WO2004032103A1 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

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Atsushi Yoshizawa
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    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Definitions

  • the present invention relates to a plurality of light-emitting portions each composed of an organic EL element having a light-emitting layer made of a thin film of an organic EL material utilizing electroluminescence (hereinafter, EL) of an organic compound material which emits light by injection of electrons and holes.
  • EL electroluminescence
  • the present invention relates to an organic EL display device having a display array in which is regularly arranged.
  • An organic EL display device configured by arranging a plurality of organic EL elements in a matrix has attracted attention as a display capable of achieving low power consumption, high display quality, and thinness.
  • An organic EL element is formed by forming at least one organic layer such as an organic electron transport layer, an organic light emitting layer, and an organic hole transport layer on a transparent substrate such as a glass plate on which a transparent electrode made of indium tin oxide, so-called ITO is formed.
  • a transparent substrate such as a glass plate on which a transparent electrode made of indium tin oxide, so-called ITO is formed.
  • ITO indium tin oxide
  • a simple matrix type display panel in which organic EL elements are simply arranged in a matrix, and an organic EL in which a matrix is arranged
  • an active matrix display panel in which a driving element including a transistor is added to each element.
  • Active matrix display panels have the advantages of lower power consumption and less crosstalk between pixels than simple matrix display panels, and are particularly suitable for large-screen displays and high-definition displays. You.
  • the display device of the active matrix drive system uses a thin-film transistor (TFT) made of, for example, low-temperature polysilicon for each light-emitting unit, and supplies current to each pixel by switching so that the organic EL element emits light. Since there is a great demand for large display panels as organic EL display devices, low-temperature polysilicon TFTs are effective as drive transistors for active matrix display panels.
  • TFT thin-film transistor
  • the low-temperature polysilicon TFT when the low-temperature polysilicon TFT is applied to an organic EL display device, there are the following problems. For example, if the ratio of non-defective polysilicon TFTs on a large substrate is not maintained at an extremely high level, the light emitting portion will be lost, and the product yield will decrease. In addition, since the channel portion of polysilicon TFT is polycrystalline, the variation in electric characteristics is larger than that of single crystal silicon TFT. Therefore, when low-temperature polysilicon TFT is used for a large display panel of an organic EL display device of an active matrix drive system, an increase in the price of the display device cannot be avoided.
  • one of the problems to be solved by the present invention is to provide, as an example, a low-temperature polysilicon TFT which can be formed at a relatively high density and an organic EL display device in which organic EL elements are formed on a common substrate.
  • the organic EL display device includes, for each light-emitting portion arranged in a matrix near an intersection of a power supply line, a scan line, and a data line formed on a substrate, a pair of electrodes facing each other and the pair of electrodes.
  • An organic EL display device provided with an organic EL element having an organic material layer including an organic light emitting layer laminated between electrodes, wherein each of the organic EL elements is connected to the scanning line and the data line and a signal supplied from the scanning line and the data line.
  • two or more switch circuits for supplying power from the power supply line to the organic EL element are provided in parallel between the power supply line and the organic EL element.
  • FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a display panel of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a block circuit diagram showing a light emitting unit of the organic EL display device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a circuit diagram showing a switch circuit in a light emitting unit of the organic EL display device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic perspective view showing a light emitting section of an organic EL display device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic partially cutaway perspective view showing a light emitting portion of an organic EL display device according to another embodiment of the present invention.
  • Fig. 1 shows an organic EL display device of an embodiment using an active matrix drive method. Is shown.
  • the display device includes a display panel 101, an address driver 110, a data driver 120, and a controller 130.
  • the display panel 101 has n (integer) scan lines SL 1 to SLn formed in parallel at a predetermined interval, and m ( (Integer) data lines DL1 to DLm, and the scanning line and the data line are formed so as to be perpendicular to each other at a predetermined interval. Further, the display panel 101 includes nXm light emitting units 102 formed at portions corresponding to the respective intersections with the scanning lines and the data lines. One end of each scan line is connected to the address driver 110, and one end of each data line is connected to the data driver 120.
