WO2001057293A9 - Dispositif et procede de production de monocristal et monocristal - Google Patents

Dispositif et procede de production de monocristal et monocristal

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WO2001057293A9
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Ryoji Hoshi
Koji Kitagawa
Izumi Fusegawa
Tomohiko Ohta
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Shinetsu Handotai Kk
Ryoji Hoshi
Koji Kitagawa
Izumi Fusegawa
Tomohiko Ohta
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Definitions

  • the present invention relates to a single crystal growing apparatus and a manufacturing method used for manufacturing a single crystal such as a silicon single crystal by a Chiral key method (hereinafter also referred to as a CZ method or a pulling method). It also relates to single crystals.
  • a Chiral key method hereinafter also referred to as a CZ method or a pulling method. It also relates to single crystals.
  • a single crystal growing apparatus used for producing a silicon single crystal by the CZ method generally includes a vertically movable crucible containing a raw material melt and a crucible.
  • a heater arranged so as to surround it is arranged in the main channel for growing a single crystal, and the grown single crystal is placed above the main channel.
  • a pull-up chamber for storing and taking out crystals is connected.
  • the seed crystal attached to the seed holder is immersed in the raw material melt, and the seed crystal is not rotated in the desired direction by the pulling mechanism.
  • the wire is gently wound up, and a single crystal rod is grown at the tip of the seed crystal.
  • dislocations generated when the seed crystal is immersed in the melt disappear.
  • the initial growth of the crystal to about 3 to 5 mm.
  • the diameter is enlarged to the desired diameter, and a single crystal rod of the desired quality is grown.
  • the pulling speed of the constant diameter portion having a constant diameter of the single crystal rod was very slow, usually about 0.5 to lmm / min, and it was forcible. If it is attempted to pull up quickly, the growing single crystal will be deformed, making it impossible to obtain a cylindrical product with a constant diameter, or slip dislocations will occur in the single crystal rod.
  • the pulling rate, or crystal growth rate is determined by the heat budget of the growing crystal.
  • the amount of heat taken into the crystal includes the amount of heat flowing into the crystal from the melt / heater and the latent heat of solidification generated when the melt crystallizes.
  • the amount of outflow heat released out of the crystal through the crystal surface or seed crystal must be equal to the sum of the inflow heat and the latent heat of solidification. Since the solidification latent heat depends on the volume of the crystal growing per unit time, increasing the crystal growth rate requires increasing the solidification latent heat, which is increased by the higher speed. It must be offset by reducing or canceling the incoming heat or by increasing the outgoing heat, which is generally emitted from the crystal surface Measures have been taken to remove heat efficiently and increase the amount of heat discharged.
  • the main channel "providing cooling means to surround the single crystal rod being pulled inside so that the single crystal rod being pulled can be cooled efficiently. Therefore, a device for increasing the pulling speed has been proposed, for example.
  • This device is composed of a metal outer cooling tube that extends from the lower part of the pulling channel to the inside of the main channel so as to surround the single crystal rod being pulled concentrically.
  • a rectifying cooling cylinder with a double structure of an internal cooling cylinder made of graphite and graphite is installed, and internal cooling is performed by transferring the heat generated in the internal cooling cylinder to the outside by the outer cooling cylinder. This suppresses the temperature rise of the cylinder and improves the cooling efficiency of the crystal.
  • an apparatus using a cooling medium such as water to cool a growing single crystal more effectively is also disclosed.
  • a cooling duct for flowing a liquid refrigerant is passed through a main channel.
  • a cooling member made of a material with high thermal conductivity such as silver is provided underneath, and effective cooling of the crystal is achieved by quickly transferring the heat released from the crystal surface to the outside.
  • a fluid such as water which is generally used as a cooling medium, is heated to a high temperature exceeding 100 ° C and approaches a molten surface. Since this is dangerous because it may cause a steam explosion, the safety of this equipment is ensured by separating the cooling duct from the melt S.
  • a metal outer cooling tube and graphite are used in such a device.
  • the contact area may be increased by reducing the diameter in a downward direction, but even in such a case, the line is actually reduced. Contact will not be obtained, and perfect adhesion will not be obtained. Therefore, a gap is actually formed between the outer cooling cylinder and the inner cooling cylinder, and this acts as a heat insulating layer.
  • the cooling duct is separated from the melt surface, and no consideration is given to safety.
  • the entire cooling duct is installed at the approximate center of the main channel, which reduces the practical workability and operability. Problems arise.
  • An object of the present invention is to provide a single crystal growing apparatus capable of safely manufacturing a single crystal, a method of manufacturing a single crystal using the apparatus, and a single crystal.
  • a single crystal growing apparatus comprises a main crucible containing at least a crucible containing a raw material melt and a heater for heating the raw material melt. And a pull-up channel connected to the upper part of the main channel, wherein the grown single crystal is pulled up and stored.
  • a cooling cylinder that extends from at least the ceiling of the main chamber toward the surface of the raw material melt so as to surround the single crystal therein, and is forcibly cooled by a cooling medium; It has a cooling auxiliary member that extends downward from the cylinder and is reduced in diameter toward the cylinder or downward.
  • the cooling cylinder is pulled up from the raw material melt.
  • the extremely high temperature of the obtained single crystal is gradually cooled by the radiation from the heater, which is blocked by the cooling auxiliary member, and moves further upward. Therefore, the cooling is more effectively performed by the cooling cylinder, and as a result, the crystal growth rate can be increased.
  • the cooling cylinder which extends from the ceiling of the main channel to the surface of the raw material melt, is forcibly cooled by a cooling medium.
  • the cooling capacity has been improved, and the space above the main chamber has been effectively used to cool the crystal, thus forcing the crystal. It is possible to lengthen the region where cooling can be performed specifically, and it is possible to obtain a higher crystal cooling effect.
  • the cooling cylinder is located far enough away from the very hot melt surface.
  • the melt does not come into contact with the cooling cylinder and is not damaged or melted, and the single crystal can be grown extremely safely.
  • the cooling cylinder may be made of iron, nickel, chromium, copper, titanium, molybdenum, tangsten, or An alloy containing these metals, or the above metal or alloy is coated with titanium, molybdenum, tungsten, or a platinum group metal. This is preferred.
  • the above metals are excellent in heat resistance and heat conductivity, and if these metals are used in the device of the present invention, they absorb the radiant heat from the heat sink and the melt surface. It can be efficiently transmitted to a cooling medium such as water.
  • cooling auxiliary member is preferably made of graphite, molybdenum, or tungsten.
  • the above materials have very high heat resistance, they can effectively block the radiant heat from the melt and heat, and can also be used immediately after being pulled up from the melt surface. Suitable for cooling very hot single crystal rods.
  • the cooling auxiliary member is made of such a material, the cooling auxiliary member will have excellent durability, and will not be deformed or distorted at high temperatures, and will be used for a long time. At the same time, the mechanical strength is high, so that the single crystal growing apparatus can be easily disassembled and handled during cleaning, and the workability is improved.
  • a heat shield member is provided on the cooling auxiliary member.
  • the tip of the cooling cylinder is at least 10 cm away from the surface of the raw material melt filled in the crucible.
  • the cooling cylinder By arranging the cooling cylinder at a predetermined distance from the surface of the raw material melt, there is almost no possibility that the melt adheres to the cooling cylinder. A single crystal can be grown safely.
  • the distance between the melt surface and the lower end of the cooling cylinder at least 10 cm, it is possible to easily illuminate the crystal growth part without special processing on the cooling cylinder. Can be observed from outside the single crystal growing equipment, and a detection window for controlling the crystal diameter can be provided in the cooling auxiliary member that is easy to process. In addition, the equipment will be simplified and stable operation will be possible.
  • a protection member made of graphite or metal is provided outside the cooling cylinder.
  • the melt that scatters when the raw material is melted adheres to the cooling cylinder, or the raw material melts during operation.
  • stable operation can be performed for a long time.
  • radiant heat from the heater and the surface of the raw material melt can be prevented from directly radiating to the cooling cylinder, so that more efficient cooling can be achieved. The effect will be obtained.
  • a method for producing a single crystal which comprises growing a single crystal by using the single crystal growing apparatus.
  • a single crystal characterized by being grown using the same is also provided.
  • a cylindrical silicon single crystal can be grown safely at a higher crystal growth rate without deformation. . As a result, it is possible to reduce the production cost as a result.
  • the single crystal growing apparatus of the present invention has a structure in which at least the main chamber at least extends from the ceiling to the surface of the raw material melt so as to surround the single crystal being pulled.
  • a cooling cylinder that extends toward the bottom and is forcibly cooled by a cooling medium; and a cooling auxiliary member that extends downward from the cooling cylinder and is reduced in diameter toward the cylinder or downward. It is characterized by By combining such a cooling cylinder and a cooling auxiliary member, the cooling effect can be maximized, and the pulling speed can be improved and the productivity of the single crystal can be dramatically increased. it can .
