JPS61232483A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPS61232483A JPS61232483A JP60074886A JP7488685A JPS61232483A JP S61232483 A JPS61232483 A JP S61232483A JP 60074886 A JP60074886 A JP 60074886A JP 7488685 A JP7488685 A JP 7488685A JP S61232483 A JPS61232483 A JP S61232483A
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- Japan
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- thin film
- electrode
- gate
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- film transistor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は液晶セルを構成する一方の透明基板の内面に
表示電極が複数形成され、その各表示電極C:薄膜トラ
ンジスタが接続され、その薄膜トランジスタを選択的(
ニスイツチング制御することによって表示電極を選択的
C二表示するよう(ユした液晶表示素子C二関する。
表示電極が複数形成され、その各表示電極C:薄膜トラ
ンジスタが接続され、その薄膜トランジスタを選択的(
ニスイツチング制御することによって表示電極を選択的
C二表示するよう(ユした液晶表示素子C二関する。
「従来の技術」
従来のこの種の液晶表示素子は例えば第7図に示すよう
ζニガラヌのような透明基板11及び12が近接対向し
て設けられ、その問縁部にはスペーサ13が介在され、
これら透明基板11.12間に液晶14が封入されてい
る。一方の透明基板11の内面C二表示電極15が複数
形成され、これら各表示電極15に接してそれぞれスイ
ッチング素子として薄膜トランジスタ16が形成され、
その薄膜トランジスタ16のドレインは表示電極15に
接続されている。これら複数の表示電極15と対向して
北方の透明基板12の内面に透明な共通電極17が形成
されている。
ζニガラヌのような透明基板11及び12が近接対向し
て設けられ、その問縁部にはスペーサ13が介在され、
これら透明基板11.12間に液晶14が封入されてい
る。一方の透明基板11の内面C二表示電極15が複数
形成され、これら各表示電極15に接してそれぞれスイ
ッチング素子として薄膜トランジスタ16が形成され、
その薄膜トランジスタ16のドレインは表示電極15に
接続されている。これら複数の表示電極15と対向して
北方の透明基板12の内面に透明な共通電極17が形成
されている。
表示電極15は例えば画素゛電極であって第8図に示す
ようC二、透明基板11上に正方形のものが行及び列C
:、つまりマ) IJクス状C二近接配列されており、
表示電極15の各行配列と近接し、かつこれC二沿って
それぞれゲートバス18が形成され、また表示電極15
の各列配列と近接してそれに沿ってソースバス(データ
線)19がそれぞれ形成されている。これら各ゲートバ
ス18及びソースバス19の交差点において薄膜トラン
ジスタ16が設けられ、各薄膜トランジスタ16のゲー
トは両ハスの交差点位置においてゲートバス18C接続
され、各ソースはソースバス19にそれぞれ接続され、
更に各ドレインは表示電極15C:接続されている。
ようC二、透明基板11上に正方形のものが行及び列C
:、つまりマ) IJクス状C二近接配列されており、
表示電極15の各行配列と近接し、かつこれC二沿って
それぞれゲートバス18が形成され、また表示電極15
の各列配列と近接してそれに沿ってソースバス(データ
線)19がそれぞれ形成されている。これら各ゲートバ
ス18及びソースバス19の交差点において薄膜トラン
ジスタ16が設けられ、各薄膜トランジスタ16のゲー
トは両ハスの交差点位置においてゲートバス18C接続
され、各ソースはソースバス19にそれぞれ接続され、
更に各ドレインは表示電極15C:接続されている。
これらゲートバス18とソースバス19との各一つを選
択してそれら間に電圧を印加し、その電圧が印加された
薄膜トランジスタ16のみが導通し、その導通した薄膜
トランジスタ16のドレインC二接続された表示電極1
5に電荷を蓄積して表示電極15と共通電極17との間
の部分の液晶14のみに電圧を印加し、これによってそ
の表示電極15の部分のみが光透明或は光遮断となり、
選択的な表示が行われる。この表示電極15に蓄積した
電荷を放電させること(−よって表示を消去させること
ができる。
択してそれら間に電圧を印加し、その電圧が印加された
