18は、レーザー発光機能とレーザー受光機能とを有する不吐出検出器を有している。この不吐出検出器は、各液滴吐出ユニット毎に設置されている。各液滴吐出ユニットの不吐出検出は、液滴吐出ユニット毎に設置された不吐出検出器により並行して行う。これにより、各液滴吐出ユニットの不吐出検査にかけられる時間が増えるために、十分な不吐出検査を行うことができる。

[0100] 新たに搬入された次の基板が基板載置台 17によって吸着される（P6)までの間に、液滴吐出ユニット 3のメンテナンス動作 (P8)が完了する。したがって、従来技術と比ベ、メンテナンス時間（図 10の Tml)だけ、タクトタイムを短縮することができる。

[0101] 図 11に示す (P7) (P13)のように、次の対象基板が搭載された基板載置台 17と、液滴吐出ユニット 3のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット 4とは、ほぼ同時に図 8の（c)に示す矢印 r4 'r5方向に移動し、図 8の（a)に示す位置に到達する。基板載置台 17とヘッドガントリーユニット 4とが図 8の（a)に示す位置に戻るタイミングが同時になるようにメンテナンス時間を調整することで、最も効果的にタクトアップを図り、かつメンテナンス時間を長くとることができる。

[0102] 図 12は、本実施の形態に係る欠陥修復装置 1のシステム構成を示すブロック図である。欠陥修復装置 1は、基板処理指令制御ユニット 48と、ガントリースライド機構制御ユニット 44と、メンテナンス機構制御ユニット 45と、基板搬送機構制御ユニット 46と、基板搬出入機構制御ユニット 47と、ァライメント動作指令制御ユニット 49とを備えている。

[0103] 欠陥修復装置 1には、吐出ノズノレ決定部 15が設けられている。吐出ノズル決定部 1 5は、対象基板 2に点在する欠陥の位置データに基づいて、液滴吐出ユニットのノズルの中から、液滴を対象基板 2上の欠陥に吐出するノズルを決定する。メンテナンス機構制御ユニット 45は、判別部 14を有している。判別部 14は、吐出ノズル決定部 15 によって決定されたノズルの不吐出検出器 13による不吐出の検出結果に基づいて基板不良の有無を判別する。

[0104] ガントリースライド機構制御ユニット 44は、移動方向反転部 6を有している。移動方向反転部 6は、ガントリースライド機構 5の移動方向を反転させる。

[0105] ガントリースライド機構制御ユニット 44には、反転回数決定部 7が設けられている。

反転回数決定部 7は、欠損部の位置データに基づいて、移動方向反転部 6の反転回数を決定する。反転回数決定部 7は、個別算出部 8を有している。個別算出部 8は、欠損部の位置データに基づいて、移動方向反転部 6による反転回数を各液滴吐出ユニット 3毎に個別に算出する。反転回数決定部 7には、最終決定部 9が設けられている。最終決定部 9は、個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を、移動方向反転部 6による反転回数として決定する。

[0106] 基板処理指令制御ユニット 48は、基板への液滴吐出処理が完了すると、ガントリースライド機構制御ユニット 44に設けられた移動指令部 44aと、基板搬送機構制御ュニット 46に設けられた移動開始部 46aとに、基板処理指令を与える。

[0107] そして、移動指令部 44aは、ガントリースライド機構 5をメンテナンス機構 18の上に移動させる。次に、メンテナンス位置移動確定部 44bは、ガントリースライド機構 5がメンテナンス機構 18の上に到達したことを確認して、メンテナンス機構制御ユニット 45 に設けられた不吐出検出開始部 45aに通知する。

[0108] その後、不吐出検出開始部 45aは、不吐出検出器 13により各液滴吐出ユニット 3 の不吐出検出を開始する。そして、不吐出データ処理部 45bは、不吐出検出器 13による各液滴吐出ユニット 3の不吐出検出データを処理する。次に、回復動作指令部 4 5cは、不吐出検出器 13により不吐出が検出された液滴吐出ユニット 3の回復動作の実行を指令する。その後、キャップ指令部 45dは、液滴吐出ユニット 3のノズル孔をキャッビングするキャップ指令を発行する。そして、キャップ時間管理部 45eは、液滴吐出ユニット 3のノズノレ孔をキヤッビングしているキャップ時間を管理する。次に、キヤップ解除指令部 45fは、キャップ時間が経過した後、キヤッビングを解除するための指令を、ガントリースライド機構制御ユニット 44に設けられた移動指令部 44cに与える。

[0109] その後、移動指令部 44cは、ヘッドガントリーユニット 4をァライメント位置に移動させる。そして、ァライメント位置移動確定部 44dは、ヘッドガントリーユニット 4がァライメント位置に到達したことを確認してァライメント動作指令制御ユニット 49に通知する。

[0110] 基板処理指令制御ユニット 48から基板処理指令を与えられた基板搬送機構制御ユニット 46の移動開始部 46aは、対象基板を載置した基板載置台 17をサブステージ 16b側に移動させる。そして、停止位置検出部 46bは、基板載置台 17がサブステージ 16b側の搬出位置に到達して停止したことを検出する。次に、吸着解除部 46cは、基板載置台 17による対象基板の吸着を解除して、基板搬出入機構制御ユニット 47 に設けられた搬出指令部 47aに通知する。

[0111] 搬出指令部 47aは、基板載置台 17上の対象基板のロボットによる搬出を指令する。そして、搬出確定部 47bは、対象基板が搬出されたことを確認する。次に、搬入指令部 47cは、次の対象基板のロボットによる基板載置台 17上への搬入を指令する。その後、搬入確定部 47dは、次の対象基板が基板載置台 17上に搬入されたことを確認して、基板搬送機構制御ユニット 46に設けられた吸着指令部 46dに通知する。

[0112] 吸着指令部 46dは、次の対象基板の基板載置台 17への吸着指令を発行する。そして、移動開始部 46eは、対象基板を吸着した基板載置台 17をメインステージ 16a 側に移動させる。次に、停止位置検出部 46fは、基板載置台 17のメインステージ 16a 上の所定の停止位置を検出して基板載置台 17を停止させる。その後、所定位置停止確定部 46gは、基板載置台 17が所定の停止位置に到達して停止したことを確認してァライメント動作指令制御ユニット 49に通知する。

[0113] ァライメント動作指令制御ユニット 49は、ァライメント位置移動確定部 44dからの通知と所定位置停止確定部 46gからの通知とを受け取ると、ァライメント動作を指令するァライメント動作指令を発行する。

[0114] <不吐出検出の手順 >

図 13は、液滴吐出ユニットの不吐出検出の概略手順を示すフローチャートである。まず、液滴吐出ユニットの不吐出検出の基本的概念を説明する。欠陥修復装置は、液滴吐出ユニットが基板上に液滴を吐出する基板処理の前に各液滴吐出ユニットの不吐出を検出する処理前不吐出検出器と、基板処理の後に各液滴吐出ユニットの不吐出を検出する処理後不吐出検出器とを備えている。本実施の形態に係る欠陥修復装置 1の不吐出検出器 13のように、処理前不吐出検出器と処理後不吐出検出器とは、同一の不吐出検出器によって構成することが好ましい。

[0115] まず、液滴吐出ユニットを、処理前不吐出検出器に移動させる（ステップ S21)。そして、処理前不吐出検出器により、液滴吐出ユニットに形成された各ノズノレの不吐出検出を行う（ステップ S22)。次に、液滴吐出ユニットにより、基板上に点在する欠陥に液滴を塗布する（ステップ S23)。その後、液滴吐出ユニットを、処理後不吐出検出器に移動させる（ステップ S24)。そして、処理後不吐出検出器により、液滴吐出ュニットの各ノズノレの不吐出検出を行う（ステップ S25)。

[0116] 次に、処理前不吐出検出器による各ノズノレの不吐出検出結果と、処理後不吐出検出器による各ノズノレの不吐出検出結果とを比較する (ステップ S26)。比較結果が一致しない場合には、比較結果が一致しなかったノズノレが異常であると判断し (ステツプ S28)、液滴を塗布した基板を修復（リペア）工程に搬送する。比較結果が一致した場合には、ノズルは正常であると判断し (ステップ S27)、次の処理工程に基板を搬送する。

[0117] 図 14は、液滴吐出ユニットの不吐出検出の詳細手順を示すフローチャートである。

この図 14は、基板載置台 17側の動き（フローチャート左側）と、ガントリーユニット 10 の動き（フローチャート右側）とに分かれている。 N— 1番目（Nは 2以上の整数）の基板の塗布処理が完了した時点 (ステップ S51)で、 N—1番目の基板は搬出されて、その後、次の N番目の基板が基板載置台 17に載置されて所定位置まで移動する (ステツプ S64からステップ S70)。具体的には、 N— 1番目の基板の搬出指令が発行されると（ステップ S64)、基板載置台 17は、サブステージ 16b側に移動し (ステップ S6 5)、基板の吸着を解除して (ステップ S66)、 N— 1番目の基板を搬出する（ステップ S 67)。そして、次の次の N番目の基板を基板載置台 17上に搬入し (ステップ S68)、この次の N番目の基板を吸着して (ステップ S69)、基板載置台 17は、メインステージ 1 6a上の定位置に移動する（ステップ S70)。

[0118] 一方、液滴吐出ユニット 3を搭載したガントリーユニット 4は、不吐出検出指令を受け

(ステップ S52)、その後メンテナンス機構 18の直上まで移動する。（ステップ S53)。

[0119] そして、 N—1番目の不吐出検出を実行する（ステップ S54)。不吐検出の方法は、前述したとおりである。この不吐出検出では、ノズノレの全数について吐出の有無を観測し、不吐出のノズル番号を記憶手段に記憶させる（ステップ S55)。吐出ノズル決定部 15 (図 12)は、処理基板（ここでは N番目の基板）について、予め決定している塗布データに基づいて吐出させるべきノズノレ番号、そのノズノレ番号ごとの吐出タイミング及び吐出量を決定してレ、る。