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an example of a single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a second embodiment of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • FIG. 3 is a sectional view showing a schematic configuration of a third embodiment of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a fourth embodiment of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • Fig. 5 is a graph showing the temperature distribution in the direction of the crystal growth axis obtained by simulation.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a schematic configuration showing an example of a single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • the single crystal growing apparatus shown in Fig. 1 heats and melts raw materials, for example, crucibles 5 and 6 containing a raw material melt 4 and polycrystalline silicon raw materials, similarly to a general single crystal growing apparatus.
  • the heater ⁇ etc. are stored in the main channel 1 and the upper portion of the pull-up channel 2 connected to the main channel 1
  • a pulling mechanism (not shown) for pulling up the grown single crystal is provided.
  • a lifting wire 16 is unwound from the lifting mechanism attached to the upper part of the lifting channel, '2, and a seed crystal 17 is attached to the tip of the lifting wire 16. Taking The seed holder 18 for attachment is connected, the seed crystal 17 attached at the end of the seed holder 18 is immersed in the raw material melt 4, and the pull wire 16 is pulled. The single crystal rod 3 is formed below the seed crystal 17 by being wound by the mechanism.
  • the above-mentioned crucibles 5 and 6 are each composed of a quartz crucible 5 for directly accommodating the raw material melt 4 on the inside and a graphite crucible 6 for supporting the quartz crucible 5 on the outside. It has been done.
  • the crucibles 5 and 6 are supported on a crucible rotation shaft 19 which can be rotated and raised and lowered by a rotation drive mechanism (not shown) attached to the lower part of the single crystal growing apparatus 20.
  • the melt surface is kept at a fixed position and rotated in the opposite direction to the crystal. Meanwhile, the crucible is raised by an amount corresponding to the decrease in the melt in response to the pulling of the single crystal rod 3.
  • a heating heater 7 is arranged so as to surround the roots 5 and 6, and heat from the heater 7 is outside the heating heater 7.
  • a heat insulating member 8 for preventing direct radiation to the chamber is provided so as to surround the periphery.
  • the gas provided in the upper part of the lifting channel 2 is used to discharge impurities generated in the furnace to the outside of the furnace, for example, to discharge impurities generated in the furnace.
  • Inert gas such as argon gas is introduced from the inlet 10, passes through the upper part of the single crystal rod 3 and the melt 4 being pulled, flows through the inside of the channels 1 and 2, and flows out. It is discharged from mouth 9.
  • the main channel 1 and the pull channel 2 are made of a metal such as stainless steel which is excellent in heat resistance and heat conductivity. (Not shown).
  • the cooling cylinder 11 surrounds the single crystal rod 3 being pulled up so that at least a portion of the main channel extends from the ceiling to the surface of the raw material melt.
  • One of its features is that it is stretched toward.
  • the upper end of the cooling cylinder may be extended up to the inside of the pull-up channel depending on the installation conditions-temperature distribution in the furnace.
  • a cooling medium is introduced into the cooling cylinder 11 of the single crystal growing apparatus 20 shown in FIG. 1 from a cooling medium inlet 12, and the cooling medium circulates through the cooling cylinder 11 and is cooled. After forced cooling of 1 1, it is discharged outside.
  • the cooling medium a liquid or a gas that has been conventionally used as the cooling medium can be used. It is preferable to use water also from the storage surface. Also, by adjusting the flow rate and temperature of the cooling medium flowing into the cooling cylinder 11 as necessary, the amount of heat removed from the cooling cylinder 11 can be changed. This makes it possible to create a desired cooling atmosphere that matches the single crystal growth rate.
  • the material of the cooling cylinder 11 is not particularly limited as long as it has heat resistance and is excellent in thermal conductivity. Specifically, iron, nickel, chromium, It can be made from copper, titanium, molybdenum, tungsten, or alloys containing these metals. Further, the metal or alloy may be covered with titanium, molybdenum, tungsten, or a platinum group metal.
  • the heat resistance of the cooling cylinder 11 is very good, and the heat conductivity is very high. After absorbing the heat radiated from it, it efficiently transmits to the cooling medium such as water circulating inside the cooling cylinder 11 and lowers the temperature around the crystal, thus cooling the single crystal. Speed can be improved.
  • the single crystal growing apparatus has a cooling auxiliary member that extends downward from the cooling cylinder and is reduced in diameter toward the cylinder or downward. ing .
  • the single crystal growing apparatus 20 of FIG. 1 is provided with a cylindrical cooling auxiliary member 13 extending from the lower end of the cooling cylinder 11 to the vicinity of the raw material melt surface. .
  • the cooling auxiliary member 13 surrounds the periphery of the high-temperature single crystal 3 immediately after being pulled up, and blocks the radiant heat from the heater 7 or the melt 4 to prevent the single crystal 3 from being heated. It has the effect of cooling down.
  • the cooling cylinder 11 is prevented from approaching directly above the melt surface to ensure safety, and the inert gas that flows downstream from above the melt near the crystal from above the melt. A gas rectification effect is exhibited.
  • the material of the cooling auxiliary member 13 it is preferable that the material has excellent heat resistance and high thermal conductivity. Specifically, graphite, molybdenum, Or it is good to be a tungsten. Particularly, graphite is suitable because it efficiently shields radiant heat from a heater, a melt, and the like, and has relatively high thermal conductivity. Also, a material whose surface is coated with silicon carbide may be used. By doing so, the impurity contamination from the cooling auxiliary member can be further suppressed.
  • the cooling auxiliary member 13 made of a material having excellent heat resistance and high thermal conductivity as described above, the heat absorbed by the cooling auxiliary member 13 is cooled by the cooling cylinder 1. It is transmitted to 1 and further discharged outside through the cooling medium circulating in the cooling cylinder 11.
  • the single crystal growing apparatus 20 as described above is provided by combining the cooling cylinder 11 and the cooling auxiliary member 13 as described above, so that the single crystal growing apparatus 20 grows from the melt 4.
  • the very hot single crystal 3 immediately after the cooling is first cooled by the cooling auxiliary member 13 because the radiant heat from the heater 7 and the like is blocked, and the single crystal 3 is further cooled.
  • the cooling cylinder 11 By being pulled up, it is cooled by the cooling cylinder 11 at least up to the ceiling of the main channel 1, as opposed to the cooling cylinder 11, so that the efficiency over a wide area of the crystal Cooled well.
  • the amount of heat released from the crystal is reliably removed, and the cooling effect is maximized, so that the crystal can be pulled at a very high growth rate.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a schematic configuration showing another example of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • the cooling auxiliary member 13a extends downward from the ceiling of the main channel 1 so as to surround the periphery of the cooling cylinder 11 and extends downward. From the vicinity of the lower end, the diameter is reduced downward. In the vicinity of the raw material melt surface, the tip of the cooling auxiliary member 13 a is close to the growth single crystal rod 3, and the melt 4 scattered when the raw material is melted adheres to the cooling cylinder 11. This also has the advantage of effectively blocking not only radiant heat from the heater 7 but also radiant heat from the surface of the melt 4.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing still another example of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • the cooling auxiliary has a shape that is reduced in diameter from the vicinity of the lower end of the cooling cylinder 11 downward.
  • a thick heat shielding member 14 is provided at the tip of the member 13b.
  • the material of the heat shielding member 14 a material having particularly excellent heat resistance and high thermal conductivity can be used.
  • the material of the cooling auxiliary member 13 b is exemplified. It is preferred to use graphite, molybdenum or tungsten, or silicon carbide, or graphite coated with silicon carbide. No. If such a material is used, it is possible to more effectively block radiant heat from the surface of the heater and the melt.
  • FIG. 4 is a schematic sectional view showing still another example of the single crystal growing apparatus according to the present invention.
  • a cooling cylinder 11 extending from the lower inside of the pull-up channel 2 into the main channel, "1" is provided. Are located.
  • a cylindrical cooling auxiliary member 13 c extending from the inside of the lower part of the cooling cylinder 11 to the vicinity of the raw material melt surface is provided, and a heat shielding member 14 c is provided on the outer peripheral portion of the tip of the cooling auxiliary member 13 c. Is provided.
  • the cooling auxiliary member 13c and the heat shielding member 14c are slightly different in shape from those provided in the above-mentioned devices 20, 20a, 20b. Similarly to the above, regarding the cooling auxiliary member 13c, the growth single crystal 3 is cooled by blocking the radiant heat from the heater 7 between the vicinity of the melt surface and the cooling cylinder 11. In addition, the heat shielding member 14c has a surface facing the melt 4 and the heat sink 7, so that the radiant heat can be more effectively blocked.
