WO2002076958A1 - Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues - Google Patents

Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues Download PDF

Info

Publication number
WO2002076958A1
WO2002076958A1 PCT/JP2002/002704 JP0202704W WO02076958A1 WO 2002076958 A1 WO2002076958 A1 WO 2002076958A1 JP 0202704 W JP0202704 W JP 0202704W WO 02076958 A1 WO02076958 A1 WO 02076958A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
aldehyde
group
reaction
solvent
substituted
Prior art date
Application number
PCT/JP2002/002704
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Atsushi Ogihara
Hiroshi Sakai
Nobuo Matsui
Hidekazu Miyazaki
Original Assignee
Nippon Soda Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co., Ltd. filed Critical Nippon Soda Co., Ltd.
Priority to DE60212947T priority Critical patent/DE60212947T2/de
Priority to US11/825,114 priority patent/USRE40795E1/en
Priority to KR1020037012334A priority patent/KR100586671B1/ko
Priority to EP02705404A priority patent/EP1371649B1/en
Priority to JP2002576218A priority patent/JP4161367B2/ja
Priority to IL15772402A priority patent/IL157724A0/xx
Priority to US10/471,434 priority patent/US7102010B2/en
Publication of WO2002076958A1 publication Critical patent/WO2002076958A1/ja
Priority to IL157724A priority patent/IL157724A/en
Priority to US11/492,302 priority patent/US20070027324A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/64Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/02Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D263/30Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D263/32Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a heterocyclic compound useful as an excellent agricultural chemical, medicine, functional material or intermediate thereof.
  • a production method using aldehyde and p-tolylsulfonylmethyl isocyanide (hereinafter abbreviated as Tos MIC) is known.
  • Tos MIC p-tolylsulfonylmethyl isocyanide
  • a specific method a method of reacting an aldehyde with TosMIC in methanol in the presence of potassium carbonate is generally used.
  • an ion-exchange resin (Ambersep 900 OH-) is present in dimethoxyethane-methanol.
  • a method of reacting below is known. (Tetrahedron Lett., 1972, 2369, Lect Heterocycl. Chem.
  • An object of the present invention is to provide a safer and more efficient method for producing 5-substituted oxazole and 5-substituted imidazole compounds.
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, TosMIC and an aldehyde or imino compound are reacted in a mixed solvent of an aprotic solvent and a protic solvent in the presence of a base.
  • a phase transfer catalyst and an inorganic base or by reacting in the presence of an organic base, the desired product can be obtained in good yield even with non-isolated To sMIC. This led to the completion of the present invention.
  • the present invention provides, without isolating and purifying, as a crystal, Tos MIC obtained from N- (p-tolylsulfonylmethyl) formamide and phosphorus oxychloride, or phosgene or diphosgene and a tertiary amine.
  • Aldehyde or formula [I] I ⁇ CH ⁇ NR 2 (wherein R 1 and R 2 are a phenyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent or A 5-substituted oxazole compound or a 5_substituted imidazole compound, which represents an alkyl group which may have a group.
  • the Tos MIC solution is reacted with an aldehyde or a compound represented by the above formula [I] in a mixed solvent of an aprotic solvent and a protic solvent in the presence of a base group.
  • the protic solvent is water, ji ⁇ ⁇ .
  • the above-mentioned production method (Production method 2) is characterized by reacting T 0 sM IC with an aldehyde or a compound represented by the above formula [I] in the presence of a phase transfer catalyst and an inorganic base.
  • the fifth method uses an organic base having a pKa of 12 or more.
  • the organic base is 1,8-diazabicyclo [5.4.0] penta-7-ene or
  • the method according to 5 or 6 above which is 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, Eighth, the first to seventh production methods, wherein the aldehyde is an unsubstituted or substituted aromatic aldehyde.
  • aldehydes having an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a naphthyl group, or an anthracenyl group
  • Preferred examples thereof include aldehydes having an aromatic heterocyclic group such as a group, a phenyl group, a oxazolyl group, a thiazolyl group, a pyridyl group, or an N-methylpyrroloyl group. It may have a substituent.
  • Examples of such a substituent include a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, and an optionally substituted amino group. And an optionally substituted alkoxycarbonyl group.
  • Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, s-butyl, i-butyl, and t-butyl.
  • examples of the substituent further include a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, and a cyano group.
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • methyl , Ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, s-butyl, i-butyl, t-butyl, etc. having a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms
  • aromatic hydrocarbon groups such as phenyl, naphthyl, and anthracenyl groups
  • aromatic heterocyclic groups such as furyl, phenyl, oxazolyl, thiazolyl, pyridyl, and N-methylpyrroyl.
  • These groups may have various functional groups as substituents.
  • a substituent specifically, as a substituent of the alkyl group, a halogen atom, an optionally substituted alkoxy group, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an optionally substituted amino group, Examples thereof include an optionally substituted alkoxycarbonyl group and the like.
  • the alkoxy group include methoxy, ethoxy, and propylene.
  • a lower alkoxy group having a straight or branched chain having 14 to 14 carbon atoms, such as an xy group, is further substituted with a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, a cyano group or the like.
  • a halogen atom an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, or an optionally substituted
  • examples thereof include an amino group and an optionally substituted alkoxycarbonyl group.
  • the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, s-butyl, and i-butyl.
  • branch A lower alkoxy group having a chain, and examples of these substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, and a cyano group.
  • the imino compound can be obtained by reacting the corresponding aldehyde with the amine, but the imino compound can be used in the production method of the present invention without isolation and purification.
  • the Tos MIC used in the present invention can be prepared by a method generally used in which N- (p-tolylsulfonylmethyl) formamide (Tos MFA) is used in dimethoxetane (DME) using phosphorus oxychloride ( Organic Synthesis Vol. 57, 102-106, Synthesis, 400-402 (1985), Terahedron Lett., 1972, 2367) or a method using phosgene or diphosgene (Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 16 (1977), 259, Angew. Chem. 77 (1965), 492, DE43032925, etc.) and those produced by any method can be used. Next, each manufacturing method will be described.
  • Tos MFA N- (p-tolylsulfonylmethyl) formamide
  • DME dimethoxetane
  • phosphorus oxychloride Organic Synthesis Vol. 57, 102-106, Synthesis, 400-402 (1985),
  • Production Method 1 A method in which a solution of Tos-MIC is reacted with an aldehyde or a compound represented by the above formula [I] in a mixed solvent of an aprotic solvent and a protic solvent in the presence of a base.
  • any of an organic base and an inorganic base can be used.
  • the organic base include alkylamines such as dicyclohexylamine, diisopropylamine, getylamine, triethylamine, triptylamine and diisopropylethylamine.
  • Alkylaniline such as N, N-dimethylaniline, piperidine, pyrrolidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, morpholine, piperazine, imidazole, 1-ethylpyridine Lysine, 4-methylmorpholine, 1-methylpyrrolidine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] 17-Pindecene, etc.
  • Examples include quaternary ammonium salts such as thiammonium chloride and methyltrioctylammonium chloride and diamines such as N, N, N,, N'-tetramethylethylenediamine, and specific examples of inorganic bases. Specific examples include sodium hydroxide, hydroxylated lime, sodium carbonate, carbonated lime, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like.
  • the protonic solvent is preferably at least one selected from the group consisting of water, C1-C10 alcohols, mono- and polyalkylene glycols, and specifically, water, methanol, ethanol, and propanol.
  • glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and ethylene glycol monomethyl ether.
  • methanol, ethylene glycol and 2-methoxyethanol are preferably used.
  • a solvent that can be used for the synthesis or extraction of Tos MIC is preferable, for example, a halogenated solvent such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, methylene chloride, benzene, cyclobenzene, toluene, xylene, and the like.
  • Aromatic hydrocarbon solvents such as nitrobenzene and benzonitrile; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and isopropyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, getyl ketone and methyl isobutyl ketone; getyl ether; Examples thereof include ether solvents such as tetrahydrofuran and polar solvents such as acetonitrile. These may be used as a mixture.
  • the base is added in an amount of 2.0 mol or more, preferably 2.0 to 2.5 mol, more preferably 2.0 to 2 mol, per mol of the aldehyde or the compound represented by the formula [I]. This is done using a range of 2 m.