[0120] そして、不吐出のノズル番号と、吐出させるべきノズノレ番号とを照合し、吐出させるべきノズノレに不吐出がなレ、か判断する（ステップ S56)。吐出させるべきノズルに不吐出がない場合には、基板載置台 17が定位置に移動するまで、ノズノレ面をキャップして（ステップ S60)、待機させる（ステップ S61)。

[0121] 一方、吐出させるべきノズノレに不吐出がある場合には、不吐ノズル情報を元に、ステツプ S56において、第 2候補、第 3候補のノズル群を選定し、所望の位置への所望パターンの描画の可否を判断する。

[0122] 描画不可との判断が出た場合、回復動作指令が発行されて (ステップ S57)、キヤッビング、及び負圧吸引の回復動作がなされ (ステップ S58)、その後、ワイビング動作が実行される（ステップ S 59)。

[0123] そして、再度、ステップ S54の不吐出検出が実行され、ステップ S54〜S56の半 IJ断

、及び不可の場合は、ステップ S57〜ステップ S59までの動作を繰り返す。

[0124] ステップ S56による不可の判断が一定回数以上 (n回以上)繰り返されると、液滴吐出ユニットが不良と判断されて装置停止命令が出され、装置は停止して (ステップ S6

2)、液滴吐出ユニットの交換が実施される。

[0125] なお、ステップ S56による不可の判断 n回は、ステップ S64〜ステップ S70が行われる時間以内に、ステップ S54〜ステップ S59が実行可能な最大回数とすることで、装置を効率よく稼動させることができる。

[0126] キャップ待機している液滴吐出ユニット 3を搭載したガントリーユニットは、基板載置台 17の定位置移動 (ステップ S70)とほぼ同時期に、所定のァライメント位置まで移動する（ステップ S63)。そして、 N番目基板のァライメント動作を実行し (ステップ S71

)、 N番目基板の所定位置に液滴を塗布する作業を実行する（ステップ S 72)。ステツプ S51からステップ S72の動作を繰り返し実行することで、複数の処理基板に対して連続的に液滴を塗布することが可能となる。

[0127] 図 15は、液滴吐出ユニットのメンテナンス動作と基板搬出入動作との手順を示すフローチャートであり、不吐出検出と不吐出ノズル情報に着目したフローチャートである [0128] 複数の処理基板が連続的に処理される中、 N— 1番目、 N番目、及び N+ 1番目の処理基板に注目する。 N—1番目の基板の処理 (ステップ S31)が完了すると、最初の不吐出検出が実行される（ステップ S32)。そして、吐出すべきノズルが不吐出である場合は、 n回を限度として回復動作、不吐出検出を繰り返す (ステップ S33)。

[0129] 吐出すべきノズルに不吐出が無いとの判断が行われた場合、全ノズルの吐出/不吐出のデータである不吐出ノズル情報 Aが記憶手段に記憶される。（ステップ S34)。

[0130] ここで、ステップ S32において、吐出すべきノズノレに不吐出が無いとの判断が行われると、ステップ S32における全ノズルの吐出 Z不吐出のデータが不吐出ノズノレ情報 Aとして記憶手段に記憶される。

[0131] そして、 N番目の基板への塗布作業を行う（ステップ S35)。その後、 N番目の不吐検出の 1回目が行われる（ステップ S36)。ステップ S36において得られた全ノズノレの吐出/不吐出のデータは、不吐出ノズノレ情報 Bとして記憶手段に記憶され (ステップ S37)、不吐出ノズル情報 Aと不吐出ノズノレ情報 Bとの間で照合、比較が行われる（ステツプ S 38)。

[0132] この比較において、不吐出ノズル情報 Aと不吐出ノズノレ情報 Bとの間に差が無い場合、若しくは殆ど差が無い場合は、 N番目の基板の処理は良と判断される。

[0133] 一方、不吐出ノズル情報 Aと不吐出ノズル情報 Bとの間に大きな差が見られた場合は、 N番目の基板の処理は不良と判断する。

[0134] なお、不吐出ノズル情報 Aと不吐出ノズノレ情報 Bとの間の差による良否の判断基準は、描画パターンによって異なり、両者の間が完全一致する必要のあるもの（微小パターンを少数のノズルで受け持つ場合など）や、概ね一致してれば良いものもある。

[0135] そして、ステップ S36にて、吐出すべきノズノレが不吐出の場合は、 n回を限度として回復動作、不吐検出を繰り返す (ステップ S39)。吐出すべきノズノレに不吐出が無いとの判断が行われた場合、全ノズルの吐出 Z不吐出のデータである不吐出ノズノレ情報 Cが記憶手段に記憶される（ステップ S40)。

[0136] なお、ステップ S36において、吐出すべきノズノレに不吐出が無いとの判断が行われると、ステップ S39の全ノズノレの吐出/不吐出のデータが不吐出ノズル情報 Cとして記憶手段に記憶される。

[0137] インクジェット方式の製造装置においては、連続して基板を処理する場合、不吐出ノズノレが徐々に増加することは少なぐステップ S32及びステップ S33、ステップ S36 及びステップ S39は同一となる場合が殆どであり、この場合、不吐ノズノレ情報 B及び不吐ノズノレ情報 Cは同一となる。

[0138] そして、 N + 1番目の基板への塗布作業を行う（ステップ S41)。その後、 N+ 1番目の不吐出検出の 1回目が行われる（ステップ S42)。ステップ S42において得られた全ノズルの吐出 Z不吐出のデータは、不吐出ノズル情報 Dとして記憶手段に記憶され (ステップ S43)、不吐出ノズノレ情報 Cと不吐出ノズノレ情報 Dとの間で照合、比較が行われる（ステップ S44)。この比較において、不吐出ノズル情報 Cと不吐出ノズル情報 Dとの間に差が無い場合、若しくは殆ど差が無い場合は、 N + 1番目の基板の処理は良と判断される。

[0139] 前述したように、不吐出ノズノレ情報 Aと不吐出ノズル情報 Bとの間の差による良否の判断基準は、描画パターンによって異なるが、この判断基準の具体例を示す。例として、液晶表示装置に用いる、カラーフィルタ基板の修正を例として説明する。

[0140] カラーフィルタ基板の 1画素に欠損（ダストなどにより本来色を表示しないもの）が見られた部分については、 YAGレーザ等で欠損画素領域を矩形に除去した後、インクジェット技術で、欠損領域に液滴を滴下し、その後固化することが行われる。画素領域は、液晶表示装置の解像度、パネルサイズにより異なるが、一例として、 1色画素サイズ 300 X 100 μ m、厚み 2 β mのカラーフィルタ基板の修復について、説明する

[0141] 液滴材料の固形分 10%の液滴材料を用いると、 2 μ m厚の固形膜を形成するためには、約 10倍の液滴量を塗布したのち硬化させる必要がある。よって、 300 X 100 μ m、厚み 2 z mのカラーフィルタ基板を修復するためには、約 600plの液滴を滴下する必要があり、 1滴あたり 4plの液滴を吐出可能な液滴吐出ユニットでは 150滴を滴下する。なお、 lplとは、ピコリットル（= 10_¹²リットル）を意味する。

[0142] なお、カラーフィルタ基板は、一般に色再現性の観点から、厚みの許容値が設定されており、厚み許容値 2± 0. とすると、液滴数の許容値は概ね 150± 15滴となる。この滴下を 1ノズルで行う場合、このノズノレが不吐出だと判断されると、その基板も NG (不良）と判断される。

[0143] —方、全 15ノズルで液滴を吐出するとき、 1ノズノレ辺りの受け持ち数が均等であれば、 1ノズノレあたり 150滴の 15分の 1の 10滴を吐出することとなる。よって、この場合、使用する 15ノズル中の 1ノズルが、基板処理後に、不吐出になったと判断されても、処理された基板は良と判断されてもょレ、。

[0144] 逆に、使用前に OKであった使用ノズノレのうち、 1ノズノレでも不吐となった場合には

、上記判断とは別に NG (不良）と判断してもよぐその判断は処理後の基板の望まれる姿に依存する。

[0145] また、 3ノズノレを使用して、ノズル Aが 100滴、ノズノレ B力 S40滴、ノズル Cが 10滴を受け持つ場合、ノズノレ Cが不吐出となった場合には〇K (良）と判断してもよい（ノズル A +ノズル Bで、必要最小限である 135滴を超える 140滴を満足するため）。

[0146] また、不吐出確率が高くなるような液滴を用いる場合には、目標の液滴吐出数を多めに設定しておき、不吐出ノズノレ数の許容数を多くしてもよい。例えば、 150滴の欠損を 15ノズノレで坦める場合には、 11滴/ノズノレとして、目標値 165滴に設定しておき不良ノズルの限界数を 2ノズノレとする（そのままでは 1ノズノレのみ）。

[0147] 図 16は、欠陥修復装置 1の液滴吐出制御ユニット 50を説明するためのブロック図である。本実施の形態の液滴吐出制御ユニット 50は、情報入力部 50aと、巡回欠陥修復シーケンス処理部 50bと、インク吐出制御部 50fとを有している。上記巡回欠陥修復シーケンス処理部 50bは、データ入力部 50cと、判定部 50dと順番決定部 50eと分担決定部 10とを有している。

[0148] 本実施の形態の欠陥修復装置 1では、上記液滴吐出ユニット 3は、対象基板 2 (図 8 の（a)、図 8の（b)、図 8の（c) )に対して相対的に移動可能である。言い換えれば、本実施の形態の欠陥修復装置では、（1)固定部材によって固定された対象基板 (媒体 )に対して、移動部材によって液滴吐出ユニット 3が移動可能となっている構成、あるレ、は、（2)固定部材によって固定された液滴吐出ユニット 3に対して、移動部材によつて対象基板が移動可能になっている構成、さらには、（3)移動部材によって、液滴吐出ユニット 3および対象基板の双方が移動可能になっている構成の何れであってもよレ、。なお、固定部材ゃ移動部材の具体的構成は特に限定されるものではなぐ本発明の技術分野において公知の構成を適宜採用することができる。