  • the device 20c in FIG. 4 further includes a protective member 15 provided outside the cooling cylinder 11.
  • the protection member 15 extends from the ceiling of the main channel 1 and covers the outer peripheral surface including the lower end surface of the cooling cylinder 11 in the main channel 1. It is arranged and laid.
  • the material of the protection member 15 may be graphite or a metal having heat resistance.
  • the tip of the cooling cylinder 11 is spaced apart from the raw material melt surface by 10 cm or more.
  • the height is less than 10 cm from the surface of the melt, the cooling cylinder 11 itself is also heated to a very high temperature, deteriorates, and may be damaged.
  • the distance between the cooling cylinder 11 and the melt surface is too short, the length becomes extremely short even if a cooling auxiliary member extending downward from the cooling cylinder 11 is attached. Can be worn or worn As a result, it becomes difficult to obtain the effect of protecting the cooling cylinder by the cooling auxiliary member. Therefore, it is preferable that the tip of the cooling cylinder 11 be at least 10 cm away from the melt surface.
  • the length of the cooling cylinder 11 extending from the ceiling of the main channel 1 toward the surface of the raw material melt is at least 5 cm. Les ,. If the length of the cooling cylinder 11 is less than 5 cm, it is difficult to obtain the desired cooling effect, and if the crystal 3 enters the pulling channel 2, the cooling channel 11 may cause the cooling effect.
  • the cooling cylinder 11 extends from the ceiling of the main channel 1 to the surface of the raw material melt by 5 cm or more from the ceiling to the surface of the raw material melt because the heat removal effect can be expected. Good, good.
  • the distance from the ceiling of the main channel to the surface of the melt depends on the configuration of the equipment and the conditions for growing the single crystal rod.
  • the length should be determined according to the length of the chamber and operating conditions of the crystal growth equipment.
  • the gap between the melt surface and the tip of the cooling cylinder 11 must be 10 cm or more when the cooling cylinder 11 is the longest. If the length is adjusted so that the distance from the ceiling of the main chamber to the tip of the cooling cylinder is at least 5 cm in the shortest case, the above-mentioned effect is ensured. Can be obtained at the same time.
  • the cooling cylinder 11 By providing the cooling cylinder 11 in this manner, the rectifying effect of an inert gas such as an argon gas passing through the inside of the cooling cylinder 11 from the upper side thereof is improved. In addition, the cooling effect of the gas can be obtained. In addition, by providing a sufficient gap between the tip of the cooling cylinder 11 and the melt surface, the growth portion of the single crystal rod 3 on the melt can be observed from this gap. In addition, only the cooling auxiliary members 13, 13 a, 13 b, and 13 c should be provided with a detection window for detecting the diameter and a viewing window for the operator to grasp the crystal growth status. The crystal rod growing section can be observed without any trouble. As a result, the device can be simplified and the cooling effect of the cooling cylinder can be obtained uniformly.
  • an inert gas such as an argon gas passing through the inside of the cooling cylinder 11 from the upper side thereof is improved.
  • the cooling effect of the gas can be obtained.
  • the position of the melt surface with respect to the cooling cylinder is changed by a drive mechanism, or the position of the cooling auxiliary member is changed.
  • the thermal history of the grown single crystal can be controlled independently.
  • the cooling cylinder is brought closer to the melt surface, and the cooling auxiliary member is brought closer to just above the melt surface, whereby the ⁇ 3 ⁇ 4. ⁇ - effect is obtained.
  • the cooling cylinder is far from the melt surface, and if the cooling auxiliary member is also far from the melt surface, a slow cooling effect can be obtained.
  • the cooling cylinder is moved away from the melt surface and the cooling auxiliary member is brought close to just above the melt surface, it is called a grown-in defect. It is also possible to control the temperature zone relating to oxygen precipitation in the zone or crystal to a desired zone.
  • an electromagnet 21 is disposed outside a main channel 1 for holding a melt 4 so that a melt in the channel
  • MCZ method a magnetic field pulling method
  • the apparatus of the present invention is used for the MCZ method single crystal growing apparatus intended for the production of large single crystals, the crystal growth rate can be more effectively improved, so that large production can be achieved. It can be expected to improve performance.
  • silicon single crystal rods were grown by the MCZ method.
  • the material of the cooling cylinder 1 1 The quality was stainless steel, and the cooling medium was water.
  • the cooling auxiliary member 13c, the heat shield member 14c; and the protective member 15 were made of graphite.
  • the tip of the cooling cylinder 11 (length: 30 cm) is set 25 cm away from the melt surface, and the cooling auxiliary member 13 c is brought close to the melt surface for operation. went .
  • a magnetic field was applied to the silicon melt 4 so that the central magnetic field strength was 400 G in a horizontal magnetic field, and the hot zone was a crucible having a diameter of 24 inches. Is to be accommodated.
  • the average pulling speed of the constant diameter part is 1.4 mm / min or less for a crystal with a constant diameter part of 8 inches, and the average pulling speed of the constant diameter part is less than 1.4 mm / min for a crystal with a constant diameter part.
  • a pulling speed of 1.8 mm / min or less it was possible to grow a substantially columnar single crystal without crystal deformation, but at a pulling speed higher than that, during the growing process. Problems such as deformation of the crystal and slip dislocation may occur, and a single crystal may be grown normally. could not.
  • FEMAG F. D upret, P. Nicodeme, Y. Ryekmans, P. W outers, and M. J. Crochet, Int.
  • FEMAG F. D upret, P. Nicodeme, Y. Ryekmans, P. W outers, and M. J. Crochet, Int.
  • the temperature distribution in the furnace of the examples and comparative examples was measured for confirmation, a temperature distribution almost similar to that of the simulation was obtained. Accordingly, by using the apparatus of the present invention, the temperature distribution in the furnace of the single crystal growing apparatus changes to a quenching type, and the pulling rate is increased due to an increase in the crystal cooling rate. It has been achieved.
  • a CZ single crystal growing apparatus for growing a single crystal without applying a magnetic field to the apparatus of the present invention, or an HMCZ single crystal for growing a single crystal by applying a horizontal magnetic field to a melt.
