KR20080010539A - 플라즈마 디스플레이 패널, 그 전면필터 및 그 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널, 그 전면필터 및 그 제조방법 Download PDF

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KR20080010539A
KR20080010539A KR1020060070641A KR20060070641A KR20080010539A KR 20080010539 A KR20080010539 A KR 20080010539A KR 1020060070641 A KR1020060070641 A KR 1020060070641A KR 20060070641 A KR20060070641 A KR 20060070641A KR 20080010539 A KR20080010539 A KR 20080010539A
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김현철
이명원
문진산
신정철
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 몰드를 준비하여 수지층 상에 음각을 형성하는 단계; 상기 수지층 상에 형성된 음각 내부에 도전성 물질을 주입하여 전자파 차폐막을 형성하는 단계; 및 상기 전자파 차폐막이 형성된 수지층을 글라스 또는 필름 상에 부착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법을 제공한다.
따라서, 본 발명에 의하면 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터를 전면 유리에 직접 형성하고, 그 두께와 무게를 줄이면서도 외부 충격 흡수력을 강화하며, 격자 간격과 패턴을 일정하게 할 수 있다.
수지층, 음각, 점탄성

Description

플라즈마 디스플레이 패널, 그 전면필터 및 그 제조방법{Plasma display panel, front filter of it and method for manufacturing it}
도 1 내지 도 4는 본 발명에 따른 전면필터의 제조방법의 일실시예를 나타낸 도면이고,
도 5는 도 4에 도시된 전면필터의 평면도이고,
도 6 내지 도 10은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법의 일실시예를 나타낸 도면이고,
도 11은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일실시예를 나타낸 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100, 700 : 몰드 110, 220, 620, 710 : 음각
120, 210, 630, 720 : 단 200, 610 : 수지층
300, 900 : 도전성 물질 400 : 글래스, 필름
1100 : 전면패널 600, 1101 : 전면 유리
1102, 1103 : 유지전극쌍 1104, 1115 : 유전체
1105 : 보호막 1106 : 전면필터
1100 : 후면패널 1111 : 후면 유리
1112 : 격벽 1113 : 어드레스 전극
1114 : 형광체
멀티 미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다. 그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube)는 한계가 있어서, LCD(Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel) 및 프로젝션 TV(Television) 등이 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 급속도로 발전하고 있다.
상술한 PDP 등의 디스플레이 장치의 최대 특징은 자체 발광형인 CRT와 비교하여 얇은 두께로 제작될 수 있고, 평면의 대화면(60~80inch)제작이 손쉬울 뿐 아니라 style이나 design 면에서 종래 CRT와는 명확히 구별이 된다. 그러나, 상술한 PDP 등은 구동 과정에서 전자파 등이 발생하므로, 이를 차단하기 위하여 화상이 표시되는 패널의 전면에 전면필터가 구비된다. 이하에서 PDP의 전면필터 및 그 문제점에 대하여 설명한다.
PDP는 어드레스 전극을 구비한 하판과, 서스테인 전극쌍을 구비한 상판과 격벽으로 정의되는 방전셀을 가지며, 방전셀 내에는 형광체가 도포되어 화면을 표시한다. 구체적으로, 상기 상판과 하판 사이의 방전 공간 내에서 방전이 일어나면 이 때 발생된 자외선이 형광체에 입사되어 가시광선이 발생하고, 상기 가시광선에 의하여 화면이 표시된다.
상술한 PDP의 전면에는 전면필터가 구비되는데, 전면필터는 전자파(EMI, ElectroMagnetic Interference)와 근적외선(NIR, Near Infrared Rays)을 차폐하고 색보정 및 외부에서 입사되는 빛의 반사를 방지하는 역할 등을 한다. 종래에는 글래스(glass) 위에 상술한 기능을 수행하는 복수 개의 층이 구비된 글래스형 전면필터가 사용되었다. 그러나, 글래스형 전면필터는 외부의 충격으로부터 전면필터가 손상되는 것을 방지할 수 있으나, 두께가 두껍고 무게가 무거우며 제조비용이 상승하는 단점이 있었다.
