WO2007015396A1 - フレキシブル金属張積層板 - Google Patents

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polyimide film
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Takashi Kikuchi
Hisayasu Kaneshiro
Shogo Fujimoto
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Definitions

  • the present invention relates to a flexible metal-clad laminate in which the occurrence of defects during the formation of a conductor layer is suppressed by improving the transportability of a polyimide film.
  • the flexible printed wiring board has a structure in which a circuit that also serves as a metal foil is formed on an insulating film.
  • a flexible metal-clad laminate that is the basis of the flexible wiring board is generally formed of various insulating materials, and a flexible insulating film is used as a substrate, and various adhesive materials are interposed on the surface of the substrate.
  • the metal foil is manufactured by a method of bonding by heating and pressure bonding.
  • a polyimide film or the like is preferably used as the insulating film.
  • thermosetting adhesives such as epoxy and acrylic are generally used (FPC using these thermosetting adhesives is hereinafter referred to as three-layer FPC).
  • FPC FPC
  • a metal layer is directly provided on an insulating film or a thermoplastic polyimide is used for an adhesive layer.
  • This two-layer FPC has better characteristics than the three-layer FPC, and demand is expected to grow in the future.
  • a casting method in which polyamic acid, which is a precursor of polyimide, is cast on a metal foil, applied, and then imidized, vapor deposition, sputtering, and plating are used.
  • a metallizing method in which a metal layer is directly formed on a polyimide film by a method described above, or a laminating method in which a polyimide film and a metal foil are bonded via a thermoplastic polyimide.
  • the casting method and the laminating method use metal foil, so that the metal foil surface irregularities are bonded in a state of being bitten into the polyimide layer.
  • the metalizing method does not use metal foil, so the metal layer does not bite into the insulating layer. For this reason, it is suitable for forming fine wiring that hardly causes etching residue.
  • a non-thermoplastic polyimide film is preferably used in view of various properties.
  • non-thermoplastic polyimides need to be imidized under very high temperature conditions, which causes strong stress on the film.
  • the obtained film is slack, it may be stretched. If the film is stretched, it is inferior in transportability, so when performing metallization in the roll-to-roll process, unevenness occurs in the formed metal layer due to the meandering of the film. Sputtering failure may occur, and the characteristics of the obtained flexible metal-clad laminate may be deteriorated.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2004-346210
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object thereof is to obtain a polyimide film in which the slackening is suppressed, and the occurrence of defects during the formation of the metal layer can be suppressed. Another object is to provide a flexible metal-clad laminate.
  • the storage elastic modulus at 400 ° C is 0.5 GPa to 1 .5 GPa
  • a flexible metal-clad laminate characterized by satisfying all requirements.
  • the flexible metal-clad laminate of the present invention uses a polyimide film with an optimized storage elastic modulus, so that the film can be prevented from slackening and the film transportability when forming a metal layer can be improved. It is possible to make it. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of defects when forming the metal layer, and it can be suitably used for FPC for forming fine wiring.
  • the film can be prevented from being stretched by the metalizing method. It is possible to effectively suppress the formation failure of the metal layer that occurs when manufacturing a laminated plate.
  • the storage elastic modulus at 400 ° C is 0.5 GPa to 1 .5 GPa
  • the inflection point of the storage elastic modulus will be described.
  • the inflection point of the storage elastic modulus needs to be in the range of 270 to 340 ° C, preferably 290 to 320 ° C, from the viewpoint of relaxation of thermal stress in the hot stove where imidization is performed.
  • the inflection point of the storage elastic modulus is lower than the above range, the heat resistance and dimensional stability upon heating of the resulting polyimide film may be lowered.
  • the temperature is higher than the above range, the temperature at which softening starts is high, so that the thermal stress is not sufficiently relaxed, and the slackness of the obtained film may not be improved.
  • the peak top of tan ⁇ which is a value obtained by dividing the loss elastic modulus by the storage elastic modulus, must be 320 ° C to 410 ° C or higher, preferably 330 ° C to 400 ° C. It is. If the peak top of tan ⁇ is lower than the above range, the temperature at which tan ⁇ begins to increase will be around 250 ° C or lower, and the core layer may begin to soften during dimensional change measurement. There is a possibility that the dimensional change during heating will deteriorate. On the other hand, if the peak top of tan ⁇ is higher than the above range, the temperature at which softening starts is high, so that the thermal stress is not sufficiently relaxed, and the elongation of the obtained film may not be improved.
  • the storage elastic modulus force at 400 ° C is in the range of 0.5 to 1.5 GPa, preferably 0.6 to 1.3 GPa, more preferably 0.7 to 1.2 GPa. . If the storage stability at 400 ° C is lower than the above range, the film becomes too soft in the furnace and the self-supporting property is reduced. The film appearance may be deteriorated, waviness and the like may occur, and the film appearance may deteriorate. On the other hand, if it is higher than the above range, the film does not soften to a level at which thermal stress can be easily relaxed.
  • the inventors of the present invention have a storage elastic modulus a (GPa) at the inflection point and storage at 400 ° C.
  • the degree of decrease in storage modulus is small, so that the relaxation effect is not sufficiently exhibited, and the looseness of the resulting film is not improved.
  • the film cannot maintain its self-supporting property, which causes the productivity of the film to deteriorate and the appearance of the resulting polyimide film to deteriorate.
  • a polyimide film satisfying all the above four conditions is required.
  • the polyimide film of the present invention can also obtain a solution strength of polyamic acid which is a precursor of polyimide.
  • the polyamic acid is usually prepared by dissolving an aromatic diamine and an aromatic dianhydride in an organic solvent so as to have a substantially equal molar amount, and controlling the resulting polyamic acid organic solvent solution. And stirring under the temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed.
  • These polyamic acid solutions are usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the concentration is within this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.
  • the polyimide film of the present invention can control various physical properties by controlling not only the structure of diamine and acid dianhydride, which are raw material monomers, but also the order of monomer addition. Therefore, in order to obtain the polyimide film of the present invention, it is preferable to imidize the polyamic acid solution obtained through the following steps (a) to (c).
  • Aromatic diamines that can be used include 4,4'-diaminodiphenylpropan, 4,4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3'-dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 2 , 2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-di
  • the step (a) it is preferable to obtain a prepolymer that forms a block component derived from thermoplastic polyimide.
  • a prepolymer that forms a block component derived from thermoplastic polyimide it is preferable to react a flexible diamine with an acid dianhydride.
  • the block component derived from thermoplastic polyimide refers to a component that melts when heated to a film strength of 00 ° C. and does not maintain the shape of the film.
  • the polyimide obtained by equimolar reaction of the aromatic diamine compound and aromatic acid anhydride component used in step (a) does not melt at the above temperature or maintain the shape of the film.
  • the flexible diamine is a diamine having a diamine flexible structure having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, or a sulfide group, and preferably has the following general formula (1 ).
  • [0027] is a divalent organic group represented by a group force selected, and R in the formula is the same or
  • the polyimide film strength obtained through the above process has not yet been clarified why it exhibits high adhesion without treatment. It can be considered that the bending sites scattered in the molecular chain inhibit the formation of the surface fragile layer or have some involvement in the adhesion with the adhesive layer.
  • the diamine component used in the step (b) is a rigid structure diamine, since the film finally obtained can be made non-thermoplastic.
  • the jamin having a rigid structure is:
  • R2 in the formula is
  • the use ratio of the rigid and flexible (flexible) amines is 80:20 to 20:80, more preferably 70:30 to 30:70, especially in terms of molar ratio. Is preferably in the range of 60:40 to 40:60.
  • the ratio of rigid-structured jamin exceeds the above range, the glass transition temperature of the resulting film becomes too high, and the storage elastic modulus in the high temperature region hardly decreases! ⁇ If the linear expansion coefficient becomes too small! ⁇ ⁇ There may be harmful effects. On the other hand, if it falls below this range, the opposite adverse effects may occur.
