WO2006025314A1 - 電磁波遮蔽材及びそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

電磁波遮蔽材及びそれを用いた画像表示装置 Download PDF

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WO2006025314A1
WO2006025314A1 PCT/JP2005/015645 JP2005015645W WO2006025314A1 WO 2006025314 A1 WO2006025314 A1 WO 2006025314A1 JP 2005015645 W JP2005015645 W JP 2005015645W WO 2006025314 A1 WO2006025314 A1 WO 2006025314A1
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WO
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layer
image display
electromagnetic wave
wave shielding
conductor layer
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PCT/JP2005/015645
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English (en)
French (fr)
Inventor
Fumihiro Arakawa
Kazuhito Fujii
Yukihiro Kyoden
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
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Publication date
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0094Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
    • H05K9/0096Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent for television displays, e.g. plasma display panel

Definitions

  • the present invention relates to an image display device (display) using an image display element such as a cathode ray tube or a plasma display panel, and an electromagnetic wave shielding material used by being arranged on the observer side of the image display device. is there.
  • electromagnetic waves in this frequency band together with visible light constituting the image.
  • This is simply called electromagnetic waves. Therefore, in order to prevent electromagnetic interference (EMI) to other electronic devices due to this electromagnetic wave, an electromagnetic wave shielding material having a band-pass filter characteristic that transmits visible light but does not transmit electromagnetic wave to the viewer side of the image display device. It is done to install.
  • EMI electromagnetic interference
  • Typical examples of the electromagnetic wave shielding material include a so-called mesh-like conductor layer in which a large number of openings that transmit visible light are arranged adjacent to a conductor layer made of a metal such as copper or iron. .
  • a metal oxide or the like is usually formed on the outer surface on the observer side in the mesh conductor layer. A blackening layer made of is applied (see Patent Document 1).
  • the mesh conductor layer (mesh portion) is usually surrounded.
  • a continuum conductor layer without an opening is provided as a frame at the periphery (see Patent Document 2). This frame part does not transmit the display image and is irrelevant to the image display function, and it is necessary to make the area of the screen as large as possible. Formed in the position.
  • an image display device having this type of electromagnetic wave shielding material installed on the front side is also provided with a black light-shielding layer at the periphery of the screen in order to impart design.
  • the border by this black light shielding layer is usually the periphery of the glass plate laminated and integrated with the electromagnetic shielding material. It is formed by printing with black ink on a predetermined part of the film (see Patent Document 3)
  • a desired display pattern is formed by means of ⁇ .
  • a light source such as a miniature bulb or LED on the back of the display pattern.
  • Patent Document 1 JP-A 61-134189
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 11-233992
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-9484
  • the present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to easily form a border with a black light-shielding layer on the peripheral edge of the screen and to provide a desired display pattern.
  • An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding material that can be easily formed, and to provide an image display device using the same.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding material that is incorporated in an image display device having an image light emitting unit including a central portion and an outer edge portion, and is disposed on the viewer side of the image light emitting unit, on the outer surface of the viewer side.
  • a light-shielding conductor layer having a blackening layer, the conductor layer including a large number of openings and disposed opposite to the center of the image light-emitting portion, and provided around the mesh portion.
  • An electromagnetic wave shielding material comprising a frame portion disposed opposite to the outer edge portion of the image light emitting portion.
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding material, wherein the frame portion has a translucent pattern portion having a pattern-like opening force.
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding material, wherein the frame portion extends further outward from the outer edge portion of the image light emitting portion, and the translucent pattern portion is disposed corresponding to the outer edge portion. .
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding material, characterized in that a transparent base material that supports the conductor layer is laminated on the image light emitting portion side of the conductor layer.
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding material, wherein the conductor layer is laminated on a transparent substrate via a transparent adhesive layer.
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding material, wherein a fender layer is provided on the blackened layer of the conductor layer.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding material characterized in that a transparent resin layer is provided so as to cover the mesh portion of the conductor layer.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding material characterized in that at least one of a color tone adjusting layer, a near infrared shielding layer, an antireflection layer, and an ultraviolet ray absorbing layer is provided on the transparent resin layer. .
  • the present invention is an image display device including an image light emitting unit including a central portion and an outer edge portion, and an electromagnetic wave shielding material arranged on the viewer side of the image light emitting unit!
  • the electromagnetic wave shielding material includes a light-shielding conductive layer having a blackened layer on the outer surface on the viewer side, and the conductive layer includes a large number of openings and faces the central portion of the image light emitting unit.
  • It is an image display device characterized by having an arranged mesh part and a frame part provided around the mesh part and arranged to face the outer edge part of the image light emitting part.
  • the present invention is the image display device characterized in that the frame portion has a translucent pattern portion having a pattern-like opening force.
  • the present invention is an image display device characterized in that the frame portion extends further outward from the outer edge portion of the image light emitting portion, and the translucent pattern portion is disposed corresponding to the outer edge portion. .
  • the present invention is an image display device characterized in that a transparent base material that supports the conductor layer is laminated on the image light emitting portion side of the conductor layer.
  • the present invention is the image display device described above, wherein the conductor layer is laminated on a transparent substrate via a transparent adhesive layer.
  • the present invention is an image display device characterized in that a fender layer is provided on the blackened layer of the conductor layer.
  • the present invention is an image display device characterized in that a transparent resin layer is provided so as to cover the mesh portion of the conductor layer.
  • the present invention is an image display device characterized in that at least one of a color tone adjusting layer, a near infrared shielding layer, an antireflection layer, and an ultraviolet ray absorbing layer is provided on the transparent resin layer. .
  • the electromagnetic wave shielding member of the present invention it is not necessary to add a separate printing process or the like when forming a border with a black light shielding layer on the peripheral edge of the screen in the image display device, and the number of processes and material costs increase. In addition, there is an effect that there is no shading unevenness that tends to occur in printing.
  • the display pattern can be emitted without adding the process and material costs for installation or increasing the power consumption.
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of an electromagnetic wave shielding material according to the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the XX cross section in FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the XX cross section in FIG. 1.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing another embodiment of the cross-sectional configuration shown in FIG.
  • FIG. 5 is a front view showing an example of the image display device according to the present invention in a state when the power is not turned on and a state when the power is turned on.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of an XX cross section in FIG. 5 (B).
  • FIG. 7 is a plan view showing an electromagnetic wave shielding material according to the prior art.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing an XX cross section in FIG.
  • FIG. 9 is a front view showing an example of an image display device using an electromagnetic wave shielding material according to the prior art in a state when the power is not turned on and a state when the power is turned on.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing an XX cross section in FIG. 9 (B).
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of an electromagnetic wave shielding material according to the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the XX cross section in FIG. 1
  • FIG. 3 is another cross section of the XX cross section in FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing another embodiment of the cross-sectional configuration shown in FIG. 3
  • FIG. 5 (A) is a front view showing an example of the image display device according to the present invention when the power is not turned on.
  • FIG. 5 (B) is a front view showing the state when the power is turned on
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of the XX cross section in FIG. 5 (B).
  • 7 to 10 show comparative examples with the present invention
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of an electromagnetic wave shielding material according to the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the XX cross section in FIG. 1
  • FIG. 3 is
  • FIG. 7 is a plan view showing an electromagnetic wave shielding material according to the prior art
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the XX cross section in FIG.
  • Fig. 9 (A) is a front view showing an example of an image display device using an electromagnetic wave shielding material according to the conventional technology when the power is not turned on
  • Fig. 9 (B) is a front view showing the same state when the power is turned on.
  • 10 is a cross-sectional view showing an XX cross section in FIG. 9 (B).
  • FIGS. 1 and 3 parts corresponding to FIGS. 1 and 3 are denoted by the same reference numerals, and parts corresponding to FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals in FIGS. Description is omitted.
  • the image display device D includes an image display element 5 including an image light emitting unit 5a, an electromagnetic wave shielding material 1 provided to an observer H of the image display element 5, and this A transparent base material 32 provided on the observer H side of the electromagnetic wave shielding material 1 via a transparent adhesive layer 31 is provided.
  • the image display element 5, the electromagnetic wave shielding material 1, and the transparent base material 32 are held by the frame body 6.
  • the electromagnetic wave shielding material 1 includes a light-shielding conductor layer 11 having a black glazing layer 12 formed on the outer surface of the observer H side, and the conductor layer 11 has a large number of apertures 2a.
  • the mesh portion 2 includes a frame portion 3 that is provided around the mesh portion 2 and surrounds the mesh portion 2.
  • the image light emitting part 5a includes a center part 5b and an outer edge part 5c on the outer periphery of the center part 5b.
  • the mesh part 2 is arranged to face the center part 5b of the image light emitting part 5a, and the frame part 3 is the image light emitting part 5a. It is arranged to face the outer edge 5c of the.
  • the electromagnetic shielding material 1 of the present invention has a shape whose entire outline corresponds to the shape of the screen of the image display device, and is usually a rectangle as shown in Fig. 1 or a shape obtained by slightly deforming it. .
  • the central region of the electromagnetic wave shielding material 1 includes a mesh portion 2 that is arranged adjacent to a large number of openings that transmit a display image and that faces the central portion 5b of the image light emitting portion 5a of the image display element. It has become.
  • a region surrounding the periphery of the mesh portion 2 is a frame portion 3 that faces the outer edge portion 5c of the image light emitting portion of the image display element.
