WO2006003990A1

WO2006003990A1 - 光導波路用感光性樹脂組成物及びその硬化物からなる光導波路

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Publication number: WO2006003990A1
Application number: PCT/JP2005/012076
Authority: WO
Inventors: Koji Nakayama; Yoshihiro Kawada; Chie Umeyama
Original assignee: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Priority date: 2004-07-02
Filing date: 2005-06-30
Publication date: 2006-01-12
Also published as: TW200613372A; JPWO2006003990A1

Abstract

【課題】加工性、透明性、現像性、密着性、半田耐熱性等に優れた光導波路を与える感光性樹脂組成物が望まれている。【解決手段】本発明はエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物及び該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１種及び光重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物及びその硬化物からなる光導波路に関するもので、該感光性樹脂組成物はフォトリソグラフィー法を用いて容易に光導波路用パターンを形成することができることから光導波路を容易に形成することが出来、かつ、その硬化物は、透明性が高く、耐熱性、密着性に優れることから、光導波路として優れているものである。

Description

光導波路用感光性樹脂組成物及びその硬化物からなる光導波路技術分野

[0001] 本発明は、エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物若しくはそれと他の炭化水素トリアルコキシシランとの縮合物を含む感光性榭脂組成物及びその硬化物の新規用途に関し、更に詳しくは、光電子基板用光導波路等の材料として用いるための感光性榭脂組成物、活性エネルギー線を照射して得られるその硬化物層より形成された光導波路及び該光導波路を用いた電気部品等の物品に関する。

背景技術

[0002] 現在、情報技術の急激な発展により情報が多様ィ匕し、より速い通信速度のみならずより取り扱える情報量の多さにも関心が集まっている。そのため、各国家間や各都市間を結ぶ情報線は電気配線力光配線に置き換わりつつある。し力しながら、大部分の情報端末では光信号を再び電気信号に変換して電気的に信号を処理しており、その処理速度向上のために配線の長さをできるだけ短くしたり、伝播周波数を高周波にすることにより対応している。ところが、画像信号等の処理が求められるようになり、処理すべき情報量は更に膨大なものとなって従来の電気的な処理では、配線間隔の狭ピッチ化による電場、磁場の影響や基板自身が有する高誘電率の問題等のため、これ以上の処理速度の向上はかなりの困難性を伴う状況である。

[0003] そのような問題を解決するため、一部の産業用情報処理端末においては各素子間の結線の一部を光導波路に置き換えた光電子基板が採用されている。光導波路とは、基板の表面もしくは基板表面直下に周囲よりわずかに屈折率の高い部分を作ることにより光を閉じこめ、光の合波 ·分波やスイッチングを行う特殊な電子部品である。その具体的部品例としては、通信や光情報処理の分野で有用な光合波回路、周波数フィルター、光スィッチ、光インターコネクション部品等が挙げられる。

[0004] 光導波路にはシングルモードとマルチモードがある。

前者は、導波光制御やデバイスの小型化が容易であり光パワー密度が大きいこと等の理由力も高速動作に適する。したがって、特に高度なコンピューター通信分野で広く実用化され始めている。

一方、後者は量産に適しており接続等の取り扱いが簡便であることから低コストィ匕が容易であり、オフィスや一般家庭内での光による高速信号の配線の要求が高まる中で注目されている。

[0005] し力しながら、従来の基板に採用されている光導波路は石英やフッ素化ポリイミド等の材料力もできている。前者の場合には光導波路の形成に 1000°Cを超える火炎堆積法等を使用しなければならず、後者の場合には前駆体のフッ素化ポリアミック酸をイミドィ匕するために 300°C付近における高温処理を必要とする。このような力卩ェ性 '作業性の悪さ等の理由力高価なものとなり民生用情報処理端末に採用するには至つて、な、。該光導波路のために特許文献 1及び特許文献 2にはフッ素化エポキシ化合物を用いた材料が提案されている。又、特許文献 3にはエポキシ基を含むシリコーンオリゴマーを含む感光性榭脂組成物及びその硬化物カゝらなる光導波路が提案されている。また、特許文献 4には新規なエポキシ基含有ケィ素化合物及びそれを含む熱硬化性榭脂組成物が記載されて!ヽる。

[0006] 特許文献 1 :特開平 7— 159630号公報

特許文献 2：特開平 8— 327842号公報

特許文献 3 :特開 2000— 180643号公報

特許文献 4:特開 2004— 43696号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0007] 民生用情報処理端末の分野においても膨大な情報量増加に対処するため、情報処理速度及び情報処理量の向上を目指して光電子基板の搭載が求められて!/、る。本発明の目的はその要望に応えるため、透明性、密着性、半田耐熱性、耐薬品性、耐メツキ性等に優れる光導波路を、フォトリソグラフ法により簡便に形成することができると共に、加工性'作業性にも優れた光導波路用材料の提供及びそれを用いた光導波路を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0008] 本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物又は該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物及び光重合開始剤を含有する光導波路用感光性榭脂組成物、より好ましくは、以下に示す特定の構造（la)の化合物の縮合物からなるエポキシィ匕合物、又は（la)と（lb)の化合物の縮合物力もなるエポキシィ匕合物と光重合開始剤とを含有する感光性榭脂組成物、及びその硬化物が、前記課題を解決するものであることを見出し本発明に至った。

即ち、本発明は以下の（1)〜（11)に関する。

(1)下記一般式（la)で表されるエポキシ含有アルキルトリアルコキシシラン同士を縮合させて得られるエポキシィ匕合物、又は該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと下記一般式（lb)で表される置換トリアルコキシシランとを縮合させて得られるェポキシィ匕合物、及び光力チオン重合開始剤を含有する光導波路用感光性榭脂組成物、

