WO2003046904A1

WO2003046904A1 - Procede et dispositif de matriçage et de pressage de supports d'information

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Publication number: WO2003046904A1
Application number: PCT/JP2002/012569
Authority: WO
Inventors: Hiroaki Takahata; Hisaji Oyake
Original assignee: Tdk Corporation
Priority date: 2001-11-30
Filing date: 2002-11-29
Publication date: 2003-06-05
Also published as: EP1460625A1; TWI236013B; AU2002349665A1; TW200300936A; US20050006336A1

Description

曰月糸田 β

情報媒体用原盤の製造方法、情報媒体用スタンパーの製造方法、情報媒体用原盤の製造装置、および情報媒体用スタンパーの製造装置技術分野

この発明は、ドライエッチングによって凹凸パターンを形成する情報媒体用原盤の製造方法および製造装置と、その情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報媒体用スタンパーの製造方法および製造装置とに関するものである。背景技術

情報媒体としての光記録媒体（C Dや D V Dなど）を製造する際には、まず、トラッキング制御用の案内溝ゃピットなどを光記録媒体用のディスク基材に転写するための凹凸パターンが形成された光記録媒体用スタンパー（以下、「スタンパー」ともいう）を製造する。このスタンパーの製造に際しては、まず、デイスク基材とほぼ同形の凹凸パターンを有する光記録媒体用原盤（以下、「原盤」ともいう）を作製し、次に、製作した原盤の凹凸パターンをスタンパー形成材に転写する。この場合、原盤の製造方法としては、支持部材としての基材の上にフォトレジスト層を形成し、露光用ビームを照射して潜像を形成した後に現像することによってフォトレジスト層の厚み内に凹凸パターンを形成する原盤（フオトレジスト原盤）の製造方法が従来から知られている。一方で、光記録媒体の高密度化の要請に応え、案内溝の形成ピッチゃピッ卜の大きさを小さくするための各種原盤の製造方法が開発されている。

例えば、特開平 1 0— 2 4 1 2 1 3号公報には、ドライエッチングによってガラス原盤（ 1 0、上記した基材に相当する部材）に凹部を形成することにより凹凸パターンが形成されたガラスマスタ一（2 0、上記した光記録媒体用原盤）の製造方法、およびガラスマスタ一を用いて金属スタンパ一 ( 1 5、上記した光記録媒体用スタンパ一）を製造する製造方法が開示されている。この製造方法では

、まず、ガラス原盤の上にフォトレジスト（ 1 1 ) を塗布した後に露光用ビームを照射して凹凸パターンを露光記録する。次に、フォトレジストを現像してガラス原盤の表面の一部（露光記録した部位）を露出させる。次いで、ガラス原盤上のフォトレジストをマスクとして用いてドライエッチングすることにより、ガラス原盤に凹部を形成する。続いて、ガラス原盤上に残留しているフォトレジストを除去する。これにより、凹凸パターンが形成されたガラスマスタ一が製作される。次に、製作したガラスマスタ一の表面に導電膜（1 3 ) を成膜し、この導電膜を電極として金属材料をめつきする。これにより、ガラスマス夕一上に金属スタンパ一が形成される。この後、ガラスマスターから金属スタンパーを剥離し、この金属スタンパーの凹凸パターンを例えば樹脂材料に転写することにより、デイスク基材が形成される。

一方、特開 2 0 0 0— 4 0 2 6 7号公報には、ガラス基板 ( 1 ) の表面に成膜した下層膜（2 ) をドライエッチングすることにより凹凸パターンが形成された原盤の製造方法、およびこの原盤を用いて光ディスクスタンパー（6 ) を製造する製造方法が開示されている。この製造方法では、まず、ガラス基板の表面に C rをスパッタリングすることによって下層膜を成膜する。次に、下層膜の上にフオトレジストをスピンコートして薄膜（3 ) を形成し、その薄膜に露光用ビームを照射して凹凸パターンを露光記録した後に現像する。次いで、下層膜上のフォトレジストをマスクとして用いてドライェヅチングすることにより、下層膜に凹部を形成する。続いて、下層膜上に残留しているフォトレジストを除去する。これにより、凹凸パターンが形成された原盤（ガラス基板と下層膜の積層体からなる原盤）が製作される。次に、製作した原盤の表面に N iスパヅタゃ電铸によつて金属材料層を形成する。これにより、原盤の上に金属材料からなる光ディスクスタンパーが形成される。この後、原盤から光ディスクス夕ンパーを剥離し、この光ディスクスタンパーの凹凸パターンを例えば樹脂材料に転写することにより、ディスク基材が形成される。発明の開示

発明者は、上述の従来の情報媒体用原盤の製造方法を検討した結果、以下のような問題点を発見した。すなわち、特開平 1 0— 2 4 1 2 1 3号公報に記載の製造方法では、ドライエッチングによってガラス原盤（合成石英原盤）に凹部を形成することにより凹凸パターンを形成している。この場合、合成石英原盤は、そのエッチングレート（所定パワーのエッチング用ビームを使用した際に、所定時間当りにエッチング可能な厚み）が一般に低いことが知られている。このため、所望する深さの凹部を形成するためにドライエッチングに要する時間が比較的長いため、ガラスマスタ一（情報媒体用原盤）の製造コスト低減が困難であるという問題点が存在する。また、フォトレジストは、一般的に、合成石英原盤と比較してそのエッチングレートが高いため、合成石英原盤を所望する深さまでエッチングする以前に消失する。このため、フォトレジストをある程度以上の厚みに形成する必要が生じる。この場合、フォトレジストを十分な厚みに形成したときには、フォトレジスト材が大量に消費されるため、ガラスマスターの製造コスト低減が困難となる。

一方、特開 2 0 0 0— 4 0 2 6 7号公報に記載の製造方法では、ガラス基板の表面に C rをスパッ夕リングした下層膜をドライエッチングして凹部を形成することにより凹凸パターンを形成している。この製造方法では、合成石英原盤よりも柔らかい C rをエッチングするため、上記した合成石英原盤に凹部を形成する製造方法と比較して短時間で凹部を形成することが可能となっている。しかし、 C rをスパッタリングするためには、高価な大型真空成膜装置が必要となるため、これに起因して情報媒体用原盤の製造コストを低減するのが困難であるという問題点が存在する。また、 C rからなる下層膜をドライエッチングするためには、塩素系のエッチングガスを使用する必要がある。この場合、塩素系エッチングガスは有毒性ガスであるため、その取り扱いに厳重な注意を払う必要がある。このため、エッチングガスの取り扱いに起因してェヅチング処理が煩雑となっているという問題点がある。さらに、塩素系エッチングガスを用いることにより、 c rからなる下層膜を容易にエッチングできるものの、マスクとしてのフォトレジストが比較的短時間でエッチングされてしまう。このため、所望する深さの凹部を下層膜に形成するのに要する時間だけマスクとしてのフォトレジストを残留可能な厚みに塗布する必要が生じる。この場合、同公報には、現像後のフォトレジストの強度を高めるために再べ一キング処理する旨が開示されている。この再べ一キング処理によってフォトレジストのエッチングレートを小さくすることが可能か否かについては、具体的に記載されていないため不明ではある。しかし、仮に、上記したフォトレジストが比較的短時間でエツチングされる不都合点を再べ一キング処理によって解決できたとしても、再べ一キング処理の分だけ不要な作業工程が増える結果、情報媒体用原盤の製造コストを低減するのが困難という問題点がある。