  • the opening of the mesh portion 2 is illustrated as being enlarged and exaggerated from the actual size.
  • the frame portion 3 of the electromagnetic wave shielding material 1 is provided with a translucent pattern portion 4 in which an opening having a desired shape such as a product name in a plan view is formed.
  • the translucent pattern portion 4 is located at a position facing the outer edge portion 5c of the light emitting portion 5a of the image display element 5, and when the image display element 5 emits light, the light from the image display element 5 is opened. Transmits through and emits light in a pattern. As a result, a pattern such as a product name is emitted and displayed in a predetermined area of the outer edge 5c of the screen. Further, when the image display element 5 is not emitting light, the translucent pattern portion 4 does not emit light, and the pattern disappears because it is substantially inconspicuous.
  • FIG. 2 and FIG. 3 show typical forms of the cross-sectional shape of the electromagnetic shielding material 1 shown in FIG.
  • the electromagnetic wave shielding material 1 shown in FIG. 2 includes a conductor layer 11 and a black layer 12 formed on the surface (observer side). An opening 2 a that transmits image light is formed in the mesh portion 2, and a patterned opening 4 a is formed at a predetermined position of the frame portion 3.
  • a transparent adhesive layer 13 and a transparent substrate 14 are further laminated. 3 shows a form in which the transparent base material 14 side faces the image display element, but in the case where the transparent base material 14 faces the observer side, the transparent base material 14 side of the conductor layer 11 ( The black layer 12 is located on the lower side in the figure.
  • FIG. 4 In addition to the cross-sectional configuration of the electromagnetic wave shielding material of the present invention, a single-layer configuration made of a black conductor is used, and the conductive material on the transparent substrate 14 without the transparent adhesive layer 13 in FIG. There is a structure in which a body layer 11 and a black layer 12 are laminated.
  • FIG. 4 there is a configuration in which various functional layers are stacked in addition to the configuration of FIG.
  • 21 is a flaw-proofing layer
  • 22 is a transparent resin layer
  • 23 is an adhesive layer / tone control layer
  • 24 is a near-infrared shielding layer
  • 25 is an adhesive layer
  • 26 is an anti-reflection layer / ultraviolet absorption layer It is.
  • the image display device D of the present invention can be obtained by disposing the electromagnetic wave shielding material 1 on the observer H side of various image display elements 5 (including the image light emitting unit).
  • the target image display element 5 include a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT), an electroluminescence element (EL element), and a liquid crystal display element (LCD).
  • the electromagnetic wave shielding material 1 is arranged on the viewer side (image light emitting surface) of the image display element.
  • the electromagnetic wave shielding material of the type shown in FIG. 2 or 3 is used, and an adhesive layer is provided if necessary. And a form in which the electromagnetic wave shielding material 1 is laminated on the transparent substrate 32 as shown in FIG. 6 and then arranged on the front surface of the image display element. There is.
  • the image display device D shown in FIGS. 5 (A) and (B) is shown in FIG. 1 on the surface of the observer H side of the image display element 5 such as a plasma display panel.
  • An electromagnetic shielding material 1 such as is arranged.
  • the inner edge of the frame part 3 of the electromagnetic wave shielding material 1 faces the outer edge part 5c of the image light emitting part 5a of the image display element 5 and the black layer (note that illustration is omitted for the sake of simplicity,
  • the conductor layer 11 in FIG. 6 has a blackened layer on the side facing the transparent substrate 32.) is arranged so as to face the viewer side.
  • FIG. 1 In the example of FIG.
  • the electromagnetic wave shielding material 1 faces the image display element 5 in a state where the black color layer side is laminated on a transparent substrate 32 such as a glass plate via a transparent adhesive layer 31. Yes.
  • the frame portion of the electromagnetic shielding material 1 and the image display element 5 laminated on the transparent substrate 32 is exposed in a state where at least the portion including the translucent pattern portion 4 of the frame portion 3 of the electromagnetic shielding material 1 is exposed. Covered by body 6.
  • the image display device D having such a configuration has a black color at the periphery of the effective display portion 7 of the screen as in the case of Fig. 9 (A) of the prior art.
  • this black shading layer border 8 is formed by printing the black shading layer 33 using black ink on the back surface of the transparent substrate 32 separately from the electromagnetic shielding material 1 as shown in FIG.
  • the border 8 is constituted by the inner peripheral side of the frame portion 3 of the electromagnetic wave shielding material 1 having the black glaze layer 12 on the surface as shown in FIG. Different.
  • the effective display portion 7 is shielded by the border 8 (the frame portion 3) of the image light emitting portion 5a of the image display element, as shown in the sectional view of FIG. This is the area excluding the outer edge, which means the area where the image can actually be observed.
  • the image display device D shown in FIG. 5 (A) When the image display device D shown in FIG. 5 (A) is turned on, as shown in FIG.
  • the translucent pattern portion 4 in the border 8 of the light shielding layer emits light by the transmitted image light and displays a desired pattern.
  • the display pattern portion disappears as shown in FIG.
  • the display pattern 9 is printed with ink on the frame 6 so that the display pattern 9 is displayed both when the power is turned on and when the power is not turned on. It remains displayed.
  • the conductor layer 11 constituting the electromagnetic wave shielding material 1 is a layer responsible for the electromagnetic wave shielding function, and even if the conductive layer 11 itself is opaque, a large number of openings are arranged adjacent to each other.
  • the shielding function and light transmission are compatible.
  • Examples of the planar shape of the opening include a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus and a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle and an ellipse.
  • the shape of the opening is arbitrary and not particularly limited, but a square is typical.
  • the mesh portion 2 is formed by arranging a large number of openings having these shapes adjacent to each other.
  • each opening has the same shape and the same size on the entire surface, and a line portion having a uniform width between the openings. It becomes.
  • the width of the line portion between the openings is 25 m or less, preferably 20 / z m or less, in view of the aperture ratio and the non-visibility of the mesh.
  • the opening size is [line interval or line pitch]-[line width].
  • the aperture size is 150 m or more, and more preferably 200 m or more. This is preferable.
  • the bias angle (angle formed between the mesh line and the outer periphery of the electromagnetic wave shielding material) may be appropriately set to an angle at which moiré is not likely to occur in consideration of the pixel pitch and light emission characteristics of the image display element (see FIG. 1 is set to 45 ° with respect to the lower side).
  • the material used for the conductor layer 11 is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to exhibit electromagnetic wave shielding performance, but it is usually preferable to use a metal foil in terms of good conductivity. Yes.
  • the conductor layer 11 in a form laminated with the transparent substrate 14 can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination, or the like on the transparent substrate 14. Examples of the metal foil or metal layer material include gold, silver, copper, iron, nickel, chromium, and aluminum.
  • the metal used may be an alloy, or the metal layer may be a single layer or multiple layers. For example, in the case of iron, low carbon rimmed steel is low carbon steel such as low carbon aluminum killed steel, Ni-Fe compound.
  • Gold, Invar alloy and the like are preferable.
  • the metal when the metal is copper, it becomes copper or a copper alloy.
  • U which prefers electrolytic copper foil.
  • the thickness of the conductor layer 11 made of metal foil or metal layer is about 1 to about LOO / zm, and preferably about 5 to 20 / ⁇ . If the thickness is too thin, it will be difficult to obtain sufficient electromagnetic shielding performance due to an increase in electrical resistance, and if the thickness is too thick, it will be difficult to obtain a high-definition mesh shape. Permeability may decrease, or the viewing angle of the display may be reduced due to interference with the sides of the mesh.
  • the surface of the metal foil or metal layer to be the conductor layer 11 is preferably a rough surface in order to improve the adhesion with an adjacent layer such as a transparent adhesive layer.
  • a rough surface can be obtained on the surface (the surface of the black layer) simultaneously with the formation of the black layer by the black layer process.
  • the degree of the rough surface is 10-point average roughness Rz FIS—B0601 compliant (1994 version)], and is preferably about 0.1 to 1 O / zm, more preferably 1. or less, and still more preferably 0. 5 to 1.5 m. If the roughness is less than this, the effect of roughening cannot be sufficiently obtained, and if the roughness is larger than this, bubbles are embraced or crushed when an adhesive or a resist is applied.
  • the electromagnetic wave shielding performance of the conductor layer 11 is determined according to the purpose and application.
  • the electromagnetic wave shielding property is determined by the material, thickness, diameter and width (opening ratio) of the conductor layer 11, and therefore, these specifications are adjusted and designed so as to meet the required shielding ratio.
  • an electromagnetic wave attenuation rate of 30 dB or more is required in the frequency band of 30 MHz to 1 GHz.
  • the blackening layer 12 provided on the outer surface of the conductor layer 11 is originally intended to improve the contrast of the image in the bright room of the display and is a layer exhibiting a dark color such as black.
  • a known blackening layer can be appropriately employed.
  • inorganic materials such as metals and organic materials such as black colored resin can be used.
  • metals, alloys, metal oxides, metal compounds of metal sulfides, etc. It is formed as a metal-based layer.
  • various conventionally known black spot treatment methods can be appropriately employed.
  • the blackening process by a plating method is preferable in terms of adhesion, uniformity, ease, etc.
  • the material include copper, cobalt, A metal such as nickel, zinc, molybdenum, tin, or chromium, or a metal compound is used.
  • a preferred plating method for black plating treatment for forming the black plating layer 12 is to use a copper conductive layer as sulfuric acid, copper sulfate.