[0009] R^laSi (OR²) (la)

3

(式中、 Rlaはエポキシ含有アルキル基を示し、 R2は炭素数 1〜4のアルキル基を示す)、

[0010] R^lbSi (OR³) (lb)

3

(式中、 R^lbは炭素数 1〜10のアルキル基、ァリール基又は炭素数 2〜5のァルケ- ル基を示し、 R3は炭素数 1〜4のアルキル基を示す)。

[0011] (2) R^laがダリシドォキシ基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基又はエポキシ基を有する炭素数 5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基である上記（1)記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

(3) R^lbが炭素数 1〜6のアルキル基又はァリール基である上記（1)又は（2)に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

(4)エポキシ化合物が、一般式（la)で表されるエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと一般式（lb)で表される置換トリアルコキシシランとを縮合させて得られるェポキシィヒ合物である上記（1)〜（3)の、ずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

[0012] (5)更に、上記（1)〜 (4)のいずれか一項に記載のエポキシィ匕合物以外のエポキシ榭脂を含有する上記（1)〜 (4)のヽずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

(6)上記（1)〜（5)の、ずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物の層を含む光導波路。

(7)上記（6)に記載の光導波路を有する物品。

(8)エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物及び該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物からなる群力も選ばれる少なくとも 1種のエポキシ化合物及び光重合開始剤を含有する光導波路用感光性榭脂組成物。

(9)エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物及びエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物からなる群力も選ばれる少なくとも 1種のエポキシィ匕合物及び光重合開始剤を含有する感光性榭脂組成物の光導波路のための用途。

(10)上記（8)に記載の感光性榭脂組成物の硬化物からなる光導波路。

(11)エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物。

発明の効果

[0013] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は、フォトリソグラフィ一法を用いて容易にノターンを形成することができる。また、得られた硬化物は極めて透明性が高ぐ密着性、半田耐熱性、耐薬品性、耐メツキ性等に優れ、光導波路に要求される高い性能を十分に満足するものでる。従って本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は、光導波路形成用材料として極めて優れてヽる。

発明を実施するための最良の形態

[0014] エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランにおけるエポキシ含有アルキルとしてはグリシジル基のようにアルキル基自体がエポキシ基を有するエポキシアルキル基、また、グリシドキシ基などのエポキシ基を有する基で置換されたアルキル基の、ずれでもよい。アルキル基としては特に制限はないが C1〜C15程度のアルキル基が挙げられ、鎖状、 5〜8員の環状、または該環状アルキルを有する鎖状アルキルいずれでもよい。エポキシ基を含む置換基としてはグリシドキシ基が好ましい。アルキル基がェポキシを有するものとしてはグリシジル基、エポキシ基を有する C5〜C8環状アルキル（エポキシ C5— C8シクロアルキル）で置換された C1〜C7アルキルなどを挙げることができる。また、アルコキシ基としては C1〜C10程度のアルコキシ基が挙げられ、フエ -ル等の反応に支障のな、置換基を含んで、てもよ、。好まし、エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランとしては一般式（la)

R^laSi(OR²) (la)

3

(式中、 R^laはエポキシ含有アルキル基を示し、 R²は炭素数 1〜4のアルキル基を示す）で表されるエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランが挙げられる。

また、該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと縮合する炭化水素トリアルコキシシランにおける炭化水素残基としては、 C1〜C15程度、好ましくは C1〜C10程度の炭化水素残基が挙げられ、脂肪族又は芳香族何れでもよぐまた、脂肪族基の場合はフエ-ル基等の芳香族基で置換されていてもよぐまた芳香族基の場合は Cl〜 C4脂肪族基等で置換されていてもよい。アルコキシ基は前記したと同じである。好ま L 、該炭化水素トリアルコキシシランとして、一般式（lb)

R^lbSi (OR³) (lb)

3

(式中、 R^lbは炭素数 1〜10のアルキル基、ァリール基又は炭素数 2〜5のァルケ- ル基を示し、 R³は炭素数 1〜4のアルキル基を示す）

で表される置換トリアルコキシシランが挙げられる。

本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は、エポキシ含有アルキルトリアルコキシシラン同士の縮合物、好ましくは式（la)のシランィ匕合物同士の縮合物（la縮合ェポキシィ匕合物)及び該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物、好ましくは式（la)のシラン化合物と式（lb)のシランィ匕合物の縮合物（ lalb縮合エポキシィ匕合物）からなる群力選ばれる少なくとも 1種 (以下単にエポキシ化合物とも言う）、及び光重合開始剤、好ましくは光力チオン重合開始剤を含有する。

上記光導波路用感光性榭脂組成物に適する縮合エポキシィ匕合物（la縮合ェポキシ化合物又は Z及び lalb縮合エポキシィ匕合物）の屈折率は、通常 1. 40〜： L . 65 程度の範囲内であり、好ましくは 1. 43-1. 63、より好ましくは 1. 45-1. 60の範囲内であり、更に場合によっては 1. 45-1. 55の範囲内である。また、そのエポキシ当量 ίま、特に帘 IJ限 ίま無ヽ力通常 100g/eq〜800g/eq程度、好ましく ίま 130〜600 gZeq程度、より好ましくは 150〜500gZeq程度であり、また、場合によっては 150 〜800g/eq、 150〜600g/eq程度の範囲力 ^好まし!/ヽ。