[0149] 対象基板に対する液滴吐出ユニット 3の相対的な移動は、インク吐出制御部 50fによって制御される。例えば、上記（1)の構成であれば、移動部材による液滴吐出ュニット 3の移動が制御され、上記（2)の構成であれば、移動部材による対象基板の移動が制御され、上記（3)の構成であれば、移動部材による液滴吐出ユニット 3および対象基板の双方の移動が制御される。上記（1)の構成の場合は、図 12に示されるガントリースライド機構制御ユニット 44が、インク吐出制御部 50fに相当する。なお、具体的な移動の制御と、対象基板に対する液滴吐出ユニット 3の位置を決定する制御とについては、上記（1)の構成を挙げて後述する。

[0150] 本実施の形態の欠陥修復装置では、情報入力部 50aからインク吐出対象 (欠損部 )に関する情報などが入力される。上記情報入力部 50aは、点在する複数のインク吐出対象に関する情報などを、データ入力部 50cへ入力する。情報としては、媒体上に点在する複数のインク吐出対象へインクを吐出する順番を決定するための情報であればよぐ特に限定するものではない。例えば、インク吐出対象の CFパネル上での位置情報などが挙げられる。また、情報入力部 50aとしては、公知の構成を用いることが可能であり、特に限定するものではないが、例えば、カメラを搭載する画像認識装置などによってインク吐出対象を認識し、その位置情報を得、その位置情報をデータ入力部 50cへ入力する構成であってもよレ、。

[0151] データ入力部 50cは、上記情報入力部 50aからの情報を受信する。受信された情報は、判定部 50dへ入力される。データ入力部 50cとしては、特に限定するものではなぐ公知の構成を適宜使用することができるものとする。

[0152] 分担決定部 10は、情報入力部 50aに入力された情報に基づいて、複数個のインク吐出対象（吐出標的）を各液滴吐出ユニット 3に分担させる。

[0153] 判定部 50dは、データ入力部 50cから入力される情報に基づいて、液滴吐出ュニット 3が最初にインクを吐出するインク吐出対象を決定し、それを始点とする。上記始点の選択方法としては特に限定するものではない。例えば、媒体上に点在する複数のインク吐出対象の中で、 Y座標値が 1番大きなものを選択してもよいし、 1番小さなものを選択してもよレ、。あるいは、液滴吐出ユニット 3から 1番近い位置に存在するィンク吐出対象を始点として選択することも可能である。

[0154] また、判定部 50dは、データ入力部 50cから入力される情報に基づいて、任意のィンク吐出対象を、第 1のインク吐出標的とする場合、上記液滴吐出ユニット 3が上記第 1のインク吐出標的から他のインク吐出対象へ移動する場合における主走查方向移動時間 (Yt)と副走査方向移動時間 (Xt)とを計算し、該副走査方向移動時間 (Xt )が主走査方向移動時間 (Yt)以下となるインク吐出対象を次順のインク吐出標的候補として判定する。

[0155] また、上記判定部 50dは、データ入力部 50cから入力される情報に基づいて、任意のインク吐出対象を、第 1のインク吐出標的とする場合、上記第 1のインク吐出標的から近い位置に存在するインク吐出対象から順番に、上記液滴吐出ユニット 3が上記第 1のインク吐出標的から他のインク吐出対象へ移動する場合における主走查方向移動時間 (Yt)と副走査方向移動時間 (Xt)とを計算し、該副走査方向移動時間 (Xt) が主走査方向移動時間（Yt)以下となるか否かを判定し、かつ Xt≤Ytの条件を満たすインク吐出対象を、次順のインク吐出標的として決定する。

[0156] 順番決定部 50eは、上記次順のインク吐出標的候補の中から、上記第 1のインク吐出標的から最も短い時間で到達できるインク吐出対象を次順のインク吐出標的として決定する。なお、上記順番決定部 50eは、上記判定部 50dが、上記第 1のインク吐出標的からより近レ、位置に存在するインク吐出対象から順番に判定を行う場合には、一番始めに次順のインク吐出標的候補として判定されたものを、次順のインク吐出標的候補として決定する。したがって、この場合には、上記順番決定部 50eは、省略されることも可肯である。

[0157] インク吐出制御部 50fは、インクを吐出する順番にしたがって、液滴吐出ユニット 3 をインク吐出対象に対して移動させたり、液滴吐出ユニット 3をインク吐出対象に対向させた状態で、主走查方向または副走查方向に傾けることが可能である。また、インク吐出制御部 50fは、液滴吐出ユニット 3を移動させることもできるし、インク吐出対象を含む基板を移動させることも可能であり、特に限定するものではない。

[0158] 液滴吐出ユニット 3は、インクをインク吐出対象に対して吐出する。上記液滴吐出ュニット 3としては、特に限定するものではなぐ適宜、公知の構成を用いることが可能である。

[0159] 図 17は、液滴吐出制御ユニット 50の動作を説明するためのフローチャートである。

[0160] (ステップ S81の処理について）

まず、情報入力部 50aは、媒体上に点在する複数のインク吐出対象へインクを吐出する順番を決定するための情報を入手する（ステップ S81)。先ず基板上に点在した各インク吐出対象について、基板上の各 XY座標値、インク吐出対象を矩形とした場合の上記インク吐出対象の X座標軸方向および Y座標軸方向の長さ、並びに液滴吐出ユニット 3が X座標軸方向および γ座標軸方向に移動する速度などを入力情報とする。さらに、インク吐出対象にインクを吐出する際、 Y座標軸方向に移動する距離（上記インク吐出対象の Y座標軸方向の長さ）に加え、液滴吐出ユニット 3がインク吐出位置の X座標値に到達したときに停止に要する時間と、その停止に要する時間で Y 座標軸方向に移動する距離と、 X座標軸方向に向かって移動する際の加減速とも加味するものとする。

[0161] インク吐出順番が未決定であるインク吐出対象の集合を集合 R1とし、その要素を P

(i) , i= l〜n (nはインク吐出対象箇所数）で示す。また、液滴吐出ユニット 3が、 Y座標軸方向の一方向に向かって移動する間にインク吐出可能な対象としてインク吐出順を決定したインク吐出対象の集合を集合 R2とし、その要素を PP (j) (k) , j = l〜s、 k= l〜mで示す。なお、液滴吐出ユニット 3が、 Y座標軸の一方向に向かって移動を開始し、次に移動方向を変えるまでの移動を「1回の主走査方向への移動」と規定した場合、上記 jは、 PP (j) (k)にインクが吐出されるときの、液滴吐出ユニット 3の移動回数を示し、 sは、全移動回数を表す。また、 kは、 jによって規定される移動中にインクが吐出されるインク吐出対象のインク吐出順を示し、 mは、 jによって規定される移動中にインクが吐出されるインク吐出対象の個数を示す。なお、 jと kとの初期値を、それぞれ 1とする。

[0162] (ステップ S82の処理について）

次いで、判定部 50dによって、入力された情報に基づいて始点を決定する (ステツプ S82)。始点の決定方法としては、例えば、各インク吐出対象の基板上での Y座標値に基づいて、各インク吐出対象を並び替える。このとき、例えば、 Y座標値の大きな順または小さな順でデータを並べ替えることが可能である。このとき、 Y座標軸のマイナス方向を主走査方向とする場合は Y座標値を大きなものから順に並べ、 Y座標軸のプラス方向を主走查方向とする場合は Y座標を小さいもの力順に並べるものとする。また、各インク吐出対象を並び替える方法として、液滴吐出ユニット 3から直線距離として近いものから順に、並べ替えることも可能である。なお、インク吐出対象を並ベ替える基準には様々な基準があり、特に限定するものではない。

[0163] 並べ替えたインク吐出対象全体を含む集合を集合 R1とすると、各インク吐出対象は、集合 R1の要素として P (i) , i= l〜n (nはインク吐出対象箇所数）として並び替えられる。そして、この集合 R1の中から、最初の要素 P (l)を選択して取り出し、集合 R 1から取り除き、新たに集合 R2に入れる。このとき、集合 R1の要素は、 P (i)、 i= 2〜 nとなり、集合 R2の要素は、 PP (j) (k) =P (1)となる。そして、この PP (j) (k)を始点とする。

[0164] (ステップ S83の処理について）

次いで、判定部 50dによって、インク吐出標的候補の選択のために Xt及び Ytを算出する（ステップ S83)。具体的には、液滴吐出ユニットが、 PP (j) (k)から、集合 R1 の要素である各インク吐出対象、つまり P (i)、 i= 2〜nに向かって移動して到達するために要する、 X座標軸方向および Y座標軸方向への移動時間を算出する。そして、 X座標軸方向への移動時間が Y座標軸方向への移動時間以下となる集合 R1中の要素を、インク吐出標的候補と判定する。

[0165] なお、このとき、集合 R1の要素である各インク吐出対象が判定される順番は、特に限定するものではない。判定する順番として、上記始点から近レ、ものから順に判定してもよレ、。この場合、全てのインク吐出対象について Xt≤Ytの条件を満たすか否かを判定する必要がなぐ最初に Xt≤Ytの条件を満たすものが、次順のインク吐出標的として決定される。

[0166] 以下に、 PP (j) (k)から、集合 R1の各要素に向かって移動して到達するために要する、 X座標軸方向および Y座標軸方向への移動時間の算出方法を示す。

[0167] まず、 Y座標軸方向への移動時間の算出方法について示す。ここで、 Y座標軸方向への移動時間を Yt (秒）、 Y座標軸方向への移動距離を丫ェ（mm)、 Y座標軸方向への等速移動速度を a (mm/秒）とすると、 Ytは、以下の（1)式によって示される。 Yt=Y /a (1)式

1

次に、 X座標軸方向への移動時間の算出方法について示す。 X座標軸方向への移動は、加速、等速移動、減速、および停止の 4種類の過程を含む。 X座標軸方向への移動時間を Xtとすると、 Xtは、加速、等速移動、減速、および停止の 4種類の過程に要する時間の和である。そこで以下に、それぞれの過程に要する時間を示す。なお、ここで停止とは減速が終了したインク吐出部 16が、 X座標軸方向に対して静止する過程である。