따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위하여 필름형 전면필터가 제안되었다. 필름형 전면필터는 베이스 필름 상에 근적외선 차폐막, 전자파 차폐막, 색보정막 및 무반사막 등이 차례로 구비되며, 각각의 막은 접착제로 접합되어 있다.
상술한 전자파 차폐막의 구성을 설명하면 다음과 같다. 베이스필름(basefilm) 상에 도전성 물질이 메쉬(mesh) 형상으로 구비되며, 상기 도전성 물질은 프레임에 의해 지지되기도 한다. 메쉬 형상은, 도전성 물질을 사진 석판술(Photolithography) 또는 식각 공정 또는 스퍼터링(sputtering)법 등으로 PET(polyethylen terephthalate) 베이스필름 상에 패터닝(patterning)하여 형성된다.
그러나, 상술한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터는 다음과 같은 문제점이 있었다.
첫째, 전자파 차폐막과 근적외선 차폐막 등 복수 개의 층으로 이루어져 공정이 복잡하고 제조비용이 상승한다.
둘째, 글래스 또는 필름 상에 구비되어 전면 유리 상에 접합되므로, 무게의 증가와 재료비가 증가한다.
셋째, 전면 유리에 충격이 가해질 경우 충격 흡수력이 약한 단점이 있다.
넷째, 전면필터를 플라즈마 디스플레이 패널의 상판 유리 상에 접합할 때, 격자 간격의 어긋남이나 격자 패턴의 변형이 잘 일어나 가시광선의 투과율이 나빠진다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 전면 유리 상에 직접 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 외부 충격 흡수력을 강화한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터의 두께와 무게를 줄이는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터의 전자파 차폐막의 격자 간격과 패턴을 일정하게 하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 몰드를 준비하여 수지층 상에 음각 을 형성하는 단계; 상기 수지층 상에 형성된 음각 내부에 도전성 물질을 주입하여 전자파 차폐막을 형성하는 단계; 및 상기 전자파 차폐막이 형성된 수지층을 글라스 또는 필름 상에 부착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 다른 실시 형태에 의하면 글라스 또는 필름 상에 구비되고, 음각이 형성된 수지층; 및 상기 음각에 적층된 도전성 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터를 제공한다.
본 발명의 또 다른 실시 형태에 의하면 전면 유리 상에 수지층을 형성하는 단계; 몰드를 준비하여 상기 수지층 상에 음각을 형성하는 단계; 및 상기 음각 내부에 도전성 물질을 주입하여 전자파 차폐막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 또 다른 실시 형태에 의하면 격벽을 사이에 두고 서로 마주보는 전면패널과 후면패널; 및 상기 전면 패널 상에 형성되고, 음각이 형성된 수지층과 상기 음각에 적층된 도전성 물질이 구비된 전면필터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
종래와 동일한 구성 요소는 설명의 편의상 동일 명칭 및 동일 부호를 부여하며 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 1 내지 도 4는 본 발명에 따른 전면필터의 제조방법의 일실시예를 나타낸 도면이다. 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 전면필터의 제조방법의 일실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 1에 도시된 바와 같이 음각(110)이 형성된 몰드(100)를 준비한다. 몰드(100)는 후술할 바와 같이 수지층 상에 전자파 차폐막 패턴을 형성하고자 하는 것이므로, 음각(110)은 상술한 전자파 차폐막의 형상이 역으로 형성되는 것이 바람직하다. 따라서, 몰드(100)에 형성된 음각(110)은 수지층 상에 양각의 형태로 전사되고, 음각(110) 사이의 단(120)이 수지층 상에 다른 음각의 형태로 전사된다. 이 때, 단(120)은 형성하고자 하는 전자파 차폐막의 형상에 따라 스트라이프(stripe) 타입 또는 메쉬(mesh) 타입으로 구비되는 것이 바람직하다. 그리고, 전자파 차폐막을 이루는 각각의 라인(line)은 단면이 육면체 외에 사다리꼴, 구형 등을 이룰 수도 있으며, 이에 따라 몰드(100)에 형성된 음각(110)의 단면의 형상도 육면체 외에 다른 형상을 이루기도 한다.
