WO2002061843A1

WO2002061843A1 - Bipolartransistor und verfahren zu dessen herstellung

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Publication number: WO2002061843A1
Application number: PCT/EP2002/001125
Authority: WO
Inventors: Martin Franosch; Thomas Meister; Herbert Schaefer; Reinhard Stengl
Original assignee: Infineon Technologies Ag
Priority date: 2001-02-02
Filing date: 2002-02-04
Publication date: 2002-08-08
Also published as: CN1283012C; EP1356527A1; US7064360B2; TW526563B; EP1356527B1; US20040099881A1; CN1518773A; DE10104776A1; DE50214199D1

Abstract

Durch das erfindungsgemässe Verfahren kann ein Bipolartransistor mit niedrigem Basisanschlusswiderstand, geringer Defektdichte und verbesserter Skalierbarkeit hergestellt werden. Unter Skalierbarkeit ist hierbei sowohl die laterale Skalierung des Emitterfensters als auch die vertikale Skalierung der Basisweite (niedriges Temperaturbudget) zu verstehen. Das Temperaturbudget kann im Basisbereich niedrig gehalten werden, da keine Implantationen notwendig sind, um den Basisanschlusswiderstand zu verringern. Weiterhin werden die mit den Punkt-Defekten in Zusammenhang stehenden Schwierigkeiten weitgehend vermieden.

Description

Beschreibung

Bipolartransistor und Verfahren zu dessen Herstellung

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Bipolartransistor. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Herstellen eines Bipolartransistors.

Bipolartransistoren sind im allgemeinen aus zwei nahe beieinander liegenden pn-übergängen in einem Halbleiterkristall aufgebaut. Dabei werden entweder zwei n-dotierte Gebiete durch ein p-dotiertes Gebiet voneinander getrennt (sogenannte npn-Transistoren) oder zwei p-dotierte durch ein n- dotiertes Gebiet (pnp-Transistoren) . Die drei unterschiedlich dotierten Gebiete werden als Emitter (E) , Basis (B) und Kollektor (C) bezeichnet. Bipolartransistoren sind bereits seit langem bekannt und werden auf vielfältige Art und Weise eingesetzt. Dabei unterscheidet man zwischen sogenannten Einzel - transistoren, die für die Montage auf Leiterplatten oder der- gleichen gedacht und in einem eigenen Gehäuse untergebracht sind, und sogenannten integrierten Transistoren, die zusammen mit weiteren Halbleiterbauelementen auf einem gemeinsamen Halbleiterträger, der in der Regel als Substrat bezeichnet wird, hergestellt werden.

Die maximale Schwingfrequenz f_max eines Bipolartransistors ist proportional zu der Wurzel aus f_τ geteilt durch 8πR_BC_BC, wobei R_B der Basiswiderstand, C_Bc die Basis- Collec- tor-Kapazität und f_τ die Transitfrequenz sind. Um hohe Schwingfrequenzen zu erhalten ist es deshalb wünschenswert den Basiswiderstand zu verringern. Der Basiswiderstand eines Bipolartransistors wird sowohl durch den Widerstand des An- schlußgebietes als auch durch den Schichtwiderstand des Basis-Dotierprofiles bestimmt. Dieser Schichtwiderstand, der sogenannte Pinch, ist bei homogener Basisdotierung umgekehrt proportional zur Basisdicke. Jedoch führt eine Erhöhung der Basisdicke zur Vergrößerung der Basislaufzeit für die Minoritätsträger.

Eine Erhöhung der homogenen Basisdotierung über 5 10¹⁸ hinaus verringert die DurchbruchsSpannung des Emitter- Basisübergangs auf zu niedrige Werte und vergrößert gleichzeitig die Kapazität der Basis-Emitter-Sperrschicht. Eine bekannte Methode zur weiteren Verringerung des Basis-Pinch- Widerstandes ist die Verwendung eines niedrig dotierten (1 10¹⁸) , epitaktischen Emitters. Die niedrige Emitterdotierung erlaubt es die Basis praktisch bis 1 10²⁰ zu dotieren, ohne daß die Sperrfähigkeit des Emitter-Basis-Übergangs verloren geht. Wegen der im Vergleich zum Emitter erhöhten Basisladung wäre die Stromverstärkung eines solchen Transistors zu klein, dies kann jedoch durch die Verwendung von Germanium in der Basis ausgeglichen werden.