  • a cathodic electrodeposition method in which cathodic electrolysis is performed in an electrolytic solution that is equivalent to cobalt sulfate to attach cationic particles.
  • the rough surface can be obtained simultaneously with the black color by the adhesion of the cationic particles.
  • Copper particles and copper alloy particles can be used as the cationic particles.
  • the copper alloy particles are preferably copper-cobalt alloy particles, and the average particle size is preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the copper-cobalt alloy particles provide a black soot layer with a copper-cobalt alloy particle layer force.
  • the cathodic electrodeposition method is also preferable in that the average particle size of the cationic particles to be adhered can be adjusted to 0.1 to 1 m. If the average particle diameter exceeds the above range, the density of the attached particles will decrease, resulting in a decrease in blackness and unevenness, and particle dropout (powders) will easily occur. On the other hand, even if the average particle diameter is less than the above range, the blackness is lowered.
  • the treatment surface is made cathodic by treatment at a high current density, activated by reducing hydrogen generation, and the adhesion between the copper surface and the cationic particles is remarkably improved. .
  • black chrome, black nickel, nickel alloy, etc. are also preferred as the black glazing layer 12.
  • the nickel alloy include nickel-zinc alloy, nickel-tin alloy, and nickel-tin-copper alloy.
  • the nickel alloy has good blackness and conductivity, and can also provide a blackening layer 12 with a protective function.
  • the black glazing layer 12 particles are needle-like, so it is easily deformed by an external force and its appearance changes easily. There is also an advantage that the appearance hardly changes.
  • the black alloy layer may be formed from a nickel alloy by forming a nickel alloy after nickel plating is performed by a known electrolytic or electroless plating method.
  • the mesh portion 2 in the electromagnetic wave shielding material 1 is formed by opening an opening of a desired shape in the metal foil or metal layer constituting the conductor layer 11 by a photoetching method. That is, the electromagnetic wave shielding material 1 shown in FIG. 2 is formed by opening an opening by etching the metal foil.
  • a metal foil having an opening is adhered to the transparent base material 14 via the transparent adhesive layer 13, or the transparent adhesive layer is attached to the transparent base material 14.
  • Through 13 It is formed by patterning the stacked metal layers with an etching force and opening an opening.
  • the translucent pattern portion 4 is formed by opening an opening 4a in a desired pattern at a predetermined position in a region facing the outer edge portion 5c of the image light emitting portion 5a of the image display element in the frame portion 3. is there.
  • a method for forming an opening in a desired pattern in the frame portion 3 of the electromagnetic shielding material for example, when forming the opening of the mesh portion 2 in the conductor layer 11 by a photoetching method, the mesh portion 2 A pattern with a predetermined pattern (negative or positive) is formed at a predetermined position on the mask where the pattern is exposed to the photosensitive resist, and at the same time when the mesh portion 2 is drilled, the translucent pattern portion 4 There is a method of drilling the pattern together. Alternatively, there is a method of punching the pattern of the translucent pattern portion 4 in the frame portion 3 by punching the pressing force. Desired patterns include product names, manufacturer names, design designs, and the like.
  • the transparent substrate 14 is a layer for reinforcing the conductor layer 11 having a low mechanical strength, and the conductor layer itself is a single layer and has sufficient strength and shape retention.
  • the electromagnetic wave shielding material 1 is constituted by a single layer of the conductor layer 11 formed with the mesh part 2 and the frame part 3.
  • the transparent base material 14 as long as it has optical transparency as well as mechanical strength, it is necessary to select and use one according to the application, taking into account heat resistance, insulation, etc. as appropriate. Good. Specific examples include a resin board, a resin sheet (or film, the same applies hereinafter), a glass plate, and the like.
  • Examples of the transparent resin used for the resin board, the resin sheet, and the like include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalenolic acid, isophthalic acid, ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid.
  • Polyester resin such as ethylene glycol copolymer, Polyamide resin such as nylon 6, Polyolefin resin such as polypropylene and polymethylpentene, Acrylic resin such as polymethyl methacrylate, Polystyrene, Styrene monoacrylonitrile Examples thereof include styrene-based resins such as copolymers, cellulose-based resins such as triacetyl cellulose, imide-based resins, and polycarbonate resins. These resins are used as single or plural kinds of mixed resins (including polymer alloy) as a resin material, and in layers, Used as a single layer or a laminate of two or more layers.
  • a uniaxially stretched or biaxially stretched sheet is more preferable in terms of mechanical strength.
  • additives such as an ultraviolet absorber, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent may be appropriately added as necessary.
  • the glass used for the glass plate there are quartz glass, borosilicate glass, soda lime glass, and the like, and more preferably, the coefficient of thermal expansion, dimensional stability, and workability in high-temperature heat treatment.
  • An excellent example is non-alkali glass that does not contain an alkali component in the glass, and can also be used as an electrode substrate as a front substrate of an image display element.
  • the thickness of the transparent substrate 14 is not particularly limited as long as it depends on the application.
  • the force is usually about 12 to: LOOO ⁇ m, preferably 50 to 700 ⁇ m, more preferably 100 to 500 / ⁇ ⁇ force S.
  • the thickness is less than the above, the mechanical strength is insufficient and warping, sagging, breakage, etc. occur, and if the thickness exceeds the above, the excess performance increases the cost and the thinning is difficult. Become.
  • the transparent base material 14 a sheet (or film), a plate, or the like such as these inorganic materials and organic materials can be applied, and the transparent base material 14 includes a front substrate, a back substrate, and the like.
  • the front substrate which is a component of the main body of the image display device consisting of the above, may be used as a front substrate, but in the form of using an electromagnetic shielding material as a front filter placed in front of the front substrate, it is thinner and lighter than the plate Needless to say, the resin sheet is superior to the glass plate in that the sheet is superior and does not break!
  • a resin sheet is preferred as the transparent base material 14 and is a material.
  • a polyester-based resin sheet such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
  • a cellulose-based resin sheet is preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and a polyethylene terephthalate sheet is more preferable.
  • the transparent substrate has a light-transmitting property with a visible light transmittance of 80% or more.
  • a transparent base material such as a resin sheet has a corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, etc.
  • the known easy adhesion treatment may be performed.
  • the transparent adhesive layer 13 is for adhesively fixing the conductor layer 11 to the transparent base material 14.
  • the adhesive visible from the opening of the conductor layer 11 is light transmissive. It is necessary to use a transparent material that does not damage the surface.
  • a metal foil is laminated on a transparent base material and the opening is opened by force and etching force, the adhesive is exposed in the entire area of the mesh portion, so the transparency of the adhesive is required.
  • the method for laminating the metal foil and the transparent substrate is not particularly limited, and a known method is appropriately employed. However, when a typical resin sheet is used as the transparent substrate, a dry lamination method is used. It is common.
  • the transparent adhesive used for the transparent adhesive layer 13 is not particularly limited and may be appropriately selected from known adhesives. Examples thereof include urethane adhesives, acrylic adhesives, epoxy adhesives, rubber adhesives, etc. Among them, urethane adhesives are preferable in terms of adhesive strength and the like.
  • the urethane-based adhesive there is a two-component curable urethane-resin-based adhesive. This adhesive includes various hydroxyl group-containing compounds such as polyether polyol, polyester polyol, and acrylic polyol, and a triglyceride. It is an adhesive that uses a two-component hardened urethane resin containing various polyisocyanate compounds such as range isocyanate and hexamethylene diisocyanate.
  • the transparent adhesive layer 13 is prepared by applying a transparent adhesive to a metal foil (before opening) or a transparent substrate by a known coating method. It is formed by stacking. Examples of the coating method include coating methods such as roll coating, comma coating, and gravure coating, and printing methods such as screen printing and gravure printing.
  • the thickness of the transparent adhesive layer (when dried) is not particularly limited, but is usually 0.1 to 20; ⁇ ⁇ , and more preferably 1 to 10 m in terms of adhesive strength, cost, and workability. .
  • a layer that expresses various functions is laminated as shown in Fig. 4, or a process that expresses various functions is performed. To do. Examples of the layer that exhibits various functions include the following.
  • the electromagnetic wave shielding layer 1 may be composed of only the conductive layer 11 and the black color layer 12.
  • the conductive layer made of metal may be deteriorated during manufacturing and handling, resulting in deterioration of electromagnetic wave shielding performance. Therefore, when it is necessary to prevent wrinkles, the surface of the conductor layer 11 may be covered with the fender layer 21.
  • the black layer is easy to wear, it is preferable to cover the black layer 12 as well. Covering may be performed on one or more necessary surfaces of the front surface, back surface, and side surfaces of the conductor layer.
  • the protective layer 21 is not particularly limited as long as it is less rusting than the conductive layer 11 to be formed, such as an inorganic material such as metal, an organic material such as resin, or a combination thereof.
  • the black layer 12 is also covered with the protective layer 21 to prevent the particles of the black layer 12 from falling off or being deformed, thereby increasing the blackness of the black layer.
  • the conductive layer 11 is formed of a metal foil
  • the blackened layer may be removed. In order to prevent alteration, it is preferably provided before lamination of the transparent substrate and the metal foil.
  • a conventionally known layer may be used as appropriate, for example, a metal or alloy such as chromium, zinc, nickel, tin, copper, or a layer of metal oxide or metal compound. and so on . These can be formed by a known plating method or the like.
  • a chromium compound layer obtained by chromate treatment after zinc plating can be mentioned.