[0168] まず、加速、減速および停止に要する時間をそれぞれ d、 dおよび c (秒）とし、カロ

1 2

速および減速時に X座標軸方向へ移動する距離をともに X (mm)とする。このとき X

2

座標軸方向への移動距離を Xとすると、等速移動する距離 Xは（2)式によって示さ

1 3

れる。

[0169] X =X - 2 X X (2)式

3 1 2

このとき、等速移動を行うときの速度を b (mm/秒）とすると、等速移動を行う時間 d

3 は（3)式によって示される。

d = (X - 2 X X ) /b (3)式

3 1 2

ここで Xtは、加速、等速移動、減速、および停止の 4種類の過程に要する時間の和であり、（4)式によって示される。

Xt = d + d +d +c= (X—2 X X ) /b+ (d +d ) +c (4)式

3 1 2 1 2 1 2

したがって、（1)式および（4)式によって示される Ytおよび Xtが、（5)式の条件を満たすものが、インク吐出標的候補として選択される。

Xt≤Yt (5)式

なお、 X座標軸方向に対する速度が等速度 b (mmZ秒）に到達するまでの時間 dは

1

、 X座標軸方向への加速度を K (mm/秒²)とすると（6)式によって示される。

d =b/K (6)式

1 1

同様に、減速に要する時間 dは、 X座標軸方向への減速度を K (mmZ秒²)とする

2 2

と（7)式によって示される。 d =b/K (7)式

2 2

また、停止に要する時間 Cは、実際に本発明のインク吐出装置を動作させ、その値を実験的に測定することによって求めることが可能である。

[0170] なお、 X座標軸方向への移動時間および Y座標軸方向への移動時間は、上記変数を用い、（1)式〜（7)式によって算出したが、その算出方法は、これに限定されるものではない。例えば、他の変数をも考慮し、 X座標軸方向への移動時間および Y座標軸方向への移動時間を算出することも可能である。あるいは、上記 d 、 d dおよ

1 2、 3 び Cのうち、その値が非常に小さいものに関しては、省略することも可能である。

[0171] (ステップ S84の処理について）

次いで、順番決定部 50eが、上記インク吐出標的候補の中から、上記始点から最も短い時間で到達できるインク吐出対象を次順の始点として決定する (ステップ S84)。なお、ステップ S83において、上記始点から近レ、インク吐出対象から順に判定した場合、最初に Xt≤Ytの条件を満たすものが、次順のインク吐出標的として決定される。この場合には、上記判定部 50dが、次順のインク吐出標的を決定することも可能である。

[0172] (ステップ S85の処理について）

ステップ S84において、選択できる要素が集合 R1に存在する場合は、その選択されたインク吐出対象の要素 P (j)，（2≤j≤n)を集合 R1から取り除き、集合 R2に追加する（PP (j) (k) , (k=k+ 1) )。そして、その要素を新たな始点とし、ステップ S85の処理に進む。

[0173] ステップ S85において、選択できる要素が集合 R1に存在しない場合は、 1回の主走查方向への移動中にインクを吐出することが可能なインク吐出対象が無くなつたことになり、ステップ S86の処理に進む。選択できる要素が集合 R1に存在する場合は、ステップ S83に戻る。

[0174] (ステップ S86の処理について）

全てのインク吐出対象が集合 R2の要素として選択された場合、全ての点在するィンク吐出対象の処理順が決定したことになり、ステップ S81からステップ S85の処理を終了し、ステップ S87の処理に進む。一方、集合 R2に選択されていなレ、インク吐出対象が存在する場合は、ステップ S82に戻る。ステップ S82に戻り、新たな始点を決定したあと、液滴吐出ユニット 3が、主走査方向に対して前回とは逆向きに移動しながらインクを吐出することのできるインク吐出対象を選択する。その際、液滴吐出ュニット 3の主走查方向への移動回数を示す jの値を加算し、 j =j + lとする。また、インク吐出順番を示す kを初期値に戻し、 k= 1とする (ステップ S86)。

[0175] 以上のように、上記ステップ S82からステップ S86までの処理を、順番決定部 50e が行う。順番決定部 50eは、全ての点在するインク吐出対象にインクを順次吐出する際に、処理時間を最小化するように、点在するインク吐出対象へのインク吐出順番を決定する。

[0176] (ステップ S87の処理について）

インク吐出制御部 50fおよび液滴吐出ユニット 3は、ステップ S81〜ステップ S86によって決定した集合 R2に含まれる要素の順番にしたがって、主走查方向への移動回数に応じてインク吐出対象にインクを吐出する（ステップ S87)。その結果、例えば図 18に示すように複数の欠損部 11 (インク吐出対象）が対象基板 2上に点在する場合、図 18の矢印で示す順番にしたがってインクを吐出する。

[0177] 図 18は、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法によるインクの吐出順路を示す模式図である。対象基板 2上には、点在した複数の欠損部 11 (画素印字対象部）が存在する。液滴吐出ユニットは、同図中、矢印によって示される経路を通りながら、欠損部 11に向かってインクを吐出する。上記液滴吐出ユニットは、 2 つの欠損部 11 (インク吐出対象）間を移動する場合、主走査方向 Yへの移動を終了するまえに副走査方向 Xへの移動を終了する。したがって、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法では、液滴吐出ユニットがインクを吐出するとき

、上記液滴吐出ユニットは主走查方向 Yへ等速移動を行っており、それゆえ欠損部 1 1 (画素印字対象部）へ、正確にインクを吐出することが可能となる。

[0178] 図 19は、液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する態様を示す図であり、図 20 は、欠損部に液滴を塗布する他の態様を示す図である。液滴吐出ユニット 3R' 3G' 3 Rは、インク吐出部 58を構成する。液滴吐出ユニット 3Rには、赤色の液滴を吐出する複数個のノズノレ孔 12Rが所定の間隔を空けて形成されている。液滴吐出ユニット 3 Gには、緑色の液滴を吐出する複数個のノズノレ孔 12Gが所定の間隔を空けて形成されている。液滴吐出ユニット 3Bには、青色の液滴を吐出する複数個のノズル孔 12B が所定の間隔を空けて形成されている。対象基板 2には、互いに隣接する赤色の欠陥画素 47Rと緑色の欠陥画素 47Gと青色の欠陥画素 47Bとが形成されている。図 1 9において、一番左側のノズノレ孔 12Rは、画素 47Rに液滴を吐出する。左から 2番目のノズノレ孔 12Gは、画素 47Gに液滴を吐出する。左から 3番目のノズノレ孔 12Bは、画素 47Bに液滴を吐出する。

[0179] このとき、図 20に示すように、インク吐出制御部 50f (図 16)によって、インク吐出部 58を、インク吐出対象に対向した状態で、主走查方向または副走查方向に傾けることが可能である。これによつて、副走查方向における各ノズノレ間の距離を小さくすることが可能となる。その結果、同一のインク吐出対象に対して、複数個のノズノレを用いてインクを吐出することができる。副走查方向における各ノズノレ間の距離は、インク吐出部 58の傾き角度によって決定することができる。なお、インク吐出部 58の傾き角度は、特に限定するものではなぐ選択可能である。例えば、上記傾き角度は、インク吐出対象の大きさ、特に X座標軸方向の長さとインク液滴の大きさとに応じて設定すること力 Sできる。

[0180] 例えば、図 20に示すように、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法は、インク吐出部 58を、インク吐出対象に対向した状態で、主走査方向または副走査方向に傾けることが可能である。以下に、インク吐出部 58を、主走査方向または副走査方向に傾ける前後のノズノレの配置について説明する。

[0181] 図 19に示すように、インク吐出部 58は、ノズル孔 12R' 12G' 12Bを有し、対象基板 2に対向して配置されている。なお、インク吐出部 58は、矢印 A3に示される方向に移動しながらインクを吐出するものとする。また、対象基板 2は、互いに隣接して配置された画素 47R'47G'47Bを有している。このなかで、赤色）のインクを吐出される画素は画素 47Rであり、緑色（G)のインクを吐出される画素は画素 47Gであり、青色（B)のインクを吐出される画素は画素 47Bである。インク吐出部 58は、赤色（R) 、緑色（G)および青色（B)のインクを吐出するために、それぞれ複数のノズル孔 12R •12G. 12Bを有している。上記ノズノレのなかで、画素 47R.47G.47Bに対してインクを吐出するノズルは、黒塗りの円にて示されている。つまり、図 19に示すように、画素 47R'47G'47Bは、それぞれ 1個のノズル 12R' 12G' 12Bによって、インクが吐出される。

[0182] また、図 20に示すように、インク吐出部 58は、対象基板 2に対向した状態で、主走查方向または副走查方向に傾けることが可能である。図 20に示すように、インク吐出部 58を傾けることによって、画素 47R-47G-47Bは、それぞれ 2個のノズノレ孔 12R' 12G- 12Bによって、インクを吐出されることが可能となる。

[0183] 一方、インク吐出部 58の傾きを例えば 80度と固定している場合は、隣接するインク滴の間隔は一定であるため、吐出させる液滴数を各ノズル単位で調整し、欠陥画素を穴埋めさせるためのインク滴量を決定する。ちなみに、 150dpi相当のノズノレ間隔を有すインク吐出装置のインク吐出部 58を約 80度傾けることで、副走查方向におけるノズノレ間の距離は約 30 μ mとなる。図 21の（a)に示すように、画素幅を 100 μ mとすると、少なくとも 2個のノズル力インクを吐出することにより、同一画素内を印字すること力 Sできる。この 2個のノズルから吐出される液滴数を制御して欠陥画素を生めるために必要な液滴総量を確保することも可能である。

[0184] また、図 21の（b)に示すように、画素幅が 300 /i mになると、上記の場合、 9個のノズノレが画素幅内に収まることとなる。この場合、 9個のノズルの内、例えば 1個のノズルの状態が不良状態となった場合でも残り 8個のノズルを用いて所望の液滴量のィンクを吐出することが可能となる。なお、図 21の（b)において、インク吐出部 58が走查する方向は、矢印 A3にて示す。