  • the amount of Tos IC used is not particularly limited, but is preferably used in the range of 0.8 to 1.5 mol, more preferably 0.9 to 1.2 mol, per 1 mol of aldehyde. It is preferably used.
  • the amount of the protic solvent to be used is not particularly limited as long as the base dissolves to a certain extent, but it is preferably used in an amount of 1 L or more based on 1 mol of the aldehyde used or the compound represented by the above formula [I].
  • the amount of the aprotic solvent is not particularly limited as long as the Tos MIC can be dissolved, and the mixing ratio between the aprotic solvent and the protic solvent is not particularly limited, and may be any value. Can be set.
  • the reaction is carried out, for example, by mixing an aldehyde or a compound represented by the above formula [I] with a solution of Tos MIC and a base dissolved or suspended in a protonic solvent, and the mixture is heated from 0 ° C to the boiling point of the solvent, preferably from 0 ° C.
  • the reaction is carried out in the range of 20 to 60 ° C. At this time, the reaction can be performed in the presence of a phase transfer catalyst.
  • the reaction is preferably performed under a nitrogen stream or a nitrogen atmosphere.
  • the reaction time varies depending on the compound to be reacted and conditions, but is usually from several minutes to 48 hours.
  • the reaction solution is cooled if necessary, and the desired product can be obtained by a usual post-treatment operation.
  • Production method 2 A method in which aldehyde or the compound represented by the above formula [I] is reacted with Tos MIC in the presence of a phase transfer catalyst and an inorganic base.
  • phase transfer catalyst used in this reaction examples include quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, and other such ammonium salts, crown compounds, organic bases, and the like.
  • quaternary ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, tetramethylammonium bromide, and odor.
  • Triethylbenzylammonium trimethylpheny
  • the compound include ethers such as crown ethers such as 15-crown-15 and 18-crown-16, cryptands, and organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0].
  • phase transfer catalyst to be used is not particularly limited with respect to 1 mol of the aldehyde used or the compound represented by the above formula [I], but is preferably 0.001 to 5 mol, preferably 0.01 to 0.1 mol. 5 equivalent moles.
  • Examples of the inorganic base used in the present invention include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, carbon dioxide lime, sodium carbonate, hydrogen carbonate lime, and sodium hydrogen carbonate.
  • the amount of the inorganic base used is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 1.0 to 3 mol, per 1 mol of the aldehyde used.
  • solvent used in the reaction include water, methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and other halogenic solvents, benzene, toluene, xylene, benzonitrile, benzotrifluoride, and chlorobenzene.
  • Solvents ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, and isopropyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, getyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ether solvents such as getyl ether and terahydrofuran; and acetonitrile And the like.
  • Solvents that can be used for the extraction of Tos MIc after synthesis or after-treatment for example, halogen-based solvents such as methylene chloride, aromatic solvents such as toluene, xylene, and benzene benzene; Solvents, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, THF, acetonitrile and the like are preferable, and these may be used as a mixture. Among them, a mixed system other than water and the water exemplified above is preferable.
  • the amount of the solvent to be used is not particularly limited, but is in the range of 1 to 100 times by weight, preferably 5 to 100 times by weight, relative to the aldehyde or the compound represented by the formula [I] used. is there.
  • the reaction is carried out, for example, by mixing aldehyde or the compound represented by the above formula [I], Tos MIC or a solution thereof with an appropriate solvent, adding an inorganic base dissolved in water and a phase transfer catalyst, and removing the solvent from 0 ° C.
  • the reaction is carried out at the boiling point, preferably in the range of 20 to 60 ° C.
  • the amount of Tos MIC used is not particularly limited, but is 0.8 to 2.0 mol, preferably 1.0 to 1.5 mol per mol of the aldehyde or the compound represented by the formula [I] used. Range to moles.
  • the reaction is preferably performed under a nitrogen stream or a nitrogen atmosphere.
  • the reaction time varies depending on the compound to be reacted and conditions, but is usually from several minutes to 48 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is cooled if necessary, and the desired product can be obtained by a usual post-treatment operation.
  • the organic base to be used preferably has a pKa of 12 or more.
  • DBU 1,8-diazabicyclo [5.4.0] dex-7-ene
  • Pendex 7-ene Triethylenediamine, 4- (N, N— Among them, dimethylamino) pyridine (AP), N, ⁇ , ⁇ ′, N′-tetramethylethylenediamine, and the like are preferably DBU or A ⁇ . These can be used alone or in combination of two or more.
  • the total amount of the organic base used is 0.9 to 10 mol, preferably 1.0 to 3.0 mol, per 1 mol of the aldehyde or the compound represented by the formula [I].
  • a halogen-based solvent such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, an aromatic solvent such as benzene, toluene, xylene, benzonitrile, benzotrifluoride or cyclobenzene, methyl acetate, Ester solvents such as ethyl acetate and isopropyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, getyl ketone and methyl isobutyl ketone; ether solvents such as getyl ether and terahydrofuran; and polar solvents such as acetonitrile.
  • a halogen-based solvent such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, an aromatic solvent such as benzene, toluene, xylene, benzonitrile, benzotrifluoride or cyclobenzene, methyl acetate, Ester solvents such as
  • solvents that can be used for the extraction of TosMIC after synthesis or after-treatment for example, halogen-based solvents such as methylene chloride, aromatic solvents such as toluene, xylene, and benzene, ester-based solvents such as ethyl acetate, and methyl
  • a ketone solvent such as isobutyl ketone, THF, acetonitrile and the like are preferable, and these may be used as a mixture.
  • the amount of the solvent to be used is in the range of 1 to 1000 times by weight, preferably 5 to 100 times by weight, relative to the aldehyde used or the compound represented by the above formula [I].
  • the reaction is carried out, for example, by dissolving and mixing an aldehyde or a compound represented by the above formula [I], a TosMIC solution, and an organic base in a suitable solvent, and heating at a temperature of from 20 ° C to the boiling point of the solvent, preferably from 10 to 60 React at ° C.
  • the amount of TosMIC used is not particularly limited, but is preferably 0.8 to 1.5 mol, more preferably 0.9 to 1.5 mol per mol of the aldehyde or the compound represented by the formula [I]. 1.2 moles.
  • the reaction is preferably performed in a nitrogen stream or a nitrogen atmosphere. The reaction time varies depending on the compound to be reacted and conditions, but is usually several minutes to 48 hours.
  • Example 1 To 16 ml of methanol containing 3. lg of lithium hydroxide was added 5.0 g of 2-methoxy-141-trobenzaldehyde and a solution of TosMIC in methylene chloride (containing 5.7 g) at room temperature. The mixture was reacted at room temperature by high performance liquid chromatography (HPLC) until the starting material disappeared. After completion of the reaction, the reaction product was washed with water, the solvent was distilled off, and the desired product was crystallized from methanol and water. (Yield 92%)
  • Example 2 To 16 ml of methanol containing 3. lg of lithium hydroxide was added 5.0 g of 2-methoxy-141-trobenzaldehyde and a solution of TosMIC in methylene chloride (containing 5.7 g) at room temperature. The mixture was reacted at room temperature by high performance liquid chromatography (HPLC) until the starting material disappeared. After completion of the reaction, the reaction product was washed with water
  • N- (4-Methylbenzenesulfonylmethyl) -formamide (140.2 g, 0.65 mol) and methylene chloride (1.31) were charged and kept at 5 ° C or lower in an ice bath.
  • 82.2 g (0.85 mol, 1.3 mole ratio) of phosgene was blown in for 30 minutes.
  • 138.6 g (1.4 mol 1, 2.1 mol ratio) of triethylamine diluted in 195 ml of methylene chloride was added dropwise to the solution over 30 minutes.
  • Example 12 0.45 g of 4-nitrobenzaldehyde in an aqueous solution containing 0.84 g of sodium hydroxide, 12.2 g of To sM IC methylene chloride solution prepared in the same manner as in Example 6 (containing 65 g of Tos MI CO. ) And 0.10 g of tetrabutylammonium bromide were added at room temperature. The mixture was allowed to react at room temperature until the starting material disappeared by HP LC. After the reaction, wash with water The reaction was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. HP LC analysis of the concentrated residue revealed that the residue contained 0.82 g of the desired product. (Yield 93%) Example 12
  • the use of the method of the present invention enables safe and efficient production of 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds useful as agricultural chemicals, pharmaceuticals, functional materials, and the like or intermediates thereof. can do.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