さらに、上記両公報に開示された製造方法では、フォトレジストに潜像を露光記録する際に、フォトレジストとガラス原盤（または下層膜）との界面で露光用ビームが反射され、この反射光に起因してフォトレジストが多重に露光されて潜像が崩れることがある。かかる場合には、凹部（潜像）が浅く形成されたり、その溝形状が丸みを帯びたりするため、その後のドライエッチングに際してシャ一プな凹凸パターンを形成するのが困難となるという問題点がある。また、この原盤を用いて形成した情報媒体用スタンパーの凹凸パターンも丸みを帯びてしまうため、正確なトラッキングを可能とするディスク基材の製造が困難となるという問題点もある。

本発明は、上述のような問題点を解決すベくなされたものであり、製造コストの高騰を招くことなくシャープな凹凸パターンが形成された情報媒体用原盤および情報媒体用スタンパーを製造し得る情報媒体用原盤の製造方法および製造装置と、情報媒体用スタンパーの製造方法および製造装置とを提供することを主目的とする。

この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法は、被エッチング体の上にフォトレジスト層を形成し、当該フォトレジスト層に露光用ビームを照射して潜像を形成した後に現像して当該フォトレジスト層から前記被エッチング体の一部を露出させ、前記フォトレジスト層をマスクとして用いて前記被ェヅチング体をドライエッチングして当該被ェヅチング体に凹部を形成し、当該被ェヅチング体の上に残留している前記フォトレジスト層を除去することによって凹凸パターンが形成された情報媒体用原盤を製造する情報媒体用原盤の製造方法であって、前記被エツチング体として、そのエッチングレートに対する前記フォトレジスト層のエッチングレートの選択比が 0 . 5以上となる樹脂材料で形成された被ェッチング体を使用する。なお、本発明における「被エッチング体のェヅチングレートに対するフォトレジスト層のェヅチングレートの選択比」とは、被エッチング体のェヅチングレートをフォトレジスト層のェヅチングレートで除した値をいう。

また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置は、被エッチング体の上にフォトレジスト層を形成するレジスト層形成装置と、前記フォトレジスト層に露光用ビームを照射して潜像を形成する露光装置と、前記潜像が形成された前記フォトレジスト層を現像して前記被エッチング体の一部を露出させる現像装置と、前記現像された前記フォトレジスト層をマスクとして用いて前記被エッチング体をドライエッチングして当該被ェヅチング体に凹部を形成するェヅチング装置と、前記被エッチング体の上に残留している前記フォトレジスト層を除去するレジスト除去装置とを備え、凹凸パターンが形成された情報媒体用原盤を製造する情報媒体用原盤の製造装置であって、前記レジスト層形成装置は、前記被エッチング体として、そのエッチングレートに対する前記フォトレジスト層のエッチングレ —トの選択比が 0 . 5以上となる樹脂材料で形成された被ェッチング体を使用するように構成されている。この情報媒体用原盤の製造方法および製造装置では、被ェッチング体のェッチングレートに対するフォトレジスト層のエッチングレートの選択比が 0 . 5以上となる樹脂材料で被ェッチング体を形成したことにより、所望する深さの凹部を形成し終えた時点でも、マスクとしてのフォトレジスト層を残留させることができる。このため、凹部の形成が完了する以前にフォトレジスト層が消失することに起因して凹部の溝形状が丸みを帯びたり、その深さが浅くなつたりする不都合を有効に回避することができる。したがって、この情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパ一を製造することで、正確なトラッキングを可能とするディスク基材を製造し得る情報媒体用スタンパ一を形成することができる。また、 C rをスパッ夕リングして形成された被エッチング体を用いる従来の製造方法と比較して、樹脂材料によって容易に形成できる被エッチング体を使用するため、情報媒体用原盤の製造コストを十分に低減することができる。

この場合、この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法では、前記被エッチング体として、前記選択比が 1 . 0以上 3 . 0以下となる樹脂材料で形成された被ェツチング体を使用するのが好ましい。また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置では、前記レジスト層形成装置が、前記被エッチング体として、前記選択比が 1 . 0以上 3 . 0以下となる樹脂材料で形成された被エッチング体を使用するのが好ましい。これにより、所望する深さの凹部を形成し終えた時点でも、より確実にマスクとしてのフォトレジスト層を残留させることができるため、凹部の形成が完了する以前にマスクとしてのフォトレジスト層が消失することに起因して凹部の溝形状が丸みを帯びたり、その深さが浅くなつたりする不都合を、より有効に回避することができる。

また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法では、前記被エッチング体として、前記露光用ビームを吸収するビーム吸収素材または当該露光用ビームの反射を防止するビーム反射防止素材を含む樹脂材料で形成された被エッチング体を使用するのが好ましい。また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置では、前記レジスト層形成装置が、前記被エッチング体として、前記露光用ビームを吸収するビーム吸収素材または当該露光用ビームの反射を防止するビーム反射防止素材を含む樹脂材料で形成された被エッチング体を使用するのが好ましい。これにより、フォトレジスト層の多重露光を有効に防止できる結果、狭いピッチで、シャ一プな潜像（凹部）を形成することができる。したがって、この情報媒体用原盤を用いて製造したスタンパーを基にしてディスク基材を製造することで、記録データの記録密度を十分に向上させることができる。

さらに、この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法では、前記樹脂材料として、メラミン樹脂と、前記ビーム吸収素材としての 4， 4，一ビス（ジェチルアミノ）ベンゾフエノンとを含む混合物を用いるのが好ましい。また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置では、前記レジスト層形成装置が、前記被エツチング体として、メラミン樹脂と、前記ビーム吸収素材としての 4 , 4，一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノンとを含む混合物で形成された被ェッチング体を使用するのが好ましい。これにより、フォトレジスト層の露光時にフォトレジスト層を透過した（潜像を形成した）レーザ一ビームの大部分が光吸収層によって吸収され、かつ吸収されずに通過したレ一ザ一ビームが反射して戻ってきた場合であっても、フォトレジスト層に到達することなく光吸収層によって吸収される。このため、フォトレジスト層の多重露光を有効に防止できる結果、狭いピヅチでシャープな潜像（凹部）をフォトレジスト層に形成することができる。したがつて、このフォトレジスト層をマスクとして用いてドライエッチングすることで、原盤の凹部をシャープに形成することができる。

また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法では、前記被エッチング体を基材の上に層状に形成し、当該被エッチング体に前記凹部を形成するのが好ましレ、。この場合、前記基材の上に前記樹脂材料をスピンコートして前記被エツチング体を形成するのが好ましい。また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置では、基材の上に前記被ェッチング体を前記樹脂材料で層状に形成する被ェッチング体形成装置を備えて構成するのが好ましい。この場合、前記被エッチング体形成装置は、前記基材の上に前記樹脂材料をスピンコートして前記被エッチング体を形成するのが好ましい。これにより、所望する厚みの被エッチング体（光吸収層）を比較的容易に形成することができる。また、例えば C rからなる下層膜を被エッチング層とする従来の製造方法とは異なり、高価な大型真空成膜装置などを不要とすることができる結果、原盤（情報媒体用原盤）の製造コストを十分に低減することができる。また、 C rを使用する場合とは異なり、塩素系エッチングガスを使用する必要がないことから、安全かつ容易に原盤を製造することができる。