  • the growth apparatus has been described as an example, the same effects can be obtained with other single crystal growth apparatuses using a caps magnetic field, a vertical magnetic field, or the like. Absent

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Description

明 細 書 単結晶育成装置及びそ の装置を用い た単結晶の製造方法
並びに単結晶
技術分野
本発明は、 チ ヨ ク ラ ルス キー法 (以下 C Z 法、 引上げ法 と も 称す る) に よ る シ リ コ ン単結晶な どの単結晶製造に用 い ら れる 単結晶育 成装置、 製造方法な ら びに単結晶に関す る 。 背景技術
以下、 本発明の従来例 を シ リ コ ン 単結晶の育成 を例に と っ て説明 する 。
C Z 法で シ リ コ ン単結晶 を製造す る 際 に使用 さ れる単結晶育成装 置は、 一般的に原料融液が収容さ れた昇降動可能なル ツ ボ と、 該ル ヅボ を取 り 囲む よ う に配置さ れた ヒ ータ が単結晶 を育成す る メ イ ン チャ ンノ 内に配置さ れてお り 、 該メ イ ン チ ャ ンク、の上部には育成 し た単結晶を収納 し取 り 出すた めの引上げチ ャ ンバが連設さ れて い る 。 こ の よ う な単結晶育成装置を用 い て単結晶 を製造する 際には、 種 結晶 を原料融液に浸漬 し、 回転 さ せな が ら 静かに上方に引上げて棒 状の単結晶を成長さ せ る 一方、 所望の結晶品質を得る た め融液面の 高さ が常に一定に保たれる よ う に結晶の成長に合わせル ツポ を上昇 させて レ、 る 。
そ して、 単結晶 を育成す る際 には、 種ホルダに取 り 付け ら れた種 結晶を原料融液に浸漬 した後、 引上げ機構に よ り 種結晶を所望の方 向に回転さ せな が ら 静かに ワ イ ヤ を巻き 上げ、 種結晶先端部に単結 晶棒を成長さ せて い る が、 種結晶 を 融液 に着液さ せた際に生 じ る 転 位を消滅さ せ る た め、 一旦、 成長初期の結晶 を 3 〜 5 m m程度 ま で 細 く 絞 り 、 転位が抜けた と こ ろ で径を所望の直径 ま で拡大 し て、 目 的 と する 品質の単結晶棒を成長させて い く 。
こ の と き 、 単結晶棒の一定の直径 を有す る 定径部の引上げ速度は 、 通常 0 . 5 〜 l m m / m i n程度の非常にゆ っ く り と し た も ので あ り 、 無理に速 く 引上げよ う と する と、 育成中の単結晶が変形 して 定径を有す る 円柱状製品が得 ら れな く な る 、 あ る いは単結晶棒に ス リ ッ ブ転位が発生す る、 結晶が融液か ら 切 り 離さ れて製品 と な ら な く な つ て し ま う な どの問題が生 じて し ま い、 結晶成長速度の高速化 を図る には限界があ っ た。
しか し、 前記 C Z 法に よ り 単結晶棒を製造す る において 、 生産性 の向上 を 図 り 、 コ ス ト を低減さ せ る ため には、 単結晶成長速度 を高 速化す る こ と が一つの大き な手段で あ り 、 こ れま で に も 結晶成長速 度の高速化 を達成さ せる た めに多 く の改良がなさ れて き た。
引上げ速度、 即ち結晶成長速度は、 成長中の結晶の熱収支 に よ つ て決定さ れる 。 結晶 に取 り 込ま れる 熱量は、 融液ゃ ヒ ー タ か ら 結晶 へ入る流入熱量 と、 融液が結晶化す る際に発生す る 固化潜熱 と があ り 、 育成中の結晶の熱収支 を考えた場合、 結晶表面や種結晶 を通 し て結晶の外へ放出 さ れる 流出熱量が、 流入熱量 と 固化潜熱 と の和 に 等 し い必要があ る 。 固化潜熱は、 単位時間あ た り に成長す る 結晶の 体積に依存 して い る た め、 結晶成長速度 を高速化す る には、 高速化 に よ り 増大す る 固化潜熱の増加分を、 流入熱量を 減少 し相殺す る か 、 若 し く は流出熱量 を増加 さ せ る こ と に よ っ て相殺す る 必要があ る そ こ で、 一般的には結晶表面か ら 放出 さ れ る 熱を効率的に除去 し 、 流出熱量を増加さ せ る 方法が取ら れて い る 。
その一つに メ イ ン チ ャ ン ノ、"内部に引上げ中の単結晶棒を取 り 囲む よ う に冷却手段を設け、 引 き上げ中の単結晶棒を効率良 く 冷却す る こ と に よ り 、 引上げ速度 を速 く する 装置が提案 さ れて い る 。 例 え ば 、 特開平 6 — 2 1 1 5 8 9 号公報に開示 さ れた装置があ る 。 こ の装 置は、 引 き 上げ中の単結晶棒を 同心円上 に取 り 囲む よ う に引上げチ ヤ ンノ 下部 よ り メ イ ンチ ヤ ン ノ 内部に向 か っ て、 金属製の外側冷却 筒 と黒鉛等か ら な る 内部冷却筒の二重構造を有す る 整流冷却筒を設 け、 外側冷却筒に よ り 内部冷却筒に生 じ た熱 を外へ移送す る こ と で 内部冷却筒の温度上昇 を抑 え、 結晶の冷却効率を 向上 さ せた も ので あ る。
ま た、 成長 してい る単結晶 を よ り 効果的に冷却 さ せ る た め に水等 の冷却媒体を用 い る装置 も 開示 さ れてい る 。 例え ば、 特開平 8 — 2 3 9 2 9 1 号公報に開示さ れて い る 単結晶育成装置で は、 液体冷媒 を流通さ せ る 冷却ダク ト を メ イ ンチ ャ ンノ 内 に通 し、 その下 に銀等 の高熱伝導率を有する材質 か ら な る 冷却部材 を設け、 結晶表面か ら 放出さ れる 熱を速やかに外部へ移送する こ と で効果的な結晶冷却 を 行っ て レ、 る 。 しか し、 一般的 に 冷却媒体 と し て用 い ら れる 水等の流 体が 1 0 0 0 °C を超え る よ う な高温に加熱さ れて レヽ る 融液面に近づ く こ と は、 水蒸気爆発の誘因 と も な り 危険で あ る ため、 こ の装置で は、 冷却ダク ト を融液 Sか ら 離す こ とで安全を確保 して い る 。
これ ら の装置、 例えば前記特開平 6 — 2 1 1 5 8 9 号公報に開示 されて い る 装置の よ う な二重構造の冷却筒におい て は、 金属製の外 側冷却筒 と、 黒鉛等に よ る 内部冷却筒 と の間 に熱膨張率の差があ り 、 常に完全に密着さ せ る こ と は不可能で あ る 。 開示さ れて い る装置 では、 下方 に向か っ て縮径 さ せ る こ と に よ り 接触面積 を多 く と る と あ る が、 こ の よ う な場合におい て も 実際には線接触 と な っ て し ま い 、 完全な密着は得 ら れない 。 従 っ て 、 実際に は外側冷却筒 と 内部冷 却筒 と の間に隙間が生 じ、 これが断熱層 と し て働いて し ま う 。 さ ら に、 外側冷却筒内面 と 内部冷却筒外面 と の間 には接触熱抵抗が存在 する 。 こ の接触熱抵抗は、 材質や表面状態に依存 し、 簡単に求め る こ と がで き る値ではない が、 開示さ れて い る 装置に あ る よ う な構造 では、 内部冷却筒は十分に冷却さ れる こ とはな く 、 高い結晶冷却効 果を発揮す る には至 ら ない とい う 問題があ る 。
—方、 前記特開平 8 — 2 3 9 2 9 1 号公報 に開示 さ れて い る 単結 晶育成装置では、 冷却ダク ト と融液面が離れてお り 安全面で の配慮 がな さ れて い る が、 こ の よ う な構造では メ イ ンチ ャ ンノ 内の略中央 部に冷却ダ ク ト 全体が配設される こ と に な り 、 実用上の作業性、 操 作性に問題が生 じ る 。 ま た、 構造上、 ダ ク ト の強度 を十分に確保す る こ と が難 し く 、 破損 に よ る液体冷媒漏れ等の危険性が高 ま る こ と も考え ら れ る 。
さ ら に、 冷却ダク ト と 引上げチャ ンバ との 間に結晶が冷却 さ れな い部分があ り 、 必ず し も 結晶か ら放出さ れる 前記流出熱量 を効率的 に除去で き る も のではな く 、 大 きな冷却効果を得 る には十分な も の とは言えない。 発明の開示
上記問題点に鑑み、 本発明は、 成長 し た単結晶 に対す る 冷却効果 を最大限に発揮 し、 結晶成長速度の高速化を 図 り 、 破損、 溶損等に よ る 冷却媒体の漏れが無 く 安全に単結晶 を製造で き る 単結晶育成装 置及びその装置を用 い た単結晶の製造方法 と 単結晶 を提供す る こ と を 目 的 とする。
