WO2006019131A1 - ガスタービンを用いた揮発性有機化合物処理方法及び揮発性有機化合物処理システム - Google Patents

ガスタービンを用いた揮発性有機化合物処理方法及び揮発性有機化合物処理システム Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a processing method and a processing system for processing a gaseous volatile organic compound using a gas turbine.
  • an exhaust gas containing a volatile organic compound is supplied to an adsorption device to adsorb the volatile organic compound to the adsorbent, and an adsorbent that adsorbs the volatile organic compound is used.
  • an adsorbent that adsorbs the volatile organic compound is used.
  • Desorb with water vapor to mix volatile organic compounds with water vapor.
  • water vapor having adsorbed the volatile organic compound is condensed, and the condensed water is distilled to separate the volatile organic compound from water.
  • volatile organic compounds separated from water are burned and decomposed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-322324
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-036492
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-184003
  • Patent Document 1 harmful substances generated from volatile organic compounds are supplied to the air intake port of the gas turbine.
  • the gas turbine does not introduce a part of the taken-in air into the combustor.
  • the structure is used for cooling the turbine.
  • some of the toxic substances are discharged through the gas turbine without passing through the combustor, that is, without burning, and sufficient treatment is not performed.
  • waste liquid with high concentration of harmful substances is supplied directly to the combustor, so that the flame temperature may become too high.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and in addition to detoxifying volatile organic compounds, comprehensively improves energy efficiency in facilities that require treatment of volatile organic compounds.
  • the purpose is to improve.
  • a volatile organic compound contained in a gas to be treated is adsorbed on an adsorbent, and the adsorbent is used.
  • the adsorbed volatile organic compound is desorbed from the adsorbent by using water vapor in a pressurized environment and mixed with the water vapor, and the water vapor mixed with the volatile organic compound is used as a combustor of a gas turbine.
  • a second solving means relating to a method of treating a volatile organic compound using a gas turbine
  • steam is generated by utilizing heat of the combustion gas discharged from the gas turbine force. The method of generating is adopted.
  • the volatile organic compound is desorbed from the adsorbent.
  • a method is adopted in which a part of the water vapor is supplied to the gas turbine combustor without desorbing the volatile organic compounds.
  • the pretreatment for concentrating the volatile organic compound in any one of the above first to fourth solution means A method of adsorbing volatile organic compounds to the adsorbent after applying to gas is adopted.
  • the pretreatment is performed in a predetermined adsorbent with a volatile organic compound being treated.
  • Concentration treatment that concentrates volatile organic compounds by desorbing the volatile organic compounds using heated gas after adsorbing, and dehumidification treatment that removes moisture from the gas to be treated! Either one or both, t, is adopted.
  • the volatile organic compound is adsorbed to the adsorbent. Thereafter, a method is employed in which heating is performed using a heating gas before the volatile organic compound of the adsorbent is desorbed with water vapor.
  • the heated gas is a combustion gas used for generating steam. Adopting the means of exhaust gas.
  • the volatile organic compound contained in the gas to be treated is adsorbed on an adsorbent and adsorbed on the adsorbent.
  • An adsorption device that desorbs volatile organic compounds using water vapor under pressure and mixes them with the water vapor; and a gas turbine that burns the water vapor mixed with the volatile organic compounds in a combustor. Adopt the means.
  • water vapor is generated by using heat of the combustion gas discharged from the gas turbine force.
  • a means of providing a water vapor generating device is adopted.
  • a third solution for the volatile organic compound treatment system in the first or second solution, a plurality of adsorption devices, and adsorption and volatility of the volatile organic compound to the adsorbent A means is adopted in which a switching device is further provided for switching the plurality of adsorption devices so that the desorption of the organic compound from the adsorbent is alternately performed in parallel.
  • the flow rate of water vapor directly supplied to the combustor without passing through the adsorption device A means of further including a steam bypass control valve for adjusting the pressure is adopted.
  • the volatile organic compound may be treated as a gas to be treated before adsorbing the volatile organic compound to the adsorbent.
  • a means of further comprising a pretreatment for concentrating volatile organic compounds contained therein is adopted.
  • the pretreatment device is configured to adsorb the volatile organic compound in the treatment target to a predetermined adsorbent.
  • a concentrator that concentrates volatile organic compounds by desorbing volatile organic compounds from the adsorbent using heated gas, or a dehumidifier that removes moisture from the gas to be treated. T is adopted.
  • the volatile organic compound of the adsorbent is steamed in the adsorption device.
  • a method is employed in which heating is performed using a heated gas before desorption by gas.
  • the heated gas is an exhaust gas of combustion gas used to generate water vapor in the water vapor generating device.
  • the water vapor mixed with the volatile organic compound is supplied to the combustor of the gas turbine and burned, so that the volatile organic compound can be rendered harmless and is highly volatile.
  • Organic compounds can be supplied to the combustor to prevent the flame temperature from becoming too high and improve overall energy efficiency.
  • water vapor to the combustor it is possible to reduce the amount of NOx in the combustion gas discharged from the gas turbine, so that deterioration of the surrounding environment due to NOx can be suppressed.
  • FIG. 1 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of a volatile organic compound processing system according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of a volatile organic compound processing system according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing operation states a to d of the adsorption device in the second embodiment of the present invention.
  • ⁇ 4 A schematic diagram showing operation states e to h of the adsorption device in the second embodiment of the present invention. is there.
  • FIG. 6 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of a volatile organic compound processing system according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of a volatile organic compound treatment system according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of a volatile organic compound treatment system according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a system configuration diagram showing a characteristic configuration of the volatile organic compound processing system according to the first embodiment of the present invention.
  • reference numeral 1 is an adsorption device
  • 2 is a gas turbine
  • 3 is a water vapor generation device.
  • the adsorbing device 1 removes the volatile organic compound to be treated by adsorbing the volatile organic compound contained in the treatment target gas to the internal adsorbent, and adsorbed the volatile organic compound to the adsorbent. Is desorbed with water vapor under pressure and mixed with water vapor. For example, activated carbon is used as the adsorbent.
  • the pressurized environment is realized by supplying water vapor to the adsorption device 1.
  • the gas to be treated is inputted from the outside and the water vapor is inputted from the water vapor generating device 3, while the treated gas from which the volatile organic compound has been removed is removed from the outside. It discharges to the combustor and outputs compound-mixed water vapor mixed with volatile organic compounds to the combustor 5 of the gas turbine 2. Further, air (cooling air) is input to the adsorption device 1 because it is necessary to cool the adsorbent as shown in the figure.
  • the gas turbine 2 includes a compressor 4 that pressurizes air, a combustor 5 that generates a combustion gas by supplying fuel gas to the pressurized air, and kinetic energy and pressure energy of the combustion gas. And a turbine 6 that is driven to rotate and generates a driving force for the compressor 4 and the external load 7.
  • the gas turbine 2 supplies the steam mixed with the volatile organic compound in the adsorption device 1 to the combustion region of the combustor 5 in a pressurized state, and combusts it together with the fuel gas.
  • the load 7 is a generator, for example.
  • the steam generator 3 is a kind of heat exchanger that generates steam using the heat held by the combustion gas discharged from the gas turbine 2.
  • the steam generator 3 is, for example, an exhaust heat recovery boiler.
  • the pressurized water vapor generated by the water vapor generating device 3 is supplied to the outside and is also supplied to the adsorption device 1 for the factory process.
  • the pressurizing environment is realized by supplying water vapor to the adsorption device 1.
  • the method for realizing the pressurizing environment is not limited to this.
  • the pressurized environment in the adsorption device 1 may be realized by supplying a part of the compressed air discharged from the compressor 4 to the adsorption device 1.
  • the water vapor mixed with the volatile organic compound (compound mixed water vapor) is supplied to the combustion region of the combustor 5 of the gas turbine 2 in a pressurized state.
  • the volatile organic compound in the compound-mixed water vapor is rendered harmless by burning with the fuel gas in the combustor 5.
  • All or a part of the combustion gas in the combustor 5 is rotated into the turbine 6 and then introduced into the steam generator 3 to generate steam by heat exchange with water. That is, in the steam generator 3, water is removed by utilizing the heat of the combustion gas. Water vapor is generated. A part or all of the water vapor generated in this way is supplied to the adsorption device 1 in a pressurized state and used for desorption of volatile organic compounds such as adsorbent power.
  • water vapor mixed with a volatile organic compound is supplied to the combustor 5 of the gas turbine 2 for combustion treatment, so that the volatile organic compound is more completely converted than before. It can be detoxified.
  • water vapor mixed with volatile organic compounds is supplied to the combustor 5 of the gas turbine 2 for combustion treatment, so part of the gas turbine fuel can be saved by the combustion heat of the volatile organic compounds. Therefore, overall energy efficiency can be improved.
  • water vapor is supplied to the combustor 5, the amount of NOx in the combustion gas discharged from the gas turbine 2 can be reduced, and therefore deterioration of the surrounding environment due to NOx can be suppressed.
  • the steam is generated by using the heat of the combustion gas discharged from the gas turbine 2.
  • a facility for generating steam is separately provided, and water is generated from the facility. It is okay to supply steam.
