WO2002093534A1

WO2002093534A1 - Electromagnetic wave shielding light-transmitting window member, its manufacturing method, and display panel

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Publication number: WO2002093534A1
Application number: PCT/JP2002/004423
Authority: WO
Inventors: Masato Yoshikawa; Tetsuo Kitano; Taichi Kobayashi; Hidefumi Kotsubo
Original assignee: Bridgestone Corporation
Priority date: 2001-05-16
Filing date: 2002-05-07
Publication date: 2002-11-21
Also published as: KR100939747B1; EP1388836A4; EP1388836A1; US8067084B2; US7214282B2; US20040140516A1; US20070190296A1; KR20030096402A

Description

明細書電磁波シールド性光透過窓材、その製造方法及ぴ表示パネル技術分野

本発明は、電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法と表示パネルに係り、特に、電磁波シールド性、透明性、視認性に優れ、 P D P (プラズマディスプレ一パネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法と、このような電磁波シールド性フイルムを一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及ぴコストの低減を可能とした表示パネルに関する。背景技術

放電現像を利用した P D Pは、テレビやパソコン、ワープロ等の O A機器、交通機器、看板、その他の表示板等の表示パネルとして用いられている。

P D Pの基本的な表示機構は、 2枚のガラス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に放電発光させることで文字や図形を表示するものであり、例えば、図 1 6に示すような構成とされている。図 1 6において、 2 1は前面板（フロントガラス）、 2 2は背面板（リャガラス）、 2 3は隔壁、 2 4は表示セル（放電セル）、 2 5は補助セル、 2 6は陰極、 2 7は表示陽極、 2 8は補助陽極であり、各表示セル 2 4の内壁には、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印加された電圧による放電で発光する。

P D Pの前面からは、電圧印加、放電、発光により、周波数：数 k H z〜数 G H z程度の電磁波が発生するため、これを遮蔽する必要がある。表示コントラスト向上のためには、前面における外部光の反射を防止する必要がある。

従来においては、 P D Pからの電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能を有する透明板を P D Pの前面に配置している。このような電磁波シールド性材料は、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。従来の電磁波シールド性光透過窓材は、金網のような導電性メッシュ材又は透明導電性フィルムをアタリル板等の透明基板の間に介在させて一体化した構成とされている。

従来の電磁波シールド性光透過窓材に用いられている導電性メッシュは、線径

1 0〜5 0 0 111で5〜5 0 0メッシュ程度のものであり、開口率は 7 5 %未満である。このような導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率は高々 7 0 %程度と低い。

従来の導電性メッシュを備えた電磁波シールド性光透過窓材を取り付けたディスプレーにあっては、該ディスプレーの画素ピッチとの関係で、モアレ（干渉縞）が発生し易い。

このような問題を解決するものとして、導電性メッシュの代りに、パターンェツチングした導電性箔を電磁波シールド層として用いることが提案されている (特開 2 0 0 0— 1 7 4 4 9 1 )。所望の線径ゃ間隔、網目形状を有するようにパターンエッチングされた導電性箔を有する電磁波シールド性光透過窓材は、電磁波シールド性、光透過性が共に良好でモアレ現象も無い。

この導電性箔のパターンエッチングは、透明な基材フィルムの表面に金属箔を接着すると共に、この金属箔上にフォトレジストのフィルムを圧着し、パターン露光及びエッチングの工程により所定パターンにエッチングすることにより行われ、従って、金属箔は、基材フィルムに積層されたフィルムとして提供される。このような金属箔基材フィルムの積層フィルムよりなる電磁波シールド性フィルムでは、金属箔の表面で光が反射して十分な視認性が得られない。発明の開示

本発明の目的は、電磁波シールド性に優れる上に、反射防止効果が高く、透明性、視認性に優れる電磁波シールド性光透過窓材を提供することにある。

本発明の他の目的は、電磁波シールド性に優れる上に、反射防止効果が高く、透明性、視認性に優れる電磁波シールド性フィルムを用いた表示パネルを提供することにある。

本発明の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材は、少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド性フィルムは透明な基材フィルムと、該基材フイルムの該透明基板側の面に透明接着剤により接着され、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、該箔の該基材フィルム側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フィルム側の面が粗面化処理されていることを特徴とする。

この電磁波シールド性フィルムは、光吸収層の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成されている（以下、この粗面化処理を「無光沢処理」と称す場合がある。）ため、反射防止効果が高い。従って、この電磁波シールド性フィルムを有した電磁波シールド性光透過窓材をディスプレーの前面に装着すると、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

上記のパターンエッチングされた導電性箔、無光沢処理された光吸収層及び基材フィルムよりなる電磁波シールド性フィルムは、例えば次のような手順で製造される。

① 金属箔の表面に光吸収層を形成し、この光吸収層の表面を粗面化処理する。

② ①の金属箔を透明接着剤により透明な基材フィルムに接着する。

③ ②の積層フィルムをパターンエッチングする。

上記②の接着工程では、無光沢処理された光吸収層の表面の凹凸が透明接着剤層に転写される。このため、 ③のパターンエッチングにより光吸収層及ぴ金属箔をエッチング除去した後に表出する透明接着剤層の表面は、光吸収層から転写された凹凸面となっている。

このような透明接着剤層の凹凸面は、光が散乱する性質を有する。そこで、本発明では、請求項 2又は 5の通り、電磁波シールド性フィルムの箔側の面を熱硬化性樹脂又は透明粘着剤により透明基板に接着し、透明接着剤層に転写された凹凸を熱硬化性樹脂又は透明粘着剤で埋めることにより、光の散乱を防止して透明度を高めることが望ましい。

本発明の第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材は、少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの前記透明基板と反対側の面に透明接着剤により接着された、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、該箔の該基材フィルムと反対側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フイルムと反対側の面が粗面化処理されていることを特徴とする。

この電磁波シールド性フィルムも、光吸収層の表面が無光沢処理されているため、反射防止効果が高い。従って、この電磁波シールド性フィルムを有した電磁波シールド性光透過窓材をディスプレーの前面に装着すると、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

ここで、無光沢処理された光吸収層、パターンエッチングされた導電性箔及び基材フィルムよりなる電磁波シールド性フィルムは、例えば次のような手順で製造される。

( i ) 金属箔を透明接着剤により透明な基材フィルムに接着する。

( ii ) ( i ) の積層フィルムをパターンエッチングする。

( iii ) パターンエッチングした金属箔の表面に光吸収層を形成し、この光吸収層の表面を粗面化処理する。

本発明の第 3の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の製造方法は、少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化して電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法において、導電性箔の一方の面に光吸収層を形成する工程と、該光吸収層の表面を粗面化処理する工程と、この光吸収層付きの導電性箔を透明接着剤により透明な基材フィルムに接着する工程と、該基材フィルム上に接着された光吸収層付きの導電性箔をパターンエッチングする工程と、このパターンエッチングにより得られた電磁波シールド性フィルムのエッチング処理面側に透明粘着剤を塗布して塗膜を形成する工程と、該電磁波シールド性フィルムの塗膜形成面を透明基板に圧着して該電磁波シールド性フィルムと該透明基板とを積層一体化する工程とを有することを特徴とする。

この方法において、パターンエッチングした導電性箔、無光沢処理した光吸収層及び基材フィルムよりなる電磁波シールド性フィルムは、前述の①〜③の手順で製造され、前述の如く、パターンエッチングにより光吸収層及ぴ金属箔をエツチング除去した後に表出する透明接着剤層の表面は、光吸収層から転写された凹凸面となっている。

このような透明接着剤層の凹凸面は、光が散乱する性質を有するが、本発明では、電磁波シールド性フィルムの箔側の面に透明粘着剤を塗布し、この塗膜を透明基板に直接又は他のフィルムを介して揍着し、透明接着剤層に転写された凹凸を透明粘着剤で埋めることにより、光の散乱を防止して透明度を高める。

この場合、透明粘着剤であれば、貼り直しが可能であり、電磁波シールド性フィルムと透明基板等とを接着界面に気泡を残留させることなく、強固に接着一体化することができる。

この透明粘着剤の塗膜の厚さは 1〜 1 0 0 μ mであることが好ましく、このような厚さの塗膜であれば、光吸収層の無光沢処理面の凹凸を吸収すると共に、良好な作業性で電磁波シールド性フィルムを透明基板等に接着することができる。この電磁波シールド性フィルムは、透明基板に他のフィルム等を介して接着されていても良いが、好ましくは、透明基板に直接透明粘着剤により接着されていることが望ましい。

本発明の第 4の態様に係る表示パネルは、表示パネル本体と、該表示パネル本体の前面に配置された電磁波シールド性フィルムとを備えてなる表示パネルにおいて、該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの該表示パネル本体側の面に透明接着剤により接着され、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、該箔の該基材フィルム側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フィルム側の面が粗面化処理されていることを特徴とすることを特徴とする。

本発明の第 5の態様に係る表示パネルは、表示パネル本体と、該表示パネル本体の前面に配置された電磁波シールド性フィルムとを備えてなる表示パネルにおいて、該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの該表示パネル本体と反対側の面に透明接着剤により接着された、パターンエツチングされた導電性箔とを備えており、該箔の該基材フィルムと反対側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フィルムと反対側の面が粗面化処理されていることを特徴とする。

これらの表示パネルは、表示パネル本体の前面に電磁波シーノレド性ブイルムを配置したものであり、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及ぴコストの低減を図ることができる。

また、この電磁波シールド性フィルムは、光吸収層の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成されているため、反射防止効果が高い。従って、この電磁波シ一ルド性フィルムを表示パネル本体の前面に配置することにより、コントラストの高い鮮明な面像を得ることができる。図面の簡単な説明

図 1は、第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 2は、第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の別の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 3は、第 1の態様で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法の一例を示す説明図である。

図 4は、エッチングパターンの具体例を示す平面図である。

図 5は、図 1の電磁波シールド性光透過窓材の電磁波シールド性フイルムと透明基板との接着部分を説明する拡大断面図である。

図 6は、第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 7は、第 2の態様で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法の一例を示す説明図である。

図 8は、図 6に示す電磁波シールド性光透過窓材の電磁波シールド性フィルムと透明基板との接着部分を説明する拡大断面図である。

図 9は、第 3の態様で製造される電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 1 0は、第 3の態様における電磁波シールド性フィルムの製造方法の実施の形態を示す説明図である。図 1 1は、図 9に示す電磁波シールド性光透過窓材の粘着膜付き電磁波シールド性フィルムと透明基板との接着部分を説明する拡大断面図である。

図 1 2は、第 4の態様に係る表示パネルの実施の形態を示す模式的な断面図でめる。

図 1 3は、第 5の態様に係る表示パネルの実施の形態を示す模式的な断面図でめる。

図 1 4は、図 1 2に示す表示パネルの電磁波シールド性フィルムと他部材との接着部分を説明する拡大断面図である。

図 1 5は、図 1 3に示す表示パネルの電磁波シールド性フィルムと他部材との接着部分を説明する拡大断面図である。

図 1 6は、一般的な P D Pの構成を示す一部切欠斜視図である。発明の好ましい形態

以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。

まず、図 3を参照して、本発明の第 1の態様の電磁波シールド性光透過窓材で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法の一例を説明する。