[0015] 一般式（la)の R^laとしては、エポキシ含有アルキル基であれば特に制限はな!/、が、例えば、 13ーグリシドキシェチル基、 γーグリシドキシプロピル基、 γ—グリシドキシブチル基等のグリシドキシ基で置換された炭素数 1〜4のアルキル基ゃグリシジル基、又は 13 (3, 4 エポキシシクロへキシル）ェチル基、 γ— (3, 4 エポキシシクロへキシル）プロピル基、 β (3, 4 エポキシシクロへプチル）ェチル基、 β (3, 4 エポキシシクロへキシル）プロピル基、 j8 (3, 4—エポキシシクロへキシル）ブチル基、 j8 （3, 4—エポキシシクロへキシル)ペンチル基等のエポキシ基を有する炭素数 5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数 1〜5のアルキル基が挙げられ、好ましくはグリシドキシ基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基、又はエポキシ基を有する炭素数 5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基、より好ましくはエポキシシクロへキシル基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基である。特に好ましくは j8—グリシドキシェチル基、 γ—グリシドキシプロピル基、 j8 (3, 4— エポキシシクロへキシル）ェチル基である。

[0016] 又、式（la)の R²としては、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、 i—プロピル基、 n ブチル基、 i ブチル基、 tert ブチル基等の炭素数 1〜4のアルキル基が挙げられ、相溶性、反応性等の観点からメチル基又はェチル基が好ましい。従って、式（la )の R^laと R²との好ましい組み合わせとしては、それぞれの好ましい基の組み合わせである。

[0017] 一般式（la)の化合物として具体的には、 |8—グリシドキシェチルトリメトキシシラン、 βーグリシドキシェチノレトリエトキシシラン、 γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 γ—グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、 γ—グリシドキシブチルトリメトキシシラン、 γ—グリシドキシブチノレトリエトキシシラン、グリシジノレトリメトキシシラン、グリシジルトリエトキシシラン、一（3, 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリメトキシシラン、 β (3, 4 エポキシシクロへキシノレ）ェチノレトリエトキシシラン、 γ— (3, 4 ェポキシシクロへキシル）プロピルトリメトキシシラン、 _Ύ— (3, 4—エポキシシクロへキシノレ）プロピルトリエトキシシラン、 j8 (3, 4—エポキシシクロへプチル）ェチルトリメトキシシラン、 13 (3, 4 エポキシシクロへプチノレ）ェチノレトリエトキシシラン、 j8 （3, 4 エポキシシクロへキシノレ）プロピノレトリメトキシシラン、 j8 （3, 4—エポキシシクロへキシル）プロピルトリエトキシシラン、 j8 (3, 4—エポキシシクロへキシル）ブチルトリメトキシシラン、 j8 (3, 4—エポキシシクロへキシル）ブチルトリエトキシシラン、 13 - (3, 4—エポキシシクロへキシル）ペンチルトリメトキシシラン、 j8 (3, 4—エポキシシクロへキシル）ペンチルトリエトキシシラン等が挙げられる。

[0018] これらのうちで、 13ーグリシドキシェチルトリメトキシシラン、 13ーグリシドキシェチルトリエトキシシラン、 _Ίーグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 _Ίーグリシドキシプロピノレトリエトキシシラン、 j8 （3, 4—エポキシシクロへキシノレ）ェチノレトリメトキシシラン又は j8 （3, 4—エポキシシクロへキシル)ェチルトリエトキシシラン等がより好ましぐ γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 13 - (3, 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリメトキシシランが更に好まし、。

[0019] 又、一般式（lb)の R^lbとしては、メチル基、ェチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、ォクチル基、ノ-ル基、デ力-ル基等の炭素数 1 〜 10のアルキル基、フエ-ル基、トリル基、ナフチル基等のァリール基、又はビュル基、プロべ-ル基等の炭素数 2〜5のァルケ-ル基が挙げられる。ァリール基としては C1〜C4アルキルで置換されていてもよいフエ-ル又はナフチル等が好ましぐより好ましくはフエ-ルである。

R^lbの中では、炭素数 1〜6のアルキル基又はフエ-ル基が好ましぐ高屈折の硬化物を得るにはァリール基、より好ましくはフエ-ル基がより好まし!/、。

[0020] 一般式（lb)の R³としては、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、 i—プロピル基、 n ブチル基、 i ブチル基、 tert ブチル基等の炭素数 1〜4のアルキル基が挙げられ、相溶性、反応性等の観点からメチル基又はェチル基が好ましい。好ましい R^lbと R³の組み合わせとしては上記好まし、基同士の組み合わせが好まし!/、。

[0021] 式（lb)の化合物として具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ェチルトリメトキシシラン、ェチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、 n —プロピルトリメトキシシラン、 n—プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン類；フエ-ルトリメトキシシラン、フエ-ルトリエトキシシラン等のァリールトリアルコキシシラン類等が挙げられる。これらのうち、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ェチルトリメトキシシラン、ェチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、フエニルトリメトキシシラン、フエ-ルトリエトキシシラン等がより好ましい。

[0022] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物に含有されるエポキシィ匕合物は、一般式（ la)の化合物同士を縮合するか、又は、一般式（la)の化合物と一般式（lb)の化合物とを縮合させることにより得る事ができる。この際、各々のケィ素化合物は上記の化合物から 1種又は 2種以上を用いてもょ、。