[0185] また、図 22及び図 23に示すように、本実施の形態のインク吐出装置を用いれば、欠陥画素を修復する際、例えば RGB画素のうち、画素色抜けなど 1色の欠陥画素を修正する場合のほか、図 22に示すように、ダストなどの異物による画素間の色リークなどによって生じる RGや GB、 BRなどの隣接した 2個の欠陥画素、または図 23に示すように、 RGB、 GBR、 BRGなど隣接した 3個の欠陥画素の修正を同時に行うことが可能となる。

[0186] そのため、インク吐出部 58の各色用の液滴吐出ユニット 12R' 12G' 12Bを互いに近接させ、少なくとも主走查方向に対して各液滴吐出ユニット 12R' 12G' 12Bのノズノレ位置がオーバラップするようにし、さらに前述のようにインク吐出部 58を傾けることで、副走査方向におけるインク吐出間隔を仮想的に狭くすることができる。隣接する欠陥画素を異なる色のインクを用いて修復できるように隣接画素位置に合わせてインク吐出部 58のノズル位置を微調整し、複数の異なるインクを用いて同一走查中に欠陥画素を修復することが可能である。

[0187] 例えば、図 22に示すように、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法は、 P 接する 2個の画素 47R'47Gを、同一走查中に修復することができる。この場合、隣接する画素 47R-47Gを、それぞれノズル 12R' 12Gを用いて修復することが可能となる。また、図 23に示すように、本実施の形態の液滴吐出およびインク吐出制御方法は、 P 接する 3個の画素 47R'47G'47Bを、同一走查中に修復すること力 Sできる。この場合、インク吐出部 58を傾けることによって、隣接する画素 47R-4 7G · 47Bを、それぞれノズル 12R- 12G- 12Bを用レ、て修復することが可能となる。

[0188] 図 24の（a)は、ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するための模式平面図であり、図 24の（b)はヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するためのグラフである。

[0189] 図 24の（a)に示す例では、欠陥修復装置の担持体であるヘッドガントリーユニット 4 上に、 3個の液滴吐出ユニット 3a ' 3b ' 3cが搭載されている。液滴吐出ユニット 3aは基板受け持ち領域 46aの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。液滴吐出ユニット 3bは基板受け持ち領域 46bの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。液滴吐出ユニット 3cは基板受け持ち領域 46cの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。従って、ヘッドガントリーユニット 4が基板上を反転走查するごとに、基板上に残る未修復箇所は減少していく。

[0190] ある基板上の全ての修復箇所を複数回の反転走查により修復する場合、複数回の走査の後半では、残修復箇所が減少するために、必ずしも基板の一端から他端までの全領域を走查する必要がなくなる。

[0191] 例えば、複数の液滴吐出ユニット 3a ' 3b ' 3cがーつのヘッドガントリーユニット 4に搭載されているような本装置では、受け持つ修復箇所の数、及び修復箇所の配置は、液滴吐出ユニット 3a' 3b ' 3c毎に異なり、 1つの液滴吐出ユニットでも 1走查毎に修復する修復箇所の数、及び修復箇所が異なる。

[0192] ヘッドガントリーユニット 4の必要な走査幅は、基板上の修復箇所の分布に応じて異なり、図 24の（a)に示す例では、ヘッドガントリーユニット 4の走査方向を紙面上下として、少なくとも、最上及び最下の修復箇所上に液滴吐出ユニットが到達できるような範囲をヘッドガントリーユニット 4は走查すればよい。

[0193] なお、 1回の走査においても液滴吐出ユニット毎に必要な走查領域は異なるために、複数の液滴吐出ユニットのそれぞれの必要な走查幅を包含する総和の幅を、へッドガントリーユニット 4の走查幅として決定する（例えば 2つの走查幅があれば、それぞれの重複領域に加えて、重複していない領域も加えた領域を走査すべき領域として決定する）。

[0194] 本実施の形態では、液滴吐出ユニットによる液滴吐出動作の実行前に、基板毎の修復箇所情報を予め取得し、その修復箇所情報に基づいて、液滴吐出ユニット毎に受け持つべき修復箇所を決定しその受け持ち修復箇所情報をもとに、液滴吐出ュニット毎にヘッドガントリーユニット 4の走査方向について、必要な反転回数、及び走査領域を決定する。

[0195] また、実施の形態中に記載している巡回のアルゴリズムでは、初期走査段階で基板端部近傍の修復箇所が修復されることが多くなる。

[0196] これは、実施の形態の巡回アルゴリズムでは、ヘッドガントリーユニット 4の反転動作位置近傍に位置する修復箇所が優先的に処理されるために、結果としてヘッドガントリーユニット 4の反転動作位置である、基板端部近傍に位置する修復箇所力も先に修復されて、ガントリー反転動作を重ねるにつれて、基板中央部に修復箇所が残る場合が多いためである。

[0197] 図 24の（b)は、横軸は修復動作の時間（ヘッドガントリーユニット 4が基板上を繰り返し反転走查する時間）を示す。縦軸はヘッドガントリーユニット 4の走查位置（図 24 の（a)の紙面上方向をプラス）を示す。期間 T1は 1回目の走查期間（図 24の（a)の紙面下側から上側にヘッドガントリーユニット 4が走査する期間）を表す。期間 T2は 2回目の走查期間（図 24の（a)の紙面上側から下側にヘッドガントリーユニット 4が走査する期間）を表す。期間 T3は 3回目の走査期間（図 24の（a)の紙面下側から上側に走查する期間）を表す。期間 T4は 4回目の走査期間（図 24の（a)の紙面上側から下側に走査する期間）を表す。初期の走査期間 Τ1 ·Τ2よりも、後期の走査期間 Τ3 ·Τ4の方力 1回の走査におけるヘッドガントリーユニット 4の移動量が少なレ、。一走査当たりのヘッドガントリーユニット 4の移動量は、期間 Τ1 ·Τ2 ·Τ3 ·Τ4とヘッドガントリーュニット 4の反転回数が増えるに従って、少なくなつていく。

[0198] ヘッドガントリーユニット 4が基板上を反転して走查する総走查距離が、基板:!枚当たりの修復時間であり、ヘッドガントリーユニット 4の走查領域を上述のように限定することで、総走查距離を短くすることができ、結果としてタクトタイムを削減することが可能となる。

[0199] このように、反転回数が増えるに従って、ヘッドガントリーユニット 4の走查領域を上述のように限定すると、基板サイズ、修復数等に応じて、効果は変わるが、発明者らの検討では、最大 40%のタクトタイム削減が可能であった。

[0200] 本実施の形態では、まず、最初に、ヘッドガントリーユニット 4を基板の端から端まで全体的に移動させ、その後、徐々に中央付近に収束する修復アルゴリズムで行う例を示したが、本発明はこれに限定されなレ、。他のパターンであっても、タクトタイムを短縮することができる。他のパターンとしては、（1)ヘッドガントリーユニット 4を反転させるまでの移動量を徐々に大きくするように修復する移動方法、（2)修復箇所が多い場合に、多い箇所において集中してヘッドガントリーユニット 4を反転させる方法、（3) 反転の移動量をほぼ一定にして、ヘッドガントリーユニット 4の移動範囲を徐々にシフトさせていく方法などがある。

[0201] 上記修復における移動パターンにおいては、欠陥箇所 (修復箇所）がどのような場所に存在しているかに応じて最適な修復パターンは変わる。すなわち、修復箇所が均一に点在している場合 (修復箇所が集中していない場合）は、本実施の形態で示した修復アルゴリズムで修復することが好ましレ、。基板によって修復箇所の配置が大きく異なっているような場合は、修復パターンデータに応じて、修復アルゴリズムを変更し、修復を行ってもよレ、。

[0202] く液滴吐出ユニット 3の配列 >

図 25の（a)、図 25の（b)は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を説明するための平面図である。図 25の（a)、図 25の（b)は欠陥修復装置 1を上方から見た図であり、ヘッドガントリーユニット 4上に計 9個の液滴吐出ユニット 3が搭載されている。

[0203] 液滴吐出ユニット 3毎に設けられている吐出ユニットスライド機構 24は、ヘッドガントリーユニット 4の両外側に向いた両側面にそれぞれ設けられている。ヘッドガントリーュニット 4の紙面左側面には 4対の液滴吐出ユニット 3と吐出ュニットスライド機構 24とが一定間隔を空けて取り付けられている。ヘッドガントリーユニット 4の紙面右側面は、 5対の液滴吐出ユニット 3と吐出ユニットスライド機構 24とが一定間隔を空けて取り付けられている。そして、基板載置台 17の上面に対して、それぞれの吐出ユニットスライド機構 24は千鳥状に配列されている。すなわち、ガントリー移動方向である矢印 r 3に直交する方向に互いに隣接する 2つの吐出ユニットスライド機構 24は、吐出ュニットスライド機構 24のスライド可能方向である矢印 r3の方向に沿って、それぞれのスライド可能領域の端部が一部重複するように構成されている。なお、重複する移動可能領域はその領域が大きいほど好ましぐ吐出ユニットスライド機構 24の長手方向の長さの三分の一以上重複してレ、ることが望ましレ、。

[0204] <基板ァライメント動作の説明 >

対象基板のァライメント動作を図 25の（a)、図 25の（b)及び図 26の（a)、図 26の（b )を用いて説明する。図 26の（a)、図 26の（b)は、ヘッドガントリーユニット 4に設けられたァライメントカメラ 25の構成を説明するための要部平面図である。基板載置台 17 上で吸着固定された対象基板 2の基板端近傍には、対象基板 2の面内回転方向を補正するためのァライメントマーク 43が 2箇所設けられている。

[0205] ヘッドガントリーユニット 4に固定されている 2個のァライメントカメラ 25は、図 25の（a )に示す位置からヘッドガントリーユニット 4と一体的に図 25の（b)に示す位置に移動する。そして、ァライメントカメラ 25の画像情報を元に、対象基板 2の面内回転方向のずれを算出し、前述の基板載置台 17の Θ回転機構と矢印 r3の方向の微動機構により、図 25の（b)に示す回転矢印 r6の方向に基板の姿勢を補正する。