また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造方法では、前記被エッチング体よりも前記エッチングレートの低い材料で形成された前記基材を使用し、前記形成する凹部の深さとなるべき厚みで前記被ェッチング体を形成し、前記ドライエツチング時に前記被ェッチング体から前記基材の一部を露出させて前記凹部を形成することにより前記凹凸パターンを形成するのが好ましい。また、この発明に係る情報媒体用原盤の製造装置では、前記被エッチング体形成装置が、前記基材として、前記被エッチング体よりも前記エッチングレートの低い材料で形成された基材を使用すると共に、前記形成する凹部の深さとなるべき厚みで前記被エッチング体を形成し、前記エッチング装置が、前記ドライエッチング時に前記被エツチング体から前記基材の一部を露出させて前記凹部を形成することにより前記凹凸パターンを形成するのが好ましい。これにより、光吸収層よりもエッチングレ —トの低い材料（石英ガラス）で基材を形成すると共に、形成する凹部の深さとなるべき厚みで光吸収層を形成し、かつ、ドライエッチング時に光吸収層から基材の一部を露出させて凹部を形成することにより、エッチング時には、光吸収層から基材の表面が露出するまでエッチングするだけで、所望する深さの凹部を容易に形成することができる。この場合、エッチング処理の時間が僅かに長過ぎたとしても、低エッチングレートの基材がそれ程ェヅチングされないため、凹部が深さよりも過度に深く形成されるのを回避することができる結果、エッチング処理における時間管理が極めて容易となる。

この発明に係る情報媒体用スタンパーの製造方法は、上記の情報媒体用原盤の製造方法に従って製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報録媒体用スタンパーの製造方法であって、前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ一形成材を形成し、当該スタンパー形成材から当該情報媒体用原盤としての前記被ェッチング体を除去する。

また、情報媒体用スタンパーの製造装置は、上記の情報媒体用原盤の製造装置によって製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報録媒体用スタンパーの製造装置であって、前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンノ、'一形成材を形成するスタンパ一形成材形成装置と、前記スタンパ一形成材から当該情報媒体用原盤としての前記被ェッチング体を除去する除去装置とを備えて構成されている。

また、本発明に係る情報媒体用スタンパーの製造方法は、上記の情報媒体用原盤の製造方法に従って製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパ一を製造する情報媒体用スタンパーの製造方法であって、前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパー形成材を形成し、当該情報媒体用原盤から前記基材を剥離した後に当該ス夕ンパー形成材から前記被ェッチング体を除去する。

また、本発明に係る情報媒体用スタンパーの製造装置は、上記の情報媒体用原盤の製造装置によって製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用ス夕ンパ —を製造する情報媒体用スタンパーの製造装置であって、前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ一形成材を形成するスタンパ一形成材形成装置と、前記基材が剥離された前記情報媒体用原盤と前記スタンパー形成材との積層体から前記被ェッチング体を除去する除去装置とを備えて構成されている。これらの情報媒体用スタンパーの製造方法および製造装置では、情報媒体用原盤の凹凸パターンをスタンパー形成材に転写して情報媒体用スタンパーを製造することにより、情報媒体用原盤の凹凸パターンが非常にシャープに形成されているため、この情報媒体用スタンパーに転写された凹凸パターンも非常にシャープな形状に形成することができる。したがって、この情報媒体用スタンパーを用いて情報媒体用のディスク基材を製造することで、正確なトラッキングを可能とするディスク基材を形成することができる。

また、この発明に係る情報媒体用スタンパ一の製造方法では、 0 ₂ プラズマァヅシングを行うことにより前記被エッチング体を除去するのが好ましい。これにより、情報媒体用スタンパーに貼り付いた樹脂材料を確実かつ容易に除去することができる。

さらに、前記スタンパー形成材としての金属材料を前記情報媒体用原盤に析出させて当該情報媒体用スタンパ一を製造するのが好ましい。これにより、スタンパ一形成材として樹脂などを使用する製造方法と比較して、原盤の凹凸パターンを正確に転写することができる。

また、本発明に係る情報媒体用スタンパーの製造方法は、上記の情報媒体用スタンパ一の製造方法に従って製造した当該情報媒体用スタンパーをマスタース夕ンパーとして用いて当該マスタースタンパーの前記凹凸パターンを転写することによって情報媒体に前記凹凸パターンを転写するための第 1のスタンパーを製造する。これにより、情報媒体用のディスク基材を量産する際に、使用した情報媒体用スタンパーを順次新たな情報媒体用スタンパーに交換することができるため、案内溝の溝形状がよりシャープなディスク基材を量産することができる。なお、本開示は、 2 0 0 1年 1 1月 3 0日に出願された日本特許出願である特願 2 0 0 1—3 6 5 6 1 2に含まれた主題に関連し、これらの開示の全てはここに参照事項として明白に組み込まれる。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の実施の形態に係る原盤 1の断面図である。

図 2は、原盤 1の製造工程において基材 1 1の上に光吸収層 1 2を形成した状態の断面図である。

図 3は、原盤 1の製造工程において光吸収層 1 2の上に形成したフォトレジスト層 1 3に露光用のレーザ一ビーム Lを照射している状態の断面図である。図 4は、原盤 1の製造工程においてフォトレジスト層 1 3の現像が完了した状態の断面図である。

図 5は、原盤 1の製造工程において光吸収層 1 2に対するエッチングが完了した状態の断面図である。

図 6は、本発明の実施の形態に係るスタンパ一2 0の断面図である。

図 7は、スタンパー 2 0の製造工程において原盤 1の上に無電解ニッケル層 2 1を形成した状態の断面図である。

図 8は、スタンパー 2 0の製造工程において無電解ニッケル層 2 1の上に電解ニッケル層 2 2を形成した状態の断面図である。

図 9は、スタンパー 2 0の製造工程において基材 1 1を剥離した状態の断面図である。

図 1 0は、ディスク基材 3 0の製造工程において、スタンパー 2 0の凹凸パ夕 ―ンを樹脂 R 2に転写した状態の断面図である。

図 1 1は、スタンパー 2 0を用いて製造したディスク基材 3 0の断面図である図 1 2は、スタンパー 2 0の凹凸パターンを金属材料に転写してマザ一盤 4 0 を製作する際の断面図である。

図 1 3は、ディスク基材 5 0の製造工程においてマザ一盤 4 0の凹凸パターンを樹脂 R 2に転写した状態の断面図である。

図 1 4は、本発明の他の実施の形態に係る原盤 1 Aの断面図である。図 1 5は、原盤 1 Aの製造工程において光吸収層 1 2の上に形成したフオトレジスト層 1 3に露光用のレ一ザ一ビーム Lを照射している状態の断面図である。図 1 6は、原盤 1 Aの製造工程においてフォトレジスト層 1 3の現像が完了した状態の断面図である。

図 1 7は、原盤製造装置 1 0 0およびスタンパー製造装置 2 0 0の構成図である。発明を実施するための最良の形態

以下、添付図面を参照して、本発明に係る情報媒体用原盤および情報媒体用スタンパの各製造方法、並びに各製造装置の好適な実施の形態について説明する最初に、本発明における情報媒体用原盤としての光記録媒体用原盤に相当する原盤 1について、図面を参照して説明する。

図 1に示す原盤 1は、スタンパ一2 0 (図 6参照）などを製造するための型として使用され、基材 1 1に光吸収層 1 2を積層して全体として平板状に構成されている。また、原盤 1の表面には本発明における凹凸パターンを構成する凹部 2 ， 2 · 'が螺旋状に形成されている。この場合、凹部 2 , 2 · ·は、その形成ピヅチがディスク基材 3 0 (またはマザ一盤 4 0 ) における案内溝 3 0 a (または案内溝形成用の凹部）のピッチに対応させられ、その深さ Dが案内溝 3 0 aなどの深さに対応させられている。