導電性箔として例えば銅箔 1 1を準備し（図 3 A)、この銅箔 1 1の一方の面に光吸収層 1 2を形成する（図 3 B )。この光吸収層 1 2の形成方法としては、 C u 一 N iなどの銅合金を成膜した後に酸、アル力リなどの処理により黒化する方法がある。この処理により表面処理された黒化面は粗面化されており、その処理条件により表面粗さ R _Zを変えることができる。また、光吸収性のインキを銅箔 1

1に塗布して硬化させることにより形成することができ、ここで使用される光吸収性のインクとしては、カーボンインキ、ニッケルインキ、その他暗色系有機顔料等のインキが用いられる。この光吸収層 1 2は次いでその表面 1 2 Aをショットプラストなどの、機械的に表面を粗す方法や、酸、アルカリ等の薬品により表面を粗す方法、インクに予め無機、又は有機の微粒子を混合したものを塗工して、表面の粗い塗膜を形成する方法等により粗面化して微細な凹凸を形成することにより無光沢処理を施す（図 3 C )。この光吸収層 1 2の厚さは、その黒化の材料や導電性によっても異なるが、導電性を損なうことなく十分な電磁波シールド性を得るために、 1 n m〜 1 0 μ πι程度とするのが好ましく、また、光の散乱を十分に防止する上で、表面 1 2 Αの粗面化の程度は、表面粗さ R zで 0 . 1〜2 0 μ m程度とするのが好ましい。光吸収層の表面粗さ R zが 0 . l〜2 0 /i mとなるように無光沢処理することにより良好な反射防止効果を得ることができる。

次いで、光吸収層 1 2を形成し、その無光沢処理を施した銅箔 1 1の無光沢処理面を、 P E T (ポリエチレンテレフタレート）フィルム 1 3等の透明な基材フイルムに透明接着剤 1 4により接着する（図 3 D，図 3 E )。

このようにして得られた貼り合わせフィルムについて、常法に従ってパターンエッチングを行い、光吸収層 1 2を形成した銅箔 1 1を部分的に除去することにより、電磁波シールド性フィルムとしての銅 Z P E T積層エッチングフィルム 1 0を得る（図 3 F )。

銅 Z P E T積層エッチングフィルム 1 0の透明接着剤 1 4の表出面 1 4 Aは、光吸収層 1 2の無光沢処理による微細な凹凸が転写された凹凸面となる。

電磁波シールド性フィルムを構成する導電性箔としては、銅箔に限らず、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金等の金属箔を用いることができるが、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウム箔である。金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、 1〜2 0 0 μ πι 程度とするのが好ましい。

金属箔をパターンエッチングする方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好ましい。この場合、金属箔上にフォトレジスト膜を圧着するか、フォトレジストをコ一ティングした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光後、現像処理してレジストパターンを形成する。その後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエツチング液で除去すればよい。

フォトレジスト膜を用いる場合、このフォトレジスト膜と光吸収層を形成して無光沢処理を施した金属箔と、透明接着剤の接着シートと基材フィルムとを、基材フィルムノ接着シート/金属箔ノフォトレジスト膜の順で積層して圧着することにより、これらを一工程で積層一体化することができ、好ましい。パターンエッチングによれば、パターンの自由度が大きく、金属箔を任意の線径、間隔及ぴ孔形状にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がなく、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波シールド性フィルムを容易に形成することができる。

金属箔のエッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば図 4A， 4 B に示すような四角形の孔 Mが形成された格子状の金属箔 1 l a， l i b、図 4C， 4D， 4E， 4 Fに示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の孔 Mが形成されたパンチングメタル状の金属箔 1 1 c， l i d, l i e, 1 1 f 等が挙げられる。また、このように孔 Mが規則的に並んだものの他、ランダムパターンとしてモアレ現象を防止することもできる。

電磁波シールド性と光透過性とを共に確保するために、この金属箔の投影面における開口部分の面積割合（以下「開口率」と称す。）は、 20〜90%であることが好ましい。

銅箔 11等の金属箔を接着する透明な基材フィルムとしては、 PETフィルム 13の他、本発明の電磁波シールド性光透過窓材で用いられる透明基板材料として後述する樹脂フィルムを用いることができる力好ましくは PET、 PBT (ポリブチレンテレフタレート）、 PC、 PMMA、アクリルフィルムであり、その厚さは、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さを過度に厚くすることなく、十分な耐久性と取り扱い性を得る上で、 1〜200 jum程度とするのが好ましい。透明基材フィルムと金属箔とを接着する透明接着剤としては、本発明の電磁波シールド性光透過窓材に用いられる接着樹脂として後述する E V Aや P V B樹脂等を用いることができ、そのシート化及び接着の方法や条件についても同様の方法及ぴ条件を採用することができる。また、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ゴム系の透明接着剤を用いることができ、特に、積層後のエッチング工程での耐エッチング性の点から、ウレタン系、エポキシ系が特に望ましい。この透明接着剤 14による接着層の厚さは、好ましくは 1〜50 mである。この透明接着剤 14は、必要に応じて、後述の導電性粒子が配合されていても良い。次に、図 1， 2を参照して本発明の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明する。

図 1， 2は、本発明の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 1の電磁波シールド性光透過窓材 1は、最表層の反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルムとしての銅 Z P E T積層エッチングフィルム 1 0、透明基板 2及ぴ最裏層の近赤外線力ットフィルム 5を、接着剤となる接着用中間膜 4 A， 4 B及ぴ粘着剤 4 Cを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ 7 (以下「第 2の導電性粘着テープ」という。）を付着させて一体化したものである。電磁波シールド性フィルム 1 0は、透明基板 2とほぼ同等の大きさであり、その縁部に一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ 8 (以下「第 1の導電性粘着テープ」という。）が付着されている。

図 2の電磁波シールド性光透過窓材 1 Aは、図 1の電磁波シールド性光透過窓材において、接着用中間膜 4 Bの代りに透明粘着剤 4 Dを用いた点のみが異なり、その他は同様の構成とされている。

図 2の電磁波シールド性光透過窓材 1 Aは、最表層の反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルムとしての銅/ P E T積層エッチングフィルム 1 0、透明基板 2及び最裏層の近赤外線力ットフィルム 5を、接着剤となる接着用中間膜 4 A、透明粘着剤 4 D及び粘着剤 4 Cを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ 7 (第 2の導電性粘着テープ）を付着させて一体化したものである。電磁波シールド性フィルム 1 0は、透明基板 2とほぼ同等の大きさであり、その縁部に一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ 8 (第 1の導電性 ¾着テープ）が付着されている。

図 1， 2において、第 1の導電性粘着テープ 8は、電磁波シールド性フィルム 1 0の縁部の全周にわたって設けられていることが好ましいが、一部、例えば対向 2辺縁部に設けられていても良い。

電磁波シールド性光透過窓材 1， 1 Aにあっては、反射防止フィルム 3及びその下の接着用中間膜 4 Aは電磁波シールド性フィルム 1 0及ぴ透明基板 2よりも若干小さく、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aの縁部は電磁波シールド性フィルム 1 0及ぴ透明基板 2の縁部から若干（例えば 3〜 2 O mm特に好ましくは 5〜 1 0 mm程度）後退しており、電磁波シールド性フィルム 1 0の周縁の第 1の導電性粘着テープ 8部分が反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aによつて覆われていない。このため第 1の導電性粘着テープ 8の上に第 2の導電性粘着テープ 7が直接被さり、第 1，第 2の導電性粘着テープ 8， 7を介して、電磁波シールド性フィルム 1 0が確実に導通される。

粘着剤 4 C付き近赤外線力ットフィルム 5も透明基板 2よりも若干小さく、該粘着剤 4 C付き近赤外線力ットフィルム 5の縁部は透明基板 2の縁部から若干 (例えば 3〜 2 0 mm特に好ましくは 5〜1 0 mm程度）後退している。

この実施の形態では、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 A、粘着剤 4 C 付き近赤外線力ットフィルム 5の周縁部が第 2の導電性粘着テープ 7に被さつていないが、これらは第 2の導電性粘着テープ 7の内側に被さっていても良い。図 1， 2の電磁波シールド性光透過窓材 1 , 1 Aでは、第 1の導電性粘着テープ 8 と第 2の導電性粘着テープ 7との導通を図る必要があるため、反射防止フィルム 3及ぴ接着用中間膜 4 Aについては、電磁波シールド性フィルム 1 0及ぴ透明基板 2よりも小さく、縁部が後退している必要があるが、粘着剤 4 C付き近赤外線カットフィルム 5は透明基板 2と同等の大きさであっても良い。

反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aは、その全周にわたって電磁波シールド性フィルム 1 0及ぴ透明基板 2の縁部から後退していることが望ましいが、 —部例えば、第 1の導電性粘着テープ 8が対向 2辺縁部に設けられている場合には、その部分のみ後退し、第 2の導電性粘着テープ 7もこの対向 2辺縁部に設けられていても良い。

透明基板 2の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート ( P E T ) , ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタァクリレート

( P MMA)、アクリル板、ポリカーボネート（P C )、ポリスチレン、トリァセテートフィルム、ポリビュルアルコール、ポリ塩化ビュル、ポリ塩化ビユリデン、ポリエチレン、エチレン一酢酸ビエル共重合体、ポリビュルプチラール、金属ィオン架橋エチレン一メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、 PET、 PC、 PMMAが挙げられる。

透明基板 2の厚さは得られる窓材の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、 0. 1〜1 Omm好ましくは 1 〜4 mmの範囲とされる。

透明基板 2の周縁部にァクリル樹脂等をべ一スとする黒枠塗装が設けられてもよい。

透明基板 2には、金属薄膜又は透明導電性膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めるようにしてもよい。

反射防止フィルム 3としては、 P ET， PC, PMMA等のベースフィルム（厚さは例えば 25〜250 μπι程度） 3 A上に下記（1) の単層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記（2) 〜（5) のような積層構造の積層膜よりなる反射防止層 3 Bを形成したものが挙げられる。

(1) ベースフィルム 3 Aよりも屈折率の低い透明膜を一層積層したもの ( 2 ) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を 1層ずつ合計 2層に積層したもの ( 3 ) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を 2層ずつ交互に合計 4層積層したもの

(4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で 1層ずつ、合計 3層に積層したもの

(5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を交互に 3層ずつ、合計 6 層に積層したもの

高屈折率透明膜としては、 I TO (スズインジウム酸化物）又は Z nO、 A 1 をドープした ZnO、 T i 0₂、 S n0₂、 ∑ ]： 0等の屈折率1. 8以上の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。高屈折率透明膜としては、これらの粒子をァクリルやポリエステルのバインダーに分散させた薄膜でもよい。低屈折率透明膜としては S i 0₂、 Mg F₂、 A 1₂0₃等の屈折率が 1. 6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成することができる。低屈折率透明膜としては、シリコン系、フッ素系の有機材料からなる薄膜も好適である。