  • the addressless dyno 110 applies voltages to the scanning lines SL 1 to 3 one by one.
  • the data dryino I20 applies a data voltage for causing the light emitting unit 102 to emit light to the data lines DL1 to DLm.
  • the controller 130 is connected to the address driver 110 and the data driver 120, and controls the operations of the address driver 110 and the data driver 120 according to image data supplied in advance.
  • the light emitting section 102 is connected to the scanning line SL and the data line DL via lines S sub and D sub, respectively, and receives signals supplied from the scanning line SL and the data line DL.
  • three switch circuits SW for supplying power from the power supply line VccL to the organic EL element 15 via the line Vsub are provided.
  • Three switch circuits SW are power supply lines Vcc L And the organic EL element 15 are connected in parallel.
  • each of the switch circuits SW includes a low-temperature polysilicon TFT 11 for selecting transistor address, a low-temperature polysilicon TFT 12 for driving transistor, a capacitor 13, and an organic EL element 1 as shown in FIG. 5 and.
  • the gate electrode G of the addressing low-temperature polysilicon TFT 11 is connected to a scanning line SL to which an address signal is supplied via a line S sub, and the address low-temperature polysilicon TFT 11
  • the source electrode S is connected via a line D sub to a data line DL to which a data signal is supplied.
  • the drain electrode D of the low-temperature polysilicon TFT for address TFT 11 is connected to the gate electrode G of the low-temperature polysilicon TFT 12 for drive, and is connected to one terminal of the capacitor 13.
  • the source electrode S of the drive low-temperature polysilicon TFT 12 is connected to the power supply line VccL via the line Vsub together with the other terminal of the capacitor 13.
  • the drain electrode D of the drive low-temperature polysilicon TFT 12 is connected to the anode of the organic EL element 15 via a line OUT, and the cathode of the organic EL element 15 is connected to the common electrode com.
  • the common electrode com which is connected to the power supply line VccL and the cathode of each organic EL element 15 shown in FIG. 2 is connected to a voltage source that supplies power to these.
  • the address The low-temperature polysilicon TFT 11 uses a source electrode S to supply a current corresponding to the voltage of the data supplied to the source electrode S in the evening. To the drain electrode D.
  • the gate electrode G of the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is at an off voltage, the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is cut off, and the drain electrode D of the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is open. .
  • the capacitor 13 is charged while the gate electrode G of the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is on voltage, and the voltage is supplied to the gate electrode G of the low-temperature polysilicon TFT 12 for drive.
  • a current based on the gate voltage and the source voltage flows from the source electrode S to the drain electrode D in the low-temperature polysilicon TFT 12 for drive, causing the organic EL element 15 to emit light through the line OUT.
  • the gate electrode G of the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is turned off, the low-temperature polysilicon TFT 11 for address is in an open state, and the low-temperature polysilicon TFT 12 for drive is connected to the capacitor 13.
  • the voltage of the gate electrode G is held by the electric charge accumulated in the pixel, the driving current is maintained until the next scan, and the light emission of the organic EL element 15 is also maintained.
  • a plurality of switch circuits SW for driving the organic EL element 15 are provided in parallel between the power supply line VccL and the organic EL element 15, so that the organic EL display device Even during the process of fabricating a large number of TFTs on a large substrate, the remaining TFTs can be used to drive the organic EL element 15 as long as all the TFTs in the light emitting unit do not fail simultaneously. Occurrence of defects is reduced, and product yield is improved.
  • TF II which is manufactured by applying a polysilicon film at a relatively low temperature, is a low-temperature polysilicon TFT.
  • a silicon film is formed instead of using a furnace for silicon film coating, Then, a partial heating method such as using an excimer laser is performed. The local heating causes instantaneous melting and crystallization of silicon, that is, instantaneous melting and cooling to cause crystallization, thereby suppressing a rise in substrate temperature.
  • a polysilicon thin film can be formed at a low temperature of 600 ° C. or less or 450 ° C. or less, and any method of forming a device thereafter may be used.