基材 1 1は、後述するように樹脂 R 1 (光吸収層 1 2となる樹脂。図 2参照）が塗布される支持体であって、一例として、そのエッチングレートが 6 0 n m/ 分程度の石英ガラスで平板状に形成されている。なお、このエッチングレ一 1、は本発明において好ましく用いられる以下のエッチング条件における値で示したものであり、以降のェヅチングレートの値も同様である。

(エッチング条件）エッチングガス： CF₄、 C₂ F₆、 C₃ F₈、 CHF₃

添加ガス：〇₂、 Ar、 H₂

ガス圧： 1. 0 P a

エッチングパワー： 500W

ガス流量： 100 c c/mi n

なお、原盤 1の製造に使用する基材 11は、ガラス基材に限定されるものではなく、金属基材、半金属基材およびセラミック基材などの各種基材を使用することができる。この場合、後述するように本発明によって奏される顕著な効果を得るためには、基材 11のェヅチングレートが光吸収層 12のエッチングレートよりも小さいレ一ト (一例として、 60 nm/分以下のエッチングレート。より好ましくは 30 nmZ分以下のエッチングレート）であるのが好ましい。光吸収層 12は、本発明における被エッチング体としての被エッチング層に相当し、一例として、硬化後のェヅチングレートが 300 nm/分程度の樹脂材料を用いて、その厚み T (図 2参照）が 15 Onm程度となるように層状に形成されている。なお、光吸収層 12のエッチングレートは上記した値に限定されるものではないが、前述した基材 11のェヅチングレートや、後述する製造工程において形成されるフォトレジスト層 13 (図 3参照）のェヅチングレートに応じて適宜変更することができる。具体的には、この光吸収層 12のエッチングレートに対するフォトレジスト層 13のエッチングレートの選択比が 0. 5以上であるのが好ましく、さらには、選択比が 1. 0以上であるのが好ましい。この場合、選択比が 1 . 5以上 3. 0以下の範囲内で大きいほど、後述するように本発明によって奏される顕著な効果を十分に得ることができる。なお、エッチングレートが過度に高い素材で光吸収層 12を形成した場合には、この光吸収層 12が短時間でエッチングされるため、エッチング処理の時間管理が困難となる結果、所望する深さの凹部 2, 2 · · を形成するのが困難になる傾向がある。逆に、ェヅチングレートが低い素材で光吸収層 12を形成した場合には、多少、エッチング時間に誤差が生じたとしても、この時間の誤差によってエッチングされる量が少ないために、エッチング処理の時間管理が容易になる。この結果、選択比が 3 . 0より大きくても、所望する深さの凹部 2 , 2 · ，を形成することができる。

さらに、光吸収層 1 2の厚みは特に限定されるものではないが、フォトレジスト層 1 3の露光時に露光用のレーザ一ビーム Lを十分に吸収することができる程度の厚みに形成する。具体的には、光吸収層 1 2は、レーザ一ビーム Lに対する吸収係数 kが 0 . 0 1以上、好ましくは 0 . 1以上の材料を使用して、露光用のレーザ一ビーム Lを十分に吸収できる厚みに形成するのが好ましい。この場合、光吸収層 1 2の厚みが十分でないときには、レーザービーム Lを十分に吸収することができずにフォトレジスト層 1 3が多重露光されて潜像が崩れる傾向がある。一方、 3 0 0 n mを超える厚みに形成したときであっても、レーザ一ビーム L に対する光吸収性が顕著に向上される訳ではなく、光吸収層 1 2を形成するための材料を不要に消費する。また、 3 0 0 n mを超える厚みに形成した場合には、レーザ一ビーム Lの照射時に光吸収層 1 2が過剰に蓄熱し、これに起因してフォトレジスト層 1 3が熱分解する結果、安定した露光が困難となる傾向がある。したがって、光吸収層 1 2の厚みは、 1 n m以上 3 0 0 n m以下に規定するのが好ましく、より好ましくは 1 O n m以上 2 0 0 n m以下の厚みに形成するのがよい。この場合、上記した光吸収層 1 2の蓄熱に起因するフォトレジスト層 1 3の熱分解の度合いは、照射するレーザービーム Lの照射パワーに応じて変化する。このため、比較的小パワーのレーザービーム Lを使用して露光するときには、光吸収層 1 2の厚みを 3 0 O n mを超えて 5 0 0 n m以下とすることもできる。

また、凹部 2 , 2 . ·の形成工程（エッチング処理）を容易とするためには、前述したように光吸収層 1 2のエッチングレートが基材 1 1のェヅチングレートよりも大きいことを条件として、その厚み Tが後に形成する凹部 2の深さ Dと等しくなるように形成するのが好ましい。これにより、後述するように、基材 1 1 の表面が露出するまでドライエッチングを行うだけで、所望の深さ D (すなわち、光吸収層 1 2の厚み T ) の凹部 2 , 2 · 'を形成することができる。この光吸収層 1 2は、露光時に照射されるレーザ一ビーム Lの波長に対して光吸収性をもつ有機化合物（本発明におけるビーム吸収素材に相当する。以下、光吸収剤ともいう）を含有し、例えば、光開始助剤、染料、または、光開始助剤と染料との混合物などが用いられている。この場合、光開始助剤は、紫外線等の光を吸収する有機化合物で構成される。本発明の実施の形態では、光吸収剤の一例として、 4 , 4 ' 一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノン（以下、「ベンゾフエノン系化合物」ともいう）を採用し、このペンゾフエノン系化合物と、メラミンおよびホルマリンなどを合成したメラミン樹脂（熱硬化型樹脂）との混合物を本発明における樹脂材料として使用する。

次に、本発明に係る情報媒体用原盤の製造装置（以下、「原盤製造装置」ともいう） 1 0 0について、図 1 7を参照して説明する。

この原盤製造装置 1 0 0は、光吸収層形成装置 1 0 1、レジスト層形成装置 1 0 2、露光装置 1 0 3、現像装置 1 0 4、エッチング装置 1 0 5およびレジスト除去装置 1 0 6を備え、基材 1 1を使用して原盤 1を製造可能に構成されている原盤 1の作製に際しては、まず、メラミン樹脂にベンゾフヱノン系化合物を溶融して、光吸収層 1 2を形成するための塗布液（以下、「樹脂 R l」ともいう）を作製する。また、作製した樹脂 R 1を、光吸収層形成装置 1 0 1内に貯留する。この際に、メラミン樹脂に代えて紫外線硬化型樹脂を用いることもできる。また、後に形成されるフォトレジスト層 1 3との接着性を向上させるために、接着助剤、吸光剤、界面活性剤などの各種添加物を添加して塗布液を作製してもよい。さらに、ベンゾフヱノン系化合物とメラミン樹脂との合成物に代えて、各種の光吸収材を熱硬化型樹脂や光硬化型樹脂などに混合した合成物を用いることもできる。

原盤製造装置 1 0 0では、まず、光吸収層形成装置 1 0 1が、表面を平坦に研磨した基材 1 1の上にカヅプリング剤層（図示せず）を形成した後、図 2に示すように、基材 1 1の上に樹脂 R 1をスピンコート法によって層状に塗布する。次いで、光吸収層形成装置 101は、この状態の基材 11に対して、 150°C〜2 50°C、一例として 200°C程度の加熱処理を施すことによって樹脂 R 1を硬ィ匕させる。なお、塗布液の作製時に紫外線硬化樹脂を用いた場合には、塗布液を塗布した後に硬化用の紫外線を照射することによって塗膜を硬化させる。これにより、基材 1 1の上に光吸収層 12が形成される。