  • This anti-corrosion layer made of a chromium compound is excellent in adhesion to a blackening layer composed of a copper-cobalt alloy particle layer and a transparent adhesive layer (especially a two-component curable urethane-based adhesive).
  • chromium it may be treated with chromate (chromate)!
  • the chromate treatment is performed by bringing the chromate treatment solution into contact with the treated surface.
  • This contact may be performed by any other coating method such as roll coating, curtain coating, squeeze coating, and the scouring method (hereinafter referred to as single-sided contact).
  • the electrostatic atomization method, dipping method, etc. double-sided contact is possible.
  • After contact it may be dried without washing.
  • An aqueous solution containing chromic acid is usually used as the chromate treatment solution.
  • treatment liquids such as “Alsurf (registered trademark) 1000” (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.), ⁇ -284 ”(manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd.) and the like can be used.
  • the chromate treatment is preferable from the viewpoint of adhesion to zinc and the anti-mold effect before the treatment.
  • a key compound such as a silane coupling agent may be contained in order to improve acid resistance during etching or acid cleaning.
  • the thickness of the fender layer is usually about 0.001 to 10 m, preferably 0.01 to 1 ⁇ m.
  • the transparent resin layer 22 As the transparent resin used for this purpose, a resin whose refractive index is close to that of the transparent adhesive layer 13 in contact with the resin is specifically preferred, and specifically, a resin whose difference in refractive index is within 0.14. . By doing so, the rough surface of the interface between the transparent adhesive layer and the transparent resin is optically disappeared and integrated.
  • the transparent adhesive layer is urethane-based resin, urethane resin, acrylic resin, etc. are used as the transparent resin.
  • the near-infrared shielding layer 24 When near-infrared rays are radiated from the image display element, the near-infrared rays have a wavelength overlapping with that of the infrared rays for operating the remote control device, which may cause malfunction in remote operation.
  • the near-infrared shielding layer 24 is preferably laminated.
  • the near-infrared shielding layer 24 absorbs in the near-infrared region such as di-in-molybdenum compounds, cyanine compounds, and phthalocyanine compounds in polyester resins, urethane resins, acrylic resins, and other resins. This is formed by applying a compound to which a compatible compound is added, or by applying it or forming a film in advance and laminating with an adhesive.
  • unnecessary light that interferes with good natural color reproduction may be mixed in visible light emitted from the image display device.
  • neon atoms having a wavelength of 570 to 605 nm correspond to this.
  • a resin added with a pigment that absorbs and removes the unnecessary light is applied and applied, or a film is formed in advance and laminated with an adhesive. It is preferable to form a color tone adjusting layer 23 formed by the above process.
  • the color tone adjusting layer may be provided as an independent layer. It is also possible to combine the color tone adjusting layer with another layer by adding the dye to the other layer. In the form of FIG. 4, the layer 23 is formed by combining the adhesive layer and the color tone adjusting layer.
  • the ultraviolet absorbing layer 26 Prevents deterioration (discoloration, discoloration, strength reduction, etc.) of the constituent layers of the electromagnetic wave shielding material or the constituent elements of the image display device due to ultraviolet rays contained in the sunlight incident on the image display device from the outside.
  • the ultraviolet absorbing layer a polyester resin, urethane resin, acrylic resin, or other resin added with an ultraviolet absorber such as a benzotriazole compound or a benzophenone compound is applied and applied. Or formed in advance and laminated with an adhesive.
  • the ultraviolet absorbing layer may be provided as an independent layer, but it can also be used as another layer by adding an ultraviolet absorber to the other layer.
  • the layer 26 is formed by integrating the antireflection layer and the ultraviolet absorption layer.
  • an antireflection layer or an antiglare layer 26 is formed on the outermost surface of the electromagnetic wave shielding material.
  • the antireflection layer 26 generally has a multilayer structure in which, for example, a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated, and the outermost layer is a low refractive index layer. It can be formed by a dry method such as sputtering or using a wet method such as coating.
  • the low refractive index layer is made of silicate, magnesium fluoride, fluorine-containing resin
  • the high refractive index layer is made of titanium oxide, zinc sulfide, acid zirconium, acid niobium, etc. Is used.
  • the antiglare layer 26 is formed on the surface of the layer by forming a coating film in which an inorganic filler such as silica is added to a resin binder, or by forming using a shaping sheet or a shaping plate. It can be formed as a layer provided with fine irregularities that radiate and reflect.