  • the amount of water vapor that the gas turbine (ie, combustor 5) needs to drive itself (the amount of water vapor for combustion) and the amount of water vapor that the adsorber 1 needs to adsorb volatile organic compounds (Water vapor amount for compound adsorption) does not necessarily match.
  • the amount of water vapor for combustion should be determined based on the need for stable and efficient operation of the gas turbine, while the amount of water vapor for compound adsorption also determines the necessary force for effective adsorption of volatile organic compounds. Is to be done.
  • the volatile organic compound treatment system according to the first embodiment is discharged from the adsorption device 1. Therefore, the amount of water vapor supplied to the adsorption device 1 and the amount of water vapor supplied to the combustor 5 are the same, and thus the above-described combustion water vapor is supplied. There is a problem that both the amount and the amount of water vapor for compound adsorption cannot be satisfied!
  • the adsorption device 1 repeats adsorption of a volatile organic compound to the adsorbent and desorption of the volatile organic compound from the adsorbent under a pressurized environment, and exhaust gas containing the volatile organic compound is removed. There is a problem that cannot be processed continuously.
  • the second embodiment is for solving the problems of the first embodiment, and relates to a volatile organic compound processing system that is closer to a real machine.
  • FIG. 2 the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. In the following description, descriptions of the same components as those in the first embodiment are omitted because they are redundant.
  • reference numerals 1A and 1B are adsorption devices
  • 8 is a steam bypass control valve
  • 9 is a steam injection control valve
  • 10A and 10B are processing target gas supply valves
  • 11A and 11B are processed gases.
  • the discharge valves, 12A and 12B are steam supply valves
  • 13A and 13B are steam discharge valves
  • 14 is a cooling air fan
  • 15A and 15B are cooling air supply valves.
  • the adsorption device 1A (A tower) and the adsorption device 1B (B tower) are the same as the adsorption device 1 of the first embodiment.
  • the adsorption devices 1A and 1B are provided in parallel to the supply path of the gas to be processed and water vapor as shown in the figure, and alternately perform volatile organic compound removal processing on the gas to be processed as will be described later. It is.
  • the steam bypass control valve 8 is an on-off valve provided between the inlet side of the steam supply valves 12A and 12B and the outlet side of the steam discharge valves 13A and 13B, and is supplied to the adsorption devices 1A and 1B.
  • a part of water vapor is directly supplied to the steam injection control valve 9 without going through the adsorption devices 1A and 1B, that is, a part of the water vapor is supplied to the steam injection control valve 9 by bypassing the adsorption devices 1A and 1B. Is to do.
  • the steam injection control valve 9 is provided between the steam bypass control valve 8 and the gas turbine 2 (more precisely, the combustor 5), and regulates the amount of water vapor injected into the gas turbine 2.
  • the target gas supply valve 10A is installed at the target gas supply port in the adsorption device 1A (A tower). This is an open / close valve that shuts off the supply gas Z to the adsorption device 1A.
  • the treatment target gas supply valve 10B is an on-off valve provided at the supply port of the treatment target gas in the adsorption device 1B (B tower), and shuts off supply Z of the treatment target gas to the adsorption device 1B.
  • the treated gas discharge valve 11A is an on-off valve provided at the treated gas discharge port in the adsorption device 1A, and discharges Z of the treated gas from the adsorption device 1A.
  • the treated gas discharge valve 11B is an on-off valve provided at the treated gas discharge port in the adsorption device 1B, and discharges Z of the treated gas from the adsorption device 1B.
  • the steam supply valve 12A is an on-off valve provided at the water vapor supply port in the adsorption device 1A, and shuts off the supply of water vapor Z to the adsorption device 1A.
  • the steam supply valve 12B is an on-off valve provided at the water vapor supply port in the adsorption device 1B, and shuts off the water supply Z to the adsorption device 1B.
  • the water vapor discharge valve 13A is an on-off valve provided at the discharge port of the compound-mixed water vapor in the adsorption device 1A, and performs discharge Z blocking of the compound-mixed water vapor from the adsorption device 1A.
  • the water vapor discharge valve 13B is an on-off valve provided at the discharge port of the compound-mixed water vapor in the adsorption device 1B, and performs the discharge Z cutoff of the compound-mixed water vapor of the adsorption device 1B.
  • the cooling air fan 14 is a power source for supplying cooling air to the adsorption devices 1A and 1B.
  • the cooling air supply valve 15A is an on-off valve provided between the cooling air fan 14 and the cooling air adsorbing device 1A, and shuts off the supply Z of cooling air to the adsorbing device 1A.
  • the cooling air supply valve 15B is an on-off valve provided between the cooling air fan 14 and the cooling air adsorbing device 1B, and shuts off the supply Z of cooling air to the adsorbing device 1B.
  • the water vapor via the vapor bypass control valve 8 is converted into the vapor injection control valve 9 To be supplied. Therefore, it is possible to individually set the above-mentioned amount of water vapor for combustion and the amount of water vapor for compound adsorption.
  • the steam injection control valve 9 is disposed downstream of the steam bypass control valve 8 in the direction of the flow of steam (that is, between the steam bypass control valve 8 and the gas turbine bin 2).
  • the steam injection control valve 9 may be provided upstream of the steam bypass control valve 8 (that is, between the heat exchanger 3 and the steam bypass control valve 8). Even in such a configuration, the same effects as described above can be obtained.
  • FIGS. 3 and 4 show the above-described steam bypass control valve 8, processing target gas supply valves 10A and 10B, processed gas discharge valves 11A and 11B, steam supply valves 12A and 12B, steam discharge valves 13A and 13B, and cooling air supply It shows changes in the operating states a to h of the adsorption device 1A and the adsorption device 1B according to the open / closed state of the valves 15A and 15B.
  • FIG. 5 is a timing chart showing such changes in the operation states a to h in FIGS. 3 and 4 in time series.
  • the adsorption device 1A and the adsorption device 1B change in the order of adsorption state ⁇ pressurization state ⁇ desorption state ⁇ depressurization state ⁇ cooling state ⁇ adsorption state by repeating such changes of the operation states a to h.
  • the steam bypass control valve 8 the processing target gas supply valves 10A and 10B, the processed gas discharge valves 11A and 11B, the steam supply valves 12A and 12B, the steam discharge valves 13A and 13B, and
  • the white display indicates that each valve is in the “open state”
  • the black display indicates that each valve is in the “closed state”.
  • FIGS. 3 and 4 also show the open / closed state of the steam bypass control valve 8, but the steam bypass control valve 8 compensates for the difference flow rate between the combustion steam amount and the compound adsorption steam amount as described above. Therefore, it does not directly define the state of the adsorption device 1A and the adsorption device 1B.
  • the operation state a indicates that the adsorption device 1A is in the “adsorption state” and the adsorption device 1B is in the “pressurized state”. That is, the adsorption device 1A is configured such that the gas supply valve 10A to be processed and the gas exhaust valve 11A to be processed are open, and the steam supply valve 12A, the water vapor discharge valve 13A, and the cooling air supply valve 15A are closed. As a result, the gas to be processed is sequentially supplied and the processed gas is sequentially discharged.
  • the adsorption device 1B supplies steam When the valve 12B is open and the gas supply valve 10B, the processed gas discharge valve 11B, the steam supply valve 12B, the steam discharge valve 13B, and the cooling air supply valve 15B are set to the closed state, only steam is supplied. Are in a pressurized state in which are sequentially supplied.
  • the adsorption device 1A continues to be in the adsorption state for a relatively long time in the operation states a to d, while the adsorption device 1B changes from the previous adsorption state to the operation state a.
  • the pressure state shown in FIG. 1 is reached and the pressure is increased to a sufficient level, the state changes to the desorption state shown in the operation state b. That is, the adsorption device 1B is in a desorption state in which the water vapor discharge valve 13B is set to the open state in addition to the vapor supply valve 12B, so that the water vapor is sequentially supplied and the compound-mixed water vapor is sequentially discharged.
  • the adsorbing device 1B transitions to the reduced pressure state shown in the operating state c.
  • the adsorption device 1B is set so that the treated gas discharge valve 11B is open and the gas supply valve 10B, the steam supply valve 12B, the steam discharge valve 13B, and the cooling air supply valve 15B are closed. The pressure is reduced.
  • the adsorption device 1B transitions to the cooling state indicated by the operation state d. That is, in the adsorption device 1B, the cooling air supply valve 15B is set to the open state in addition to the processed gas discharge valve 11B, so that the cooling air is supplied to the inside and is cooled to room temperature. Further, as shown in the operation state e, the adsorption device 1B has the processing target gas supply valve 10B and the processed gas discharge valve 11B open, and the steam supply valve 12B, the steam discharge valve 13B, and the cooling air supply valve 15B. Since the gas is set to the closed state, the gas to be processed is sequentially supplied and the processed gas is sequentially discharged.
  • the steam supply valve 12A is in an open state, and the processing target gas supply valve 10A, the processed gas discharge valve 11A, the steam supply valve 12A, the water vapor discharge valve 13A, and the cooling air supply valve By setting 15A to the closed state, a pressurized state in which only water vapor is sequentially supplied is achieved.
  • the operation states e to h are states in which the adsorption device 1A and the adsorption device 1B are interchanged with respect to the operation states a to d, further description is omitted.
  • the adsorbing device 1A and the adsorbing device 1B are the processing target gas.