又、 lalb縮合エポキシィ匕合物は式（la)の化合物と式（lb)の化合物との配合割合を変えることにより、組成物の相溶性及び硬化物の屈折率、コア材若しくはクラッド材との密着性若しくは接着性、等の制御を行うことができるので、式（la)の化合物と式（ lb)の化合物との配合割合を変えるだけで、コア材としても、また、クラッド材としても使用が可能であり、好ましい。この場合、一般式（lb)の化合物の割合としては、一般式（la)及び一般式（lb)の化合物の合計に対して 99〜1モル％、好ましくは 95〜1 モル％である。残部が一般式（la)の化合物である。一般式（lb)の化合物の割合が高いと組成物の硬化性が低下する傾向がある。従って、硬化性の良いものを希望するときは、一般式（la)の化合物を 30モル％以上、より好ましくは 40モル％以上で、 1 00モル％までの範囲で使用するのが好ましい。残部が一般式（lb)の化合物である

[0023] 一般式（la)の化合物同士の縮合は前記特許文献 4に記載の方法若しくはそれに準じて行うことできる。例えば、一般式（la)の化合物を、水及び、必要に応じて、アルカリ及び溶媒の存在下若しくは不存在下に、好ましくは存在下に、好ましくは加熱下で、より好ましくは還流下に、縮合反応させることにより la縮合エポキシ化合物を得ることができる。一般式（la)と一般式（lb)の化合物の縮合も、基本的には同様にして行うことができる。該縮合反応の際、縮合反応を促進するために水を添加すのが好ましい。水の添カ卩量としては反応系全体のアルコキシ基 1モルに対して 0. 1〜1. 5モル当量が好ましぐ特に 0. 2〜1. 2モル当量が特に好ましい。アルカリ及び水の添カロは反応をさせながら滴下するのが好ましい。

[0024] 又、該エポキシィ匕合物を縮合反応により製造するに際し、触媒を用いるのが好ましい。該触媒としては、従来公知のアルコキシシラン類の縮合を促進する触媒であれば特に限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、水酸化リチウム、水酸ィ匕セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基；アンモニア、トリェチルァミン、ジエチレントリァミン、 n—ブチルァミン、ジメチルァミノエタノール、トリエタノールァミン、水酸ィ匕テトラメチルアンモ -ゥム等の有機塩基；リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ノリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コノルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリウム、硼素、カドミウム、マンガン等の金属やこれらの酸化物、有機酸塩、ハロゲン化物、有機金属化合物若しくはアルコキシド等を使用することができる。これらの中で無機塩基、アンモニア、有機錫化合物、有機酸錫が好ましい。より好ましくは、無機塩基である。

該触媒を使用する場合、その添加量としては一般式（la)の化合物、又は一般式（ la)及び（lb)の化合物の総重量に対し、 0. 001〜7. 5重量％が好ましぐ 0. 01〜 5重量％がより好ましい。

この縮合反応における反応温度は触媒の有無及びその量にもよる力通常 20〜1 60°C、好ましくは 40〜140°Cである。又、反応時間は通常 1〜12時間である。

[0025] 縮合反応は、無溶剤又は溶剤中で行うことができる。溶剤としては、一般式（la)又は Z及び（lb)の化合物を溶解する溶剤であれば特に制限はな、。このような溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、テトラヒドロフラン等の非プロトン性極性溶媒;メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。非プロトン性極性溶媒及びケトン類等が好ましい。 [0026] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物に含有されるエポキシ化合物の分子量は重量平均分子量で 400〜50000力好ましく、 750〜30000力より好まし!/ヽ。最も一般的には重量平均分子量で 1000〜10000又は 1000〜5000は程度である。重量平均分子量が 400未満の場合は耐熱性にやや劣り、又、 50000より大きい場合は組成物の相溶性の低下、粘度の上昇と!/、つた組成物の物性が低下する場合がある。

[0027] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は、前記エポキシ化合物及び光重合開始剤、好ましくは光力チオン重合開始剤を必須成分として含有する。前記エポキシ化合物の含量は、該組成物の固形分を 100重量部とした時 99. 5〜80重量部（以下特に断らない限り部は重量部を示す）が好ましぐより好ましくは 99. 3〜85部である。溶剤は固形分 100部に対して 0〜： LO部である。

[0028] 本発明の感光性榭脂組成物に含有される光力チオン重合開始剤としては、可視光線、紫外線、 X線、電子線等の活性エネルギー線を照射することによりブレンステッド酸やルイス酸を発生しエポキシ化合物の結合反応を開始することができるものであれば特に制限なく使用できる。光力チオン重合開始剤としては、例えば、ジァゾ -ゥム塩、スルホ -ゥム塩、ョードニゥム塩等が挙げられる。

[0029] 該光力チオン重合開始剤として具体的には、ベンゼンジァゾ -ゥムへキサフルォロアンチモネート、ベンゼンジァゾ -ゥムへキサフルォロホスフェート、ベンゼンジァゾ- ゥムへキサフノレオロボレート、トリスフエ-ノレスノレホ-ゥムへキサフノレオ口アンチモネ一ト、トリフエ-ノレスノレホニゥムへキサフノレオ口ホスフェート、トリフエ-ノレスノレホニゥムへキサフノレオロボレート、 4, 4，一ビス [ビス（2—ヒドロキシエトキシフエ-ル）スノレホ-ォ ]フエ-ノレスルフイドビスへキサフノレオ口ホスフェート、ジフエ-ルョードニゥムへキサフノレォロアンチモネート、ジフエ-ノレョード -ゥムへキサフノレオ口ホスフェート、ジフェ二ルー 4ーチオフエノキシフエ-ルスルホ -ゥムへキサフルォロホスフェート等を挙げることができる。

