WO2006080294A1 - 光ファイバ用石英ガラス母材およびその製造方法 - Google Patents

光ファイバ用石英ガラス母材およびその製造方法 Download PDF

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WO2006080294A1
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Hiroshi Machida
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Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
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    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/70—Control measures

Definitions

  • the present invention relates to a large-sized quartz glass preform for optical fiber (hereinafter simply referred to as an optical fiber preform) that can be stably obtained by an external method (OVD method) and a method for manufacturing the same.
  • ODD method external method
  • optical fiber preforms With the recent decrease in demand for optical fiber preforms, the manufacturing process of optical fiber preforms is required to increase competitiveness by reducing production costs. Various methods can be used to reduce production costs. One of them is the increase in size of optical fiber preforms.
  • the average bulk density of a normal porous base material is about 0.3 to 0.5 gZcm 3 .
  • a high-density porous preform with a bulk density of 0.6 gZcm 3 or more is produced, minute protrusions are formed on the surface of the deposit, and the optical fiber preform after dehydrated transparent vitrification is uneven. Is the table Remained on the surface.
  • the present invention increases the size of an optical fiber preform by preventing the formation of fine skin-like protrusions that occur in the manufacturing process of a high-density porous preform by an external method (OVD method).
  • OTD method external method
  • the purpose is to provide an optical fiber preform manufacturing method that can reduce the manufacturing cost and a high-density optical fiber preform manufactured thereby.
  • a plurality of panners arranged along the core glass rod are reciprocated to deposit glass fine particles on the peripheral surface of the glass rod by an external method (OVD method).
  • OTD method an external method
  • a quartz glass preform for optical fiber comprising the step of depositing the glass fine particles while adjusting the production conditions so that the average bulk density of the deposited porous preform is 0.6 g / cm 3 or more.
  • a manufacturing method is provided. That is, in the method for producing an optical fiber preform of the present invention, glass particles are obtained by reciprocally moving a plurality of spanners arranged along the peripheral surface of a core glass rod by an external method (OVD method).
  • ODD method external method
  • the average deposition thickness T [mm R / ave trv] of glass particles per traverse of the PANA is 0.5 mm or more and the average bulk density is 0.6 gZcm. It is characterized by producing a high-density porous base material by adjusting to 3 or more. As a result, a large-sized quartz glass base material for optical fibers having excellent surface properties can be manufactured.
  • the average deposition thickness T force is in the range of 0.5 to 1. Omm. It is preferable that it exists in. As a result, the growth of minute protrusions formed on the surface of the deposit can be effectively suppressed.
  • the average deposition thickness T is set to the traverse speed ave of the panner.
  • the average deposition thickness T is set to be ave of the raw material gas and the combustion gas.
  • a stone glass base material for optical fiber manufactured by the above manufacturing method. Since this optical fiber quartz or glass base material has a high density, it is possible to manufacture an optical fiber having a longer single base material strength. Thereby, the manufacturing cost of the optical fiber can be reduced.
  • the manufacturing method according to the present invention can prevent the occurrence of fine skin-like protrusions during deposition. As a result, a large-sized optical fiber preform can be manufactured with high quality, and the manufacturing cost of the optical fiber can be reduced.
  • FIG. 1 is a schematic diagram for explaining microprotrusions 4 formed on the surface of a deposited layer.
  • FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the growth of microprotrusions 4 formed on the surface of a deposited layer.
  • FIG. 3 is a schematic view showing an optical fiber preform manufacturing apparatus using the OVD method.
  • the optical fiber preform manufacturing method according to the present invention is a method in which glass particles are deposited by reciprocating a plurality of spanners arranged along the peripheral surface of a core glass rod by an external method (OVD method).
  • OTD method external method
  • the average deposition thickness T [mm RZtrv] of glass particles per traner is set to 0.5 ave.
  • Average deposition thickness (outer diameter of porous base material, outer diameter of starting material) Z (2 X total number of traverses) The total number of traverses is the total number of traversed from the start to the end of deposition.
  • a flame hydrolysis method in which glass particles are deposited on the peripheral surface of a core glass rod by an external method is a method in which one or a plurality of burners arranged in parallel to the core glass rod are transferred. It is carried out by moving it backwards, injecting an oxyhydrogen flame and raw material gas from a panner, and attaching the generated glass particles to the deposition surface.
  • a local low density layer 2 is formed by a PANA 1 traverse.