  • the adsorption of the volatile organic compound from the gas and the desorption of the volatile organic compound from the adsorbent are repeated alternately.
  • the adsorption of volatile organic compounds from the gas to be treated that is, the removal of volatile organic compounds from the gas to be treated, is performed continuously by making the adsorber 1A and adsorber 1B transition as in operating states a to h. To be done.
  • adsorption devices is not limited to two (adsorption device 1A and adsorption device 1B).
  • gas to be processed may be continuously processed by operating more adsorption devices in parallel.
  • FIG. 6 is a system configuration diagram of the volatile organic compound processing system according to the third embodiment. The same components as those of the volatile organic compound processing system according to the first and second embodiments described above are shown in FIG. The same reference numerals are given.
  • reference numeral 16 is a dehumidifying tower
  • 17 and 20 are cooling devices
  • 18 is a concentrating device
  • 19 is a fan.
  • the dehumidifying tower 16 dehumidifies the gas to be treated by bringing it into gas-liquid contact with cold water. That is, the dehumidifying tower 16 is configured so that the gas to be treated is supplied from below and the gas to be treated is discharged from above, while the cold water is sprinkled downward in the upward force. Therefore, the gas to be treated is cooled by gas-liquid contact with the cold water, whereby the water vapor contained in the gas to be treated is condensed and separated into the cold water, resulting in dehumidification.
  • the cooling device 17 cools the water discharged from the lower part of the dehumidifying tower 16 and supplies it to the dehumidifying tower 16 as the cold water.
  • the dehumidifying tower 16 and the cooling device 17 constitute a dehumidifying device.
  • the concentrator 18 concentrates the volatile organic compound contained in the gas to be treated (dehumidified) discharged from the dehumidifying tower 16 and discharges it to the cooling device 20. That is, the concentrating device 18 adsorbs and removes volatile organic compounds that allow the gas to be treated to pass through fine powdered activated carbon and discharges it as a processing gas, and exhausts the volatile organic compounds adsorbed on the activated carbon by exhaust gas. Volatile organic compounds concentrated by desorption from activated carbon Exhaust gas containing waste is discharged as a new gas to be treated.
  • the exhaust gas discharged from the steam generator 3 is a high-temperature gas of about 100 ° C. The high-temperature exhaust gas desorbs volatile organic compounds from activated carbon.
  • the fan 19 is provided to forcibly exhaust the processing gas from the concentrator 18.
  • the cooling device 20 cools the new processing target gas and supplies it to the processing target gas supply valves 10A and 1OB.
  • the new gas to be treated is a high-temperature gas close to 100 ° C., which contains the concentrated volatile organic compound in the exhaust gas discharged from the steam generating device 3.
  • the cooling device 20 is provided to cool such a new high-temperature processing target gas to a temperature suitable for the processing of the adsorption devices 1A and 1B.
  • the gas to be treated is pretreated, that is, dehumidified and concentrated, by the dehumidifying device comprising the dehumidifying tower 16 and the cooling device 17 and the concentrating device 18.
  • this treatment (removal treatment of volatile organic compounds) is performed by the adsorption devices 1A and 1B. Therefore, the adsorption apparatuses 1A and 1B process a new gas to be processed that has a higher concentration than the first and second embodiments described above and contains a volatile organic compound, so that the treatment efficiency can be improved.
  • FIG. 5 described above shows that the adsorption process is performed over the operation states a to d for the adsorption device 1A, while the adsorption process is performed over the operation states e to h for the adsorption device 1B.
  • the adsorption treatment period can be shortened, and the treatment efficiency of the gas to be treated can be improved accordingly.
  • the pretreatment may be either a dehumidification treatment or a concentration treatment.
  • the concentration of the volatile organic compound in the gas to be treated increases significantly by this amount. Therefore, it is also possible to improve the treatment efficiency of the gas to be treated by making the pretreatment only the dehumidification treatment. On the other hand, since the concentration of the volatile organic compound is significantly increased only by the concentration treatment, it is possible to improve the treatment efficiency of the gas to be treated.
  • This volatile organic compound treatment system is the same as that of the third embodiment described above, as shown in FIG.
  • the volatile organic compound processing system has a configuration in which a fan 21, heating gas supply valves 22A and 22B, and heating gas discharge valves 23A and 23B are added.
  • the fan 21 supplies the exhaust gas (heated gas) discharged from the water vapor generating device 3 to the heated gas supply valves 22A, 22B.
  • the heated gas supply valve 22A is provided between the fan 21 and the exhaust gas supply port of the adsorption device 1A, and cuts off supply Z of the exhaust gas to the adsorption device 1A.
  • the heated gas supply valve 22B is provided between the fan 21 and the exhaust gas supply port of the adsorption device 1B, and cuts off supply Z of the exhaust gas to the adsorption device 1B.
  • the heated gas discharge valve 23A is provided between the exhaust gas discharge port of the adsorption device 1A and the gas supply port to be processed by the cooling device 20, and the treatment of the cooling device 20 of the exhaust gas exhausted by the adsorption device 1A. Shut off supply Z to target gas supply port.
  • the heated gas discharge valve 23B is provided between the exhaust gas exhaust port of the adsorption device 1A and the processing target gas supply port of the cooling device 20, and the processing target gas of the exhaust gas cooling device 20 discharged from the adsorption device 1A. Supply Z to supply port is shut off.
  • Adsorption devices 1A and 1B are as shown in FIGS. 3 to 5 as described in the second embodiment, but water vapor for pressurization is applied to adsorption devices 1A and 1B in a normal temperature state in the pressurization process. By supplying, a part of the water vapor is condensed and becomes drain water. In this drain water, volatile organic compounds adhering to the adsorbent by the adsorption treatment are slightly dissolved.
  • the present volatile organic compound treatment system solves such a problem.
  • Heat treatment is performed using exhaust gas discharged from the supply valves 22A and 22B, the heated gas discharge valves 23A and 23B, and the water vapor generating device 3.
  • the adsorption device 1B will be described as a representative.
  • Supply of the gas to be treated to the adsorption device 1B and the treated gas When the adsorption process by discharge is completed, the inside of the adsorber 1B is heated by supplying the exhaust gas discharged from the fan 21 to the adsorber 1B by opening only the heated gas supply valve 22B and the heated gas discharge valve 23B. Since this exhaust gas has a temperature of about 100 ° C. as described above, it is sufficiently high that no condensation of water vapor occurs in the adsorption device 1B. It is possible to heat.
  • the drain water is supplied to the exhaust gas discharge port of the steam generation device 3 to be vaporized. It may be released into the atmosphere. Since the amount of drain water is not large, it can be sufficiently vaporized by supplying it to the exhaust gas outlet of the steam generating device 3.
  • This volatile organic compound treatment system corresponds to the case where the water vapor generating device 3 is disposed apart from other devices, and corresponds to the modification of the third and fourth embodiments described above. Is.
  • the volatile organic compound treatment system of the third embodiment uses the exhaust gas discharged from the water vapor generating device 3 as a heat source in order to concentrate the gas to be treated by the concentrator 18.
  • the volatile organic compound treatment system of the fourth embodiment uses the exhaust gas discharged from the steam generator 3 as a heat source to suppress the generation of drain water in the adsorption devices 1A and 1B.
  • the present volatile organic compound treatment system has an exhaust gas generator compared to the configuration of the fourth embodiment described above. Air is supplied to the fan 21 in place of the exhaust gas, air is supplied from the fan 24 to the concentrating device 18 instead of exhaust gas, and the exhaust air from the fan 21 is composed of heat exchangers 25 and 26 and a pump 27. While the air is heated by the first heating device, the exhaust air from the fan 24 is heated by the second heating device composed of the heat exchangers 28 and 29 and the pump 30.
  • the heat exchanger 25 is provided in the vicinity of the exhaust gas discharge port of the water vapor generating device 3, and performs heat exchange between the exhaust gas and a predetermined heat medium.
  • the heat exchanger 26 is provided near the air outlet of the fan 21 and performs heat exchange between the air discharged from the fan 21 and the heat medium.
  • the pump 27 is provided in the middle of the heat medium circulation path provided between the heat exchanger 25 and the heat exchanger 26, and circulates the heat medium between the heat exchanger 25 and the heat exchanger 26.
  • the heat exchanger 28 is provided in the vicinity of the exhaust gas outlet of the water vapor generating device 3, and performs heat exchange between the exhaust gas and a predetermined heat medium.
  • the heat exchanger 29 is provided in the vicinity of the air discharge port of the fan 24, and performs heat exchange between the air discharged from the fan 24 and the heat medium.
  • the pump 30 is provided in the middle of the heat medium circulation path provided between the heat exchange 28 and the heat exchange 29, and circulates the heat medium between the heat exchange 28 and the heat exchange 29.
  • the exhaust gas from which the power of the water vapor generating device 3 has also been discharged is not directly supplied to the concentrating device 18 and the adsorbing devices 1A and 1B.
  • the heat of the exhaust gas is transferred to the air exhausted from the fans 21 and 24 by using the heating device, thereby heating the air to heated air, and using the heated air as the heated gas, the concentrating device 18 and the adsorption device 1A , Supply to 1B.
  • each heat medium circulation path is compared with the outside that supplies exhaust gas to the concentrator 18 and the adsorbers 1A and 1B.