これらの膜の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが、 4層構造の場合、透明基板側の第 1層（高屈折率透明膜）が 5〜50 nm、第 2層（低屈折率透明膜）が 5~50 nm、第 3層（高屈折率透明膜）が 50〜100 nm、第 4層（低屈折率透明膜）が 50 〜150 nm程度の膜厚で形成される。

反射防止フィルム 3の上に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるようにしてもよい。汚染防止膜としては、フッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚 1〜100 nm程度の薄膜が好ましい。

近赤外線力ットフイルム 5としては、ベースフィルム 5 A上に、銅系無機材料、銅系有機材料、シァニン系、フタロシアニン系、ニッケル錯体系、ジインモニゥム系等の近赤外線吸収材料のコーティング層、又は酸化亜鉛、 I TO (酸化インジゥムスズ）等の無機誘電体と銀等のメタルとの多層コーティング層 5 Bを設けたものを用いることができる。ベースフィルム 5 Aとしては、好ましくは、 PE T、 PC、 PMMA等よりなるフィルムを用いることができる。ベースフィルム 5 Aは、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さを過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保する上で 10 μ m〜 1 mm程度とするのが好ましい。ペースフィルム 5 A上に形成される近赤外線力ットコ一ティング層 5 Aの厚さは、通常の場合、 0. 5〜50 μπι程度である。

上記近赤外線力ット材料のうちの好ましくは 2種以上の材料を用いた近赤外線カット層を設けてもよく、 2種以上のコーティング層を混合したり、積層したり、ベースフィルムの両面に分けてコーティングしたり、 2種以上の近赤外線カツトフィルムを積層してもよい。

近赤外線カツト材料として、次のような近赤外線カツトタイプの異なる 2種以上の近赤外線カツト材料を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことなく、良好な近赤外線力ット性能（例えば 850〜 1250 nmなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を十分に吸収する性能）を得る上で好ましい。

(a) 厚さ 100〜5000 Aの I TOのコーティング層

(b) 厚さ 100〜 1000 OAの I TOと銀の交互積層体によるコ一ティング層

(c) 厚さ 0. 5〜50ミクロンのニッケル錯体系とィモニゥム系の混合材料を適当な透明バインダーを用いて膜としたコーティング層 (d) 厚さ 1 0〜 1 0000ミクロンの 2価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明パインダーを用いて膜としたコーティング層

(e) 厚さ 0. 5〜50ミクロンの有機色素系コーティング層

上 4 レヽ、ヽ

(a) と（c) の組み合わせ

(a) と（d) の組み合わせ

(b) と（c) の組み合わせ

(b) と（d) の組み合わせ

又は（c) のみ

が好適であるが、何らこれらに限定されるものではない。

本発明においては、例えば近赤外線カットフィルム 5と共に、更に透明導電性フィルムを積層してもよい。この透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させた樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を形成したものを用いることができる。

フィルム中に分散させる導電性粒子としては、導電性を有するものであればよく特に制限はないが、例えば、次のようなものが挙げられる。

(i) カーボン粒子ないし粉末

(ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導電性酸化物の粒子ないし粉末

(iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒子の表面に上記 (i),(ii)の導電性材料のコーティング層を形成したもの

(iv) I T Oと銀の交互積層体

これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、 0. 5 mm以下であることが好ましい。好ましい導電性粒子の粒径は 0. 01〜0. 5 mmである。

また、透明導電性フィルム中の導電性粒子の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電性フイルムの樹脂に対する重量割合で 0. 1〜50重量％、特に0. 1〜20重量％、とりわけ 0 . 5〜 2 0重量％程度とするのが好ましい。

導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途から、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整することで、画面が見やすくなるという効果もある。

ベースフィルムに透明導電性層を形成したものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、 C V D等により、スズインジウム酸化物、亜鉛アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられる。透明導電層の厚さが 0 . 0 1 /x m未満では、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、十分な電磁波シールド性を得ることができず、 5 μ mを超えると光透過性が損なわれる恐れある。

なお、透明導電性フィルムのマトリックス樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステル、 P E T、ポリブチレンテレフタレート、 P MMA、アタリル板、 P C、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビュルアルコール、. ポリ塩化ビュル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン一酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレンーメタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、 P E T、 P C、 P MMAが挙げられる。

このような透明導電性フィルムの厚さは、通常の場合、 1 ί πι〜5 πιηι程度とされる。

反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルム 1 0及ぴ透明基板 2を接着する図 1の電磁波シールド性光透過窓材 1の接着用中間膜 4 Α， 4 Β、及ぴ図 2の電磁波シールド性光透過窓材 1 Αの接着用中間膜 4 Aを構成する熱硬化性樹脂としては、透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せガラス用接着剤として用いられているものが好ましい。特に、透明基板 2よりも前面側に配置される接着用中間膜 4 A， 4 Bとして、飛散防止能の高い弾性膜を用いると効果的である。このような弾性を有した膜の樹脂としては、具体的には、エチレン一酢酸ビニル共重合体、エチレン一アクリル酸メチル共重合体、エチレン一（メタ）アタリル酸共重合体、エチレン一（メタ）アクリル酸ェチル共重合体、エチレン一（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン一（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹼化エチレン一酢酸ビニル共重合体、カルボキシルエチレン一酢酸ビュル共重合体、エチレン一（メタ）アクリル—無水マレイン酸共重合体、ェチレン一酢酸ビニルー（メタ）アタリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルプチラール（P V B ) 樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フヱノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン一酢酸ビニル共重合体（E V A) である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用いられている P V B樹脂も好適である。

P V B樹脂は、ポリビニルァセタール単位が 7 0〜9 5重量⁰ 、ポリ酢酸ビニル単位が 1〜 1 5重量％で、平均重合度が 2 0 0〜 3 0 0 0、好ましくは 3 0 0 〜2 5 0 0であるものが好ましく、 P V B樹脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

P V B樹脂組成物の可塑剤としては、一塩基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤が挙げられる。

一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、 2—ェチル酪酸、ヘプタン酸、 n—ォクチル酸、 2—ェチルへキシル酸、ペラルゴン酸（n—ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレンダリコールとの反応によって得られるエステルが好ましく、より好ましくは、トリエチレン一ジ一 2 —ェチルブチレ一ト、トリエチレングリコー Λ^—ジー 2—ェチノレへキソエート、トリエチレングリコールージ一力プロネート、トリエチレングリコーノレ一ジ— _η—ォクトエート等である。上記有機酸とテトラエチレングリコール又はトリプロピレンダリコールとのエステルも使用可能である。

多塩基酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸、セバチン酸、ァゼライン酸等の有機酸と炭素数 4〜 8の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセパケート、ジォクチルァゼレート、ジブチルカルビトールアジぺート等が挙げられる。

燐酸系可塑剤としては、トリブトキシェチルフォスフェート、イソデシルフエニルフォスフエ一ト、トリイソプロピルフォスフヱート等が挙げられる。

P V B樹脂組成物において、可塑剤の量が少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂 1 0 0重量部に対して可塑剤を 5〜5 0重量部、好ましくは 1 0〜4 0重量部とする。

P V B樹脂組成物には、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が添加されていても良い。

接着用中間膜 4 A， 4 Bの接着樹脂としては特に架橋剤を含む架橋型熱硬化性樹脂、とりわけ架橋型 E V A樹脂が好ましい。

以下に、この接着樹脂としての架橋型 E V A樹脂について詳細に説明する。

E V Aとしては酢酸ビニル含有量が 5〜 5 0重量％、好ましくは 1 5〜4 0重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が 5重量％より少ないと耐候性及ぴ透明性に問題があり、また 4 0重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のプロッキングが生ずる。

架橋剤としては、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば 2， 5— ジメチルへキサン一 2， 5—ジハイド口パーオキサイド； 2， 5—ジメチルー 2，

5—ジ（ t一ブチ^^パーォキシ）へキサン一 3；ジー t一ブチルパーォキサイド； t—プチルクミルパーオキサイド； 2， 5—ジメチル _ 2， 5—ジ（ t _ブチルパーォキシ）へキサン；ジクミルパーオキサイド； α， a ' —ビス（ t _ブチルノ、。一ォキシイソプロピル）ベンゼン； n _ブチル一 4， 4—ビス（tーブチルバーォキシ）バレレート； 2， 2—ビス（t一ブチルパーォキシ）ブタン； 1， 1 一ビス（ t _ブチルパーォキシ）シクロへキサン； 1， 1一ビス（t一プチルパーォキシ）一 3， 3， 5—トリメチルシクロへキサン； t _ブチルパーォキシベンゾエート；ベンゾイノレハ。ーォキサイド；第 3ブチノレパーォキシアセテート； 2，

5—ジメチル一 2， 5—ビス（第 3ブチルパーォキシ）へキシン一 3 ; 1， 1一ビス（第 3プチルパーォキシ）一 3， 3， 5—トリメチルシクロへキサン； 1，

1一ビス（第 3ブチルパーォキシ）シクロへキサン；メチルェチルケトンパーォキサイド； 2， 5—ジメチノレへキシノレ一 2， 5—ビスパーォキシベンゾエート；第 3ブチルハイド口パーオキサイド； p—メンタンハイド口パーオキサイド； p 一クロノレべンゾィノレパーォキサイド；第 3プチノレパーォキシィソブチレ一ト；ヒドロキシヘプチルバーォキサイド；クロルへキサノンパーォキサイドなどが挙げられる。これらの過酸化物は 1種を単独で又は 2種以上を混合して、通常 E V A 1 0 0重量部に対して、 1 0重量部以下、好ましくは 0 . 1〜1 0重量部の割合で使用される。

有機過酸化物は通常 E V Aに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビュルモノマー等に溶解し、 E V Aのフィルムに含浸法により添加しても良い。

なお、 E V Aの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アタリ口キシ基又はメタクリロキシ基及びァリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、ェチル、ドデシル、ステアリル、ラゥリル等のアルキル基の他、シクロへキシル基、テトラヒドロフルフリル基、ァミノェチル基、 2—ヒドロキシェチル基、 3—ヒドロキシプロピル基、 3—クロロー 2—ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコーノレ、ポリエチレングリコーノレ、トリメチローノレプロノヽ。ン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイァセトンアクリルアミドが代表的である。

より具体的には、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のァクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシァヌレート、トリアリルイソシァヌレート、フタル酸ジァリル、イソフタル酸ジァリル、マレイン酸ジァリル等のァリル基含有化合物が挙げられ、これらは 1種を単独で、或いは 2種以上を混合して、通常 E V A 1 0 0重量部に対して 0 . 1

〜2重量部、好ましくは 0 . 5〜5重量部用いられる。

このような架橋型の E V A樹脂であれば、図 1の電磁波シールド性光透過窓材

1の場合、透明基板 2に対して電磁波シールド性フィルム 1 0を接着するに当たり、接着用中間膜 4 Bを介して、これらを積層し、仮圧着後（この仮圧着後は適宜貼り直しが可能である。）、加圧、加熱することにより、図 5に示す如く、電磁波シールド性フィルム 1 0と透明基板 2との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができ、従って、電磁波シールド性フィルム 1 0の透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な回凸に接着用中間膜 4 Bの接着樹脂 4 B ' を回り込ませてこれを完全に埋め、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができ、好ましい。