薄膜トランジスタ16のみが導通し、その導通した薄膜
トランジスタ16のドレインC二接続された表示電極1
5に電荷を蓄積して表示電極15と共通電極17との間
の部分の液晶14のみに電圧を印加し、これによってそ
の表示電極15の部分のみが光透明或は光遮断となり、
選択的な表示が行われる。この表示電極15に蓄積した
電荷を放電させること(−よって表示を消去させること
ができる。
薄膜トランジスタ16は従来C二おいては例えば第9図
及び第10図(−示すようC二構成されていた。
及び第10図(−示すようC二構成されていた。
即ち透明基板11上C:表示電極15とソースバス19
とがITOのような透明導電膜によって形成され、表示
電極15及びソースバス19の互(ユ平行近接した部分
間にまたがってアモルファスシリコンのような半導体層
21が形成され、更にその上に窒化シリコンなどのゲー
ト絶縁膜22が形成される。このゲート絶縁膜22上C
二おいて半導体層21を介して表示電極15及びソース
バス19とそれぞれ一部重なってゲート電極23が形成
される。ゲート電極23の一端はゲートバス18≦−接
続される。このようC−シてゲート電極23とそれぞれ
対向した表示電極15、ソースバス19はそれぞれドレ
イン電極15a、ソース電極19aを構成し、これら電
極15ar 19a、半導体層21、ゲート絶縁膜22
、ゲート電極23(;よって薄膜トランジスタ16が構
成される。ゲート電極23及びゲートバス18は同時に
形成され、例えばアルミニウム(−よって構成される。
とがITOのような透明導電膜によって形成され、表示
電極15及びソースバス19の互(ユ平行近接した部分
間にまたがってアモルファスシリコンのような半導体層
21が形成され、更にその上に窒化シリコンなどのゲー
ト絶縁膜22が形成される。このゲート絶縁膜22上C
二おいて半導体層21を介して表示電極15及びソース
バス19とそれぞれ一部重なってゲート電極23が形成
される。ゲート電極23の一端はゲートバス18≦−接
続される。このようC−シてゲート電極23とそれぞれ
対向した表示電極15、ソースバス19はそれぞれドレ
イン電極15a、ソース電極19aを構成し、これら電
極15ar 19a、半導体層21、ゲート絶縁膜22
、ゲート電極23(;よって薄膜トランジスタ16が構
成される。ゲート電極23及びゲートバス18は同時に
形成され、例えばアルミニウム(−よって構成される。
「発明が解決しようとする問題点」
この従来の液晶表示素子≦二おいて、各薄膜トランジス
タ16のゲート電極23とドレイン電極15a及びソー
ス電極19aとの間Cユそれぞれ静電(寄生)容i c
gd及びC3gが存在している、またこれらゲート電極
23とドレイン電極15a、ソース電極19aとの各対
向部分間における半導体層21の面積により抵抗値が変
化する寄生抵抗R8がある。これら静電容ti cgc
t 、Csg、寄生抵抗R8ハ薄膜トランジスタ16の
特性に大きく影響を与えるが、ゲート電極23を作る際
(ユその位置が僅かずれると、静電容tl cgdなど
が直接変化し、このため薄膜トランジスタ16の特性C
ニバラつきが生じる。例えばこれら電極の重なる部分の
幅の設計値を3ミクロンとした場合(−5そのチャネル
幅をWとすると設計値通りならば静電容StCgd。
タ16のゲート電極23とドレイン電極15a及びソー
ス電極19aとの間Cユそれぞれ静電(寄生)容i c
gd及びC3gが存在している、またこれらゲート電極
23とドレイン電極15a、ソース電極19aとの各対
向部分間における半導体層21の面積により抵抗値が変
化する寄生抵抗R8がある。これら静電容ti cgc
t 、Csg、寄生抵抗R8ハ薄膜トランジスタ16の
特性に大きく影響を与えるが、ゲート電極23を作る際
(ユその位置が僅かずれると、静電容tl cgdなど
が直接変化し、このため薄膜トランジスタ16の特性C
ニバラつきが生じる。例えばこれら電極の重なる部分の
幅の設計値を3ミクロンとした場合(−5そのチャネル
幅をWとすると設計値通りならば静電容StCgd。
C5gはそれぞれ3倍のWに比例したものであるが、1
ミクロンだけゲート電極23がソース電極19a側C:
ずれると、Cgd及びC5gはそれぞれ2倍のW、及び
4倍のWに比例したものとなり、ゲート電極23がソー
ス電極19a側C二2ミクロンずれると、Cgd、C5
gはそれぞれ5倍のw、1倍のW(ユ比例したものとな
る。従ってゲート電極23のずれは薄膜トランジスタ1
6の特性に大きな影響を与える。液晶表示素子(−おい
て薄膜トランジスタ16の特性にバラつきが生じると表
示むらが発生する。
ミクロンだけゲート電極23がソース電極19a側C:
ずれると、Cgd及びC5gはそれぞれ2倍のW、及び
4倍のWに比例したものとなり、ゲート電極23がソー
ス電極19a側C二2ミクロンずれると、Cgd、C5
gはそれぞれ5倍のw、1倍のW(ユ比例したものとな