  • the flexible structure and rigid structure diamine may be used in combination of two or more kinds.
  • 3, 4'-diaminodiphenyl ether is used as the flexible structure diamine. It is particularly preferred.
  • 3,4'-diaminodiphenyl ether Since 3,4'-diaminodiphenyl ether has only one ether bond at the bending site, it exhibits intermediate properties between the above two kinds of diamines. That is, it has the effect of reducing the storage elastic modulus, but does not increase the linear expansion coefficient so much.
  • the amount of 3,4'-diaminodiphenyl ether used is preferably at least 10 mol% of the total diamine component, more preferably at least 15 mol%. If it is less than this, the above effects may not be sufficiently exhibited. On the other hand, the upper limit, preferably 50 mol% or less tool 4 0 mole 0/0 or less is more preferable. If it is more than this, the resulting polyimide film may have a low tensile elastic modulus.
  • Acid dianhydrides that can be used as a raw material monomer for the polyimide film of the present invention include pyromellitic dianhydride, 2, 3, 6, 7 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4 , 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 5, 6 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 2', 3, 3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4, 4 'oxyphthalic dianhydride, 3, 4 'oxyphthalic dianhydride, 2, 2 bis (3,4 dicarboxyphenol) propane dianhydride, 3, 4, 9, 10 perylene tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4
  • Acid dianhydrides are also classified into a flexible structure and a rigid structure, and the former is used in step (a) and the latter is used in step (c).
  • Acid dianhydride used in step Preferred examples include benzophenone tetracarboxylic dianhydrides, oxyphthalic dianhydrides, and biphenyl tetracarboxylic dianhydrides.
  • a preferred example of the acid dianhydride used in step (C) is pyromellitic dianhydride.
  • the preferred amount of Le tetracarboxylic dianhydrides is 10 with respect to the total acid dianhydride 50 mole 0/0, more preferably 15 to 45 mole 0/0, particularly preferably 20 to 40 mole 0 / 0 .
  • the soft transition diamine alone may cause the resulting polyimide film to have an excessively high glass transition temperature, or the storage elastic modulus in the high temperature region may not be sufficiently lowered.
  • the amount is larger than the above range, the glass transition temperature may be too low, or the storage elastic modulus in the high temperature region may be too low to make film formation difficult.
  • the preferred amount is 40 to: LOO mol%, more preferably 50 to 90 mol%, particularly preferably 60 to 80 mol%.
  • the polyimide film according to the present invention uses the aromatic dianhydride and aromatic diamine within the above-mentioned ranges by determining the type and blending ratio, thereby obtaining a desired glass transition temperature and high temperature range.
  • the tensile elastic modulus is 6. OGPa or higher 6.5, more preferably 5 GPa or higher.
  • the upper limit of the tensile modulus is preferably lOGPa or less. 9. OGPa or less is more preferable. If it is larger than the above value, the stiffness may be too strong, which may cause problems in handling.
  • the tensile modulus increases as the ratio of rigid structure diamine or dianhydride increases, and decreases as the ratio decreases.
  • the linear expansion coefficient force of the obtained polyimide film at 100 ° C. to 200 ° C. is preferably 20 ppm mZ ° C. or less, more preferably 16 ppm Z ° C. or less.
  • the lower limit of the linear expansion coefficient is preferably 7 ppmZ ° C, more preferably 9 ppmZ ° C.
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film can be adjusted by the mixing ratio of the flexible structure component and the rigid structure component.
  • the preferred solvent for synthesizing the polyamic acid is a power amide-based solvent, ie, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, as long as it is a solvent that dissolves the polyamic acid.
  • N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be used particularly preferably.
  • Fillers can also be added for the purpose of improving various film properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Any filler may be used, but preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.
  • the particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the type of filler to be added, but generally the average particle size is 0.05 to 100 m. It is preferably 0.1 to 75 m, more preferably 0.1 to 50 m, and particularly preferably 0.1 to 25 / ⁇ ⁇ . If the particle size is below this range, the modification effect appears. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired, or the mechanical properties may be greatly deteriorated. Further, the number of fillers added is not particularly limited because the film characteristics to be modified are determined by the filler particle size and the like.
  • the amount of filler added is 0.01 to 100 parts by weight of polyimide, LOO weight is preferably ⁇ 0.01 to 90 parts, more preferably 0.02 to 80 parts by weight. It is. If the amount of filler added is below this range, the effect of modification by the filler is difficult to appear. If this range is exceeded, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. Filling the filler,
  • a method of kneading the filler using three rolls 3.
  • the method of mixing immediately before film formation is preferable because contamination by the filler in the production line is minimized.
  • a dispersant, a thickener and the like can be used within a range not affecting the film physical properties.
  • thermal imidization method is a method in which the imidization reaction proceeds only by heating without the action of a dehydrating ring-closing agent or the like, and the chemical imidization method acts on a polyamic acid solution by using a chemical conversion agent and Z or a catalyst. This is a method for promoting imidization.
  • the chemical conversion agent means a dehydrating ring-closing agent for polyamic acid.
  • aliphatic acid anhydride aromatic acid anhydride, N, N'-dialkylcarbodiimide, low halogenated grade.
  • aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and latacic anhydride, or a mixture of two or more thereof can be preferably used.
  • the catalyst means a component having an effect of promoting the dehydration ring-closing action on the polyamic acid, and examples thereof include aliphatic tertiary amines, aromatic tertiary amines, and heterocyclic tertiary amines. Used. Among them, those selected from heterocyclic tertiary amine forces are particularly preferably used from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Specifically, quinoline, isoquinoline, ⁇ -picoline, pyridine and the like are preferably used.
  • Either method can be used to produce a film, but imidization by the chemical imidization method makes it easier to obtain a polyimide film having various properties that are preferably used in the present invention. It is in.
  • the polyimide film production process is particularly preferred.
  • a curing agent containing a dehydrating agent typified by an acid anhydride such as acetic anhydride and an imido catalyst typified by a tertiary amine such as isoquinoline, ⁇ -picoline or pyridine is used. May be.
  • a preferred embodiment of the present invention a chemical imidization method, will be described as an example to describe the process for producing a polyimide film.
  • the present invention is not limited to the following examples.
  • the film forming conditions and heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like.
  • a film forming dope is obtained by mixing a dehydrating agent and an imido catalyst in a polyamic acid solution at a low temperature.
  • this film-forming dope is cast into a film on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless steel belt or a stainless drum, and 80 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C on the support.
  • Heating in a temperature range of ⁇ 180 ° C partially activates the dehydrating agent and imido catalyst, and then partially hardens and Z or dries, then the support strength peels off and forms a polyamic acid film (hereinafter referred to as gel film). And get u).
  • the gel film is in the middle stage of curing to polyamic acid polyimide and has a self-supporting property (formula 2)
  • a and B represent the following.
  • the calculated volatile content is also in the range of 5 to 500% by weight, preferably 5 to 200% by weight, more preferably 5 to 150% by weight. It is preferable to use a film in this range, and if a film not included in this range is used, problems such as film breakage, uneven color tone of the film due to uneven drying, and characteristic variations may occur during the baking process. [0054]
  • a preferable amount of the dehydrating agent is 0.5 to 5 mol, preferably 1.0 to 4 mol, per 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the preferred amount of the imido catalyst is based on 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the imidity imidity may be insufficient, and may break during firing or mechanical strength may decrease. In addition, if these amounts exceed the above range, imidization proceeds too quickly, and it may be difficult to cast into a film form.
  • the polyimide film having a flexible structure and a rigid structure as described above is unknown for the exact reason, but imidization is performed at a relatively low temperature compared to a general non-thermoplastic polyimide film. Since it can be completed and the thermal stress applied to the film can be reduced, it is easy to improve the appearance of the resulting film.
  • heat treatment can be performed under the minimum tension necessary for transporting the film.
  • This heat treatment may be performed in the film manufacturing process, or may be provided separately.