このように接着用中間膜 4 Bの接着樹脂 4 B ' で、電磁波シールド性フィルム 1 0の透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に起因する光の散乱をより一層確実に防止するためには、この透明接着剤 1 4と接着樹脂 4 B，との界面で光の反射が起きないように、透明接着剤 1 4の屈折率と硬化後の接着樹脂 4 B ' の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

接着樹脂 4 B，としての E V A樹脂の屈折率はおおむね n = 1 . 5程度であることから、透明接着剤 1 4としては屈折率 n = 1 . 5程度のものを用いるのが好ましい。このような透明接着剤 1 4としては、 £ ¥ ゃ？¥ 8樹脂系接着剤の他、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ゴム系の透明接着剤等が挙げられる。

接着用中間膜 4 A、 4 Bの厚さは、例えば 1 0〜 1 0 0 0 m程度が好ましい。接着用中間膜 4 A， 4 Bには、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を適量配合してもよい。

接着性改良の手段として、シート化された接着用中間膜の膜面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。この接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダー、ロール、 Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはプロッキング防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。接着用中間膜 4 Aとしては上記の接着剤の他、下記のような粘着剤（感圧接着剤）も好適に使用される。

図 2の電磁波シールド性光透過窓材 1 Aの透明粘着剤 4 Dとしては、各種の透明感圧接着剤を用いることができ、例えば、アクリル系、 S B S、 S E B S等の熱可塑性エラストマ一系などが好適に用いられる。これらの粘着剤には、タツキフアイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。

このような透明粘着剤 4 Dであれば、透明基板 2に対して電磁波シールド性フイルム 1 0を接着するに当たり、透明粘着剤 4 Dを介して、これらを積層し、仮圧着後（この仮圧着後は適宜貼り直しが可能である。）、加圧、加熱、又は減圧、加熱することにより、図 5に示す如く、電磁波シールド性フィルム 1 0と透明基板 2との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができ、従って、電磁波シールド性フィルム 1 0の透明接着剤 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に透明粘着剤 4 Dを回り込ませてこれを完全に埋め、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができる。

透明粘着剤 4 Dであれば、貼り直しが可能であり、電磁波シールド性フィルム 1 0と透明基板 2等とを接着界面に気泡を残留させることなく、強固に接着一体化することができる。

この透明粘着剤 4 Dは、電磁波シールド性フィルム 1 0のパターンエッチングされた導電性箔面上に直接塗工されていることが好ましい。

このように透明粘着剤 4 Dで、電磁波シールド性フイルム 1 0の透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に起因する光の散乱をより一層確実に防止するためには、この透明接着剤 1 4と透明粘着剤 4 Dとの界面で光の反射が起きないように、透明接着剤 1 4の屈折率と透明粘着剤 4 Dの屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

一般に透明粘着剤又は接着剤 4 Dとしてのアクリル系、ウレタン系、 E V A系、

P V B系、シリコン系、ゴム系等の屈折率はおおむね n = 1 . 5程度であることから、この場合には、透明接着剤 1 4としては屈折率 n = 1 . 5程度のものを用いることが好ましい。このような透明接着剤 1 4としてはアクリル系、ウレタン系、ゴム系等が挙げられる。透明粘着剤又は接着剤 4 Dとしてのエポキシ系、ポリエステル系等の屈折率はおおむね _n = 1 . 6〜1 . 6 5程度であることから、この場合には、透明接着剤 1 4としては屈折率 n = l . 6〜1 . 6 5程度のものを用いることが好ましい。このような透明接着剤 1 4としてはエポキシ系、ポリェステル系などが挙げられる。

電磁波シールド性フィルム 1 0は、図 1， 2のように直接透明基板 2に接着されていても良く、他のフィルムを介して接着されていても良い。

近赤外線力ットフィルム 5の粘着剤 4 Cとしても、透明粘着剤 4 Dとして例示したものを用いることができ、これらの透明粘着剤 4 D、粘着剤 4 Cは予め、電磁波シールド性フィルム 1 0や近赤外線力ットフィルム 5の接着面に 5〜 1 0 0 mの厚みでコーティング又は貼り合わせておき、それを透明基板や他のフィルムに貼り合わせることができる。

近赤外線カツトフイルム 5については、粘着剤 4 Cを用いて透明基板 2に積層するのが好ましい。これは、近赤外線カットフィルム 5は熱に弱く加熱架橋温度

( 1 3 0〜1 5 0 °C) に耐えられないためである。低温架橋型 E V A (架橋温度 7 0〜 1 3 0 °C程度）であればこの近赤外線力ットフィルム 5の透明基板 2への接着に使用することができる。

第 2，第 1の導電性粘着テープ 7， 8は、図示の如く、金属箔 7 A , 8 Aの一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層 7 B， 8 Aを設けたものである。粘着層 7 B， 8 Bには、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。

粘着層 7 B， 8 Bに分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。

この導電性粒子の配合量は、粘着層 7 B， 8 Bを構成するポリマーに対し 0 . 1〜1 5容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は 0 . 1〜1 0 0 mであることが好ましい。このように、配合量及ぴ粒径を規定することにより、導電性粒子の凝集を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。導電性粘着テープ 7， 8の基材となる金属箔 7 A， 8 Aとしては、銅、銀、二ッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、 1〜1 0 0 μ ηι程度とされる。

粘着層 7 Β， 8 Βは、この金属箔 7 Α， 8 Αに、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイ力バーコ一タ一、フローコータ一、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。

この粘着層 7 B， 8 Aの厚さは通常の場合 5〜 1 0 0 μ ηι程度とされる。

図 1に示す電磁波シールド性光透過窓材 1を製造するには、例えば反射防止フイルム 3と、電磁波シールド性フィルム 1 0と、透明基板 2と、粘着剤 4 C付き近赤外線カットフィルム 5と、接着用中間膜 4 Α， 4 Β及び第 1 , 第 2の導電性粘着テープ 8， 7を準備し、予め電磁波シールド性フィルム 1 0の周縁に第 1の導電性粘着テープ 8を留め付け、反射防止フィルム 3、第 1の導電性粘着テープ 8付き電磁波シールド性フィルム 1 0、透明基板 2を各々の間に接着用中間膜 4 Α, 4 Βを介在させて積層し、接着用中間膜の硬化条件で加圧下、加熱して一体化する。次いで、粘着剤 4 Cにより近赤外線カットフィルム 5を貼り合わせる。その後、第 2の導電性粘着テープ 7を積層体の周囲に留め付け、用いた導電性粘着テープ 7， 8の粘着層 7 Β， 8 Βの硬化方法等に従って、加熱圧着するなどして接着固定する。

図 2に示す電磁波シールド性光透過窓材 1 Αを製造するには、例えば反射防止フィルム 3と、電磁波シールド性フィルム 1 0と、透明基板 2と、粘着剤 4 C付き近赤外線カットフィルム 5と、接着用中間膜 4 A、透明粘着剤 4 D及び第 1，第 2の導電性粘着テープ 8， 7を準備し、予め電磁波シールド性フィルム 1 0の一方の面に透明粘着剤 4 Dを付着させると共に周縁に第 1の導電性粘着テープ 8 を留め付け、第 1の導電性粘着テープ 8及び透明粘着剤 4 D付き電磁波シールド性フィルム 1 0を透明基板 2に貼り付け、その後、この上に接着用中間膜 4 Aを介在させて反射防止フィルム 3を積層し、接着用中間膜 4 Aの硬化条件で加圧下、加熱して一体化する。次いで、粘着剤 4 Cにより近赤外線カットフィルム 5を貼り合わせる。その後、第 2の導電性粘着テープ 7を積層体の周囲に留め付け、用いた導電性粘着テープ 7， 8の粘着層 7 B， 8 Bの硬化方法等に従って、加熱圧着、又は減圧加熱するなどして接着固定する。導電性粘着テープ 7， 8に架橋型導電性粘着テープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着層 7 B， 8 Bの粘着性を利用して電磁波シールド性フィルムゃ積層体に貼り付け（この仮り止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。）、その後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線照射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよい。この加熱又は光照射を局部的に行うことで、架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるようにすることもできる。

加熱接着は、一般的なヒートシ一ラーで容易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に入れ脱気後加熱する方法でもよく、接着はきわめて容易に行える。

この接着条件としては、熱架橋の場合は、用いる架橋剤（有機過酸化物）の種類に依存するが、通常 7 0〜1 5 0 °C、好ましくは 7 0〜1 3 0 °Cで、通常 1 0 秒〜 1 2 0分、好ましくは 2 0秒〜 6 0分である。

また、光架橋の場合、光源としては紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レ一ザ一光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架橋促進のために、予め 4 0〜1 2 0 °Cに加熱した後、これに紫外線を照射してもよい。

また、接着時の加圧力についても適宜選定され、通常 5〜5 0 k g Z c m ²、特に 1 0〜3 0 k g Z c m ²の加圧力とすることが好ましい。

このようにして導電性粘着テープ 7， 8を取り付けた電磁波シールド性光透過窓材 1， 1 Aは、極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、筐体に単にはめ込むのみで、第 1，第 2の導電性粘着テープ 7， 8を介して電磁波シールド性フィルム 1 0と筐体との良好な導通を得ることができる。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。加えて、近赤外線カットフィルム 5の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られる。さらに、透明基板 2が 1枚のみであるため、薄く軽量である。また、この透明基板 2の両面をフィルム 3， 5で被装しているから、透明基板 2の割れが防止されると共に、万一割れたときの透明基板 2 の飛散が防止される。

しかも、電磁波シールド性フィルム 1 0は、銅箔 1 1等の導電性箔のパターンエッチングによるものであるため、エツチングパターンの設計を任意に調節することで、電磁波シールド性、光透過性が共に良好なものとし、モアレ現象の問題も解消することができる。そして、この電磁波シールド性フィルム 1 0は、光吸収層 1 2を有し、かつ、この光吸収層 1 2の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成され、かつ、この凹凸が転写された透明接着剤 1 4の表面の凹凸が透明粘着剤 4 Bで埋められているため、反射防止効果が高く、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

なお、図 1， 2に示す電磁波シールド性光透過窓材は本発明の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の一例であって、'本発明は図示のものに何ら限定されるものではない。

次に、図 7を参照して、本発明の第 2の態様の電磁波シールド性光透過窓材で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法の一例を説明する。

導電性箔として例えば銅箔 1 1を準備し（図 7 A)、銅箔 1 1を、 P E T (ポリエチレンテレフタレート）フィルム 1 3等の透明な基材フィルムに透明接着剤 1 4により接着する（図 7 B )。

このようにして得られた貼り合わせフィルムについて、パターンエッチングを行い、部分的に銅箔 1 1を除去する（図 7 C )。

次いで、パターンエッチングした銅箔 1 1の表面に光吸収層 1 2を形成する（図

7 D )。この光吸収層 1 2の形成方法としては、 C u—N iなどの銅合金を成膜した後に酸、アルカリなどの処理により黒化する方法がある。この処理により表面処理された黒化面は粗面化されており、その処理条件により表面粗さ R zを変えることができる。また、光吸収性のインキを銅箔 1 1に塗布して硬化させることにより形成することができ、ここで使用される光吸収性のインクとしては、カーボンインキ、ニッケルインキ、その他喑色系有機顔料等のインキが用いられる。この光吸収層 1 2は次いでその表面 1 2 Aをショットブラストなどの、機械的に表面を粗す方法や、酸、アルカリ等の薬品により表面を粗す方法、インクに予め無機、又は有機の微粒子を混合したものを塗工して、表面の粗い塗膜を形成する方法等により粗面化して微細な凹凸を形成することにより無光沢処理を施す（図