이어서, 도 2에 도시된 바와 같이 상술한 몰드(100)를 이용하여 수지층(200) 상에 음각을 형성한다. 구체적으로, 전자파 차폐막 패턴이 형성된 몰드(100)에 수지층(200)을 도포한 후 건조한다. 수지층(200)은 PDMS(polydimethylsiloxane), PMMA(poly methyl methcrylate) 및 EVA(ethylene vinyl acetate) 등으로 제조할 수 있으며, 전면필터를 이루므로 투명한 것이 바람직하다. 상술한 조성으로 이루어진 수지층(200)은 전면필터의 완성 후에, 디스플레이 장치 등에 부착되면 외부의 충격으로부터 디스플레이 장치를 보호하는 역할을 할 수 있다.
상술한 바와 같이 몰드(100) 상에 수지층(200)을 도포하고 건조하면, 수지 층(200) 상에 음각(220)이 형성된다. 그리고, 수지층(200)은 30~700 마이크로 미터의 두께로 형성될 수 있다. 이 때, 건조 온도는 50~300 ℃ 인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100~200 ℃ 이어야 한다. 그리고, 건조 공정 후에 몰드(100)를 수지층(200)에서 분리하면, 수지층(200) 상에 음각(220)이 형성된다. 구체적으로, 몰드(100)의 음각(110)이 수지층(200) 상에 새로운 단(210)으로 전사되고, 몰드(100)의 단(120)이 수지층(200) 상에 새로운 음각(220)으로 전사된다. 이 때, 수지층(200) 상에 형성된 음각(220)은 깊이가 20~200 마이크로 미터로 형성될 수 있다. 상술한 수지층(200)에 형성된 음각(220)은 스트라이프 타입 또는 메쉬 타입으로 이루어질 수 있다.
이어서, 도 3에 도시된 바와 같이 수지층(200) 상에 형성된 음각(220) 내부에 도전성 물질(300)을 주입하여 전자파 차폐막을 형성한다. 즉, 수지층(200) 상에 형성된 음각(220)의 내부에 은(Ag) 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 물질을 주입한다. 이 때, 상술한 도전성 물질(300)의 양이 음각(220)에서 수용할 수 있는 공간보다 많으면, 도전성 물질(300)의 일부가 수지층(200) 상부로 토출될 수 있다. 따라서, 금속 또는 플라스틱 블레이드(blade)로 닥터링(doctoring)하는 공정을 추가하여, 수지층(200)의 표면을 평탄하게 할 수 있다.
그리고, 도전성 물질만으로 전자파 차폐막이 형성되면 빛의 반사에 의한 눈부심이 발생할 수 있으므로, 흑색 잉크 등을 형성하여 콘트라스트(contrast)를 향 상시킬 수 있다. 구체적으로, 수지층(200)에 형성된 음각(220)에 주입된 도전성 물질(300) 상에 흑색 잉크(도시되지 않음)를 추가로 주입할 수 있다. 이 때, 수지층(200) 상부로 흑색 잉크가 토출되지 않도록, 도전성 물질(300) 및 흑색 잉크의 양을 조절하고 블레이드를 사용할 수 있음은 자명하다. 그리고, 흑색 잉크의 두께는 전자파 차폐막의 두께의 10~50% 인 것이 바람직하다.
상술한 공정으로 형성된 전자파 차폐막은 도전성 물질의 1층 구조 또는 도전성 물질과 흑색 잉크의 2층 구조로 이루어질 수 있다. 그리고, 스트라이프 타입 또는 메쉬 타입의 전자파 차폐막을 이루는 각각의 라인(line)은 직경이 10~30 마이크로 미터인 것이 바람직하다. 각각의 라인의 직경을 제한하는 이유는 디스플레이 장치의 개구율을 확보하기 위한 것임은 자명하다. 그리고, 개구율의 확보를 위하여 각각의 라인은 150~500 마이크로 미터 이격되어야 하고, 바람직하게는 300 마이크로미터 정도 이격되어서 배열되어야 한다.
이어서, 도 4에 도시된 바와 같이 전자파 차폐막이 형성된 수지층(200)을 글래스(glass) 또는 필름(400)에 접합하여 전면필터를 완성한다. 글래스 상에 접합하면 글래스형 전면필터가 완성되고, PET 등의 필름에 접합하면 필름형 전면필터가 완성된다. 이 때, PSA 등의 접착층(도시되지 않음)을 이용하여 수지층(200)을 글래스 또는 필름(400) 상에 형성할 수 있다.