前記目 的 を達成す る ため、 本発明の単結晶育成装置は、 少な く と も原料融液を収容す る ル ツ ボ及び原料融液を加熱す る ヒータ を格納 する メ イ ンチャ ンノヽ' と、 該メ イ ンチ ャ ンノヽ'の上部 に連設さ れ、 成長 した単結晶が引上げ ら れて収納さ れ る 引上げチ ャ ンノ、' と を有す る 単 結晶育成装置におい て、 引上げ中の単結晶を取 り 囲むよ う に前記メ ィ ンチヤ ンバの少な く と も 天井部か ら原料融液表面に向か っ て延伸 し、 冷却媒体で強制冷却さ れる 冷却筒 と 、 該冷却筒よ り 下方 に延伸 し、 円筒ま たは下方 に 向か って縮径さ れた形状の冷却補助部材を有 す る こ と を 特徴 と す る 単結晶育成装置で あ る 。
こ の よ う に 、 冷却媒体で 強制 冷却 さ れ る 冷却筒 と 、 該冷却筒 よ り 下 方 に延伸 す る 冷却補助部材 を 設 け る こ と に よ り 、 原料融液か ら 引 上 げ ら れ た 非 常 に 高温の単結晶 は、 ヒ ー タ か ら の 輻射が冷却補助部 材 に よ り 遮 ら れて 徐 々 に 冷却 さ れ、 さ ら に上 方 に 移動 し て い く に 従 つ て 冷却筒 に よ り 一層効果 的 に 冷却 さ れ る た め、 そ の 結果、 結晶 の 成長速度 を 速 め る こ と が可能 と な る 。 特 に 、 メ イ ン チ ャ ン ノ、'の 天井 部か ら 原料融液表面 に 向 か っ て 延伸 す る 冷却 筒 を 冷却媒体に よ り 強 制的 に 冷却 す る 構造 と し た こ と で 冷却能力 が 向上 し 、 さ ら に は メ イ ン チ ヤ ン バ上方 の 空間 を 有効 に 活用 し て 結晶 冷却 を行 う こ と がで き る よ う に な っ た た め、 結晶 を 強制的 に 冷却 で き る 領域 を 長 く と る こ と が可能 と な り 、 よ り 高い 結晶冷却効果 を得 る こ と がで き る 。
ま た、 冷却筒 が非常 に高温の 融液面 と 十分離れて い る た め、 原料 溶融時や、 ま れ に起 こ る 地震な どの 原 因 で 発 生 す る 融液 の 飛散 に よ り 、 冷却筒 に 融液 が触れて 破損 、 溶損等 が生 じ る こ と も 無 く 、 極め て 安全 に単結晶 の育成 を 行 う こ と が で き る 。
本発明 に係 る 単結晶育成装置 で は 、 前記冷却筒 が、 鉄、 ニ ッ ケ ル 、 ク ロ ム 、 銅、 チ タ ン 、 モ リ ブデ ン 、 タ ン グ ス テ ン 、 若 し く は こ れ ら の金属 を含む合金、 ま た は前記金属若 し く は合金 を チ タ ン 、 モ リ ブデ ン 、 タ ン グ ス テ ン 、 若 し く は 白 金族金属 で 被覆 し て な る こ と が 好 ま し い 。
上記金属 は耐熱性、 熱伝 導性 に優 れて お り 、 こ れ ら の金属 を 本発 明の装置 に用 い れば、 ヒ ー 夕 及 び融液面 か ら の輻射熱 を 吸収 し て 効 率良 く 水等の冷却媒体に 伝 え る こ と が で き る 。
ま た、 前記冷却補助部材 が、 黒鉛、 モ リ ブ デ ン 、 ま た は タ ン グ ス テ ン か ら な る こ と が好 ま し レ、 。
上記材料は 、 非常 に 耐熱性 に 優れ て い る の で 、 融液及び ヒ 一 夕 か ら の輻射熱 を 効果 的 に 遮 る と と も に 、 融液面 か ら 引 上 げ ら れた 直後 の非常に 高温の単結晶棒を冷却 する のに適 し て い る 。 ま た、 こ の よ う な材料で 冷却補助部材を構成すれば耐久性 に も 優れた冷却補助部 材 と な り 、 高温下で 変形や歪が生 じ る こ と が少な く 、 長時間使用 す る こ と がで き る の と 同時に、 機械的強度 も高い の で 、 単結晶育成装 置の解体や清掃時の取扱い が容易 と な り 作業性も 向上す る 。
さ ら に、 前記冷却補助部材に遮熱部材が設け ら れて い る こ と が好 ま しい 。
こ の よ う に冷却補助部材に遮熱部材を設け る こ と で 、 ヒ ー タ 及び 融液か ら の輻射熱を よ り 効果的 に遮 り 、 ひい て は結晶の成長速度 を よ り 一層向上さ せる こ と がで き る 。
前記冷却筒の先端が、 ル ツボ 内に満た さ れた原料融液の表面か ら 1 0 c m以上離れて い る こ と が好ま しい。
こ の よ う に原料融液面か ら所定の距離 を設けて 冷却筒 を配置す る こ と に よ り 、 融液が冷却筒に付着す るおそれ がほ と ん ど無 く な り 、 よ り 安全に単結晶 を育成す る こ と がで き る 。 ま た、 融液面 と 冷却筒 下端の距離を 1 0 c m以上あ け る こ と で、 冷却筒 に特別な加工 を施 すこ と な く 、 容易 に結晶育成部の照環 ( フ ュ ージ ョ ン リ ン グ) を単 結晶育成装置の外か ら観察で き る よ う に な り 、 結晶直径制御等のた めの検出窓 を、 加工の簡単な冷却補助部材に設け る だ けで よ く 、 装 置が簡略化 され安定 した操業を行 う こ と がで き る よ う に な る 。
前記冷却筒の外側 に、 黒鉛ま たは金属 か ら な る 保護部材が設け ら れてい る こ とが好ま しい。
冷却筒の外側 に耐熱性のあ る 保護部材を設け る こ と で、 原料溶融 時な どに飛散す る 融液が冷却筒へ付着 し た り 、 あ る い は操業中 に原 料融液か ら 蒸発 し た蒸発物が冷却筒表面に析 出す る の を抑制す る こ と がで き る 。 こ れに よ り 、 長時 間に わた り 安定 し た操業を行 う こ と が可能 と な る 。 ま た、 ヒー 夕 や原料融液表面 か ら の輻射熱が直接冷 却筒へあ た る こ と も 防 ぐ こ と がで き る の で、 よ り 一層効率的な冷却 効果を得 ら れる よ う にな る 。
そ して、 前記冷却筒の内側表面 を、 黒化処理 し て あ る こ と が望 ま しい。
冷却筒の 内側表面に黒鉛等 を塗布あ る いは蒸着す る な どの表面 を 黒色化する 黒化処理を施す こ と で、 結晶か ら 輻射さ れ る熱の吸収効 率を さ ら に 向上さ せ る こ と がで き る 。 黒化処理に よ り 冷却筒の熱吸 収効率が高め ら れた こ と で 、 よ り 速い結晶成長を実現す る こ と が可 能と な る。
さ ら に、 本発明に よれば、 前記単結晶育成装置 を用 いて単結晶 を 育成す る こ と を特徴 と する 単結晶の製造方法が提供 さ れ、 ま た、 前 記単結晶育成装置 を用 いて 育成 した こ と を特徴 と す る 単結晶 も 提供 される 。
本発明に係 る単結晶育成装置 を用 い る こ と で、 変形する こ と な く 円柱状の シ リ コ ン単結晶を よ り 速い結晶成長速度で安全に育成す る こ と がで き る 。 し た が っ て 、 結果的に製造コ ス ト を 引 き下げる こ と も 可能 とな る 。
以上説明 した よ う に、 本発明の単結晶育成装置は、 引上げ中の単 結晶 を取 り 囲む よ う に前記メ イ ン チ ャ ン バの少な く と も 天井部か ら 原料融液表面 に向か っ て延伸 し 、 冷却媒体で強制冷却さ れる 冷却筒 と、 該冷却筒よ り 下方 に延伸 し、 円筒 ま たは下方 に 向か っ て縮径 さ れた形状の冷却補助部材を有す る こ と を特徴 と して い る 。 こ の よ う な冷却筒 と 冷却補助部材を 組み合わせる こ と で冷却効果を最大限に 発揮する こ と がで き 、 引上速度 を向上さ せ単結晶の生産性を飛躍的 に高める こ と がで き る 。 ま た、 冷却筒よ り 下方に 冷却媒体等に よ つ て直接冷却さ れない冷却補助部材を配置 した ため、 冷却筒が非常に 高温の融液に接触す る おそれも 無 く 保護さ れてお り 、 安全性が一層 確保さ れる 。 図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の一例の概略構成を示す断 面図であ る 。
図 2 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の第 2 の態様の概略構成を 示す断面図であ る 。
図 3 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の第 3 の態様の概略構成を 示す断面図であ る 。