7 E)o この光吸収層 12の厚さは、その黒化の材料や導電性によっても異なるが、導電性を損なうことなく十分な電磁波シールド性を得るために、 1 n m〜 10 μ m程度とするのが好ましく、また、良好な反射防止効果で光の散乱を十分に防止する上で、表面 1 2 Aの粗面化の程度は、表面粗さ R zで 0. 1〜20 μπι程度とするのが好ましい。

次いで、このようにして得られた銅 ΖΡ ΕΤ積層エッチングフィルム 10 aの銅箔 1 1側の面に透明粘着剤を塗布して塗膜 1 5を形成し、粘着膜付き電磁波シ一ルド性フィルム 10 Aとする（図 7 F)。

電磁波シールド性フイルムを構成する導電性箔の種類や厚さ、パターンエッチングの方法及びェツチングパターンは、前述の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法における説明と同様である。

銅箔 11等の金属箔を接着する透明な基材フィルムの種類や厚さ、透明基材フイルムと金属箔とを接着する透明接着剤についても前述の通りである。

また、銅 ZPET積層エッチングフィルム 10 aに塗布して塗膜 1 5を形成する透明粘着剤としては、各種の透明感圧接着剤を用いることができ、例えば、ァクリル系、 SB S、 S EB S等の熱可塑性エラストマ一系などが好適に用いられる。これらの粘着剤には、タツキフアイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。

透明接着剤 14と塗膜 1 5の透明粘着剤との界面で光の反射が起きないように、透明接着剤 14の屈折率と塗膜 15の透明粘着剤の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

一般に塗膜 15を形成する透明粘着剤としてのアクリル系、シリコン系の屈折率はおおむね n= l. 5程度であることから、透明接着剤 14としては屈折率 n = 1. 5程度のものを用いることが好ましい。このような透明接着剤 14としてはアクリル系、ウレタン系、ゴム系などが挙げられる。

透明粘着剤により形成される塗膜 15の厚さは、 1〜1 Ο Ο μηι程度が好ましい。なお、この透明粘着剤の塗膜 1 5は、電磁波シールド性光透過窓材の製造に当つて、後述の導電性粘着テープを貼り付ける部分は、銅箔 1 1が表出するように、その周縁以外の部分に設けられる。

次に、図 6を参照して本発明の第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明する。

図 6は、本発明の第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 6の電磁波シールド性光透過窓材 1 Bは、最表層の反射防止フィルム 3、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 A、接着剤となる接着用中間膜 4 B、透明基板 2及び最裏層の粘着剤 4 C付き近赤外線力ットフィルム 5を積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ 7 (第 2の導電性粘着テープ）を付着させて一体化したものである。粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aは、透明基板 2とほぼ同等の大きさであり、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O A、接着用中間膜 4 B及び透明基板 2の積層体の縁部には、一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ 8 (第 1の導電性粘着テープ）が付着されている。この第 1の導電性粘着テープ 8は、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Aと透明基板 2の積層体の縁部の全周にわたつて設けられていることが好ましいが、一部、例えば対向 2辺縁部に設けられていても良い。

電磁波シールド性光透過窓材 1 Bにあっては、反射防止フィルム 3は、粘着膜付き電磁波シルド性ブイルム 1 0 A及び透明基板 2よりも若千小さく、反射防止フィルム 3の縁部は粘着膜付き電磁波シールド性フイルム 1 0 A及び透明基板

2の縁部から若干（例えば 3〜2 O mm特に好ましくは 5〜1 O mm程度）後退しており、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aの周縁の第 1の導電性粘着テープ 8部分が反射防止フィルム 3によって覆われていない。このため第 1の導電性粘着テープ 8の上に第 2の導電性粘着テープ 7が直接被さり、第 1，第 2 の導電性粘着テープ 8， 7を介して、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0

Aが確実に導通される。

この実施の形態では、反射防止フィルム 3、粘着剤 4 C付き近赤外線カツトフイルム 5の周縁部が第 2の導電性粘着テープ 7に被さっていないが、これらは第 2の導電性粘着テープ 7の内側に被さっていても良い。図 6の電磁波シールド性光透過窓材 1 Bでは、第 1の導電性粘着テープ 8と第 2の導電性粘着テープ 7との導通を図る必要があるため、反射防止フィルム 3については、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O A及び透明基板 2よりも小さく、縁部が後退している必要があるが、粘着剤 4 C付き近赤外線カツトフイルム 5は透明基板 2と同等の大きさであっても良い。

反射防止フィルム 3は、その全周にわたつて粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O A及び透明基板 2の縁部から後退していることが望ましいが、一部例えば、第 1の導電性粘着テープ 8が対向 2辺縁部に設けられている場合には、その部分のみ後退し、第 2の導電性粘着テープ 7もこの対向 2辺縁部に設けられていても良い。

図 6に示す電磁波シールド性光透過窓材 1 Bを製造するには、例えば反射防止フィルム 3と、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aと、透明基板 2と、粘着剤 4 C付き近赤外線カットフィルム 5と、接着用中間膜 4 B及び第 1，第 2 の導電性粘着テープ 8， 7を準備し、予め粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aと透明基板 2とを接着用中間膜 4 Bを介して積層し、接着用中間膜の硬化条件で加圧下、加熱、又は減圧下、加熱して一体化する。

そして、この積層体の周縁に第 1の導電性粘着テープ 8を留め付ける。その後反射防止フィルム 3を粘着膜付き電磁波シールド性フイルム 1 0 Aの透明粘着剤の塗膜 1 5に押しあてて圧着し、次いで、粘着剤 4 Cにより近赤外線カットフィルム 5を貼り合わせる。その後、第 2の導電性粘着テープ 7を積層体の周囲に留め付け、用いた導電性粘着テープ 7， 8の粘着層 7 B， 8 Bの硬化方法等に従つて、加熱圧着又は減圧加熱するなどして接着固定する。

導電性粘着テープ 7， 8に架橋型導電性粘着テープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着層 7 B， 8 Bの粘着性を利用して積層体に貼り付け（この仮り止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。）、その後、必要に応じて圧力をかけながら、又は減圧状態に保持したまま加熱又は紫外線照射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよい。この加熱又は光照射を局部的に行うことで、架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるようにすることもできる。

加熱接着は、一般的なヒートシ一ラーで容易に行うことができ、また、加圧加熱方法として架橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体をオートクレープ等の加圧チャンバ一中に入れ加熱する方法、減圧加熱方法として同様の積層体を真空袋中に入れ脱気後加熱する方法でもよく、接着はきわめて容易に行える。

また、光架橋の場合、光源としては紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レ一ザ一光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによってー概には決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架橋促進のために、予め 4 0〜1 2 0 °Cに加熱した後、これに紫外線を照射してもよい。

また、接着時の加圧力についても適宜選定され、通常 5〜5 0 k g Z c m ²、特に 1 0 ~ 3 0 k g Z c m ²の加圧力とすることが好ましい。

透明基板 2の構成（材料、厚さ等）、反射防止フィルム 3の構成（材料、積層構造、厚さ等）、近赤外線カットフィルム 5の構成（材料、積層構造、厚さ等）、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 A及び透明基板 2を接着する接着用中間膜 4 Bを構成する熱硬化性樹脂及び厚さ、導電性粘着テープ 7， 8の構成（材料、厚さ等）については、第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の説明において前述した通りである。

前述の如く、特に接着用中間膜 4 Bとしては、架橋型の E V A樹脂よりなるものが好ましく、このような接着用中間膜 4 Bであれば、透明基板 2に対して粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aを接着するに当たり、接着用中間膜 4 B を介して、これらを積層し、仮圧着後（この仮圧着後は適宜貼り直しが可能である。）、加圧、加熱、又は減圧、加熱することにより、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aと透明基板 2との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができる。

図 6の電磁波シールド性光透過窓材 1 Bにおいても、近赤外線カツトフイルム 5は粘着剤 4 Cを用いて透明基板 2に積層するのが好ましい。これは、近赤外線カットフィルム 5は熱に弱く加熱架橋温度（1 3 0〜 1 5 0 °C) に耐えられないためである。低温架橋型 E V A (架橋温度 7 0〜 1 3 0 °C程度）であればこの近赤外線力ットフィルム 5の透明基板 2への接着に使用することができる。

接着用中間膜 4 Bには、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシゥム等の充填剤を適量配合してもよい。

また、接着性改良の手段として、シート化された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。この接着用中間膜 4 Bは、接着樹脂と上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダー、ロール、 Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブ口ッキング防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

接着用中間膜 4 Bとしては上記の接着剤の他、粘着剤（感圧接着剤）も好適に使用される。この粘着剤及び近赤外線カツトフイルム 5の粘着剤 4 Cとしては、アクリル系、 S B S、 S E B S等の熱可塑性エラストマ一系などが好適に用いられる。これらの粘着剤には、タツキフアイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。粘着剤は予め、透明基板 2や近赤外線カツトフイルム 5の接着面に 5〜 1 0 0 μ πιの厚みでコーティング又は貼り合わせておき、それを透明基板や他のフィルムに貼り合わせることができる。

図 6の電磁波シールド性光透過窓材 1 Βであっても、導電性粘着テープ 7， 8 を取り付けたものであるため、極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、筐体に単にはめ込むのみで、第 1，第 2の導電性粘着テープ 7， 8を介して電磁波シールド性フィルム 1 O Aと筐体との良好な導通を得ることができる。このため、良好な電磁^シールド効果が得られる。加えて、近赤外線カットフィルム 5 の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られる。さらに、透明基板 2が 1枚のみであるため、薄く軽量である。また、この透明基板 2の両面をフィルム 3， 5で被装しているから、透明基板 2の割れが防止されると共に、万一割れたときの透明基板 2の飛散が防止される。

しかも、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aは、銅箔 1 1等の導電性箔のパターンエッチングによるものであるため、エッチングパターンの設計を任意に調節することで、電磁波シールド性、光透過性が共に良好なものとし、モアレ現象の問題も解消することができる。そして、この粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Aは、光吸収層 1 2を有し、かつ、この光吸収層 1 2の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成され、かつ、この凹凸が透明粘着剤で埋められているため、反射防止効果が高く、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

即ち、図 8に示す如く、透明粘着剤の塗膜 1 5は、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 O Aの基材フィルム 1 3及び透明接着剤 1 4上に形成された、銅箔 1 1及び光吸収層 1 2による凸部を完全に埋め、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができる。

このように透明粘着剤で光の散乱をより一層確実に防止するためには、この透明粘着剤の塗膜 1 5と透明接着剤 1 4との界面で光の反射が起きないように、前述の如く、透明粘着剤の屈折率と透明接着剤 1 4の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