[0030] これらの光力チオン重合開始剤は市販品として入手が可能で、例えば、カャラッド ^τ ^MPCI— 220、カャラッド™PCI— 620 (いずれも日本ィ匕薬製）、 UVI— 6990 (ュ-ォンカーノイド製）、アデカオプトマー™SP— 150、アデカオプトマー™SP— 170 (いずれも旭電ィ匕工業製）、 CIT— 1370、 CIT— 1682、 CIP— 1866S、 CIP— 2048S 、 CIP— 2064S (いずれも商品名；日本曹達製）、 DPI— 101、 DPI— 102、 DPI— 1 03、 DPI— 105、 MPI— 103、 MPI— 105、 1—101、 BBI— 102、 BBI— 103、 BBI - 105、 TPS— 101、 TPS— 102、 TPS— 103、 TPS— 105、 MDS— 103、 MDS - 105、 DTS— 102、 DTS— 103 (いずれも商品名；みどり化学製）等がある。

[0031] これらは単独又は 2種以上の混合物として使用してもよい。本発明の感光性榭脂組成物中に含有される光力チオン重合開始剤の量は、該組成物の固形分を 100重量部とした時 0. 5〜20重量部が好ましぐ特に好ましくは 0. 7〜15重量部である。

[0032] 更に、本発明の光導波路用感光性榭脂組成物中には必要に応じて、アントラセン、 9, 10 ジメトキシアントラセン、 9, 10 ジプロポキシアントラセン、 2 ェチルー 9, 10 ジメトキシアントラセン、 2 ェチルー 9, 10 ジェトキシアントラセン、 2 ェチルー 9, 10 ジプロポキシアントラセン、フルオレン、ピレン、スチルベン、 4'一二トロベンジル一 9, 10 ジメトキシアントラセン一 2—スルホネート、 4，一-トロベンジル一 9, 10 ジェトキシアントラセン一 2—スルホネート、 4，一-トロベンジル一 9, 10 ジプロポキシアントラセン 2—スルホネート等の光重合増感剤を併用して用、てもよい。これらの光重合増感剤の使用量は、光力チオン重合開始剤に対し 1〜200重量 %、より好ましくは 5〜150重量％である。

[0033] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物には前記のエポキシィ匕合物以外のェポキシ榭脂を併用して用いてもよい。併用するエポキシ榭脂としては、通常、電気'電子部品に使用される榭脂であれば特に限定されず、例えば、フノール性水酸基を 2 個以上有する化合物をグリシジルイ匕して得られるエポキシ榭脂が挙げられる。例えば、テトラブロモビスフエノール A、テトラブロモビスフエノール F、ビスフエノール A、テトラメチルビスフエノール F、ビスフエノール F、ビスフエノール S、ビスフエノール K等のビスフエノール類、ビフエノール、テトラメチルビフエノール等のビフエノール類、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ジメチルハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、ジー tert ブチルハイドロキノン等のハイドロキノン類、レゾルシノール、メチルレゾルシノール等のレゾルシノール類、カテコール、メチルカテコール等のカテコール類、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシメチルナフタレン、ジヒドロキシジメチルナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類、フエノール類若しくはナフトール類とアルデヒド類との縮合物、フエノール類若しくはナフトール類とキシリレングリコールとの縮合物、フエノール類とイソプロべ-ルァセトフエノンとの縮合物、フエノール類とジシクロペンタジェンとの反応物、ビスメトキシメチルビフエ-ルとナフトール類若しくはフエノール類との縮合物のグリシジルイ匕物等が挙げられる。

[0034] これらのエポキシ榭脂は市販品を入手する力、又は、公知の方法により製造し得る更に又、 EHPE— 3150、セロキサイド ^TM2021 (いずれも商品名；ダイセルイ匕学ェ業製)等の水添ビスフエノール A型エポキシ榭脂等の脂環式エポキシ榭脂、 TEPIC , TEPIC— L、 TEPIC— H、 TEPIC— S (いずれも商品名；日産化学工業製）等の複素環式エポキシ榭脂も使用し得る。

これらのエポキシ榭脂は単独で用いても 2種以上を用いてもよ、。本発明における榭脂組成物中に使用されるエポキシ榭脂全体に対して、 0〜70%、好ましくは 0〜6 0%の範囲で添カ卩しうる。

[0035] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物には、必要に応じて希釈剤を含有することができる。希釈剤としては、本発明の光導波路用感光性榭脂組成物中の各成分を溶解するものであれば特に制限はなぐ具体的には例えば、 γ プチ口ラタトン、 γ 力プロラタトン、 _Ύ ヘプタラタトン、 aーァセチノレー y ブチロラタトン、 ε一力プロラタトン等のラタトン類；ジォキサン、 1, 2—ジメトキシェタン、ジエチレングリコールジメチノレエーテル、ジエチレングリコールジェチノレエーテル、ジエチレングリコールジブチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノエチノレエ一テル、トリエチレングリコールジメチノレエーテル、トリエチレングリコールジェチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレンダリコールジェチノレエーテノレ等のエーテノレ類；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類;メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類；酢酸ェチル、酢酸ブチル、ェチルセ口ソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン、ジェチルベンゼン、シクロへキサン等の炭化水素類；トリクロロェタン、テトラクロロェタン、モノクロルベンゼン等のハロゲンィ匕炭化水素類；石油エーテル、石油ナフサ等の石油系有機溶剤等が挙げられる。これらは、単独又は 2種以上を混合して使用してもよいこれらの希釈剤を含有する場合、その使用量は、本発明の光導波路用感光性榭脂組成物の塗布方法にもよる力該組成物の固形分に対して、 1〜95重量％、好ましくは 5〜90重量％である。