[0206] 対象基板 2には、予め高精度の 2つのァライメントマーク 43が設けられており、対象基板 2の液滴塗布位置は、このァライメントマーク 43を基準として、予め決定されている。このァライメントマーク 43は、同心円状のマークであり、対象基板 2上の 2つのァラィメントマーク 43のピッチずれは 2 μ m以内である。 2つのァライメントマーク 43のピッチと同ピッチで 2つのァライメントカメラ 25はヘッドガントリーユニット 4上に設置されている。また、ァライメントカメラ 25は、複数の広視野モード部 25aと狭視野モード部 25 bとを有し、広視野モード部 25aで Θ回転機構及び微動機構によりァライメントしたのち、狭視野モード部 25bで再度同様なァライメント動作を行う。

[0207] 図 27の（a)、図 27の（b)は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を説明するための要部平面図である。図 28の（a)、図 28の（b)は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を説明するための要部拡大平面図である。図 28の（a)、図 28の（b)は、広視野モードでのァライメントカメラ 25による撮像画像を示す模式図であり、図 27の（a)は一対のァライメントカメラ 25の一方による画像、図 27の（b)は一対のァライメントカメラ 25の他方による画像である。

[0208] ァライメントカメラ 25の広視野モードは、搬送ロボットの基板載置台 17への基板の配置精度以上の視野を有するように設計されている。この広視野モードでは、まず、同心円のァライメントマーク 43の外側円環部 43aを用いて、ァライメントマーク 43と基準位置とのずれを計測し、ァライメントマーク 43と基準位置とがー致するように、 Θ回転機構及び微調整機構により基板載置台 17を調整し、対象基板 2の姿勢を制御する。外側円環部 43aの外径は、例えば 2mmであり、内側円部 43bの外径は、例えば 0. 2mmである。

[0209] 次に図 28の（a)、図 28の（b)に示すように、ァライメントカメラ 25を狭視野モードに切り替え、ァライメントマーク 43の同心円の内側円部 43bを用いてァライメントマーク 4 3と基準位置とのずれを計測し、ァライメントマーク 43と基準位置とがー致するように、 Θ回転機構及び微調整機構により基板載置台 17を調整し、対象基板 2の姿勢を制御する。また、一対のァライメントカメラ 25による観察位置と液滴吐出ユニット 3の液滴吐出位置は、液滴吐出ユニット 3を取り付けた後の調整工程で予め計測されている。

[0210] 図 29は、欠陥修復装置 1のァライメント動作を示すフローチャートである。まず、欠陥修復装置 1に設けられた制御ユニットからァライメント開始指令が発行されると (ステツプ S 1 )，サブステージ 16b側に移動した基板載置台 1 7上に対象基板 2が搬入される（ステップ S 2)。そして、対象基板 2を載置した基板載置台 17は、メインステージ 16a上の定位置に移動する（ステップ S3)。

[0211] これと同時に、図 25の（a)に示すようにメンテナンス機構 18上に位置していたへッドガントリーユニット 4は、図 25の（b)に示すァライメント位置に移動する（ステップ S4) 。そして、ァライメントカメラ 25の広視野モード部 25aをァライメントマーク 43上の標準位置に移動させる（ステップ S5)。

[0212] 次に、ァライメントカメラ 25の広視野モード部 25aは、ァライメントマーク 43の外側円環部 43aを撮像し (ステップ S6)、ァライメント量を算出する (ステップ S7)。その後、算出したァライメント量に基づいて、基板載置台 17の位置を粗く調整する粗ァライメント動作を実行する (ステップ S9)。

[0213] そして、ァライメントカメラ 25の狭視野モード部 25bをァライメントマーク 43上の標準位置に移動させる（ステップ S8)。その後、ァライメントカメラ 25の狭視野モード部 25b は、ァライメントマーク 43の内側円部 43bを撮像し (ステップ S10)、ァライメント量を算出する（ステップ Sl l)。その後、算出したァライメント量に基づいて、基板載置台 17 の位置を精密に調整する本ァライメント動作を実行する（ステップ S 12)。

[0214] その後、再び、ァライメントカメラ 25の狭視野モード部 25bは、ァライメントマーク 43 の内側円部 43bを撮像し (ステップ S 13)、基板載置台 17の位置精度を確認する (ステツプ S 14)。そして、ァライメント動作を確認する (ステップ S 15)。

[0215] <観察力メラユニット 27による液滴着弾位置の計測 >

図 30の（a)、図 30の（b)は、欠陥修復装置 1に設けられた観察力メラユニット 27による液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。観察力メラユニット 2 7は、液滴吐出ユニット 3の液滴吐出素子 29 (図 5)を交換して着弾位置補正を行うための情報を取得する場合や、使用中の着弾位置を再確認する際に用いる。観察カメラユニット 27は、ガントリースライド機構 5とカメラスライド機構 38とにより、欠陥修復装置 1上面の任意の位置を撮像することができ、また、欠陥修復装置 1上面の任意の位置を割り出すことが可能である。観察力メラユニット 27の撮像位置は、ガントリースライド機構 5とカメラスライド機構 38とに内在しているスケールにより、その位置情報を出力することが可能である。

[0216] 液滴着弾位置を観察する場合、基板として、通常の対象基板 2と同様の所定のァラィメントマーク 43が付与されたダミー基板 44を欠陥修復装置 1に搬入し、通常通りの基板姿勢制御を行う。次に、観察力メラユニット 27は、ダミー基板 44上の 2つのァライメントマーク 43をそれぞれ撮像し、その位置情報を取得する。

[0217] 図 30の（a)に示すように、ヘッドガントリーユニット 4は、ダミー基板 44上の任意の位置まで移動する。そして、それぞれの液滴吐出ユニット 3のノズノレ孔からダミー基板 4 4に向けて液滴を吐出する。このとき、全てのノズル孔から液滴を吐出しても良レ、。また、それぞれの液滴吐出ユニット 3は、ガントリースライド機構 5とそれぞれの吐出ュニットスライド機構 24に内在しているスケールに基づいて、仮想の着弾位置 (理想的な着弾位置）をそれぞれ認識する。

[0218] 次に、図 30の（b)に示すように、観察力メラユニット 27は、ガントリースライド機構 5とカメラスライド機構 38とにより移動しながら、液滴着弾位置 45を順次撮像して、ァライメントマーク 43に対する実際の着弾位置を割り出す。そして、仮想の着弾位置と実際の着弾位置との間の差分をそれぞれの液滴吐出ユニット 3の補正データとして保管する。ずれ (差分）は、 X方向、及び Y方向に分解される。 Y方向のずれは、ヘッドガントリーユニット 4が Y方向に移動しながら液滴吐出を行うため、吐出タイミングを調整することによって補正すること力 Sできる。 X方向のずれに関しては、吐出ユニットスライド機構 24の移動量をオフセット補正する。この観察力メラユニット 27の動作により、ノズル毎の不吐出を検出し、ノズノレ毎の着弾よれを検出することも可能である。

[0219] くヘッドガントリーユニット 4の往復動作/液滴吐出ユニット 3の移動動作〉

図 31の（a)、図 31の（b)は、ヘッドガントリーユニット 4の往復動作を説明するための平面図である。姿勢制御が完了した対象基板 2に対して、ァライメントマーク 43基準の所望位置に液滴を滴下する方法を以下に示す。

[0220] 図 31の（a)は、対象基板 2に液滴を滴下する作業において、ヘッドガントリーュニット 4が図 31の（a)において最も右に移動した状態を示している。一方、図 31の（b)は、最も左に移動した状態を示している。ヘッドガントリーユニット 4は、矢印 r7によって示される範囲を 1回〜複数回往復する。ヘッドガントリーユニット 4に搭載されている複数の液滴吐出ユニット 3は、図 31の（a)の矢印 r3に示す方向にそれぞれ独立して移動可能である。ヘッドガントリーユニット 4自体は、対象基板 2上を、紙面左右方向（矢印 r7の方向）に往復動作する。それぞれの液滴吐出ユニット 3は、液滴吐出動作を実行する前に、矢印 r3に示す方向に沿って所望のアドレスに移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット 4が矢印 r7の方向に往復動作する過程で、矢印方向及び矢印 r3方向の所望位置のアドレスが一致した時点で、液滴を吐出する。複数の液滴吐出ユニット 3は、その動作を、それぞれ独立して制御される。

[0221] 図 31の（b)において、矢印 r7によって示されるヘッドガントリーユニット 4の移動範囲は、液滴吐出ユニット 3が移動する方向の直交方向の基板幅よりも大きぐ基板幅の中心線をヘッドガントリーユニット 4の移動範囲の略中心としている。

[0222] このように基板幅よりも大きい範囲を液滴吐出ユニット 3が移動できることにより、着目した液滴吐出ユニット 3は、その液滴吐出ユニット 3のヘッドガントリーユニット 4の移動ストロークの範囲内の基板の所望の位置（帯状の領域）に対して、液滴を滴下することが可能となる。

[0223] <吐出動作の具体例 >

図 32の（a)、図 32の（b)は、ヘッドガントリーユニット 4の対象基板 2に対する動作を説明するための平面図である。ヘッドガントリーユニット 4には、 X方向に独立して移動可能な 9個の液滴吐出ユニット 3a ' 3b · 3c ' 3d· 3e · 3f · 3g · 3h' 3iが搭載されており、それぞれの液滴吐出ユニット 3a〜3iには、対象基板 2上の受け持ち領域 46a ' 46 b *46c * 46d' 46e * 46f '46g *46h '46i力 S設定されている。

[0224] 約 2. 2m X 2. 8mの対象基板 2には、約 30個から約 300個の吐出箇所（欠陥） 11 が点在している。なお、基板サイズにもよる力欠陥が 30個以上の場合には、複数の液滴吐出ユニットが搬送方向と異なる方向に個別に移動する構成とすることにより、液滴吐出ユニットが 1つの場合に比べてタクトタイム短縮の効果が大きくなる。一方、欠陥が 300個以下の場合では、修復されたカラーフィルタ基板及び有機 EL表示基板の修復部分に起因する色むらが、実使用上問題のないレベルとなり、高品位な前記基板を得ることができる。