그리고, 상술한 전자파 차폐막이 형성된 수지층(200) 상에 근적외선 차폐막, 색보정막 및 반사 방지막 등을 형성하여 전면필터의 성능을 향상시킬 수 있다. 그리고, 색보정 및 근적외선 차폐를 위한 염료 등을 상술한 수지층(200) 상에 포함함 으로써, 전면필터의 두께를 줄이고 무게를 줄일 수도 있다.
도 5는 도4에 도시된 전면필터의 평면도이다. 도 5에서 전자파 차폐막은 수지층(200) 상에 도전성 물질(300)이 메쉬 타입으로 형성되어 있다. 그리고, 흑색 잉크가 형성된 경우, 평면도에는 도전성 물질(300) 대신 흑색 잉크가 도시되어야 함은 자명하다.
상술한 본 발명에 따른 전면필터의 일실시예는, 점탄성이 우수한 수지층이 글래스 또는 필름의 전면에 구비되어 외부의 충격으로부터 PDP 등의 디스플레이 장치를 보호할 수 있다.
점탄성은 물체에 힘을 가했을 때 탄성변형과 점성을 지닌 흐름이 동시에 나타나는 현상을 말하며, 액체적 특성과 고체적 특성을 모두 나타낸다. 따라서, 점탄성을 띤 수지층을 사용하여 전면필터는 형상을 유지하면서도 외부 충격에 대하여 종래보다 1.5~2배 가량 충격 강도가 향상된다. 그리고, 도전성 물질을 수지층에 형성된 음각의 깊이만큼 깊게 형성할 수 있으므로, 저저항이 구현되어 전자파 차폐 효과를 극대화시킬 수 있다.
도 6 내지 도 10은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법의 일실시예를 나타낸 도면이다. 도 6 내지 도 10을 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 6에 도시된 바와 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 유리(600) 상에 수지층(610)을 형성한다. 전면 유리(600)는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널에 구비되며, 소다라임 유리기판 또는 PD200 등이 사용된다. 그리고, 수지 층(610)은 상술한 바와 같이, PDMS(polydimethylsiloxane), PMMA(poly methyl methcrylate) 및 EVA(ethylene vinyl acetate) 등으로 이루어지고, 전면필터를 이루므로 투명한 것이 바람직하다. 수지층(610)은 전면 유리(600) 상에 직접 접합될 수도 있으나, 도 6에는 도시되지 않았으나 PSA 등의 점착층을 통하여 접합될 수도 있다. 수지층(610)은 30~700 마이크로 미터의 두께로 형성될 수 있다.
이어서, 도 7에 도시된 바와 같이 몰드(700)를 사용하여 수지층(610) 상에 음각(620)을 형성한다. 상술한 몰드(700)는 후술할 바와 같이 수지층(610) 상에 전자파 차폐막 패턴을 형성하고자 하는 것이므로, 상술한 전자파 차폐막의 형상이 역으로 형성되는 것이 바람직하다. 따라서, 몰드(700)에 음각(710)과 단(720)이 교대로 형성되는 것이 바람직하다. 그리고, 몰드(700)를 수지층 상에 압착하면 몰드(700)의 패턴이 수지층(610) 상에 역으로 전사되어, 수지층(610) 상에 전자파 차폐막 패턴이 형성된다. 이 때, 몰드(700)의 음각(710)이 수지층(610)에는 단(630)의 형상으로 전사되고, 몰드(700)의 단(720)이 수지층(610)에는 음각(620)의 형상으로 전사된다.
이어서, 몰드(700)를 수지층(610)으로부터 분리하면, 도 8에 도시된 바와 같이 수지층(610) 상에 전자파 차폐막 패턴이 완성된다. 그리고, 전자파 차폐막 패턴은 스트라이프(stripe) 타입 또는 메쉬(mesh) 타입으로 구비되는 것이 바람직하다. 구체적으로 전자파 차폐막은 수지층(610)에 음각(620)과 단(630)이 형성되어 이루어지고, 음각(620)은 단(630)으로부터 20~200 마이크로 미터의 깊이를 갖는 것이 바람직하다.
