WO2004059032A1 - 真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法 - Google Patents

真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法 Download PDF

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WO2004059032A1
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vapor
coating
rotation
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Noboru Sasaki
Hiroshi Suzuki
Fumitake Koizumi
Nobuhiko Imai
Kunimasa Arai
Hiroyuki Konagai
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Toppan Printing Co., Ltd.
Applied Films Gmbh & Co. Kg
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    • H01L21/02617Deposition types
    • H01L21/02631Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation

Definitions

  • the present invention relates to a vacuum deposition apparatus and a method for producing a vapor deposition film for producing a vapor deposition film by forming a vapor deposition layer on the surface of a material film.
  • a vacuum that can form a vapor deposited layer of metal or the like on the surface of a material film in a vacuum so that the material film made of film sheet paper, plastic, etc. has a gas barrier property and a moisture-proof property.
  • a vapor deposition apparatus is known (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-279784).
  • This kind of vacuum deposition apparatus usually operates as follows (1) and (3).
  • a vapor deposition layer is formed on the surface of the material film on the coating roll.
  • the J-REM is wound up on a take-up roll via a tension roll as appropriate.
  • the unwinding and winding roll, the coating roll, and the tension roll are each turned by a motor (not shown). Rolling is controlled. Each other roll is a free roll that rotates as the film moves ⁇
  • An object of the present invention is to provide a vacuum evaporation apparatus and a method for manufacturing an evaporation film, which can eliminate the possibility of scratching the evaporation layer and sufficiently realize the performance of the evaporation layer.
  • a vacuum deposition apparatus and a method for producing a vapor deposition film of the present invention are configured as follows.
  • a material film unwound from an unwinding roll in a vacuum is introduced into a coating roll from a guide roll on the input side, and a deposition layer is formed on the coating roll. It is formed on the surface of the material film, and the vapor-deposited film is wound on a take-up roll while holding the vapor-deposited layer on the vapor-deposited film surface derived from the coating port with the exit guide. And the outer peripheral speed vl of the coating roll and the outlet guide
  • the "one-port" adjusting means is adapted to control the outer peripheral speeds V1, V
  • the air landing apparatus may further comprise, as adjusting means, a first gear having a rotation axis of a rotating shaft of a coating gear, and a delivery gear.
  • a second at wheel having a rotation axis of the droll as a rotation center, and an even number of intermediate gears for transmitting rotation of the first gear to the second gear are provided.
  • the adjustment stage is the same as that of the first belt-wheel with the rotation axis of the coating roll as the rotation center.
  • a vapor deposition layer is formed on a film on a single tingle. That can hold a vacuum cut and a 0-cut, and at least the outer wall can be attached or detached or opened and closed.
  • the vacuum vapor deposition apparatus of the present invention has a configuration in which the vapor deposition is performed on the film by a PVD method as the vapor deposition unit in the configuration centered on (5).
  • the method for producing a vapor-deposited film of the present invention expresses the following methods (1) to (4).
  • Fig. 2 is a schematic diagram showing the vacuum deposition equipment in the embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic view showing an example of a tuning means applied to a true assault arsenal device according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the tuning means applied to the vacuum evaporation apparatus according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing a modification of the tuning means in the embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of a tuning unit applied to the vacuum evaporation apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a true assault apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 8 to 10 are cross-sectional views schematically showing a configuration of a modification of the embodiment.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a true vapor deposition apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 12 to 14 are cross-sectional views schematically showing a configuration of a modification of the embodiment.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a true vapor deposition apparatus according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a modified example of the embodiment.
  • each embodiment B is common in that it has a tuning means for preventing the garment from rubbing against the exit guide roll, and the configuration of the tuning means differs in different occupations.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a vacuum deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic view showing a part of the vacuum deposition apparatus.
  • a film f2 having a gas barrier property and a moisture-proof property by forming a vapor-deposited layer of aluminum, aluminum oxide, and silicon oxide on the surface of a material film f1 such as paper or plastic.
  • the inlet / outlet 10 and the vapor deposition chamber 20 are separated from each other via the partition wall 2.
  • the inlet / outlet section 10 is a room for introducing the material film f1 into the vapor deposition chamber 20 and leading out the vapor deposition film f2 from the vapor deposition chamber 20.
  • the unwinding roll 11 is pre-coated with the material film f 1, and the unrolled material film f 1 is unwound onto the entry-side tension roll 12 during the production of the vapor deposition film.
  • a plurality (not shown) of the entrance-side tension rolls 12 are appropriately arranged on an arbitrary unwinding path, and are unwound from an unwinding outlet 11.
  • the tension of the material film f 1 adjusted is adjusted to C, and it is derived to the entrance guide 13
  • the entrance guide roll 13 is located near the coating opening 14 and guides the material film f 1 derived from the entrance tension opening 12 to the coating 1 '4. It is derived from the Shina force S.
  • Some of the coatings in the coating room 14 are part of the rubbish in the steam room 20.
  • the material film f 1 which is arranged to face the material film f 1, is placed so as to face the material film f 1, and is drawn out of the inlet side guide 13 into the vapor deposition chamber 20.
  • the rotation speed (per minute) and the like are controlled by a tining roll 14 and a control device (not shown), and as a result, the outer peripheral speed V 1 It is possible to rotate o
  • the exit guide roll 15 is arranged near the coating roll 14 and at least firstly after the deposition film f 2 is derived from the coating roll 14, the surface of the deposition layer is formed.
  • the vapor-deposited film f 2 is connected to the output side tension port 1
  • the exit guide roll 15 is precisely a pipe that touches the surface of the deposition layer of the deposition film f 2, and the take-up opening 17 Tastes other than D. In this taste, there are usually three outlet guides 15 ⁇ . Therefore, the tuning means 18 described below is not limited to the roll that first contacts the vapor deposition layer surface, The outer peripheral speed Nos V 2 is adjusted to the outer peripheral degree V 1 of the coating Preferably
  • the vicinity of the coating rule 14 is, for example, in the range of 15 mm to 50 mm, but is not limited to 50 mm.
  • ⁇ : L may be within the range of 0 mm
  • the vacuum evaporation apparatus 10 in this specification has omitted the description of those which are not necessary for the description of the single-port j-adjustment means 18.
  • the exit gear 15 is controlled by the tuning stage 18 and has the same outer peripheral speed as the outer circumference V 1 of the coating ⁇ -rule 14.
  • a plurality (not shown) of outlet tension rollers 16 are appropriately arranged on an arbitrary winding path, and while adjusting the tension of the vapor deposition film f 2 derived from the outlet guide roll 15, It is derived to take-up port 17.
  • the take-up roll 17 winds the vapor-deposited film f 2 derived from the output-side tension roll 16.
  • the following methods (a) and (c) can be used.
  • a motor M2 that rotates 15 and a motor controller that controls the rotation of this motor M2 are used.
  • the m chamber 20 accommodates a ruppo 24 holding a deposition material, and evaporates the deposition material in the ruppo 24 by an evaporating means such as a gun (not shown). This is a room for forming a vapor deposition layer on the surface of the material film f1 to be introduced.
  • the vapor deposition method used for the vapor deposition chamber 20 is a PVD (physical vapor deposition) method or a CVD (chemical vaoor dep osition) method.
  • the PVD method may be any one of a resistance heating method, a heating method, a heating method, and an electron beam heating method.
  • the material film f1 unwound from the unwinding port 11 in a vacuum is fed into the inlet gyro roll 14 through the inlet side tension plate 12 and the radiator 1 Introduce to Tailing Pool 14
  • the coating film 14 introduces the material film f1 into the vapor deposition chamber 20 and outputs the vaporized film f2 having a vapor deposition layer formed on the surface of the material film f1 to the exit guide. Derived to dollar 15 The exit side guide 15 pulls out the deposition film f 2 to the exit side tension roll 16 while holding down the vapor deposition layer on the surface of the vapor deposition film f 2.
  • the output side tension roll 16 derives the derived vaporized film f 2 to a take-up roll 17, and
  • the tuning means 18 includes the outer peripheral speed V 1 of the coating port 14 and the outlet guy H-wheel 1
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the tuning means applied to the vacuum and garment I according to the second embodiment of the present invention.
  • the present embodiment is a specific example of the first embodiment, in which the tuning means 18 has a configuration realized by (a) gears.
  • the first gear a 1 centered on the rotation axis of the tool 14, the second gear a 2 centered on the rotation axis of the output guide 15, and the first wheel a 1
  • the rotation of the gear is transmitted to the second gear a2.
  • a flat wheel was used as each of the gears a 1 to a 4.
  • the present invention is not limited to this, and any gear can be used as described above.
  • the number of the intermediate gears a 3 and a 4 is not limited to two, and may be any arbitrary even number.
  • the even number of reasons is that the relationship of the rotation direction (reverse rotation to each other) between the ting D-rule 14 and the exit guider 15 is not changed. Odd numbers may be used depending on the arrangement. Note that the even numbers include 0 (intermediate gears a 3 and a 4 are omitted, and the first vehicle a
  • the teeth of the first gear a 1, the second gear a 2, and the intermediate gears a 3 and a 4 have the radius of the coating roll 14 as r 1,
  • the third gear a When the radius of the outlet guide rail 15 is r 2, the third gear a
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the tuning means applied to the vacuum evaporation apparatus according to the third embodiment of the present invention.
  • this embodiment is a configuration example of the first embodiment, and has a configuration in which the tuning means 18 is realized by (b) belt.