[0036] 更に、本発明の光導波路用感光性榭脂組成物には必要に応じて表面処理剤、粘度調整剤、可塑剤、安定剤、カップリング剤、レべリング剤等の種々の配合剤を添加することができる。それらは該組成物の固形分中、通常 0〜10%程度である。

[0037] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は前記した各成分を任意の順序で混合し、必要に応じて濾過することにより得ることができる。

[0038] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物を用いたフォトリソグラフィ一法による光導波路は、例えば、次のようにして製造することができる。

(I)任意の基板にアンダークラッド層となりコア層よりも屈折率の小さなクラッド用榭脂組成物をスピンコート法、スクリーン印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装法、カーテンコート法等の方法により 0. 5〜 160 mの膜厚で塗布し、通常 50〜13 0°C、好ましくは 60〜120°Cの温度で溶媒を除去する。クラッド用榭脂組成物が感光性榭脂組成物の場合、紫外線等の活性エネルギー線 (通常 10〜： L0000mjZcm2 程度のエネルギー）を照射し、必要に応じて 100〜200°Cで加熱処理することにより硬化させる。

[0039] (II)この層の上にコア層用の感光性榭脂組成物をアンダークラッド層の場合と同じように塗布し、溶媒を除去して、次いで導波路パターンを有するネガマスクを介して紫外線等の活性エネルギー線 (通常 10〜： L0000miZcm2)を照射して硬化させる。未露光部分を溶媒で溶解除去後、必要に応じて紫外線照射 · 100〜200°Cでの加熱処理によりコア層部分のパターンを形成する。

(III)得られたコア層部分の上に (I)と同様な方法でオーバークラッド層を形成する。

[0040] 紫外線等の活性エネルギー線照射による硬化は、それ自体公知の方法に準じた方法により行うことができる。例えば、紫外線を照射する場合、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、紫外線発光レーザー (エキシマレーザー等)等の紫外線発生装置を用、ればよ!/、。

又、硬化物層の膜厚は通常 0. 5〜160 m程度で、 1〜： LOO /z m程度が好ましい

[0041] こうして透明性、密着性、半田耐熱性、耐薬品性、耐メツキ性等に優れた光導波路が得られる。 (II)で未露光部分を溶解除去する溶媒としては未露光部分を溶解除去できる溶媒であれば特に限定されないが、使用しうる溶媒としては、具体的には例えば、アセトン、ジェチルケトン、シクロへキサノン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ェチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジェチノレエーテノレ等のグリコーノレエーテル類；酢酸ェチル、酢酸ブチル、メチルセ口ソルブアセテート、ェチルセ口ソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類； γ —ブチロラタトン等のラタトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、テトラヒドロフラン、 Ν—メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらは単独で用いても複数混合して用いてもょ、。

[0042] 本発明の光導波路用感光性榭脂組成物は、 la縮合エポキシ化合物、又は lalb 縮合エポキシィ匕合物、場合によっては両者の混合物、及び光力チオン重合開始剤を含有し、 lalb縮合エポキシ化合物の場合、両者の含有比率を変更することにより屈折率をある程度自由に制御できるため、同種の材料でコア層とクラッド層の何れをも形成可能である。本発明の該組成物をコア層とクラッド層の一方の層のみに使用してもよいが、両者に使用すると、両層は同種の材料で形成され、両層の密着性が向上した光導波路の形成が可能となり、好ましい。

本発明の感光性榭脂組成物の硬化物の屈折率は用いる一般式（la)の化合物、又は一般式（la)及び一般式（lb)の化合物の組み合わせにもよるので一概には言えない。し力し一般式（lb)において、 R^lb、が直鎖のアルキル比べ、ァリール基であるとき、該屈折率が大きくなる傾向がある。従って、本発明の感光性榭脂組成物を用いて、コア及びクラッドの両者を形成する場合、特に、同じ一般式（la)の化合物を両者に使用する場合には、 R^lbがァリール基である式（lb)の化合物を用いた lalb縮合エポキシィ匕合物を含む組成物の硬化物をコアとして、 la縮合エポキシ化合物若しくは R^lbがァリール基でな!、基の式（lb)の化合物を用いた lalb縮合エポキシィ匕合物を含む組成物の硬化物をクラッドとして用いるのが好まし、。

[0043] 更に、フォトリソグラフィ一法により簡便に導波路パターンを作成できるため、本発明の感光性榭脂組成物は導波路形成に適しており、該組成物により導波路形成工程が簡略ィ匕できる。又、活性エネルギー線照射により得られた硬化物は透明性に優れており、光伝送損失が少ない光導波路を作成することができる。更に、得られた光導波路は耐熱性にも優れて！/ヽる。

[0044] 本発明の物品は前記したような光導波路を備えた電子機器で、例えば、コンビユーター、携帯電話、家電製品、ゲーム機器、通信機器等が挙げられ、好ましくはコンビユーター、携帯電話、通信機器等が挙げられる。

[0045] 以下、本発明を、 la縮合エポキシィ匕合物及び lalb縮合エポキシィ匕合物の合成例及びそれらのエポキシィ匕合物を用いた感光性榭脂組成物の実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。又、実施例中特に断りがない限り、部は重量部を示す。なお、実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。なお、屈折率は、感光性榭脂組成物の硬化物の屈折率と合成された榭脂自体の屈折率の間に一定の相関関係があるので、該硬化物の屈折率を測定するのに代えて、合成された榭脂の屈折率を測定した。