  • This local low-density layer 2 has a low density, but a local high-density layer 3 is formed on the surface, and the surface is extremely small. It is thought that microprotrusions 4 exist.
  • a local low density layer 2 and a local high density layer 3 and a microprojection 4 are formed on the surface of each traverse of the PANA. This microprojection 4 is formed by the local low density layer 2 deposited thereafter. The microprotrusions 4 that are covered sequentially and remain on the final surface are extremely small.
  • Reference numeral 5 is a deposition burner, and reference numeral 6 is a PANA flame.
  • the cause of the occurrence of the fine skin-like protrusions is that the local low-density portion in the deposited layer per traverse of the panner accompanying the increase in the density increases, and the previous traverse This is probably because the generated microprotrusions could not be covered. Therefore, by increasing the deposition thickness, the thickness of the local low density portion in the deposition layer per traverse of the PANANA is increased, and after covering the minute protrusions generated in the previous traverse completely, the next traverse is covered. The berth can be greeted. Therefore, it is possible to completely cancel the history of the previous microprojections, and as a result, it is possible to prevent the occurrence of scabbard microprojections.
  • the average deposition thickness T [mm RZtrv] of the glass fine particles per traverse of the PANA is 1. Omm or more, preferably 0.5 to 1. Omm.
  • the average deposition thickness T is less than 0.5 mm, the average thickness T
  • Example 1 Using the equipment shown in Fig. 3, the porous matrix was manufactured by the OVD method.
  • a quartz glass rod 7 having an outer diameter of 50 mm ⁇ and a length of 3, OOO mm is attached to the gripping tool 8 and rotated by the motor 9 while traversing the deposition spanner 10 along the quartz glass rod 7.
  • a porous base material 11 was produced by depositing soot (glass fine particles) on the peripheral surface of the quartz glass rod 7.
  • Reference numeral 12 denotes an exhaust hood, which is provided so as to move to the left and right in synchronism with the deposition burner 10.
  • oxygen is supplied to the fifth pipe for 20N1Z, and at the end of deposition, source gas (SiCl 4) for 10N1Z and oxygen for 20N1Z are supplied to the central pipe, and hydrogen is supplied to the third pipe for 200N1Z.
  • the supply of oxygen to the 5th pipe was adjusted to increase the outer diameter of the soot body so that the amount of oxygen was 60N1Z.
  • the traversing speed of the deposition spanner 10 during deposition was 90 mmZ.
  • a quartz glass rod 7 with an outer diameter of 50 mm ⁇ and a length of 3, OOO mm was used, and the traverse speed of the deposition panner 10 was changed to 120 mmZ, and the same equipment and deposition conditions as in Example 1 were used.
  • the porous base material 11 was manufactured, the skin-like microprotrusions started to appear on the surface during the deposition, and the porous base material (outer diameter 300 mm ⁇ , weight 100 kg) at the end of the deposition Grows into a protrusion.
  • the porous base material 11 has an outer diameter of 300 mm ⁇ and a weight of 100 kg.
  • the average deposition thickness T [mm RZtrv] was 0. 3 ave
  • the porous base material 11 has an outer diameter of 300 mm ⁇ and a weight of 100 kg.
  • the average deposition thickness T [mm RZtrv] was 1. 1 ave
  • the porous matrix was manufactured by the OVD method.
  • four concentric five-pipe panners are arranged at 150 mm intervals as the deposition panner 10.
  • a quartz glass rod 7 having an outer diameter of 50 mm ⁇ and a length of 3,000 mm was used as a starting target material, and the gas supply conditions to each deposition pan 10 were as follows. SiCl)
  • Oxygen was supplied to each of the 5 tubes for 20N1Z, and at the end of deposition, the source gas (SiCl) was supplied to the central tube.
  • the supply was adjusted as the outer diameter of the soot body increased, so that 4 was 10N1Z, oxygen was 18N1Z, hydrogen was 180N1Z for the third pipe, and oxygen was 50N1Z for the fifth pipe. .
  • the traversing speed of the deposition spanner 10 during deposition was set to 45 mmZ.
  • the obtained porous base material 11 has an outer diameter of 300 mm ⁇ and a weight of 85 kg.
  • the average deposition thickness T [mm RZtrv] was 0 ave
  • the bulk density was 0.4 gZcm 3 . Since this product has a low bulk density, it was unable to deposit up to the planned 100 kg due to the dehydration and sintering equipment in the next process.