る。従ってゲート電極23のずれは薄膜トランジスタ1
6の特性に大きな影響を与える。液晶表示素子(−おい
て薄膜トランジスタ16の特性にバラつきが生じると表
示むらが発生する。
従ってこの発明の目的は薄膜トランジスタの特性が均一
な液晶表示素子ン提供することにある。
な液晶表示素子ン提供することにある。
「問題点を解決するための手段」
この発明【;よれば各表示電極にはこれと接続された薄
膜トランジスタと反対側の位置において第2の薄膜トラ
ンジスタがそれぞれ接続され、これら両薄膜トランジス
タは互(=並列(ユ接続される。
膜トランジスタと反対側の位置において第2の薄膜トラ
ンジスタがそれぞれ接続され、これら両薄膜トランジス
タは互(=並列(ユ接続される。
このように氏示′磁極の両側の位置に薄嘆トランジスタ
が設けられているためマスクずれが生じても、一方の薄
膜トランジスタの一つの静電容獣が減少すると、曲刃の
薄膜トランジスタの対らする静電容置が増加するため、
全体としては同一の静電容は、つまり設計通りのものと
なる。
が設けられているためマスクずれが生じても、一方の薄
膜トランジスタの一つの静電容獣が減少すると、曲刃の
薄膜トランジスタの対らする静電容置が増加するため、
全体としては同一の静電容は、つまり設計通りのものと
なる。
このように両薄膜トランジスタを互に並列に接続するが
、そのためにソースバスを各表示電極の両側(−それぞ
れ設け、その両ソースバスをループ状≦二接続すれば、
ソースバスの一方の断線が発生しても筺用可能であり、
それだけ欠陥の発生率が低くなる。
、そのためにソースバスを各表示電極の両側(−それぞ
れ設け、その両ソースバスをループ状≦二接続すれば、
ソースバスの一方の断線が発生しても筺用可能であり、
それだけ欠陥の発生率が低くなる。
「実施例」
第1図はこの発明による液晶表示素子の一例を路線的に
示すものであり、その表示電極15はマトリクス状(−
配列され、第8図、第9図の場合と同様に表示電極15
の各列と対応して一方の側C;おいてソースバス19a
がそれぞれ形成されており、そのソースバス19aとそ
の列の表示電極15とは薄膜トランジスタ16でそれぞ
れ接続される。
示すものであり、その表示電極15はマトリクス状(−
配列され、第8図、第9図の場合と同様に表示電極15
の各列と対応して一方の側C;おいてソースバス19a
がそれぞれ形成されており、そのソースバス19aとそ
の列の表示電極15とは薄膜トランジスタ16でそれぞ
れ接続される。
この実施例(;おいてはそれぞれ表示電極15C;つい
て薄膜トランジスタ16が接続された側と反対側に、図
において左側≦;薄膜トランジスタ25がそれぞれ表示
電極15に接続される。その薄膜トランジスタ25は各
表示電極15の配列ごと(一対応するものがそれぞれソ
ースバス261−そのソース電極が接続され、表示電極
15の列配列ごとにその対しする一対のソースバス19
.26の両端が互(−接続され、つまりループ状に接続
される。
て薄膜トランジスタ16が接続された側と反対側に、図
において左側≦;薄膜トランジスタ25がそれぞれ表示
電極15に接続される。その薄膜トランジスタ25は各
表示電極15の配列ごと(一対応するものがそれぞれソ
ースバス261−そのソース電極が接続され、表示電極
15の列配列ごとにその対しする一対のソースバス19
.26の両端が互(−接続され、つまりループ状に接続
される。
また図に示してないが薄膜トランジスタ25のゲート電
極はその表示電極15と接続された薄膜トランジスタ1
6のゲート電極が接続されたゲートバス18(−接続さ
れる。従って各表示電極(一ついてその両薄膜トランジ
スタ16,25は互に並列C二接続される。
極はその表示電極15と接続された薄膜トランジスタ1
6のゲート電極が接続されたゲートバス18(−接続さ
れる。従って各表示電極(一ついてその両薄膜トランジ
スタ16,25は互に並列C二接続される。
第2図、第3図(ユ第7図、第9図、第10図と対応す
る部分に面−符号を付けて示すように、各表示電極15
のソースバス19と反対側【二おいてソースバス26が
形成され、そのソースバス26と表示電極15との間に
アモルファスシリコンのような半導体層27が形成され
、更に半導体層27上にゲート絶縁膜22が形成され、
その上C;ゲート電極28が形成されて薄膜トランジス
タ25が構成される。ゲート電極28はゲートバス18
に接続される。
る部分に面−符号を付けて示すように、各表示電極15
のソースバス19と反対側【二おいてソースバス26が
形成され、そのソースバス26と表示電極15との間に
アモルファスシリコンのような半導体層27が形成され
、更に半導体層27上にゲート絶縁膜22が形成され、
その上C;ゲート電極28が形成されて薄膜トランジス
タ25が構成される。ゲート電極28はゲートバス18
に接続される。
この構成の薄膜トランジスタ25においても第4図に示
すよう(−ゲート電極28と表示電極15との重なり部