  • ⁇ Combination of evaporation method, resistance heating evaporation method, CVD method, printing method, etc. can be used.
  • the pattern may be formed by any method, for example, a photo-etching method, a mask evaporation method, or the like can be used.
  • a low-temperature polysilicon TFT for example, an optical glass or a laminate of a glass plate and a plastic plate can be used as the substrate.
  • a data line DL and a scanning line SL are buried and wired on a light-transmitting glass substrate 1, and lines D sub and S sub connected to each other are formed as vias or through holes. Wiring is performed, and four switch circuits SW are formed on each of them using the circuit shown in Fig. 3.
  • the electrode on the substrate 1 side of the organic EL element 15 is made of a light transmissive material, for example, ITO, and each of the switch circuits SW is arranged around the organic EL element 15 on the substrate 1.
  • each of the low-temperature polysilicon TFT 11 for address and the low-temperature polysilicon TFT 12 for drive has a gate electrode formed on the substrate 1 and a gate insulating film formed thereon.
  • a low-temperature polysilicon film is formed thereon, and a source electrode and a drain electrode are formed thereon by photolithography and etching so as to be opposed to and separated from each other, and a protective film and the like are formed thereon.
  • a channel can be formed therebetween.
  • the organic EL element 15 includes a pixel electrode, an organic material layer, and a common electrode.
  • the organic material layer is usually composed of a plurality of layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
  • the organic material layer is separately applied to each pixel according to its emission color.
  • FIG. 5 shows another embodiment of the present invention, that is, a so-called top emission type organic EL display device.
  • two switch circuits SW for supplying electric power to the organic EL element 15 can be provided on the substrate 1 side, and the organic EL element 15 can be placed on the substrate.
  • the members denoted by the same reference numerals in FIG. 5 and FIGS. 1 to 4 described above are the same and will not be described.