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Abstract

　外付け法（ＯＶＤ法）によりコア用ガラス棒の周面上に、これに沿って配置した複数のバーナを往復移動させてガラス微粒子を堆積させることにより多孔質母材を作製するに当り、バーナ１トラバース当りのガラス微粒子の平均堆積厚さＴａｖｅ［ｍｍ　Ｒ／ｔｒｖ］が０．５ｍｍ以上で、平均嵩密度が０．６ｇ／ｃｍ３以上となるように調整して高密度多孔質母材を作製することを特徴としている。なお、平均堆積厚さＴａｖｅは、０．５～１．０ｍｍの範囲とするのが好ましく、バーナのトラバース速度を調整して、あるいは原料ガス及び燃焼ガスの供給量を調整することで、上記厚さ範囲に納めることができる。

Description

明 細 書
光ファイバ用石英ガラス母材およびその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、外付け法 (OVD法）により安定して得られる大型の光ファイバ用石英ガ ラス母材 (以下、単に光ファイバ母材と記載する)及びその製造方法に関する。
[0002] なお、文献の参照による組み込みが認められる指定国については、下記特許出願 の明細書に記載された内容を参照により本出願に組み込み、本件明細書の記載の 一部とする。
特願 2005— 018753号 出願曰 2005年 1月 26曰
背景技術
[0003] 近年の光ファイバ母材の需要の減少にともない、光ファイバ母材の製造工程では 生産コストの低減により競争力を増すことが求められている。生産コストの低減方法に は様々な方法が挙げられる力 その一つは光ファイバ母材の大型化である。
[0004] 光ファイバ母材の大型化の方法としては、多孔質母材の製造工程段階にぉ 、て、 製造する多孔質母材の外径を大きくする方法が主流となりつつある。しかしながら、 多孔質母材の外径を大きくした場合、次工程での脱水焼結設備の大型化が必要と なり、新たな設備投資が必要となる。
[0005] そこで、これに代わる方法として、多孔質母材の高密度化が試みられて 、る。この 方法を用いると、作製する多孔質母材の外径を大きくすることなぐ多孔質母材の堆 積重量を増加させることができ、結果的に脱水焼結して得られるガラス母材を大型化 できる。また、この方法を用いた場合、多孔質母材の外径には変化がないため、次ェ 程で使用される脱水焼結設備の改造を必要としない利点がある。
[0006] し力しながら、光ファイバ母材の大型化を狙って高密度多孔質母材を作製したとこ ろ、下記のような問題が発生した。
[0007] 通常の多孔質母材の平均的な嵩密度は 0. 3〜0. 5gZcm3程度である。これに対 し嵩密度が 0. 6gZcm3以上の高密度の多孔質母材を作製しょうとすると、堆積体表 面に微小な突起が生じ、脱水透明ガラス化後の光ファイバ母材においても凹凸が表 面に残った。
[0008] 即ち、製造過程の光ファイバ用母材を子細に観察したところ、堆積初期段階におい ては、外見上は鮫肌のように観察される高さ lmm程度の微小突起が、堆積体の表 面全体にわたって均一に生じていた。さらに堆積を続けると、突起は成長を続け、堆 積終了時には高さ 3cm程度のイボ状の突起となって、堆積体の表面全体に均一に分 布して 、た。このような突起を有する多孔質母材の脱水透明ガラス化を行ったところ、 光ファイバ母材の表面にイボ状の突起が原因と思われる凹凸が生じていた。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] 本発明は、外付け法 (OVD法）による高密度多孔質母材の製造工程にお 、て生じ る鮫肌状の微小突起の発生を防止することで、光ファイバ母材の大型化を実現し、 製造コストを低減できる光ファイバ母材の製造方法と、それにより製造される高密度な 光ファイバ母材との提供を目的として ヽる。
課題を解決するための手段
[0010] 本発明の第 1の形態として、コア用ガラス棒に沿って配置した複数のパーナを往復 移動させて、外付け法 (OVD法）によりガラス棒の周面上にガラス微粒子を堆積させ て多孔質母材とする光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法であって、パーナの 1ト ラバース当りのガラス微粒子の平均堆積厚さ T [mm RZtrv]が 0. 5mm以上で ave