  • the equipment is significantly smaller.
  • the heat capacity of the heat medium is large, the circulation flow rate of the heat medium can be kept relatively small, so the power of the pumps 27 and 30 is the blast power that supplies the exhaust gas to the concentrator 18 and adsorbers 1A and 1B. Can be kept smaller.
  • the equipment cost and the lining cost are increased when the water vapor generating device 3 is spaced from the concentration device 18 and the adsorption devices 1A and 1B. It can be avoided.

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Abstract

 この発明は、揮発性有機化合物を無害化して処理するだけでなく、揮発性有機化合物の処理を必要とする施設内のエネルギ効率を総合的に向上させることを目的とする。この発明では、上記目的を達成するために、揮発性有機化合物を含む排ガスを吸着装置に供給して揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させるとともに、吸着剤を加圧した水蒸気で脱着して水蒸気に混入させ、揮発性有機化合物を混入させた水蒸気を加圧した状態のままガスタービンの燃焼器に供給し、燃料ガスとともに燃焼させる、という解決手段を採用する。  

Description

ガスタービンを用レヽた揮発性有機化合物処理方法及び揮発性有機化合 物処理システム 技術分野
[0001] 本発明は、ガス状の揮発性有機化合物をガスタービンを用いて処理する処理方法 及び処理システムに関する。
背景技術
[0002] トルエンゃキシレン等の各種揮発性有機化合物を使用する工場では、使用後の揮 発性有機化合物の処分に頭を悩ませている。排出量が微量である場合、これら使用 後の揮発性有機化合物を含む排ガスを、基準値を下回る範囲で大気中に排出する こともあるが、排出量が多量である場合は (多くの場合がそうである)、別個に処理設 備を設けて処理している。
[0003] 従来の一般的は処理方法としては、まず、揮発性有機化合物を含む排ガスを吸着 装置に供給して揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させ、揮発性有機化合物を吸着 した吸着剤を水蒸気で脱着して揮発性有機化合物を水蒸気に混入させる。次に、揮 発性有機化合物を吸着させた水蒸気を凝縮させ、この凝縮水を蒸留して揮発性有 機化合物と水とを分離させる。最後に、水と分離させた揮発性有機化合物を燃焼さ せて分解する。
[0004] 従来の処理方法では、処理設備の設置に要する費用の他、当該設備の運転に要 する費用も嵩む。そこで、例えば工場内に既存のガスタービンを利用して余分な費 用を力 4ナることなく揮発性有機化合物を処理する技術が提案されている (例えば、下 記の特許文献 1、 2、 3)。
[0005] 特許文献 1の発明では、揮発性有機化合物から発生する有害物質を捕集し、ガス タービンの空気取り入れ口に供給し、圧縮機において空気と共に圧縮し、有害物質 を含む圧縮空気を燃焼器に供給するとともに燃料ガスを供給して燃焼させ、タービン を駆動する。有害物質は、燃焼器において燃焼して無害化され、ガスタービンの排 気とともに大気中に排出される。 [0006] 特許文献 2、 3の発明では、揮発性有機化合物の廃液を燃焼器に直接供給すると ともに燃料ガスを供給して燃焼させることによりタービンを駆動する。有害物質の廃液 は、燃焼器において燃焼して無害化され、ガスタービンの排気とともに大気中に排出 される。
特許文献 1:特開 2003 - 322324号公報
特許文献 2:特開 2004— 036492号公報
特許文献 3 :特開 2004— 184003号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] ところで、上記の処理方法にお!、ては、次のような問題点が指摘されて 、る。上記 特許文献 1の発明では、揮発性有機化合物から発生する有害物質をガスタービンの 空気取り入れ口に供給するが、ガスタービンは、取り入れた空気の一部を燃焼器に は導入せず、後段のタービンの冷却に利用する構造となっている。そのため、有害物 質の一部が燃焼器を通らずに、すなわち燃焼せずにガスタービン力 排出されること になり、十分な処理が行われない。上記特許文献 2、 3の発明では、高濃度の有害物 質の廃液を直接燃焼器に供給して 、るので、火炎温度が高くなり過ぎる恐れがある。
[0008] 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、揮発性有機化合物を無害化 することに加えて、揮発性有機化合物の処理を必要とする施設内のエネルギ効率を 総合的に向上させることを目的とする。
課題を解決するための手段
[0009] 上記の課題を解決するための手段として、次のような構成のガスタービンを用いた 揮発性有機化合物の処理方法、および揮発性有機化合物の処理システムを採用す る。
すなわち、本発明では、ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係 る第 1の解決手段として、処理対象ガスに含まれる揮発性有機化合物を吸着剤に吸 着させ、該吸着剤に吸着された前記揮発性有機化合物を加圧環境下で水蒸気を用 Vヽて前記吸着剤から脱着して前記水蒸気に混入させ、前記揮発性有機化合物が混 入した前記水蒸気をガスタービンの燃焼器で燃焼させる、 、う手段を採用する。 [0010] また、ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 2の解決手段 として、上記第 1の解決手段において、前記ガスタービン力 排出される燃焼ガスの 熱を利用して水蒸気を生成する、という手段を採用する。
[0011] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 3の解決手段として、 上記第 1または第 2の解決手段において、揮発性有機化合物の吸着剤への吸着及 び揮発性有機化合物の吸着剤力ゝらの脱着を並行して交互に行う、という手段を採用 する。
[0012] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 4の解決手段として、 上記第 1〜第 3のいずれかの解決手段において、吸着剤から揮発性有機化合物を 脱着するための水蒸気の一部を揮発性有機化合物の脱着に供することなくガスター ビンの燃焼器に供給する、という手段を採用する。
[0013] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 5の解決手段として、 上記第 1〜第 4いずれかの解決手段において、揮発性有機化合物を濃縮する前処 理を処理対象ガスに施した後、揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させる、という手 段を採用する。
[0014] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 6の解決手段として、 上記第 5の解決手段において、前処理は、所定の吸着剤に処理対象中の揮発性有 機化合物を吸着させた後、加熱ガスを用いて揮発性有機化合物を吸着剤力 脱着 することにより揮発性有機化合物を濃縮する濃縮処理、処理対象ガスから水分を除 去する減湿処理の!/、ずれか一方あるいは両方である、 t 、う手段を採用する。
[0015] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 7の解決手段として、 上記第 1〜第 6いずれか 2の解決手段において、揮発性有機化合物を吸着剤に吸 着させた後、吸着剤の揮発性有機化合物を水蒸気で脱着する前に加熱ガスを用い て加熱を行う、という手段を採用する。
[0016] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 8の解決手段として、 上記第 6または第 7の解決手段において、加熱ガスは、水蒸気の生成に供された燃 焼ガスの排ガスである、という手段を採用する。
[0017] ガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法に係る第 9の解決手段として、 上記第 6または第 7の解決手段において、加熱ガスは、水蒸気の生成に供された燃 焼ガスの排ガスとの熱交換によって加熱された空気である、という手段を採用する。
[0018] 一方、本発明では、揮発性有機化合物の処理システムに係る第 1の解決手段とし て、処理対象ガスに含まれる揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させ、該吸着剤に 吸着した前記揮発性有機化合物を加圧環境下で水蒸気を用いて脱着して前記水蒸 気に混入させる吸着装置と、前記揮発性有機化合物が混入した前記水蒸気を燃焼 器で燃焼させるガスタービンとを備える、という手段を採用する。