1.重量平均分子量: GPC法

2.エポキシ当量: JIS K— 7236に準じた方法で測定。

3.榭脂の屈折率:アッベ屈折率計にて 25°Cで測定。

4. 1H— NMR:核磁気共鳴測定装置にてテトラメチルシランを内部標準として測定

[0046] 合成例 1 (la縮合エポキシィ匕合物の合成 1 :エポキシィ匕合物 A—1)

γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 94. 4部、メチノレイソブチノレケトン 94. 4 部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1重量％水酸ィ匕カリウム水溶液 10. 8部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、還流下 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次いで減圧下で溶媒を除去することによりエポキシィ匕合物 (A— 1) 66部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は 171gZeq、重量平均分子量は 2200、榭脂の屈折率は 1. 477 であった。本エポキシ化合物（A— 1)の 1H— NMR(CDC13溶液）により、エポキシ環のメチンピーク（3. 2ppm付近）が確認されること力もエポキシ環が保持されて!、ること、また、メトキシ基のピーク（3. 6ppm付近）が消失していることから、メトキシ基が無くなり、縮合されていることが確認された。

[0047] 合成例 2 (la縮合エポキシィ匕合物の合成 2：エポキシ化合物 A— 2)

β - (3, 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリメトキシシラン 100部、メチルイソブチルケトン 100部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1重量％水酸化カリウム水溶液 11部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、還流下 80 °Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次!ヽで減圧下で溶媒を除去することによりエポキシィ匕合物 (A— 2) 69部を得た。得られたィ匕合物のエポキシ当量は 184gZeq、重量平均分子量は 2500、榭脂の屈折率は 1. 497であった。本エポキシ化合物（A— 2)の 1H— NMR(CDC13溶液）により、エポキシ環のメチンピーク（3. 2ppm付近）が確認されること力もエポキシ環が保持されいること、また、メトキシ基のピーク（3. 6ppm付近）が消失していることから、メトキシ基が無くなり、縮合されていることが確認された。

[0048] 合成例 3 (lalb縮合エポキシィ匕合物の合成 1：エポキシ化合物 A— 3)

y—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 89部、へキシルトリメトキシシラン 26部、メチルイソプチルケトン 115部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1 重量％水酸ィ匕カリウム水溶液 13. 5部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、還流下 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次いで減圧下で溶媒を除去することによりエポキシィ匕合物 (A—3) 80 部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は 216gZeq、重量平均分子量は 3200 、榭脂の屈折率は 1. 471であった。本エポキシ化合物（A— 3)の 1H— NMR(CDC 13溶液）により、エポキシ環のメチンピーク（3. 2ppm付近）が確認されること力もェポキシ環が保持されていること、また、メトキシ基のピーク（3. 6ppm付近）が消失していることから、メトキシ基が無くなり、縮合されていることが確認された。

[0049] 合成例 4 (lalb縮合エポキシ化合物の合成 2：エポキシ化合物 A— 4)

y—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 50部、フエ-ルトリメトキシシラン 50部、メチルイソプチルケトン 100部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1 重量％水酸ィ匕カリウム水溶液 12. 5部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、還流下 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次いで減圧下で溶媒を除去することによりエポキシィ匕合物 (A— 4) 67 部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は 330gZeq、重量平均分子量は 2500 、榭脂の屈折率は 1. 506であった。本エポキシ化合物（A— 4)の 1H— NMR(CDC 13溶液）により、エポキシ環のメチンピーク（3. 2ppm付近）が確認されること力もェポキシ環が保持されていること、また、メトキシ基のピーク（3. 6ppm付近）が消失していることから、メトキシ基が無くなり、縮合されていることが確認された。

[0050] 合成例 5 (lalb縮合エポキシ化合物の合成 3 :エポキシ化合物 A— 5)

β - (3, 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリメトキシシラン 62部、フエ-ルトリメトキシシラン 50部、メチルイソプチルケトン 112部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1重量％水酸ィ匕カリウム水溶液 13. 5部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、還流下 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次いで減圧下で溶媒を除去することによりェポキシ化合物 (A— 5) 78部を得た。得られたィ匕合物のエポキシ当量は 322gZeq、重量平均分子量は 2500、榭脂の屈折率は 1. 514であった。本エポキシィ匕合物 (A— 4) の 1H— NMR(CDC13溶液）により、エポキシ環のメチンピーク（3. 2ppm付近）が確認されること力エポキシ環が保持されていること、また、メトキシ基のピーク（3. 6pp m付近）が消失していることから、メトキシ基が無くなり、縮合されていることが確認された。

実施例 1

[0051] 前記各合成例で得られたエポキシィ匕合物を使用し、表 1記載の配合割合で本発明のクラッド層又はコア層用各組成物を調製した。尚、表 1において単位は「部」を表す [0052] [表 1] 表 1

実施例 1 a 実施例 1 b 実施例 l c 実施例 I d 実施例 l e クラッド A クラッド B クラッド C コア A コア B

A - 1 1 0

A— 2 1 0

A - 3 1 0

A - 4 1 0

A— 5 1 0 アデカオプトマ- - 0 . 2 0 . 2 0 . 2 0 . 2 0 . 2

S P - 1 7 0

P G M E A 1 . 1 2 . δ 1 . 1 2 . 5 2 . 5

[0053] アデカオブトマー SP— 170 :旭電ィ匕工業製光力チオン重合開始剤、トリフエ-ルスルホ -ゥムへキサフルォロアンチモネート

PGMEA：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

実施例 2

[0054] 次に、以下のプロセスにより評価用光導波路を作成した。

クラッド層用組成物（前記クラッド A〜C)を 5インチのシリコンウェハー上にスピンコート法により塗布し、表面温度 60°Cのホットプレート上で 5分間、表面温度 90°Cのホットプレート上で 15分間プレベータ処理を行い、引き続き 5000miZcm2の紫外線を照射し、 150°Cの熱風乾燥機で 60分間加熱硬化を行い、膜厚 50 /z mのアンダークラッド層を作成した。