図 6に示す電磁波シールド性光透過窓材は本発明の第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の一例であって、本発明は図示のものに何ら限定されるものではない。

例えば、電磁波シールドフィルムとしての銅/ P E T積層エッチングフィルム

1 0 aと反射防止フィルム 3との接着は、予め形成された透明粘着剤の塗膜 1 5 により行う他、前述の接着用中間膜により行っても良い。この場合においても、用いる接着用中間膜の硬化後の接着樹脂の屈折率は、基材フィルム 1 3の屈折率とほぼ同等であることが、これらの界面での反射を防止する上で好ましい。

次に、図 1 0を参照して、本発明（第 3の態様）の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法における電磁波シールド性フィルムの製造方法の実施の形態を説明する。

導電性箔として例えば銅箔 1 1を準備し（図 1 0 A)、この銅箔 1 1の一方の面に光吸収層 1 2を形成する（図 1 0 B )。この光吸収層 1 2は次いでその表面 1 2 Aを粗面化して微細な凹凸を形成することにより無光沢処理を施す（図 1 0 C )。次いで、光吸収層 1 2を形成し、その無光沢処理を施した銅箔 1 1の無光沢処理面を、 P E T (ポリエチレンテレフタレート）フィルム 1 3等の透明な基材フイルムに透明接着剤 1 4により接着する（図 1 0 D， 1 0 E )。

このようにして得られた貼り合わせフィルムについて、常法に従ってパターンエッチングを行い、光吸収層 1 2を形成した銅箔 1 1を部分的に除去することにより、電磁波シールド性フィルムとしての銅 Z P E T積層エッチングフィルム 1 0 bを得る（図 1 0 F )。

このようにして得られた銅/ P E T積層エッチングフィルム 1 0 bの透明接着剤 1 4の表出面 1 4 Aは、光吸収層 1 2の無光沢処理による微細な凹凸が転写された凹凸面となるため、この面に透明粘着剤を塗布して塗膜 1 5を形成し、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bとする（図 1 0 G)。

光吸収層 1 2の形成方法、無光沢処理方法や、光吸収層 1 2の厚さ、その表面 1 2 Aの粗面化の程度については、第 1の態様の電磁波シールド性光透過窓材で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法の説明において前述した通りである塗膜 1 5を形成する透明粘着剤としては、各種の透明感圧接着剤を用いることができ、例えば、アクリル系、 S B S、 S E B S等の熱可塑性エラストマ一系などが好適に用いられる。これらの粘着剤には、タツキフアイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。透明粘着剤の塗膜 1 5を形成することにより、透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に透明粘着剤が回り込んでこれが完全に埋められ、この凹凸に起因する光の散乱は防止される。

透明粘着剤で、透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に起因する光の散乱をより一層確実に防止するためには、この透明接着剤 1 4と塗膜 1 5の透明粘着剤との界面で光の反射が起きないように、透明接着剤 1 4の屈折率と塗膜 1 5の透明粘着剤の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

従って、一般に塗膜 1 5の透明粘着剤としてのアクリル系、シリコン系の屈折率はおおむね n = l . 5程度であることから、透明接着剤 1 4としては屈折率 n = 1 . 5程度のものを用いることが好ましい。このような透明接着剤 1 4としてはアクリル系、ウレタン系、ゴム系などが挙げられる。

このような透明粘考剤により形成される塗膜 1 5の厚さは、厚過ぎても薄過ぎても後述の透明基板への接着に当たり良好な接着を行えないため、 1〜1 0 m望ましくは 2〜 5 0 m程度の厚さとするのが好ましい。

なお、この透明粘着剤の塗膜 1 5は、電磁波シールド性光透過窓材の製造に当つて、後述の導電性粘着テープを貼り付ける部分は、銅箔 1 1が表出するように、その周縁以外の部分に設けられる。

電磁波シールド性フイルムを構成する導電性箔の種類や厚さ、パターンエッチングの方法及ぴエッチングパターンは、前述の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材で用いる電磁波シールド性フィルムの製造方法における説明と同様である。

銅箔 1 1等の金属箔を接着する透明な基材フ.イルムの種類や厚さ、透明基材フイルムと金属箔とを接着する透明接着剤についても前述の通りである。

次に、図 9を参照して、このような粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bを用いる本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法の実施の形態を詳細に説明する。

図 9は、本発明で製造される電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

図 9の電磁波シールド性光透過窓材 1 Cは、最表層の反射防止フィルム 3、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B、透明基板 2及ぴ最裏層の近赤外線力ットフィルム 5を、接着剤となる接着用中間膜 4 A、塗膜 1 5の透明粘着剤及び粘着剤 4 Cにより積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ 7 (第 2の導電性粘着テープ）を付着させて一体化したものである。粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bは、透明基板 2とほぼ同等の大きさであり、その縁部の銅箔 1 1の表面部分に一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ 8 (第 1の導電性粘着テープ）が付着されている。この第 1の導電性粘着テープ 8は、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B の縁部の全周にわたって設けられていることが好ましいが、一部、例えば対向 2 辺縁部に設けられていても良い。

電磁波シールド性光透過窓材 1 Cにあっては、反射防止フィルム 3及ぴその下の接着用中間膜 4 Aは粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B及び透明基板 2よりも若干小さく、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aの縁部は粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B及び透明基板 2の縁部から若干（例えば 3 〜2 O mm特に好ましくは 5〜1 O mm程度）後退しており、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bの周縁の第 1の導電性粘着テープ 8部分が反射防止フイルム 3及ぴ接着用中間膜 4 Aによって覆われていない。このため第 1の導電性粘着テープ 8の上に第 2の導電性粘着テープ 7が直接被さり、第 1，第 2の導電性粘着テープ 8， 7を介して、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bが確実に導通される。

粘着剤 4 C付き近赤外線カツトフイルム 5も透明基板 2よりも若干小さく、該粘着剤 4 C付き近赤外線力ットフィルム 5の縁部は透明基板 2の縁部から若干

(例えば 3〜 2 O mm特に好ましくは 5〜 1 0 mm程度）後退している。

この実施の形態では、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 A、粘着剤 4 C 付き近赤外線力ットフィルム 5の周縁部が第 2の導電性粘着テープ 7に被さっていないが、これらは第 2の導電性粘着テープ 7の内側に被さっていても良い。図

9の電磁波シールド性光透過窓材 1 Cでは、第 1の導電性粘着テープ 8と第 2の導電性粘着テープ 7との導通を図る必要があるため、反射防止フィルム 3及ぴ接着用中間膜 4 Aについては、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B及ぴ透明基板 2よりも小さく、縁部が後退している必要があるが、粘着剤 4 C付き近赤外線カツトフイルム 5は透明基板と同等の大きさであっても良い。反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aは、その全周にわたって粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B及ぴ透明基板 2の縁部から後退していることが望ましいが、一部例えば、第 1の導電性粘着テープ 8が対向 2辺縁部に設けられている場合には、その部分のみ後退し、第 2の導電性粘着テープ 7もこの対向 2 辺縁部に設けられていても良い。

図 9に示す電磁波シールド性光透過窓材 1 Cを製造するには、反射防止フィルム 3と、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bと、透明基板 2と、粘着剤 4 C付き近赤外線カットフィルム 5と、接着用中間膜 4 A及び第 1 , 第 2の導電性粘着テープ 8， 7を準備し、予め粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B の周縁に第 1の導電性粘着テープ 8を留め付け、これを透明基板 2に貼り付ける。この接着に当っては、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bの透明粘着剤の塗膜 1 5側を透明基板 2に当接してこれらを積層し、仮圧着後（この仮圧着後は適宜貼り直しが可能である。）、加圧、加熱、又は減圧、加熱することにより、図 1 1に示す如く、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bと透明基板 2との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができる。そして、粘着膜付き電磁波シールド性フイルム 1 0 Bの透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸は透明粘着剤 1 5，が回り込むことにより、完全に埋められているため、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができる。特に、透明接着剤 1 4 と透明粘着剤 1 5 ' の屈折率をほぼ等しいものとすることにより、光の散乱はより一層確実に防止される。

その後、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bを貼り付けた透明基板 2 上に接着用中間膜 4 Aを介在させて反射防止フィルム 3を積層し、接着用中間膜 4 Aの硬化条件で加圧下、加熱、又は減圧、加熱して一体化する。次いで、粘着剤 4 Cにより近赤外線カットフィルム 5を貼り合わせる。その後、第 2の導電性粘着テープ 7を積層体の周囲に留め付け、用いた導電性粘着テープ 7 , 8の粘着層 7 B， 8 Bの硬化方法等に従って、加熱圧着、又は減圧加熱するなどして接着固定する。

導電性粘着テープ 7， 8に架橋型導電性粘着テープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着層 7 B， 8 Bの粘着性を利用して電磁波シールド性フィルム、積層体に貼り付け（この仮り止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。）、その後、必要に応じて圧力をかけながら、又は減圧状態に保持したまま加熱又は紫外線照射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよい。この加熱又は光照射を局部的に行うことで、架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるようにすることもできる。

また、光架橋の場合、光源としては紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レ一ザ一光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによってー概には決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架橋促進のために、予め 4 0〜 1 2 0 °Cに加熱した後、これに紫外線を照射してもよい。

また、接着時の加圧力についても適宜選定され、通常 5〜5 0 k g Z c m ²、特に 1 0〜3 0 k g / c m ²の加圧力とすることが好ましい。

透明基板 2の構成（材料、厚さ等）、反射防止フィルム 3の構成（材料、積層構造、厚さ等）、近赤外線カツトフイルム 5の構成（材料、積層構造、厚さ等）、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 B及び反射防止フィルム 3を接着する接着用中間膜 4 Aを構成する熱硬化性樹脂及び厚さ、導電性粘着テープ 7， 8の構成（材料、厚さ等）については、第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の説明において前述した通りである。

なお、接着用中間膜 4 Aとしては前述の接着剤の他、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bに用いられる透明粘着として例示したものも好適に使用される。近赤外線力ットフィルム 5の粘着剤 4 Cとしても、粘着膜付き電磁波シールド性フィルム 1 0 Bの透明粘着剤として例示したものを用いることができ、この粘着剤 4 Cは予め、近赤外線カツトフイルム 5の接着面に 5〜1 0 0 μ ηιの厚みでコーティング又は貼り合わせておき、それを透明基板や他のフィルムに貼り合わせることができる。

近赤外線カツトフイルム 5については、粘着剤 4 Cを用いて透明基板 2に積層するのが好ましい。これは、近赤外線カットフィルム 5は熱に弱く加熱架橋温度 ( 1 3 0〜 1 5 0 °C)に耐えられないためである。ただし、低温架橋型 E V A (架橋温度 7 0〜 1 3 0 °C程度）であればこの近赤外線力ットフィルム 5の透明基板 2への接着に使用することができる。