[0225] それぞれの液滴吐出ユニット 3a〜3iには紙面横方向に帯状に伸びた受け持ち領域 46a〜46iが割り当てられている。液滴吐出ユニット 3aは、領域 46aを受け持つ。液滴吐出ユニット 3bは、領域 46bを受け持つ。それぞれの液滴吐出ユニット 3a〜3i は、受け持ち領域 46a〜46iに点在する吐出箇所 (欠陥） 11に対して液滴吐出動作を行う。

[0226] ヘッドガントリーユニット 4を紙面左右方向に繰り返し往復移動させる過程で、それぞれの液滴吐出ユニット 3a〜3iはそれぞれ受け持つ吐出箇所 11の直上に移動すベぐ X方向に個別に移動し X方向のアドレスが一致した場所で停止し、ヘッドガントリーユニット 4の移動に伴って、 Y方向のアドレスが一致するまで待機する。そして、処理基板 2上の所望位置が直下に来るタイミングで、液滴吐出ユニットを駆動し吐出口力液滴を処理基板 2上の所望位置に吐出させる。

[0227] 図 32の（a)、図 32の（b)に示すように、 9個の液滴吐出ユニット 3a〜3iを 2列の千鳥状に配列すると、図の点線によって示すように対象基板 2を 9個の領域 46a〜46i に分割して、それぞれの液滴吐出ユニット 3a〜3i毎にその受け持ち領域を決定すること力 Sできる。

[0228] 図 33の（a)〜図 33の（d)は、液滴吐出ユニット 3の欠損部に対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。液滴吐出ユニット 3が、ヘッドガントリーユニット 4 の往復移動の過程で、複数の長方形状凹部に液滴を吐出させる工程を説明する。このような工程は、例として、一部に欠損を有するカラーフィルタ基板をこの欠陥修復装置を用いて欠損部分を修復する場合が相当する。一例として、カラーフィルタ基板の画素の 1色が欠損した場合の修復装置としての説明を行う。

[0229] ここでの欠損部分とは、製造工程でダストが混入した部分、空白の窪みが形成された部分等について、レーザー等により不良部分を一定形状に凹み修正した部分である。液滴吐出ユニット 3は、全て同一種類の液滴材料を吐出するものとして、 1種類の画素（レッド、ブルー及びグリーンのいずれ力の欠損について、その修復方法を示してレ、る。よって、全ての色の欠損部を修復するには、本実施の形態の欠陥修復装置を色材毎に 3台設けて逐次処理するか、実施の形態 2において例示するように、液滴吐出ユニットを、複数色の液滴を吐出可能とするように構成することで可能となる。

[0230] 図 33の（a)〜図 33の（d)は、ヘッドガントリーユニット 4上に搭載されている複数の液滴吐出ユニット 3のうちの 1つに着目して、 1つの液滴吐出ユニット 3に含まれる液滴吐出面から複数の吐出箇所に吐出を行う動作を時系列に沿って示している。 [0231] 図 33の（a)を参照すると、処理基板上の欠損部（欠陥） l la ' l ib ' 11cは、深さ 2 μ m程度の凹部であり、開口部はヘッドガントリーユニット 4の移動方向を長辺とした 20 0 /i m X 70 /i m程度の長方形状をしてレ、る。図 33の（a)〜図 33の（d)では、欠損部 (欠陥） l la ' l ib ' 11cの長辺は、ヘッドガントリーユニット 4の移動方向 Aに対して平行であるように描いているが、実際には図 7の（a)、図 7の（b)に示すように数度傾いている。液滴吐出ユニット 3のノズル吐出面は、対向する搬送ステージ面と平行にしており、ノズノレプレート 33には複数のノズノレ孔 12が形成されている。この複数のノズル孔 12は、ヘッドガントリーユニット 4の移動方向である紙面左右方向に配列しており、個々のノズル孔 12はそれぞれ、その背面側に液滴吐出制御可能な図示しない個別のインク加圧室と加圧制御手段とを有している。また、 1列に配列しているノズル孔 12は、同一の液滴材料を吐出することが可能となっている。

[0232] ヘッドガントリーユニット 4は、液滴吐出ユニット 3の移動や吐出動作によらず、常に紙面左右方向に略等速度（100mm/秒〜 500mm/秒）で往復移動している。欠損部 l laに液滴を吐出して修復するために、液滴吐出ユニット 3は吐出ユニットスライド機構 24を用いて高速移動させてノズル孔 12を欠損部 l laの中心線上に合わせて停止する。なお、液滴吐出ユニット 3の移動時間は、実際に移動する時間に加えて、停止した後に吐出ユニットスライド機構 24による残留振動が液滴吐出に悪影響を与えないレベルまで低減するまでの静定時間を含んだ時間をも考慮する必要がある。

[0233] 搬送ステージの進行方向側において、欠損部 l laの中心線上まで予め移動させた液滴吐出ユニット 3は、搬送ステージの等速移動により相対的に矢印 D方向に移動し、欠損部 l la上にあるノズノレ孔 12から液滴が吐出される。このとき、使用するノズノレ孔 12は、欠損部 l laの直上にある複数のノズル孔 12を使用することができるため、 1 つのノズル孔を使用する場合に比べて搬送ステージの等速移動速度を上げることができ、基板全体の処理速度を向上させることが可能となる。

[0234] 次に欠損部 l la上に液滴を吐出した液滴吐出ユニット 3は、図 33の（b)に示すように、欠損部 11cを修復するために、吐出ユニットスライド機構 24を駆動して矢印 E方向に移動して、欠損部 11cの中心線がノズル孔 12に一致する位置で停止する。このとき、ヘッドガントリーユニット 4も一定速度で紙面左方向に移動しているため、液滴吐出ユニット 3は、図 33の（c)の矢印 F方向に相対的に移動し停止する。そして、へッドガントリーユニット 4の移動により液滴吐出ユニット 3は、相対的に矢印 G方向に移動しながら、欠損部 11cの直上にあるノズル孔 12から液滴を吐出し、欠損部 11cの修復を行う。

[0235] そして、ヘッドガントリーユニット 4は、一方向の移動を完了した後に反対方向に移動を始める。図 33の（d)に示すように液滴吐出ユニット 3は、欠損部 l ibを修復するために、吐出ユニットスライド機構 24を用いて矢印 K方向に移動し、欠損部 l ibの中心線上にノズル孔 12を合わせて停止する。そして、ヘッドガントリーユニット 4の移動により、液滴吐出ユニット 3は相対的に矢印 L方向に移動して、欠損部 l ibの直上にあるノズル孔 12で液滴を吐出する。

[0236] このように、ヘッドガントリーユニット 4の往復動作を利用して、 3つの欠損部 l la ' l l b ' 11cの修復を、欠損部 l la、欠損部 l lb、欠損部 11cの順で行っており、本実施の形態の欠陥修復装置の構成上の利点を最大限活用するものである。即ち、図 33の（ c)に示すように、欠損部 11aに複数のノズル孔 12で吐出する際に、実際に吐出を行う紙面右端のノズノレ孔 12が欠損部 11a直上から離れるまでは、移動させることはできず、少なくとも使用するノズノレ孔 12の両端間距離に相当する領域では、液滴吐出ュニット 3を紙面上下方向に移動させて、次の欠損部の修復に向力ことはできない。

[0237] この不能範囲 Hは、処理直後の欠損部端力使用するノズル孔 12の両端間距離に相当する帯状の範囲に加えて、搬送ステージの移動速度と、矢印 E方向（図 33の（ b) )の移動に要する時間及び移動後の残留振動の静定に要する時間の和、を掛け合わせた領域も含まれる。

[0238] 図 33の（c)に示すように、欠損部 l ibは欠損部 11aに対する不能範囲 Hに入る場所に位置しているため、欠損部 11aの修復の直後に欠損部 l ibの処理を行なわず、不能範囲 Hに属さない欠損部 11cの修復を行っている。そして、ヘッドガントリーュニット 4の復路移動に伴って、欠損部 11cの修復後に、その不能範囲 Hに属さない欠損部 l ibの修復を行っている。

[0239] 以上は、 1つの液滴吐出ユニット 3の移動動作について説明を行ったが、欠陥修復装置は複数の液滴吐出ユニット 3を有し、それぞれが独立して動作している。なお、本実施の形態に係る欠陥修復装置は、カラーフィルタ基板の欠陥修復装置に限るものではなぐ基板上に点在する所望箇所に液滴を吐出させることが可能である。

[0240] 図 34の（a)〜図 34の（c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット 3aの移動方向が、画素 47R'47G'47Bの長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。図 35の（a)〜図 35の（c)は、 3種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット 3aの移動方向力画素 47R'47G'47Bの長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。ダスト等の原因によって製造途中に R及び Gの画素間におレ、て混色が発生してしまレ、、所望の色を示さない画素ができた際に、その部分を矩形状にレーザーで除去し、本欠陥修復装置を用いて矩形部に液滴を滴下する。

[0241] 図 34の（a)〜図 34の（c)及び図 35の（a)〜図 35の（c)では、液滴吐出ユニット 3a とその液滴吐出ユニット 3aが修復すべき画素 47R'47G'47Bを示しており、画素 47 R及び画素 47Gが混色リークしたために、あらかじめレーザーにより、混色箇所を除去して凹みを形成している。

[0242] 図 34の（a)は、修復前の状態を示しており、液滴吐出ユニット 3aは図の矢印方向に沿って画素 47R'47G'47Bに向かって移動している。図 35の（b)は画素 47Rに液滴を滴下した直後の図であり、次に、図 35の（c)に示すように画素 47Gに液滴を滴下する。

[0243] 画素 47R'47G'47Bの長手方向がヘッドガントリーユニット（液滴吐出ユニット 3a) の移動方向の場合についても同様に、図 35の（a)は修復前の状態を示しており、図 35の（b)、図 35の（c)の順にしたがって、画素 47R、画素 47Gを修復する。

[0244] (実施の形態 2)

図 36の（a)は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、図 36の（b)は、その動作を説明するための平面図である。