  • the heating conditions vary depending on the film characteristics and the equipment used, and therefore cannot be determined in general. Generally 200 ° C to 500 ° C, preferably 250 ° C to 500 ° C, particularly preferred
  • the internal stress can be relieved by heat treatment at a temperature of 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower for 1 to 300 seconds, preferably 2 to 250 seconds, and particularly preferably 5 to 200 seconds.
  • the method and conditions for providing a metal layer on the polyimide film by a metallization method are not particularly limited, and any method of vapor deposition, sputtering, and plating may be used. Also this You can combine these methods.
  • the flexible metal-clad laminate according to the present invention implements various miniaturized and high-density parts by etching a metal foil to form a desired pattern wiring. It can be used as a flexible wiring board.
  • the use of the present invention is not limited to this, and it goes without saying that it can be used for various purposes as long as it is a laminate including a metal foil.
  • the storage elastic modulus was measured by DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology. The measurement was performed in the MD direction of the core film.
  • Sample measurement range width 9mm, distance between grips 20mm
  • the tensile modulus was measured according to ASTM D882. The measurement was performed in the MD direction of the core film.
  • Sample measurement range width 15mm, distance between grips 100mm
  • the amount of film slack is based on JPCA-BM01, and the polyimide film obtained in the example is hung on two rolls installed at a distance, one end is fixed, and the other end is loaded.
  • the sag difference between the horizontal line forces in the width direction (TD) of the film was measured at a weight of 5 g.
  • the load was 3kgZm and the distance between rolls was 2m.
  • the measurement points of the slack value were measured at intervals of 50 mm starting from 10 mm from the film edge in the width direction, and measured from the other film edge to a position of 10 mm. The largest of these values was taken as the amount of slack.
  • the obtained polyimide film was cut into a size of 500 mm in the width direction (TD) and 6 m in the transport direction (MD) to obtain a strip-like film.
  • the obtained film was placed on a flat surface, and a straight line connecting both ends of one side in the conveying direction was drawn.
  • a straight line was drawn at the center (3m) in the transport direction so as to be parallel to the width direction. The distance from the intersection of the two straight lines to the point where it intersects the latter linear force S film was taken as the single elongation value.
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film is as follows: Thermomechanical analyzer manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. Product name: TMA / SS6100 is used to raise the temperature from 0 ° C to 400 ° C and then cool to 10 ° C. Furthermore, the temperature was raised at 10 ° C / min, and the average value in the range of 100 to 200 ° C at the second temperature rise was obtained. Measurements were made in the MD direction and TD direction of the core film. Sample shape: width 3mm, length 10mm
  • Measurement temperature range 0 to 460 ° C
  • Samples were prepared according to JIS C6471 “6.5 Peeling strength”, 5 mm wide metal foil was peeled off at 90 ° peel angle and 50 mmZ, and the load was measured.
  • the sample for evaluating the adhesive strength is 3 points in the width direction of the metal-clad laminate and 6 points in the transport direction. A total of 18 samples were collected, and the adhesive strength was the average value.
  • the appearance of the metal-clad laminate was evaluated by visual inspection using a magnifying glass. And sheet Wa in the region of 100 m 2, sputtering, ⁇ where pinholes plated failure of 2 or less, 3-5 where ⁇ , the case of six or more and the X.
  • N, N dimethylformamide (hereinafter also referred to as DMF), 3, 4 'diaminodiphenyl ether (hereinafter referred to as 3, 4'-00 8) and bis ⁇ 4 mono (4-aminophenoxy) phenol ⁇ propane (hereinafter also referred to as BAPP) was added at the mole ratio shown in Table 1 and stirred.
  • BAPP bis ⁇ 4 mono (4-aminophenoxy) phenol ⁇ propane
  • pyromellitic dianhydride hereinafter also referred to as PMDA
  • p-PDA p-phenylenediamine
  • acetic anhydride Z isoquinoline ZDMF weight ratio 2.0 / 0. 3/4.
  • Imidic wrinkle accelerator which also has strength, is added at a weight ratio of 45% with respect to the polyamic acid solution, continuously stirred with a mixer, and the T die force is also extruded on a stainless steel endless belt running 20 mm below the die. It was cast into.
  • the ⁇ film peeled self-supporting gel film from end-less belt after heating at 130 ° CX 100 seconds (volatile content 30 weight 0/0) is fixed to the tenter clips, 250 ° CX 100 seconds, The film was dried and imidized at 360 ° CX for 120 seconds and 450 ° CX for 110 seconds, and a polyimide film having a thickness of 35 ⁇ m was wound up.
  • the thickness A metal laminate was prepared by laminating 50 angstroms of nickel by sputtering and further laminating copper on 2000 angstroms of nickel. Furthermore, a copper plating layer was laminated on the surface using a sulfuric acid electrolytic copper plating (cathode current density 2A / dm2, plating thickness 20 m, 20 to 25 ° C.) to produce a metal laminate.
  • N, N-dimethylformamide hereinafter also referred to as DMF
  • 4,4'-diaminodiphenyl ether hereinafter 4,4'-ODA
  • PMDA 4,4'-diaminodiphenyl ether
  • 3 mol 0/0 min the solution was prepared in DMF so that the solid content concentration of 7% PMDA, slowly the solution to the reaction solution being careful to viscosity increase ⁇ Ka ⁇ The polymerization was terminated when the viscosity at 20 ° C reached 4000 boise.
  • Imidic wrinkle accelerator which also has strength, is added at a weight ratio of 45% with respect to the polyamic acid solution, continuously stirred with a mixer, and the T die force is also extruded on a stainless steel endless belt running 20 mm below the die. It was cast into.
  • the ⁇ film peeled self-supporting gel film from end-less belt after heating at 130 ° CX 100 seconds (volatile content 30 weight 0/0) is fixed to the tenter clips, 300 ° CX 100 ⁇ The film was dried at 450 ° CX for 120 ° and 500 ° CX for 110 °, and a polyimide film having a thickness of 35 ⁇ m was wound up.
  • Example 2 In the same procedure as in Example 1, the raw materials were reacted at a molar ratio shown in Table 1 to obtain a polyamic acid solution, and a polyimide film having a thickness of 35 m was obtained using the polyamic acid solution.
  • Tables 2 and 3 show the evaluation results of the properties of the polyimide films and metal laminates obtained in each of the examples and comparative examples.
  • the metal laminated plate has no problem in both adhesive strength and appearance.
  • the flexible metal-clad laminate of the present invention is a polyimide film with an optimized storage elastic modulus.
  • a film By using a film, it is possible to suppress film elongation and to reduce film elongation and to improve film transportability when forming a metal layer. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of defects when forming the metal layer, and it can be suitably used for FPC for forming fine wiring.