あり、且つ、堆積された多孔質母材の平均嵩密度が 0. 6g/cm3以上となるように製 造条件を調整しながら前記ガラス微粒子を堆積させる工程を含む光ファイバ用石英 ガラス母材の製造方法が提供される。即ち、本発明の光ファイバ母材の製造方法で は、外付け法 (OVD法）によりコア用ガラス棒の周面上に、これに沿って配置した複 数のパーナを往復移動させてガラス微粒子を堆積させることにより多孔質母材を作 製するに当り、パーナ 1トラバース当りのガラス微粒子の平均堆積厚さ T [mm R/ ave trv]が 0. 5mm以上で、平均嵩密度が 0. 6gZcm3以上となるように調整して高密度 多孔質母材を作製することを特徴としている。これにより、表面性状に優れた大型の 光ファイバ用石英ガラス母材を製造することができる。
[0011] また、上記製造方法において、前記平均堆積厚さ T 力 0. 5〜1. Ommの範囲 にあることが好ましい。これにより、堆積体表面に形成される微小突起の成長も効果 的に抑制できる。
[0012] また、上記製造方法において、前記平均堆積厚さ T を、パーナのトラバース速度 ave
で調整することができる。これにより、パーナの燃焼条件を変更することなぐ確実な 制御ができる。
[0013] また、上記製造方法において、前記平均堆積厚さ T を、原料ガス及び燃焼ガスの ave
供給量で調整することができる。これにより、製造装置の動作を一定に保ったまま、所 望の製造条件を設定することができる。
[0014] 更に、本発明の第 2の形態として、上記製造方法により製造された光ファイバ用石 英ガラス母材が提供される。この光ファイバ用石英かラス母材は高密度なので、ひと つの母材力もより長い光ファイバを製造することができる。これにより、光ファイバの製 造コストを低減させることができる。
[0015] ただし、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではな
V、。これらの特徴群のサブコンビネーションもまた発明となり得る。
発明の効果
[0016] 本発明に係る製造方法は、堆積中の鮫肌状の微小突起の発生を防止できる。これ により、高品質でありながら大型の光ファイバ母材が製造でき、光ファイバの製造コス トを低減できる。
図面の簡単な説明
[0017] [図 1]堆積層表面に形成される微小突起 4について説明する概略図である。
[図 2]堆積層表面に形成される微小突起 4の成長について説明する概略図である。
[図 3]OVD法による光ファイバ母材の製造装置を示す概略図である。
符号の説明
[0018] 1、 7 石英ガラス棒 (ターゲット材)、 2 局所低密度層、 3 局所高密度層、 4 微小 突起、 5、 10 堆積用パーナ、 6 パーナ火炎、 8 把持具、 9 モータ、 11 多孔質母 材、 12 排気フード
[0019] 以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明する。ただし、以下の実施形態は 請求の範隨こかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明され て 、る特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らな 、。 発明を実施するための最良の形態
[0020] 本発明の光ファイバ母材の製造方法は、外付け法 (OVD法）によりコア用ガラス棒 の周面に、これに沿って配置した複数のパーナを往復移動させてガラス微粒子を堆 積させる際に、平均嵩密度が 0. 6gZcm3以上の高密度多孔質母材を作製するに当 り、パーナ 1トラバース当りのガラス微粒子の平均堆積厚さ T [mm RZtrv]を 0. 5 ave
mm以上、好ましくは 0. 5〜1. Ommとするものである。
[0021] 平均堆積厚さ T [mm RZtrv]は、次式で求められる。
ave
平均堆積厚さ = (多孔質母材外径 出発材外径) Z (2 Xトラバース総数） なお、トラバース総数とは、堆積開始から終了までにトラバースを行った総数のこと である。
[0022] 多孔質母材の堆積表面に微小突起が発生する原因は明確ではないが、以下のよ うに考えられる。
[0023] 外付け法 (OVD法）により、コア用ガラス棒の周面にガラス微粒子を堆積させる火 炎加水分解法は、コア用ガラス棒に平行に配置した 1本もしくは複数本のバーナを往 復移動させ、パーナより酸水素火炎及び原料ガスを噴射させて、生成したガラス微粒 子を堆積面に付着させることにより行われる。
[0024] この方法で堆積を行うと、パーナが 1トラバース（1方向移動）した際に、ガラス微粒 子が付着した堆積層には、局所的に密度差が発生し、表面に高密度層が、内部に 低密度層が形成されていると推測され、多孔質母材の密度を決定しているのは、この 内部の低密度層によるものと考えられる。