[0245] 実施の形態 2に係る欠陥修復装置は、所定の間隔を空けて設けられた 2個のヘッドガントリーユニット 4を有している。各ヘッドガントリーユニット 4には、 4個の液滴吐出ユニット 3が設けられている。従って、液滴塗布装置には計 8個の液滴吐出ユニット 3 が搭載されている。 [0246] 1本目のヘッドガントリーユニット 4に搭載された 4個の液滴吐出ユニット 3をスライドさせる吐出ユニットスライド機構 24の移動可能領域は、互いに重複している。このため、 4個の液滴吐出ユニット 3は、そのいずれかが基板の任意の位置に移動可能である。 2本目のヘッドガントリーユニット 4にも、同様に 4個の液滴吐出ユニット 3が搭載されている。

[0247] 1つの液滴吐出ユニット 3は吐出ユニットスライド機構 24の移動範囲 Pだけ移動可能であり、千鳥状に隣接する吐出ユニットスライド機構 24の移動範囲は、液滴吐出ュニット 3が移動する方向に沿って、一部を重複させている。このため、 1つのガントリー上にある 4つの液滴吐出ユニット 3のいずれ力が、ヘッドガントリーユニット 4の長手方向に沿った位置に必ず移動することが可能である。互いに補完しながら搬送ステージ移動方向の直交方向に沿った全ての位置への移動を網羅できる液滴吐出ユニット 3の集合をユニット列とすると、本実施の形態では、 2本のユニット列が存在することとなる。そして、 1ユニット列は 4つの液滴吐出ユニットから構成されている。

[0248] 対象基板 2には、図中黒点で示す複数の欠損部 11がある。対象基板 2の領域は、ユニット列数を列数、ユニット列毎の液滴吐出ユニット数を行数として均等分割されて、具体的には、 4行 X 2列の領域に分割して、それぞれの液滴吐出ユニット 3の受け持ち領域となる。例えば、左側のヘッドガントリーユニット 4に設けられた左上の液滴吐出ユニット 3は、図中のハッチングで示されている受け持ち領域 46に点在する欠損部 11のみを修復する。なお、図 32の（a)、図 32の（b)で前述したユニット配列では、ユニット列数は 1となるために、図 32の（a)、図 32の（b)に示すように 9行 X 1列に分割されている。

[0249] 図 36の（b)は、ヘッドガントリーユニット 4の移動による対象基板 2の往復動作の往路の半分の状態を示す図であり、図中の白矢印方向までヘッドガントリーユニット 4は移動して往路を終える。その後、ヘッドガントリーユニット 4は復路に転換し、図 36の（ a)に示す状態まで戻る。この往復動作を 1往復として、欠損部 11の多少に応じて：!〜数往復を繰り返すことにより、対象基板 2全体の欠損部 11を修復する。ここで、合計 8 領域ある液滴吐出ユニット 3毎の受け持ち領域で欠損部 11の多少の差のために、液滴吐出ユニット 3毎に完了 *未完了の差が生じるが、全ての液滴吐出ユニット 3が欠損部 11を修復するまでヘッドガントリーユニット 4は往復を繰り返す。

[0250] ここで図 36の（b)に示すように、前述のユニット列は 1本のヘッドガントリーユニット 4 上に搭載された 4個の液滴吐出ユニット 3であり、このユニット列の中心線は、 Y2—Y 2、及び Y3—Y3となる。本実施形態では、この 2本のユニット列（ヘッドガントリーュニット 4)の中心線 Y2—Y2及び中心線 Y3— Y3間の距離力 S、対象基板 2の搬送方向に沿った長さの略 2分の 1になっている。そして、図 36の（b)に示すように、 2本のへッドガントリーユニット 4の中心線 Y2_Y2、及び中心線 Υ3—Υ3との間の間隔力対象基板 2の幅の略半分となるように配置し、その配置位置を中心に両振幅を基板の幅の略半分の移動量で移動する。

[0251] このように、ユニット列（ヘッドガントリーユニット 4)数毎に基板幅を分割し、それぞれのユニット列がその分割領域内で走查することにより、効率よく修復作業を行うことが可能となる。なお、図 32の（a)、図 32の（b)のようユニット列数が 1本の場合、基板中間線をユニット列中心として、両振幅を基板幅とする。

[0252] 図 37は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。図 37には、 3列のユニット歹 lj (ヘッドガントリーユニット 4)を有する構成の例が示されている。この場合、 1ユニット当り 4個の液滴吐出ユニット 3が搭載され、計 3列のユニット列を形成している。よって、対象基板 2は 4行 X 3列に分割されている。

[0253] n本のユニット列を有する欠陥修復装置にぉレ、ては、対象基板を n分割し、その n分割領域の中間線を中心として、それぞれのユニット列を基板幅の n分の 1の両振幅で複数回走査すると良い。このようにすることにより、往復動作によるヘッドガントリーュニット 4の移動総距離を最小にすることが可能となり、基板の処理時間を最も短縮すること力 Sできる。この比率は厳密に適用することなくとも、 ± 20%程度の誤差以内であれば、時間短縮の効果は大きい。

[0254] ここで、対象基板 2の幅を D、ユニット列の走查幅を d、ユニット列数を nとしたとき、

0. 8d≤D/n≤l . 2d、

の範囲にあると、基板の処理時間を短縮することができる。

[0255] 修復が終えられた処理基板は図示しない搬送ロボットにより取り出される。カラーフィルタ基板の場合は、基板は焼成炉に入れられて液滴材料は固化、完成する。実施形態 2では 2個のユニット列、及び、 3個のユニット列を有する欠陥修復装置について説明したことから、 n個のユニット列を有する場合、基板導入方向の基板サイズ Dに対して、基板を n分割し、ユニット列を分割したそれぞれの領域の中間線を中心に、基板の D/2nの振幅で往復走查することが良いことがわかる。また、 dを D/nと略一致させることで、装置サイズの最小化を図ることが可能となる力 ± 10%程度の差異であれば、装置サイズが大幅に増加することは無く装置の占有面積を小さくすることができる。また、 dと DZnは一致することが望ましいが、 ± 20%までの差異であれば、基板一枚当たりに要する処理時間が大幅に増加することはなぐタクトタイムの短縮を実現すること力 Sできる。

[0256] 図 38の（a)、図 38の（b)は、実施の形態 2に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図、及び側面図である。ガントリー 23の一方の側面には、液滴吐出ユニット 3を搭載した吐出ユニットスライド機構 24が設けられており、ガントリー 23の他方の側面にも、液滴吐出ユニット 3を搭載した吐出ユニットスライド機構 24が設けられている。ガントリー 23の一方の側面は、基板載置台 17に垂直であり、ガントリー 23の他方の側面は、基板載置台 17に対して傾斜している。

[0257] ガントリー 23の一方の側面の液滴吐出ユニット 3のスライド方向は、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図 1の Y方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜しており、ガントリー 23の他方の側面の液滴吐出ユニット 3のスライド方向も、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図 1の Y方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜している。このように基板搬送方向に対して液滴吐出ユニットのスライド方向が垂直でなくとも、本発明は適用可能である。また、複数のスライド機構において、搬送方向に対するそれぞれのスライド方向が異なっていても、その移動軌跡を予め把握し、スライド位置座標に基づいて液滴吐出ユニットの吐出タイミングを補正することができる。

[0258] 前述した実施の形態 1及び 2では、 CFパネルに生じた欠陥画素の例を説明したが、本発明はこれに限定されない。マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部を有するエレクト口ルミネッセンス (EL)表示装置の製造に対しても本発明を適用すること力 Sできる。また、プラズマ表示装置の背面基板の製造に対しても本発明を適用することができ、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造、および配線の製造に対しても本発明を適用することができる。

[0259] なお、本発明では、搬送方向の略等速の移動は、緩やかな加速、減速状態も含まれる。

[0260] また、不吐出検査器を、メインステージ以外の領域に設けた例を示したが、本発明はこれに限定されない。メインステージの下側に不吐出検査器を設け、基板の搬出入時に不吐出検査器が液滴塗布ユニットまで上昇して不吐出検査を行うように構成してもよい。

[0261] 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなぐ請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。産業上の利用の可能性

[0262] 本発明は、被記録物に対して相対的に移動する保持部材に保持された液滴吐出ユニットにより被記録物に液滴を吐出する液滴吐出描画装置に適用することができる

Claims

請求の範囲

[1] 被記録物に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、

前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、

前記保持手段と前記被記録物とを相対的に移動させる移動手段と、

前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段とを備えたことを特徴とする液滴吐出描画装置。

[2] 前記液滴吐出ユニットは、前記被記録物上に点在する複数個の吐出標的に液滴を吐出し、

前記移動手段は、前記保持手段を前記被記録物に対して主走査方向に沿って等速度で相対的に移動させ、

前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿って移動可能であり、

前記液滴吐出ユニットは、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第 1吐出標的から第 2吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出する請求項 1記載の液滴吐出描画装置。

[3] 前記吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段をさらに備える請求項 2記載の液滴吐出描画装置。

[4] 前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿って前記保持手段に複数個設けられ、

各液滴吐出ユニットに前記複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、

前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、

前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含む請求項 2記載の液滴吐出描画装置。

[5] 反転毎に定義される前記移動手段の移動量が一部異なる請求項 1記載の液滴吐出描画装置。

[6] 前記移動手段の移動量が前記反転の度に小さくなる請求項 5記載の液滴吐出描画装置。

[7] 個別に移動可能な N個（Nは整数）の液滴吐出ユニットと、

前記 N個の液滴吐出ユニットと基板とを相対的に移動させる移動手段とを備え、前記基板上の（N+ 1)個以上の修復箇所へ前記 N個の液滴吐出ユニットにより液滴を吐出するために、前記移動手段による移動方向を反転させることを特徴とする液滴吐出描画装置。

[8] 媒体上の複数個の吐出標的に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、

前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、

前記保持手段を前記媒体に対して主走査方向に沿って相対的に移動させる移動手段とを備え、

前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿った移動を停止した状態で前記吐出標的に液滴を吐出することを特徴とする液滴吐出描画装置。