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Abstract

 本発明は、蒸着やスパッタ、メッキといったメタライジング方法で作製された、外観良好なフレキシブル金属張積層板を提供することにある。芳香族ジアミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を、イミド化して得られるポリイミドフィルムであって、(A)270°C~340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、(B)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値であるtanδのピークトップが320°C~410°Cの範囲内にあり、(C)400°Cにおける貯蔵弾性率が0.5GPa~1.5GPaであり、(D)変曲点における貯蔵弾性率α1(GPa)と、400°Cにおける貯蔵弾性率α2(GPa)が下記式(1)の範囲にあるポリイミドフィルムを用いたフレキシブル金属張積層板によって上記課題を解決しうる。 (式1);85≧{(α1-α2)/α1}×100≧70                                                                       

Description

明 細 書
フレキシブル金属張積層板
技術分野
[0001] 本発明は、ポリイミドフィルムの搬送性を改善することによって、導体層形成時の不 良発生が抑制されたフレキシブル金属張積層板に関する。
背景技術
[0002] 近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント配 線板の需要が伸びている力 中でもフレキシブルプリント配線板 (以下、 FPCとも称 する)の需要が特に伸びている。フレキシブルプリント配線板は、絶縁性フィルム上に 金属箔カもなる回路が形成された構造を有している。
[0003] 上記フレキシブル配線板の元となるフレキシブル金属張積層板は、一般に、各種 絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表 面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱'圧着することにより貼りあわせる方法に より製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられ ている。上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般 的に用いられて 、る(これら熱硬化性接着剤を用いた FPCを以下、三層 FPCとも 、う
) o
[0004] これに対し、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたり、接着層に熱可塑性ポリイミド を使用した FPC (以下、二層 FPCともいう)が提案されている。この二層 FPCは、三層 FPCより優れた特性を有し、今後需要が伸びていくことが期待される。
[0005] 二層 FPCに用いるフレキシブル金属張積層板の作製方法としては、金属箔上にポ リイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後イミド化するキャスト法、蒸着、 スパッタ、メツキ等によりポリイミドフィルム上に直接金属層を設けるメタライジング法、 熱可塑性ポリイミドを介してポリイミドフィルムと金属箔とを貼り合わせるラミネート法が 挙げられる。この中で、キャスト法とラミネート法は金属箔を使用するため、金属箔表 面の凹凸がポリイミド層にかみ込んだ状態で接着されている。そのため、接着強度は 確保できるものの、エッチングにより配線を形成する際に、エッチング残りが発生し易 ぐ微細な配線を形成することが困難である。これに対し、メタライジング法は、金属箔 を使用しないため、絶縁層に金属層がかみ込むことがない。そのため、エッチング残 りが発生しにくぐ微細な配線形成に適している。
[0006] メタライジング法で使用されるポリイミドフィルムとしては、諸特性の兼ね合いから、 非熱可塑性のポリイミドフィルムが好適に用いられている。しかし一般に、非熱可塑性 ポリイミドは非常に高温の条件下でイミド化を行う必要があり、その際にフィルムに強 い応力がかかる。その結果、得られたフィルムに弛みゃ片伸びが生じたりする。弛み ゃ片伸びが生じたフィルムは搬送性に劣るため、ロール 'to ·ロールの工程でメタライ ジングを行う際に、フィルムのシヮゃ蛇行によって、形成される金属層にムラが生じた り、スパッタ不良が生じたりして、得られるフレキシブル金属張積層板の特性が悪ィ匕 することがある。
[0007] ポリイミドフィルムの弛み、片伸びの改善については、ゲルフィルムの延伸によって 改善する方法が報告されている (特許文献 1参照)。しかし、延伸処理は設備的コスト が高くなる、厚みの厚いフィルムは作りにくい、という問題があり、更なる改善が必要と されていた。
特許文献 1:特開 2004— 346210号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、弛みゃ片伸 びが抑えられたポリイミドフィルムを得ることにより、金属層形成時の不良発生が抑え られたフレキシブル金属張積層板を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0009] 本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、貯蔵弾性率の値が特定の 範囲に制御されたポリイミドフィルムは、一般的なポリイミドフィルムよりも比較的低温 でのイミド化が可能であり、イミドィ匕時にフィルムにかかる応力を抑えることが出来るた め、得られるフィルムの弛みゃ片伸びを抑えることが可能となり、該ポリイミドフィルム を使用することにより、搬送性が向上するために、金属層形成時の不良発生が抑えら れたフレキシブル金属張積層板を得ることが可能であることを独自に見出し、本発明 を完成させるに至った。
即ち、以下の新規なフレキシブル金属張積層板によって、上記目的を達成しうる。
1)ポリイミドフィルムの少なくとも片面に、金属層を直接形成して得られるフレキシブ ル金属張積層板であって、該フレキシブル金属張積層板に使用するポリイミドフィル ムが、芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸をイミド 化して得られるポリイミドフィルムであり、下記(1)〜 (4)の条件
( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、
(2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜410 °Cの範囲内にあり、
(3) 400°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 5GPa〜l . 5GPaであり、
(4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 400°Cにおける貯蔵弾性率 a (GPa)
1 2 が下記式(1)の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥70
1 2 1
を全て満たすことを特徴とする、フレキシブル金属張積層板。
2)ポリイミドフィルムの引張弾性率が 6GPa以上であることを特徴とする、 1)記載のフ レキシブル金属張積層板。
3)金属層の直接形成の手段が、スパッタ、蒸着、電解メツキ、無電解メツキのいずれ かであることを特徴とする、 1)または 2)記載のフレキシブル金属張積層板。
4)フィルムの弛みが 7mm以下、片伸びが 2mm以下であるポリイミドフィルムを用いる ことを特徴とする、 1)乃至 3)記載のフレキシブル金属張積層板。
発明の効果
[0010] 本発明のフレキシブル金属張積層板は、貯蔵弾性率を適正化したポリイミドフィル ムを使用することにより、フィルムの弛みゃ片伸びが抑えられ、金属層形成時のフィ ルム搬送性を向上させることが可能である。そのため、金属層形成時の不良発生を 抑えることが可能で、微細配線を形成する FPCに好適に用いることが可能である。 発明を実施するための最良の形態
[0011] 本発明の実施の形態について、以下に説明する。まず、本発明に係るポリイミドフィ ルムの場合について、その実施の形態の一例に基づき説明する。 [0012] (本発明のポリイミドフィルム)
本発明は、ポリイミドフィルムが下記(1)〜(4)のすベての物性を満たせば、フィル ムの弛みゃ片伸びが抑えられ、このポリイミドフィルムを用いてメタライジング法でフレ キシブル金属張積層板を製造する際に発生する金属層形成不良を効果的に抑制し うるというものである。
( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、
(2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 410°Cの範囲内にあり、
(3) 400°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 5GPa〜l . 5GPaであり、
(4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 400°Cにおける貯蔵弾性率 a (G
1 2
Pa)が下記式( 1 )の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥70
1 2 1
貯蔵弾性率の変曲点について説明する。貯蔵弾性率の変曲点は、イミド化を行う 熱風炉内での熱応力の緩和の観点から、 270〜340°C、好ましくは 290〜320°Cの 範囲にあることが必要である。ここで、貯蔵弾性率の変曲点が上記範囲よりも低い場 合、得られるポリイミドフィルムの耐熱性や加熱時寸法安定性が低下することがある。 逆に上記範囲よりも高い場合、軟ィ匕が始まる温度が高いため、熱応力を十分に緩和 せず、得られるフィルムの弛みゃ片伸びが改善されないことがある。
[0013] また、損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 410°C以上、好ましくは 330°C〜400°Cの範囲内にあることが必要である。 tan δの ピークトップが上記範囲よりも低い場合、 tan δが増加し始める温度が 250°C前後も しくはそれ以下になり、寸法変化測定時にコア層が軟ィ匕し始める場合があるため、加 熱時寸法変化が悪化する可能性がある。逆に tan δのピークトップが上記範囲よりも 高い場合、軟ィ匕が始まる温度が高いため、熱応力を十分に緩和せず、得られるフィ ルムの弛みゃ片伸びが改善されないことがある。
[0014] また、 400°Cにおける貯蔵弾性率力 0. 5〜1. 5GPa、好ましくは 0. 6〜1 . 3GPa 、更に好ましくは 0. 7〜1. 2GPaの範囲にあることが必要である。 400°Cでの貯蔵弹 性率が上記範囲よりも低い場合、炉内でフィルムが軟らかくなりすぎて自己支持性が 低下し、波打ち等が発生して、フィルム外観が悪ィ匕することがある。逆に上記範囲より も高い場合、熱応力を緩和しやすいレベルにまでフィルムが軟ィ匕しないために、弛み ゃ片伸びが改善されないことがある。