分、つまりドレイン電極15bとの間≦二静電容1cg
d2が、またソースバス26との重なる部分、つまりソ
ース電極26aとの間に静電容量C,g□がそれぞれ存
在している。しかしこのよう(ニ一つの表示電極15の
両側Cユニつの薄膜トランジスタ16.25がそれぞれ
形成されており、しかもこれらは互に並列C−接続され
ているため、ゲート電極23と表示電極15、ソースバ
ス19との静電容lをCgdx 、Csgtとすると、
静電容量CgdtとCgdz、またC521とC3g2
はそれぞれ並列に接続される。
すよう(−ゲート電極28と表示電極15との重なり部
分、つまりドレイン電極15bとの間≦二静電容1cg
d2が、またソースバス26との重なる部分、つまりソ
ース電極26aとの間に静電容量C,g□がそれぞれ存
在している。しかしこのよう(ニ一つの表示電極15の
両側Cユニつの薄膜トランジスタ16.25がそれぞれ
形成されており、しかもこれらは互に並列C−接続され
ているため、ゲート電極23と表示電極15、ソースバ
ス19との静電容lをCgdx 、Csgtとすると、
静電容量CgdtとCgdz、またC521とC3g2
はそれぞれ並列に接続される。
従っていまゲート電極23.28が設計通りの重なりと
なった時の静電容量Cgdt + Cgd2.Csg□
+C3g□がそれぞれ3倍のWであるとする。つまり各
ゲート電極とドレイン電極、ソース電極との重なりの幅
が各3ミクロン、チャネル幅をW/2とする。この時例
えば第2図、第3図、第4図においてゲート電極23が
図において右側C二ずれる場合はゲート電極23と薄膜
トランジスタ25のゲート電極28とは同一マスクC;
よって作られるため、ゲート電極28も右側へ同一量ず
れ、このため薄膜トランジスタ16のソースゲート間の
静電容量C3g1が増加するが、その増加量と同量だけ
薄膜トランジスタ25のソースゲート間の静電容量C3
g□が減少し、両薄膜トランジスタ16.25のソース
ゲート間容量は3倍のWとなって設計値と変りない。こ
のことば薄1良トランジスタ16のゲートドレイン間の
静電容ic、d1と薄膜トランジスタ25のゲートドレ
イン間の静電容tjtcgdgとの間C;おいても同様
であり、一方が増加すると他方が減少してその和は常じ
一定である。このためマスクずれがあっても常(=設計
通りの静電容量となる。従って液晶表示素子の表示面の
各部におけるゲート電極の形成時のマスクすれが一様に
ならない場合でも各薄膜トランジスタの特性の等しいも
のが得られる。寄生抵抗R5についても薄膜トランジス
タ16側が増加すれば薄膜トランジスタ25側が減少し
、常C二その和が一定となる。
なった時の静電容量Cgdt + Cgd2.Csg□
+C3g□がそれぞれ3倍のWであるとする。つまり各
ゲート電極とドレイン電極、ソース電極との重なりの幅
が各3ミクロン、チャネル幅をW/2とする。この時例
えば第2図、第3図、第4図においてゲート電極23が
図において右側C二ずれる場合はゲート電極23と薄膜
トランジスタ25のゲート電極28とは同一マスクC;
よって作られるため、ゲート電極28も右側へ同一量ず
れ、このため薄膜トランジスタ16のソースゲート間の
静電容量C3g1が増加するが、その増加量と同量だけ
薄膜トランジスタ25のソースゲート間の静電容量C3
g□が減少し、両薄膜トランジスタ16.25のソース
ゲート間容量は3倍のWとなって設計値と変りない。こ
のことば薄1良トランジスタ16のゲートドレイン間の
静電容ic、d1と薄膜トランジスタ25のゲートドレ
イン間の静電容tjtcgdgとの間C;おいても同様
であり、一方が増加すると他方が減少してその和は常じ
一定である。このためマスクずれがあっても常(=設計
通りの静電容量となる。従って液晶表示素子の表示面の
各部におけるゲート電極の形成時のマスクすれが一様に
ならない場合でも各薄膜トランジスタの特性の等しいも
のが得られる。寄生抵抗R5についても薄膜トランジス
タ16側が増加すれば薄膜トランジスタ25側が減少し
、常C二その和が一定となる。
第5図に示すよう≦二番表示電極の行配列と並行してソ
ースバス18と反対側に各表示電極15に対してゲート
バス31を設け、薄膜トランジスタ16のゲート電極2
3をゲートバス31(−接続し、薄膜トランジスタ25
のゲート電極28をゲートバス18≦二接続するようC
;シ、各行配列と対応するゲートバス18.31はその
両端で互(−接続してループ状にする。このようC二し
て表示電極15の両1llllC;薄膜トランジスタ1
6.25をそれぞれ設けると共にソースバス19.26
と同様(ニゲートバス18.31も2本をループ状(−
接続することによって断線C二対して強くすることがで
きる。
ースバス18と反対側に各表示電極15に対してゲート
バス31を設け、薄膜トランジスタ16のゲート電極2
3をゲートバス31(−接続し、薄膜トランジスタ25
のゲート電極28をゲートバス18≦二接続するようC