明 細 書
5一置換ォキサゾール化合物および 5—置換ィミダゾ—ル化合物の製造方法 技術分野:
本発明は優れた農薬、 医薬、 機能材料或いはその中間体として有用な複素環化合物の製 造方法に関する。
背景技術:
一般に 5—置換ォキサゾール化合物の合成法の中で特に有用な方法の一つとして、 ァ ルデヒドと p—トリルスルホニルメチルイソシァニド (以下、 T o s M I Cと略記す る) を用いる製造方法が知られている。 その具体的方法としては、 アルデヒドと To s MI Cをメタノール中、 炭酸カリウム存在下に反応させる方法が一般的であり, その他 にジメ トキエタン一メタノール中、 イオン交換樹脂 (Amb e r s e p 900 OH-) 存在下に反応させる方法が知られている。 (Tetrahedron Lett., 1972, 2369, Lect Heterocycl. Chem. 1980, (5), Slll-122, Tetrahedron Letters 1999, 5637-5638 また、 5—置換イミダゾール化合物の To sM I Cを用いた合成法も知られており、 その具体的方法としては、 ィミン化合物と To s M I Cをアルコール系溶媒中、 炭酸力 リウム存在下に反応させる方法が一般的である。 (Terahedron Lett., 1976, 143-146, J. Org. Chem. , Vol.42(7), 1977, 1153-1159, Terahedron Lett. , 2000, 5453-5456, Terahedron 53(6) 2125-2136, 1997)
しかし、 これらの方法はいずれも T o sM I Cを結晶として扱っており、 工業的に製 造する場合、 必要に応じて、 濃縮、 晶析、 振り切り、 乾燥といった煩雑な単離操作が必 要となり、 また、 濾液へのロスにより To sMI C製造収率の低下は避けられない。 更 に、 T o s M I Cは刺激性があり、 しかも不安定で分解点が低く爆発性があり、 単離す ることは安全上好ましくない。
上記したように安全性を重視した場合、 To sM I Cを単離しないことが好ましく、 To sM I Cを単離しないで扱うためには、 To sMI Cの反応 ·後処理後、 反応溶媒 そのもの或いは他の抽出溶媒の溶液で使用することが不可欠である。 従って、 より安全 に 5—置換ォキサゾール化合物および 5—置換ィミダゾール化合物を得る方法として、 To sMI Cを単離しないで溶液状態で使用できる方法の開発が不可欠であった。 発明の開示:
本発明は、 より安全でかつ効率的な 5—置換ォキサゾールおよび 5—置換ィミダゾ一 ル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、 上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、 T o sMI Cと、 アルデヒ ドまたはィミノ化合物とを、 ①非プロトン性溶媒とプロトン性溶媒の混合溶媒中、 塩基 存在下反応させる、 ②相間移動触媒および無機塩基の存在下に反応させる、 もしくは③ 有機塩基の存在下に反応させることで、 単離しない To sM I Cを用いても収率よく目 的物を得ることができることを見出し、 本発明を完成するに至つた。
すなわち、 本発明は、 第 1に、 N— (p—トリルスルホニルメチル) ホルムアミ ドと ォキシ塩化燐、 ホスゲンまたはジホスゲンと 3級アミンより得られる T o s M I Cを結 晶として単離精製することなく、 アルデヒドまたは 式 [I] I^CH^NR2 (式 中、 R 1および R2は置換基を有していてもよいフ ニル基、 置換基を有していてもよ い複素環基または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。 ) と反応させることを 特徴とする 5—置換ォキサゾール化合物または 5 _置換ィミダゾール化合物の製造方法 であり、
第 2に、 上記製造方法において、 T o s M I Cの溶液と、 アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物とを、 非プロトン性溶媒とプロトン性溶媒との混合溶媒中、 塩 基存在下反応させる方法 (製造方法 1) であり、
第 3に、 プロトン性溶媒が、 水、 じ 〜^。アルコール、 モノまたはポリアルキレング リコールからなる群から選ばれる少なくとも 1種以上であることを特徴とする上記製造 方法であり、
第 4に、 アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物と T 0 sM I Cを相間移動触 媒及び無機塩基の存在下に反応させることを特徴とする上記製造方法 (製造方法 2) で あり、
第 5に、 アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物と T o sM I Cを有機塩基存 在下反応させることを特徴とする上記製造方法 (製造方法 3) であり、
第 6に、 pKaが、 12以上である有機塩基を用いる上記第 5の方法であり、 第 7に. 有機塩基が、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデク -7-ェンまたは
4- (N, N—ジメチルァミノ) ピリジンである前記 5または 6の方法であり、 第 8に、 アルデヒドが、 無置換または置換芳香族アルデヒドであることを特徴とする前 記第 1から第 7の製造方法である。
発明の実施の形態:
以下本発明の実施態様について詳細に説明する。
本発明において 5—置換ォキサゾール化合物の製造に使用されるアルデヒドの構造は、 特に制限されないが、 具体的には、 フヱニル基、 ナフチル基、 またはアントラセニル基 等の芳香族炭化水素基を有するアルデヒド、 フリル基、 チェニル基、 ォキサゾリル基、 チアゾリル基、 ピリジル基、 N—メチルピロロイル基等の芳香族複素環基を有するアル デヒド等を好ましく例示することができ、 これらの基には種々の官能基を置換基として 有していてもよい。 そのような置換基として、 具体的には、 ハロゲン原子、 置換されて いても良いアルキル基、 置換されていても良いアルコキシ基、 ニトロ基、 シァノ基、 水 酸基、 置換されていても良いアミノ基、 置換されていても良いアルコキシカルボニル基 等を例示することができ、 アルキル基としてはメチル、 ェチル、 n—プロピル、 i—プ 口ピル、 n -プチル、 s —プチル、 i 一プチル、 t 一ブチル等炭素数 1〜 1 2までの直 鎖または分枝鎖を有しているアルキル基が、 アルコキシ基としてはメ トキシ、 エトキシ、 プロポキシ基等の炭素数 1—4の直鎖又は分枝鎖を有している低級アルコキシ基が、 更 にこれらの置換基としてはハロゲン原子、 ニトロ基、 アルコキシ基、 シァノ基等を例示 することができる。
また、 5—置換イミダゾール化合物の製造原料である前記式 [ I ] で表されるィミン 化合物において、 R 1および R 2は、 同一もしくは異なっていても良く、 具体的に例を 挙げれば、 例えばメチル、 ェチル、 n—プロピル、 i—プロピル、 n—プチル、 s—ブ チル、 i 一プチル、 t一ブチル等炭素数 1〜1 2までの直鎖または分枝鎖を有している アルキル基、 フヱニル基、 ナフチル基、 またはアントラセニル基等の芳香族炭化水素基、 フリル基、 チェニル基、 ォキサゾリル基、 チアゾリル基、 ピリジル基、 N—メチルピロ 口ィル基等の芳香族複素環基等を例示することができ、 これらの基には種々の官能基を 置換基として有していてもよい。 そのような置換基として、 具体的には、 アルキル基の 置換基としては、 ハロゲン原子、 置換されていても良いアルコキシ基、 ニトロ基、 シァ ノ基、 水酸基、 置換されていても良いアミノ基、 置換されていても良いアルコキシカル ポニル基等を例示することができ、 アルコキシ基としてはメ トキシ、 エトキシ、 プロボ キシ基等の炭素数 1一 4の直鎖又は分枝鎖を有している低級アルコキシ基が、 更にこれ らの置換基としてはハロゲン原子、 ニトロ基、 アルコキシ基、 シァノ基等をまた、 芳香 族炭化水素基、 芳香族複素環基の置換基としてはハロゲン原子、 置換されていても良い アルキル基、 置換されていても良いアルコキシ基、 ニトロ基、 シァノ基、 水酸基、 置換 されていても良いァミノ基、 置換されていても良いアルコキシカルボ二ル基等を例示す ることができ、 アルキル基としてはメチル、 ェチル、 n—プロピル、 i—プロピル、 n —プチル、 s—プチル、 i—プチル、 t一ブチル等炭素数 1〜 1 2までの直鎖または分 枝鎮を有しているアルキル基が、 アルコキシ基としてはメ トキシ、 エトキシ、 プロポキ シ基等の炭素数 1—4の直鎖又は分枝鎖を有している低級アルコキシ基が、 更にこれら の置換基としてはハロゲン原子、 ニトロ基、 アルコキシ基、 シァノ基等例示することが できる。