  • the tuning means 18 is composed of the first belt car b 1 and the second belt car b
  • the first bell h-wheel b 1 has a radius r 1 ′ obtained by multiplying the radius r 1 of the coating roll 14 by k (for example, 0.4 ⁇ k ⁇ 1), and It rotates around the rotation axis 14.
  • the second bell car b 2 has a radius r 2 ′ obtained by multiplying the radius r 2 of the exit gyro roll 15 by the above-described k-th, and the rotation center of the rotation axis of the exit guide 15 is used as a rotation center. Is something that rotates
  • the reason that the radius r 1 ′ r 2 of both belt cars b 1 and b 2 was measured using the IRJ value k is as follows.
  • the outer peripheral speed vl V 2 of the two wheels 14 15 can be easily and reliably increased.
  • the belt b3 transmits the rotational force of the first belt car b1 to the second belt car b2, and any belt can be used as described above.
  • the outer peripheral velocity V 1 of the coating roll 14 and the outer peripheral velocity v 2 of the outlet side rubber 15 are defined as v l
  • This embodiment may be modified as shown in FIG. That is, the exit guide 15 may be set as a tension roll 15 b, and the tuning means 18 may be modified to include a plurality of pole bearings b 2.
  • the plurality of polling b 4 is the second belt car b
  • It is a spherical member that is provided in contact with both the outer peripheral portion of No. 2 and the inner peripheral portion of the tension hole 15b, and is capable of rotating and revolving.
  • Tensile 15b is an outlet guide 15 to which the rotational force of the second belt car b2 is transmitted via each pole bearing b4.
  • each pole bearing b 4 has Therefore, the change in speed is reduced or absorbed and transmitted to the ten-roller 15b (outlet guide port 15).
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the tuning means applied to the vacuum coating according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the present embodiment is a specific example of the first embodiment, and has a configuration in which the tuning means 18 is realized by (c) motor control.
  • Such tuning means 18 is composed of M 2 and M 1
  • a tachometer c2 and a motor control unit c3 are provided.
  • the mobile station M2 is provided independently of the existing mobile station M1 that rotates the coating port 14 and the mobile station controller c
  • the first tachometer cl measures the number of revolutions n 1 per unit time of the coating roller 14 and sends out the obtained number of revolutions n 1 to the motor controller c 3. .
  • the second tachometer c 2 measures the number of revolutions n 2 ′ per unit time of the outlet guideline 15 and sends out the obtained number of revolutions n 2 ′ to the motor control section c 3 Is
  • the control unit c 3 controls the number of rotations n received from the first tachometer c 1
  • the number of revolutions n 2 per unit time of the exit guide roll 15 is expressed as It has a function to control the M2 overnight. Even with the above configuration, the outer peripheral speed V 1 of the coating ⁇ -roller 14 and the outer peripheral speed V 2 of the outlet guide roll 15 are set to V 1
  • the motor control unit C 3 is not limited to the case where the rotational speed n 1 is obtained from the first tachometer c 1. Can be obtained from
  • the rotation ⁇ 1 is a measured value here, but is not limited thereto, and may be changed to B or a constant value.
  • the first tachometer c 1 is used when the rotation speed n 1 per unit time of the tinning ruler 14 is equal to the rotation speed of the motor M 1 (the rotation speed of the motor 14 and the motor M 1).
  • it may be modified to measure the rotation speed of the motor M 1 with the common rotation axis of M 1.
  • the modified example of the rotation speed n 1 can be similarly applied to the rotation speed n 2.
  • the following fifth and seventh embodiments include any of the tuning means 18 described in the first to fourth embodiments, and further include a process for performing another vapor deposition process or surface treatment.
  • the unit is configured to be replaceable.
  • the fifth to seventh embodiments are intended to eliminate the restrictions on the improvement of the quality of the deposited layer, in addition to the functions and effects of the first to fourth embodiments.
  • the fifth to seventh embodiments described below are also intended to eliminate restrictions on improving the quality of the deposited layer, and from the viewpoint of eliminating PVD, physical vapor deposition (PVD) has a vapor deposition unit with a vapor deposition unit.
  • a processing unit for performing a coating process or a surface process of a different type from the vapor deposition unit is added to the apparatus. That is, according to the study of the present inventor, the reason that there is a limitation on the improvement of the quality of the vapor deposition layer is that the quality of the PVD method is reduced due to the stacking of the vapor deposition layers by the vapor deposition method (PVD method). This is because the limit cannot be exceeded. Therefore, the fifth to seventh embodiments are common in the point that a processing unit for applying a coating process or a surface process different from the PVD system is added. The difference is that the unit and its peripheral configuration are different. The following is explained in order
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a vacuum evaporation apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. ⁇ two vacuum depositions; 33 ⁇ 4 doctor 1 on paper
  • inlet and outlet 1 (Web: rolled paper) or deposited film of aluminum, aluminum oxide, silicon oxide, etc. on the surface of film f, such as plastic, etc., to provide gas barrier properties and moisture resistance to film f. It is a thing to be done. As shown, inlet and outlet 1
  • the inlet / outlet 10 transfers the film f to the processing chamber 201 and ⁇ 3 ⁇ 4 2
  • the unwinding roll 11 is pre-wound with a film f, and is formed based on the control from the bidirectional supply control unit 19 at the time of forming the vapor deposition layer.
  • the film f is unwound to the adjacent tension roll 12 and the film f is wound up from the adjacent tension opening 12 and finally a multilayer film is formed.
  • the film f is unwound on the next tension roll 12.
  • a plurality of tension ports 12 are arranged as appropriate on an arbitrary film supply path, and are controlled by the bidirectional supply control section 19 so that each port (port 1) is controlled. 1, 1 3 ⁇ , 1 5 ⁇ , 1 3
  • the tension of the film f is adjusted between 2 and 15 2 and 16).
  • the film f derived from the tension roll 12 is transformed into a ⁇ -
  • the film f derived from the coating rolls 14 ⁇ and 142 forces is derived to the tension rolls 12.
  • Some of the coating rolls 14 1 and 14 2 are in the processing room 20 .
  • the first guide rolls 13 1, 1 are arranged so as to face the vapor deposition chamber 202, based on the control from the bidirectional supply control 1591.
  • the film f derived from 3 2 is transferred to the processing chamber 20:!
  • the film f derived from the second guide rolls 15 1 and 15 2 and the film f derived from the second guide rolls 15 1 and 15 2 are transferred to the processing chamber 2.
  • the film f with the thin film layer and the vapor deposition layer formed in the vapor deposition chamber 202 is derived to the first guide 13 1 5 13 2 Things.
  • the second guide ports 15 1 and 15 2 are the coating ports.
  • the winding roll 17 winds the film f derived from the adjacent tension roll 12, and upon formation of a layer, forms a film f based on the control from the bidirectional supply control unit 19.
  • the film f is taken up from the tension roll 12, and the film f is unwound to the adjacent tension port 12, and finally a film having a multi-layered film is formed.
  • Lum f is wound up from the next tension roll 1 2
  • the bi-directional supply control section 19 is provided with a coating unit 22 2! , 22 2 to supply the film f in both directions: forward from the upstream to the downstream, or in the reverse direction from the downstream to the upstream.
  • the rotation of the unwinding roll 11, tension roll 12, first guide roll 13 1, 13 2, coating roll 14 1, 14 2, 2nd guide roll 15 1, 15 2 Has the function of controlling bidirectionally.
  • the processing room 20 ⁇ houses the coating unit 211 for applying a coating processing different from the PVD method to the film f on the coating roll 141, and individually stores the outer wall 220 ⁇ . 1 is detachably attached to the inlet / outlet 10 via the attaching / detaching section 2 3 1.
  • a different type of PVD method from the PVD method is, for example, VD ch e mic v ap ord ep o siti on: Chemical vapor deposition method Organic vapor deposition method, vapor deposition polymerization method, etc.
  • the vapor deposition chamber 202 individually accommodates a coating unit (vapor deposition unit) 212 for applying a PVD type vapor deposition process to the film f on the coating port 144.
  • the outer wall 2 2 2 that can be attached or detached or opened and closed as a flange 25 2
  • the coating unit 211 accommodates a rutupo 24 holding a vapor deposition material, and is provided by a means such as an S3 Shina electron gun.
  • the vapor deposition material in 2 is emitted, and a vapor deposition layer is formed on the surface of the film f introduced by the tin rolls 142.
  • the ⁇ ⁇ VD method may be any method such as resistance heating, induction heating, and electron beam heating.
  • the flange 25 2 is provided on a part of the outer wall 22 2 so as to be detachable or openable, and seals the chamber 202.
  • any one of the deposition chambers 201 and 202 may be arranged on the upstream side or the downstream side since the film f is supplied in both directions.
  • the second guide roll 15 ⁇ derives the film f into the tension 12 while holding down the surface of the film f.
  • the tension port 12 is used to convert the derived film: f from the first guide port 13 2 to the coating layer 14.
  • the coating film 14 2 introduces the film f into a PVD-type deposition chamber 202, and transfers the film f having a coating layer formed on the surface of the film f to a second guide line 15.
  • the second guide roll 15 2 derived to 2 derives the film f to the tension a 12 while holding down rn m on the surface of the film f.
  • the tension roll 12 derives the derived film f to the take-up roll 17, and the take-up roll 17 winds this film f sequentially. Thereafter, all the films f of the unwinding tool 11 are formed into a film f through the processing chamber 201 and the vapor deposition chamber 202, and when the film f is taken up by the take-up opening 17, When two layers are formed on the film f, the production of the film: f of 17 units of the take-up opening is completed.