Bisherige Konzepte zur Erzeugung von Strukturen mit epi- taktischem Emitter sind beispielsweise in Behammer et al . , Solid State Electronics Vol 41, No.8, pp. 1105-1110 (1997) oder J. Schiz et al. IEEE (1997), ISBN 7803-4135-X, pp . 255 - 260 dargestellt und beschrieben.

Fig. 14 zeigt schematisch einen Bipolartransitor gemäß der Veröffentlichung von Behammer et al . in vereinfachter

Weise. Der Bipolartransistor weist zunächst einen Kollektor 102 auf, der in einem Siliziumsubstrat oder in einer Silizium Epitaxie-Schicht ausgebildet ist. Auf dem Kollektor 102 (n- dotiert) ist die SiGe-Basis 104 (p-dotiert) und auf der Basis 104 ist der n^"-Emitter 106 vorgesehen. Seitlich angrenzend an den Kollektor 102, die Basis 104 und den n^'-Emitter 106 ist eine p⁺ Implantation 108 angeordnet, die den Kontakt zur p- dotierten Basis herstellt. Zum Anschluß der p⁺ Implantation 108 ist eine Metallschicht 110 vorgesehen, die durch einen sogeannten Seitenwandspacer 112 von einem n⁺-Emitter 114 isoliert ist. Der n⁺-Emitter 114 wiederum ist oberhalb des n^'- Emitter 106 angeordnet . Der gesamte Bipolartransistor ist durch eine Isolation 116 bzw. eine Isolationschicht 118 gegenüber weiteren Baulelementen isoliert .

Gemäß der Veröffentlichung von Behammer et al . kann der in Fig. 14 gezeigte Bipolartransistor mit Hilfe der sogenannten „Blanket Epitaxy" hergestellt werden. Bei diesem Verfahren erfolgt jedoch eine Trockenätzung auf dem Basisanschlußgebiet .

Fig. 15 zeigt schematisch einen Bipolartransitor gemäß der Veröffentlichung von J. Schiz et al . in vereinfachter Weise. Der Bipolartransistor 100 weist ebenfalls einen Kollektor 102 auf, der in einem Siliziumsubstrat oder in einer Silizium Epitaxie-Schicht ausgebildet ist. Auf dem Kollektor 102 (n-dotiert) ist die SiGe-Basis 104 (p-dotiert) und auf der Basis 104 ist der n^'-Emitter 106 vorgesehen. Seitlich angrenzend an die Basis 104 und den n^'-Emitter 106 ist eine p⁺- dotierte Polysiliziumschicht 120 angeordnet, die den Kontakt zur p-dotierten Basis herstellt. Über dem n^'-Emitter 106 ist ein n⁺-Emitter 114 angeordnet, der von eimen justierten Sei- tenwandspacer 122 begrenzt wird. Der gesamte Bipolartransistor ist wiederum durch eine Isolation 116 bzw. eine Isolationschicht 118 gegenüber weiteren Baulelementen isoliert.

Der Bipolartransitor gemäß der Veröffentlichung von J. Schiz et al . muß den Seitenwandspacer 122 durch eine Fototechnik erzeugen, so daß eine Dicke von weniger als 200 μm in der Regel nicht möglich ist. Ein derart dicker Seitenwandspacer 122 hat jedoch deutlich erhöhte parasitäre Kapazi- täten zur Folge.

Die in den Figuren 14 und 15 gezeigten Bipolartransistoren besitzen als Gemeinsamkeit, daß eine sogenannte „Link- Implantation" (Kontakt-Implantation) außerhalb des Emitterbe- reichs durchgeführt wird, um den Basisanschlußwiderstand zu verringern. In einer weiteren Veröffentlichung von Harame et al., Trans. ED Vol. 42, No. 3, pp . 469 - 482 sind in der dor- tigen Fig. 3 die Implantationsschäden, Punkt-Defekte, dargestellt, die sich in der Regel bei einer deratigen Implatati- on, ebenso wie einer Trockenätzungen auf Siliziumsubstrat, ergeben .