なお、 ィミノ化合物は対応するアルデヒド類とァミン類との反応により得られるが、 ィミノ化合物も単離精製することなく本発明の製造方法に使用することができる。
また、 本発明に使用する T o s M I Cは、 一般的に行われている N— ( p—トリルス ルホニルメチル) ホルムアミ ド (T o s M F A) をジメ トキシェタン (D M E ) 中、 ォ キシ塩化燐を用いる方法 (Organic Synthesis Vol. 57, 102-106, Synthesis, 400-402 (1985), Terahedron Lett. , 1972, 2367) 、 或いは、 ホスゲン、 ジホスゲンを用いる方 法等 (Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 16(1977), 259, Angew. Chem. 77(1965), 492、 D E 4 0 3 2 9 2 5等) 、 いずれの方法で製造されたものでも使用することができる。 次に各製造方法について説明する。
製造方法 1 : T o s— M I Cの溶液と、 アルデヒドまたは前記式 [ I ] で表される化 合物とを、 非プロトン性溶媒とプロトン性溶媒との混合溶媒中、 塩基存在下反応させる 方法。
塩基としては有機塩基、 無機塩基いずれもを使用することができ、 有機塩基として具 体的には、 ジシクロへキシルァミン、 ジイソプロピルァミン、 ジェチルァミン、 トリェ チルァミン、 トリプチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン等のアルキルァミン、 N, N—ジメチルァニリン等のアルキルァニリン、 ピぺリジン、 ピロリジン、 2, 2, 6, 6 —テトラメチルピペリジン、 モルホリン、 ピぺラジン、 イミダゾ一ル、 1—ェチルピぺ リジン、 4—メチルモルホリン、 1 一メチルピロリジン、 1、 4—ジァザビシクロ 〔2. 2. 2〕 オクタン、 1、 8—ジァザビシクロ 〔5. 4. 0〕 一 7—ゥンデセン等の複素 環状ァミン、 ベンジルトリェチルアンモニゥムクロリ ド、 メチルトリオクチルアンモニ ゥムクロリ ド等の 4級アンモニゥム塩もしくは N, N, N, , N' —テトラメチルェチ レンジァミン等のジアミ ン類等を例示することができ、 また無機塩基として具体的には、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リゥム、 炭酸水素ナトリ ゥム、 炭酸水素カリウム等が挙げられる。
プロ トン性溶媒としては、 水、 C 1〜C 1 0アルコール、 モノまたはポリアルキレン グリコールからなる群から選ばれる少なくとも 1種以上であるのが好ましく、 具体的に は、 水、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のアルコール類、 エチレングリコー ル、 ジエチレングリコール、 エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール類 が挙げられる。 中でもメタノール、 エチレングリコール、 2—メ トキシエタノールが好 適に使用される。
非プロトン性溶媒としては T o s M I Cの合成もしくは抽出に使用できる溶媒が好ま しく、 例えば塩化メチレン、 クロ口ホルム、 ジクロロェタン、 塩化メチレン等のハロゲ ン系溶媒、 ベンゼン、 クロ口ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 ニトロベンゼン、 ベンゾ 二トリル等の芳香族炭化水素系溶媒、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸ィソプロピル等の エステル系溶媒、 アセトン、 メチルェチルケトン、 ジェチルケトン、 メチルイソブチル ケトン等のケトン系溶媒、 ジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル系溶媒、 ァセトニトリル等の極性溶媒が挙げられる。 またこれらを混合して用いてもよい。
反応は、 アルデヒ ドまたは前記式 [ I ] で表される化合物 1モルに対して、 塩基を、 2. 0モル以上、 好ましくは 2. 0〜2. 5モル、 さらに好ましくは 2. 0〜2. 2モ ルの範囲で用いて行われる。 用いる T o s I Cの量は、 特に制限されないが、 アルデ ヒ ド 1モルに対して、 0. 8〜1 . 5モルの範囲で用いるのが好ましく、 さらに 0. 9 〜1. 2モルの範囲で用いるのが好ましい。 用いるプロトン性溶媒の量は、 塩基がある 程度溶解する量であれば特に制限されないが、 用いるアルデヒ ドまたは前記式 [ I ] で 表される化合物 1モルに対して 1 L以上用いるのが好ましい。 また、 非プロトン性溶媒 の量も特に制限されず、 T o s M I Cが溶解する量であれば良く、 また非プロ トン性溶 媒とプロトン性溶媒の混合比も特に制限されず、 任意の値を設定できる。 反応は、 例えば、 アルデヒ ドまたは前記式 [ I ] で表される化合物と T o s M I Cの 溶液およびプロ トン性溶媒に溶解もしくは懸濁した塩基を混合し、 0 °Cから溶媒の沸点、 好ましくは 2 0〜6 0 °Cの範囲で反応させる。 この際、 相間移動触媒共存下反応させる ことができる。 反応は、 窒素気流下もしくは窒素雰囲気下で行うのが好ましい。 反応時 間は反応させる化合物、 条件によって異なるが、 通常数分から 4 8時間程度である。 反 応終了後は、 必要に応じて反応液を冷却し、 通常の後処理操作により目的物を得ること ができる。
製造方法 2 : アルデヒ ドまたは前記式 [ I ] で表される化合物と T o s M I Cを相間 移動触媒及び無機塩基の存在下に反応させる方法。
本反応で用いられる相間移動触媒としては、 4級アンモニゥム塩類、 4級ホスホニゥ ム塩類等のォニゥム塩類、 クラウン化合物、 有機塩基等が用いられる。 具体的には 4級 アンモニゥム塩としては、 水酸化テトラメチルアンモニゥム、 水酸化テトラエチルアン モニゥム、 水酸化テトラプチルアンモニゥム、 水酸化トリメチルベンジルアンモニゥム、 臭化テトラメチルアンモニゥム、 臭化テトラェチルアンモニゥム、 臭化テトラブチルァ ンモニゥム、 臭化トリェチルベンジルアンモニゥム、 臭化トリメチルフヱニルアンモニ ゥム、 塩化テトラメチルアンモニゥム、 塩化テトラエチルアンモニゥム、 塩化テトラブ チルアンモニゥム、 塩化トリェチルベンジルアンモニゥム、 塩化トリメチルフヱニルァ ンモニゥム、 塩化トリオクチルメチルアンモニゥム、 塩化トリブチルベンジルアンモニ ゥム、 塩化トリメチルベンジルアンモニゥム、 塩化 N—ラウリルピリジニゥム、 塩化 N 一べンジルピコリニゥム、 塩化トリカプリルメチルアンモニゥム、 沃化テトラメチルァ ンモニゥム、 沃化テトラブチルアンモニゥム、 テトラプチルアンモニゥムサルフェート、 等が挙げられ、 4級ホスホニゥム塩としては、 塩化テトラエチルホスホニゥム、 臭化テ トラェチルホスホニゥム、 沃化テトラェチルホスホニゥム、 臭化テトラブチルホスホニ ゥム、 臭化テトラフヱニルホスホリウム、 臭化取りフヱニルベンジルホスホニゥム等が 挙げられ、 クラウン化合物としてはエーテルとしては、 1 5—クラウン一 5 , 1 8—ク ラウン一 6等のクラウンエーテル類、 クリプタンド類等が挙げられ、 有機塩基としては、 1, 8 —ジァザビシクロ〔5 . 4 . 0〕ゥンデク一 7—ェン、 1, 5 —ジァザビシクロ 〔4. 3 . 0〕ノン一 5—ェン、 6—ジブチルアミノー 1, 8—ジァザビシクロ〔5 . 4 . 0〕ゥンデクー 7—ェン、 トリエチレンジァミ ン、 N , N—ジメチルァミノ ピリジン等 が挙げられる。 相間移動触媒の使用量は用いるアルデヒドまたは前記式 [ I ] で表され る化合物 1モルに対して、 特に制限されないが、 0. 0 0 0 1〜5モル、 好ましくは 0. 0 1〜0. 5当量モルである。