  • the film f may be temporarily rewound to the unwinding port 11 or the winding roll 17 may be used as the unwinding port under the control of the bidirectional supply control unit 19 as appropriate. Again, the film f is subjected to a coating process with each coating unit 21 1 and Z or 212.
  • the outer wall 22i of the processing chamber 20 ⁇ is detached and attached in advance, and the coating unit 211 is replaced with a coating process of another type.
  • a thin film layer of a quality corresponding to the method after the replacement can be formed on the film f.
  • an inorganic adhesion layer (metal, inorganic oxide, etc.) laminated by a PVD method and a layer laminated by another method, for example, an organic silicon oxide layer laminated by a CVD method.
  • one coating unit 211 performs a coating process in a different process from that of the other coating unit 12 in one process. f, so that there are no restrictions on improving the quality of the deposited layer. Can be eliminated.
  • the bidirectional supply control unit 19 can repeat the processing by the coating units 211 and z or the coating unit 212, so that the effects described above can be further improved. Easy to play.
  • the outer wall 2 2 of the evaporation chamber 201 can repeat the processing by the coating units 211 and z or the coating unit 212, so that the effects described above can be further improved. Easy to play.
  • the outer wall 2 2 of the evaporation chamber 201 can repeat the processing by the coating units 211 and z or the coating unit 212, so that the effects described above can be further improved. Easy to play.
  • the outer wall 2 2 of the evaporation chamber 201 can repeat the processing by the coating units 211 and z or the coating unit 212, so that the effects described above can be further improved. Easy to play.
  • the outer wall 2 2 of the evaporation chamber 201 can repeat the processing by the coating units 211 and z or the coating unit 212, so that the effects described above can be further improved. Easy to play.
  • the coating unit 21 can be exchanged, so that the above-mentioned effects can be more easily achieved.
  • excellent quality can be expected because no natural oxide film is interposed between the thin film layers.
  • one coating unit 202 is defined as a PVD system, the quality of the PVD system can be maintained and the quality of the shell can be improved.
  • a flange 25j for attaching / detaching or opening / closing a part of the outer wall 221 is provided instead of the attaching / detaching portion 231, which attaches / detaches the entire outer wall 221, a flange 25j for attaching / detaching or opening / closing a part of the outer wall 221. It may be modified to a different configuration. However, the flange 25 mm must accommodate the unit 2 1 1 2 1 1 to be accommodated, and must have a replaceable size.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a vacuum evaporation apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.
  • the present embodiment is a modification of the fifth embodiment, and a new coating unit 21 is provided on the film supply path.
  • the coating unit may be the same as the coating unit 21 described above, but from the viewpoint of forming thin layers of various qualities on the film, a method different from the coating unit 21 described above is used. Is preferred.
  • the fifth embodiment effect is possible to get a of, in the et, to expect a quality improvement of new Koti Nguyuni' preparative 2 1 3 Koti ring system in response to the film f Can
  • the total number of the processing chambers 2 1 and 2 1 is 1 or
  • the number is not limited to two and may be any number. Further, the present embodiment may be modified as shown in FIGS. 12 to 14 in the same manner as described above.
  • a flange 25 1 for attaching / detaching or opening / closing a part of the outer wall 22 1 is provided. May be modified to the provided configuration, (Seventh embodiment)
  • FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a neck evaporation apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.
  • the present embodiment is a modification of the sixth embodiment, and is the same as the processing chamber 201 in which the location BX of the new processing 203 is described. • O o
  • the two coating methods of 1 and 2 13 are used to form the thin film layer, and by combining the appropriate five types of coating, the quality of the film f can be further improved. Expectations are high.