図 4 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の第 4 の態様の概略構成を 示す断面図であ る 。
図 5 は、 シ ミ ュ レ ー シ ョ ン に よ り 得 ら れた結晶成長軸方向の温度 分布を示すグラ フ で あ る 。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施の形態につい て 図面を参照 しなが ら 、 シ リ コ ン単結晶の育成を例 にあ げて具体的 に説明す る が、 本発明は こ れ ら シ リ コ ン単結晶の成長のみに限定さ れる も の では な い。 例えば、 本 発明の装置は化合物半導体等の他の単結晶育成において も 利用 可能 な も のであ る 。
図 1 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の一例 を 示す概略構成の断 面図であ る 。
図 1 に示 した単結晶育成装置は、 一般的な単結晶育成装置 と 同様 、 原料、 例えば原料融液 4 を収容す る ル ツボ 5 , 6 、 多結晶シ リ コ ン原料を加熱、 溶融す る た めの ヒータ Ί な どがメ ィ ンチ ヤ ン ノ、· 1 内 に格納さ れ、 メ イ ンチ ャ ンノヽ' 1 上に連設 さ れた引上げチ ャ ンノヽ' 2 の 上部には、 育成さ れた単結晶を引上げる 引上げ機構 (図示せず) が 設け ら れている 。
引上げチャ ンノ、' 2 の上部に取 り 付け ら れた 引上 げ機構か ら は引上 げワ イ ヤ 1 6 が巻 き 出 さ れてお り 、 その先端 には、 種結晶 1 7 を取 り 付け る た めの種ホルダ 1 8 が接続 され、 種ホルダ 1 8 の先に'取 り 付け ら れた種結晶 1 7 を原料融液 4 に浸瀆 し、 引上げワ イ ヤ 1 6 を 引上げ機構に よ っ て巻 き取る こ とで種結晶 1 7 の下方 に単結晶棒 3 を形成す る 。
なお、 上記ル ツボ 5 , 6 は、 内側 に原料融液 4 を直接収容す る 石 英ル ツ ボ 5 と 、 外側を該石英ル ツボ 5 を 支持する ための黒鉛ル ツ ボ 6 と か ら 構成 さ れてい る 。 ル ツ ボ 5 , 6 は、 単結晶育成装置 2 0 の 下部に取 り 付 け ら れた回転駆動機構 (図示せず) に よ っ て 回転昇降 動自在なル ツ ボ回転軸 1 9 に支持さ れて お り 、 単結晶育成装置中 の 融液面の変化 に よ っ て結晶品質が変わ る こ と のない よ う 、 融液面 を 一定位置 に保った め、 結晶 と逆方向 に回転さ せな が ら 単結晶棒 3 の 引 き上げに応 じ て融液が減少 し た分だけル ツボを上昇さ せて い る 。
ル ツ ポ 5 , 6 を取 り 囲む よ う に加熱 ヒ ータ 7 が配置さ れて お り 、 こ のカ卩熱 ヒ ー タ 7 の外側には、 ヒー タ 7 か ら の熱がメ イ ン チ ャ ン バ に直接輻射さ れ る のを防止する ための断熱部材 8 が周囲 を取 り 囲む よ う に設け ら れて レヽ る 。
ま た、 チ ャ ンノ、' 1 , 2 内部には、 炉内 に発生 し た不純物 を炉外に 排出す る 等 を 目 的 と し、 引上げチ ャ ンノヽ' 2 上部に設け ら れた ガス 導 入口 1 0 か ら アルゴ ン ガス 等の不活性ガス が導入さ れ、 引 き 上げ中 の単結晶棒 3 、 融液 4 上部 を通過 し てチ ャ ンノ 1 , 2 内部を流通 し 、 ガス流出 口 9 か ら排出さ れる 。
なお、 メ イ ン チ ャ ンノ 1 及び引上げチ ャ ンノ、' 2 は、 ス テ ン レ ス 等 の耐熱性、 熱伝導性に優れた金属に よ り 形成さ れてお り 、 冷却管 ( 図示せず) を通 して水冷さ れて い る 。
本発明に係 る単結晶育成装置では、 冷却筒 1 1 が、 引上げ中の単 結晶棒 3 を取 り 囲むよ う に前記 メ イ ンチ ャ ンノ の少な く と も 天井 部か ら原料融液表面に 向か っ て延伸 して い る こ と を特徴の一つ と し てい る 。 こ の時、 冷却筒の上端は、 取 り 付 けの状況ゃ炉 内の温度分布に よ つ て引上げチャ ンノ 内 ま で延長 して も良い。
図 1 に示す単結晶育成装置 2 0 の 冷却筒 1 1 内 には、 冷却媒体導 入口 1 2 か ら 冷却媒体が導入さ れ、 該冷却媒体は、 冷却筒 1 1 内 を 循環 して冷却筒 1 1 を強制冷却 した後、 外部へ排出 さ れ る 。
なお、 冷却媒体 と しては、 従来冷却媒体と して使用 さ れて い る 液 体あ る いは気体を使用 する こ と がで き る が、 冷却特性のほか、 取 り 扱い性、 コ ス ト 面等か ら も 水を使用 する のが好適で あ る 。 ま た、 こ れ ら 冷却筒 1 1 内に流す冷却媒体の 流量や温度を 必要 に応 じて調節 すれば、 冷却筒 1 1 の除去熱量 を変化さ せ る こ と がで き る ので、 こ れに よ り 単結晶成長速度 に合わせた所望の冷却雰囲気を作 り 出す こ と が可能であ る。
冷却筒 1 1 の材質 と して は、 耐熱性があ り 、 熱伝導性に優れた も のであれば特に限定さ れな いが、 具体的 には、 鉄、 ニ ッ ケル、 ク ロ ム、 銅、 チ タ ン、 モ リ ブデ ン、 タ ン グス テ ン 、 若 し く は こ れ ら の金 属を含む合金か ら作製する こ と がで き る 。 ま た、 前記金属若 し く は 合金をチタ ン、 モ リ ブデ ン、 タ ン グス テ ン、 若 し く は 白 金族金属で 被覆 して構成させて も よ い。
上記の よ う な金属あ る い は合金を使用 す る こ と に よ り 、 冷却筒 1 1 の耐熱性は非常に優れて い る 上、 熱伝導性が非常に高い の で 、 単 結晶棒か ら放射さ れた熱を 吸収 し た後、 冷却筒 1 1 内部 を循環す る 水等の冷却媒体に効率良 く 伝え 、 結晶周 囲の温度 を低下さ せ る の で 、 単結晶の冷却速度 を向上 さ せ る こ と がで き る 。
本発明に係る単結晶育成装置は、 他の特徴 と し て、 前記冷却筒 よ り 下方に延伸 し、 円筒 ま た は下方 に 向か っ て縮径さ れた形状の冷却 補助部材を有 してい る 。
図 1 の単結晶育成装置 2 0 で は、 前記冷却筒 1 1 の下端部か ら 原 料融液面近傍に延伸す る 円筒状の冷却補助部材 1 3 が設け ら れて い る 。 冷却補助部材 1 3 は、 引上げ ら れた直後の高温の単結晶 3 の周 囲 を 囲んでお り 、 ヒ ー タ 7 あ る いは融液 4 等か ら の輻射熱を遮 っ て 単結晶 3 を冷却す る 効果を有す る 。 ま た、 冷却筒 1 1 が融液面の直 上 ま で近づ く こ と が防がれ安全性が確保さ れ る と と も に、 融液上方 か ら 結晶近傍を下流す る 不活性ガス の整流効果が発揮さ れる 。
上記冷却補助部材 1 3 の材質 と し て は、 耐熱性 に非常 に優れる と と も に、 高い熱伝導性 を有する も の が好 ま し く 、 具体的に は、 黒鉛 、 モ リ ブデ ン、 ま たは タ ン グス テ ン と す る の が良 い 。 特に黒鉛は、 ヒータ ゃ融液等か ら の輻射熱を効率良 く 遮蔽 し、 熱伝導率 も 比較的 高いので好適で あ る 。 ま た、 表面 を炭化 ケィ 素で被覆 し た も の を使 用 して も 良い。 こ の よ う にすれば、 冷却補助部材か ら も た ら さ れ る 不純物汚染 を よ り 抑制で き る 。
上記の よ う に耐熱性に優れる と と も に熱伝導率の高い材質か ら な る 冷却補助部材 1 3 を使用 する こ と で、 冷却補助部材 1 3 に吸収さ れた熱は冷却筒 1 1 へ と伝わ り 、 さ ら に冷却筒 1 1 内 を循環す る 冷 却媒体を通 じて外部へ放出さ れ る 。 一.,
以上の よ う な本発明に係 る単結晶育成装置 2 0 は、 前記の よ う に 冷却筒 1 1 と 冷却補助部材 1 3 を組み合わせて設け る こ と に よ り 、 融液 4 か ら 成長 した直後の非常に高温の単結晶 3 が、 ま ず冷却補助 部材 1 3 に よ っ て ヒ ー タ 7 等か ら の輻射熱が遮 ら れて効果的に 冷却 され、 単結晶 3 は さ ら に引上げ ら れ る こ とで 冷却筒 1 1 と相対 し、 少な く と も メ イ ンチ ャ ンノ 1 の天井部 ま で冷却筒 1 1 に よ り 冷却 さ れる ので、 結晶の広範囲にわた っ て効率良 く 冷却さ れる 。 そ の た め 、 結晶か ら の流出熱量 を確実に除去 し、 冷却効果 を最大限に発揮す る ので、 結晶を非常に速い成長速度で引上げる こ と が可能にな る 。 本発明に係 る単結晶育成装置の冷却補助部材の形状は、 前記円筒 状に限定さ れず、 下方 に向か っ て縮径さ れた形状 と す る こ と も で き る 。 図 2 は、 本発明に係 る単結晶育成装置の他の一例を示す概略構成 の断面図であ る 。