本発明に用いられる無機塩基としては水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム、 水酸化リ チウム、 炭酸力リゥム、 炭酸ナトリウム、 炭酸水素力リゥム、 炭酸水素ナトリゥムが挙 げられる。 無機塩基の使用量は、 特に制限されないが、 好ましくは用いるアルデヒド 1 モルに対して 0. 5〜1 0モル、 さらに好ましくは 1 . 0〜3モルである。
反応に用いる溶媒として、 具体的には、 水、 塩化メチレン、 クロ口ホルム、 ジクロロ ェタン等のハ口ゲン系溶媒、 ベンゼン、 トルェン、 キシレン、 ベンゾニトリル、 ベンゾ トリフルオライドあるいはクロ口ベンゼン等の芳香族系溶媒、 酢酸メチル、 酸ェチル、 酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、 アセトン、 メチルェチルケトン、 ジェチルケト ン、 メチルイソプチルケトン等のケトン系溶媒、 ジェチルェ一テル、 テロラヒドロフラ ン等のエーテル系溶媒、 ァセトニトリル等の極性溶媒が挙げられる。 とりわけ: T o s M I cの合成または後処理後の抽出に使用できる溶媒、 例えば塩化メチレン等のハロゲン 系溶媒、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族系溶媒、 酔酸ェチル等のエス テル系溶媒、 メチルイソプチルケトン等のケトン系溶媒、 T H F、 ァセトニトリル等が 好ましく、 またこれらを混合して用いてもよい。 中でも、 水と上記例示した水以外の混 合系が好ましい。 溶媒の使用量は、 特に制限されないが、 用いるアルデヒドまたは前記 式 [ I ] で表される化合物に対し、 1〜1 0 0 0重量倍量、 好ましくは 5〜1 0 0重量 倍量の範囲である。
反応は、 例えばアルデヒドまたは前記式 [ I ] で表される化合物、 T o s M I C又は その溶液を適当な溶媒に混合し、 水に溶解した無機塩基及び相間移動触媒を加え、 0 °C から溶媒の沸点、 好ましくは 2 0〜 6 0 °Cの範囲で反応させる。 用いる T o s M I Cの 量は特に制限されないが、 用いるアルデヒドまたは前記式 [ I ] で表される化合物 1モ ルに対して 0. 8〜2. 0モル、 好ましくは、 1 . 0〜1. 5モルに範囲である。 反応 は、 窒素気流下もしくは窒素雰囲気下で行うのが好ましい。 反応時間は反応させる化合 物、 条件によって異なるが、 通常数分から 4 8時間である。 反応終了後は、 必要に応じ て反応液を冷却し、 通常の後処理操作により目的物を得ることができる。
製造方法 3 :アルデヒドまたは前記式 [ I ] で表される化合物と T o s M I Cを有機 塩基存在下反応させる方法。
使用される有機塩基としては、 pKaが 12以上のものが好ましく、 具体的には、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデク- 7-ェン (DBU) 、 1, 5_ジァザ ビシクロ〔4. 3. 0〕ノン一 5—ェン、 6—ジブチルァミノ一 1, 8—ジァザビシクロ 〔5. 4. 0〕ゥンデク一 7—ェン、 トリエチレンジァミン、 4一 (N, N—ジメチルァ ミノ) ピリジン (AP) 、 N, Ν, Ν', N'—テトラメチルエチレンジァミン等を例示 することができなかでも D B Uまたは A Ρを好ましく例示することができる。 これらは、 1種単独でまたは 2種以上を混合して使用することができる。 有機塩基の総使用量は用 いるアルデヒ ドまたは前記式 [I] で表される化合物 1モルに対して 0. 9〜10モル、 好ましくは 1. 0〜3. 0モルである。
反応に用いる溶媒として、 具体的には塩化メチレン、 クロ口ホルム、 ジクロロエタ ン等のハロゲン系溶媒、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 ベンゾニトリル、 ベンゾトリ フルオラィドあるいはクロ口ベンゼン等の芳香族系溶媒、 酢酸メチル、 酸ェチル、 酢酸 イソプロピル等のエステル系溶媒、 アセトン、 メチルェチルケトン、 ジェチルケトン、 メチルイソプチルケトン等のケトン系溶媒、 ジェチルエーテル、 テロラヒドロフラン等 のエーテル系溶媒、 ァセトニトリル等の極性溶媒が挙げられる。 とりわけ To sMI C の合成または後処理後の抽出に使用できる溶媒、 例えば塩化メチレン等のハロゲン系溶 媒、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族系溶媒、 酢酸ェチル等のエステル 系溶媒、 メチルイソプチルケトン等のケトン系溶媒、 THF、 ァセトニトリル等が好ま しく、 またこれらを混合して用いてもよい。 溶媒の使用量は用いるアルデヒドまたは前 記式 [I] で表される化合物に対し、 1〜1000重量倍量、 好ましくは 5〜100重 量倍量の範囲である。
反応は、 例えばアルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物、 To sMI C溶 液、 及び有機塩基を適当な溶媒に溶解,混合し、 一 20°Cから溶媒の沸点、 好ましくは 10-60°Cで反応させる。 用いる To sM I Cの量は特に制限されないが、 用いるァ ルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物 1モルに対して、 好ましくは 0. 8〜1. 5モル、 さらに好ましくは 0. 9〜1. 2モルである。 反応は、 窒素気流下もしくは窒 素雰囲気下で行うのが好ましい。 反応時間は反応させる化合物、 条件によって異なるが、 通常数分から 48時間である。 反応終了後は、 必要に応じて反応液を冷却し、 通常の後 処理操作により目的物を得ることができる。 これらの本発明の方法は、 単離した結晶の T o s M I Cを用いる場合に適用すること もできるが、 To sMFAを、 ォキシ塩化燐、 ホスゲン、 またはジホスゲンおよび 3級 アミンと反応させて得られた To sM I C、 好ましくは非プロトン性溶媒中、 ホスゲン および 3級ァミンと反応させて得られた T 0 s M I Cを単離精製しないで用いる場合に 好ましく適用できる。 発明の実施のための最良の形態:
本発明を実施例でさらに詳細に説明するが、 本発明は実施例に限定されるものではな い。
実施例 1
Figure imgf000011_0001
水酸化力リウム 3. lgを含むメタノール 16m 1に 2—メ トキシ一 4一二トロベン ズアルデヒド 5. 0 g、 To sMI Cの塩化メチレン溶液 (5. 7g含有) を室温にて 加えた。 混合物を室温にて、 高速液体クロマトグラフィー (HPLC) で原料が消失す るまで反応を続けた。 反応終了後、 水洗し、 溶媒を留去し、 メタノール,水から目的物 を晶析し、 濾過 ·乾燥して 5. 6 g得た。 (収率 92%) 実施例 2