  • this embodiment may also be modified to an IRJ as shown in FIG. That is, instead of the tin tun h 2 13, the processing chamber 203 ′ for accommodating the plasma processing unit 213 may be modified. The coating cut that took place here
  • each embodiment is It may be performed in combination ⁇ , in which case the combined effect is obtained S).
  • any number of processing chambers 20 can be arranged at arbitrary positions on the film supply path] rf as appropriate.
  • the above-described embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed. For example, if an invention is extracted by omitting some constituent elements from all the constituent elements described in the embodiment, the omitted part will be omitted at the site where the extracted invention is implemented. Is supplemented as appropriate.

Abstract

本発明は、素材フィルム表面に蒸着層を形成して蒸着フィルムを製造するための真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法に関する。この真空蒸着装置では、同調手段(18)が、コーティングロール(14)の外周速度v1と出側ガイドロール(15)の外周速度v2とをv1=v2とする。このため、蒸着フィルム表面の蒸着層が出側ガイドロール(15)に擦れない。これにより、蒸着層に傷が入る可能性を解消し、蒸着層の性能を十分に実現させる。

Description

明 細 書
真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法
技術分野
本発明は、 素材フィルム表面に蒸着層を形成して蒸着フィ ルムを製造するための真空蒸着装置及び蒸着フィ ルム製造方 法に関する。
背景技術
従来、 フィ ルムシー ト状の紙やプラスチッ ク等からなる素 材フィルムに対し 、 ガスバリ ァ性ゃ防湿性を持たせるよう に 真空中で金属等の蒸着層を素材フィ ルム表面に形成可能な真 空蒸着装置が知られている (例えば、 特開平 5 ― 2 7 9 8 4
3号公報を参照)
この種の真空蒸着装置は、 通常、 次の ( 1 ) ( 3 ) のよ う に動作する。
( 1 ) 真空中で巻出しロールから巻き出した素材フィ Jレムを 適宜、 テンショ ンロールを介して入側ガイ ド Π一ルからコー ティ ングロールに導入する。
( 2 ) コーティ ンダロール上で蒸着層を素材フィ ルム表面に 形成する。
( 3 ) コーティ ンダロールか ら導出された蒸着フィ ルム表面 の蒸着層を出側ガィ ドロールで押さえながら 、 当該蒸着フィ
Jレムを適宜、 テンショ ンロールを介して巻取り Πールに巻き 取らせる。
こ こで、 卷出し及び巻取り ロール、 コーティ ングロール及 びテンショ ンロールは、 それぞれ図示しないモ一夕によ り 回 転が制御されている。 それ以外の各ロールは、 フィ ルムの移 動に応じて回転するフリーロールになっている <
しかしながら、 以上のような真空蒸着装置ではゝ 通常は何 の問題もないが、 本発明者の検討によれば、 次のような点で 改良の余地がある と考えられる。
例えば、 蒸着フィ ルムが巻取り ロールに巻き取られるまで の間に 、 蒸着フィ ルム表面の蒸着層が各ロールに られ、 蒸 着層に傷が入る可能性がある点である。 仮に蒸着層に傷が入 る と 、 ガスバリ ァ性や防湿性といった蒸着層の性能が不十分 になる恐れがある。 このため、 蒸着層に傷が入る可能性があ 点を解消するよう に、 改良する余地がある と考,えられ 。 本発明の目的は、 蒸着層に傷が入る可能性を解消でき、 蒸 着層の性能を十分に実現し得る真空蒸着装置及び蒸着フィル ム製 方法を提供する ことである。
発明の開示
上記目的を達成するために、 本発明の真空蒸着装置及び蒸 着フィルム製造方法は下記の如く構成されている
( 1 ) 本発明の真空蒸着装置は、 真空中で巻出しロールか ら卷さ出した素材フィ ルムを入側ガイ ドロールからコ ーティ ング Π —ルに導入し、 このコーティ ングロール上で蒸着層を 素材フイ ルム表面に形成し、 コーティ ング口一ルから導出さ れた蒸着フィ ルム表面の蒸着層を出側ガイ ド ロ ルで押さえ ながら当該蒸着フィルムを巻取り ロールに巻き取らせる構成 であ て、 コーティ ングロールの外周速度 v l と出側ガイ ド
Π一ルの外周速度 v 2 とを V 1 = ν 2 となるよ に同調させ るための同調手段、 を feえている。
本発明によれば 、 1口」調手段が両口一ルの外周速度 V 1 , V
2 を V 1 V 2 と同 3周させる こ とによ り、 蒸着フィルム表面 の蒸着層が出側ガィ H口ールに擦れないため、 蒸着層に傷が 入る可能性を解消でさ 、 蒸着層の性能を十分に実現させる とがでさる
( 2 ) 本発明の 空 着装置は、 ( 1 ) に対応する構成に おいて 、 調手段としては、 コ一ティ ングロ一ルの回転軸を 回転中心とする第 1 歯車と、 出側ガィ ドロールの回転軸を回 転中心とする第 2 at車と 、 第 1 歯車の回転を第 2歯車に伝達 するための偶数個の中間歯車と、 を備えている。
( 3 ) 本発明の -寫空 m着装置は、 ( 1 ) に対応する構成に おいて 、 調 ¾ ^段としては、 コ一ティ ングロールの回転軸を 回転中心とする第 1 ベル ト車と、 出側ガイ ド ロールの回転軸 を回転中心とする第 2 ベル ト車と、 第 1 ベル ト車の回転を第
2ベル 卜車に伝達するためのベル ト と 、 を備えている,
( 4 ) 本発明の 空 着装置は、 ( 1 ) に対応する構成に おいて 、 出側ガィ ドヽ Π ルを回転させるためのモータ と 、 . ティ ングロールの半径が r 1 であ り 、 出側ガイ ドロ一ルの 半径が r 2 であ り 、 一ティ ングロールの単位時間当 り の回 転数が n 1 である とさ 、 出側ガイ ドロールの単位時間当 り の 回転数 n 2 を η 2 n 1 ( r 1 / r 2 ) とするよう に 、 モ一 夕を制御する制御手段と 、 を備えてい
( 5 ) 本発明の 蒸着装置は、 ( 1 ) に対応する構成に おいて 、 一ティ ング Π —ル上のフィ ルムに蒸着層を形成す るための蒸着ュ ッ 卜 と、 0- ッ 卜を収容し、 少なく と も外壁の 部が着脱又は開閉可能な蒸着 —ティ ング
Π ルの上流側又は下流側に個別に設けられた 1 本以上の処 理口ールと、 処理ロール上のフィ ルムに 、 蒸着ュニッ 卜 とは 異なる方式のコ ティ ング処理又は表面処理を施すための 1 台以上の処理ュ ―ッ 卜 と、 処理 ―ッ 卜を個別に収容し 、 少 なく とも外壁の 部が着脱又は开 J閉可能な 1 室以上の処理室 と、 ニッ 及び処理ュ二 V に対し、 フィ ルムを 「上 流側から下流側への正方向 」 又は 厂下流 #1 ら上流側への逆 方向 」 の双方向に供給するための双方向供給手段と、 を備え ている
( 6 ) 本発明の真空蒸着装置は ( 5 ) に対 J心する構成に おいて、 蒸着ュ ッ 卜 としては P V D方式によ り、 蒸着処 理をフィ ルム上に施すものである
( 7 ) 本発明の蒸着フィ ルム製造方法は、 ( 1 ) 〜 ( 4 ) の を方法として表現したものである。
図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明の第 1 の実施形態に係る直 泰ノ 、着t=i装置の構 成を模式的に示す断面図であ'る。
図 2 は、 同実施形 に ける真空蒸着装 を示す模 式図でめ
図 3 は、 本発明の第 2 の実施形態に係る真 暴着装-置に適 用される同調手段の一例を示す模式図
図 4 は、 本発明の第 3 の実施形態に係る真空蒸着装置に適 用される同調手段の一例を示す模式図であ 。 図 5 は、 同実施形態における同調手段の変形例を示す模式 図である。
図 6 は、 本発明の第 4 の実施形態に係る真空蒸着装置に適 用される同調手段の一例を示す模式図である ,
図 7 は、 本発明の第 5 の実施形態に係る真 ' 暴着装置の構 成を模式的に示す断面図である。
図 8 〜図 1 0 は、 同実施形態における変形例の構成を模式 的に示す断面図である。
図 1 1 は、 本発明の第 6 の実施形態に係る真 蒸着装置の 構成を模式的に示す断面図である。
図 1 2 〜図 1 4 は、 同実施形態における変形例の構成を模 式的に示す断面図である。
図 1 5 は、 本発明の第 7 の実施形態に係る真 蒸着装置の 構成を模式的に示す断面図である。
図 1 6 は、 同実施形態における変形例の構成を 式的に示 す断面図である
発明を実施するための最良の形態
以下 、 本発明の各 施形態について図面を参照して説明す 。 なお 、 以下の各実施形態は 、 蒸着層に傷が入る可能性を 解消する観点か らゝ 一ティ ングロ一ルの外周速度 V 1 と出 側ガィ ロールの外周速度 V 2 とを V 1 = V 2 とするための 同 Ira 段を設けたものである。
すなわち、 明者の検討によれば 、 蒸着層に傷が入る状 況は、 形成された蒸着 が最初に接する出側ガィ ドロールの 外周速度 V 2 がコ一ティ ングロールの外周速度 V 1 よ り も遅 い場合に、 蒸着層が出側ガィ ド Π ルに擦れて生じる力ゝらで ある。 このため、 各実施形 B は、 いずれも 着 が出側ガイ. ドロールに擦れないよう にするための同調手段を備えた点で 共通し、 同調手段の構成が異なる 占で相違している 。 以下、 順に説明する。
(第 1 の実施形態)