こ の装置 2 0 a では、 冷却補助部材 1 3 a が メ イ ンチ ャ ンノ 1 の 天井部か ら 冷却筒 1 1 の周 り を 囲む よ う に し て 下方に延伸 し、 冷却 筒 1 1 の下端部近傍か ら 、 下方 に向 か っ て縮径さ れた形状 と な っ て い る 。 原料融液面近傍では、 冷却補助部材 1 3 a の先端部が成長単 結晶棒 3 に近接 し てお り 、 原料溶融時な どに 飛散す る 融液 4 が冷却 筒 1 1 に付着す る の を防 ぎ、 ま た、 ヒー タ 7 か ら の輻射熱のほか、 融液 4 の表面か ら の輻射熱も 効果的に遮る と い う 利点も あ る 。
図 3 は、 本発明に係 る単結晶育成装置のさ ら に他の一例 を 示す概 略構成の断面図であ る 。
こ の装置 2 O b で は 、 前記図 2 の装置 2 0 a と 同様、 冷却筒 1 1 の下端部近傍か ら 下方に向か っ て縮径さ れた形状 と な っ て い る 冷却 補助部材 1 3 b の先端に厚みの あ る 遮熱部材 1 4 が設け ら れて い る 。 こ の よ う に冷却補助部材 1 3 b に遮熱部材 1 4 を設け る こ と で、 特に高温の融液面近傍において ヒ ー タ 7 及び融液 4 か ら の輻射熱 を よ り 効果的に遮 り 、 ひいて は成長速度 を よ り 一層 向上さ せ る こ と が で き る 。
なお、 遮熱部材 1 4 の材質 と して は、 特に耐熱性に優れ、 高い熱 伝導性を有する も の を使用 で き 、 例 えば、 冷却補助部材 1 3 b の材 料と して例示 した黒鉛、 モ リ ブデ ン、 ま たは タ ン グス テ ン、 あ る い は、 炭化ケィ 素、 あ る いは黒鉛の表面 を炭化 ケィ 素で被覆 し た も の を使用 する のが好 ま し い 。 こ の よ う な材料を用 い れば、 ヒータ ゃ融 液表面からの輻射熱を よ り 良 く 遮る こ と が可能 と な る 。
図 4 は、 本発明 に係 る 単結晶育成装置のさ ら に他の一例 を示す概 略構成の断面図であ る 。
こ の装置 2 0 c で は、 前記図 1 の装置 2 0 と 同様、 引上げチ ャ ン ノヽ - 2 の内側下部か ら メ イ ン チ ャ ンノ、" 1 内へ と延伸 した冷却筒 1 1 が 配置さ れて い る 。 冷却筒 1 1 下部の 内側 か ら 原料融液面近傍に延伸 する 円筒状の 冷却補助部材 1 3 c が設け ら れ、 該冷却補助部材 1 3 c の先端外周部 には遮熱部材 1 4 c が設け ら れて い る 。
上記冷却補助部材 1 3 c と遮熱部材 1 4 c は、 前掲 し た装置 2 0 , 2 0 a , 2 0 b に設け ら れた も の と そ れそれ形状は多少異な る も のの、 前記同様、 冷却補助部材 1 3 c に 関 し ては、 融液面近傍 と 冷 却筒 1 1 と の 間 におけ る ヒ ータ 7 か ら の輻射熱を遮 っ て成長単結晶 3 を冷却す る 効果を発揮 し、 ま た、 遮熱部材 1 4 c は、 融液 4 と ヒ 一夕 7 に対向す る 面 を有 し、 よ り 効果的 に輻射熱を遮る こ と がで き る 。
図 4 の装置 2 0 c は、 さ ら に 冷却筒 1 1 の外側 に保護部材 1 5 が 設け ら れて い る 。 該保護部材 1 5 は、 メ イ ン チャ ンノヽ' 1 の天井部か ら延伸 し、 メ イ ンチ ャ ンノ 1 内の冷却筒 1 1 の下端面 を含む外周面 を覆 う よ う に し て配置さ れて レヽ る 。
こ の よ う な保護部材 1 5 を設け る こ と で原料溶融時な どに飛散す るおそれのあ る 融液 4 が冷却筒 1 1 に付着す る こ と を 防 ぐ こ と がで き る し、 ま た、 ヒ ータ 等か ら の輻射熱が、 直接冷却筒 1 1 にあ た る のを軽減で き る た め、 冷却筒 1 1 の除熱効果 も 向上す る 。
なお、 保護部材 1 5 の材質に 関 し ては、 黒鉛ま たは耐熱性のあ る 金属 を使用 で き る 。
前記いずれの態様において も 、 冷却筒 1 1 の先端は、 原料融液面 か ら 1 0 c m以上離れてレヽ る こ と が好ま しい 。 冷却筒 1 1 が融液面 に近いほ ど結晶 を急冷する効果は向上す る が、 融液面近傍は 1 0 0 0 °C を超え る 高温であ る た め、 冷却筒 1 1 の先端が融液面か ら 1 0 c m未満で あ る と、 冷却筒 1 1 自体も非常に高温に加熱さ れて 劣化 し、 破損等が生 じ る おそれがあ る 。 ま た、 冷却筒 1 1 と融液面 と の 距離が近過 ぎ る と、 該冷却筒 1 1 よ り 下方に延伸す る 冷却補助部材 を装着 して も 長さ が極端に短 く な っ た り 、 あ る いは装着す る こ と が で き な く な る ので、 冷却補助部材に よ る 冷却筒の保護効果 を得難 く な る 。 従 っ て、 冷却筒 1 1 の先端は、 融液面か ら 1 0 c m以上離れ てい る こ と が好ま し い。
そ して、 メ イ ン チ ヤ ン ノ 1 の 天井部か ら原料融液面に 向か っ て延 伸 し た冷却筒 1 1 の長さ は、 5 c m以上であ る のが望 ま し レ、。 冷却 筒 1 1 の長さ が 5 c m未満では、 所望の冷却効果 を得 る こ と が難 し く 、 ま た、 結晶 3 が引上げチ ャ ンクく 2 内 に入れば引上げチ ャ ンノ 2 に よ る 除熱効果が期待で き る の で、 冷却筒 1 1 は メ イ ン チ ャ ンノ 1 の天井部か ら原料融液面に 向か っ て 5 c m以上、 原料融液表面 に延 伸 して レ、 る のが良レ、。
メ イ ン チ ャ ンノ ' 1 の天井部か ら 融液表面 ま での距離は、 装置の構 成や単結晶棒の育成条件に よ り 変わ る も の であ り 、 冷却筒 1 1 そ の も のの長さ は、 結晶育成装置の チ ヤ ンバの長さ や操業条件 に応 じて 決定すべ き であ る 。 し か し、 本発明の冷却筒 1 1 の効果 を得 る には 、 冷却筒 1 1 の長さ が一番長い場合で融液面 と冷却筒 1 1 の先端の 隙間が 1 0 c m以上 と な る よ う に、 最 も 短い場合では メ イ ン チ ャ ン バ天井か ら 冷却筒先端 ま で の距離が 5 c m以上 と な る よ う に長さ を 調整すれば、 前述の効果を確実 に得 る こ と がで き る 。
そ して、 こ の よ う に冷却筒 1 1 を設け る こ と で 、 冷却筒 1 1 上部 側よ り そ の 内側 を通過さ せ る ア ル ゴ ン等の不活性ガス の整流効果を 高め、 ガス に よ る 冷却効果を得 る こ と も で き る 。 さ ら に、 冷却筒 1 1 の先端部 と融液表面の間に十分な隙間が確保さ れる こ と で 、 こ の 隙間か ら 融液上の単結晶棒 3 の育成部を観察可能 と な り 、 冷却補助 部材 1 3 、 1 3 a , 1 3 b 、 1 3 c にのみ直径検出用 の検出窓や、 作業者が結晶の育成状況を把握す る ための視 き窓 を設け る だ けで支 障な く 結晶棒育成部 を観察で き る 。 これに よ り 、 装置 を簡素化で き る と と も に、 冷却筒の冷却効果 を均一に得 ら れる よ う に な る 。
ま た、 冷却筒 1 1 の 内側表面 に黒鉛を塗布あ る いは蒸着す る な ど 表面を黒色化す る黒化処理 を施せば、 冷却筒 1 1 の熱吸収効果が強 化さ れ、 よ り 効果的 に成長単結晶 3 の輻射熱 を吸収す る こ と がで き る よ う にな り 冷却効果が向上する。
そ して、 以上説明 し た本発明に係 る単結晶育成装置で は、 冷却筒 に対す る 融液表面の位置を駆動機構に よ り 変化 さ せた り 、 あ る い は 冷却補助部材の長さ を適宜選択する こ と で成長単結晶の熱履歴 を 自 在にコ ン ト ロ ールで き る 。 例えば、 冷却筒 と 融液表面 を近づ け る と と も に、 冷却補助部材 を融液面直上 ま で近づ けれ {¾. ί- 効果が得 ら れる 。 逆に、 冷却筒 と 融液表面 を遠ざけ る と と ¾ に、 冷却補助部材 も融液面か ら 遠ざければ、 徐冷効果が得 ら れ る 。 さ ら に、 冷却筒 と 融液面 を遠ざけ、 かつ冷却補助部材 を融液面直上 ま で近づければ、 グロー ン イ ン ( g r o w n — i n ) 欠陥 と呼ばれ -σ α日日欠陥の凝集 温度帯や結晶中の酸素析出 に係わる 温度帯を所望の帯域に コ ン ト 口 —ルす る こ と も 可能であ る 。