次に、レジスト層形成装置 102が、光吸収層 12の上にフォトレジストを厚みが 30 n m程度となるようにスピンコートした後に、乾燥させて残留溶剤を蒸発させる。これにより、図 3に示すように、光吸収層 12の上にフォトレジスト層 13が形成される。このフォトレジスト層 13は、後に光吸収層 12をドライエッチングする際にマスクとして機能する層であって、乾燥後のェヅチングレ一卜が 20 Onm/分程度の感光性材料を用いる。したがって、前述した樹脂 R 1 のエッチングレート (この場合、 300 nm/分程度) に対するフォトレジスト層 13のエッチングレートの選択比が 1. 5となる。なお、本発明の実施の形態では、感光性材料の一例として、フォトレジス卜 (日本ゼオン (株) 製の DVR100 ) を使用する。

次に、露光装置 103 (いわゆるカヅティングマシン）が、凹部 2, 2 · 'を形成すべき部位（ディスク基材 30の案内溝 30 aが形成されるべき部位）に、例えば開口数（NA) 0. 90のレンズを介して、波長（え） 351 nmのパ夕一二ング用のレーザ一ビーム L (露光用ビーム。一例として、ピーク強度（1/ Θ ² ) の状態でスライスした際のスポット径が 0. 32〃mのレーザ一ビーム）を照射する。これにより、フォトレジスト層 13に例えば形成ピッチが 0. 30 /m程度で、幅 0. 15 /m程度の螺旋状の潜像が形成される。この場合、基材 1 1とフォトレジスト層 13との間に光吸収層 12が形成されているため、露光装置 1◦ 3から出射されてフォトレジスト層 13を透過した（潜像を形成した）レ一ザ一ビーム Lの大部分は、基材 11に到達することなく、光吸収層 12によつて吸収される。一方、光吸収層 12によって吸収し切れずに、基材 11に到達して反射された微量のレーザ一ビーム Lは、フォトレジスト層 13に到達することなく、光吸収層 12によって吸収される。したがって、基材 11による反射が阻止されてフォトレジスト層 13の多重露光が防止されるため、狭い（細い）ピヅチでシャープな潜像が形成される。次いで、現像装置 104がこの状態のフォトレジスト層 13を現像することにより、図 4に示すように、レーザ一ビーム L の照射部位が除去されて凹部 3, 3 · 'が形成される。この場合、光吸収層 12 が非感光性材料であって、かつ現像液に溶融しないため、光吸収層 12の表面が凹部 3の底面 3 aとなる。また、レーザ一ビーム Lの照射時に形成される潜像が非常にシャープであるため、現像によって形成された凹部 3, 3 · 'も必然的にシャープに形成される。

続いて、エッチング装置 105が、凹部 3， 3 · ·が形成されたフォトレジスト層 13をマスクとして用いて、 CF₄、 C₂ F₆、 C₃ F₈、 CHF₃ 、若しくはこれらの混合ガス、またはこれらに添加ガス（0₂、 Ar、 Η₂) を添加したガスをエッチングガスとして使用したリアクディブイオンエッチングを行うことにより、図 5に示すように、光吸収層 12に凹部 2, 2 · ·を形成する。この際に、前述したように、フォトレジスト層 13に形成された凹部 3, 3 · 'が非常にシャープであるため、この凹部 3, 3 · ·が形成されたフォトレジスト層 1 3をマスクとして用いることで、非常にシャープな凹部 2, 2 · 'を形成することができる。また、光吸収層 12の厚み Τを凹部 2の深さ Dに対応させて規定すると共に、基材 11として、光吸収層 12のエッチングレートよりも遙かに小さいエッチングレート（この場合、 60nm/分程度）の石英ガラス平板を用いたことにより、エッチング時には、光吸収層 12から基材 11の表面が露出するまで（すなわち、凹部 2の底面 2 aが基材 11の表面となるまで）ェヅチングすることにより、所望する深さ Dの凹部 2, 2 · 'を形成することができる。この場合、エッチング処理の時間が僅かに長過ぎたとしても、低ェヅチングレートの基材 1 1がそれ程エッチングされないため、凹部 2が深さ Dよりも過度に深く形成されるのが回避される。したがって、エッチング処理の時間管理が非常に容易となる。

また、従来のガラス原盤（合成石英原盤）に凹部を形成する光記録媒体用原盤の製造方法とは異なり、エッチングレートが比較的大きい樹脂材料（光吸収層 1 2 ) を被ェツチング体としてドライエツチングを行うことにより、所望する深さ Dの凹部 2 , 2 · 'を短時間で形成することができる。この場合、マスクとして使用したフォトレジスト層 1 3のエッチングレートが光吸収層 1 2のエッチングレートよりも小さいため、図 5に示すように、所望する深さ Dの凹部 2， 2 · · を形成し終えた時点でも、マスクとしてのフォトレジスト層 1 3が光吸収層 1 2 の上に残留する。このため、凹部 2 , 2 · 'の形成が完了する以前にマスクとしてのフォトレジスト層 1 3が消失することに起因して凹部 2 , 2 ' 'の溝形状が丸みを帯びたり、その深さ Dが浅くなつたりする不都合を有効に回避することができる。次に、レジスト除去装置 1 0 6が、エッチングが完了した基材 1 1、光吸収層 1 2およびフォトレジスト層 1 3の積層体をレジスト剥離液に浸すことにより、光吸収層 1 2の上に残留しているフォトレジスト層 1 3を除去する。これにより、図 1に示すように、原盤 1が作製される。

次に、本発明における光記録媒体用スタンパーに相当するスタンパー 2 0の製造方法について、図面を参照して説明する。

図 6に示すスタンパー 2 0は、光記録媒体用のディスク基材 3 0 (図 1 1参照 ) の射出成形時やマザ一盤 4 0 (図 1 2参照）を製造するための型であって、上記した製造方法に従って製造した原盤 1を用いて製造される。このスタンパ一 2 0は、無電解ニッケル層 2 1 (導電層）に電解ニッケル層 2 2が積層されて構成され、全体として平板状に形成されている。また、スタンパー 2 0の下面には、

'基材 3 0の上面に凹凸パターンを形成するための凸部 2 0 aが螺旋状に形成されている。この場合、隣り合う凸部 2 0 a， 2 0 aのピッチ（凸部 2 0 a の形成ピッチ）は、ディスク基材 3 0における案内溝 3 0 aの形成ピヅチに応じて例えば 0 . 3 2〃mに規定されている。

次に、本発明における情報媒体用スタンパーの製造装置（以下、「スタンパー製造装置」ともいう） 2 0 0について、図 1 7を参照して説明する。

このスタンパー製造装置 2 0 0は、導電層付与装置 2 0 1、スタンパー形成材形成装置 2 0 2および除去装置 2 0 3を備え、原盤 1を使用してスタンパ一2 0 を製造可能に構成されている。

このスタンパー 2 0を製造する際には、導電層付与装置 2 0 1が、まず、例えば無電解めつき（析出）により、図 7に示すように、原盤 1の凹凸パターンに沿つて金属材料であるニッケルからなる無電解ニッケル層 2 1 (導電層）を形成する。これにより、原盤 1の表面（基材 1 1の表面および光吸収層 1 2の表面）が導電性を有することになる。この場合、原盤 1の表面に導電性を付与するための層（導電層）を形成するための素材はニッケルに限定されるものではなく、各種金属材料を用いることができる。また、導電層の形成方法も無電解めつき法に限定されるものではなく、蒸着法ゃスパッタ法などの各種成膜方法によって各種金属材料層（例えば、二ヅケル層）を形成してもよい。次に、スタンパ一形成材形成装置 2 0 2が、無電解ニッケル層 2 1を電極として使用して電解めつき処理を施すことにより（析出により）、図 8に示すように、無電解ニッケル層 2 1の上に電解ニッケル層 2 2を形成（積層）する。この場合、スタンパ一形成材形成装置 2 0 2によって形成された電解ニッケル層 2 2は、本発明におけるスタンパ一形成材であり、無電解ニッケル層 2 1と電解ニッケル層 2 2の積層体（以下、「スタンパー側積層体」ともいう）が後にスタンパー 2 0を構成する。