  • curable acrylic resin can be used as ionizing radiation because surface strength is desired as the surface layer.
  • a curable resin is preferably used.
  • the electromagnetic wave shielding material having the cross-sectional configuration shown in FIG. 4 is added to the surface of the electromagnetic wave shielding material having the configuration shown in FIG. 3 in order, and a color tone adjusting agent is added to the adhesive layer 21 and the transparent resin layer 22.
  • An anti-reflection layer formed by laminating an adhesive layer / color tone adjusting layer 23 and a near-infrared shielding layer 24, and forming a low refractive index layer on a transparent film containing an ultraviolet absorber via an adhesive layer 25.
  • This is an example of an electromagnetic shielding material that has a composite filter function by laminating a layer and ultraviolet absorption layer 26

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Abstract

 電磁波遮蔽材1は、観察者側の外表面に黒化層12を有する遮光性の導電体層11からなっている。導電体層11は開口が多数隣接して配列され且つ画像表示素子5の画像発光部5aの中心部5bと対峙するメッシュ部2と、該メッシュ部2の周縁を囲繞し且つ画像表示素子5の画像発光部5aの外縁部5cと対峙する額縁部3とから構成される。画像表示装置Dにおける画面の周縁部に黒色遮光層で縁取を形成するに際し、別途印刷工程等を追加する必要がなく、また工程数や材料費が増えることもなく、しかも印刷の場合に発生しがちな遮光性のムラもない。また、額縁部3に、模様状の開口4aが穿設されてなる透光性パターン部9が設けられている。

Description

明 細 書
電磁波遮蔽材及びそれを用いた画像表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、陰極線管、プラズマディスプレイパネル等の画像表示素子を用いた画 像表示装置 (ディスプレイ)、および画像表示装置の観察者側に配置して使用される 電磁波遮蔽材に関するものである。
背景技術
[0002] 従来より、この種の画像表示素子を用いた画像表示装置の画面からは、画像を構 成する可視光線と共に、 MHz〜GHzの周波数帯域の電磁波(以後、この周波数帯 域の電磁波のことを単に電磁波という)が輻射されている。そこで、この電磁波による 他の電子機器への電磁妨害 (EMI)を防止するため、画像表示装置の観察者側に、 可視光線は透過するが電磁波は透過しない帯域濾波フィルター特性を有する電磁 波遮蔽材を設置することが行われて ヽる。
[0003] この電磁波遮蔽材としては、銅、鉄等の金属からなる導電体層に、可視光線を透過 する開口を多数隣接して配列した所謂メッシュ状導電体層からなるものが代表的で ある。そして、このタイプの電磁波遮蔽材では、金属表面での外光反射による画像の 白化、コントラストの低下を防止するために、通常はメッシュ状導電体層における観察 者側の外表面に金属酸化物等からなる黒化層が施される (特許文献 1参照)。
[0004] また、電磁波の遮蔽効果を発現せしめるためには、電磁波遮蔽材を接地 (アース) する必要があり、この目的のために、通常、メッシュ状導電体層(メッシュ部)を囲繞す る周縁部に、開口の存在しな!ヽ連続体の導電体層を額縁部として設けて ヽる(特許 文献 2参照)。この額縁部は、表示画像は透過せず、画像表示機能には無関係であ り、画面の面積を出来るだけ広く取る必要上、専ら画像表示装置の画面部の外側、 即ち外部から目視不能な部分に位置して形成されて 、る。
[0005] また、この種の電磁波遮蔽材を前面に設置した画像表示装置にぉ 、ては、意匠性 付与のため、画面の周縁部に黒色遮光層で縁取を設けることも行われている。この 黒色遮光層による縁取は、通常、電磁波遮蔽材と積層一体化するガラス板の周縁部 の所定部分に対して黒色のインキを用いて印刷により形成している(特許文献 3参照
) o
[0006] また、これらの画像表示装置において、メーカー名、製品名等を表示する場合、画 面内に印刷等を施すことはできないため、画面周縁の筐体乃至は枠体に印刷ゃェ ンボスカ卩ェによって所望の表示パターンを形成している。そして、電源投入と共に表 示パターンを発光させるようにするためには、表示パターンの背面に豆電球、 LED 等の光源を別途配置する必要がある。
特許文献 1:特開昭 61— 134189号公報
特許文献 2:特開平 11― 233992号公報
特許文献 3:特開 2002— 9484号公報
[0007] 上記したように、画面の周縁部に黒色遮光層で縁取を形成する場合、その縁取の ために別途印刷工程の追加が必要となり、工程数、材料費が増えるという問題点が ある。し力も、画面周縁からの発光を遮蔽するためには、十分な遮光性が必要である 力 印刷による場合、顔料濃度の高いインキを沢山用いてムラなく印刷することは難 度が高!、と 、う問題点もある。
[0008] そして、画像表示装置にメーカー名、製品名等を表示しょうとすると、さらに工程数 や材料費が増えることになる。特に、電源投入と共に表示パターンを発光させる場合 は、光源を設置するための工程及び材料費の追加が必要となり、光源の分だけ消費 電力も増えることになる。
発明の開示
[0009] 本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、 画面の周縁部に黒色遮光層による縁取を簡単に形成でき、また所望の表示パターン も簡単に形成できるようにした電磁波遮蔽材を提供し、併せてそれを用いた画像表 示装置を提供することにある。
[0010] 本発明は、中心部と外縁部とを含む画像発光部を有する画像表示装置に組込ま れ、画像発光部の観察者側に配置された電磁波遮蔽材において、観察者側の外表 面に黒化層を有する遮光性の導電体層を備え、導電体層は、多数の開口を含み、 かつ画像発光部の中心部に対向して配置されたメッシュ部と、メッシュ部の周囲に設 けられ画像発光部の外縁部に対向して配置された額縁部とを有することを特徴とす る電磁波遮蔽材である。
[0011] 本発明は、額縁部は、模様状の開口力もなる透光性パターン部を有することを特徴 とする電磁波遮蔽材である。
[0012] 本発明は、額縁部は、画像発光部の外縁部から更に外方へ延び、透光性パターン 部は外縁部に対応して配置されていることを特徴とする電磁波遮蔽材である。
[0013] 本発明は、導電体層の画像発光部側に、導電体層を支持する透明基材が積層さ れて 、ることを特徴とする電磁波遮蔽材である。
[0014] 本発明は、導電体層は、透明基材上に、透明接着剤層を介して積層されていること を特徴とする電磁波遮蔽材である。
[0015] 本発明は、導電体層の黒化層上に、防鲭層が設けられていることを特徴とする電磁 波遮蔽材である。
[0016] 本発明は、導電体層のメッシュ部を覆って透明化榭脂層が設けられていることを特 徴とする電磁波遮蔽材である。
[0017] 本発明は、透明化榭脂層上に、色調調整層、近赤外線遮蔽層、反射防止層、紫外 線吸収層の少なくとも一つが設けられていることを特徴とする電磁波遮蔽材である。
[0018] 本発明は、中心部と外縁部とを含む画像発光部と、画像発光部の観察者側に配置 された電磁波遮蔽材とを備えた画像表示装置にお!ヽて、電磁波遮蔽材は観察者側 の外表面に黒化層を有する遮光性の導電体層を備え、導電体層は、多数の開口を 含み、かつ画像発光部の中心部に対向して配置されたメッシュ部と、メッシュ部の周 囲に設けられ画像発光部の外縁部に対向して配置された額縁部とを有することを特 徴とする画像表示装置である。
[0019] 本発明は、額縁部は、模様状の開口力もなる透光性パターン部を有することを特徴 とする画像表示装置である。
[0020] 本発明は、額縁部は、画像発光部の外縁部から更に外方へ延び、透光性パターン 部は外縁部に対応して配置されていることを特徴とする画像表示装置である。
[0021] 本発明は、導電体層の画像発光部側に、導電体層を支持する透明基材が積層さ れて 、ることを特徴とする画像表示装置である。 [0022] 本発明は、導電体層は、透明基材上に、透明接着剤層を介して積層されていること を特徴とする記載の画像表示装置である。
[0023] 本発明は、導電体層の黒化層上に、防鲭層が設けられていることを特徴とする画像 表示装置である。
[0024] 本発明は、導電体層のメッシュ部を覆って透明化榭脂層が設けられていることを特 徴とする画像表示装置である。
[0025] 本発明は、透明化榭脂層上に、色調調整層、近赤外線遮蔽層、反射防止層、紫外 線吸収層の少なくとも一つが設けられていることを特徴とする画像表示装置である。
[0026] 本発明の電磁波遮蔽部材によれば、画像表示装置における画面の周縁部に黒色 遮光層で縁取を形成するに際し、別途印刷工程等を追加する必要がなぐまた工程 数や材料費が増えることもなぐし力も印刷の場合に発生しがちな遮光性のムラもな いという効果を奏する。
[0027] また、画像表示装置にメーカー名、製品名等の所望の表示パターンを形成するに 際し、筐体乃至は枠体に対する印刷等の加工が不必要であり、し力も、別途光源を 設置するための工程や材料費を追加したり消費電力を増カロしたりすることなぐその 表示パターンを発光させることができる。
図面の簡単な説明
[0028] [図 1]図 1は、本発明に係る電磁波遮蔽材の一例を示す平面図である。
[図 2]図 2は、図 1における X— X断面の一例を示す断面図である。
[図 3]図 3は、図 1における X— X断面の別の例を示す断面図である。
[図 4]図 4は、図 3に示す断面構成の別形態を示す断面図である。
[図 5]図 5は、本発明に係る画像表示装置の一例を電源未投入時の状態と電源投入 時の状態でそれぞれ示す正面図である。
[図 6]図 6は、図 5 (B)における X—X断面の一例を示す断面図である。
[図 7]図 7は、従来技術による電磁波遮蔽材を示す平面図である。
[図 8]図 8は、図 7における X— X断面を示す断面図である。
[図 9]図 9は、従来技術による電磁波遮蔽材を用いた画像表示装置の一例を電源未 投入時の状態と電源投入時の状態でそれぞれ示す正面図である。 [図 10]図 10は、図 9 (B)における X—X断面を示す断面図である。
発明を実施するための最良の形態
[0029] 次に、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