ま た、 本発明の装置は、 図 4 に示すよ う に 融液 4 を収容す る メ イ ンチ ヤ ンノ 1 の外側 に電磁石 2 1 を配設 して 、 チ ヤ ン ク、'内の融液 4 に磁場 を印加 しな が ら 単結晶 3 を育成す る磁界下引上げ法 (以下、 M C Z 法 と称す る ) の育成装置で使用す る こ と も 当然可能で あ り 、 同種の効果が得 ら れる こ と は言 う ま で も ない 。 特 に、 大型の単結晶 製造を 目 的 と し た M C Z 法単結晶育成装置に本発明の装置 を用 い れ ば、 よ り 効果的に結晶成長速度 を向上さ せ ら れる ので、 大幅な生産 性向上が期待で き る 。
以下、 実施例及び比較例 を示 して本発明を よ り 具体的に説明す る が、 本発明は こ れ ら に限定さ れる も のではな レヽ。
(実施例)
前記図 4 に示 し た単結晶育成装置 2 0 c を 用 い て、 M C Z 法 を 用 いて シ リ コ ン単結晶棒の育成を 行っ た。 こ の と き 、 冷却筒 1 1 の材 質にはス テ ン レ ス 、 冷却媒体と して は水 を用 いた 。 ま た、 冷却補助 部材 1 3 c 、 遮熱部材 1 4 c; 、 保護部材 1 5 は黒鉛材 と し た。 そ し て、 冷却筒 1 1 (長さ : 3 0 c m ) の先端は融液面か ら 2 5 c m離 した状態 と し、 冷却補助部材 1 3 c は融液面直近 ま で近づけて操業 を行 っ た 。 一方、 シ リ コ ン融液 4 に は、 水平磁場で 中心の磁場強度 が 4 0 0 0 G と な る よ う に磁場を印加 し、 ホ ッ ト ゾー ン は直径 2 4 ィ ンチのル ツボが収容で き る も の と した。
こ の 口径 2 4 イ ン チ の ル ツ ボ に 1 5 0 k gの多結晶 シ リ コ ン原料 を入れ、 直径 8 イ ン チ、 定径部の長さ が約 1 0 0 c mの単結晶を 育 成 した。 そ の結果、 単結晶定径部の平均引上げ速度が 2 . 0 m m m i nで 変形す る こ と な く 略円柱状の シ リ コ ン単結晶 を得 る こ と が で き た。 次に、 同様の大 き さ のル ツ ポに 1 0 0 k gの原料を入れ、 直径 6 イ ンチ、 定径部の長さ が約 1 0 0 c mの結晶を育成 した。 そ の結果、 定径部の平均引上げ速度が 2 . 6 m m/ m i nの速度で変 形する こ と な く 略円柱状の シ リ コ ン単結晶を得る こ と がで き た。
(比較例)
前記実施例で使用 し た単結晶育成装置の冷却筒 に替わ り 、 メ イ ン チャ ンバの天井か ら 黒鉛筒 を吊 り 下げた単結晶育成装置 を用い、 そ れ以外の条件は、 実施例 と 同様の条件下で単結晶の育成を行っ た 。 ま た、 育成 し た単結晶のそれそれの長さ も実施例 と略同等の長さ と した。
その結果、 定径部の直径が 8 イ ン チの結晶では、 定径部の平均引 上げ速度が 1 . 4 m m /m i n以下、 6 イ ンチの結晶では、 定径部 の平均引 き上げ速度が 1 . 8 m m / m i n以下の引上げ速度で は結 晶変形のない略円柱状の単結晶を育成す る こ とはで き たが、 それ以 上の引上げ速度 の も のは、 育成途中で結晶に変形が生 じ た り 、 ス リ ッ ブ転位が入る な どの問題が起 こ り 正常に単結晶 を育成す る こ と が で き な か っ た。
こ の理由 を調べ る ため、 F E M A G と 呼ばれる 総合伝熱解析 ソ フ ト ( F . D u p r e t , P . N i c o d e m e , Y . R y e k m a n s , P . W o u t e r s , a n d M . J . C r o c h e t , I n t . J . H e a t M a s s T r a n s f e r , 3 3 , 1 8 4 9 ( 1 9 9 0 )) を用 い て シ ミ ュ レ — シ ョ ン を行 つ た と こ ろ 、 図 5 に示す結果が得 ら れた。 図 5 か ら 、 冷却筒 を備え た実施例の装置で は、 冷却筒の効果に よ り 比較例の装置 よ り も 急冷型の装置構造 と な つ てお り 、 成長単結晶の熱を効率良 く 冷やす こ と がで き た こ と がわ かる 。 確認の た め実施例 と 比較例の装置の炉 内温度分布 を測定 し た と こ ろ 、 シ ミ ュ レ ー シ ョ ン とほぼ同様の温度分布が得 ら れた。 従 つ て、 本発明の装置 を用 い る こ と に よ り 、 単結晶育成装置の炉内温度 分布が急冷型 に 変化 し、 結晶冷却速度が増 し た こ と で 引上げ速度の 高速化が達成さ れた も のであ る 。
なお、 本発明は、 上記実施形態に限定 さ れ る も ので はな い 。 上記 実施形態は単な る 例示であ り 、 本発明の特許請求の範囲に記載さ れ た技術的思想 と 実質的に同一な構成を有 し、 同様な作用効果を奏す る も のは、 い か な る も のであ っ て も 本発明の技術的範囲に包含さ れ る 。
例え ば、 本発明の装置を磁場 を印加 し ない で単結晶 を育成す る C Z法単結晶育成装置、 あ る いは融液に水平磁場を 印加 し て 単結晶 を 育成す る H M C Z 法単結晶育成装置 を例 にあ げて 説明 し た が、 そ の 他の カ ス プ磁場や垂直磁場等を用い た単結晶育成装置で も 同様の効 果が得 ら れる こ と は言 う ま で も ない

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 少な く と も 原料融液 を収容す る ル ツボ及び原料融液を加熱す る ヒ 一 夕 を格納す る メ イ ンチ ャ ンノ、' と、 該メ イ ン チャ ンノ の上部に 連設さ れ、 成長 し た単結晶が引 上げ ら れて収納さ れる 引上げチ ヤ ン バ と を有す る 単結晶育成装置におい て、 引上げ中 の単結晶を取 り 囲 むよ う に前記メ イ ンチ ャ ン バ の 少な く と も 天井部か ら原料融液表面 に向か っ て延伸 し、 冷却媒体で 強制冷却 さ れる冷却筒 と、 該冷却筒 よ り 下方 に延伸 し、 円筒 ま たは 下方 に向 か っ て縮径さ れた形状の冷 却補助部材を有する こ と を特徴 と す る 単結晶育成装置。
2 . 前記冷却筒が、 鉄、 ニ ッ ケル、 ク ロ ム、 銅、 チタ ン、 モ リ ブ デ ン、 タ ン グス テ ン、 若 し く は こ れ ら の金属 を含む合金、 ま たは前 記金属若 し く は合金をチ タ ン、 モ リ ブデ ン、 タ ン グステ ン、 若 し く は 白 金族金属で被覆 して な る こ と を特徴 とす る請求項 1 に記載の単 結晶育成装置。
3 . 前記冷却補助部材が、 黒鉛、 モ リ ブデ ン、 ま たは タ ン ダス テ ンか ら な る こ と を特徴 と す る 請求項 1 ま たは請求項 2 に記載の単結 晶育成装置。
4 . 前記冷却補助部材に遮熱部材が設け ら れて い る こ と を特徴 と する 請求項 1 な い し請求項 3 の い ずれか 1 項 に記載の単結晶育成装
5 . 前記冷却筒の先端が、 ル ツボ内に満た された原料融液の表面 か ら 1 0 c m以上離れて い る こ と を特徴 と す る請求項 1 ない し請求 項 4 の いずれか 1 項に記載の単結晶育成装置。
6 . 前記冷却筒の外側に、 黒鉛ま たは金属 か ら な る保護部材が設 け ら れて い る こ と を特徴と す る請求項 1 ない し請求項 5 の い ずれか 1 項に記載の単結晶育成装置。
7 . 前記冷却筒の内側表面を、 黒化処理 し た こ と を特徴 と す る請 求項 1 ない し請求項 6 のいずれか 1 項に記載の単結晶育成装置。
8 . 請求項 1 な い し請求項 7 のい ずれか 1 項に 記載の単結晶育成 装置 を用 いて単結晶を育成する こ と を特徴と す る 単結晶の製造方法
9 . 請求項 1 ない し請求項 7 のい ずれか 1 項に記載の単結晶育成 装置を用いて育成 した こ と を特徴と す る単結晶。
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