[0015] また、本発明者らは、変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と 400°Cにおける貯蔵
1
弾性率率 α (GPa)の値の関係について検討した結果、下記式(1)の範囲にあるこ
2
とが、フィルムの弛みゃ片伸び改善に重要であることを見出した。
[0016] 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥70 (式 1)
1 2 1
上記範囲を下回る場合、貯蔵弾性率の低下度合いが少ないため、緩和効果が十分 に発現せず、得られるフィルムの弛みゃ片伸びが改善されない原因となる。逆に上 記範囲よりも高い場合、フィルムが自己支持性を保てなくなり、フィルムの生産性を悪 化させたり、得られるポリイミドフィルムの外観を悪ィ匕させる原因となる。
[0017] 金属層形成時の不良発生が抑えられたフレキシブル金属張積層板を得るためには
、上記四条件を全て満たしたポリイミドフィルムが必要である。
[0018] これまで、上記特性のすべてを満たすポリイミドフィルムは知られていなかった。こ のようなポリイミドフィルムを得る方法は、特に限定はされないが、一例を挙げて説明 する。
[0019] 本発明のポリイミドフィルムは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の溶液力も得ら れる。ポリアミド酸は、通常、芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物とを、実質的に等モ ル量となるように有機溶媒中に溶解させて、得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制 御された温度条件下で、上記酸二無水物とジァミンの重合が完了するまで攪拌する ことによって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常 5〜35wt%、好ましくは 10 〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘 度を得る。
[0020] 本発明のポリイミドフィルムは、原料モノマーであるジァミン並びに酸二無水物の構 造のみならず、モノマー添加順序を制御することによつても、諸物性を制御することが 可能である。従って、本発明のポリイミドフィルムを得るためには、下記 (a)〜(c)のェ 程を経ることによって得られたポリアミド酸溶液をイミド化することが好ましい。
[0021] (a)芳香族酸二無水物と、これに対し過剰モル量の芳香族ジァミン化合物とを有機 極性 溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレボリマーを得る
(b)続、て、ここに芳香族ジァミンィ匕合物を追加添加する
(c)更に、全工程における芳香族酸二無水物と芳香族ジァミンが実質的に等モルと なるように芳香族酸二無水物を添加して重合する 本発明のポリイミドフィルムの原料 モノマーとして使用し得る芳香族ジァミンとしては、 4, 4'ージアミノジフエニルプロパ ン、 4, 4'ージアミノジフエニルメタン、ベンジジン、 3, 3'—ジクロ口べンジジン、 3, 3' ージメチルベンジジン、 2, 2'—ジメチルベンジジン、 3, 3'—ジメトキシベンジジン、 2 , 2'—ジメトキシベンジジン、 4, 4'ージアミノジフエ-ルスルフイド、 3, 3'—ジアミノジ フエニルスルホン、 4, 4'ージアミノジフエニルスルホン、 4, 4'ージアミノジフエニルェ 一テル、 3, 3'—ジアミノジフエニルエーテル、 3, 4'—ジアミノジフエニルエーテル、 1 , 5—ジァミノナフタレン、 4, 4'ージアミノジフエ二ルジェチルシラン、 4, 4'ージァミノ ジフエニルシラン、 4, 4'ージアミノジフエニルェチルホスフィンォキシド、 4, 4'ージァ ミノジフエニル N—メチルァミン、 4, 4'ージアミノジフエニル N—フエニルァミン、 1, 4 ージァミノベンゼンすなわち p—フエ-レンジァミン、 1, 3—ジァミノベンゼン、 1, 2— ジァミノベンゼン、ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル}スルホン、ビス {4— (3— アミノフエノキシ)フエ-ル}スルホン、 4, 4'—ビス(4—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 4 , 4'—ビス(3—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル }プロパン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(4—ァミノフエノキ シ)ベンゼン、 1, 3—ビス(4—アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノ キシ)ベンゼン、 3, 3'—ジァミノべンゾフエノン、 4, 4'ージァミノべンゾフエノン及びそ れらの類似物などが挙げられる。これらを単独又は任意の割合にて使用することもで きる。
上記 (a)工程にぉ 、て、熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分を形成するプレポリ マーを得ることが好まし ヽ。熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分を形成するプレポリ マーを得るためには、屈曲性を有するジァミンと酸二無水物とを反応させることが好 ましい。本発明において熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分とは、その高分子量 体のフィルム力 00°Cに加熱した際に熔融し、フィルムの形状を保持しな 、ようなもの を指す。 具体的には、 (a)工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物および芳香族酸無水物成分を 等モル反応させて得られるポリイミドが、上記温度で溶融するか、あるいはフィルムの 形状を保持しな 、かを確認することで、芳香族ジァミンィ匕合物および芳香族酸二無 水物成分を選定することができる。このプレボリマーを用いて (b)、 (c)工程の反応を 進めることにより、熱可塑性部位が分子鎖中に点在したポリアミド酸が得られる。ここ で、(b)、 (c)工程で用いる芳香族ジァミンィ匕合物および芳香族酸二無水物成分を 選択して、最終的に得られるポリイミドが非熱可塑性となるようにポリアミド酸を重合す れば、これをイミドィ匕して得られるポリイミドフィルムは、熱可塑性部位を有することに より、高温領域で貯蔵弾性率の変曲点を発現するようになる。その一方で、分子鎖中 の大部分は非熱可塑性の構造であるため、熱可塑性部位と非熱可塑性部位の割合 を制御することによって、高温領域で貯蔵弾性率が極端に低下することを防ぐことが 可能となる。
[0023] 本発明にお ヽて屈曲性を有するジァミンとは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、 スルフイド基など柔構造を有するジァミン柔構造を有するジァミンであり、好ましくは、 下記一般式(1)で表されるものである。
[0024] [化 1]
Figure imgf000008_0001
[0025] (式中の R
[0026] [化 2]
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0002
[0027] で表される 2価の有機基力 なる群力 選択される基であり、式中の Rは同一または
5
異なって、 Η—, CH―、— OH、 -CF、 -SO、— COOH、— CO— NH、 CI—、 B
3 3 4 2
r―、 F―、及び CH O—力もなる群より選択される 1つの基である。 )
3
上記工程を経ることによって得られたポリイミドフィルム力 何故無処理でも高接着 性を発現するのか、詳しいことはまだ明らかになっていない。分子鎖中に点在する屈 曲部位が表面脆弱層の形成を阻害するか、接着層との接着に何らかの関与をしてい ると考免られる。
[0028] さらに (b)工程で用いるジァミン成分は剛構造のジァミンであることが最終的に得る フィルムを非熱可塑性とすることができる点から好まし 、。本発明にお 、て剛直構造 を有するジァミンとは、
[0029] [化 3] NH2— R2-NH2
-般式 (2 )
[0030] 式中の R2は
[0031] [化 4]
Figure imgf000010_0001
-般式群 (2 )
[0032] で表される 2価の芳香族基力 なる群力 選択される基であり、式中の Rは同一また
3 は異なっていてもよぐ H—, CH 一、 — OH、 -CF 、 -SO 、— COOH、— CO- N
3 3 4
H 、 CI—、 Br—、 F—、及び CH O—からなる群より選択される何れかの 1つの基で
2 3
ある)で表されるものをいう。
[0033] ここで、剛構造と柔構造 (屈曲性を有するジァミン)のジァミンの使用比率はモル比 で 80 : 20〜20 : 80カ 子ましく、さらには70 : 30〜30 : 70、特には60 :40〜40 : 60の 範囲となるようにするのが好ましい。剛構造のジァミンの使用比率が上記範囲を上回 ると、得られるフィルムのガラス転移温度が高くなり過ぎる、高温領域の貯蔵弾性率が 殆ど低下しな!ヽ、線膨張係数が小さくなり過ぎると!ヽぅ弊害が発生する場合がある。 逆にこの範囲を下回ると、正反対の弊害を発生する場合がある。
[0034] 上記柔構造、剛構造のジァミンはそれぞれ複数種を組み合わせて使用しても良い 力 本発明のポリイミドフィルムにおいては、柔構造のジァミンとして、 3, 4'—ジァミノ ジフエニルエーテルを使用することが特に好ましい。 [0035] 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルは、屈曲部位であるエーテル結合が一つしかな いため、上記二種のジァミンの中間の性質を示す。即ち、貯蔵弾性率を低下させる 効果を有するが、線膨張係数はそれほど増力 tlさせない。そのため、 1, 3 ビス(3— アミノフエノキシ)ベンゼン、ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパン等の屈 曲部位を多く有するジァミンと併用することで、得られるポリイミドフィルムの物性バラ ンスを取ることが容易となる。
[0036] 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルの使用量は、全ジァミン成分の 10モル%以上 であることが好ましぐ 15モル%以上がより好ましい。これよりも少ないと、上記効果を 十分に発現しない場合がある。一方、上限については、 50モル%以下が好ましぐ 4 0モル0 /0以下がより好ましい。これよりも多いと、得られるポリイミドフィルムの引張弾性 率が低くなる場合がある。