이어서, 도 9에 도시된 바와 같이 수지층(610) 상의 전자파 차폐막 패턴 내에 도전성 물질(900)을 주입한다. 구체적으로, 수지층(610) 상에 형성된 음각(620)의 내부에 은(Ag) 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 물질을 주입한다. 그리고, 상술한 전면 필터의 제조방법의 실시예와 마찬가지로, 금속 또는 플라스틱 블레이드(blade)로 닥터링(doctoring)을 하여 수지층(610)의 표면을 평탄하게 할 수 있다. 그리고, 도전성 물질(900)의 상부에 흑색 잉크(도시되지 않음)를 추가로 주입하여 콘트라스트를 향상시킬 수 있음도 상술한 바와 같다. 그리고, 도전성 물질 및 흑색 잉크는 잉크젯 등의 방법으로 주입될 수 있으며, 흑색 잉크의 두께는 전자파 차폐막 전체 두께의 10~50% 인 것이 바람직하다.
상술한 공정으로 형성된 전자파 차폐막은 도전성 물질의 1층 구조 또는 도전성 물질과 흑색 잉크의 2층 구조로 이루어질 수 있다. 그리고, 스트라이프 타입 또는 메쉬 타입의 전자파 차폐막을 이루는 각각의 라인(line)은 직경이 10~30 마이크로 미터이고, 각각의 라인은 150~500 마이크로 미터 이격되어 PDP의 개구율을 확보하는 것이 바람직하다. 그리고, 전자파 차폐막을 도전성 물질과 흑색 물질(잉크)를 혼합하여 단일의 층으로 제조할 수도 있을 것이다.
상술한 공정을 통하여 전자파 차폐 등의 기능을 수행하는 PDP의 전면필터가 형성되며, 글래스 또는 필름형 전면필터가 아니라 PDP의 전면 유리 상에 직접 형성된다. 상술한 전면필터의 형성공정을 제외한 PDP의 나머지 제조공정은 종래와 유사 하다. 도 11은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 이하에서, 도 11을 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조공정을 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 크게 유리 제조공정, 전면기판 제조공정, 후면기판 제조공정, 조립공정 및 전면필터 제조공정을 거쳐 제조된다.
먼저, 전면기판의 제조공정은 전면 글라스 상에 스캔전극과 서스테인전극을 형성하는 공정과, 스캔전극과 서스테인전극의 방전전류를 제한하고 전극쌍 간을 절연시켜주는 상부 유전체층을 형성하는 공정 및 상부 유전체층 상에 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘을 증착한 보호막을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진다.
그리고, 후면기판의 제조공정은 후면 글라스 상에 어드레스전극을 형성하는 공정과, 어드레스전극을 보호하기 위한 하부 유전체층을 형성하는 공정과, 하부 유전체층의 상면에 방전 셀을 구획하는 격벽을 형성하는 공정 및 격벽 사이에 화상 표시를 위한 가시광선을 방출하는 형광체층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진다.
상술한 공정으로 제조된 플라즈마 디스플레이 패널은, 도 11에 도시된 바와 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널(1100)에는 화상이 디스플레이되는 표시면인 전면 유리(1101) 상에, 스캔 전극(1102)과 서스테인 전극(1103)이 쌍을 이루어 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된다. 그리고, 후면패널(1110)은 후면 유리(1111) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전 극(1113)이 배열되며, 전술한 후면패널(1110)과 전면패널(1100)은 일정한 거리를 두고 평행하게 결합된다.
후면패널(1110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(1112)이 평행을 유지하여 배열된다. 그리고, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(1113)이 격벽에 대해 평행하게 배치된다. 후면패널(1110)의 상측면에는 어드레스 방전시에 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R,G,B 형광체(1114)가 도포된다. 어드레스 전극(1113)과 형광체(1114) 사이에는 어드레스 전극(1113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(1115)이 형성된다.