次に、スタンパー側積層体が積層された原盤 1から図 9に示すように基材 1 1 を人手によって、または専用の剥離装置（図示せず）によって剥離した後、除去装置 2 0 3が、基材 1 1が剥離された原盤 1とスタンパ一側積層体との積層体から、光吸収層 1 2を除去する。具体的には、除去装置 2 0 3が、基材 1 1を剥離した面に対して 0 ₂ プラズマアツシングを行うことにより、スタンパ一側積層体に貼り付いている光吸収層 1 2を除去する。これにより、図 6に示すように、原盤 1の凹部 2， 2 . 'が金属材料（無電解ニッケル層 2 1および電解ニッケル層 2 2 ) に転写されて凸部 2 0 a , 2 0 a - 'が形成される結果、スタンパー 2 0 が作製される。この場合、このスタンパー 2 0は、前述した原盤 1を基にして、その凹凸パターンを金属材料に転写することで凹凸パターンが形成される。したがって、基となる原盤 1の凹凸パターンが前述したようにシャープに形成されていることで、このスタンパ一 2 0に転写された凹凸パターンも非常にシャープな形状に形成される。このため、後述するように、このスタンパー 2 0を用いて光記録媒体用のディスク基材を製造することで、正確なトラッキングを可能とするディスク基材を形成することが可能となる。

次いで、スタンパ一2 0を用いて光記録媒体用のディスク基材を製造する製造方法について、図面を参照して説明する。

スタンパー 2 0を用いて光記録媒体を製造する際には、一例として、図 1 0に示すように、スタンパ一2 0をセットした金型内に樹脂 R 2を注入することにより、ディスク基材 3 0を射出成形する。これにより、図 1 1に示すように、スタンパ一 2 0の凸部 2 0 a , 2 0 a . ·が樹脂 R 2に転写されることによって案内溝 3 0 a , 3 0 a - ■が形成されて、ディスク基材 3 0が作製される。また、デイスク基材 3 0を量産する際には、一例として、図 1 7に示すように、スタンパ一製造装置 2 0 0に転写装置 2 0 4を追加して、転写装置 2 0 4によって複数のチャイルドスタンパー（本発明における第 1のスタンパーの一例） A , Α · ·を作製可能に構成するのが好ましい。この場合、転写装置 2 0 4は、図 1 2に示すように、まず、スタンパー 2 0をマスタースタンパ一として使用し、その凹凸パターンを例えば金属材料に転写してマザ一盤 4 0を作製する。次に、転写装置 2 0 4は、このマザ一盤 4 0の凹凸パターンを転写して複数のチャイルドスタンパ一 A , A - · を作製する。ディスク基材 3 0を製造する際には、このチャイルドスタンパー A， A - ·が使用される。これにより、チャイルドスタンパ一 Aが摩耗する以前に順次新たなチャイルドスタンパ一 Aに交換できるため、ディスク基材 3 0を量産することが可能となる。

この場合、用途によっては上記したマザ一盤 4 0をスタンパー（本発明における第 1のスタンパーの他の一例）として使用することもできる。この際には、図 1 3に示すように、マザ一盤 4 0をスタンパ一として使用し、このスタンパーをセットした金型内に樹脂 R 2を注入する。これにより、同図に示すように、ディスク基材 3 0に対して凹凸パターンが反転したディスク基材 5 0が射出成形される。このように、マザ一盤 4 0をスタンパ一として用いてディスク基材 5 0を製造する方法は、近年検討されている高密度光記録媒体用のディスク基材を製造する際に有効に適用することができる。この場合、この高密度光記録媒体では、再生用レーザ一ビームおよび記録用レーザ一ビームとして青色レーザ一を使用するため、記録再生時にピヅクァヅプを記録層に接近させる必要がある。したがって、レーザービームの入射方向を既存の光記録媒体とは逆向きにして、ディスク基材よりも薄い光透過層側からレーザ一ビームを入射させるため、通常のディスク基材に対して凹凸パターンを反転させたディスク基材を製造する必要がある。このため、スタンパー 2 0に対して凹凸パターンが反転しているマザ一盤 4 0をス夕ンパーとして使用することで高密度光記録媒体用のディスク基材を容易に製造することができる。

このように、本発明の実施の形態に係る原盤 1の製造方法および原盤製造装置 1 0 0によれば、光吸収層 1 2のェヅチングレート（3 0 0 n m/秒）に対するフォトレジスト層 1 3のエッチングレート（2 0 0 n m/秒）の選択比が 1 . 0 以上 3 . 0以下（この例では、 1 . 5 ) となる樹脂材料（樹脂 R 1 ) で光吸収層 1 2を形成したことにより、所望する深さ Dの凹部 2 , 2 - ·を形成し終えた時点でも、マスクとしてのフォトレジスト層 1 3を残留させることができるため、凹部 2 , 2 - 'の形成が完了する以前にマスクとしてのフォトレジスト層 1 3が消失することに起因して凹部 2 , 2 · 'の溝形状が丸みを帯びたり、その深さ D が浅くなつたりする不都合を有効に回避することができる。したがって、正確なトラッキングを可能とするディスク基材を製造し得るスタンパ一 2 0を形成することができる。この場合、合成石英原盤よりもエッチングレートが大きい樹脂材料（光吸収層 1 2 ) を被エッチング体としたことにより、短時間で所望する深さ Dの凹部 2 , 2 · ·を形成することができる結果、原盤 1の製造コストを十分に低減することができる。また、従来の製造方法における C rからなる下層膜をェ ' ツチングする方法とは異なり、塩素系エッチングガスを使用する必要がないことから、安全かつ容易に原盤 1を製造することができる。

また、この原盤 1の製造方法および原盤製造装置 1 0 0によれば、メラミン樹脂と、 4 , 4，一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフヱノンとを含む混合物を樹脂材料として光吸収層 1 2を形成したことにより、フォトレジスト層 1 3の露光時にフォトレジスト層 1 3を透過した（潜像を形成した）レーザ一ビーム Lの大部分が基材 1 1に到達することなく光吸収層 1 2によって吸収され、かつ吸収されずに基材 1 1に到達して反射された極く微量のレーザ一ビーム Lについてもフォトレジスト層 1 3に到達することなく光吸収層 1 2によって吸収されるため、フォトレジスト層 1 3の多重露光を有効に防止できる結果、狭いピッチでシャープな潜像（凹部 3 , 3 · ■ ) をフォトレジスト層 1 3に形成することができる。したがって、このフォトレジスト層 1 3をマスクとして用いてドライエッチングすることで、原盤 1の凹部 2 , 2 · 'をシャープに形成することができる。また、この原盤 1の凹凸パターンを転写したスタンパー 2 0を用いてディスク基材 3 0 を製造することで、良好なトラツキングエラー信号などを得られる案内溝をディスク基材 3 0に形成することができる。この場合、この製造方法および原盤製造装置 1 0 0では、レーザービーム Lのスポット径よりも狭いピッチで潜像を形成したとしても、光吸収層 1 2による吸収によって多重露光が回避されるため、比較的シャープな潜像が形成される。したがって、この原盤 1を基に製造したス夕ンパ一 2 0を用いてディスク基材 3 0を製造することで、記録データの記録密度を十分に向上させることができる。