[0037] 本発明のポリイミドフィルムの原料モノマーとして使用し得る酸二無水物としては、ピ ロメリット酸二無水物、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 3, 3', 4, 4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 1, 2, 5, 6 ナフタレンテトラカルボン酸 二無水物、 2, 2', 3, 3'—ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 3, 3', 4, 4'—ベン ゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 2', 3, 3'—ベンゾフエノンテトラカルボン酸 二無水物、 4, 4' ォキシフタル酸ニ無水物、 3, 4' ォキシフタル酸ニ無水物、 2, 2 ビス(3, 4 ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物、 3, 4, 9, 10 ペリレンテ トラカルボン酸二無水物、ビス(3, 4 ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物、 1, 1—ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、 1, 1—ビス(3, 4 ジカル ボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)メタン二無水物 、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ォキシジフタル酸二無水物、 ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)スルホン二無水物、 p フエ-レンビス(トリメリット 酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビス フエノール Aビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物等が挙げ られる。これらを単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。
[0038] ジァミンの場合と同様、酸二無水物についても、柔構造と剛構造とに分類し、前者 を (a)工程で、後者を (c)工程でそれぞれ使用する。(a)工程で使用する酸二無水物 としては、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物類、ォキシフタル酸ニ無水物類、 ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物類が好ましい例として挙げられる。(C)工程で使 用する酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物が好ましい例として挙げられる。ま た、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物類、ォキシフタル酸ニ無水物類、ビフエ
-ルテトラカルボン酸二無水物類の好ましい使用量は、全酸二無水物に対して 10〜 50モル0 /0、より好ましくは 15〜45モル0 /0、特に好ましくは 20〜40モル0 /0である。上 記範囲よりも少ない場合、柔構造ジァミンだけでは、得られるポリイミドフィルムのガラ ス転移温度が高すぎたり、高温領域の貯蔵弾性率が十分に低下しない場合がある。 逆に上記範囲よりも多い場合、ガラス転移温度が低すぎたり、高温領域の貯蔵弾性 率が低すぎてフィルム製膜が困難になる場合がある。
また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は 40〜: LOOmol%、更に 好ましくは 50〜90mol%、特に好ましくは 60〜80mol%である。ピロメリット酸二無 水物をこの範囲で用いることにより、得られるポリイミドフィルムのガラス転移温度およ び高温領域の貯蔵弾性率を、使用または製膜に好適な範囲に保ちやすくなる。
[0039] 本発明に係るポリイミドフィルムは、上記の範囲の中で芳香族酸二無水物および芳 香族ジァミンの種類、配合比を決定して用いることにより、所望のガラス転移温度、高 温領域の貯蔵弾性率を発現することができるが、フィルムのハンドリング性を考えると 、引張弾性率が 6. OGPa以上であることが好ましぐ 6. 5GPa以上であることがより好 ましい。引張弾性率の上限値としては、 lOGPa以下が好ましぐ 9. OGPa以下がより 好ましい。上記値よりも大きいと、コシが強すぎて、取扱い性に問題が生じる場合があ る。引張弾性率は、剛構造のジァミンまたは酸二無水物の割合を増やすことで値が 大きくなり、割合を減らすことで逆に小さくなる。
[0040] 従来では、引張弾性率を上げるためにはポリイミドの分子構造全体を剛直なものに していたが、その結果、炉内での熱応力が殆ど緩和されず、得られるフィルムに弛み ゃ片伸びが発生しやす力つた。本発明者らは鋭意検討を行った結果、剛直部位と柔 軟部位を構造内に導入することにより、炉内での熱応力緩和を発現させ、なおかつ 弓 I張弾性率の高 、フィルムを得ることに成功したのである。
[0041] ポリイミドフィルムの線膨張係数については、 FPC用途に使用することを考慮すると 、金属層の線膨張係数との差を小さくした方が反りや寸法安定性の面で好ましい。そ のため、得られるポリイミドフィルムの 100°C〜200°Cにおける線膨張係数力 20pp mZ°C以下であることが好ましぐ 16ppmZ°C以下であることがより好ましい。但し、 線膨張係数が小さ過ぎると、やはり金属箔の線膨張係数の差が大きくなつてしまう。 そのため、線膨張係数の下限は 7ppmZ°Cであることが好ましぐ 9ppmZ°Cであるこ とがより好ましい。ポリイミドフィルムの線膨張係数は、柔構造成分と剛構造成分の混 合比により調整が可能である。
[0042] ポリアミド酸を合成するための好ましい溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であれ ばいかなるものも用いることができる力 アミド系溶媒すなわち N, N—ジメチルフオル ムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、 N—メチル—2—ピロリドンなどであり、 N, N— ジメチルフオルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドが特に好ましく用い得る。
[0043] また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの 諸特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フィラーとしてはいかなるも のを用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、 窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。
[0044] フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフイラ一の種類によって決 定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が 0. 05-100 m、好ましく ίま 0. 1〜75 m、更に好ましく ίま 0. 1〜50 m、特に好ましく ίま 0. 1 〜25 /ζ πιである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れに《なり、この範囲 を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりすることがある。 また、フィラーの添加部数にっ 、ても改質すべきフィルム特性ゃフイラ一粒子径など により決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添カ卩量はポ ジイミド、 100重量咅に対して 0. 01〜: LOO重量咅^好まし <は 0. 01〜90重量咅^更に 好ましくは 0. 02〜80重量部である。フィラー添加量力この範囲を下回るとフイラ一に よる改質効果が現れにくぐこの範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損な われる可能性がある。フィラーの添カロは、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、 3本ロールなどを用いてフィラーを混鍊する方法 3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法 など!/、かなる方法を用いてもょ 、が、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合 する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少 なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合 溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状 態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさな ヽ範囲 内で用いることもできる。
[0045] これらポリアミド酸溶液力 ポリイミドフィルムを製造する方法にっ 、ては従来公知の 方法を用いることができる。この方法には熱イミドィ匕法と化学イミドィ匕法が挙げられる。 熱イミド化法は、脱水閉環剤等を作用させずに加熱だけでイミド化反応を進行させる 方法であり、化学イミド化法は、ポリアミド酸溶液に、化学的転化剤及び Z又は触媒と を作用させてイミド化を促進する方法である。
[0046] ここで、化学的転化剤とは、ポリアミド酸に対する脱水閉環剤を意味し、例えば、脂 肪族酸無水物、芳香族酸無水物、 N, N'—ジアルキルカルボジイミド、ハロゲン化低 級脂肪族、ハロゲン化低級脂肪酸無水物、ァリールホスホン酸ジハロゲンィ匕物、チォ -ルハロゲンィ匕物、またはそれら 2種以上の混合物が挙げられる。中でも入手の容易 性、コストの点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ラタ酸等の脂肪族酸無水物 、またはそれら 2種以上の混合物を好ましく用いることができる。
[0047] また、触媒とはポリアミド酸に対する脱水閉環作用を促進する効果を有する成分を 意味し、例えば、脂肪族第三級ァミン、芳香族第三級ァミン、複素環式第三級ァミン 等が用いられる。中でも触媒としての反応性の点から、複素環式第三級ァミン力 選 択されるものが特に好ましく用いられる。具体的にはキノリン、イソキノリン、 β—ピコリ ン、ピリジン等が好ましく用いられる。