[0019] また、揮発性有機化合物の処理システムに係る第 2の解決手段として、上記第 1の 解決手段において、前記ガスタービン力 排出される燃焼ガスの熱を利用して水蒸 気を生成する水蒸気生成装置を備える、という手段を採用する。
[0020] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 3の解決手段として、上記第 1または第 2の解決手段において、複数の吸着装置、及び揮発性有機化合物の吸着剤への吸 着及び揮発性有機化合物の吸着剤からの脱着を並行して交互に行うように前記複 数の吸着装置を切替える切替装置をさらに備える、という手段を採用する。
[0021] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 4の解決手段として、上記第 1〜第 3い ずれ力の解決手段において、吸着装置を経由することなく燃焼器に直接供給する水 蒸気の流量を調節する蒸気バイパス制御弁をさらに備える、という手段を採用する。
[0022] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 5の解決手段として、上記第 1〜第 4い ずれかの解決手段において、揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させる前に処理対 象ガスに含まれる揮発性有機化合物を濃縮する前処理をさらに備える、という手段を 採用する。
[0023] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 6の解決手段として、上記第 5の解決 手段において、前処理装置は、所定の吸着剤に処理対象中の揮発性有機化合物を 吸着させた後、加熱ガスを用いて揮発性有機化合物を吸着剤から脱着することによ り揮発性有機化合物を濃縮する濃縮装置、処理対象ガスから水分を除去する減湿 装置の 、ずれか一方ある 、は両方である、 t 、う手段を採用する。
[0024] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 7の解決手段として、上記第 1〜第 6い ずれ力の解決手段において、吸着装置において吸着剤の揮発性有機化合物を水蒸 気で脱着する前に加熱ガスを用いて加熱を行う、という手段を採用する。
[0025] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 8の解決手段として、上記第 6または第 7の解決手段において、加熱ガスは、水蒸気生成装置において水蒸気の生成に供さ れた燃焼ガスの排ガスである、と 、う手段を採用する。
[0026] 揮発性有機化合物の処理システムに係る第 9の解決手段として、上記第 6または第 7の解決手段において、水蒸気の生成に供された燃焼ガスの排ガスとの熱交換によ つて空気を加熱する加熱装置をさらに備え、加熱ガスは、加熱装置から排出された 加熱空気である、という手段を採用する。
発明の効果
[0027] 本発明では、揮発性有機化合物が混入した水蒸気をガスタービンの燃焼器に供給 して燃焼させるので、揮発性有機化合物を無害化することが可能であると共に、高濃 度の揮発性有機化合物が燃焼器に供給されて火炎温度が高くなり過ぎることを防止 して総合的なエネルギ効率を向上させることができる。また、燃焼器に水蒸気を供給 することにより、ガスタービンの排出する燃焼ガス中の NOxの量を低減させることが可 能であり、よって NOxによる周辺環境の劣化を抑制することができる。
[0028] また、ガスタービン力 排出される燃焼ガスの保有する熱を利用して水蒸気を生成 し、吸着装置に供給することにより、水蒸気を他の系統から調達する場合と比較して 、水蒸気の生成に要するエネルギーを削減することができる。
図面の簡単な説明
[0029] [図 1]本発明の第 1実施形態に係わる揮発性有機化合物処理システムの特徴的構成 を示すシステム構成図である。
[図 2]本発明の第 2実施形態に係わる揮発性有機化合物処理システムの特徴的構成 を示すシステム構成図である。
[図 3]本発明の第 2実施形態における吸着装置の動作状態 a〜dを示す模式図である 圆 4]本発明の第 2実施形態における吸着装置の動作状態 e〜hを示す模式図であ る。
圆 5]本発明の第 2実施形態における吸着装置の動作状態変化を示すタイミングチヤ ートである。
[図 6]本発明の第 3実施形態に係わる揮発性有機化合物処理システムの特徴的構成 を示すシステム構成図である。
[図 7]本発明の第 4実施形態に係わる揮発性有機化合物処理システムの特徴的構成 を示すシステム構成図である。
[図 8]本発明の第 5実施形態に係わる揮発性有機化合物処理システムの特徴的構成 を示すシステム構成図である。
符号の説明
[0030] 1 吸着装置
2 ガスタービン
3 水蒸気生成装置
4 圧縮機
5 燃焼器
6 タービン
7 負荷
発明を実施するための最良の形態
[0031] 以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
〔第 1実施形態〕
図 1には、本発明の第 1実施形態に係る揮発性有機化合物処理システムの特徴的 構成を示すシステム構成図である。図において、符号 1は吸着装置、 2はガスタービ ン、 3は水蒸気生成装置である。
[0032] 吸着装置 1は、処理対象ガスに含まれる揮発性有機化合物を内部の吸着剤に吸 着させることによって処理対象ガス力 揮発性有機化合物を除去し、吸着剤に吸着 した揮発性有機化合物を加圧環境下で水蒸気を用いて脱着して水蒸気に混入させ る。吸着剤には、例えば活性炭が使用される。また、上記加圧環境は、水蒸気を吸着 装置 1に供給することによって実現される。
[0033] このような吸着装置 1は、処理対象ガスが外部から入力されると共に水蒸気が水蒸 気発生装置 3から入力される一方、揮発性有機化合物が除去された処理済ガスを外 部に排出すると共に揮発性有機化合物が混入した化合物混入水蒸気をガスタービ ン 2の燃焼器 5に出力する。また、吸着装置 1には、図示するように吸着剤を冷却する 必要から空気 (冷却用空気)が入力される。
[0034] ガスタービン 2は、空気を加圧する圧縮機 4と、加圧された空気に燃料ガスを供給し て燃焼させ、燃焼ガスを発生させる燃焼器 5と、燃焼ガスの運動エネルギおよび圧力 エネルギによって回転駆動されて圧縮機 4および外部の負荷 7の駆動力を発生する タービン 6とを備えている。ガスタービン 2は、吸着装置 1において揮発性有機化合物 を混入させた水蒸気を加圧状態のまま燃焼器 5の燃焼領域に供給し、燃料ガスととも に燃焼させる。負荷 7は例えば発電機である。
[0035] 水蒸気生成装置 3は、ガスタービン 2から排出される燃焼ガスの保有する熱を利用 して水蒸気を生成する一種の熱交^^である。この水蒸気生成装置 3は、例えば排 熱回収ボイラである。水蒸気生成装置 3で生成された加圧状態の水蒸気は、工場の プロセス用として外部に供給されると共に吸着装置 1に供給される。
[0036] 上記のように構成された処理システムによって揮発性有機化合物を処理する方法 について説明する。
揮発性有機化合物を含む処理対象ガスが吸着装置 1に供給されると、揮発性有機 化合物は吸着剤に吸着される。そして、この吸着剤に吸着された揮発性有機化合物 は、加圧環境下における水蒸気の作用によって吸着剤から脱着して水蒸気に混入 する。ここで、上記加圧環境は吸着装置 1に水蒸気を供給することにより実現される 力 加圧環境の実現方法はこれに限定されるものではない。例えば、圧縮機 4から排 出される圧縮空気の一部を吸着装置 1に供給することにより吸着装置 1内の加圧環 境を実現しても良い。
[0037] このようにして揮発性有機化合物が混入した水蒸気 (化合物混入水蒸気)は、加圧 状態のままガスタービン 2の燃焼器 5の燃焼領域に供給される。そして、化合物混入 水蒸気中の揮発性有機化合物は、燃焼器 5において燃料ガスとともに燃焼すること によって無害化される。燃焼器 5の燃焼ガスの全部あるいは一部は、タービン 6を回 転駆動した後、水蒸気生成装置 3に導入され、水との熱交換によって水蒸気を生成 させる。すなわち、水蒸気生成装置 3では、燃焼ガスの熱を利用することにより水が気 化して水蒸気が発生する。このように発生した水蒸気の一部または全部は、加圧状 態のまま吸着装置 1に供給されて、吸着剤力ゝらの揮発性有機化合物の脱着に利用さ れる。
[0038] このような本実施形態によれば、揮発性有機化合物が混入した水蒸気をガスタービ ン 2の燃焼器 5に供給して燃焼処理するので、揮発性有機化合物を従来よりもより完 全に無害化することが可能である。また、揮発性有機化合物が混入した水蒸気をガ スタービン 2の燃焼器 5に供給して燃焼処理するので、揮発性有機化合物の燃焼熱 の分、ガスタービン用燃料の一部を節減することが可能であり、よって総合的なエネ ルギ効率を向上させることができる。また、燃焼器 5に水蒸気を供給するので、ガスタ 一ビン 2の排出する燃焼ガス中の NOxの量を低減することが可能であり、よって NOx による周辺環境の劣化を抑制することができる。
[0039] さらに、ガスタービン 2から排出される燃焼ガスの保有する熱を利用して水蒸気を生 成するので、水蒸気を他の系統力 調達する場合と比較して水蒸気の生成に要する エネルギを削減することが可能であり、したがって工場内のエネルギ効率を総合的に 向上させることができる。