2—メ トキシ一 4—ニトロべンズアルデヒド 3. 6 g> To sMI Cのトルエン溶液 (To sMI C : 4. 1 g含有) に水酸化カリウムのメタノール溶液 20m 1 (水酸 化カリウム; 2. 3 g含有) を室温にて加えた。 混合物を室温にて、 HP L Cで原料が 消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 水洗し、 有機層の HP L C分析を行なったと ころ目的物を 4. 2 g含有していた。 (収率 96%) 実施例 3 2—メ トキシー 4一二トロべンズアルデヒド 36 g、 T 0 s M I Cのクロルベンゼン 溶液 (To sMI C : 43 g含有) に水酸化カリウムのメタノール溶液 200m l
(水酸化力リウム: 23 g含有) を室温にて加えた。 混合物を室温にて、 HP L Cで原 料が消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 水洗し、 有機層の HP L C分析を行なつ たところ目的物を 39 g含有していた。 (収率 88%) 実施例 4
水酸化カリゥム 0. 24 gを含むエチレングリコール 2m 1に 2—メ トキシ一 4一二 トロべンズアルデヒド 0. 36 gを室温にて加えた。 この溶液に T o s M I C 0. 46 gを含む塩化メチレン溶液 8. 98 gを滴下した。 混合物を室温で攪拌し、 HP じで 原料が消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 濃縮して HP L Cで分析したところ目 的物 0. 38 g (収率 86%) を含有していた。 実施例 5
水酸化ナトリウム 0. 17 gを含むエチレングリコール 2m 1に 2—メ トキシ一 4— ニトロべンズアルデヒド 0. 37 gを室温にて加えた。 この溶液に T 0 s M I C 0. 4 5 gを含む塩化メチレン溶液 9. 3 gを滴下した。 混合物を室温で攪拌し、 HP LCで 原料が消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 濃縮して HP L Cで分析したところ目 的物 0. 36 g (収率 82%) を含有していた。 実施例 6
N— (4—メチルベンゼンスルホニルメチル)一ホルムアミ ド 140. 2 g (0. 65 mo 1) および塩化メチレン 1. 3 1を仕込み、 氷浴下で 5 °C以下に保持した。 次にホ スゲン 82. 2 g (0. 85mo l、 1. 3モル比) を 30分要して吹込んだ。 引き続 き同温度で、 塩化メチレン 195 m 1に希釈したトリェチルァミン 138. 6 g ( 1. 4mo 1、 2. 1モル比) を 30分要して液中に滴下した。 得られたオレンジ色の反応 液に 28%水酸化ナトリウム水溶液 28 g(0. 31110 1比)を水1. 5 1で希釈した水 溶液を注加し、 5 °C付近で 30分間攪拌した。 この液を分液ロートで分液し有機層 20 96. 0 gを得た。 HP LC分析により定量したところ 111. 33 (収率88%) で T o s M I Cが含まれていた。 (第 1工程)
水酸化力リウム 71. 2 gを含むェチレングリコール 552 m 1と塩化メチレン 1 1 Om 1に 2—メ トキシ一 4一二トロべンズアルデヒド 98. 4 gを、 第 1工程で得られ た T 0 s M I Cの塩化メチレン溶液 (T 0 s M I C 11 1. 3 g含有) に溶解してか ら 42°Cに加熱して加えた。 混合物を 42 °Cにて、 HP L Cで原料が消失するまで反応 を続けた。 反応終了後、 分液、 水洗し、 溶媒を留去し、 メタノール ·水から目的物を晶 折し、 濾過'乾燥して 102. 4 gを得た。 (収率 86%) (第 2工程) 実施例 7
水酸化カリウム 75. 1 gを含むメタノール 53 Om 1を、 2—メ トキシー 4—ニト 口べンズアルデヒド 97 gを添加した T 0 s M I Cのクロ口ベンゼン溶液 (T o s M I C 110 g含有) に室温にて加えた。 混合物を 42 °Cにて、 H P L Cで原料が消失する まで反応を続けた。 反応終了後、 分液、 水洗し、 溶媒を留去し、 クロ口ベンゼンから目 的物を晶析し、 濾過 ·乾燥して 103. 4 gを得た。 (収率 87. 7%) 実施例 8
Figure imgf000013_0001
To sMI C O. 99 gを含む塩化メチレン溶液 19. 7 gに _ -ニトロべンジリデン ァニリン 1. 10 gを加えた。 この溶液に水酸化カリウム 0. 70 gを含むメタノール 5m lを滴下した。 混合物を室温で攪拌し、 HP L Cで原料が消失するまで反応を続け た。 反応終了後、 水洗、 濃縮し、 メタノールから再結晶を行い、 濾過、 乾燥し、 目的物 0. 78 gを得た。 更にろ液を分析したところ 0. 3 l gを含有していた。 (収率 8 3%) 実施例 9
水酸化カリウム 0. 24 gをエチレングリコール 2 mL、 塩化メチレン 2 mLに加え、 加熱溶解した。 この溶液に To sM I C塩化メチレン溶液 8. 66 g (To sMI C O. 46 g含有) に 2—メ トキシー 4一二トロべンズアルデヒド 0. 36 gを溶解した塩化 メチレン溶液を滴下した。 混合物を 42 °Cに加熱し、 高速液体クロマトグラフィー (H PLC) で原料が消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 エチレングリコール層と塩 化メチレン層を分液し、 塩化メチレン層を濃縮して目的物 0. 41 g (収率 93%) を 得た。 実施例 10 (5— (2—メ トキシ— 4一二トロフヱニル) ォキサゾールの製造)
Figure imgf000014_0001
水酸化ナトリウム 0. 16 gを含む水溶液に 2—メ トキシー 4一二トロべンズアルデヒ ド 0. 36 g、 実施例 6における第 1工程と同様にして得られた To sMI C塩化メチ レン溶液 8. 1 g (To sMI C O. 432含有) 及び13811 0. 08 gを室温にて 加えた。 混合物を 40°Cに加温し、 HP L Cで原料が消失するまで反応を続けた。 反応 終了後、 室温に冷却し、 水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を留去した。 濃縮 残渣の HP L C分析を行なったところ目的物を 0. 37 g含有していた。 (収率 8 5%) 実施例 11 (5— (4一二トロフエニル) ォキサゾールの製造)
Figure imgf000014_0002
水酸化ナトリウム 0. 84 gを含む水溶液に 4—ニトロべンズアルデヒド 0. 45 g、 実施例 6と同様にして調製した To sM I C塩化メチレン溶液 12. 2 g (T o s M I CO. 65 g含有) 及び臭化テトラプチルアンモニゥム 0. 10 gを室温にて加えた。 混合物を室温にて、 HP L Cで原料が消失するまで反応を続けた。 反応終了後、 水洗を 行ない無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を留去した。 濃縮残渣の HP L C分析を行 なったところ目的物を 0. 82 g含有していた。 (収率 93%) 実施例 12
2—メ トキシ一 4一二トロべンズアルデヒド 0. 36 g、 実施例 6と同様にして調 製した To sM I Cの塩化メチレン溶液 8. 5 g (To sMI C 0. 45 g含有) 及び DBUO. 60 を室温にて加えた。 混合物を室温にて、 HPLCで原料が消失する まで反応を続けた。 反応終了後、 水洗を行ない無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を 留去した。 濃縮残渣の HP L C分析を行なったところ目的物を 0. 47 g含有していた。 (収率 96%) 産業上の利用可能性:
以上、 述べたように本発明の方法をもちいることにより、 農薬、 医薬、 機能材料等ま たはその中間体として有用な 5—置換ォキサゾール化合物および 5—置換ィミダゾール 化合物を安全にかつ効率よく製造することができる。