[0030] 図 1は本発明に係る電磁波遮蔽材の一例を示す平面図、図 2は図 1における X— X 断面の一例を示す断面図、図 3は図 1における X— X断面の別の例を示す断面図、 図 4は図 3に示す断面構成の別形態を示す断面図、図 5 (A)は本発明に係る画像表 示装置の一例を電源未投入時の状態で示す正面図、図 5 (B)は同じく電源投入時 の状態で示す正面図、図 6は図 5 (B)における X— X断面の一例を示す断面図であ る。また、図 7〜図 10は本発明との比較例を示しており、図 7は従来技術による電磁 波遮蔽材を示す平面図、図 8は図 7における X— X断面を示す断面図、図 9 (A)は従 来技術による電磁波遮蔽材を用いた画像表示装置の一例を電源未投入時の状態で 示す正面図、図 9 (B)は同じく電源投入時の状態で示す正面図、図 10は図 9 (B)に おける X— X断面を示す断面図である。
なお、図 7、図 8において図 1、図 3に対応する部位には同じ符号を付し、図 9、図 10 において図 5、図 6に対応する部位にも同じ符号を付してそれらの説明を省略する。
[0031] 図 1および図 6に示すように、画像表示装置 Dは画像発光部 5aを含む画像表示素 子 5と、画像表示素子 5の観察者 Hに設けられた電磁波遮蔽材 1と、この電磁波遮蔽 材 1の観察者 H側に透明接着剤層 31を介して設けられた透明基材 32とを備えてい る。また画像表示素子 5、電磁波遮蔽材 1および透明基材 32は、枠体 6により保持さ れている。
[0032] このうち電磁波遮蔽材 1は、観察者 H側の外表面に黒ィ匕層 12が形成された遮光性 の導電体層 11を備え、この導電体層 11は多数の開孔 2aを含むメッシュ部 2と、メッシ ュ部 2の周囲に設けられメッシュ部 2を囲む額縁部 3とを有している。画像発光部 5aは 中心部 5bと、中心部 5b外周の外縁部 5cとを含み、メッシュ部 2は画像発光部 5aの中 心部 5bに対向して配置され、額縁部 3は画像発光部 5aの外縁部 5cに対向して配置 されている。
[0033] 本発明の電磁波遮蔽材 1は、全体の輪郭が画像表示装置の画面の形状に対応す る形状であり、通常は図 1に示すような長方形乃至はそれを多少変形した形状となる 。上述のように電磁波遮蔽材 1における中央部の領域は、表示画像を透過する開口 を多数隣接して配列され且つ画像表示素子の画像発光部 5aの中心部 5bと対畤す るメッシュ部 2となっている。また、メッシュ部 2の周縁を囲繞する領域は、画像表示素 子の画像発光部の外縁部 5cと対畤する額縁部 3となっている。なお、図 1では構成 の理解を容易とするために、メッシュ部 2の開口を実際よりも拡大誇張して図示してい る。
[0034] 電磁波遮蔽材 1の額縁部 3には、平面視形状が製品名等の所望の模様状になった 開口が穿設されてなる透光性パターン部 4が設けられている。この透光性パターン部 4は、画像表示素子 5の発光部分 5aの外縁部 5cと対畤する位置にあり、画像表示素 子 5が発光している時には、画像表示素子 5からの光が開口を透過して模様状に発 光する。それによつて、画面の外縁部 5cの所定領域に製品名等の模様が発光して 表示される。また、画像表示素子 5が発光していない時は、透光性パターン部 4は発 光せず、実質上目立たな 、ために模様は消失する。
[0035] 図 2と図 3はそれぞれ図 1に示した電磁波遮蔽材 1の断面形状の代表的な形態を示 している。図 2に示す電磁波遮蔽材 1は、導電体層 11とその表面 (観察者側)に積層 形成された黒ィ匕層 12からなる。そして、メッシュ部 2には画像光を透過せしめる開口 2 aが、額縁部 3の所定位置には模様状をした開口 4aがそれぞれ穿設されている。一 方、図 3に示す電磁波遮蔽材 1は、このような導電体層 11と黒化層 12の他に、透明 接着剤層 13と透明基材 14がさらに積層されている。なお、図 3は透明基材 14側が 画像表示素子に対面する形態を示しているが、透明基材 14が観察者側に対面する 形態の場合は、導電体層 11の透明基材 14側(図では下側)に黒ィ匕層 12が位置する ことになる。
[0036] 本発明の電磁波遮蔽材の断面構成としては、図示した以外にも、黒色導電体から なる単層構成、図 3にお ヽて透明接着剤層 13なしで透明基材 14上に導電体層 11 及び黒ィ匕層 12を積層した構成がある。或いは、図 4に示すように、図 3の構成にさら に各種機能層を積層した構成がある。図 4において 21は防鲭層、 22は透明化榭脂 層、 23は接着剤層兼色調調整層、 24は近赤外線遮蔽層、 25は接着剤層、 26は反 射防止層兼紫外線吸収層である。 [0037] 上記したように、電磁波遮蔽材 1を各種の画像表示素子 5 (画像発光部を含む)の 観察者 H側に配置することにより本発明の画像表示装置 Dが得られる。対象となる画 像表示素子 5としては、プラズマディスプレイパネル (PDP)、陰極線管(CRT)、電界 発光素子 (EL素子)、液晶表示素子 (LCD)等がある。そして、電磁波遮蔽材 1を画 像表示素子の観察者側 (画像発光面)に配置する形態としては、図 2或いは図 3に示 すタイプの電磁波遮蔽材を、必要に応じて接着剤層を介して画像表示素子の表面 に直接積層する形態と、図 6に示す如く電磁波遮蔽材 1を透明基板 32と積層した板 状体を構成した上で、これを画像表示素子の前面に配置する形態とがある。
[0038] 図 5 (A) , (B)に示す画像表示装置 Dは、図 6の断面図に示すように、プラズマディ スプレイパネル等の画像表示素子 5の観察者 H側の面に図 1の如き電磁波遮蔽材 1 を配置したものである。そして、電磁波遮蔽材 1の額縁部 3の内縁部が画像表示素子 5の画像発光部 5aの外縁部 5cと対畤し且つ黒ィ匕層(なお、煩雑を避けるため図示は 略してあるが、図 6の導電体層 11はその透明基板 32に対面する側に黒化層を有し ている。)が観察者側を向くように配置してある。図 6の例では、電磁波遮蔽材 1は、そ の黒ィ匕層側が透明接着剤層 31を介してガラス板等の透明基板 32に積層された状 態で画像表示素子 5と対畤している。そして、透明基板 32に積層された電磁波遮蔽 材 1と画像表示素子 5の周縁部を、電磁波遮蔽材 1の額縁部 3のうちの少なくとも透 光性パターン部 4を含む部分が露出した状態で枠体 6により被覆している。
[0039] 斯カる構成の画像表示装置 Dは、図 5 (A)に示すように、画面の有効表示部 7の周 縁部に、従来技術の図 9 (A)の場合と同様に黒色遮光層の縁取 8が存在する。ただ し、この黒色遮光層の縁取 8は、従来技術の場合には、図 10の如く電磁波遮蔽材 1 とは別に透明基板 32の裏面に黒色インキを用 、て黒色遮光層 33を印刷形成して!/ヽ るのに対し、本発明の場合は、縁取 8が図 6の如く表面に黒ィ匕層 12を有する電磁波 遮蔽材 1の額縁部 3の内周側によって構成されている点が異なる。なお、ここで、有 効表示部 7とは、図 6の断面図を参照すれば分力るように、画像表示素子の画像発 光部 5aのうち、縁取 8 (額縁部 3)によって遮光される外縁部を除いた部分であり、実 質上画像を観察可能な領域を意味する。
[0040] 図 5 (A)に示す画像表示装置 Dの電源を投入すると、図 5 (B)に示すように、黒色 遮光層の縁取 8にある透光性パターン部 4が、透過してきた画像光によって発光し、 所望の模様を表示する。そして、電源非投入時には、透光性パターン部 4を透過す る光がなくなるため、図 5 (A)の如く表示パターン部は消失する。一方、図 9 (A) , (B )に示す画像表示装置 Dにおいては、表示パターン 9が枠体 6にインキで印刷されて いるため、電源投入時も電源非投入時にも共に表示パターン 9は表示されたままで ある。
[0041] 電磁波遮蔽材 1を構成する導電体層 11は、電磁波の遮蔽機能を担う層であり、ま たそれ自体は不透明であっても、開口が多数隣接して配列されることにより、電磁波 の遮蔽機能と光透過性を両立させている。開口の平面視形状としては、例えば、正 三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形などの多角形 、或いは、円形、楕円形などがある。このように開口の形状は任意であって特に限定 されるものではないが正方形が代表的である。メッシュ部 2は、これら形状からなる開 口を多数隣接して配列することで形成されており、通常、各開口は全面で同一形状 且つ同一サイズであり、開口同士の間は均一幅のライン部となる。具体的なサイズを 例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口間のライン部の幅は 25 m以下、好ましくは 20 /z m以下である。また、開口サイズは、〔ライン間隔或いはライ ンピッチ〕 -〔ライン幅〕であるが、この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと 150 m以上、さらには 200 m以上とするのが光透過性の点で好ましい。なお、バイアス 角度 (メッシュのライン部と電磁波遮蔽材の外周辺とのなす角度)は、画像表示素子 の画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出にくい角度に適宜設定すればよい (図 1では下辺に対して 45° に設定)。
[0042] 導電体層 11に用いる材料は、電磁波遮蔽性能を発現するに足る導電性を有する 物質であれば特に制限はないが、通常は導電性が良い点で金属箔を用いるのが好 ましい。透明基材 14と積層した形態の導電体層 11は、透明基材 14に対する蒸着、 めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属箔乃至は金属層の材料 としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム等が挙げられる。ま た、用いる金属は合金でもよぐ金属箔ゃ金属層は単層でも多層でもよい。例えば、 鉄の場合には、低炭素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、 Ni— Fe合 金、インバー合金等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、銅や銅合金となるが、銅 箔としては圧延銅箔や電解銅箔があり、薄さ及びその均一性、黒化層との密着性等 の点力もは電解銅箔が好ま U、。
[0043] なお、金属箔乃至は金属層による導電体層 11の厚さは、 1〜: LOO /z m程度、好まし くは 5〜20 /ζ πιである。厚さがこれより薄くなり過ぎると、電気抵抗上昇により十分な 電磁波シールド性能を得にくくなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると、高精細なメッシ ュ形状が得にくくなり、開口率低下によって光透過性が低下したり、メッシュ側面が邪 魔してディスプレイの視野角が低下したりする。
[0044] また、導電体層 11となる金属箔乃至は金属層の表面は、透明接着剤層等の隣接 層との密着性向上のために粗面であることが好ましい。例えば、銅箔の場合、黒ィ匕処 理による黒ィ匕層の形成と同時にその表面(黒ィ匕層の表面)に粗面が得られる。なお、 その粗面の程度は、 10点平均粗さ Rz FIS— B0601準拠(1994年版)〕で、 0. 1〜1 O /z m程度がよぐより好ましくは 1. 以下、さらに好ましくは 0. 5〜1. 5 mであ る。粗さがこれ未満では、粗面化の効果が十分に得られず、またこれより大きくなると 、接着剤やレジスト等の塗布時に気泡を抱き込んだりしゃすくなる。