  • the common electrode com is formed of a light transmitting material.
  • This structure has an advantage that the area ratio of the organic EL element 15 can be increased, so that the aperture ratio is increased.
  • a flattening layer 20 also serving as a protective insulating film is removed except for a connection 19 with the pixel electrode 15a. Form. If there is unevenness due to the polysilicon TFT of the switch circuit SW, the pixel electrode of the organic EL The flattening layer 20 needs to cover this unevenness smoothly because the pole com is likely to be short-circuited.
  • planarization layer 20 After the planarization layer 20 is formed, it is connected to the switch circuit SW to form the pixel electrode on the substrate side, and further, the organic material layer and the common electrode com are formed, thereby completing the display panel of the organic EL display device according to the present invention. I do.

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Abstract

基板上に形成された電源ライン、走査ライン及びデータラインの交点近傍にマトリクス状に配置された発光部毎に、対向する１対の電極及び１対の電極の間に積層された有機発光層を含む有機材料層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、各々が走査ライン及びデータラインに接続されかつこれらから供給される信号に対応して電源ラインから有機エレクトロルミネッセンス素子へ電力を供給する２以上のスイッチ回路を、電源ライン及び有機エレクトロルミネッセンス素子間に、並列接続して設ける。

Description

明細書 有機エレクト口ルミネッセンス表示装置 技術分野
本発明は、 電子及びホールの注入によって発光する有機化合物材料のエレク トロルミネッセンス （以下、 E L ) を利用した有機 E L材料の薄膜からなる発 光層を備えている有機 E L素子からなる複数の発光部が規則的に配置された表 示配列を有する有機 E L表示装置に関する。
背景技術
有機 E L素子の複数をマトリクス状に配列して構成される有機 E L表示装置 は、 低消費電力及び高表示品質並びに薄型化が可能なディスプレイとして注目 されている。
有機 E L素子は、 例えばインジウム錫酸化物いわゆる I T Oからなる透明電 極が形成されたガラス板などの透明基板上に、 有機電子輸送層、 有機発光層、 有機ホール輸送層などの少なくとも 1層の有機材料層、 及び金属電極が積層さ れた自発光素子として知られている。 透明電極の陽極に正、 金属電極の陰極に 負の電圧を加えることにより、 電荷が蓄積され、 続いて素子固有の障壁電圧ま たは発光閾値電圧を越えると、 電流が流れ初め、 この直流にほぼ比例した強度 で発光する。
有機 E L素子を用いた表示パネルとして、 有機 E L素子を単にマトリクス状 に配置した単純マトリクス型表示パネルと、 マトリクス状に配置した有機 E L 素子の各々にトランジスタからなる駆動素子を加えたァクティブマトリクス型 表示パネルがある。 ァクティブマトリクス型表示パネルは単純マトリクス型表 示パネルに比べて、 低消費電力であり、 また画素間のクロストークが少ないな どの利点を有し、 特に大画面ディスプレイや高精細度ディスプレイに適してい る。
アクティブマトリクス駆動方式の表示装置は、 発光部毎に、 例えば低温ポリ シリコンからなる薄膜トランジスタ （T F T) を用いてスイッチングによって 画素毎に電流を供給して有機 E L素子を発光させるようにしたものである。 有機 E L表示装置としては大型ディスプレイパネルに対する需要が多いので、 アクティブマトリクス型表示パネルの駆動トランジスタには、 低温ポリシリコ ン T F Tが有効である。