Claims

請求の範囲
1. N— (p—トリルスルホニルメチル) ホルムアミ ドとォキシ塩化燐、 ホスゲンまた はジホスゲンと 3級アミンより得られる ρ—トリルスルホ二ルメチルイソシアニドを単 離精製することなく、 アルデヒドまたは 式 [I] R1CH = NR2 (式中、 : Rife よび R 2は置換基を有していてもよいフ ニル基、 置換基を有していてもよい複素環基 または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。 ) と反応させることを特徴とする 5—置換ォキサゾールまたは 5—置換ィミダゾールの製造方法。
2. ρ—トリルスルホニルメチルイソシアニドの溶液と、 アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物とを、 非プロトン性溶媒とプロトン性溶媒との混合溶媒中、 塩 基存在下反応させる請求項 1記載の製造方法。
3. プロトン性溶媒が、 水、 ( 丄〜じ 丄。アルコール、 モノまたはポリアルキレングリコ ールからなる群から選ばれる少なくとも 1種以上であることを特徴とする請求項 1、 ま たは 2に記載の製造方法。
4. アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物と、 ; —トリルスルホニルメチル イソシァニドを相間移動触媒及び無機塩基の存在下に反応させることを特徴とする請求 項 1乃至 3のいずれかに記載の製造方法。
5. アルデヒドまたは前記式 [I] で表される化合物と、 p—トリルスルホニルメチル イソシアニドを有機塩基存在下反応させることを特徴とする請求項 1記載の製造方法。
6. pKaが、 12以上である有機塩基を用いることを特徴とする請求項 5記載の製造 方法。
7. 有機塩基が、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデク- 7-ェンまたは 4— (N, N—ジメチルァミノ) ピリジンであることを特徴とする請求項 5または 6記載の 製造方法。
8. アルデヒドが、 無置換または置換芳香族アルデヒドであることを特徴とする請求項 1乃至 7のいずれかに記載の 5—置換ォキサゾ―ルの製造方法。
PCT/JP2002/002704 2001-03-23 2002-03-20 Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues WO2002076958A1 (fr)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE60212947T DE60212947T2 (de) 2001-03-23 2002-03-20 Verfahren zur herstellung von 5-substituierten oxazolverbindungen und 1,5-disubstituierten imidazolverbindungen
US11/825,114 USRE40795E1 (en) 2001-03-23 2002-03-20 Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds
KR1020037012334A KR100586671B1 (ko) 2001-03-23 2002-03-20 5-치환 옥사졸 화합물 및 5-치환 이미다졸 화합물의제조방법
EP02705404A EP1371649B1 (en) 2001-03-23 2002-03-20 Process for producing 5-substituted oxazole and 1,5-disubstituted imidazole compounds
JP2002576218A JP4161367B2 (ja) 2001-03-23 2002-03-20 5−置換オキサゾール化合物および5−置換イミダゾール化合物の製造方法
IL15772402A IL157724A0 (en) 2001-03-23 2002-03-20 Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds
US10/471,434 US7102010B2 (en) 2001-03-23 2002-03-20 Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds
IL157724A IL157724A (en) 2001-03-23 2003-09-03 Process for the preparation of position-converted oxazole compounds and position-converted imidazole compounds
US11/492,302 US20070027324A1 (en) 2001-03-23 2006-07-25 Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001084184 2001-03-23
JP2001-84183 2001-03-23
JP2001084183 2001-03-23
JP2001-84092 2001-03-23
JP2001-84184 2001-03-23
JP2001084092 2001-03-23