[0045] 導電体層 11の電磁波遮蔽性能は、目的や用途に応じて決めるようにする。電磁波 遮蔽性は、導電体層 11の材料、厚み,開口の径と幅(開口率)によって決まるため、 要求する遮蔽率に適合するようにこれらの諸元を調整して設計する。通常、プラズマ ディスプレイパネル用の電磁波遮蔽材の場合、 30MHz〜lGHzの周波数帯域にお V、て 30dB以上の電磁波の減衰率が要求される。
[0046] 導電体層 11の外表面に設けられる黒化層 12は、本来、ディスプレイの明室時にお ける画像のコントラストを向上させるためのものであり、黒等の暗色を呈する層であつ て密着性等の基本的な物性を満足しさえすれば、公知の黒化層を適宜採用し得る。 具体的には、金属等の無機材料や黒着色榭脂等の有機材料などを用いることがで き、例えば無機材料を用いる場合は、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属 化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の 各種黒ィ匕処理法を適宜採用できる。なかでも、めっき法による黒化処理は密着性、 均一性、容易性等の点で好ましいものであり、その材料には、例えば、銅、コバルト、 ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。
[0047] なお、導電体層 11が銅箔である場合、黒ィ匕層 12形成のための黒ィ匕処理として好ま しいめつき法には、銅からなる導電体層を、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルト等力 な る電解液中で陰極電解処理を行 ヽ、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電 着めつき法がある。この方法によれば、カチオン性粒子の付着で黒色と同時に粗面も 得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅合金粒子を採用できる。銅合金粒子 としては、銅一コバルト合金粒子が好ましぐさらにその平均粒子径は 0. 1〜1 μ mが 好ましい。銅一コバルト合金粒子により、銅一コバルト合金粒子層力 なる黒ィ匕層が 得られる。また、カソーディック電着法は、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径 を 0. 1〜1 mに揃えられる点でも好ましい。平均粒子径が上記範囲超過では、付 着粒子の緻密さが低下し黒さの低下やムラが起こり、粒子脱落 (粉落ち)が発生しや すくなる。一方、平均粒子径が上記範囲未満でも黒さが低下する。なお、カソーディ ック電着法は処理を高電流密度で行うことで、処理面がカソーディックとなり、還元性 水素発生で活性ィ匕し、銅面とカチオン性粒子との密着性が著しく向上する。
[0048] また、黒ィ匕層 12として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましぐ -ッ ケル合金としては、ニッケル—亜鉛合金、ニッケル—スズ合金、ニッケル—スズ—銅 合金がある。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性がよい上、黒ィ匕層 12に防鲭 機能も付与できる。し力も、通常、黒ィ匕層 12の粒子は針状であるため、外力で変形し て外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒ィ匕層 12は粒子が変形しにくぐ後 加工工程で外観が変化しにくいという利点もある。なお、ニッケル合金による黒ィ匕層 の形成は、公知の電解または無電解めつき法でよぐニッケルめっきを行った後に- ッケル合金を形成してもよ 、。
[0049] 電磁波遮蔽材 1におけるメッシュ部 2は、導電体層 11を構成する金属箔乃至は金 属層にフォトエッチング法により所望形状の開口を空けることで形成する。すなわち、 図 2に示す電磁波遮蔽材 1は、金属箔にエッチング加工を施して開口を空けることで 形成する。
また、図 3に示す電磁波遮蔽材 1の場合は、開口を空けた金属箔を透明基材 14に透 明接着剤層 13を介して接着するか、或いは、透明基材 14に透明接着剤層 13を介し て積層した金属層をエッチング力卩ェでパターユングして開口を空けることで形成する
[0050] 透光性パターン部 4は、額縁部 3において画像表示素子の画像発光部 5aの外縁 部 5cと対畤する領域の所定位置に、所望の模様状に開口 4aを穿設したものである。 電磁波遮蔽材 1の額縁部 3に所望の模様状に開口を穿設する方法としては、例えば 、導電体層 11にフォトエッチング法にてメッシュ部 2の開口を形成する際に、メッシュ 部 2のパターンを感光性レジストに露光するマスク上の所定位置に、所定の模様状の ノ ターンを (陰画或いは陽画で)形成しておき、メッシュ部 2の穿設と同時に透光性パ ターン部 4の模様も一緒に穿設する方法がある。或いは、プレス力卩ェの打抜きによつ て額縁部 3に透光性パターン部 4の模様を穿設する方法もある。所望の模様としては 、製品名、製造元名、意匠デザイン等が挙げられる。
これらは文字、数字、記号、幾何学図形等から構成される。
[0051] 透明基材 14は、機械的強度が弱い導電体層 11を補強するための層であり、導電 体層自体が単層で十分な強度と保形性を有しており、また電磁波遮蔽以外の付カロ 的機能が求められな ヽ場合は、メッシュ部 2及び額縁部 3を形成した導電体層 11が 単層で電磁波遮蔽材 1を構成する。透明基材 14としては、機械的強度とともに光透 過性を有してさえいれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に 応じたものを選択して使用すればよい。具体例としては、榭脂板、榭脂シート(乃至は フィルム、以下同様)、ガラス板等が挙げられる。
[0052] 榭脂板、榭脂シート等に用いる透明榭脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタノレ酸 イソフタ ル酸 エチレングリコール共重合体、テレフタル酸 シクロへキサンジメタノール エチレングリコール共重合体などのポリエステル系榭脂、ナイロン 6などのポリアミド系 榭脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフイン系榭脂、ポリメチルメタ タリレートなどのアクリル系榭脂、ポリスチレン、スチレン一アクリロニトリル共重合体な どのスチレン系榭脂、トリァセチルセルロースなどのセルロース系榭脂、イミド系榭脂 、ポリカーボネート榭脂等が挙げられる。なお、これらの榭脂は、榭脂材料的には、単 独又は複数種類の混合榭脂 (ポリマーァロイを含む)として用いられ、また層的には、 単層又は 2層以上の積層体として用いられる。また、榭脂シートの場合、 1軸延伸や 2 軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。また、これらの榭脂中には 、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を カロえてちよい。
[0053] また、ガラス板に用いるガラスとしては、石英ガラス、硼珪酸ガラス、ソーダライムガラ スなどがあり、より好ましくは熱膨張率力 、さぐ寸法安定性及び高温加熱処理にお ける作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙 げられ、画像表示素子の前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。
[0054] 透明基材 14の厚さは、用途に応じたものとすればよく特に制限はない。透明榭脂 力もなる場合は、通常 12〜: LOOO μ m程度である力 好ましくは 50〜700 μ m、より 好ましくは 100〜500 /ζ πι力 Sよい。いずれの材料においても、上記未満の厚さとなる と、機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を越える厚さになると 過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
[0055] なお、透明基材 14としては、これらの無機材料、有機材料等カゝらなるシート(乃至 はフィルム)、板などが適用でき、また透明基材 14は、前面基板及び背面基板等から なる画像表示装置本体の一構成要素である前面基板と兼用してもよいが、前面基板 の前に配置する前面フィルタとして電磁波遮蔽材を用いる形態では、薄さ、軽さの点 で板よりもシートが優れており、また割れない等の点でもガラス板よりも榭脂シートが 優れて 、ることは言うまでもな!/、。
[0056] このような点で、透明基材 14としては榭脂シートが好ま 、材料であるが、榭脂シ ートの中でも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリェ ステル系榭脂シート、セルロース系榭脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好 ましぐより好ましくはポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材 の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で 80%以上となる光透過性 のものがよい。
[0057] なお、榭脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処 理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理 、アルカリ処理などの公知の易接着処理を行ってもよい。 [0058] 透明接着剤層 13は、導電体層 11を透明基材 14に接着固定するためのものであり 、この接着剤としては、導電体層 11の開口から見える該接着剤が光透過性を損なわ ないような透明なものを用いる必要がある。特に、金属箔ゃ金属層を透明基材に積 層して力もエッチング力卩ェで開口を空ける場合には、メッシュ部の全領域で接着剤が 露出するのでその接着剤の透明性が要求される。なお、金属箔と透明基材との積層 方法としては、特に限定されるものではなく公知の方法が適宜採用されるが、透明基 材に代表的な榭脂シートを用いる場合はドライラミネート法が一般的である。
[0059] 透明接着剤層 13に用いる透明な接着剤は、特に限定されるものではなく公知の接 着剤から適宜選択して採用すればよい。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着 剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられ、これらの中でもウレタン系接着 剤が接着力等の点で好ましい。なお、ウレタン系接着剤としては 2液硬化型ウレタン 榭脂系接着剤があり、この接着剤は、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオ一 ル、アクリルポリオール等の各種ヒドロキシル基含有ィ匕合物と、トリレンジイソシァネー トやへキサメチレンジイソシァネート等の各種ポリイソシァネートイ匕合物を含む 2液硬 化型ウレタン榭脂を利用した接着剤である。
[0060] なお、透明接着剤層 13は、透明な接着剤を金属箔(開口を設ける前のものがよい) 或いは透明基材のいずれか又は両方に公知の塗布方法により施した後、これらを積 層することで形成される。この塗布方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート 、グラビアコート等の塗工法、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法が挙げられる 。なお、透明接着剤層の厚み (乾燥時)は特に制限はないが、通常 0. 1〜20 ;ζ ΐηで あり、接着力、コスト、作業性の点でより好ましくは 1〜10 mである。