Auch wenn man davon ausgeht, daß keine Ausdehnung der Punkt-Defekte in das aktive Basisgebiet stattfindet, so führen die vorhandene Punkt-Defekte doch zu einer anormal hohen Diffusion des Dotierstoffs Bor in die nahegelegenen SiGe- Basis 104. Um eine derartige Dotierstoffdiffusion zu verhindern, kann der Seitenwandspacer nicht beliebig dünn gemacht werden. Um die Punktdefekte von der Basis fern zu halten ist ein Seitenwandspacer von ca. 150 nm und größer notwendig, was jedoch den Linkwiderstand und die Basis-Collector Kapazität erhöht. Für den Fall, daß der Seitenwandspacer vollständig weggelassen wird und zusätzlich in den Anschlußbereich implantiert wird, ist kein funktionierendes Bauelement zu erwarten. Weiterhin kommt es während nachfolgender Temperaturschritte oberhalb 550°C infolge der noch vorhandenen Punktde- fekte zu einer starken Verbreiterung des Basisprofils.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Bipolartransistor sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung bereitzustellen, der die geschilderten Schwierigkeiten deutlich vermindert bzw. ganz vermeidet. Es ist insbesondere die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Bipolartransistor bereitzustellen, der einen niedrigen Basisanschlußwiderstand sowie eine geringe Defektdichte aufweist .

Diese Aufgabe wird von dem Verfahren zur Herstellung eines Bipolartransitors gemäß Patentanspruch 1 sowie von dem Bipolartransistor gemäß Patentanspruch 10 gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen, Ausgestaltungen und Aspekte der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus den Unteransprü- chen der Beschreibung und den beiliegenden Zeichnungen. Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bipolartransistor, insbesondere eines npn - Bipolartransistors, mit den folgenden Schritten bereitgestellt:

a) ein Halbleitersubstrat mit einem Kollektor, einer Basis und einer niedrig-dotierten Emitterschicht wird bereitgestellt;

b) auf die niedrig-dotierte Emitterschicht wird eine Maske aufgebracht;

c) mit Hilfe der Maske wird die niedrig dotierte Emitterschicht naßchemisch geätzt, so daß ein niedrig-dotierten Emitter gebildet wird;

d) auf den freiliegenden Bereichen der Basis wird der Basisanschluß gebildet;

e) die Maske wird entfernt und ein hoch-dotierter Emitter gebildet.

Weiterhin wird erfindungsgemäß ein Bipolartransistor, insbesondere npn-Bipolartransistor, mit einem Halbleitersubstrat, einem Kollektor, einer Basis, einem niedrig-dotierten Emitter und einem hoch-dotierten Emitter bereitgestellt. Der erfindungsgemäße Bipolartransistor ist dadurch gekennzeichnet, daß der Anschluß an die Basis im wesentlichen parallel zu dem niedrig-dotierten Emitter ausgerichtet und vom dem niedrig-dotierten Emitter durch einen Seitenwandspacer oder„ einen pn-Übergang getrennt ist.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren kann ein Bipolartransistor mit niedrigem Basisanschlußwiderstand, geringer Defektdichte und verbesserter Skalierbarkeit hergestellt wer- den. Unter Skalierbarkeit ist hierbei sowohl die laterale Skalierung des Emitterfensters als auch die vertikale Skalierung der Basisweite (niedriges Temperaturbudget) zu verste- hen. Das Temperaturbudget kann im Basisbereich niedrig gehalten werden, da keine Implantationen notwendig sind, um den Basisanschlußwiderstand zu verringern. Weiterhin werden die mit den Punkt-Defekten in Zusammenhang stehenden Schwierig- keiten weitgehend vermieden.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform wird als Basis eine hoch-dotierte Silizium-Germanium Basis verwendet . Durch die Verwendung von Germanium in der Basis kann eine ausrei- chende Stromverstärkung des Bipolartransistors trotz einer erhöhten Basisladung gewährleistet werden.