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US11/492,302 Continuation US20070027324A1 (en) 2001-03-23 2006-07-25 Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2002076958A1 true WO2002076958A1 (fr) 2002-10-03

Family

ID=27346333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2002/002704 WO2002076958A1 (fr) 2001-03-23 2002-03-20 Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues

Country Status (9)

Country Link
US (3) US7102010B2 (ja)
EP (1) EP1371649B1 (ja)
JP (1) JP4161367B2 (ja)
KR (1) KR100586671B1 (ja)
CN (1) CN100506805C (ja)
AT (1) ATE332295T1 (ja)
DE (1) DE60212947T2 (ja)
IL (2) IL157724A0 (ja)
WO (1) WO2002076958A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335685A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Nippon Soda Co Ltd 5−置換オキサゾール化合物の精製方法及び製造方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101008187B1 (ko) * 2008-06-16 2011-01-14 오토스테크 주식회사 기능성 가스켓을 갖는 용접 마스크
CN104387301B (zh) * 2014-11-11 2016-05-04 常州大学 一种2-氟-4-甲基苯磺酰甲基异腈的合成方法
CN107095868B (zh) * 2017-06-01 2019-06-11 深圳碳希生物科技有限公司 3-(5-噁唑基)苯酚在美白方面的应用及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60202866A (ja) * 1984-03-26 1985-10-14 Earth Chem Corp Ltd 1−シトロネリ−ル−5−置換イミダゾ−ル類
JPH04134078A (ja) * 1990-09-21 1992-05-07 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 5―置換オキサゾールの製造法
US5877326A (en) * 1996-08-19 1999-03-02 Basf Aktiengesellschaft Aqueous phase process for preparing N-substituted imidazoles

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0755931B2 (ja) * 1986-03-24 1995-06-14 アース製薬株式会社 1,5−ジ置換イミダゾ−ル
US4958030A (en) 1988-12-12 1990-09-18 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of 3-phenylpyrrole derivatives
AU3087195A (en) * 1994-08-02 1996-03-04 Nippon Soda Co., Ltd. Oxazole derivative, process for producing the same, and herbicide

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60202866A (ja) * 1984-03-26 1985-10-14 Earth Chem Corp Ltd 1−シトロネリ−ル−5−置換イミダゾ−ル類
JPH04134078A (ja) * 1990-09-21 1992-05-07 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 5―置換オキサゾールの製造法
US5877326A (en) * 1996-08-19 1999-03-02 Basf Aktiengesellschaft Aqueous phase process for preparing N-substituted imidazoles

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335685A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Nippon Soda Co Ltd 5−置換オキサゾール化合物の精製方法及び製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1371649A1 (en) 2003-12-17
US7102010B2 (en) 2006-09-05
CN1500084A (zh) 2004-05-26
EP1371649B1 (en) 2006-07-05
KR20030083007A (ko) 2003-10-23
USRE40795E1 (en) 2009-06-23
EP1371649A4 (en) 2005-05-25
IL157724A (en) 2008-06-05
DE60212947T2 (de) 2007-01-11
JPWO2002076958A1 (ja) 2004-10-21
DE60212947D1 (de) 2006-08-17
US20070027324A1 (en) 2007-02-01
CN100506805C (zh) 2009-07-01
ATE332295T1 (de) 2006-07-15
JP4161367B2 (ja) 2008-10-08
KR100586671B1 (ko) 2006-06-07
US20040116711A1 (en) 2004-06-17
IL157724A0 (en) 2004-03-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20140013232A (ko) N-(2-히드록시에틸)니코틴아미드 및 니코란딜의 제조방법
WO2002076958A1 (fr) Procede de production de composes oxazoles 5-substitues et de composes imidazoles 5-substitues
JP5209426B2 (ja) 1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法
JP4693261B2 (ja) 5−置換オキサゾール化合物の製造方法
JP5279449B2 (ja) 5−{4−[2−(5−エチル−2−ピリジル)エトキシ]ベンジル}−2,4−チアゾリジンジオン塩酸塩の製造方法
TWI361807B (en) Process for preparing substituted 4-alkoxycarbonyl-3-aminothiophenes
CN103980283B (zh) 一种芳基叠氮化物及芳基1,2,3三唑类螺环化合物的合成方法
JPH061776A (ja) 置換ピラジンカルボニトリルの製造方法
CN110577520B (zh) 一种6-硝基-4-取代氨基喹唑啉衍生物的制备方法
JP4305747B2 (ja) 2−フェニル−4−(ジクロロフェニル)イミダゾール化合物
Tang et al. An efficient synthesis of imidodicarbonic diamides from 1, 3-thiazetidin-2-ones with NH2OH· HCl via ring-opening reaction
JP5112621B2 (ja) 5−置換オキサゾール化合物の精製方法及び製造方法
JP2001252569A (ja) 高分子固定化キラルジルコニウム触媒
JP3804078B2 (ja) β−ニトロエナミンの製造方法
KR100795589B1 (ko) 2-부틸-4-클로로-1-[[2'-(1h-테트라졸-5-일)바이페닐-4-일]메틸]이미다졸-5-카르복스알데하이드의 제조방법
JPH06228149A (ja) 新規な5環性ヘテロ環化合物、製造中間体とそれらの製造方法
EP3553051A1 (en) Method for producing 3-(pyridyl-2-amino)propionitrile and analogues thereof
CN111848637A (zh) 一种合成顺/反式含氧氮杂原子的螺环化合物的方法
WO2006054688A1 (ja) テトラヒドロピラン-4-カルボン酸化合物の製法
JP2006083075A (ja) ピリジルメチルカルバミン酸エステル化合物、その製造方法及びピリジルメチルアミン化合物の製造方法
JPH0881432A (ja) O−アルキル−N−(β−ニトロエチル)ヒドロキシルアミン誘導体およびその製造方法
JPH023783B2 (ja)
JPS62292761A (ja) 2−イミダゾリジノン類の製造方法
JP2006036641A (ja) メチル化合物の製造法
JP2004224771A (ja) 1,1,5,5−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NO NZ OM PH PL PT RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2002576218

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2002705404

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 157724

Country of ref document: IL

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1124/KOLNP/2003

Country of ref document: IN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11825114

Country of ref document: US

Ref document number: 10471434

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 028068394

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020037012334

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2002705404

Country of ref document: EP

REG Reference to national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: 8642

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 2002705404

Country of ref document: EP