JP6614380B1 - 単結晶製造装置 - Google Patents

単結晶製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6614380B1
JP6614380B1 JP2019053430A JP2019053430A JP6614380B1 JP 6614380 B1 JP6614380 B1 JP 6614380B1 JP 2019053430 A JP2019053430 A JP 2019053430A JP 2019053430 A JP2019053430 A JP 2019053430A JP 6614380 B1 JP6614380 B1 JP 6614380B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling
cylinder
single crystal
diameter
auxiliary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019053430A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020152612A (ja
Inventor
拓生 小林
拓生 小林
和也 柳瀬
和也 柳瀬
篤志 岡井
篤志 岡井
園川 将
将 園川
淳 岩崎
淳 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority to JP2019053430A priority Critical patent/JP6614380B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6614380B1 publication Critical patent/JP6614380B1/ja
Priority to CN201980094084.0A priority patent/CN113574213A/zh
Priority to US17/435,224 priority patent/US11821104B2/en
Priority to KR1020217029271A priority patent/KR20210134667A/ko
Priority to DE112019006883.0T priority patent/DE112019006883T5/de
Priority to PCT/JP2019/051060 priority patent/WO2020188947A1/ja
Publication of JP2020152612A publication Critical patent/JP2020152612A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/007Pulling on a substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/10Crucibles or containers for supporting the melt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B30/00Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions
    • C30B30/04Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions using magnetic fields

Abstract

【課題】育成中の単結晶を効率良く冷却し、該単結晶の成長速度の高速化を図る。【解決手段】原料融液5を収容するルツボ6、7及び原料融液5を加熱するヒータ8を格納するメインチャンバー2と、メインチャンバー2の上部に連設され、原料融液5から引き上げられた単結晶4を収容する引上げチャンバー3と、単結晶4を取り囲むようにメインチャンバー2の天井部から原料融液5の表面に向かって延伸する冷却筒12と、冷却筒12の内側に嵌合される冷却補助筒19とを備えるチョクラルスキー法による単結晶製造装置であって、冷却補助筒19に嵌合される径拡大部材20をさらに備え、冷却補助筒19は、軸方向に貫く切れ目を有し、かつ径拡大部材20が押し込まれることで径が拡大して冷却筒12に密着するものである。【選択図】図1