Bevorzugt weist die Basis eine Dicke von 20 bis 50nm sowie eine Dotierung, insbesondere eine p⁺-Dotierung, von mehr als 2 10¹⁹ pro Kubikcentimeter auf. Weiterhin ist es bevorzugt, wenn der niedrig-dotierte Emitter eine Dicke von 50 bis 150nm sowie eine n^"-Dotιerung von weniger als 2 10 pro Kubikcentimeter aufweist.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfaßt die Maske eine Oxid-Schicht, eine Siliziumschicht und eine Nitridschicht. Dabei ist es bevorzugt, wenn die Oxidschicht (Oxid-Stoppschicht) mit Hilfe eines CVD-Verfahrens auf die niedrig-dotierte Emitterschicht aufgebracht wird. Die Dicke der Stoppschicht beträgt bevorzugt 5 bis 30 nm. Auf die Oxidschicht wird eine, bevorzugt p⁺-dotierte, amorphe Siliziumschicht mit einer Dicke von 100 bis 1000 nm aufgebracht. Es folgt die Nitridschicht, die durch ein Sputterverfahren mit einer Dicke von 20 bis 50 nm abgeschieden wird. Die kombi- nierte Schicht aus Nitrid und amorphen Silizium kann nachfolgend fototechnisch in der Breite des Emitterfensters durch Trockenätzen strukturiert werden. Die Oxidschicht dient hierbei als Ätzstop, da sich amorphes Silizium sehr selektiv (>10) zu Oxid ätzen läßt. Das Oxid kann nachfolgend durch HF entfernt werden. . 1 > 1 rH Φ 1 > xs ω •H CV3 φ •H JJ 1 xi 1 ^•H rH φ JJ •H Xi

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der Oxidspacer anschließend mit HF entfernt bilden diese Bereiche der Nitrid-Schicht den Seitenwandspacer.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird auf den freiliegenden Bereichen der Basis der Basisanschluß mittels differentieller Epitaxy gebildet. Dabei ist insbesondere bevorzugt, wenn als Basisanschluß ein hoch-dotierter (>

1 10²⁰) , insbesondere ein P+ dotierter, Basisanschluß verwendet wird. Die selektive Epitaxy erfolgt dabei bevorzugt bei etwa der Temperatur mit der auch die Basis selbst erzeugt wurde (beispielsweise etwa 800°C) . Dementsprechend kommt es

hierbei zu keiner wesentlichen Verbreiterung der Dotierprofile.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird vor der Bildung des hoch-dotierten Emitters an den Seitenwän¬

den Emitterfensters ein Seitenwandspacer, bevorzugt ein Ni- tridspacer, erzeugt.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Figuren der

Zeichnungen näher dargestellt. Es zeigen

Fig. 1 bis 9 eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungsform des erfindun s emäßen Verfahrens

Fig. 15 schematisch einen Bipolartransitor gemäß der Veröffentlichung von J. Schiz et al. in vereinfachter Weise

Die Figuren 1 bis 9 zeigen nachfolgend eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens. Gemäß Schritt a) des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein Siliziumsubstrat 10 mit einem Kollektor 12, einer Basis 14 und einer niedrig-dotierten Emitterschicht 16 bereitgestellt. Um den elektrischen Anschluß des Kollektors 12 zu gewährleisten, steht der Kollektor 12 mit einer vergrabenen Schicht 11 in Kontakt. Weiterhin sind zur Isolation des späteren Bipolartransistors eine Isolation 17, im vorliegen- den Beispiel eine LOCOS-Isolation, und ein sogenannter „Channel Stop" 18 unterhalb der Isolation 17 vorgesehen.