図 1 は本発明の第 1 の実施形態に係る真空 着装置の構成 を模式的に示す断面図であ り 、 図 2 はこの 空蒸着装置の 部を示す模式図である の真空 着装置 1 は 紙又はブラ スチッ ク等の素材フィ ルム f 1 の表面に、 ァル ゥム、 酸 化アルミニウム、 酸化珪素 の蒸着層を形成して ガスバリ ァ性や防湿性を有する フィ ルム f 2 を製造するもの.であ る。 図示するよう に、 隔壁 2 を介して導入出部 1 0及び蒸着 室 2 0 が互いに隔てられてい
導入出部 1 0 は、 素材フィ ルム f 1 を蒸着室 2 0 に導入し、 蒸着フィ ルム f 2 を蒸着室 2 0 から導出するための部屋であ り、 巻出ロール 1 1 入側テンシ ンロール 1 2 入側ガィ ドロール 1 3 、 コーティ ング Π ル 1 4 出側ガィ ドロール
1 5 、 出側テンショ ン Π ル 1 6 巻取り π ル 1 7 及び同 調手段 1 8 を備えている
巻出ロール 1 1 は、 予め素材フィルム f 1 が かれてお り 、 蒸着フィ ルムの製造時に、 の素材フィ ルム f 1 が入側テン シヨ ンロール 1 2 に卷き出されるものである
入側テンショ ンロール 1 2 は、 任意の巻出経路上に適宜、 複数個 (図示せず) が配置され、 巻出口 ル 1 1 から巻き出 された素材フィ ルム f 1 の張力 調整し Cつ、 入側ガィ Π 一ル 1 3 に導出するものである
入側ガイ ド ロール 1 3 は、 コ ティ ング口 ―ル 1 4 の近傍 に配置され、 入側テンシヨ ン口 ル 1 2 から導出された素材 フイルム f 1 をコ一ティ ングロ ル 1 ' 4 に案内しな力 Sら導出 するものである。
コーティ ングロ一ル 1 4 は、 一部が蒸 室 2 0 内のルッボ
2 4 に対向するよう に配置され 、 入側ガィ Π ―ル 1 3 か ら 導出された素材フィ ルム f 1 を蒸着室 2 0 内に導出し、 素材 フイルム f 1 表面に蒸着層が形成されてなる蒸着フイルム f
2 を出側ガイ ドロ ル 1 5 に導出するものである なお、 ティ ングロール 1 4、 図示しない制御装置から回転数 (毎 分 ) 等が制御される こ とによ り 、 結果として外周速度 V 1 で 回転可能となってい o
出側ガイ ド ロ一ル 1 5 は、 コ一ティ ングロール 1 4 の近傍 に配置され、 蒸着フィ ルム f 2 がコ一ティ ングロ一ル 1 4か ら導出された後に少なく とも最初に蒸着層表面が接する口一 ルであ り 、 この蒸着フィルム f 2 を出側テンショ ン口 —ル 1
6 に導出する ものである o なお 、 出側ガィ ド ロ一ル 1 5 は、 正確には蒸着フィ ルム f 2 の蒸着層表面に触れる Π ―ルであ つて、 巻取り 口一ル 1 7 以外の Dールを 味している 。 この 味では.、 出側ガィ ド Π —ル 1 5 は、 通常 3 本ある ο よって、 後述する同調手段 1 8 は 、 最初に蒸着層表面が接するロール に限らず、 蒸着層表面が触れる全ての口一ルについて外周速 ノス V 2 をコ一ティ ング口ール 1 4 の外周 度 V 1 と 調させ る ことが好ましい
< _ < _で、 コーティ ング Π ル 1 4 の近傍とは、 例えば 1 5 m m〜 5 0 m mの範囲内であるが れに限らず、 5 0 m m
〜 : L 0 0 m mの範囲内としてもよい また、 本明細 中の真 空蒸着装置 1 0 は 1口 j調手段 1 8 の 明に不要なものはその 記載を省略している
また 、 出側ガィ Π ル 1 5 は 同調竽段 1 8 から制御さ れ、 コ ティ ング π ―ル 1 4 の外周 度 V 1 と同じ外周速度
V 2 を有して回転する とによ り m着フィ ルム f 2 の蒸着 面に傷を付けずに 蒸着フィ ルム f 2 を出側テンシ 3 ン口 ル 1 6 に導出するものとなつている
出側テンショ ン Π ル 1 6 は 任意の巻取り経路上に適宜 複数個 (図示せず) が配置され、 出側ガイ ドロール 1 5 から 導出された蒸着フィ ルム f 2 の張力を調整しつつ、 巻取り 口 ール 1 7 に導出するものである。
巻取り ロール 1 7 は、 出側テンショ ンロール 1 6 から導出 された蒸着フィルム f 2 が巻き取られるものである。
同調手段 1 8 は、 コ一ティ ングロール 1 4 の外周速度 V 1 と、 出側ガイ ドロール 1 5 の外周速度 v 2 とを V 1 = V 2 と な る よ う に 同調 さ せる ため の も ので.あ り 、 例え ば、 次の ( a ) ( c ) に示す方式などが使用可能となっている。 ( a ) 歯車を介して同調させる構成であ り、 例えば平歯車、 はすば歯車、 かさ歯車、 ねじ歯車、 ウォームとウォームホイ
—ルなどの任意の歯車が適宜、 用いられる。
( b ) ベル トを介して同調させる方式で、 例えば Vベル ト、 夕ィ S ングベル 卜又は歯付べル ト等の任意のベル トが用いら れる なお 、 べ レ 卜に限らず 、 チェーンを用いてもよい
( c ) モ一夕を制御する方式であ り 、 例えばコーティ ング D
' ~~ル 1 のモ一夕 M 1 とは別に設けられ、 出側ガイ ドロ ル
1 5 を回転させるモー夕 M 2 と、 このモ一夕 M 2 の回転を制 御するモ一夕制御部とが用いられる
m室 2 0 は、 着材料を保持するルツポ 2 4 を収容し 、 図示しない 子銃などの蒸発手段によ り、 ルツポ 2 4内の兹 着材料を蒸発させ、 コ一ティ ングロール 1 4 によ り導入され る素材フィ ルム f 1 の表面に蒸着層を形成するための部屋で ある。
なお 、 蒸着室 2 0 に用 い ら れ る 蒸着方式は、 P V D ( physical vapor depo sition : 物理蒸着法 ) 方式及ひ C V D ( chemical vaoor dep osition : ィ匕学蒸着法) 方式のレ ずれの方 式としてもよい P V D方式と しては 、 抵抗加熱 、 口乃導加埶 及び電子線加熱等のいずれかの方式としてもよい <
次に、 以上のよ に構成された真空蒸着装置による フ ィルムの製造方法を説明する。
真空蒸 1 においては、 真空中で卷出し口 ル 1 1 か ら巻さ出した素材フイルム f 1 を入側テンシヨ ン Π一ル 1 2 を介して入側ガィ ロール 1 4 力、 らコ一テイ ング Π ル 1 4 に導入する。
Π一テイ ング Π一ル 1 4 は、 この素材フイ レム f 1 を蒸着 室 2 0 に導入し 、 素材フィ ルム f 1 表面に蒸着層が形成され てなる蒸着フィ ルム f 2 を出側ガィ ド Π一ル 1 5 に導出する。 出側ガィ πール 1 5 は、 この蒸着フィルム f 2 面の蒸 着層を押さえながら、 当該 着フィ ルム f 2 を出側テンショ ンロール 1 6 に導出する
このとさ 調手段 1 8 によ り、 コーティ ング口 ル 1 4 の外周速度 V 1 と、 出側ガイ ド ロール 1 5 め外周速度 V 2 と が V 1 = V 2 となるよう に同調されている。
これによ り 形成後の蒸着層を導出する速度 V 1 と 層に最初に接して蒸着層を押さえるロール 1 5 の速度 v 2 と がー致する とによ り、 蒸着層が出側ガイ ド Π―ル 1 5 に擦 れる ことが いので、 蒸着層に傷を付けずに ¾黉フィ ルム f
2 を出側テンシヨ ンロール 1 6 に導出できる
以下同様に 出側テンシヨ ンロール 1 6 は 、 導出された蒸 着フィルム f 2 を巻取り ロール 1 7 に導出し 、 巻取り ロール
1 7 はこの 着フィ Jレム f 2 を順次巻き取る 。 しかる後、 巻 出ロール 1 1 の全ての素材フィ ルム f 1 を蒸着室を して蒸 着フィ ルム f 2 に形成し 、 巻取り ロール 1 7 に巻さ取つた時 占で l取り 口 —ル 1 7単位の蒸着フィ ルム f 2 の製造が完 了する。
上述したよ に本実施形態によれば、 同調手段 1 8 が、 コ ティ ング口 ル 1 4 の外周速度 V 1 と出側ガイ H Πール 1
5 の外周速度 V 2 とを V 1 = V 2 とする こ とによ Ό 蒸着フ イ ルム f 2表面の蒸着層が出側ガイ ドロール 1 5 に れない ため、 蒸着層に傷が入る可能性を解消でき、 m層の性能を 十分に実現させる こ とができる
(第 2 の 施形態) 図 3 は本発明の第 2 の実施形態に係る真空 , 衣 I .に適用 される同調手段の一例を示す模式図であ り 、 図 1 と同一部分 には同一符号を付してその詳しい説明を省略し では異 なる部分について主に述べる。 なお 、 以下の各実施形態も同 様にして重複した説明を省略する。
すなわち 、 本実施形態は、 第 1 の実施形能、の具体例であ り 同調手段 1 8 を ( a ) 歯車によ り実現した構成となつている 係る同調手段 1 8 は 、 コ ーティ ング Π 一ル 1 4 の回転軸を 回転中心とする第 1 歯車 a 1 と、 出側ガイ Η Π —ル 1 5 の回 転軸を回転中心とする第 2歯車 a 2 と 、 第 1 困車 a 1·の回転 を第 2歯車 a 2 に伝達 .
するための 2個の中 『卜
間豳車 a 3 a 4 とを備えている。
こ こで 、 各歯車 a 1 〜 a 4 としては 、 平 車を用いたが、 これに限らず、 刖述したよう に任意の歯車が 用可能となつ ている。
また、 中間歯車 a 3 , a 4 の個数は 、 2個に限らず 、 任意 の偶数個であればよい 。 偶数個の理由は、 ティ ング D 一 ル 1 4 と出側ガイ ドロ —ル 1 5 との回転方向の関係 (互いに 逆回転) を変えない意味であ り 、 この意味を満たすならば特 殊な配置によ り奇数個にしてもよい なお 、 の偶数個は 0 をも含んでいる (中間歯車 a 3 , a 4 を省略し 、 第 1 車 a
1 が直接 、 第. 2 歯車 a 2 に回転力を伝達する構成に変形して もよい)
また、 第 1 歯車 a 1 、 第 2歯車 a 2 及び各中間歯車 a 3 , a 4 の歯 は、 コーティ ングロール 1 4 の半径を r 1 とし、 出側ガイ ド Πール 1 5 の半径を r 2 としたとさ、 第 丄 歯車 a
1 の単位時間当 り の回転数 n 1 と第 2 歯車 a 2 の単位時間当 り の回転数 n 2 とが η 2 = n 1 ( r l Z r 2 ) の関係をもつ よ に や
又疋 sれている