しかしながら、 低温ポリシリコン T F Tを有機 E L表示装置に適用する場合 には次のような問題がある。 例えば、 大型基板上のポリシリコン T F Tの良品 比率を極めて高く維持しないと、 発光部の欠落を引き起こし、 製品の歩留まり が低下する。 また、 ポリシリコン T F Tはチャネル部が多結晶であるので、 単 結晶シリコン T F Tより電気特性バラツキが大きい。 よって、 低温ポリシリコ ン T F Tをアクティブマトリクス駆動方式の有機 E L表示装置の大型ディスプ レイパネルに用いる場合、 表示装置の高価格化は避けられない。
そこで、 本発明の解決しょうとする課題には、 比較的高密度で作成できる低 温ポリシリコン T F T及び有機 E L素子を共通の基板上に形成した有機 E L表 示装置を提供することが一例として挙げられる。
発明の開示 本発明の有機 E L表示装置は、 基板上に形成された電源ライン、 走査ライン 及びデータラインの交点近傍にマトリクス状に配置された発光部毎に、 対向す る 1対の電極及び前記 1対の電極の間に積層された有機発光層を含む有機材料 層を有する有機 E L素子が設けられた有機 E L表示装置であって、 各々が前記 走査ライン及びデータラインに接続されかつこれらから供給される信号に対応 して前記電源ラインから前記有機 E L素子へ電力を供給する 2以上のスィッチ 回路が、 前記電源ライン及び前記有機 E L素子間に、 並列接続して設けられて いる。
図面の簡単な説明
図 1は、 本発明による実施形態の有機 E L表示装置の表示パネルの構成を示 すブロック図である。
図 2は、 本発明による実施形態の有機 E L表示装置の発光部を示すプロック 回路図である。
図 3は、 本発明による実施形態の有機 E L表示装置の発光部におけるスィッ チ回路を示す回路図である。
図 4は、 本発明による他の実施形態の有機 E L表示装置の発光部を示す概略 斜視図である。
図 5は、 本発明による他の実施形態の有機 E L表示装置の発光部を示す概略 一部切欠斜視図である。
発明を実施するための形態
以下に、 本発明による実施形態を図面を参照しつつ説明する。
図 1に、 アクティブマトリクス駆動方式による実施形態の有機 E L表示装置 を示す。 表示装置は、 表示パネル 1 0 1と、 アドレスドライノ ' 1 1 0と、 デー タドライバ 120と、 コントローラ 1 30と、 を有している。
表示パネル 1 0 1は、 図 1に示すように、 それぞれ所定間隔で平行に形成さ れている n (整数） 本の走査ライン SL l〜SLnとそれぞれ所定間隔で平行 に形成されている m (整数）本のデータライン DL l〜DLmとを備えており、 走査ライン及びデ一夕ラインは所定間隔を隔てて互いに直角となるように形成 されている。 さらに、 表示パネル 10 1は、 それぞれが走査ライン及びデータ ラインとの各交点に対応する部分に形成されている nXm個の発光部 1 02を 備えている。 各走査ラインの一端はアドレスドライバ 1 1 0に接続され、 各デ 一夕ラインの一端はデータドライノ 120に接続されている。
ァドレスドライノ、 1 10は、 走査ライン SL 1〜3し11に1本ずっ順に電圧 を印加する。
データドライノ I 20は、 発光部 102を発光させるためのデータ電圧を、 データライン DL l〜DLmに印加する。
ήントローラ 1 30は、 アドレスドライバ 1 1 0及びデ一夕ドライバ 1 20 に接続され、 予め供給された画像データに従って、 アドレスドライバ 1 10及 びデ一夕ドライノ ' 120の動作を制御する。
発光部 1 02は、 図 2に示すように、 それぞれが走査ライン SL及びデータ ライン DLにライン S s u b及び D s u bを介して接続されかつこれら走査ラ イン S L及びデータライン DLから供給される信号に対応して電源ライン Vc c Lからライン V s u bを介して有機 EL素子 1 5へ電力を供給する 3つのス ィツチ回路 SWを備えている。 3つのスィツチ回路 SWは電源ライン V c c L 及び前記有機 EL素子 15の間に並列接続されている。
スィッチ回路 SWの各々は、 図 3に示すように、 選択用トランジスタのアド レス用低温ポリシリコン T F T 1 1と、 駆動用トランジスタのドライブ用低温 ポリシリコン TFT 12と、 コンデンサ 13と、 有機 EL素子 1 5と、 から構 成されている。