[0048] どちらの方法を用いてフィルムを製造しても力まわないが、化学イミドィ匕法によるイミ ド化の方が本発明に好適に用いられる諸特性を有したポリイミドフィルムを得やす ヽ 傾向にある。
[0049] また、本発明にお 、て特に好ま 、ポリイミドフィルムの製造工程は、
a)有機溶剤中で芳香族ジァミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させてポリ アミド酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
C)支持体上で加熱した後、支持体力ゝらゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更に加熱して、残ったァミック酸部分をイミドィ匕し、かつ乾燥させる工程、 を含むことが好ましい。
[0050] 上記工程において無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤と、イソキノリン、 β —ピコリン、ピリジン等の第三級ァミン類等に代表されるイミドィ匕触媒とを含む硬化剤 を用いても良い。
[0051] 以下本発明の好ましい一形態、化学イミド化法を一例にとり、ポリイミドフィルムの製 造工程を説明する。ただし、本発明は以下の例により限定されるものではない。製膜 条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。
[0052] 脱水剤及びイミドィ匕触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合して製膜ドープを得る。
引き続いてこの製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステン レスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、支持体上で 80°C〜200°C、好 ましくは 100°C〜180°Cの温度領域で加熱することで脱水剤及びイミドィ匕触媒を活 性ィ匕することによって部分的に硬化及び Zまたは乾燥した後支持体力 剥離してポ リアミド酸フィルム(以下、ゲルフィルムと 、う)を得る。
[0053] ゲルフィルムは、ポリアミド酸力 ポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性 を有し、(式 2)
(A— B) Χ 100ΖΒ· · · · (式 2)
(式 2)中
A, Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを 450°Cで 20分間加熱した後の重量
力も算出される揮発分含量は 5〜500重量%の範囲、好ましくは 5〜200重量%、よ り好ましくは 5〜150重量%の範囲にある。この範囲のフィルムを用いることが好適で あり、この範囲に含まれないフィルムを用いると焼成過程でフィルム破断、乾燥ムラに よるフィルムの色調ムラ、特性ばらつき等の不具合が起こることがある。 [0054] 脱水剤の好ましい量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、 0. 5〜5 モル、好ましくは 1. 0〜4モルである。
[0055] また、イミドィ匕触媒の好ましい量はポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、
0. 05〜3モル、好ましくは 0. 2〜2モルである。
[0056] 脱水剤及びイミドィ匕触媒が上記範囲を下回るとィ匕学的イミドィ匕が不十分で、焼成途 中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、これらの量が上記範 囲を上回ると、イミドィ匕の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難とな ることがあるため好ましくな!/、。
[0057] 前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶 媒、残存転化剤及び触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化して、本発 明のポリイミドフィルムが得られる。
[0058] この時、最終的に 400〜550°Cの温度で 5〜400秒カ卩熱するのが好ましい。この温 度より高い及び Zまたは時間が長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じることが ある。逆にこの温度より低い及び Zまたは時間が短いと所定の効果が発現しないこと がある。
[0059] 上記で述べたような柔構造と剛構造を有するポリイミドフィルムは、正確な理由は不 明であるが、一般的な非熱可塑性ポリイミドフィルムと比較して、比較的低温でイミド 化を完了させることが可能であり、フィルムにかかる熱応力を減らすことが出来るため 、得られるフィルムの外観を向上させることが容易である。
[0060] また、フィルム中に残留している内部応力を緩和させるためにフィルムを搬送するに 必要最低限の張力下において加熱処理をすることもできる。この加熱処理はフィルム 製造工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けても良い。加熱条件は フィルムの特性や用いる装置に応じて変動するため一概に決定することはできない 力 一般的には 200°C以上 500°C以下、好ましくは 250°C以上 500°C以下、特に好 ましくは 300°C以上 450°C以下の温度で、 1〜300秒、好ましくは 2〜250秒、特に好 ましくは 5〜200秒程度の熱処理により内部応力を緩和することができる。
[0061] 上記ポリイミドフィルムにメタライズ法で金属層を設ける場合の方法、条件について は特に限定されず、蒸着、スパッタ、メツキのいずれの方法を用いても良い。また、こ れらの方法を複数組み合わせても構わな 、。
[0062] 本発明に力かるフレキシブル金属張積層板は、前述したように、金属箔をエツチン グして所望のパターン配線を形成すれば、各種の小型化、高密度化された部品を実 装したフレキシブル配線板として用いることができる。もちろん、本発明の用途はこれ に限定されるものではなぐ金属箔を含む積層体であれば、種々の用途に利用でき ることはいうまでもない。
実施例
[0063] 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに 限定されるものではない。
[0064] なお、実施例及び比較例におけるポリイミドフィルムの貯蔵弾性率、弓 I張弾性率、 弛み、片伸び並びに線膨張係数、フレキシブル金属張積層板の金属箔引き剥し強 度、外観の評価法は次の通りである。
[0065] (貯蔵弾性率)
貯蔵弾性率は、 SIIナノテクノロジ一社製 DMS6100により測定した。なお、測定 はコアフィルムの MD方向に対して行った。
サンプル測定範囲;幅 9mm、つかみ具間距離 20mm
測定温度範囲; 0〜440°C
昇温速度; 3°CZ分
歪み振幅; 10 m
測定周波数; 1, 5, 10Hz
最小張力 Z圧縮力; lOOmN
張力 Z圧縮ゲイン; 1. 5
力振幅初期値; lOOmN
(引張弾性率)
引張弾性率は、 ASTM D882に従い、測定を行った。なお、測定はコアフィルムの MD方向に対して行った。
サンプル測定範囲;幅 15mm、つかみ具間距離 100mm
I張速度; 200mmZmin (フィルム弛み)
フィルムの弛み量は、 JPCA- BM01に準拠し、距離を開けて設置した二本のロール に、実施例で得られたポリイミドフィルムを掛け、一方の端を固定して、他端に荷重を 掛けた際に生じるフィルムの幅方向(TD)の水平線力ものたるみ差を、 自重 5gでスケ ール測定した。荷重は 3kgZm、ロール間距離は 2mとして、その間の中央で測定し た。
弛み値の測定点は幅方向に、フィルム端部から 10mmを起点に 50mm間隔で測定 を行い、もう一方のフィルム端部から 10mmの位置までを測定した。その値の中で最 大のものを弛み量とした。
[0066] (片伸び)
フィルムの片伸びは、まず得られたポリイミドフィルムを幅方向(TD)〖こ 500mm、搬 送方向(MD)に 6mのサイズにカットし、短冊状のフィルムを得た。得られたフィルム を平坦な面に置き、搬送方向の一辺の両端部を結ぶ直線を引いた。次に、搬送方向 の中央部(3m)に、幅方向と平行になるように直線を引いた。二直線の交点から、後 者の直線力 Sフィルムと交わる点までの距離を片伸び値とした。
[0067] (線膨張係数)
ポリイミドフィルムの線膨張係数は、 SIIナノテクノロジ一社製熱機械的分析装置、 商品名: TMA/SS6100により 0°C〜400°Cまで一且昇温させた後、 10°Cまで冷却 し、さらに 10°C/minで昇温させて、 2回目の昇温時の、 100〜200°Cの範囲内の平 均値を求めた。なお、測定はコアフィルムの MD方向及び TD方向に対して行った。 サンプル形状;幅 3mm、長さ 10mm
荷重; 29. 4mN
測定温度範囲; 0〜460°C
昇温速度; 10°CZmin
(金属層の引き剥がし強度:接着強度)
JIS C6471の「6. 5 引きはがし強さ」に従って、サンプルを作製し、 5mm幅の金 属箔部分を、 90度の剥離角度、 50mmZ分の条件で剥離し、その荷重を測定した。 なお、接着強度の評価サンプルは、金属張積層板の幅方向に 3点、搬送方向に 6点 の合計 18点採取し、接着強度はその平均値とした。
[0068] (金属張積層板の外観)
金属張積層板の外観評価は、拡大鏡を使用した目視検反により行った。 100m2の 領域でシヮや、スパッタ、メツキ不良によるピンホールが 2個以下の場合を〇、 3〜5個 の場合を△、 6個以上の場合を Xとした。
[0069] (実施例 1〜3;ポリイミドフィルムの合成)
反応系内を 5°Cに保った状態で、 N, N ジメチルホルムアミド(以下、 DMFともいう )に、 3, 4' ジアミノジフエ-ルエーテル(以下、 3, 4'— 00八ともぃぅ)ならびにビス{ 4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパン(以下、 BAPPともいう)を表 1に示すモ ル比で添加し、撹拌を行った。溶解したことを目視確認した後、ベンゾフエノンテトラ カルボン酸二無水物(以下、 BTDAともいう)を表 1に示すモル比で添カ卩し、 30分間 撹拌を行った。
[0070] 続、て、ピロメリット酸二無水物(以下、 PMDAとも 、う)を表 1に示すモル比で添カロ し、 30分間撹拌を行った。続いて、 p フエ-レンジァミン(以下、 p— PDAともいう) を表 1に示すモル比で添加し、 50分間撹拌を行った。続いて、 PMDAを再度、表 1 に示すモル比で添加し、 30分間撹拌を行った。
[0071] 最後に、 3モル%分の PMDAを固形分濃度 7%となるように DMFに溶解した溶液 を調製し、この溶液を粘度上昇に気をつけながら上記反応溶液に徐々に添加し、 20 °Cでの粘度力 000ボイズに達した時点で重合を終了した。
[0072] このポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDMF (重量比 2. 0/0. 3/4.