[0040] ところで、本実施形態にぉ 、ては、ガスタービン 2から排出される燃焼ガスの熱を利 用して水蒸気を生成したが、別個に水蒸気を生成する設備を設け、当該設備から水 蒸気を供給するようにしても良 、。
[0041] 〔第 2実施形態〕
次に、本発明の第 2実施形態について、図 2に示すシステム構成図を参照して説明 する。
最初に、ガスタービン (つまり燃焼器 5)が自らの駆動用に必要とする水蒸気の量( 燃焼用水蒸気量)と吸着装置 1が揮発性有機化合物を吸着するために必要とする水 蒸気の量 (化合物吸着用水蒸気量)は必ずしも一致するものではない。すなわち、燃 焼用水蒸気量はガスタービンの安定的かつ効率的な運転の必要から決定されるべ きものであり、一方、化合物吸着用水蒸気量は揮発性有機化合物の効果的な吸着 の必要力も決定されるべきものである。
[0042] 上記第 1実施形態に係る揮発性有機化合物処理システムは、吸着装置 1から排出 された化合物混入水蒸気をそのまま燃焼器 5に供給するように構成されているので、 吸着装置 1に供給する水蒸気量と燃焼器 5に供給する水蒸気量は同一となり、したが つて上述した燃焼用水蒸気量と化合物吸着用水蒸気量とを何れも満足させることが できな 、と!/、う問題点がある。
[0043] また、吸着装置 1は揮発性有機化合物の吸着剤への吸着と加圧環境下での揮発 性有機化合物の吸着剤からの脱着を繰り返すものであり、揮発性有機化合物を含む 排ガスを連続して処理することができな 、と ヽぅ問題点がある。
[0044] 本第 2実施形態は、このような第 1実施形態の問題点を解決するためのものであり、 より実機に近い揮発性有機化合物処理システムに関するものである。なお、図 2では 、上述した第 1実施形態と同一の構成要素には同一符号を付している。以下の説明 では、このような第 1実施形態と同一の構成要素に関する説明は重複するので省略 する。
[0045] 図 2のシステム構成図において、符号 1A, 1Bは吸着装置、 8は蒸気バイパス制御 弁、 9は蒸気噴射制御弁、 10A, 10Bは処理対象ガス供給弁、 11A, 11Bは処理済 ガス排出弁、 12A, 12Bは蒸気供給弁、 13A, 13Bは水蒸気排出弁、 14は冷却空 気用ファン、 15A, 15Bは冷却空気供給弁である。
[0046] 吸着装置 1A(A塔)及び吸着装置 1B (B塔)は、第 1実施形態の吸着装置 1と同様 なものである。この吸着装置 1A, 1Bは、図示するように処理対象ガス及び水蒸気の 供給経路に対して並列に設けられており、後述するように処理対象ガスに対する揮 発性有機化合物除去処理を交互に行うものである。
[0047] 蒸気バイパス制御弁 8は、蒸気供給弁 12A, 12Bの入口側と水蒸気排出弁 13A, 13Bの出口側との間に設けられた開閉弁であり、吸着装置 1A, 1Bに供給される水 蒸気の一部を吸着装置 1A, 1Bを経由することなく蒸気噴射制御弁 9に直接供給す る、つまり上記水蒸気の一部を吸着装置 1A, 1Bをバイパスして蒸気噴射制御弁 9に 供給するためのものである。
[0048] 蒸気噴射制御弁 9は、上記蒸気バイパス制御弁 8とガスタービン 2 (正確には燃焼 器 5)との間に設けられており、ガスタービン 2への水蒸気の噴射量を規定する。処理 対象ガス供給弁 10Aは、吸着装置 1A(A塔)において処理対象ガスの供給口に設 けられた開閉弁であり、吸着装置 1Aへの処理対象ガスの供給 Z遮断を行う。一方、 処理対象ガス供給弁 10Bは、吸着装置 1B (B塔)において処理対象ガスの供給口に 設けられた開閉弁であり、吸着装置 1Bへの処理対象ガスの供給 Z遮断を行う。
[0049] 処理済ガス排出弁 11Aは、吸着装置 1Aにお 、て処理済ガスの排出口に設けられ た開閉弁であり、吸着装置 1Aからの処理済ガスの排出 Z遮断を行う。処理済ガス排 出弁 11Bは、吸着装置 1Bにおいて処理済ガスの排出口に設けられた開閉弁であり 、吸着装置 1Bからの処理済ガスの排出 Z遮断を行う。蒸気供給弁 12Aは、吸着装 置 1Aにおいて水蒸気の供給口に設けられた開閉弁であり、吸着装置 1Aへの水蒸 気の供給 Z遮断を行う。蒸気供給弁 12Bは、吸着装置 1Bにおいて水蒸気の供給口 に設けられた開閉弁であり、吸着装置 1Bへの水蒸気の供給 Z遮断を行う。
[0050] 水蒸気排出弁 13Aは、吸着装置 1Aにおいて化合物混入水蒸気の排出口に設け られた開閉弁であり、吸着装置 1Aからの化合物混入水蒸気の排出 Z遮断を行う。水 蒸気排出弁 13Bは、吸着装置 1Bにおいて化合物混入水蒸気の排出口に設けられ た開閉弁であり、吸着装置 1B力 の化合物混入水蒸気の排出 Z遮断を行う。
[0051] 冷却空気用ファン 14は、冷却用空気を吸着装置 1A, 1Bに供給するための動力源 である。冷却空気供給弁 15Aは、上記冷却空気用ファン 14と冷却用空気を吸着装 置 1Aとの間に設けられた開閉弁であり、冷却用空気の吸着装置 1Aへの供給 Z遮 断を行う。冷却空気供給弁 15Bは、冷却空気用ファン 14と冷却用空気を吸着装置 1 Bとの間に設けられた開閉弁であり、冷却用空気の吸着装置 1Bへの供給 Z遮断を 行う。
[0052] このように構成された揮発性有機化合物処理システムでは、吸着装置 1Aあるいは 吸着装置 1Bから排出された化合物混入水蒸気に加え、蒸気バイパス制御弁 8を経 由した水蒸気が蒸気噴射制御弁 9に供給される。したがって、上述した燃焼用水蒸 気量と化合物吸着用水蒸気量とを個別に設定することが可能である。
[0053] 例えば燃焼用水蒸気量が流量 R1であり、化合物吸着用水蒸気量が流量 R2 (但し Rl >R2)であった場合、流量 R1と流量 R2との差流量を蒸気バイパス制御弁 8を介し て蒸気噴射制御弁 9に供給することにより、燃焼用水蒸気量及びィ匕合物吸着用水蒸 気量の何れについても要求を満足することができる。なお、 R1 <R2の場合も考えら れるが、この場合は、化合物吸着用水蒸気量をガスタービン 2で処理しきれない状態 であり現実的でない。
[0054] なお、本揮発性有機化合物処理システムでは、蒸気噴射制御弁 9を水蒸気の流れ 方向にお 、て蒸気バイパス制御弁 8の下流側(つまり蒸気バイパス制御弁 8とガスタ 一ビン 2との間)に設けたが、蒸気噴射制御弁 9を蒸気バイパス制御弁 8の上流側( つまり熱交翻 3と蒸気バイパス制御弁 8との間)に設けても良い。このような構成に おいても、上述したと同様の作用効果が得られる。
[0055] 次に、 2つ(一対)並列に設けられた吸着装置 1A及び吸着装置 1Bの動作について 、図 3〜図 5を参照して詳しく説明する。図 3及び図 4は、上述した蒸気バイパス制御 弁 8、処理対象ガス供給弁 10A, 10B、処理済ガス排出弁 11A, 11B、蒸気供給弁 12A, 12B、水蒸気排出弁 13A, 13B及び冷却空気供給弁 15A, 15Bの開閉状態 に応じた吸着装置 1A及び吸着装置 1Bの動作状態 a〜hの変化を示している。また、 図 5は、このような図 3及び図 4における動作状態 a〜hの変化を時系列的に示したタ イミングチャートである。吸着装置 1A及び吸着装置 1Bは、このような動作状態 a〜h の変化を繰り返すことによって、吸着状態→加圧状態→脱着状態→減圧状態→冷 却状態→吸着状態の順で状態変化する。
[0056] なお、図 3及び図 4の蒸気バイパス制御弁 8、処理対象ガス供給弁 10A, 10B、処 理済ガス排出弁 11A, 11B、蒸気供給弁 12A, 12B、水蒸気排出弁 13A, 13B及 び冷却空気供給弁 15A, 15Bにおいて、白抜き表示は各弁が「開状態」にあることを 示し、黒抜き表示は各弁が「閉状態」にあることを示している。また、図 3及び図 4では 、蒸気バイパス制御弁 8の開閉状態も示しているが、蒸気バイパス制御弁 8は、上述 したように燃焼用水蒸気量と化合物吸着用水蒸気量との差流量を補うためのもので あり、吸着装置 1A及び吸着装置 1Bの状態を直接規定するものではない。
[0057] 動作状態 aは、吸着装置 1Aが「吸着状態」かつ吸着装置 1Bが「加圧状態」であるこ とを示している。すなわち、吸着装置 1Aは、処理対象ガス供給弁 10A及び処理済ガ ス排出弁 11Aが開状態、かつ、蒸気供給弁 12A、水蒸気排出弁 13A及び冷却空気 供給弁 15Aが閉状態に設定されることによって、処理対象ガスが順次供給されると 共に処理済ガスが順次排出される吸着状態となる。一方、吸着装置 1Bは、蒸気供給 弁 12Bが開状態、かつ、処理対象ガス供給弁 10B、処理済ガス排出弁 11B、蒸気供 給弁 12B、水蒸気排出弁 13B及び冷却空気供給弁 15Bが閉状態に設定されること によって、水蒸気のみが順次供給される加圧状態となる。
[0058] 図 5にも示すように、吸着装置 1Aは動作状態 a〜dの比較的長時間に亘つて吸着 状態を継続し、一方、吸着装置 1Bは、先の吸着状態から動作状態 aに示す加圧状 態に移行して十分な圧力まで加圧されると、動作状態 bに示す脱着状態に遷移する 。すなわち、吸着装置 1Bは、蒸気供給弁 12Bに加えて、水蒸気排出弁 13Bが開状 態に設定されることによって、水蒸気が順次供給されると共に化合物混入水蒸気が 順次排出される脱着状態となる。
[0059] この動作状態 bにおいて吸着装置 1B内の吸着剤に吸着された有機溶媒が加圧下 で十分に脱着すると、吸着装置 1Bは、動作状態 cに示す減圧状態に遷移する。すな わち、吸着装置 1Bは、処理済ガス排出弁 11Bが開状態、かつ、処理対象ガス供給 弁 10B、蒸気供給弁 12B、水蒸気排出弁 13B及び冷却空気供給弁 15Bが閉状態 に設定されることによって減圧状態となる。