さらに、この原盤 1の製造方法および原盤製造装置 1 0 0によれば、支持部材としての基材 1 1の上に樹脂 R 1 (樹脂材料）をスピンコートして光吸収層 1 2 を形成することにより、所望する厚みの被エッチング体（光吸収層 1 2 ) を比較的容易に形成することができる。また、例えば C rからなる下層膜を被エツチング体とする従来の製造方法とは異なり、高価な大型真空成膜装置などを不要とすることができる結果、原盤 1 (情報媒体用原盤）の製造コストを十分に低減することができる。また、この原盤 1の製造方法によれば、光吸収層 1 2よりもエツチングレートの低い材料（石英ガラス）で基材 1 1を形成すると共に、形成する凹部 2 , 2 · ·の深さ Dとなるべき厚み Tで光吸収層 1 2を形成し、かつ、ドライエヅチング時に光吸収層 1 2から基材 1 1の一部を露出させて凹部 2 , 2 - · を形成することにより、エッチング時には、光吸収層 1 2から基材 1 1の表面が露出するまでエッチングするだけで、所望する深さ Dの凹部 2， 2 · 'を容易に形成することができる。この場合、エッチング処理の時間が僅かに長過ぎたとしても、低ェヅチングレートの基材 1 1がそれ程ェヅチングされないため、凹部 2 が深さ Dよりも過度に深く形成されるのを回避することができる結果、エツチング処理における時間管理が極めて容易となる。

また、本発明の実施の形態に係るスタンパー 2 0の製造方法およびスタンパー製造装置 2 0 0によれば、原盤 1の凹凸パターンをスタンパー形成材（無電解二ヅケル層 2 1および電解ニッケル層 2 2 ) に転写してスタンパー 2 0を製造することにより、原盤 1の凹凸パターンを非常にシャープに形成することができるため、このスタンパー 2 0に転写された凹凸パターンも非常にシャープな形状に形成することができる。したがって、このスタンパー 2 0を用いて光記録媒体用のディスク基材を製造することで、正確なトラッキングを可能とするディスク基材を形成することができる。さらに、このスタンパ一2 0の製造方法によれば、 0 ₂ プラズマアツシングを行って光吸収層 1 2を除去することにより、スタンパー 2 0に貼り付いた光吸収層 1 2を確実かつ容易に除去することができる。

さらに、本発明の実施の形態に係るマザ一盤 4 0 (本発明における第 1のス夕ンパー）の製造方法およびスタンパ一製造装置 2 0 0によれば、凸部 2 0 a， 2 0 a · 'が狭いピヅチでシャープに形成されたスタンパー 2 0をマスタータンパ —として用いてその凹凸パターンを転写してマザ一盤 4 0を製造することにより、マザ一盤 4 0の各凹部（凸部 2 0 a， 2 0 a - 'によってマザ一盤 4 0に形成される凹部）をシャープに形成することができる。したがって、このマザ一盤 4 0を用いて複数のスタンパー（チャイルドスタンパ一）を製造することにより、新たなスタンパーに順次交換することができるため、案内溝の溝形状がシャープなディスク基材 3 0を量産することができる。また、このマザ一盤 4 0を用いてディスク基材 5 0を製造することにより、良好なトラッキングエラ一信号などを得られる案内溝をディスク基材 5 0に形成することができる。この結果、記録デ —夕の記録密度を十分に向上させることもできる。

なお、本発明は、上記した発明の実施の形態に限らず、適宜変更が可能である。例えば、本発明の実施の形態では、被エッチング体としての光吸収層 1 2の製造工程を含む原盤の製造方法や、光吸収層形成装置 1 0 1を含む原盤製造装置 1 0 0を例に挙げて説明したが、光吸収層 1 2が予め形成された基材 1 1を使用することにより、光吸収層 1 2の製造工程を省いて原盤を製造することもできるし、光吸収層形成装置 1 0 1を省いて原盤製造装置 1 0 0を構成することもできる

。また、本発明の実施の形態では、本発明における基材（支持体）としての石英ガラス板（基材 1 1 ) の上に光吸収層 1 2を形成した原盤 1を例に挙げて説明したが、本発明における光記録媒体用原盤の製造方法は、これに限定されず、例えば、図 1 4に示す原盤 1 Aのように、光吸収層 1 2 (樹脂材料）のみからなる被エツチング体に凹部を形成して光記録媒体用原盤を製造することもできる。この原盤 1 Aの製造に際しては、まず、例えば原盤 1の製造時に使用した樹脂 R 1 ( 本発明おける樹脂材料）によって平板状の光吸収層 1 2 (樹脂板）を形成し、図 1 5に示すように、この光吸収層 1 2の上にフォトレジスト層 1 3を形成する。次に、フォトレジスト層 1 3に対してレーザ一ビーム Lを照射した後に現像することにより、図 1 6に示すように、フォトレジスト層 1 3に凹部 3， 3 ■ ·を形成する。この後、このフォトレジスト層 1 3をマスクとして所定時間だけドラィエッチングを行った後にフォトレジスト層 1 3を除去することにより、図 1 4 に示すように、光吸収層 1 2に深さ Dの凹部 2 , 2 · 'を形成する。これにより、原盤 1 Aが完成する。この原盤 1 Aを用いてスタンパー 2 0を製造する際には、上記の発明の実施の形態において説明した 0₂ プラズマァヅシングによる光吸収層 1 2の除去に要する時間が若干長くなるものの、スタンパー 2 0の製造方法における基材 1 1の剥離工程を不要とすることができる。

また、本発明における凹凸パターン（原盤 1に形成した凹凸パターンやスタンパ一2 0などに転写した凹凸パターン）は、本発明の実施の形態に例示した螺旋状の凹凸パターンに限定されず、同心円状の凹凸パターンや、その他各種形状の凹凸パターンであってもよい。さらに、本発明は、案内溝を形成するためのス夕ンパーの製造、およびそのスタンパ一を製造するための原盤の製造に限定されず、例えば情報ピツトを形成するためのスタンパーおよび原盤を形成する場合にも有効に適用することができる。加えて、本発明における被エッチング層は、露光用ビーム（レーザ一ビーム L ) を吸収するビーム吸収素材を含む光吸収層 1 2に限定されず、露光用ビームの反射を防止するビーム反射防止素材で被エッチング層を形成することもできる。また、情報媒体として光記録媒体を例に挙げて説明したが、磁気ディスク（ディスクリート媒体等）に対しても本発明を適用できることは勿論である。産業上の利用可能性以上のように、この情報媒体用原盤の製造方法によれば、被エッチング体のェヅチングレートに対するフォトレジスト層のエッチングレートの選択比が 0 . 5 以上となる樹脂材料で被ェツチング体を形成したことにより、所望する深さの凹部を形成し終えた時点でも、マスクとしてのフォトレジスト層を残留させることができる。このため、凹部の形成が完了する以前にフォトレジスト層が消失することに起因して凹部の溝形状が丸みを帯びたり、その深さが浅くなつたりする不都合を有効に回避することができ、シャープな凹凸パターンが形成される情報媒体用原盤の製造方法が実現される。

Claims

言青求の範囲

1 . 被ェヅチング体の上にフォトレジスト層を形成し、当該フォトレジスト層に露光用ビームを照射して潜像を形成した後に現像して当該フォトレジスト層から前記被ェヅチング体の一部を露出させ、前記フォトレジスト層をマスクとして用いて前記被エッチング体をドライエッチングして当該被エッチング体に凹部を形成し、当該被エッチング体の上に残留している前記フォトレジスト層を除去することによって凹凸パターンが形成された情報媒体用原盤を製造する情報媒体用原盤の製造方法であって、