[0025] この局所的に形成された高密度層表面では、堆積したガラス微粒子が酸水素火炎 により粒子成長を起こしていると考えられ、局所的な高密度層表面に非常に微細な 突起が既に存在していると推測される。
[0026] このことについて、図 1を用いて説明する。
石英ガラス棒 (ターゲット材） 1の周面上にガラス微粒子 (スート)を堆積すると、先ず 、パーナ 1トラバースで局所低密度層 2が形成される。この局所低密度層 2は密度が 低いが、その表面には局所高密度層 3が形成され、さらにその表面に極めて小さな 微小突起 4が存在すると考えられる。
[0027] パーナの 1トラバース毎に局所低密度層 2と、その表面に局所高密度層 3及び微小 突起 4が形成されるが、この微小突起 4は、その後に堆積される局所低密度層 2で順 次覆われ、最終表面に残った微小突起 4は極めて小さい。なお、符号 5は堆積用バ ーナであり、符号 6はパーナ火炎である。
[0028] しかし、図 2に示すように、多孔質母材の密度を高密度化していくと、パーナ 1トラバ ース当りの堆積層における、局所低密度層 2の密度も高くなつていくため、前のトラバ ースで表面に発生した微小突起 4の履歴をなくすことが困難となり、結果的にトラバー スを繰り返していくと、微小突起 4が成長を始め、最終的に、鮫肌状の微小突起 4へと 、成長すると考えられる。
[0029] このような鮫肌状の微小突起を防止するには、鋭意研究の結果、パーナ 1トラバー ス当りの堆積層の厚さを大きくしていくことで、解決できることを見い出した。
[0030] 上記したように、鮫肌状の微小突起の発生原因としては、高密度化に伴なうパーナ 1トラバース当りの堆積層での局所的な低密度部分が高密度化し、前のトラバースで 発生した微小突起を覆い尽くせなくなつたためと考えられる。そこで、堆積厚を大きく することにより、パーナ 1トラバース当りの堆積層における局所的な低密度部分の厚さ を増大させ、前のトラバースで発生した微小突起を完全に覆い尽くした後、次のトラ バースを迎えることができる。よって、前の微小突起の履歴を完全にキャンセルするこ とができ、結果として鮫肌状の微小突起の発生を防止することができる。
[0031] また、高密度多孔質母材を作製するに当り、パーナ 1トラバース当りのガラス微粒子 の平均堆積厚さ T [mm RZtrv]を 1. Omm以上、好ましくは 0. 5〜1. Ommの範 ave
囲とするのがよい。平均堆積厚さ T が 0. 5mm未満では、所定の厚さに達するのに ave
時間が掛カりすぎる。また、 1. Ommを超えて大きくすると、堆積層当りの内面と外面 との間で局所的に密度差が大きくなりすぎ、製造中にクラックが発生しやすくなる。
[0032] 以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明 はこれらに限定されず、様々な態様が可能である。
実施例
[0033] (実施例 1) 図 3に示す装置を用いて、 OVD法により多孔質母材の製造を行った。ターゲット材 として、外径 50mm φ、長さ 3, OOOmmの石英ガラス棒 7を把持具 8に取り付けてモ ータ 9で回転させつつ、堆積用パーナ 10を石英ガラス棒 7に沿ってトラバースさせ、 石英ガラス棒 7の周面にスート (ガラス微粒子）を堆積させることにより、多孔質母材 1 1を製造した。符号 12は、排気フードを示し、堆積用パーナ 10と同期して左右に移 動するように設けてある。
[0034] なお、堆積用パーナ 10には同心 5重管パーナを使用し、 150mm間隔で 4本配置 した。各堆積用パーナ 10に対するガスの供給条件は、堆積初期においては、中心 管に原料ガス (SiCl )
4を 1N1Z分及び酸素を 8N1Z分、第 3管には水素を 50N1Z分
、第 5管には酸素を 20N1Z分それぞれ供給し、堆積終了時においては、中心管に 原料ガス（SiCl 4 )を 10N1Z分及び酸素を 20N1Z分、第 3管には水素を 200N1Z分
、第 5管には酸素を 60N1Z分となるように、供給をそれぞれスート体の外径の増加に 伴ない調整した。また、堆積中の堆積用パーナ 10のトラバース速度は 90mmZ分と した。
[0035] このような条件で堆積を行ったところ、堆積終了まで微小突起の発生は無ぐ外径 3 OOmm φ、重量 100kgで多孔質母材 11の作製を終了した。堆積後、パーナ 1トラバ ース当りの平均堆積厚さ及び密度を求めたところ、平均堆積厚さ T [mm R/trv] ave