Ausgehend von dem Siliziumsubstrat 10 mit der vergrabenen Schicht 11 wird, beispielsweise mit selektiver Epitaxy, der Kollektor 12 auf der vergrabenen Schicht 11 erzeugt. Dabei wird der Kollektor 12 lateral von einer Isolationschicht 19, beispielsweise einer TEOS-Schicht , begrenzt. Anschließend erfolgt, beispielsweise mit einer differentiellen Epitaxy, Abscheidung einer hoch-dotierten Silizum-Germanium Basis 14 sowie einer niedrig-dotierten Emitterschicht 16. Bevorzugt weist die Basis 14 eine Dicke von 20 bis 50nm sowie eine p⁺- Dotierung, von mehr als 2 10¹⁹ pro Kubikcentimeter auf. Der niedrig-dotierte Emitter 16 besitzt eine Dicke von 50 bis 150nm sowie eine n^"-Dotierung von weniger als 2 10¹⁸ pro Ku- bikcentimeter . Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 1 gezeigt.

Anschließend erfolgt die Abscheidung einer CVD-Oxid- Stopschicht 20. Die Dicke der Oxid-Stopschicht 20 beträgt da- bei zwischen 5 und 30 nm. Die Abscheidung erfolgt bei einer

Temperatur von beispielsweise 600°C. Es folgt die Abscheidung einer hoch-dotierten (p⁺) amorphen Siliziumschicht 21. Die Dicke der amorphen Siliziumschicht 21 beträgt dabei zwischen 100 und 1000 nm. Die Abscheidung erfolgt bei einer Temperatur von beispielsweise 550°C. Weiterhin wird eine gesputterte Nitridschicht 22 mit einer Dicke von etwa 35 nm aufgebracht.

Anschließend werden die Nitridschicht 22 und die amorphe Siliziumschicht 21 fototechnisch in der Breite des Emitterfensters durch Trockenätzen strukturiert. Die Oxidschicht 20 dient hierbei als Ätzstop, da sich amorphes Silizium sehr se- lektiv (>10) zu Oxid ätzen läßt. Das Oxid 20 wird nachfolgend durch HF entfernt werden. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 2 gezeigt.

Ein wesentlicher Teil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht nun darin, die niedrig-dotierten Emitterschicht 16 über der Basis 14 durch eine Naßätzung zu strukturieren. Der Schichstapel aus Oxidschicht 20, amorpher Siliziumschicht 21 und Nitridschicht 22 wirkt dabei als Maske für die Strukturierung. Dabei ist es bevorzugt, wenn die niedrig-dotierte Emitterschicht 16 naßchemisch mit KOH oder Cholin geätzt wird. Eine naßchemisch Ätzung mit KOH oder Cholin besitzt den Vorteil, daß KOH oder Cholin selektiv zwischen n- und p- Silizium ätzt. Somit kann die niedrig-dotierte Emitterschicht 16 selektiv zu der Basis 14 und der bereits strukturierten, amorphen Siliziumschicht 21 strukturiert werden. Weiterhin besitzt eine naßchemisch Ätzung mit KOH oder Cholin den Vorteil, daß hierbei keine Defekte in der darunter liegenden Basis 14 erzeugt werden.

Da die niedrig-dotierte Emitterschicht 16 über der Basis

14 als im wesentlichen monokristalline Schicht ausgebildet ist, stoppt die näßchemische Ätzung mit KOH oder Cholin auf (111) -Flächen die sich bei einer Unterätzung entlang von (110) Kanten auf einer (100) -Oberfläche ausbilden. Dies ist auch die übliche Fiat und Substrat Orientierung bei Siliziumscheiben. Auf diese Weise wird der niedrig-dotierte Emitter 16 gebildet, der lateral (bis auch Eckbereiche) durch (111)- Flächen begrenzt ist. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 3 gezeigt.

Die Seitenwand des niedrig-dotierten Emitters wird nun durch einen Nitridspacer 23 isoliert. Um auch hier eine Trok- kenätzung auf der Basis 14 zu vermeiden, wird zunächst die Nitridschicht 23 mit einer Dicke zwischen 5 und 50 nm abgeschieden und dann ein Oxidspacer 24 durch eine Oxidabeschei- dung, beispielsweise TEOS, und eine anschließende Trockenät- zung strukturiert. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 4 gezeigt. Aus Gründen der Einfachheit sind in Fig. 4 und in den folgendenden Figuren die (111) -Stopflächen, die den niedrig-dotierte Emitter 16 lateral begrenzen, nicht mehr dargestellt.