;シ、各行配列と対応するゲートバス18.31はその
両端で互(−接続してループ状にする。このようC二し
て表示電極15の両1llllC;薄膜トランジスタ1
6.25をそれぞれ設けると共にソースバス19.26
と同様(ニゲートバス18.31も2本をループ状(−
接続することによって断線C二対して強くすることがで
きる。
更(−第6図に示すように各表示電極15に対してソー
スバス19.26’Y設けると共イニ、これらソースバ
ス19.26間を接続する接続線33を設け、表示電極
15の両側(−おいてこのソースバス接続線33と表示
電極15との間C:それぞれ薄膜トランジスタ16,2
5Y形成してもよい。この場合は列方向において隣接し
ている表示電離間の二つの薄膜トランジスタ16.25
について半導体層21を共通に形成することができる。
スバス19.26’Y設けると共イニ、これらソースバ
ス19.26間を接続する接続線33を設け、表示電極
15の両側(−おいてこのソースバス接続線33と表示
電極15との間C:それぞれ薄膜トランジスタ16,2
5Y形成してもよい。この場合は列方向において隣接し
ている表示電離間の二つの薄膜トランジスタ16.25
について半導体層21を共通に形成することができる。
つまりこの例では各表示電極15の列配列ととC二その
隣接表示電極間でソースバス19.26を接続線33で
連結接続し、つまりソースバスを梯子形C二形成し、そ
の梯子の段C二対応したところで、つまり接続線33で
表示電極の両側に薄膜トランジスタ16.25を形成し
ている。これにより開口率を損うことなく薄膜トランジ
スタを2個設けることができ、しかもソースバスは複数
個所で断線しても欠陥となり難く、またゲートバスも1
本が切断しても欠陥とはならない。
隣接表示電極間でソースバス19.26を接続線33で
連結接続し、つまりソースバスを梯子形C二形成し、そ
の梯子の段C二対応したところで、つまり接続線33で
表示電極の両側に薄膜トランジスタ16.25を形成し
ている。これにより開口率を損うことなく薄膜トランジ
スタを2個設けることができ、しかもソースバスは複数
個所で断線しても欠陥となり難く、またゲートバスも1
本が切断しても欠陥とはならない。
しかしこのようにソースバスを梯子形C二構成する第6
図C:おいてソースバス26−f省略しても、マスク合
せのずれに対する影響がなく、均一な特性の薄膜トラン
ジスタを得ることができる。更≦;このように一つの表
示電極15に対してその両側に二つの薄膜トランジスタ
を接続し、これらを同時C二制御する構成としたが、更
にその表示電極の一つの対向線のみならず二つの対向線
について薄膜トランジスタをそれぞれ形成し、つまり四
つの薄膜トランジスタを形成してこれら四つ全同時C;
制御するように構成してもよい。また上述においては薄
膜トランジスタが形成された透明基板11に対して半導
体層やゲート絶縁膜を形成した上Cニゲート電橋を形成
したが、逆C二透明基板側C二ゲート電極を形成し、そ
の上Cニゲート絶縁膜を形成し、更C;半導体層ン形成
し、その上Cニソース電極、ドレイン電極を形成するよ
うC二した薄膜トランジスタC二もこの発明ン適用する
ことができる。また上述の例では白黒表示C二連用した
が、カラー表示にもこの発明を適用することが可能であ
る。表示電極15としては画素電極のみならず、棒状セ
グメントの表示電極馨7本用いて8字状に配置し、数字
を選択表示するなど、池の形状の表示電極としてもよい
。
図C:おいてソースバス26−f省略しても、マスク合
せのずれに対する影響がなく、均一な特性の薄膜トラン
ジスタを得ることができる。更≦;このように一つの表
示電極15に対してその両側に二つの薄膜トランジスタ
を接続し、これらを同時C二制御する構成としたが、更
にその表示電極の一つの対向線のみならず二つの対向線
について薄膜トランジスタをそれぞれ形成し、つまり四
つの薄膜トランジスタを形成してこれら四つ全同時C;
制御するように構成してもよい。また上述においては薄
膜トランジスタが形成された透明基板11に対して半導
体層やゲート絶縁膜を形成した上Cニゲート電橋を形成
したが、逆C二透明基板側C二ゲート電極を形成し、そ
の上Cニゲート絶縁膜を形成し、更C;半導体層ン形成
し、その上Cニソース電極、ドレイン電極を形成するよ
うC二した薄膜トランジスタC二もこの発明ン適用する
ことができる。また上述の例では白黒表示C二連用した
が、カラー表示にもこの発明を適用することが可能であ
る。表示電極15としては画素電極のみならず、棒状セ
グメントの表示電極馨7本用いて8字状に配置し、数字
を選択表示するなど、池の形状の表示電極としてもよい
。
「発明の効果」
以上述べたようC二この発明の液晶表示素子C二よれば
その製造時におけるマスクずれなど【二拘らず各部の薄
膜トランジスタとして同一特性のものを容易C二得るこ
とができ、その寄生容量cgd 、Csgや寄生抵抗R