[0061] 電磁波遮蔽材 1に電磁波遮蔽性以外の各種機能を付加する必要がある場合は、 図 4に示す如く各種機能を発現する層を積層したり、各種機能を発現する処理を施 したりする。各種機能を発現する層としては例えば以下のものが挙げられる。
[0062] 〔防鲭層〕
電磁波遮蔽層 1は、導電体層 11と黒ィ匕層 12だけでもよいが、金属からなる導電体 層は製造時、取扱時に鲭びて変質し、電磁波遮蔽性能の低下を来すことがあるので 、鲭を防ぐ必要がある場合には、防鲭層 21で導電体層 11の表面を被覆するとよい。 また、黒ィ匕層が鲭びやすい場合には、黒ィ匕層 12も含めて被覆するのが好ましい。被 覆は、導電体層の表面、裏面、側面のうちの必要な 1つ以上の面について行えばよ い。防鲭層 21は、形成する導電体層 11よりも鲭びにくいものであれば、金属等の無 機材料、榭脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではな い。また場合によっては、黒ィ匕層 12も防鲭層 21で被覆することで、黒ィ匕層 12の粒子 の脱落や変形を防止し、黒ィ匕層の黒さを高めることもできる。この点では、導電体層 1 1を金属箔で形成する場合、透明基材上の金属箔に黒ィヒ処理で黒ィヒ層を設けてお く場合には、該黒化層の脱落や変質防止の意味で、透明基材と金属箔との積層前 に設けておくのが好ましい。
[0063] 防鲭層 21は、従来公知のものを適宜採用すればよぐ例えば、クロム、亜鉛、ニッケ ル、スズ、銅等の金属乃至は合金、或いは金属酸ィヒ物、金属化合物の層などがある 。これらは公知のめっき法等で形成できる。ここで、防鲭効果及び密着性等の点で好 ましい防鲭層の一例を示せば、亜鉛めつきした後、クロメート処理して得られるクロム 化合物層が挙げられる。このクロム化合物による防鲭層は、銅—コバルト合金粒子層 からなる黒化層、及び透明接着剤層 (特に 2液硬化型ウレタン榭脂系の接着剤)との 密着性にも優れる。
[0064] なお、クロムの場合はクロメート (クロム酸塩)処理等でもよ!/ヽ。この場合、クロメート 処理は、処理面にクロメート処理液を接触させて行うが、この接触は、ロールコート、 カーテンコート、スクイズコート、カゝけ流し法 (以上、片面接触)等の塗布法の他、静電 霧化法、浸漬法等によれば両面接触も可能である。また、接触後は水洗せずに乾燥 させればよい。なお、クロメート処理液には通常クロム酸を含む水溶液を使用する。 具体的には、「アルサーフ (登録商標) 1000」(日本ペイント株式会社製)、 ΓΡΜ- 2 84」(日本パーカライジング株式会社製)等の処理液を利用できる。また、クロメート 処理は、その処理前に亜鉛めつきするの力 密着性、防鲭効果の点で好ましい。また 、防鲭層中には、エッチングや酸洗浄時の耐酸性向上のために、シランカップリング 剤等のケィ素化合物を含有させることもできる。防鲭層の厚さは通常 0. 001〜10 m程度、好ましくは 0. 01〜1 μ mである。
[0065] 〔透明化榭脂層〕 導電体層 11をさらに他の層(例えば、図 4では近赤外線遮蔽層)と接着剤層を介し て積層する際、開口内の空気が接着剤と置換しにくいため、開口内に空気が気泡と して残留し、これが画像光を散乱して画像を曇らせ、鮮明度を低下させる場合がある 。或いは、透明基材 14に透明接着剤層 13を介して導電体層 11を積層し、しかる後 に導電体層 11を腐食して開口を空ける場合、導電体層 11における透明接着剤層側 の面は投錨効果で接着剤性を向上させるために粗面となっているので、開口に露出 する透明接着剤層 13の表面は導電体層 11から転写された粗面を有しており、ここで 画像光が散乱されるため、画像の曇り、鮮明度の低下が起きることがある。
[0066] これらの問題を解消するため、図 4に示す如く導電体層 11の開口(凹部)を透明な 榭脂で充填、被覆して表面を平坦ィ匕することが有効である。これを透明化榭脂層 22 と呼称する。この目的で使用される透明化榭脂としては、これと接する透明接着剤層 13と屈折率の近似する榭脂、具体的には屈折率の差が 0. 14以内の榭脂が好まし い。このようにすることにより、透明接着剤層と透明化榭脂との界面の粗面が光学的 に消滅して一体化する。例えば、透明接着剤層がウレタン系榭脂の場合は、透明化 榭脂としては、ウレタン榭脂、アクリル榭脂等用いられる。
[0067] 〔近赤外線遮蔽層〕
画像表示素子から近赤外線が輻射される場合、この近赤外線は遠隔操作機器を 操作する赤外線と波長が重なるため、遠隔操作に誤動作を生じることがある。これを 防止するため、近赤外線遮蔽層 24を積層することが好ましい。近赤外線遮蔽層 24と しては、ポリエステル榭脂、ウレタン榭脂、アクリル榭脂等の榭脂中に、ジインモ -ゥム 系化合物、シァニン系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外線領域に吸収特 性のある化合物を添加したものを用い、これを塗布したり、予め製膜して接着剤で積 層したりして形成する。
[0068] 〔色調調整層〕
画像表示装置から輻射される可視光線の中に、良好な天然色再現を妨げる不要 光が混入する場合がある。例えば、プラズマディスプレイパネルの場合、ネオン原子 の波長 570〜605nmの光がこれに相当する。このような場合、その不要光を吸収除 去する色素を添加した榭脂を用い、これを塗布したり、予め製膜して接着剤で積層し たりしてなる色調調整層 23を形成することが好ましい。
尚、色調調整層は独立した層として設けて良い事は勿論である力 他の層中に色 素を添加することにより、他の層と兼ねることも可能である。図 4の形態に於いては、 接着剤層と色調調整層とを兼務統合して層 23を構成して ヽる。
[0069] 〔紫外線吸収層〕
画像表示装置に外部から入射する日光等に含まれる紫外線による電磁波遮蔽材 の構成層、或いは画像表示装置の構成要素の劣化 (変色、褪色、強度低下等)を防 いだり、画像表示装置力 外部に輻射される紫外線の影響を防ぐ必要がある場合に は、紫外線吸収層 26を形成することが好ましい。紫外線吸収層としては、ポリエステ ル榭脂、ウレタン榭脂、アクリル榭脂等の榭脂中に、ベンゾトリアゾール系化合物、ベ ンゾフエノン系化合物等の紫外線吸収剤を添加したものを用い、これを塗布したり、 予め製膜して接着剤で積層したりして形成する。
紫外線吸収層も独立した層として設けて良い事は勿論であるが、紫外線吸収剤を 他の層に添加することにより他の層と兼ねることが可能である。図 4の形態に於いて は、反射防止層と紫外線吸収層とを兼務統合して層 26を構成している。
[0070] 〔反射防止層乃至は防眩層〕
画像表示装置に日光、電燈光等の外光が入射すると、この光が画面で反射し、画 像を白濁させたりコントラストを低下させたりする。これを防止するため、電磁波遮蔽 材の最表面には、反射防止層乃至は防眩層 26を形成することが好ましい。
[0071] 反射防止層 26は、例えば、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層し、最外層を 低屈折率層とした多層構成が一般的であり、この多層構成は、蒸着ゃスパッタ等の 乾式法で、或いは塗工等の湿式法も利用して形成することができる。なお、低屈折率 層はケィ素酸ィ匕物、フッ化マグネシウム、フッ素含有榭脂等が用いられ、高屈折率層 には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸ィ匕ジルコニウム、酸ィ匕ニオブ等が用いられる。
[0072] 防眩層 26は、榭脂バインダー中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や 、或いは賦形シートや賦形版等などを用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反 射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。榭脂バインダーの榭脂とし ては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル榭脂ゃ電離放射線 硬化性榭脂などが好適に使用される。
先に例示した図 4の断面構成の電磁波遮蔽材は、図 3の構成の電磁波遮蔽材の表 面に順次、防鲭層 21、透明化榭脂層 22、接着剤中に色調調整剤を添加してなる接 着剤層兼色調調整層 23、近赤外線遮蔽層 24を積層し、さらに接着剤層 25を介して 、紫外線吸収剤を含む透明フィルムに低屈折率層を形成してなる反射防止層兼紫 外線吸収層 26を積層して、複合フィルター機能を持たせた電磁波遮蔽材の例である

Claims

請求の範囲
[1] 中心部と外縁部とを含む画像発光部を有する画像表示装置に組込まれ、画像発 光部の観察者側に配置された電磁波遮蔽材において、
観察者側の外表面に黒化層を有する遮光性の導電体層を備え、
導電体層は、多数の開口を含み、かつ画像発光部の中心部に対向して配置された メッシュ部と、メッシュ部の周囲に設けられ画像発光部の外縁部に対向して配置され た額縁部とを有することを特徴とする電磁波遮蔽材。
[2] 額縁部は、模様状の開口からなる透光性パターン部を有することを特徴とする請求 項 1に記載の電磁波遮蔽材。
[3] 額縁部は、画像発光部の外縁部から更に外方へ延び、透光性パターン部は外縁 部に対応して配置されて!ヽることを特徴とする請求項 2記載の電磁波遮蔽材。
[4] 導電体層の画像発光部側に、導電体層を支持する透明基材が積層されていること を特徴とする請求項 1記載の電磁波遮蔽材。
[5] 導電体層は、透明基材上に、透明接着剤層を介して積層されていることを特徴とす る請求項 4に記載の電磁波遮蔽材。
[6] 導電体層の黒ィ匕層上に、防鲭層が設けられていることを特徴とする請求項 1記載の 電磁波遮蔽材。
[7] 導電体層のメッシュ部を覆って透明化榭脂層が設けられていることを特徴とする請 求項 1記載の電磁波遮蔽材。
[8] 透明化榭脂層上に、色調調整層、近赤外線遮蔽層、反射防止層、紫外線吸収層 の少なくとも一つが設けられていることを特徴とする請求項 7記載の電磁波遮蔽材。
[9] 中心部と外縁部とを含む画像発光部と、
画像発光部の観察者側に配置された電磁波遮蔽材とを備えた画像表示装置にお いて、
電磁波遮蔽材は観察者側の外表面に黒ィ匕層を有する遮光性の導電体層を備え、 導電体層は、多数の開口を含み、かつ画像発光部の中心部に対向して配置された メッシュ部と、メッシュ部の周囲に設けられ画像発光部の外縁部に対向して配置され た額縁部とを有することを特徴とする画像表示装置。
[10] 額縁部は、模様状の開口からなる透光性パターン部を有することを特徴とする請求 項 9に記載の画像表示装置。
[11] 額縁部は、画像発光部の外縁部から更に外方へ延び、透光性パターン部は外縁 部に対応して配置されていることを特徴とする請求項 10記載の画像表示装置。
[12] 導電体層の画像発光部側に、導電体層を支持する透明基材が積層されていること を特徴とする請求項 9記載の画像表示装置。
[13] 導電体層は、透明基材上に、透明接着剤層を介して積層されていることを特徴とす る請求項 12に記載の画像表示装置。
[14] 導電体層の黒ィ匕層上に、防鲭層が設けられていることを特徴とする請求項 9記載の 画像表示装置。
[15] 導電体層のメッシュ部を覆って透明化榭脂層が設けられていることを特徴とする請 求項 9記載の画像表示装置。
[16] 透明化榭脂層上に、色調調整層、近赤外線遮蔽層、反射防止層、紫外線吸収層 の少なくとも一つが設けられていることを特徴とする請求項 15記載の画像表示装置。
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