以上のような構成と しても、 コーティ ング口 ル 1 4 の外 周速度 V 1 と出側ガィ ドロール 1 5 の外周 ¾度 V 2 とを V 1
= V 2 となるよ に同調させる こ とができるので 、 第 1 の実 施形態の効果を得る こ とができる。
(第 3 の実施形態)
図 4 は本発明の第 3 の実施形態に係る真空蒸着装置に適用 される同調手段の一例を示す模式図である
すなわち、 本実施形態は、 第 1 の実施形態の 体例であ り 、 同調手段 1 8 を ( b ) ベル トによ り実現した構成となつてい る。
係る同調手段 1 8 は、 第 1 ベル 卜車 b 1 、 第 2 ベル ト車 b
2 及びベル h b 3 を備えている。
第 1 ベル h車 b 1 は、 コ一ティ ンダロール 1 4 の半径 r 1 を k倍 (例ゝ 0 . 4 < k≤ 1 ) した半径 r 1 ' を有し 、 当該 コ一ティ ング Π一ル 1 4の回転軸を回転中心に回転するもの である。
第 2 ベル 車 b 2 は、 出側ガィ ロール 1 5 の半径 r 2 を 上記 k-倍した半径 r 2 ' を有し、 当該出側ガイ Π一ル 1 5 の回転軸を回転中心にして回転するものである
こ こで、 両ベル 卜車 b 1, b 2 の半径 r 1 ' r 2 を IRJ 一値 k を用い し ø又計した理由は、 両ベル ト車 b 1 b 2 と、 両 Πール 1 4 1 5 とを互いに相似形にする こ とによ り 、 容 易且つ確実に 、 両口 ル 1 4 1 5 の外周速度 v l V 2 を
V 1 = V 2 に同調させるためである。
ベル ト b 3 は、 第 1 ベル 車 b 1 の回転力を第 2 ベル ト車 b 2 に伝達する ものであ り 前述したよう に任意のベル 卜が 用可能となつている
以上のよう な構成として 、 コーティ ングロール 1 4 の外 周 度 V 1 と出側ガィ Π ル 1 5 の外周速度 v 2 とを v l
= V 2 となるよ に 1口 ί調させる こ とができるので、 第 1 の実 施形態の効果を得る とができる。
なお、 本実施形態は 図 5 に示すよう に変形してもよい。 すなわち、 出側ガィ Η π ル 1 5 をテンデンシーロール 1 5 b とし、 同調手段 1 8 が複数のポールべァリ ング b 2 を含む 構成に変形してもよい
こで、 複数のポ ルベァ リ ング b 4 は、 第 2 ベル ト車 b
2 の外周部とテンアンシ 口ール 1 5 b の内周部との両者に 接して設けられ、 自転及び公転自在な球状部材である。
テンアンシ ル 1 5 b は、 各ポールベアリ ング b 4 を 介して第 2 ベル 卜車 b 2 の回転力が伝達される出側ガイ ドロ ル 1 5 である
図 5 に示す変形例に れば 、 第 2 ベル ト車 b 2 側の外周速 度 V 2 ' がコ ティ ング Π ル 1 4の外周速度 V 1 と異なる 場 oでも、 各ポールベァリ ング b 4 によ り 、 速度の変化が緩 和又は吸収されてテン丁ンシ—ロール 1 5 b (出側ガイ ド口 ル 1 5 ) に伝達される 従つて、 前述同様に、 両口一ル 1 4 , 1 5 の外周速度 v l , v 2 を v l = v 2 となるよフ に同 調させる ことができる。
(第 4 の実施形態)
図 6 は本発明の第 4 の実施形態に係る真空蒸 衣 に適用 される同調手段の一例を示す模式図である。
すなわち、 本実施形態は、 第 1 の実施形態の具体例であ り 同調手段 1 8 を ( c ) モータ制御によ り実現した構成となつ ている
係る同調手段 1 8 は、 モ一夕 M 2 、 第 1 回転計 c
回転計 c 2及びモー夕制御部 c 3 を備えている。
で、 モ一夕 M 2 は、 コーティ ング口一ル 1 4 を回転さ せる既存のモ一夕 M 1 とは独立に設けられ モ一夕制御部 c
3 力 ら制御され、 出側ガイ ド ロール 1 5 を回転させるための ものである。
第 1 回転計 c l は、 コ一ティ ング Πール 1 4 の単位時間当 り の回転数 n 1 を測定し、 得られた回転数 n 1 をモー夕制御 部 c 3 に送出するものである。
第 2 回転計 c 2 は、 出側ガイ ド Π ル 1 5 の単位時間当 り の回転数 n 2 ' を測定し、 得られた回転数 n 2 ' をモータ制 御部 c 3 に送出するものである
モ一夕制御部 c 3 は、 第 1 回転計 c 1 から受けた回転数 n
1 及び第 2 回転計 c 2 から受けた回転数 n 2 に基づいて、 出側ガィ ドロール 1 5 の単位時間当 り の回転数 n 2 を n 2 = n 1 ( r 1 / r 2 ) とするよ う に、 モ一夕 M 2 を制御する機 能をもっている。 以上のよフな構成としても、 コ一ティ ング π ル 1 4 の外 周速度 V 1 と出側ガィ ドロール 1 5 の外周速度 V 2 とを V 1
V 2 となるよ に同調させる こ とがで含るので 第 1 の実 施形態の効果を得る ことができる。
なお 、 本願発明は 、 上記各実施形 に限定されるものでな
< 、 実施段階ではその要旨を逸脱しない ¥li四で種々に変形す る ことが可能である
例えば第 4 の実施形態の場合、 モ 夕制御部 C 3 は 回転 数 n 1 を第 1 回転計 c 1 から得る場 に限らず 既存のモ 夕 M 1 のモ • ~~夕制御部 (図示せず) から得る 成としてもよ い
また 回転 η 1 は、 こ こでは測定値としたが れに限 らず、 B又定値に変形してもよレ 。 さ らに、 第 1 回転計 c 1 は、 ティ ング Π ―ル 1 4 の単位時間当 り の回転数 n 1 と モ 夕 M 1 の回転数とが等しい場合 ( Πール 1 4 とモ 夕 M 1 の回転軸が共通の但八a、) 、 モー夕 M 1 の回転数を測定するも のに変形してもよい。 また、 回転数 n 1 の変形例は 回転数 n 2 でも同様に適用可能である。
また 各回転計 c 1 c 2 は、 回転数 n 1 n 2 を測定す るものに限らず 各ロール 1 4 1 5 の外周速度 V 1 V 2 を直接測定するものに変形してもよい の場合 モ 夕制 御部 c 3 も n 2 = n -1 ( r 1 / r 2 ) の式に代えて 1
V 2 の式を用いる構成に変形すればよい。
以上のような種々 の変形は、 第 4 の実施形能に限らず 第
1 乃至第 3 の 施形態でも 1口】 feに考え られる (第 5〜第 7 の実施形態)
以下の第 5 第 7 の実施形態は 、 第 1 〜第 4 の実施形態に 述ベた何れかの同調手段 1 8 を有し 、 さ らに、 他の蒸着処理 又は表面処理を施すための処理ュ一ッ トを交換可能に'設けた 構成となってい •S o
始めに、 第 5 〜第 7 の実施形態の背景技術を述べる。
従来、 真空 着装置の分野では 、 首空中で連続的に供給さ れるフィ レムに対し、 複数回の積み ね蒸着を 1 工程で行な ための 2 へッ ドコ一夕方式が知られている (例えば、 特開 平 8 - 3 1 1 6 5 0号公報を参照 ) o しかしながら、 係る真 空蒸着装置では 、 通常は何の問題もないが、 本発明者の検討 によれば、 同一の方式によ り蒸着層を積み重ね形成するため、 着層のガスバリ ァ性や防湿性とい た品質を向上させる際 に 、 制限がある と考えられる。
そこで、 第 5 〜第 7 の実施形態は 、 第 1 〜第 4 の実施形態 の作用効果に加え、 蒸着層の品質向上に対する制限を解消さ せたものとした o
なお、 以下の第 5 〜第 7 の実施形も目 は、 蒸着層の品質向上 に対する制限を '解消する観点か ら、 P V D 、 physical vapor deposition : 物理蒸着法) 方式の蒸着ユニッ ト を有する真空 蒸着装置に対し、 この蒸着ユニッ ト とは異なる方式のコ一テ ィ ング処理又は表面処理を施す処理ュニッ 卜を付加している。 すなわち、 本発明者の検討によれば、 蒸着層の品質向上に 関して制限がある理由は、 蒸着方式 ( P V D方式) による蒸 着層の積み重ね形成に伴い、 P V D方式に起因した品質上の 制限を越えられないか らである。 <—のため、 第 5〜第 7 の実 施形態は、 いずれも P V D方式とは異なる方式のコ一ティ ン グ処理又は表面処理を施す処理ュ一ッ トを付加した点で共通 し、 処理ユニッ ト及びその周辺構成が異なる点で相違してい る。 以下、 順に説明する
(第 5 の実施形態)
図 7 は本発明の第 5 の実施形態に係る真空蒸着装置の構成 を模式的に示す断面図である。 ί二の真空蒸着; 3¾ 医 1 は、 紙
(ウェブ : 巻取り紙) 又はプラスチヅ ク等のフィ ルム f の表 面に、 アルミニウム、 酸化アルミ一ゥム、 酸化珪素等の蒸着 層を形成して、 ガスバ ァ性や防湿性をフィルム f に持たせ るものである。 図示するよう に、 隔 2 を介して導入出部 1
0 と処理室 2 0 i 及び 着室 2 0 2 とがそれぞれ隔てられて いる。
導入出部 1 0 は、 フィルム f を処理室 2 0 1 及び ^ ¾ 2
0 2 に導入し、 蒸着層を形成したフィ ルム f を処理室 2 0 1 及び蒸着室 2 0 2 から導出するための部屋であ り 、 巻出口 ■ ~ ル 1 1 、 複数のテンシ 3 ンロール 1 2 、 第 1 ガィ ドロール 1
3 ι , 1 3 2 , コーティ ングロール 1 4 1 , 1 4 2 、 第 2 ガイ ド ロール 1 5 ι,1 5 2 、 巻取り ロール 1 7 及び双方向供給 制御部 1 9 を備えている。 なお、 1, 2 の添字は、 それぞれ 各ユニッ トに対応して付されてお り、 以下の各実施形態でも 同様である。
巻出ロール 1 1 は、 予めフィ ルム f が巻かれており 、 蒸着 層形成時に、 双方向供給制御部 1 9 からの制御に基づき、 こ のフィルム f が隣のテンンヨ ンロール 1 2に巻き出され、 ま た、 隣のテンシヨ ン口一ル 1 2からフィ ルム f が巻き取られ る ものであ り 、 最終的には多層膜が形成されたフィ ルム f が 隣のテンショ ンロール 1 2に巻き出されるものである。
テンシ 3 ン口ール 1 2は、 任意のフィ ルム供給経路上に適 宜、 複数個が配置され、 双方向供給制御部 1 9からの制御に 基づき、 各 Π一ル間 (口 —ル 1 1 , 1 3 丄 間、 1 5 ι , 1 3