作成したアンダークラッド層上にコア層用組成物（前記コア A〜B)をスピンコート法により塗布し、導波路パターンの描画されたマスクを密着させ、 5000mjZcm2の紫外線を照射した。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに 1分間浸潰し、未露光部分を溶解させ、水洗、乾燥後 150°Cの熱風乾燥機で 60分間加熱硬化を行い、コア層部分のパターンを得た。得られたパターン上に、クラッド層用組成物を全面塗布、表面温度 60°Cのホットプレート上で 5分間、表面温度 90°Cのホットプレート上で 15分間プレベータ処理を行い、引き続き 5000mjZcm2の紫外線を照射し、 150°Cの熱風乾燥機で 60分間加熱硬化を行い、膜厚 50 mのオーバークラッド層を形成し本発明の光導波路を作成した。

[0055] 評価方法

導波路の光伝送損失評価は以下の方法により行った。作成した導波路をダイシングソーを使用して 5cmの長さに切断し、切断した導波路に波長 850nmの光を入射し、導波路を通して出射される光の強度を測定する。その後、この導波路を 4cm、 3cm と切断しながら、その都度同じように出射される光の強度を測定する。このようにして得られた長さ 5cm、 4cm、 3cmの光強度を導波路の長さに対してプロットし、その直線の傾き力も光伝送損失を求めた (カットバック法)。結果を表 2に示した。

[0056] 導波路の耐熱性評価は以下の方法により行った。オーバークラッド層を設けた後の導波路パターンを形成した基板を 260°Cの半田浴に 20秒間浸漬後、パターンの形状を顕微鏡で観察し、形状の変化があった場合を X、変化が無力た場合を〇、又、コア層とクラッド層両界面の状況を顕微鏡で観察し、界面に剥離等が認められた場合を X、認められな力つた場合を〇として評価した。結果を表 2に示した。

[0057] [表 2]

表 2

クラッド層コア層伝送損失 ( d B / c m) 形状変化眉間剥離実施例 2-1 A A 0 . 2 0 〇〇実施例 2-2 A B 0 . 1 9 〇〇実施例 2- 3 B A 0 . 1 7 〇〇実施例 2-4 B B 0 . 1 6 〇〇実施例 2 - 5 C A 0 . 2 3 〇〇実施例 2 - 6 C B 0 . 2 2 〇〇

[0058] 以上より、本発明の光導波路用感光性榭脂組成物より得られた導波路の光伝送損失は!、ずれも導波路として実用レベルのものであり、耐熱性評価でも形状の変化及びコア層とクラッド層間の剥離等も無ぐ耐熱性及びコア層とクラッド層間の密着性に優れた光導波路を得ることができる。

産業上の利用可能性

[0059] 本発明の感光性榭脂糸且成物は、フォトリソグラフィ一法を用いて容易に光導波路用ノターンを形成することができ、かつ、その硬化物は、透明性が高ぐ耐熱性、密着性に優れることから、光部品間を接続する光導波路作成用の樹脂組成物として有用である。

Claims

請求の範囲

[1] 下記一般式（la)

R^laSi (OR²) (la)

3

(式中、 R^laはエポキシ含有アルキル基を示し、 R²は炭素数 1〜4のアルキル基を示す。）

で表されるエポキシ含有アルキルトリアルコキシシラン同士を縮合させて得られるェポキシィ匕合物、又は該エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと下記一般式（lb) R^lbSi (OR³) (lb)

3

(式中、 R^lbは炭素数 1〜10のアルキル基、ァリール基又は炭素数 2〜5のァルケ- ル基を示し、 R³は炭素数 1〜4のアルキル基を示す。）で表される置換トリアルコキシシランとを縮合させて得られるエポキシ化合物、及び光力チオン重合開始剤を含有する光導波路用感光性榭脂組成物。

[2] R^laがグリシドキシ基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基又はエポキシ基を有する炭素数 5〜8のシクロアルキル基で置換された炭素数 1〜3のアルキル基である請求項 1記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

[3] R^lbが炭素数 1〜6のアルキル基又はァリール基である請求項 1又は 2に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

[4] エポキシ化合物が、一般式（la)で表されるエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと一般式（lb)で表される置換トリアルコキシシランとを縮合させて得られるェポキシ化合物である請求項 1〜3のいずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

[5] 更に、請求項 1〜4のいずれか一項に記載のエポキシ化合物以外のエポキシ榭脂を含有する請求項 1〜4のいずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物。

[6] 請求項 1〜5のいずれか一項に記載の光導波路用感光性榭脂組成物に活性エネルギ一線を照射して得られる硬化物の層を含む光導波路。

[7] 請求項 6に記載の光導波路を有する物品。

[8] エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物及びエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物からなる群力選ばれる少なくとも 1種のエポキシィ匕合物及び光重合開始剤を含有する光導波路用感光性榭脂組成物

[9] エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランの縮合物及びエポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物からなる群力選ばれる少なくとも 1種のエポキシィ匕合物及び光重合開始剤を含有する感光性榭脂組成物の光導波路のための用途。

[10] 請求項 8に記載の感光性榭脂組成物の硬化物からなる光導波路。

[11] エポキシ含有アルキルトリアルコキシシランと炭化水素トリアルコキシシランの縮合物。