図 2及び図 3において、 アドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1のゲート電 極 Gは、 ァドレス信号が供給される走査ライン SLにライン S s u bを介して 接続され、 アドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1のソース電極 Sはデータ信 号が供給されるデ一夕ライン DLにライン D s u bを介して接続されている。 アドレス用低温ポリシリコン T F T 1 1のドレイン電極 Dはドライブ用低温ポ リシリコン TFT 1 2のゲート電極 Gに接続され、 コンデンサ 1 3の一方の端 子に接続されている。 ドライブ用低温ポリシリコン TFT 12のソース電極 S はコンデンサ 1 3の他方の端子と共に電源ライン V c c Lにライン V s u bを 介して接続されている。 ドライブ用低温ポリシリコン TFT 12のドレイン電 極 Dは有機 EL素子 1 5の陽極にライン OUTを介して接続され、 有機 EL素 子 1 5の陰極は共通電極 c omに接続されている。
図 2に示す電源ライン Vc c L及び各有機 EL素子 1 5の陰極が接続された 共通電極 c omは、 これらに電力を供給する電圧源に接続されている。
この回路の発光制御動作について述べると、 先ず、 図 1に示すアドレスドラ ィバ 1 1 0からスィツチ回路 SWのァドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1の ゲート電極 Gにオン電圧が供給されると、 アドレス用低温ポリシリコン T F T 1 1はソース電極 Sに供給されるデ一夕の電圧に対応した電流をソース電極 S からドレイン電極 Dへ流す。 アドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1のゲート 電極 Gがオフ電圧であるとァドレス用低温ポリシリコン T FT 1 1はいわゆる カツトオフとなり、 アドレス用低温ポリシリコン T FT 1 1のドレイン電極 D はオープン状態となる。 従って、 アドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1のゲ ート電極 Gがオン電圧の期間に、 コンデンサ 1 3は充電され、 その電圧がドラ イブ用低温ポリシリコン TFT 1 2のゲート電極 Gに供給されて、 ドライブ用 低温ポリシリコン TFT 1 2にはそのゲ一ト電圧とソース電圧に基づいた電流 がソース電極 Sからドレイン電極 Dへ流れ、 ライン OUTを介して有機 EL素 子 1 5を発光せしめる。 また、 アドレス用低温ポリシリコン T FT 1 1のゲ一 ト電極 Gがオフ電圧になると、 アドレス用低温ポリシリコン TFT 1 1はォ一 プン状態となり、 ドライブ用低温ポリシリコン T F T 1 2はコンデンサ 1 3に 蓄積された電荷によりゲート電極 Gの電圧が保持され、 次の走査まで駆動電流 を維持し、 有機 EL素子 1 5の発光も維持される。
かかる実施形態によれば、 有機 EL素子 1 5を駆動するスィッチ回路 SWの 複数を、 電源ライン Vc c L及び有機 EL素子 1 5間に、 並列接続して設けて あるので、 有機 E L表示装置の大型基板上にて大量の T F T作製工程途中にお いても、 発光部あたり全ての TFTが同時に不良とならない限り、 残存する T FTで有機 EL素子 1 5のスイッチング駆動が可能となるので、 発光部の欠落 発生が減少し、 製品の歩留まりが向上する。
有機 EL表示装置の大型基板パネルを作る際に、 ガラス基板にシリコン膜を 塗布する工程には高温度を必要とする。 アモルファスシリコンを使った通常の T F T基板では、 ほぼ 500度を越える温度で行なわれるが、 これがポリシリ コン T F Τ場合、 さらに高温の 1 0 0 0度程度必要であり、 耐熱性の高価な石 英ガラスが要求されていた。
比較的低温でポリシリコン膜の塗布を行なって作製している T F Τが低温ポ リシリコン T F Tであるが、 具体的には、 シリコン膜塗布に炉などを使うので はなく、 シリコン膜を形成する際に例えばエキシマレーザーを使うなど部分的 加熱方法が実行される。 局所加熱でシリコンを瞬時に融解、 結晶化させ、 すな わち、 瞬間的に溶融し冷却して結晶化が起こるため、 基板の温度上昇を低く抑 えることができる。 このように、 摂氏 6 0 0度以下や 4 5 0度以下というよう な低い温度でポリシリコン薄膜が形成できるようになり、 その後の素子の形成 方法はどんな方法でも構わないが、 例えばスパッタ法、 Ε Β蒸着法、 抵抗加熱 蒸着法、 C V D法、 印刷法、 などを組み合わせて用いることができる。 パター ン形成法も任意の方法で構わないが、 例えばフォトエッチング法、 マスク蒸着 法、 などを用いることができる。