図 9に示す如く、導電性粘着テープ 7， 8を取り付けた電磁波シールド性光透過窓材 1 Cは、極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、筐体に単にはめ込むのみで、第 1，第 2の導電性粘着テープ 7， 8を介して電磁波シールド性フィルム 1 0 Bと筐体との良好な導通を得ることができる。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。加えて、近赤外線カットフィルム 5の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られる。さらに、透明基板 2が 1枚のみであるため、薄く軽量である。また、この透明基板 2の両面をフィルム 3， 5で被装しているから、透明基板 2の割れが防止されると共に、万一割れたときの透明基板 2 の飛散が防止される。

電磁波シールド性フィルム 1 0 Bは、銅箔 1 1等の導電性箔のパターンエッチングによるものであるため、エッチングパターンの設計を任意に調節することで、電磁波シールド性、光透過性が共に良好なものとし、モアレ現象の問題も解消することができる。そして、この電磁波シールド性フィルム 1 0 Bは、光吸収層 1 2を有し、かつ、この光吸収層 1 2の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成され、かつ、この凹凸が転写された透明接着剤 1 4の表面の凹凸が透明粘着剤 1 5，で埋められているため、反射防止効果が高く、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

図 9に示す電磁波シールド性光透過窓材は本発明の方法で製造される電磁波シールド性光透過窓材の一例であって、本発明は図示のものに何ら限定されるものではない。

以上詳述した本発明の電磁波シールド性光透過窓材、及び本発明の方法で製造される電磁波シールド性光透過窓材は、 P D Pの前面フィルタとして、或いは、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材等としてきわめて好適である。

次に、図 1 2， 1 3を参照して本発明の表示パネルの実施の形態を詳細に説明する。

図 1 2は、本発明の第 4の態様に係る表示パネルの実施の形態を示す模式的な断面図であり、図 1 3は本発明の第 5の態様に係る表示パネルの実施の形態を示す断面図である。

図 1 2の表示パネル 3 O Aは、最表層の反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルムとしての銅ノ P E T積層エッチングフィルム 1 0 (この電磁波シールド性フィルム 1 0は、本発明の第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材で使用される電磁波シールド性フィルムと同様の構成であり、前述の図 3 A〜 3 F に示す手順で製造される。）、近赤外線カツトフイルム 5と、 P D P本体 2 0とを、接着剤となる接着用中間膜 4 A， 4 B , 4 Cを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の緣部とに導電性粘着テープ 7 (第 2の導電性粘着テープ）を付着させて一体化したものである。

図 1 3の表示パネル 3 0 Bは、最表層の反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルムとしての銅 Z P E T積層エッチングフィルム 1 0 a (この電磁波シールド性フィルム 1 0 aは、本発明の第 2の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材で使用される電磁波シールド性フィルムの透明粘着剤の塗膜 1 5を形成する前の銅/ P E T積層エッチングフィルム 1 0 aと同様の構成であり、前述の図 7 A 〜 7 Eに示す手順で製造される。）、近赤外線カットフィルム 5と、 P D P本体 2 0とを、接着剤となる接着用中間膜 4 A, 4 B , 4 Cを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ 7を付着させて一体化したものである。

電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aは、 P D P本体 2 0とほぼ同等の大きさであり、その縁部に一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ

8 (第 1の導電性粘着テープ）が付着されている。この第 1の導電性粘着テープ 8は、電磁波シールド性フィルム 1 0 , 1 0 aの縁部の全周にわたって設けられていることが好ましいが、一部、例えば対向 2辺縁部に設けられていても良い。この表示パネル 3 O A, 3 O Bにあっては、反射防止フィルム 3及びその下の接着用中間膜 4 Aは電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aよりも若干小さく、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aの縁部は電磁波シールド性フィルム 1 0 , 1 0 aの縁部から若干（例えば 3〜2 O mm特に好ましくは 5〜 1 O mm程度）後退しており、電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aの周縁の第 1の導電性粘着テープ 8部分が反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aによつて覆われていない。このため第 1の導電性粘着テープ 8の上に第 2の導電性粘着テープ 7 が直接被さり、第 1，第 2の導電性粘着テープ 8， 7を介して、電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aが確実に導通される。

この実施の形態では、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aの周縁部が第 2の導電性粘着テープ 7に被さっていないが、これらは第 2の導電性粘着テープ 7の外側に被さっていても良い。図 1 2， 1 3の表示パネル 3 0 A， 3 0 Bでは、第 1の導電性粘着テープ 8と第 2の導電性粘着テープ 7との導通を図る必要があるため、反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aについては、電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aよりも小さく、縁部が後退している。

反射防止フィルム 3及び接着用中間膜 4 Aは、その全周にわたって電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aの縁部から後退していることが望ましいが、一部例えば、第 1の導電性粘着テープ 8が対向 2辺縁部に設けられている場合には、その部分のみ後退し、第 2の導電性粘着テープ 7もこの対向 2辺縁部に設けられていても良い。

反射防止フィルム 3の構成（材料、積層構造、厚さ等）、近赤外線カツトフィルム 5の構成（材料、積層構造、厚さ等）、反射防止フィルム 3、電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 a、近赤外線力ットフィルム 5及び P D P本体 2 0を接着する接着用中間膜 4 A， 4 B， 4 Cを構成する熱硬化性樹脂及び厚さ、導電性粘着テープ 7， 8の構成（材料、厚さ等）については第 1の態様に係る電磁波シールド性光透過窓材の説明において前述したものと同様である。

P D P本体 2 0としては、図 1 6に示すような P D Pを採用することができる。本発明の電磁波シールド性光透過窓材と同様に、接着用中間膜 4 A〜 4 Cを構成する熱硬化性樹脂が、架橋型の E V A樹脂であれば、表示パネル 3 O A, 3 0 Bの構成部材を積層して接着するに当たり、接着用中間膜 4 A〜 4 Cを介して、各部材を積層し、仮圧着後（この仮圧着後は適宜貼り直しが可能である。）、加圧、加熱することにより、部材間に気泡を残留させることなく両者を接着することができる。従って、図 1 2の表示パネル 3 0 Aにあっては、電磁波シールド性フィルム 1 0と近赤外線力ットフィルム 5との間に接着用中間膜 4 Bを介して、これらを積層し、仮圧着後、加圧、加熱することにより、例えば図 1 4に示す如く、電磁波シールド性フィルム 1 0と赤外線力ットフイルム 5との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができ、従って、電磁波シールド性フィルム 1 0の透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な凹凸に接着用中間膜 4 Bの接着樹脂 4 B ' を回り込ませてこれを完全に埋め、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができ、好ましい。

このように接着用中間膜 4 Bの接着樹脂 4 B ' で、電磁波シールド性フィルム 1 0の透明接着剤 1 4の表面 1 4 Aの微細な四凸に起因する光の散乱をより一層確実に防止するためには、この透明接着剤 1 4と接着樹脂 4 B，との界面で光の反射が起きないように、透明接着剤 1 4の屈折率と硬化後の接着樹脂 4 B ' の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。

接着樹脂 4 B ' としての E V A樹脂の屈折率はおおむね n = 1 . 5程度であることから、透明接着剤 1 4としては屈折率 n == 1 . 5程度のものを用いるのが好ましい。このような透明接着剤 1 4としては、アクリル系、ウレタン系、ェポキシ系、ゴム系等が挙げられる。

同様に、図 1 3の表示パネル 3 0 Bにおいても、電磁波シールド性フィルム 1

0 aと反射防止フィルム 3とを接着するに当たり、接着用中間膜 4 Aを介して、これらを積層し、仮圧着後、加圧、加熱することにより、例えば図 1 5に示す如く、電磁波シード性フィルム 1 0 aと反射防止フィルム 3との間に気泡を残留させることなく両者を接着することができ、電磁波シールド性フィルム 1 0 aの基材フィルム 1 3及び透明接着剤 1 4上に形成された、銅箔 1 1及び光吸収層 1

2による凸部を接着用中間膜 4 Aの接着樹脂 4 A ' で完全に埋め、この凹凸に起因する光の散乱を確実に防止することができる。

このように接着用中間膜 4 Aの接着樹脂 4 A，と、電磁波シールド性フィルム 10 aの透明接着剤 14との界面での光の反射を低減させるため、透明接着剤 1 4の屈折率と硬化後の接着樹脂 4 A，の屈折率がほぼ等しいことが好ましい。接着樹脂 4A，としての EVA樹脂の屈折率はおおむね n= 1. 5程度であることから、透明接着剤 14としては屈折率 n= 1. 5程度のものを用いることが好ましい。このような透明接着剤 14としてはアクリル系、ウレタン系、ゴム系などが挙げられる。

接着用中間膜 4A， 4B， 4 Cとしては前述の接着剤の他、透明粘着剤（感圧接着剤）も好適に使用される。この透明粘着剤としては、アクリル系、 SB S、 S EB S等の熱可塑性エラストマ一系などが好適に用いられる。これらの透明粘着剤には、タツキフアイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。透明粘着剤は予め、反射防止フィルム 3や電磁波シールド性フィルム 10， 10 a、近赤外線力ットフィルム 5の接着面に 5〜 1 00 mの厚みでコーティング又は貼り合わせておき、それを PD P本体 20や他のフィルムに貼り合わせることができる。

特に、近赤外線カツトフイルム 5は粘着剤を用いて積層接着するのが好ましい。これは、近赤外線カツトフイルム 5は熱に弱く加熱架橋温度（130〜1 50°C) に耐えられないためである。なお、低温架橋型 EVA (架橋温度 70〜130°C 程度）であればこの近赤外線カツトフイルム 5の接着に使用することができる。図 1 2， 1 3に示す表示パネル 3 OA, 30 Bを製造するには、例えば反射防止フィ /レム 3と、電磁波シールド性フィルム 10， 10 aと、近赤外線力ットフイルム 5と、 PDP本体 20と、接着用中間膜 4 A， 4 B, 4 C及び第 1，第 2 の導電性粘着テープ 8， 7を準備し、予め電磁波シールド性フィルム 10， 10 aの周縁に第 1の導電性粘着テープ 8を留め付け、反射防止フィルム 3、第 1の導電性粘着テープ 8付き電磁波シールド性フィルム 10， 10 a、近赤外線力ットフイルム 5、 PD P本体 20を各々の間に接着用中間膜 4 A， 4B， 4 Cを介在させて積層し、接着用中間膜の硬化条件で加圧下、加熱して一体化する。次いで、第 2の導電性粘着テープ 7を積層体の周囲に留め付け、用いた導電性粘着テープ 7， 8の粘着層 7 B， 8 Bの硬化方法等に従って、加熱圧着するなどして接着固定する。

導電性粘着テープ 7， 8に架橋型導電性粘着テープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着層 7 B， 8 Bの粘着性を利用して電磁波シールド性フィルムゃ積層体に貼り付け（この仮り止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。）、その後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線照射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよい。この加熱又は光照射を局部的に行うことで、架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるようにすることもできる。

このようにして導電性粘着テープ 7， 8を取り付けた表示パネル 3 0 A， 3 0

Bは、極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、筐体に単にはめ込むのみで、第 1，第 2の導電性粘着テープ 7， 8を介して電磁波シールド性フィルム