2間、 1 5 2, 1 6間) でフィ ルム f の張力を調整する もの である。
第 1ガィ ド 口ール 1 3 1, 1 3 2は、 コーティ ングロール
1 ι , 1 2の近傍に配置され、 双方向供給制御部 1 9か らの制御に基づき、 テンシヨ ンロール 1 2か ら導出されたフ ィ レム f を π―ティ ングロール 1 4 ι , 1 4 2に案内しなが ら導出し 、 また 、 コーテイ ングロール 1 4 ι , 1 4 2力 ら導 出されたフィ ルム : f をテンショ ンロール 1 2 に導出するもの である。
コーティ ングロール 1 4 1, 1 4 2は、 一部が処理室 2 0
1, 蒸着室 2 0 2に対向するよう に配置され、 双方向供給制 御咅 151 9からの制御に基づき、 第 1ガイ ドロール 1 3 1 , 1
3 2 から導出されたフィルム f を処理室 2 0 :! , 蒸着室 2 0
2 内に導出して薄膜層, 蒸着層が形成されたフィルム f を第
2ガイ ド Πール 1 5 1 , 1 5 2に導出し、 また、 第 2ガイ ド ロール 1 5 1, 1 5 2 から導出されたフィルム f を処理室 2
0 1 , 蒸着室 2 0 2 内に導出して薄膜層, 蒸着層が形成され たフィルム f を第 1 ガイ ドロ一ル 1 3 ΐ 5 1 3 2に導出する ものである。
第 2 ガイ ド口一ル 1 5 1, 1 5 2 は、 コーティ ング口一ル
1 4 ι, 1 2 の近傍に配置され 、 双方向供給制御部 1 9 か らの制御に基づき、 Π一ティ ングロール 1 4 1 1 4 2 か ら 導出されたフィ ルム f をテンショ ンロール 1 2 に導出し、 ま た、 テンショ ン Π―ル 1 2 か ら導出されたフィ ルム f をコ一 ティ ングロール 1 4 1 , 1 4 2 に案内しながら導出するもの である。
巻取り ロール 1 7 は 、 隣のテンショ ンロール 1 2 から導出 されたフィ ルム f が巻き取られるものであ り 、 着層形成時 に、 双方向供給制御部 1 9 からの制御に基づき 、 隣のテンシ ヨ ンロール 1 2 からフイルム f が巻き取られ、 また、 このフ イ ルム f が隣のテンシヨ ン口一ル 1 2 に巻き出されるもので あ り 、 最終的には多 膜が形成されたフィ ルム f が隣のテン ショ ンロール 1 2 から巻き取られるものである
双方向供給制御部 1 9 は、 後述する各コーティ ングュニッ 卜 2 2 ! , 2 2 2 に対し、 フィ ルム f を上流側か ら下流側へ の正方向」 又は 「下流側から上流側への逆方向」 の双方向に 供給するためのものであ り 、 具体的には、 卷出しロール 1 1、 テンショ ンロール 1 2 、 第 1 ガイ ド ロール 1 3 1 , 1 3 2、 コーティ ングロール 1 4 1 , 1 4 2 、 第 2 ガイ ド ロール 1 5 1, 1 5 2 の回転を双方向に制御する機能をもっている。
一方、 処理室 2 0 ι は、 P V D方式とは異なる方式のコー ティ ング処理をコーティ ングロール 1 4 1 上のフィ ルム f に 施すコーティ ングユニッ ト 2 1 1 を個別に収容し、 外壁 2 2 1 が着脱部 2 3 1 を介して導入出部 1 0 に着脱可能に取付け られたものである P V D方式とは異なる方式の Ώ ティ ン グ処理と しては、 例え し V D ch emi c al v ap o r d ep o siti on : 化学蒸着法) 方式 有機蒸着方式、 蒸着重合方式 スパッ夕 リ ング等の方式がある
蒸着室 2 0 2 は P V D方式の蒸着処理をコーテイ ング口 ール 1 4 2 上のフィ ルム f に施すコ一ティ ングュ ―ッ ト (蒸 着ュニッ 卜 ) 2 1 2 を個別に収容し、 一部がフランジ 2 5 2 と して着脱又は開閉可能な外壁 2 2 2 が導入出部 1 0 の隔壁
2 に取付けられた のである。
で Π ティ ングユニッ ト 2 1 2 は、 P D方式の 例と して 、 蒸着材料を保持するルツポ 2 4 2 を収容し、 |S3 しなレ ^電子銃などの 発手段によ り、 ルツポ 2 4 2 内の蒸着 材料を 発させ、 ティ ングロール 1 4 2 によ Ό導入され るフィルム f の表面に蒸着層を形成するものとなつている。 なお、 Ρ V D方式としては、 抵抗加熱、 誘導加熱及び電子線 加熱等のいずれの方式としてもよい。
フランジ 2 5 2 は 外壁 2 2 2 の一部に着脱又は開閉可能 に設けられ、 室 2 0 2 を密閉するものである
なお ¾着室 2 0 1 2 0 2 は、 フィルム f が双方向に供 給される こ とから いずれを上流側又は下流側に配置しても よい。
次に 以上のよ に構成された真空蒸着装置の動作を説明 する。
真空蒸着装置 1 においては、 真空中で巻出し口 ル 1 1 か ら巻き出したフィルム f をテンシヨ ン口ール 1 2 を介して第
1 ガイ ドロール 1 3 丄 からコーティ ングロール 1 4 1 に導入 する。
コーティ ングロ ル 1 4 ]_ は こ のフイ ルム f を処理室 2
0 丄 に導入し 、 フィルム f 表面に薄膜層が形成されてなるフ イ ルム f を第 2 ガイ ドロール 1 5 1 に導出する ,
第 2 ガイ ドロール 1 5 丄 は のフィ ルム : f 表面の薄 を押さえながら、 当該フィ ルム f をテンシヨ ン Π ル 1 2 に 導出する。
以下同様に 、 テンシヨ ン口 ル 1 2 は 、 導出されたフィ ル ム : f を第 1 ガイ ド口 —ル 1 3 2 か らコーティ ング Π ル 1 4
2 に導入する
コーティ ングロ ル 1 4 2 は このフイ ルム f を P V D方 式の蒸着室 2 0 2 に導入し、 フィ ルム f 表面に 着層が形成 されてなるフイ ルム f を第 2 ガィ ドロ一ル 1 5 2 に導出する 第 2 ガイ ドロール 1 5 2 は のフィルム f 表面の rn m を押さえながら、 当該フィ ルム f をテンシヨ ン a ル 1 2 に 導出する。
テンショ ンロール 1 2 は、 導出されたフィ ルム f を巻取り ロール 1 7 に導出し 、 巻取り Π ル 1 7 はこのフィ ルム f を 順次巻き取る 。 しかる後、 巻出 Πール 1 1 の全てのフィ レム f を処理室 2 0 1 , 蒸着室 2 0 2 を通してフィ ルム f に形成 し、 巻取り 口ール 1 7 に巻き取 た時点で、 フィ ルム f 上に 形成される層が 2 層の場合、 巻取り 口 ル 1 7 単位のフィ ル ム : f の製造が完了する。 以下、 適宜、 双方向供給制御部 1 9 の制御によ り フィ レ ム f を一旦、 巻出し口ーリレ 1 1 まで巻き戻すか 又は卷取り ロール 1 7 を巻出し口ールとして用いる こ とによ り 再度、 各コーティ ングュニッ 卜 2 1 丄 及び Z又は 2 1 2 によるコー ティ ング処理をフィルム f に施す,
また、 再度のコーティ ング処理の前に、 予め処理室 2 0 ι の外壁 2 2 i 部分を着脱し、 コーティ ングュ一ッ 2 1 1 を 他の方式の ティ ング処理のものに交換する とによ り 、 交換後の方式に対応する品質の薄膜層をフィ ルム f 上に形成 する ことができる。
以下同様に、 各コーティ ングュニッ ト 2 1 1 及び /又は 2
1 2 による ティ ング処理と、 双方向供給制御部 1 9 によ る双方向のフィ ルム供給とを繰り返すこ とによ り 複合され た品質の薄膜層を有するフィ レム : f を製造する とができる。
例えば、 P V D方式によ り積層される無機 着層 (金属、 無機酸化物など) と、 その他の方式によ り積層される層、 例 えば C V D方式によ り積層される有機物の酸化珪素の曆 あ るいは有機蒸着方式よ り積層される有機物層などを複数層重 ねる ことができるので 、 これまでに無いほど れたガスパリ ァ性ゃ防湿性をもつ薄膜層を積層したフィ ルム f を m造する こ とを期待する こ とができる。
上述したよう に本実施形態によれば、 一方のコ一ティ ング ユニッ ト 2 1 1 によ り 、 他方のコ一ティ ング 一ッ 1 2 とは異なる方式のコーティ ング処理を 1 工程でフィ ルム f 上 に施すこ とができるので、 蒸着層の品質向上に対する制限を 解消する とができる。
また 双方向供給制御部 1 9 によ り 、 コ ーティ ング 二ッ h 2 1 1 及び z又はコーティ ングュ二ッ 卜 2 1 2 による処理 を繰り返し行なう こ とができるので、 上述した効果をよ り容 易に奏する こ とができる。 さ らに、 蒸着室 2 0 1 の外壁 2 2
1 部分を着脱すればコーティ ングュ二ッ 卜 2 1 ェ を交換でき るので 上述した効果をよ り一層、 容易に奏する とができ る。 また これらの全てのコーティ ング処理は、 空中で連 続的に行われるので、 薄膜層同士の間に自然酸化膜が介在し ないことから、 優れた品質を期待する ことができる ,
また 1 つのコ一ティ ングュニッ 卜 2 0 2 を P V D方式と 定めるので P V D方式による品質を維持した状能で □ 哲 ロロ貝 の向上を図る こ とができる
なお 本実施形態は、 図 8 〜図 1 0 に示すよう に変形して もよい
例えば図 8 に示すよう に 、 コ 一ティ ング処理を施す ―テ イ ング V 卜 2 1 に代えて、 表面処理の一例としてのプ ラズマ処理を施すプラズマ処理ュニッ h 2 1 ! ' を収容する 処理室 2 0 1 に変形してもよい。
また 図 9 又は図 1 0 に示すよう に 、 外壁 2 2 1 全体を着 脱する着脱部 2 3 1 に代えて、 外壁 2 2 1 の一部を着脱又は 開閉するフラ ンジ 2 5 j を設はた構成に変形してもよい 。 但 し、 フランジ 2 5 丄 は、 収容するュニッ 卜 2 1 1 2 1 1 を.交換可能な大ささをもつ必要がある
6 の実施形態) 図 1 1 は本発明の第 6 の実施形態に係る真空蒸着装置の構 成を模式的に示す断面図である。
すなわち、 本実施形態は 、 第 5 の実施形態の変形例であ り フィルム供給の経路上に 、 新たなコ一ティ ングュニッ 卜 2 1