0)力もなるイミドィ匕促進剤をポリアミド酸溶液に対して重量比 45%で添加し、連続的 にミキサーで攪拌し Tダイ力も押出してダイの下 20mmを走行しているステンレス製 のエンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 130°C X 100秒で加熱した後エンド レスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分含量 30重量0 /0)テンター クリップに固定し、 250°C X 100秒、 360°C X 120秒、 450°C X 110秒で乾燥'イミド 化させ、厚み 35 μ mのポリイミドフィルムを巻き取った。
[0073] 得られたポリイミドフィルムを繰り出しながら、その片面に前処理として、アルゴンィ オンによるプラズマ処理を行い表面の不要な有機物等の除去を行った。次に、厚み 50オングストロームのニッケルをスパッタにより積層し、更に、銅を 2000オングスト口 一ムニッケル上に積層した金属積層板を作製した。更に、硫酸電気銅メツキ(陰極電 流密度 2A/dm2、メツキ厚み 20 m、 20〜25°C)により、表面に銅メツキ層を積層 して金属積層板を作製した。
[0074] (比較例 1)
反応系内を 5°Cに保った状態で、 N, N—ジメチルホルムアミド(以下、 DMFともいう )に、 4, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル(以下、 4, 4'ーODAともぃぅ)とPMDAをl 00 : 97のモル比で混合し、 30分間撹拌を行った。続いて、 3モル0 /0分の PMDAを固 形分濃度 7%となるように DMFに溶解した溶液を調製し、この溶液を粘度上昇に気 をつけながら上記反応溶液に徐々に添カ卩し、 20°Cでの粘度が 4000ボイズに達した 時点で重合を終了した。
[0075] このポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDMF (重量比 2. 0/0. 3/4.
0)力もなるイミドィ匕促進剤をポリアミド酸溶液に対して重量比 45%で添加し、連続的 にミキサーで攪拌し Tダイ力も押出してダイの下 20mmを走行しているステンレス製 のエンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 130°C X 100秒で加熱した後エンド レスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分含量 30重量0 /0)テンター クリップに固定し、 300°C X 100禾少、 450°C X 120禾少、 500°C X 110禾少乾燥'イミドィ匕 させ、厚み 35 μ mのポリイミドフィルムを巻き取った。
[0076] 得られたポリイミドフィルムを用いて実施例と同様の操作を行 ヽ、金属積層板を作 製した。
[0077] 比較例 2)
実施例 1と同様の手順で、表 1に示すモル比で原料を反応させ、ポリアミド酸溶液を 得、そのポリアミド酸溶液を使用して厚み 35 mのポリイミドフィルムを得た。
[0078] 得られたポリイミドフィルムを用いて実施例と同様の操作を行 ヽ、金属積層板を作 製した。
[0079] 各実施例、比較例で得られたポリイミドフィルムならびに金属積層板の特性を評価 した結果を表 2、 3に示す。
[0080] [表 1]
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000022_0001
〔〕0082 ※ ;変曲点における貯蔵弾性率
; でにおける貯蔵弾性率
※比較 接着 使用した 物性 記載
〔〕0081 度接着強
喊 (/)Nmc
〇 〇 〇 X X 実施例 1
実施例 2
施実例 3
〇 lO ΙΩ 較例比 〇 2
00 00
t
[0083] 比較例 1〜2に示すように、ポリイミドフィルムの貯蔵弾性率、 tan δピークが規定範 囲外である場合は、フィルムの弛み量ならびに片伸び値が大きくなり、搬送性が悪化 すること〖こよって、スパッタゃメツキ工程時に積層ムラ等が生じるため、得られる金属 積層板の接着強度が低ぐ外観も劣る結果となった。
[0084] これに対し、全ての特性が所定範囲内となっているポリイミドフィルムを使用した実 施例では、金属積層板は接着強度、外観ともに問題無い結果となっている。
産業上の利用可能性
[0085] 本発明のフレキシブル金属張積層板は、貯蔵弾性率を適正化したポリイミドフィル ムを使用することにより、フィルムの弛みゃ片伸びが抑えられ、金属層形成時のフィ ルム搬送性を向上させることが可能である。そのため、金属層形成時の不良発生を 抑えることが可能で、微細配線を形成する FPCに好適に用いることが可能である。

Claims

請求の範囲 [1] ポリイミドフィルムの少なくとも片面に、金属層を直接形成して得られるフレキシブル 金属張積層板であって、該フレキシブル金属張積層板に使用するポリイミドフィルム 力、芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸をイミド化 して得られるポリイミドフィルムであり、下記(1)〜 (4)の条件 ( 1) 270°C〜340°Cの範囲に貯蔵弾性率の変曲点を有し、 (2)損失弾性率を貯蔵弾性率で割った値である tan δのピークトップが 320°C〜 410°Cの範囲内にあり、 (3) 400°Cにおける貯蔵弾性率が 0. 5GPa〜l . 5GPaであり、 (4)変曲点における貯蔵弾性率 a (GPa)と、 400°Cにおける貯蔵弾性率 a (G 1 2Pa)が下記式( 1 )の範囲にある
(式 1) ; 85≥{ ( α - a ) / a } X 100≥70
1 2 1
を全て満たすことを特徴とする、フレキシブル金属張積層板。
[2] ポリイミドフィルムの引張弾性率が 6GPa以上であることを特徴とする、請求項 1記載 のフレキシブル金属張積層板。
[3] 金属層の直接形成の手段が、スパッタ、蒸着、電解メツキ、無電解メツキのいずれか であることを特徴とする、請求項 1または 2記載のフレキシブル金属張積層板。
[4] フィルムの弛みが 7mm以下、片伸びが 2mm以下であるポリイミドフィルムを用いるこ とを特徴とする、請求項 1乃至 3記載のフレキシブル金属張積層板。
PCT/JP2006/314728 2005-08-04 2006-07-26 フレキシブル金属張積層板 Ceased WO2007015396A1 (ja)

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