1 0， 1 0 aと筐体との良好な導通を得ることができる。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aの前面側に反射防止フィルム 3が設けられているため、この反射防止フィルム 3により、良好な反射防止効果が得られる。近赤外線カットフィルム 5の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られ、リモコンの誤作動等を防止することができる。さらに、 P D P本体 2 0に対して、フィルムを積層、接着したものであるため、薄く軽量である。また、最表層の反射防止フィルム 3と電磁波シールド性フィルム 1 0 , 1 0 aと近赤外線カツトフイルム 5とで P D P本体 2 0の前面をフィルムで被装しているから、 P D P本体が保護され、耐衝撃性が高められて割れが防止されると共に、万一 P D P本体が割れたときの P D P本体 2 0の飛散が防止される。

しかも、電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aは、銅箔 1 1等の導電性箔のパターンエッチングによるものであるため、エッチングパターンの設計を任意に調節することで、電磁波シールド性、光透過性が共に良好なものとし、モアレ現象の問題も解消することができる。そして、この電磁波シールド性フィルム 1 0， 1 0 aは、光吸収層 1 2を有し、かつ、この光吸収層 1 2の表面に粗面化処理により微細な凹凸が形成され、電磁波シールド性フィルム 1 0を用いた表示パネル 3 O Aにあっては、この HO凸が転写された透明接着剤 1 4の表面の凹凸が接着樹脂で埋められているため、反射防止効果が高く、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。また、電磁波シールド性フィルム 1 0 aを用いた表示パネル 3 0 Bにあっては、光吸収層 1 2及ぴ銅箔 1 1の凹凸が接着樹脂で埋められているため、反射防止効果が高く、コントラストの高い鮮明な画像を得ることができる。

なお、図 1 2， 1 3に示す表示パネルは本癸明の表示パネルの一例であって、本発明は図示のものに何ら限定されるものではない。産業上の利用可能性

以上詳述した通り、本発明によると、電磁波シールド性に優れる上に、反射防止効果が高く、透明性、視認性に優れるため、鮮明な画像を得ることができ、 P D Pの前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性光透過窓材が提供される。また、本発明の表示パネルによれば、 P D P等の表示パネル本体と、電磁波シールド性フィルムを一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及ぴコストの低減を図ることができる。また、リモコンの誤作動を防止することができる。しかも、この電磁波シールド性フィルムは、電磁波シールド性に優れる上に、反射防止効果が高く、透明性、視認性に優れるため、鮮明な画像を得ることができる。

Claims

請求の範囲

( 1 ) 少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、

該電磁波シールド性フィルムは透明な基材フィルムと、該基材フィルムの該透明基板側の面に透明接着剤により接着され、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、

該箔の該基材フィルム側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フィルム側の面が粗面化処理されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 2 ) 請求項 1において、該電磁波シールド性フィルムは、前記導電性箔側の面が、熱硬化性樹脂により該透明基板に接着されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 3 ) 請求項 2において、該熱硬化性樹脂が架橋剤を含む架橋型熱硬化性樹脂であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 4 ) 請求項 2又は 3において、硬化後の該熱硬化性樹脂と該電磁波シールド性フィルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 5 ) 請求項 1において、該電磁波シールド性フィルムは、前記導電性箔側の面が、透明粘着剤により該透明基板に接着されていることを特徴とする電磁波シルド性光透過窓材。

( 6 ) 請求項 5において、該電磁波シールド性フィルムは、該フィルムのパターンエッチングされた導電性箔面上に透明粘着剤が直接塗工されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 7 ) 請求項 5又は 6において、該透明粘着剤と該電磁波シールド性フィルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 8 ) 少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの前記透明基板と反対側の面に透明接着剤により接着された、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、

該箔の該基材フィルムと反対側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、

該光吸収層の該基材フィルムと反対側の面が粗面化処理されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(9) 請求項 8において、該電磁波シールド性フィルムの導電性箔側の面に透明粘着剤の塗膜が形成されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(10) 請求項 9において、該透明粘着剤と該電磁波シールド性フィルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(1 1) 請求項 1ないし 10のいずれか 1項において、該光吸収層の粗面化処理面の表面粗さ Rzが 0. 1〜20 μπιであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(12) 請求項 1ないし 1 1のいずれか 1項において、

1枚の透明基板と、最表層の反射防止フィルムと、前記電磁波シールド性フィルムと、近赤外線力ットフィルムとが積層一体化された積層体よりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(13) 請求項 12において、

1枚の透明基板と、最表層の反射防止フィルムと、該透明基板と該反射防止フィルムとの間に介在された前記電磁波シールド性フイルムと、近赤外線力ットフイルムとが積層一体化された積層体よりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

(14) 請求項 12又は 13において、該電磁波シールド性フィルムの縁部に、該電磁波シールド性フィルムの一方の面から他方の面に回り込むように第 1の導電性テープが付着されており、

前記反射防止フィルムの縁部の少なくとも一部は該電磁波シールド性フィルムの縁部よりも後退しており、該積層体の最表面の縁部から該積層体の端面を経て、該積層体の最裏面の縁部に達するように第 2の導電性テープが付着されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 1 5 ) 請求項 1 3において、該透明基板及び該透明基板に接着された電磁波シールド性フィルムの縁部に、該電磁波シールド性フィルムの表面から該透明基板の裏面に回り込むように第 1の導電性テープが付着されており、

前記反射防止ブイルムの縁部の少なくとも一部は該電磁波シールド性フィルムの縁部よりも後退しており、

該積層体の最表面の縁部から該積層体の端面を経て、該積層体の最裏面の縁部に達するように第 2の導電性テープが付着されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。

( 1 6 ) 少なくとも電磁波シールド性フィルムと透明基板とを積層一体化して電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法において、

導電性箔の一方の面に光吸収層を形成する工程と、

該光吸収層の表面を粗面化処理する工程と、

この光吸収層付きの導電性箔を透明接着剤により透明な基材フィルムに接着する工程と、

該基材フィルム上に接着された光吸収層付きの導電性箔をパターンエッチングする工程と、 '

このパターンェツチングにより得られた電磁波シールド性フィルムのエツチング処理面側に透明粘着剤を塗布して塗膜を形成する工程と、

該電磁波シールド性ブイルムの塗膜形成面を透明基板に圧着して該電磁波シールド性フィルムと該透明基板とを積層一体化する工程と

を有することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 1 7 ) 請求項 1 6において、該透明粘着剤の塗膜の厚さが 1〜1 0 0 μ πιであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 1 8 ) 請求項 1 6又は 1 7において、該電磁波シールド性フィルムを該透明基板に直接接着することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 1 9 ) 請求項 1 6ないし 1 8のいずれか 1項において、該透明粘着剤と該電磁波シールド性フィルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 2 0 ) 請求項 1 6ないし 1 9のいずれか 1項において、該光吸収層の粗面化処理面の表面粗さ R zが 0 . 1〜2 0 // mであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 2 1 ) 請求項 1 6ないし 2 0のいずれか 1項において、

1枚の透明基板と、最表層の反射防止フィルムと、該透明基板と反射防止フィルムとの間に介在された前記電磁波シールド性フィルムと、近赤外線カツトフィルムとを積層一体化することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 2 2 ) 請求項 2 1において、該電磁波シールド性フィルムの縁部に、該電磁波シールド性フィルムの一方の面から他方の面に回り込むように第 1の導電性テ —プを付着させ、

前記透明基板と反射防止フィルムと電磁波シールド性フィルムと近赤外線力ットフイルムとの積層体において、該反射防止フィルムは、その縁部の少なくとも一部が該電磁波シールド性フィルムの縁部よりも後退する大きさとし、

該積層体の最表面の縁部から該積層体の端面を経て、該積層体の最裏面の縁部に達するように第 2の導電性テープを付着させることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。

( 2 3 ) 表示パネル本体と、該表示パネル本体の前面に配置された電磁波シ一ルド性フィルムとを備えてなる表示パネルにおいて、

該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの該表示パネル本体側の面に透明接着剤により接着され、パターンエッチングされた導電性箔とを備えており、

該箔の該基材フィルム側の面には反射防止用の光吸収層が設けられており、該光吸収層の該基材フィルム側の面が粗面化処理されていることを特徴とする表示パネル。

( 2 4 ) 請求項 2 3において、該電磁波シールド性フィルムと表示パネル本体との間に近赤外線力ットフイルムが設けられていることを特徴とする表示パネル。 ( 2 5 ) 請求項 2 3又は 2 4において、該電磁波シールド性フィルムは、前記導電性箔側の面が、熱硬化性樹脂又は透明粘着剤により該表示パネル本体又は近赤外線力ットフィルムに接着されていることを特徴とする表示パネル。

( 2 6 ) 請求項 2 5において、硬化後の該熱硬化性樹脂又は透明粘着剤と該電磁波シールド性ブイルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする表示パネル。

( 2 7 ) 請求項 2 5又は 2 6において、該熱硬化性樹脂が架橋剤を含む架橋型熱硬化性樹脂であることを特徴とする表示パネル。

( 2 8 ) 表示パネル本体と、該表示パネル本体の前面に配置された電磁波シールド性フィルムとを備えてなる表示パネルにおいて、

該電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの該表示パネル本体と反対側の面に透明接着剤により接着された、パターンエツチングされた導電性箔とを備えており、

該光吸収層の該基材フィルムと反対側の面が粗面化処理されていることを特徴とする表示パネル。

( 2 9 ) 請求項 2 8において、該電磁波シールド性フィルムの前面側に反射防止フィルムが設けられていることを特徴とする表示パネル。

( 3 0 ) 請求項 2 9において、該電磁波シールド性フィルムは、前記導電性箔側の面が、熱硬化性樹脂又は透明粘着剤により該反射防止フィルムに接着されていることを特徴とする表示パネル。

( 3 1 ) 請求項 3 0において、硬化後の該熱硬化性樹脂又は透明粘着剤と該電磁波シールド性フィルムの前記透明接着剤とは、屈折率がほぼ等しいことを特徴とする表示パネノレ。

( 3 2 ) 請求項 3 0又は 3 1において、該熱硬化性樹脂が架橋剤を含む架橋型熱硬化性樹脂であることを特徴とする表示パネル。

( 3 3 ) 請求項 2 3ないし 3 2のいずれか 1項において、最表層の反射防止フイルムと、前記電磁波シールド性フィルムと、近赤外線力ットフィルムと、表示パネル本体とが積層一体化された積層体よりなることを特徴とする表示パネル。

( 3 4 ) 請求項 3 3において、該電磁波シールド性フィルムの縁部に、該電磁波シールド性フィルムの一方の面から他方の面に回り込むように第 1の導電性テープが付着されており、

前記反射防止フィルムの縁部の少なくとも一部は該電磁波シールド性フィルムの縁部よりも後退しており、

該積層体の最表面の縁部から該積層体の端面を経て、該積層体の最裏面の縁部に達するように第 2の導電性テープが付着されていることを特徴とする表示パネル。

( 3 5 ) 請求項 2 3ない 3 4のいずれか 1項において、該光吸収層の粗面化処理面の表面粗さ R zが 0 . 1〜2 0 /z mであることを特徴とする表示パネル。

( 3 6 ) 請求項 2 3ないし 3 5のいずれか 1項において、表示パネル本体はプことを特徴とする表示パネル。