[0060] そして、吸着装置 1Bは、吸着装置 1B内の圧力が常圧まで低下すると、吸着装置 1 Bは、動作状態 dに示す冷却状態に遷移する。すなわち、吸着装置 1Bは、処理済ガ ス排出弁 11Bに加えて、冷却空気供給弁 15Bが開状態に設定されることにより、冷 却用空気が内部に供給されて常温まで冷却される。さらに、吸着装置 1Bは、動作状 態 eに示すように、処理対象ガス供給弁 10B及び処理済ガス排出弁 11Bが開状態、 かつ、蒸気供給弁 12B、水蒸気排出弁 13B及び冷却空気供給弁 15Bが閉状態に 設定されること〖こよって、処理対象ガスが順次供給されると共に処理済ガスが順次排 出される吸着状態となる。
[0061] この一方、吸着装置 1Aは、蒸気供給弁 12Aが開状態、かつ、処理対象ガス供給 弁 10A、処理済ガス排出弁 11A、蒸気供給弁 12A、水蒸気排出弁 13A及び冷却空 気供給弁 15Aが閉状態に設定されることによって、水蒸気のみが順次供給される加 圧状態となる。なお、動作状態 e〜hは、動作状態 a〜dに対して、吸着装置 1Aと吸着 装置 1Bとが入れ替わった状態なので、これ以上の説明は省略する。
[0062] 図 5を見ると容易に理解できるように、吸着装置 1A及び吸着装置 1Bは処理対象ガ スからの揮発性有機化合物の吸着と当該揮発性有機化合物の吸着剤からの脱着を 交互に繰り返す。また、処理対象ガスからの揮発性有機化合物の吸着、つまり処理 対象ガスの揮発性有機化合物の除去処理は、吸着装置 1A及び吸着装置 1Bを動作 状態 a〜hのように遷移せることによって連続的に行われる。
[0063] なお、吸着装置の台数は、 2台(吸着装置 1A及び吸着装置 1B)に限定されない。
さらに多くの吸着装置を並行して作動させることにより処理対象ガスを連続的に処理 するようにしても良い。
[0064] 〔第 3実施形態〕
次に、本発明の第 3実施形態について、図 6を参照して説明する。
本第 3実施形態は、処理効率の向上を図るため処理対象ガスに前処理を施すもの である。図 6は、本第 3実施形態に係る揮発性有機化合物処理システムのシステム構 成図であるが、上述した第 1,第 2実施形態に係る揮発性有機化合物処理システムと 同一の構成要素については同一符号を付している。
[0065] この図 6において、符号 16は減湿塔、 17, 20は冷却装置、 18は濃縮装置、 19は ファンである。減湿塔 16は、処理対象ガスを冷水と気液接触させることにより減湿す るものである。すなわち、減湿塔 16は、下方から処理対象ガスが供給されると共に上 方から処理対象ガスが排出される一方、上方力 下方に向けて冷水を散水するよう に構成されている。したがって、処理対象ガスは、冷水との気液接触により冷却され ることにより処理対象ガスに含まれている水蒸気が凝縮して冷水中に分離され、この 結果減湿される。
[0066] 冷却装置 17は、このような減湿塔 16の下部から排出された水を冷却して上記冷水 として減湿塔 16に供給するものである。減湿塔 16と冷却装置 17とは減湿装置を構 成している。
[0067] 濃縮装置 18は、減湿塔 16から排出された処理対象ガス (減湿されたもの)に含ま れる揮発性有機化合物を濃縮して冷却装置 20に排出するものである。すなわち、濃 縮装置 18は、処理対象ガスを微粉状の活性炭中を揷通させる揮発性有機化合物を 吸着 ·除去し処理ガスとして排出すると共に、上記活性炭に吸着された揮発性有機 化合物を排ガスによって活性炭力ゝら脱着させることにより濃縮された揮発性有機化合 物を含む排ガスを新たな処理対象ガスとして排出する。水蒸気生成装置 3から排出さ れる排ガスは 100° C程度の高温ガスであり、このような高温の排ガスによって揮発 性有機化合物は活性炭力ゝら脱着する。
[0068] ファン 19は、上記処理ガスを濃縮装置 18から強制排気するために設けられている 。冷却装置 20は、上記新たな処理対象ガスを冷却して処理対象ガス供給弁 10A, 1 OBに供給する。新たな処理対象ガスは、上述したように水蒸気生成装置 3から排出 された排ガスに濃縮された揮発性有機化合物が含まれたものであり、したがって 100 ° Cに近い高温ガスである。冷却装置 20は、このような高温の新たな処理対象ガスを 吸着装置 1A, 1Bの処理に適した温度まで冷却するために設けられて 、る。
[0069] 本揮発性有機化合物処理システムでは、処理対象ガスが減湿塔 16と冷却装置 17 とから構成された減湿装置と濃縮装置 18とによって前処理、つまり減湿処理及び濃 縮処理された後に吸着装置 1A, 1Bによって本処理 (揮発性有機化合物の除去処理 )される。したがって、吸着装置 1A, 1Bでは、上述した第 1、第 2実施形態よりも濃度 の高 、揮発性有機化合物を含む新たな処理対象ガスを処理するので、処置効率の 向上を図ることができる。
[0070] 例えば上述した図 5は、吸着装置 1Aについては動作状態 a〜dに亘つて、一方、吸 着装置 1Bについては動作状態 e〜hに亘つて吸着処理を行うことを示している力 本 実施形態における前処理行うことにより吸着処理の期間を短縮することが可能であり 、この分処理対象ガスの処理効率を向上させることができる。
[0071] なお、前処理としては、減湿処理あるいは濃縮処理の何れか一方であっても良い。
減湿処理によって処理対象ガス中の水蒸気が除去されるので、この分、処理対象ガ スにおける揮発性有機化合物の濃度は有意に上昇する。したがって、前処理を減湿 処理のみとすることによつても、処理対象ガスの処理効率の向上を図ることが可能で ある。一方、濃縮処理のみによっても揮発性有機化合物の濃度は有意に上昇するの で、処理対象ガスの処理効率の向上を図ることが可能である。
[0072] 〔第 4実施形態〕
次に、本発明の第 4実施形態について、図 7を参照して説明する。
本揮発性有機化合物処理システムは、図 7に示すように、上述した第 3実施形態に 係る揮発性有機化合物処理システムにファン 21、加熱ガス供給弁 22A, 22B及び 加熱ガス排出弁 23A, 23Bを付加した構成を有する。
[0073] ファン 21は、水蒸気生成装置 3から排出された排ガス (加熱ガス)を加熱ガス供給 弁 22A, 22Bに供給する。加熱ガス供給弁 22Aは、このようなファン 21と吸着装置 1 Aの排ガス供給口との間に設けられており、排ガスの吸着装置 1Aへの供給 Z遮断を 行う。一方、加熱ガス供給弁 22Bは、このようなファン 21と吸着装置 1Bの排ガス供給 口との間に設けられており、排ガスの吸着装置 1Bへの供給 Z遮断を行う。
[0074] 加熱ガス排出弁 23Aは、吸着装置 1Aの排ガス排出口と冷却装置 20の処理対象 ガス供給口との間に設けられており、吸着装置 1A力 排出された排ガスの冷却装置 20の処理対象ガス供給口への供給 Z遮断を行う。加熱ガス排出弁 23Bは、吸着装 置 1Aの排ガス排出口と冷却装置 20の処理対象ガス供給口との間に設けられており 、吸着装置 1Aから排出された排ガスの冷却装置 20の処理対象ガス供給口への供 給 Z遮断を行う。
[0075] 吸着装置 1A, 1Bは、第 2実施形態で説明したように図 3〜図 5に示すものとなるが 、加圧処理において常温状態にある吸着装置 1A, 1Bに加圧用の水蒸気を供給す ることによって当該水蒸気の一部が凝縮してドレン水となる。そして、このドレン水に は吸着処理によって吸着剤に付着した揮発性有機化合物が微少ながら溶け込んで いる。
[0076] 本揮発性有機化合物処理システムは、このような問題点を解決するものであり、図 3 〜図 5に示した吸着処理と加圧処理との間に、上述したファン 21、加熱ガス供給弁 2 2A, 22B及び加熱ガス排出弁 23A, 23B並びに水蒸気生成装置 3から排出された 排ガスを用いた加熱処理を行うものである。
[0077] 吸着装置 1A, 1Bの何れについても同様な加熱処理を行うので、代表として吸着装 置 1 Bにつ 、て説明すると、吸着装置 1 Bへの処理対象ガスの供給及び処理済ガス の排出による吸着処理が完了すると、加熱ガス供給弁 22B及び加熱ガス排出弁 23 Bのみを開放することによりファン 21から排出される排ガスを吸着装置 1Bに供給する ことにより吸着装置 1B内を加熱する。この排ガスは、上述したように 100° C程度の 温度を有しているので、吸着装置 1B内を水蒸気の凝縮が発生しない程度に十分に 加熱することが可能である。
[0078] この結果、次工程つまり水蒸気による加圧処理によって水蒸気が凝縮することを防 止することが可能であり、上述した吸着装置 1A, 1Bのドレン水の問題点を解決する ことができる。したがって、本揮発性有機化合物処理システムによれば、吸着装置 1A , 1Bのドレン水に含まれる揮発性有機化合物をエネルギ源として有効利用すること が可能であると共に、この揮発性有機化合物をガスタービン 2の燃料の一部として燃 焼させることによりさらなる省エネルギを実現できる。
[0079] なお、上記吸着装置 1A, 1Bのドレン水に含まれる揮発性有機化合物を処理する 必要がない場合には、このドレン水を水蒸気生成装置 3の排ガス排出口に供給して 気化させて大気中に放出するようにしても良 、。ドレン水の水量は多くはな 、ので、 水蒸気生成装置 3の排ガス排出口に供給することにより十分に気化させることができ る。
[0080] 〔第 5実施形態〕
最後に、本発明の第 5実施形態について、図 8を参照して説明する。