그리고, 전면 유리(1101) 상에는 상술한 전면필터(1106)가 형성된다. 전면필터(1106)는 상술한 바와 같이 수지층 상에 도전성 물질과 흑색 잉크 등이 패터닝되어 전자파 차폐막이 형성되어 이루어진다. 그리고, 상술한 전자파 차폐막이 형성된 수지층 상에 근적외선 차폐막, 색보정막 및 반사 방지막 등을 형성하여 전면필터의 성능을 향상시킬 수 있다. 그리고, 색보정 및 근적외선 차폐를 위한 염료 등을 상술한 수지층 상에 포함함으로써, 전면필터의 두께를 줄이고 무게를 줄일 수도 있다.
상술한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터 및 그 제조방법은 전자파 차폐 기능이 필요한 다른 분야의 디스플레이 장치에도 적용될 수 있음은 자명하다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구범위에서 알 수 있 는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형이 가능해도 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다.
상기에서 설명한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널, 그 전면필터 및 그 제조방법의 효과를 설명하면 다음과 같다.
첫째, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터를 전면 유리에 직접 형성할 수 있다.
둘째, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터의 두께와 무게를 줄이면서도 외부 충격 흡수력을 강화할 수 있다.
셋째, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터의 전자파 차폐막의 격자 간격과 패턴을 일정하게 할 수 있다.

Claims (27)

  1. 몰드를 준비하여 수지층 상에 음각을 형성하는 단계;
    상기 수지층 상에 형성된 음각 내부에 도전성 물질을 주입하여 전자파 차폐막을 형성하는 단계; 및
    상기 전자파 차폐막이 형성된 수지층을, 글라스 또는 필름 상에 부착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 음각 내부에 흑색 잉크를 주입하는 단계를 더 포함하는 전면필터의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 음각을 형성하는 단계는,
    전자파 차폐막 패턴이 역으로 형성된 상기 몰드를 준비하는 단계;
    상기 몰드 상에 수지층을 도포하고 건조하는 단계; 및
    상기 몰드를 상기 수지층에서 분리하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  4. 제 5 항에 있어서, 상기 건조 단계는,
    50~300 ℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 수지층은,
    PDMS, PMMA 및 EVA 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 수지층은,
    두께가 30~700 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지층 상에 전사된 음각은,
    깊이가 20~200 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,
    Ag 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전면필터의 제조방법.
  9. 글라스 또는 필름 상에 구비되고, 음각이 형성된 수지층; 및
    상기 음각에 적층된 도전성 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전면필터.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 도전성 물질 상에 적층된 흑색 잉크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전면필터.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 수지층은,
    PDMS, PMMA 및 EVA 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전면필터.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 수지층은,
    두께가 30~700 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 전면필터.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 수지층 상에 형성된 음각은,
    깊이가 20~200 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 전면필터.
  14. 제 9 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,
    Ag 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전면필터.
  15. 전면 유리 상에 수지층을 형성하는 단계;
    몰드를 준비하여 상기 수지층 상에 음각을 형성하는 단계; 및
    상기 음각 내부에 도전성 물질을 주입하여 전자파 차폐막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 음각 내부에 흑색 잉크를 주입하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 음각의 형성 단계는,
    전자파 차폐막 패턴이 역으로 형성된 상기 몰드를 준비하는 단계;
    상기 몰드를 상기 수지층 상에 압착하는 단계; 및
    상기 몰드를 상기 수지층으로부터 분리하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 수지층은
    PDMS, PMMA 및 EVA 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 수지층은,
    두께가 30~700 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  20. 제 15 항에 있어서,
    상기 수지층 상에 전사된 음각은,
    깊이가 20~200 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  21. 제 15 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,
    Ag 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉크 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  22. 격벽을 사이에 두고 서로 마주보는 전면패널과 후면패널; 및
    상기 전면 패널 상에 형성되고, 음각이 형성된 수지층과 상기 음각에 적층된 도전성 물질이 구비된 전면필터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 도전성 물질 상에 적층된 흑색 잉크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  24. 제 22 항에 있어서, 상기 수지층은,
    PDMS, PMMA 및 EVA 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  25. 제 22 항에 있어서, 상기 수지층은,
    두께가 30~700 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널..
  26. 제 22 항에 있어서,
    상기 수지층 상에 형성된 음각은,
    깊이가 20~200 마이크로 미터인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  27. 제 22 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,
    Ag 페이스트, Cu 페이스트, AgNO3 착염 상태의 잉크 및 Ag 착염 상태의 잉 크 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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