3 を有する新たな処理室 2 0 3 を設けた構成となっている t このコーティ ングュ二ッ h 2 1 3 は、 P V D方式とは異な る方式のコーテイ ング処理をフィ ルム上に施すものであれば よく 、 述したコーティ ングユニッ ト 2 1 ι と同一方式の のでもよいが、 多様な品質の薄膜層をフィ ルム上に形成する 観点から、 前述したコーティ ングュニッ ト 2 1 1 とは異なる 方式の方が好ましい。
以上のよう な構成としても 、 第 5 の実施形態の効果を得る こ とができ、 さ らに、 新たなコーティ ングユニッ ト 2 1 3 の コーティ ング方式に対応してフィルム f の品質向上を期待す る ことができる
また、 各処理室 2 1 ェ 2 1 3 を合計した個数は、 1 又は
2 に限らず、 任意の個数に亦形してもよい。 さ らに、 本実施 形態も前述同様に、 図 1 2 〜図 1 4 に示すよ う に変形して よい。
例えば図 1 2 に示すよう に 、 コ一ティ ングユニッ ト 2 1 3 に代えて、 ブラズマ処理 一ッ ト 2 1 3 ' を収容する処理室
2 0 3 ' に変形してもよい
また、 図 1 3 又は図 1 4 に示すよう に、 外壁 2 2 1 全体を 着脱する着脱部 2 3 丄 に代えて、 外壁 2 2 1 の一部を着脱又 は開閉するフラ ンジ 2 5 1 を設けた構成に変形してもよい, (第 7 の実施形態)
図 1 5 は本発明の第 7 の実施形態に係る首 蒸着装 の構 成を模式的に示す断面図である o
すなわち 本実施形 は、 第 6 の実施形態の変形例であ り 、 新たな処理き 2 0 3 を BXけた場所を m述した処理室 2 0 1 と同一のコ ティ ング Πール 1 4 1 に対向した場所とした構 成となってい •O o
以上のよ な構成としても 第 6 の実施形態と同様の効果 を得る こ とができ、 さ らに、 2 つのコーティ ングュニッ h 2
1 1 , 2 1 3 による 2 つのコ ティ ング方式によ り、 薄膜層 を形成する と力ゝら、 適切な テイ ング 5式を組合せる とによ り、 フイ ルム f の更なる品質向上を期待する こ とがで ぎる。
なお、 本実施形態も IRJ に図 1 6 に示すよう に変形し てもよい。 すなわち、 ティ ングュニッ h 2 1 3 に代えて、 プラズマ処理ユニッ ト 2 1 3 を収容する処理室 2 0 3 ' に 変形してもよい。 この場 ϋ したコーティ ングュ一ッ 卜
2 1 ェ によ Ό形成した薄 m mをプラズマ処理ュニッ トによ り 中和する処理の組合せとなる ο のような 3 ティ ング処理 と表面処理との組合せを 1 本の ティ ング口ール 1 4 1 上 で行なう構成と しても 薄膜層の □
ΡΡ質向上を図る ことができ
·© o
なお、 本願発明は、 上記各実施形態に限定されるものでな く 、 実施段階ではその要旨を 脱しない範囲で種々に 形す る こ とが可能である。 また、 各 施形態は可能な限り 宜組 み合わせて実施してもよ < 、 その場合、 組み合わされた効果 が得られ S) 。
例えば各実施形態に表した各処理室 2 0 1 2 0 1 ' 2
0 3 , 2 0 3 ' のうち 、 任 の処理室 2 0 を任意の個数だけ、 フィ ルム供給経路上の任思の位 ]rf に適宜配 した構成として m
もよい
さ らに 、 上記各実施形 には種々の段階の発明が含まれて お り、 開示 aれる複数の構成要件における 宜な組み合わせ によ り種々 の発明が抽出され得る。 例えば実施形態に示され る全構成要件から幾つかの構成要件が省略される こ とで発明 が抽出された場合には 、 その抽出された発明を実施する場口 には省略部分が周知慣用技術で適宜補われるものである,
その他 、 本発明はその要曰 を逸脱しない 囲で種々変形し て実施できる
産業上の利用可能性
本発明によれば、 蒸着 Itに傷が入る可能性を解消でき 、 着層の性能を十分に実現し得る真空蒸着装置及び蒸着フィ ル ム製造方法を提供できる

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 真空中で巻出し口一ル(11)か ら巻き出した素材フィ ル ム(Π)を入側ガイ ド ロール(13)か ら コーティ ングロール(14) に導入し、 このコーティ ングロール上で蒸着層を素材フィ ル ム表面に形成し、 前記コーティ ングロールから導出された蒸 着フィ ルム表面の蒸着層を出側ガイ ド ロール(15)で押さえな がら 当該蒸着フィ ルム(f2)を巻取 り ロール(17)に巻き取らせ る真空蒸着装置(1)であって、
前記コーティ ングロール(14)の外周速度 V 1 と前記出側ガ イ ド 口一ル(15)の外周速度 v 2 とを V 1 = ν 2 となるよ う に 同調させるための同調手段(18)、
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
2 . 請求項 1 に記載の真空蒸着装置において、
前記同調手段(18)は、
前記コーティ ングロール(14)の回転軸を回転中心とする第 1 歯車(al)と、
前記出側ガイ ドロール(15)の回転軸を回転中心とする第 2 歯車(a2)と、
前記第 1 歯車の回転を前記第 2 歯車に伝達するための偶数 個の中間歯車(a3, a4)と、
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
3 . 請求項 1 に記載の真空蒸着装置において、
前記同調手段(18)は、
前記コーティ ングロール(14)の回転軸を回転中心とする第 1 ベル ト車(bl)と、 前記出側ガイ ドロール(15 )の回転軸を回転中心とする第 2 ベル 卜車(b 2)と、
刖記第 1 ベル ト車の回転を前記第 2 ベル 卜車に伝達するた めのベル 卜(b 3 )と、
を備えたことを特徴とする真空 着 ¾¾ IB. o
4 請求項 1 に記載の真空蒸着装置に いて 、
刖記出側ガイ ドロール ( 15 )を回転させるためのモー夕 ίΜ2)
刖記コ一ティ ングロ一ル(14)の半径が r 1 であ り 、 刖 §己出 側ガィ ドロールの半径が r 2 であ り 、 而記 Π―ティ ングロ一
.、
ルの単位時間当 り の回転数が、 n 1 である とき、 刖 出側ガィ ド口ールの単位時間当 り の回転数 n 2 を n 2 = n 1 ( r 1 / r 2 ) とするよ う に、 前記モータを制御する制御手段(c l〜 c3 )と、
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
5 . 請求項 1 に記載の真空蒸着装置において、
前記コ 一ティ ングロ ール(142)上のフィ ルム(f)に蒸着層を 形成するための蒸着ュニッ ト(212)と、
前記蒸着ユニッ トを収容し、 少なく と も外壁(222)の一部
(252)が着脱又は開閉可能な蒸着室(202)と、
前記コ 一ティ ングロールの上流側又は下流側に個別に設け られた 1 本以上の処理ロール(14: と、
前記処理ロール上のフィルムに、 前記蒸着ユニッ ト とは異 なる方式のコ ーティ ング処理又は表面処理を施すための 1 台 以上の処理ユニッ ト(21 と、 前記処理ユニッ ト を個別に収容し、 少なく と も外壁(22 の一部(23 25 ^着脱又は開閉可能な 1 室以上の処理
(2( )と、
刖記 着: Xニッ 卜及び前記処理ユニッ トに対し、 前記フィ ルムを 「上流側から下流側への正方向」 又は 「下流側から上 流側への逆方向」 の双方向に供給するための双方向供給手
( 19)と、
を備えたこ とを特徴とする真空蒸着装置。
6 . 請求項 5 に記 の真空蒸着装置において、
前記蒸着ユニッ ト(212)は、 P V D方式によ り 、 蒸着処理 を刖記フ ィ ルム(f)上に施すこ とを特徴とする真空蒸着装
7 . 真空中で巻出しロール(1 1 )か ら巻き出した素材フィ ル ム (Π )を入側ガイ ド ロール(13 )か ら コーティ ングロール(14) に導入し、 このコーティ ングロール上で蒸着層を素材フィ ル ム表面に形成し、 前記コーティ ングロールか ら導出された蒸 着フイ ルム表面の蒸着層を出側ガイ ド ロール(15)で押さえな がら 当該蒸着フィ ルム(f2)を巻取り ロール(17)に巻き取 らせ る蒸着フィルム製造方法であって、
刖記コーティ ングロール(14)の外周速度 V 1 と前記出側ガ ィ ド、 ロール(15)の外周速度 V 2 とを V 1 = V 2 となるよ う に 同調させるための同調工程(18)、
を備えたこ とを特徴とする蒸着フィルム製造方法。
8 . 請求項 7 に記載の蒸着フィルム製造方法において、 刖記同調工程(18)は、
刖記コーティ ングロール(14)の回転軸を回転中心に第 1 車(a l )が回転する工程と、
この第 1歯車の回転に応動して偶数個の中間歯車(a3 ,a4)が 回転する工程と、
この偶数個の中間歯車のう ちの最終段の中間歯車(a4)の回 転に応動して前記出側ガイ ド ロール(15)の回転軸を回転中心 に第 2歯車(a2)が回転する工程と、
を備えたこ とを特徴とする蒸着フィ ルム製造方法。
9 . 請求項 7 に記載の蒸着フィルム製造方法において、 前記同調工程(18)は、
前記コ一ティ ングロ一ル(14)の回転軸を回転中心に第 1 ベ ル 卜車(b l )が回転する工程と、
この第 1 ベル 卜車の回転に応じてベル 卜(b3)が移動するェ 程と、
このベル トの移動に応じて前記出側ガイ ド ロール(15)の回 転軸を回転中心に第 2 ベル 卜車(b2)が回転する工程と、
を備えたこ とを特徴とする蒸着フィルム製造方法。
1 0 . 請求項 7 に記載の蒸着フィルム製造方法において、 前記同調工程(18)は、
前記出側ガイ ドロ一ル(15)をモ一タ(M2)によ り 回転させる 工程と、
前記コーティ ングロール(14)の半径が r 1 であ り 、 前記出 側ガイ ドロールの半径が r 2 であ り、. 前記コーティ ングロー ルの単位時間当 り の回転数が n 1 であるとき、 前記出側ガイ ドロールの単位時間当 り の回転数 n 2 を n 2 = n 1 ( r 1 / r 2 ) とするよ う に、 前記モ一夕を制御する制御工程(c l〜 c3)と、 えたことを特徴とする蒸着フィ ルム製造方法
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