5のかたよりが複数の薄膜トランジスタが接続されてい
るため互C;相殺されて1衣示電極当りの綜合的な薄膜
トランジスタの特性のバラつきは極めて少なくなり、そ
れだけ表示むらが軽減される。
その製造時におけるマスクずれなど【二拘らず各部の薄
膜トランジスタとして同一特性のものを容易C二得るこ
とができ、その寄生容量cgd 、Csgや寄生抵抗R
5のかたよりが複数の薄膜トランジスタが接続されてい
るため互C;相殺されて1衣示電極当りの綜合的な薄膜
トランジスタの特性のバラつきは極めて少なくなり、そ
れだけ表示むらが軽減される。
更にこのような幾何学的ずれがあっても寄生容量などが
一方的C二増減しないため、薄膜トランジスタの設計時
C二、チャネル幅Wを限度まで大きくすることができ、
同時に薄膜トランジスタの注入電荷能力も設計値に近い
特性のものを得ることができる。
一方的C二増減しないため、薄膜トランジスタの設計時
C二、チャネル幅Wを限度まで大きくすることができ、
同時に薄膜トランジスタの注入電荷能力も設計値に近い
特性のものを得ることができる。
更に上述したようにソースバスを各表示電極当り2本設
けてこれをその両端で互に接続し、ループ状とする場合
はその1個所が断線しても液晶表示素子が障害となるお
それはなく、それだけ欠陥の発生率の少ない歩留まりの
高いものとなる。同様にしてゲートバスも各表示電極C
;対して2本設けてその両端を互に接続した構成とする
と、ゲートバスの1個所の断線によっては欠陥とならな
い。
けてこれをその両端で互に接続し、ループ状とする場合
はその1個所が断線しても液晶表示素子が障害となるお
それはなく、それだけ欠陥の発生率の少ない歩留まりの
高いものとなる。同様にしてゲートバスも各表示電極C
;対して2本設けてその両端を互に接続した構成とする
と、ゲートバスの1個所の断線によっては欠陥とならな
い。
第1図はこの発明による液晶表示素子の概略を示す図、
第2図はその薄膜トランジスタ及び表示電極の配列の一
部を示す平面図、第3図は第2図のAA線断面図、第4
図は薄膜トランジスタ16゜25の寄生容量を示す図、
第5図はこの発明の液晶表示素子の池の例を示す第2図
と対応した平面図、第6図はこの発明の液晶表示素子の
更3二池の例を示T第2図と対応した平面図、第7図は
マトリクス液晶表示素子の一般的構成の一部断面図、第
8図はマ) +7クス液晶表示素子の電気的等価回路図
、第9図は従来のマトリクス液晶表示素子の表示電極、
薄膜トランジスタの配列の一部を示す平面図、第10図
は第8図のBB線断面図である。 11.12:透明基板、14:液晶、15:表示電極、
16,25:薄膜トランジスタ、18゜31:ゲートバ
ス、19.26:ソースバス。 特許出願人 星電器製造株式会社 代 理 人 草 野 重分 3 図 オ 5 図 オ 8 図 オ 9 図 分10 図
第2図はその薄膜トランジスタ及び表示電極の配列の一
部を示す平面図、第3図は第2図のAA線断面図、第4
図は薄膜トランジスタ16゜25の寄生容量を示す図、
第5図はこの発明の液晶表示素子の池の例を示す第2図
と対応した平面図、第6図はこの発明の液晶表示素子の
更3二池の例を示T第2図と対応した平面図、第7図は
マトリクス液晶表示素子の一般的構成の一部断面図、第
8図はマ) +7クス液晶表示素子の電気的等価回路図
、第9図は従来のマトリクス液晶表示素子の表示電極、
薄膜トランジスタの配列の一部を示す平面図、第10図
は第8図のBB線断面図である。 11.12:透明基板、14:液晶、15:表示電極、
16,25:薄膜トランジスタ、18゜31:ゲートバ
ス、19.26:ソースバス。 特許出願人 星電器製造株式会社 代 理 人 草 野 重分 3 図 オ 5 図 オ 8 図 オ 9 図 分10 図
Claims (1)
- (1)2枚の透明基板が近接対向して配され、これら透
明基板間に液晶が封入され、上記一方の透明基板の内面
に複数の薄膜トランジスタが形成され、各薄膜トランジ
スタはそのトランジスタがスイッチング制御されると電
圧が印加される表示電極をそれぞれ備え、薄膜トランジ
スタを選択的にスイッチング制御して表示電極を選択的
に表示する液晶表示素子において、 上記各表示電極にこれと接続された薄膜トランジスタと
反対側の位置でそれぞれ第2の薄膜トランジスタが接続
され、これら両薄膜トランジスタは互に並列に接続され
ていることを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60074886A JPS61232483A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60074886A JPS61232483A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 液晶表示素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61232483A true JPS61232483A (ja) | 1986-10-16 |
JPH0543115B2 JPH0543115B2 (ja) | 1993-06-30 |
Family
ID=13560294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60074886A Granted JPS61232483A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61232483A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580712A (ja) * | 1991-03-22 | 1993-04-02 | General Motors Corp <Gm> | 放射性デイスプレイ |
WO2003029891A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Unite d'affichage a cristaux liquides |
JP2003195354A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-09 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置、液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法 |
WO2004032103A1 (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Pioneer Corporation | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
US6797548B2 (en) | 1991-06-19 | 2004-09-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Inc. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5898775A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示体装置 |
-
1985
- 1985-04-08 JP JP60074886A patent/JPS61232483A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5898775A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示体装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0580712A (ja) * | 1991-03-22 | 1993-04-02 | General Motors Corp <Gm> | 放射性デイスプレイ |
US6797548B2 (en) | 1991-06-19 | 2004-09-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Inc. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
US6847064B2 (en) | 1991-06-19 | 2005-01-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having a thin film transistor |
WO2003029891A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Unite d'affichage a cristaux liquides |
JP2003195354A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-09 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示装置、液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法 |
WO2004032103A1 (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Pioneer Corporation | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0543115B2 (ja) | 1993-06-30 |
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