低温ポリシリコン T F Tであれば、 例えば光学ガラス、 ガラス板とプラスチ ック板の張り合わせたものを基板として用いることができる。 例えば、 図 4に 示すように光透過性ガラス基板 1上に、 デ一夕ライン D L及び走査ライン S L を埋設して配線し、 それぞれに接続するライン D s u b及び S s u bをビア又 はスルーホールとして配線し、 その上に 4つのスィツチ回路 S Wをそれぞれ図 3に示す回路にて作製する。 有機 E L素子 1 5の基板 1側の電極は光透過性の 材料例えば I T Oからなり、 スィッチ回路 S Wの各々は基板 1上の有機 E L素 子 1 5の周囲に配置れている。 このようにして、 いわゆるボトムェミッション 型の有機 E L表示装置が得られる。 なお、 ァドレス用低温ポリシリコン T F T 1 1及びドライブ用低温ポリシリ コン TFT 1 2の各々は、 例えばボトムゲート型の場合、 基板 1上にゲート電 極が成膜され、 その上にゲート絶縁膜が成膜され、 その上に低温ポリシリコン 膜が成膜され、 その上に対向離間するようにソース電極及びドレイン電極がフ オトリソグラフィゃエッチング技術により形成され、 その上に保護膜などが成 膜される。 ゲ一ト電極によりソース電極及びドレイン電極の間に電界を印加せ しめると、 その間にチヤネルを形成できるように構成されている。
有機 EL素子 15は画素電極、 有機材料層及び共通電極から構成される。 有 機材料層は、 通常、 ホール注入層、 ホール輸送層、 発光層、 電子輸送層、 電子 注入層など複数の層で構成されるが、 少なくとも発光層を含んでいればよい。 有機材料層はその発光色により画素毎に塗り分けられる。
図 5に本発明の他の実施形態、 いわゆるトップエミッシヨン型の有機 EL表 示装置を示す。 図示のように、 有機 EL素子 1 5へ電力を供給する 2つのスィ ツチ回路 SWを基板 1側に設け、 その上に有機 EL素子 1 5を重ねて配置する こともできる。 図 5と先の図 1から図 4で同一符号で示される部材は同一なの で説明は省略する。 この場合、 共通電極 c omを光透過性材料で形成すること が望ましい。 この構造では、 有機 EL素子 1 5の面積を大きくできるので開口 率が高まるというメリットがある。
コンデンサ、 ァドレス用低温ポリシリコン T F T及びドライブ用低温ポリシ リコン T FTからなるスィッチ回路 SWを形成後、 画素電極 1 5 aとの接続部 1 9を除き、 保護絶縁膜を兼ねた平坦化層 20を形成する。 スィッチ回路 SW のポリシリコン TFTによる凹凸があると、 有機 EL素子の画素電極と共通電 極 c omが短絡しやすくなるため、 平坦化層 20はこの凹凸を滑らかに覆う必 要がある。
平坦化層 20を形成後、 スィッチ回路 SWと接続して基板側の画素電極を形 成、 更に有機材料層、 共通電極 c omを形成し、 本発明による有機 EL表示装 置の表示パネルが完成する。
上記例では、 有機 EL素子を駆動するために最も単純な構成である 2、 3及 び 4トランジスタの場合を示したが、 本発明は 5以上のトランジスタを用いた 素子にも適用できる。

Claims

請求の範囲
1 . 基板上に形成された電源ライン、 走査ライン及びデ一夕ラインの 交点近傍にマトリクス状に配置された発光部毎に、 対向する 1対の電極及び前 記 1対の電極の間に積層された有機発光層を含む有機材料層を有する有機エレ クトロルミネッセンス素子が設けられた有機エレクトロルミネッセンス表示装 置であって、
各々が前記走査ライン及びデータラインに接続されかつこれらから供給され る信号に対応して前記電源ラインから前記有機エレクト口ルミネッセンス素子 へ電力を供給する 2以上のスィッチ回路が、 前記電源ライン及び前記有機エレ クトロルミネッセンス素子間に、 並列接続して設けられている有機エレクトロ ルミネッセンス表示装置。
2 . 前記スィッチ回路の各々は、 少なくとも 2つの低温ポリシリコン 薄膜トランジスタとコンデンサとから構成される請求項 1記載の有機エレクト 口ルミネッセンス表示装置。
3 . 前記スィッチ回路の各々は、 前記走査ライン及びデータラインに 接続された第 1低温ポリシリコン薄膜トランジスタと、 前記第 1低温ポリシリ コン薄膜トランジスタ、 前記電源ライン及び前記有機エレクトロルミネッセン ス素子に接続された第 2低温ポリシリコン薄膜トランジスタと、 前記第 1低温 ポリシリコン薄膜トランジスタに接続されたコンデンサと、 から構成される請 求項 1記載の有機エレクト口ルミネッセンス表示装置。
4 . 前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記基板側の反対側の 電極が光透過性の材料からなり、 前記スィッチ回路の各々は前記基板と前記有 機エレクト口ルミネッセンス素子との間に配置された請求項 1記載の有機エレ クトロルミネッセンス表示装置。
5 . 前記基板は光透過性の材料からなり、 前記有機エレクトロルミネ ッセンス素子の前記基板側の電極が光透過性の材料からなり、 前記スィッチ回 路の各々は前記基板上の前記有機エレクトロルミネッセンス素子の周囲に配置 された請求項 1記載の有機ェレクト口ルミネッセンス表示装置。
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