Anschließend wird die Nitridschicht 23 naßchemisch, bevorzugt durch Phosphorsäure, selektiv zum Oxid 24 entfernt, so daß nur die von dem Oxidspacer 24 geschützten Bereiche der Nitrid-Schicht 23 bestehen bleiben. Nachfolgend wird der Oxidspacer 24 mit HF entfernt, so daß diese von dem Oxidspacer geschützten Bereiche der Nitrid-Schicht den Seitenwandspacer 23 bilden. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 5 gezeigt.

Anschließend wird auf den freiliegenden Bereichen der Basis der Basisanschluß 25 mittels differentieller Epitaxy gebildet. Dabei ist insbesondere bevorzugt, wenn als Basisanschluß ein hoch-dotierter (> 1 10²⁰) , insbesondere ein P+ dotierter, Basisanschluß 25 verwendet wird. Die selektive Epi- taxy erfolgt dabei bevorzugt bei etwa der Temperatur mit der auch die Basis 14 selbst erzeugt wurde (beispielsweise etwa 800°C) . Dementsprechend kommt es hierbei zu keiner wesentlichen Verbreiterung der Dotierprofile. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 6 gezeigt.

Der Anschluß 25 an die Basis ist somit im wesentlichen parallel zu dem niedrig-dotierten Emitter 16 ausgerichtet, 4J d CQ JJ Φ d JJ cn Cn d Φ

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Anschließend wird auf den freiliegenden Bereichen der Basis der Basisanschluß 25 mittels differentieller Epitaxy gebildet. Dabei ist insbesondere bevorzugt, wenn als Basisanschluß ein hoch-dotierter (> 1 10²⁰) , insbesondere ein P+ do- tierter, Basisanschluß 25 verwendet wird. Die selektive Epitaxy erfolgt dabei bevorzugt bei etwa der Temperatur mit der auch die Basis 14 selbst erzeugt wurde (beispielsweise etwa 800°C) . Dementsprechend kommt es hierbei zu keiner wesentlichen Verbreiterung der Dotierprofile. Da bei dieser Ausfüh- rungsform der Seitenwandspacer 30 im Bereich des niedrigdotierten Emitters 16 nicht vorhanden ist, ist der Anschluß

25 an die Basis 14 vom dem niedrig-dotierten Emitter 16 durch einen pn-Übergang getrennt .

Anschließend erfolgt nun die Abscheidung eines CVD-Oxids

26 und dessen Planarisierung. Dabei wird die verbliebene Nitridschicht 22 über dem Emitterfenster wegpoliert. Anschließend erfolgt die selbjustierte Entfernung der Opferschichten im Emitterfenster. Dabei erfolgt die Entfernung der amorphen Siliziumschicht 21 im Emitterfenster durch eine Trockenätzung, wobei das etwa CVD-Oxid 20 wiederum als Ätzstop dient. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 12 gezeigt.

Es folgt die Erzeugung eines weiteren Seitenwandspacers 31 (z.B. Nitridspacer), um einen ausreichenden Abstand zwischen dem Basisanschluß 25 und dem noch zu erzeugenden n+ Emitter zu gewährleisten. Nachdem durch Naßätzen mit HF die Oxidschicht 20 ebenfalls entfernt wurde, erfolgt die Abscheidung des n+ Emitterpolys 27 sowie dessen Strukturierung. Die sich daraus ergebende Situation ist in Fig. 13 gezeigt.