前記被ェヅチング体として、そのエッチングレートに対する前記フォトレジスト層のェヅチングレートの選択比が 0 . 5以上となる樹脂材料で形成された被ェツチング体を使用する情報媒体用原盤の製造方法。

2 . 前記被エッチング体として、前記選択比が 1 . 0以上 3 . 0以下となる樹脂材料で形成された被ェッチング体を使用する請求項 1記載の情報媒体用原盤の製造方法。

3 . 前記被エッチング体として、前記露光用ビームを吸収するビ一ム吸収素材または当該露光用ビームの反射を防止するビーム反射防止素材を含む樹脂材料で形成された被エッチング体を使用する請求項 1記載の情報媒体用原盤の製造方法。

4 . 前記被エッチング体として、前記露光用ビームを吸収するビーム吸収素材または当該露光用ビームの反射を防止するビーム反射防止素材を含む樹脂材料で形成された被ェッチング体を使用する請求項 2記載の情報媒体用原盤の製造方

5 . 前記樹脂材料は、メラミン樹脂と、前記ビーム吸収素材としての 4 , 4 ，一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノンとを含む昆合物である請求項 3記載の情報媒体用原盤の製造方法。

6 . 前記樹脂材料は、メラミン樹脂と、前記ビーム吸収素材としての 4， 4 ，一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフヱノンとを含む混合物である請求項 4記載の情報媒体用原盤の製造方法。

7 . 基材の上に前記被エッチング体を層状に形成し、当該被エッチング体に前記凹部を形成する請求項 1記載の情報媒体用原盤の製造方法。

8 . 前記基材の上に前記樹脂材をスピンコートして前記被エッチング体を形成する請求項 7記載の情報媒体用原盤の製造方法。

9 . 前記被エッチング体よりも前記エッチングレートの低い材料で形成された前記基材を使用し、前記形成する凹部の深さとなるべき厚みで前記被エツチング体を形成し、前記ドライエツチング時に前記被ェツチング体から前記基材のー部を露出させて前記凹部を形成することにより前記凹凸パターンを形成する請求項 7記載の情報媒体用原盤の製造方法。

1 0 . 請求項 1〜 6のいずれかに記載の情報媒体用原盤の製造方法に従って製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報録媒体用スタンパーの製造方法であって、

前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパー形成材を形成し、当該スタンパー形成材から当該情報媒体用原盤としての前記被エッチング体を除去する情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 1 . 請求項 7〜 9のいずれかに記載の情報媒体用原盤の製造方法に従って製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報媒体用スタンパーの製造方法であって、

前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ一形成材を形成し、当該情報媒体用原盤から前記基材を剥離した後に当該スタンパー形成材から前記被エッチング体を除去する情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 2 . 0₂ プラズマアツシングを行うことにより前記被エッチング体を除去する請求項 1 0記載の情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 3 . 〇₂ プラズマアツシングを行うことにより前記被ェッチング体を除去する請求項 1 1記載の情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 4 . 前記スタンパー形成材としての金属材料を前記情報媒体用原盤に析出させて当該情報媒体用ス夕ンパーを製造する請求項 1 0記載の情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 5 . 前記スタンパー形成材としての金属材料を前記情報媒体用原盤に析出させて当該情報媒体用スタンパ一を製造する請求項 1 1記載の情報媒体用スタンパーの製造方法。

1 6 . 請求項 1 0記載の情報媒体用スタンパーの製造方法に従って製造した当該情報媒体用スタンパーをマスタ一スタンパ一として用いて当該マスタ一ス夕ンパーの前記凹凸パターンを転写することによって情報媒体に前記凹凸パターンを転写するための第 1のスタンパーを製造する情報媒体用スタンパーの製造方法 ο

1 7 . 請求項 1 1記載の情報媒体用スタンパーの製造方法に従って製造した当該情報媒体用スタンパーをマスタ一スタンパ一として用いて当該マス夕一ス夕ンパーの前記凹凸パターンを転写することによって情報媒体に前記凹凸パターンを転写するための第 1のスタンパ一を製造する情報媒体用スタンパーの製造方法 ο

1 8 . 被エッチング体の上にフォトレジスト層を形成するレジスト層形成装置と、

前記フォトレジスト層に露光用ビームを照射して潜像を形成する露光装置と、前記潜像が形成された前記フォトレジスト層を現像して前記被エッチング体の一部を露出させる現像装置と、

前記現像された前記フォトレジスト層をマスクとして用いて前記被エッチング体をドライエッチングして当該被エッチング体に凹部を形成するエッチング装置と、

前記被エッチング体の上に残留している前記フォトレジスト層を除去するレジスト除去装置とを備え、凹凸パターンが形成された情報媒体用原盤を製造する情報媒体用原盤の製造装置であって、

前記レジスト層形成装置は、前記被エッチング体として、そのエッチングレー卜に対する前記フォトレジスト層のエッチングレートの選択比が 0 . 5以上となる樹脂材料で形成された被エッチング体を使用する情報媒体用原盤の製造装置。

1 9 . 前記レジスト層形成装置は、前記被エッチング体として、前記選択比が 1 . 0以上 3 . 0以下となる樹脂材料で形成された被エッチング体を使用する請求項 1 8記載の情報媒体用原盤の製造装置。

2 0 . 前記レジスト層形成装置は、前記被エッチング体として、前記露光用ビームを吸収するビーム吸収素材または当該露光用ビームの反射を防止するビ一ム反射防止素材を含む樹脂材料で形成された被ェヅチング体を使用する請求項 1 8記載の情幸艮媒体用原盤の製造装置。

2 1 . 前記レジスト層形成装置は、前記被ェヅチング体として、メラミン樹脂と、前記ビーム吸収素材としての 4， 4，一ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフヱノンとを含む混合物で形成された被エッチング体を使用する請求項 2 0記載の情報媒体用原盤の製造装置。

2 2 . 基材の上に前記被エッチング体を前記樹脂材料で層状に形成する被ェツチング体形成装置を備えている請求項 1 8記載の情報媒体用原盤の製造装置。

2 3 . 前記被ェッチング体形成装置は、前記基材として、前記被ェッチング体よりも前記エッチングレートの低い材料で形成された基材を使用すると共に、前記形成する凹部の深さとなるべき厚みで前記被ェッチング体を形成し、前記ェッチング装置は、前記ドライエツチング時に前記被ェッチング体から前記基材の一部を露出させて前記凹部を形成することにより前記凹凸パターンを形成する請求項 2 2記載の情報媒体用原盤の製造装置。

2 4 . 請求項 1 8〜2 1のいずれかに記載の情報媒体用原盤の製造装置によつて製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパーを製造する情報録媒体用スタンパーの製造装置であって、

前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ一形成材を形成するスタンパ一形成材形成装置と、

前記スタンパー形成材から当該情報媒体用原盤としての前記被エッチング体を除去する除去装置とを備えている情報媒体用スタンパーの製造装置。

2 5 . 請求項 2 2または 2 3記載の情報媒体用原盤の製造装置によって製造した前記情報媒体用原盤を用いて情報媒体用スタンパ一を製造する情報媒体用ス夕ンパーの製造装置であって、

前記情報媒体用原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ一形成材を形成するスタンパー形成材形成装置と、

前記基材が剥離された前記情報媒体用原盤と前記スタンパー形成材との積層体から前記被ェッチング体を除去する除去装置とを備えている情報媒体用スタンパ