本揮発性有機化合物処理システムは、水蒸気生成装置 3が他の装置と離間して配 置されている場合に対応するものであり、上述した第 3、第 4実施形態の変形例に相 当するものである。
[0081] 第 3実施形態の揮発性有機化合物処理システムは、処理対象ガスを濃縮装置 18 で濃縮するために水蒸気生成装置 3から排出された排ガスを熱源として利用する。一 方、第 4実施形態の揮発性有機化合物処理システムは、吸着装置 1A, 1Bのドレン 水の発生を抑えるために水蒸気生成装置 3から排出された排ガスを熱源として利用 する。
[0082] し力しながら、これらの揮発性有機化合物処理システムでは、水蒸気生成装置 3が 濃縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bから離間して配置されている場合には、排ガスを濃 縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bに供給するために比較的大きなダクトを長距離に亘っ て敷設する必要があると共に比較的大きな送風動力を必要とするので、設備コストの 上昇やライニングコストの上昇を招く。
[0083] 本揮発性有機化合物処理システムは、上述した第 4実施形態の構成に対し、排ガ スに代えて空気をファン 21に供給すると共に、排ガスに代えて空気をファン 24から濃 縮装置 18に供給し、さらにファン 21の排出空気を熱交翻25, 26及びポンプ 27か ら構成された第 1の加熱装置によって加熱する一方、ファン 24の排出空気を熱交換 器 28, 29及びポンプ 30から構成された第 2の加熱装置によって加熱する。
[0084] 熱交換器 25は、水蒸気生成装置 3の排ガス排出口近傍に設けられ、排ガスと所定 の熱媒との熱交換を行う。熱交換器 26は、ファン 21の空気排出口近傍に設けられ、 ファン 21から排出された空気と上記熱媒との熱交換を行う。ポンプ 27は、熱交 2 5と熱交 26との間に設けられた熱媒循環路の途中に設けられており、熱媒を熱 交翻 25と熱交翻 26との間で循環させる。
[0085] 熱交翻28は、水蒸気生成装置 3の排ガス排出口近傍に設けられ、排ガスと所定 の熱媒との熱交換を行う。熱交換器 29は、ファン 24の空気排出口近傍に設けられ、 ファン 24から排出された空気と上記熱媒との熱交換を行う。ポンプ 30は、熱交 2 8と熱交 29との間に設けられた熱媒循環路の途中に設けられており、熱媒を熱 交翻 28と熱交翻 29との間で循環させる。
[0086] このように構成された本揮発性有機化合物処理システムでは、水蒸気生成装置 3 力も排出された排ガスを濃縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bに直接供給するのではなく 、第 1,第 2の加熱装置を用いて排ガスの熱をファン 21, 24から排出される空気に熱 伝達させることにより当該空気を加熱して加熱空気とし、この加熱空気を加熱ガスとし て濃縮装置 18及び吸着装置 1A, 1Bに供給する。
[0087] ここで、上記熱媒に比較的熱容量の大きな液体状の熱媒を用いることによって、各 熱媒循環路は、排ガスを濃縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bに供給するダ外に比較し て大幅に小さな設備となる。また、熱媒の熱容量が大きい場合には熱媒の循環流量 を比較的小さく抑えることができるので、ポンプ 27, 30の動力は、排ガスを濃縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bに供給する送風動力よりも小さく抑えることができる。
[0088] したがって、本揮発性有機化合物処理システムによれば、水蒸気生成装置 3が濃 縮装置 18や吸着装置 1A, 1Bから離間配置されている場合における設備コストの上 昇やライニングコストの上昇を回避することができる。

Claims

請求の範囲
[1] 処理対象ガスに含まれる揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させ、
該吸着剤に吸着された前記揮発性有機化合物を加圧環境下で水蒸気を用いて前 記吸着剤から脱着して前記水蒸気に混入させ、
前記揮発性有機化合物が混入した前記水蒸気をガスタービンの燃焼器で燃焼さ せる
ことを特徴とするガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法。
[2] 前記ガスタービン力 排出される燃焼ガスの熱を利用して水蒸気を生成することを 特徴とする請求項 1記載のガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法。
[3] 揮発性有機化合物の吸着剤への吸着及び揮発性有機化合物の吸着剤からの脱 着を並行して交互に行うことを特徴とする請求項 1記載のガスタービンを用いた揮発 性有機化合物の処理方法。
[4] 揮発性有機化合物の吸着剤への吸着及び揮発性有機化合物の吸着剤からの脱 着を並行して交互に行うことを特徴とする請求項 2記載のガスタービンを用いた揮発 性有機化合物の処理方法。
[5] 吸着剤から揮発性有機化合物を脱着するための水蒸気の一部を揮発性有機化合 物の脱着に供することなくガスタービンの燃焼器に供給することを特徴とする請求項
1記載のガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法。
[6] 揮発性有機化合物を濃縮する前処理を処理対象ガスに施した後、揮発性有機化 合物を吸着剤に吸着させることを特徴とする請求項 1記載のガスタービンを用いた揮 発性有機化合物の処理方法。
[7] 前処理は、所定の吸着剤に処理対象中の揮発性有機化合物を吸着させた後、加 熱ガスを用いて揮発性有機化合物を吸着剤力ゝら脱着することにより揮発性有機化合 物を濃縮する濃縮処理、処理対象ガスから水分を除去する減湿処理の!/ヽずれか一 方あるいは両方であることを特徴とする請求項 6記載のガスタービンを用いた揮発性 有機化合物の処理方法。
[8] 揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させた後、吸着剤の揮発性有機化合物を水蒸 気で脱着する前に加熱ガスを用いて加熱を行うことを特徴とする請求項 1記載のガス タービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法。
[9] 加熱ガスは、水蒸気の生成に供された燃焼ガスの排ガスであることを特徴とする請 求項 7記載のガスタービンを用いた揮発性有機化合物の処理方法。
[10] 加熱ガスは、水蒸気の生成に供された燃焼ガスの排ガスとの熱交換によって加熱さ れた空気であることを特徴とする請求項 7記載のガスタービンを用いた揮発性有機化 合物の処理方法。
[11] 処理対象ガスに含まれる揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させ、該吸着剤に吸 着した前記揮発性有機化合物を加圧環境下で水蒸気を用いて脱着して前記水蒸気 に混入させる吸着装置と、
前記揮発性有機化合物が混入した前記水蒸気を燃焼器で燃焼させるガスタービン と
を備えることを特徴とする揮発性有機化合物の処理システム。
[12] 前記ガスタービン力 排出される燃焼ガスの熱を利用して水蒸気を生成する水蒸 気生成装置を備えることを特徴とする請求項 11記載の揮発性有機化合物の処理シ ステム。
[13] 複数の吸着装置、及び揮発性有機化合物の吸着剤への吸着及び揮発性有機化 合物の吸着剤力 の脱着を並行して交互に行うように前記複数の吸着装置を切替え る切替装置をさらに備えることを特徴とする請求項 11記載の揮発性有機化合物の処 理システム。
[14] 複数の吸着装置、及び揮発性有機化合物の吸着剤への吸着及び揮発性有機化 合物の吸着剤力 の脱着を並行して交互に行うように前記複数の吸着装置を切替え る切替装置をさらに備えることを特徴とする請求項 12記載の揮発性有機化合物の処 理システム。
[15] 吸着装置を経由することなく燃焼器に直接供給する水蒸気の流量を調節する蒸気 バイパス制御弁をさらに備えることを特徴とする請求項 11記載の揮発性有機化合物 の処理システム。
[16] 揮発性有機化合物を吸着剤に吸着させる前に処理対象ガスに含まれる揮発性有 機化合物を濃縮する前処理をさらに備えることを特徴とする請求項 11記載の揮発性 有機化合物の処理システム。
[17] 前処理装置は、所定の吸着剤に処理対象中の揮発性有機化合物を吸着させた後 、加熱ガスを用いて揮発性有機化合物を吸着剤から脱着することにより揮発性有機 化合物を濃縮する濃縮装置、処理対象ガス力 水分を除去する減湿装置の!/、ずれ か一方あるいは両方であることを特徴とする請求項 16記載の揮発性有機化合物の 処理システム。
[18] 吸着装置において吸着剤の揮発性有機化合物を水蒸気で脱着する前に加熱ガス を用いて加熱を行うことを特徴とする請求項 12記載の揮発性有機化合物の処理シス テム。
[19] 加熱ガスは、水蒸気生成装置にぉ 、て水蒸気の生成に供された燃焼ガスの排ガス であることを特徴とする請求項 17記載の揮発性有機化合物の処理システム。
[20] 水蒸気の生成に供された燃焼ガスの排ガスとの熱交換によって空気を加熱する加 熱装置をさらに備え、
加熱ガスは、加熱装置から排出された加熱空気であることを特徴とする請求項 17記 載の揮発性有機化合物の処理システム。
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