ίま 0. 5mmで、嵩密度 ίま 0. 6g/ cmであつ 7こ。
[0036] (比較例 1)
出発ターゲット材として、外径 50mm φ、長さ 3, OOOmmの石英ガラス棒 7を使用し 、堆積用パーナ 10のトラバース速度を 120mmZ分とした以外は、実施例 1と同様の 装置及び堆積条件で多孔質母材 11の製造を行ったところ、堆積途中から表面に鮫 肌状の微小突起が発生し始め、堆積終了時の多孔質母材 (外径 300mm φ、重量 1 00kg)には、イボ状の突起に成長した。
[0037] この多孔質母材 11は、外径 300mm φ、重量 100kgであり、パーナ 1トラバース当 りの平均堆積厚さ及び密度を求めたところ、平均堆積厚さ T [mm RZtrv]は 0. 3 ave
mmで、嵩密度は 0. 6gZ cmであつ 7こ。
[0038] (比較例 2) 出発ターゲット材として、外径 50mm φ、長さ 3, OOOmmの石英ガラス棒 7を使用し 、堆積用パーナ 10のトラバース速度を 40mmZ分とした以外は、実施例 1と同様の 装置及び堆積条件で多孔質母材 11の製造を行ったところ、堆積終了後の冷却中に 、堆積表面にクラックが発生した。
[0039] この多孔質母材 11は、外径 300mm φ、重量 100kgであり、パーナ 1トラバース当 りの平均堆積厚さ及び密度を求めたところ、平均堆積厚さ T [mm RZtrv]は 1. 1 ave
mmで、嵩密度は 0. 6gZ cmであつ 7こ。
[0040] (比較例 3)
図 3に示す装置を使用し、 OVD法により多孔質母材の製造を行った。この装置に は、堆積用パーナ 10として、同心 5重管パーナが 150mm間隔で 4本配設されている
[0041] 出発ターゲット材として、外径 50mm φ、長さ 3, 000mmの石英ガラス棒 7を使用し 、各堆積用パーナ 10に対するガスの供給条件は、堆積初期においては、中心管に 原料ガス (SiCl )
4を 1N1Z分及び酸素を 8N1Z分、第 3管には水素を 50N1Z分、第
5管には酸素を 20N1Z分それぞれ供給し、堆積終了時においては、中心管に原料 ガス（SiCl )
4を 10N1Z分及び酸素を 18N1Z分、第 3管には水素を 180N1Z分、第 5 管には酸素を 50N1Z分となるように、供給をそれぞれスート体の外径の増加に伴な い調整した。また、堆積中の堆積用パーナ 10のトラバース速度は 45mmZ分とした。
[0042] このような条件で堆積を行ったところ、堆積終了まで微小突起の発生は無力つた。
得られた多孔質母材 11は、外径 300mm φ、重量 85kgであり、パーナ 1トラバース 当りの平均堆積厚さ及び密度を求めたところ、平均堆積厚さ T [mm RZtrv]は 0 ave
. 4mmで、嵩密度は 0. 4gZcm3であった。このものは嵩密度が小さいため、次工程 の脱水焼結設備の関係で、予定した 100kgまで堆積させることができな力つた。 産業上の利用可能性
[0043] 光ファイバ母材の生産コストの低減及び品質向上に寄与する。

Claims

請求の範囲
[1] コア用ガラス棒に沿って配置した複数のパーナを往復移動させて、外付け法 (OV D法）により前記ガラス棒の周面上にガラス微粒子を堆積させて多孔質母材とする光 ファイバ用石英ガラス母材の製造方法であって、
パーナの 1トラバース当りのガラス微粒子の平均堆積厚さ T [mm RZtrv]が 0.
ave
5mm以上であり、且つ、堆積された多孔質母材の平均嵩密度が 0. 6g/cm3以上と なるように製造条件を調整しながら前記ガラス微粒子を堆積させる工程を含む光ファ ィバ用石英ガラス母材の製造方法。
[2] 前記平均堆積厚さ T 力 0. 5〜： L Ommの範囲にある請求項 1に記載の光フアイ ave
バ用石英ガラス母材の製造方法。
[3] 前記平均堆積厚さ T を、パーナのトラバース速度で調整する請求項 1又は 2に記 ave
載の光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法。
[4] 前記平均堆積厚さ T を、原料ガス及び燃焼ガスの供給量で調整する請求項 1乃 ave
至 3のいずれかに記載の光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法。
[5] 請求項 1乃至 4のいずれかに記載の光ファイバ用石英ガラス母材の製造方法を用 V、て、製造されてなることを特徴とする光ファイバ用石英ガラス母材。
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