Im Gegensatz zu dem in Fig. 15 gezeigten Biloartransi- stor nach dem Stand der Technik ist bei dem in Fig. 13 gezeigte, erfindungsgemäße Bipolatransistor ein Teil des Ba- sisanschlusses 25 im wesentlichen einkristallin und bildet einen pn-Übergang mit den (111) -Stoppflächen des niedrigdotierten Emitters 16. Bei dem in Fig. 15 gezeigten Biloar-

Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zur Herstellung eines Bipolartransistor, insbesondere eines npn-Bipolartransistors, mit den Schritten:

b) auf die niedrig-dotierte Emitterschicht wird eine Maske aufgebracht ;

c) mit Hilfe der Maske wird die niedrig dotierte Emitterschicht naßchemisch geätzt, so daß ein niedrig-dotier- ten Emitter gebildet wird;

d) auf den freiliegenden Bereichen der Basis wird ein Basisanschluß gebildet;

e) die Maske wird entfernt und ein hoch-dotierter Emitter gebildet .

2. Verfahren nach Anspruch 1 , d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass als Basis eine hoch-dotierte Silizium-Germanium Basis verwendet wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 , d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Maske ein Oxid-Schicht, eine Siliziumschicht und eine

Nitridschicht umfaßt .

4. Verfahren nach einem der vorherstehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die niedrig-dotierte Emitterschicht naßchemisch mit einem alkalischen Ätzmittel, insbesondere KOH, Cholin und/oder Ethylendiamin, geätzt wird.

5. Verfahren nach einem der vorherstehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die niedrig-dotierte Emitterschicht über der Basis als im wesentlichen monokristalline Schicht ausgebildet ist und die näßchemische Ätzung auf (111) -Flächen in dieser im wesentlichen monokristallinen Schicht stoppt.

6. Verfahren nach einem der vorherstehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass vor der naßchemischen Ätzung an den Seitenwänden der Maske ein Seitenwandspacer, bevorzugt ein Nitridspacer, erzeugt wird.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass vor der Bildung des Basisanschlusses an den Seitenwänden der Maske und des niedrig-dotierten Emitters ein Seitenwandspacer, bevorzugt ein Nitridspacer, erzeugt wird.

Verfahren nach einem der vorherstehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass auf den freiliegenden Bereichen der Basis der Basisanschluß mittels selektiver Epitaxy gebildet wird.

9. Verfahren nach einem der vorherstehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass vor der Bildung des hoch-dotierten Emitters an den Seitenwänden Emitterfensters ein Seitenwandspacer, bevorzugt ein Nitridspacer, erzeugt wird.

10.Bipolartransistor, insbesondere npn-Bipolartransistor, mit einem Halbleitersubstrat (10) , einem Kollektor (12) , einer Basis (14) , einem niedrig-dotierten Emitter (16) und einem hoch-dotierten Emitter (27) , d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Anschluß (25) an die Basis (14) im wesentlichen parallel zu dem niedrig-dotierten Emitter (16) ausgerichtet und vom dem niedrig-dotierten Emitter (16) durch einen Seitenwandspacer (23) oder einen pn-Übergang getrennt ist.

11. Bipolartransistor nach Anspruch 8, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Basis (14) als eine hoch-dotierte Silizium-Germanium

Basis ist.

12. Bipolartransistor nach Anspruch 8 oder 9, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Basis (14) eine Dotierung, insbesondere eine p⁺- Dotierung, von mehr als 2 10¹⁹ pro Kubikcentimeter auf- weist.

13.Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 10, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der niedrig-dotierten Emitter (16) eine Dotierung, insbe- sondere eine n-Dotierung, von weniger als 2 10¹⁸ pro Kubikcentimeter aufweist .

14.Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 11, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der niedrig-dotierten Emitter (16) als im wesentlichen monokristalline Schicht ausgebildet und lateral durch (111) -Flächen begrenzt ist.

15. Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 12, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Seitenwandspacer (23) als ein Nitridspacer ausgebildet ist .

16.Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 13, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Basisanschluß (25) zumindest bereichweise monokrista- lin ausgebildet ist .

17. Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 14, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass der Basisanschluß (25) ein hoch-dotierter, insbesondere ein P+ dotierter, Basisanschluß ist.

18.Bipolartransistor nach einem der Ansprüche 8 bis 16, d a du r c h g e k e nn z e i c h n e t , dass der Kollektor (12) mit einer vergrabenen Schicht (11) ^■ in Kontakt steht.