Description

本発明は、チョクラルスキー法(Czochralski Method、以下、CZ法と略する)による単結晶製造装置に関する。
以下、従来のチョクラルスキー法による単結晶製造装置について、シリコン単結晶の育成を例にとって説明する。
図8は、従来の単結晶製造装置の例を示す。
CZ法でシリコン単結晶を製造する際に使用される単結晶製造装置101は、一般的に原料融液105が収容された昇降動可能なルツボ106、107と、該ルツボ106、107を取り囲むように配置されたヒータ108が単結晶104を育成するメインチャンバー102内に配置されており、該メインチャンバー102の上部には育成した単結晶104を収容し取り出すための引上げチャンバー103が連設されている。このような単結晶製造装置101を用いて単結晶104を製造する際には、種結晶116を原料融液105に浸漬し、回転させながら静かに上方に引き上げて棒状の単結晶104を成長させる一方、所望の直径と結晶品質を得るため融液面の高さが常に一定に保たれるように結晶の成長に合わせルツボ106、107を上昇させている。
そして、単結晶104を育成する際には、種ホルダ117に取り付けられた種結晶116を原料融液105に浸漬した後、引上げ機構(不図示)により種結晶116を所望の方向に回転させながら静かにワイヤ115を巻き上げ、種結晶116の先端部に単結晶104を成長させているが、種結晶116を融液に着液させた際に生じる転位を消滅させるため、一旦、成長初期の結晶を3〜5mm程度まで細く絞り、転位が抜けたところで径を所望の直径まで拡大して、目的とする品質の単結晶104を成長させていく。もしくは、大直径結晶を育成する際には、例えば、種結晶116のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶116を使用し、まず該種結晶116の先端をシリコン融液に静かに接触させた後、該種結晶116を低速度で下降させることによって種結晶116の先端部が所望の太さとなるまで溶融し、その後、該種結晶116をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、所望径のシリコン単結晶棒を育成させる方法が提案されている(特許文献1参照)。
このとき、単結晶104の一定の直径を有する定径部の引き上げ速度は、引き上げられる単結晶104の直径に依存するが、0.4〜2.0mm/min程度の非常にゆっくりとしたものであり、無理に早く引上げようとすると、育成中の単結晶104が変形して定径を有する円柱状製品が得られなくなる。あるいは単結晶104にスリップ転位が発生したり、単結晶104が融液から切り離されて製品とならなくなってしまうなどの問題が生じてしまい、結晶成長速度の高速化を図るには限界があった。
しかし、前記CZ法による単結晶104の製造において、生産性の向上を図り、コストを低減させるためには、単結晶104の成長速度を高速化することが一つの大きな手段であり、これまでにも単結晶104の成長速度の高速化を達成させるために多くの改良がなされてきた。
単結晶104の成長速度は、成長中の単結晶104の熱収支によって決定され、これを高速化するには、単結晶104の表面から放出される熱を効率的に除去すれば良いことが知られている。この際、単結晶104の冷却効果を高めることができれば更に効率の良い単結晶104の製造が可能である。さらに、単結晶104の冷却速度によって、結晶の品質が変わることが知られている。例えば、シリコン単結晶で単結晶育成中に形成されるグローンイン(Grown−in)欠陥は結晶内温度勾配と単結晶の引上げ速度(成長速度)の比で制御可能であり、これをコントロールすることで無欠陥の単結晶104を育成することもできる(特許文献2参照)。従って、無欠陥結晶を製造する上でも、単結晶104の成長速度を高速化して生産性の向上を図る上でも、育成中の単結晶104の冷却効果を高めることが重要である。
特開平10−203898号公報 特開平11−157996号公報 特公昭57−40119号公報 特開昭64−65086号公報 国際公開第WO01/57293号パンフレット 特開平6−199590号公報 特開2009−161416号公報
CZ法において単結晶104を効率よく冷却するには、ヒータ108からの輻射を結晶に直接当てずに、かつ単結晶104からの輻射熱をチャンバー等強制冷却された物体に吸収させる方法が有効である。これを実現可能な装置の構造としてスクリーン構造が挙げられる(特許文献3参照)。しかし、この構造では、ルツボ106、107の上昇による該ルツボ106、107の上端との接触を回避するほどのスクリーン形状にすると、スクリーン上部の内径を小さくする必要があり、その結果、結晶が冷え難くなるという欠点がある。また、結晶引き上げ中は酸化性ガスによる汚れ防止のため不活性ガスを流すが、このようなスクリーン形状では単結晶104の冷却効果が期待できないという問題もある。
そこで、不活性ガスを整流するための整流筒114と該整流筒114にヒータ108や原料融液105からの直接輻射をさえぎるための断熱リングを有した構造が提案されている(特許文献4参照)。この方法では、不活性ガスによる単結晶104の冷却効果は期待できるが、単結晶104からの輻射熱を冷却チャンバーに吸収させるという点において、その冷却能力は高いとは言えない。
そこで、前記のスクリーンや整流筒114の問題点を解決し効率よく冷却する方法として、結晶回りに水冷された冷却筒112を配する方法が提案されている(特許文献5参照)。この方法では、冷却筒112の外側が黒鉛材等の保護カバーなど冷却筒保護材により保護され、冷却筒112の内側から単結晶104の熱を効率よく除去できる。しかし、安全のため冷却筒112を融液面近くまで伸ばしておらず、冷却筒112に至るまでの単結晶104の冷却効果がやや弱かった。
また、特許文献6に冷却筒112に嵌合して黒鉛材等を延伸する方法が挙げられている。しかしこの方法では、冷却筒112及び延伸する黒鉛が外側からの熱を受けて十分な冷却効果が出せない上、冷却筒112と黒鉛材の接触が難しく、効率よく黒鉛材から冷却筒112への伝熱ができなかった。
図9は、従来の単結晶製造装置の他の例を示す。
この例は、図8の例と比べると、さらに冷却補助筒119を有している点に特徴を有する。例えば、特許文献7においては、冷却筒112に嵌合される冷却補助筒119を有し、冷却補助筒119は軸方向に貫く切れ目を有し、原料融液105の表面に向かって延伸する方法が挙げられている。この方法では、単結晶104から発生する熱は冷却補助筒119を介して冷却筒112に伝わることで、単結晶104の引上げ速度を向上させることが出来る。また、冷却補助筒119の外径と冷却筒112の内径とを同じくすることで、両者を密着させることができていた。
しかし、近年における単結晶製造装置の大型化に伴い、冷却補助筒119を冷却筒112にスムースに嵌合するためには、設置時に両者間に所定の隙間を設けること、つまり冷却補助筒119の外径を冷却筒112の内径よりも小さくする必要性がでてきた。このときの寸法公差により、冷却筒112と冷却補助筒119は完全に密着することができなくなり、冷却補助筒119から冷却筒112への熱の伝達効率が低下する問題があった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、育成中の単結晶を効率良く冷却することで該単結晶の成長速度の高速化を図ることが可能な単結晶製造装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、原料融液を収容するルツボ及び前記原料融液を加熱するヒータを格納するメインチャンバーと、該メインチャンバーの上部に連設され、前記原料融液から引き上げられた単結晶を収容する引上げチャンバーと、前記単結晶を取り囲むように前記メインチャンバーの天井部から前記原料融液の表面に向かって延伸する冷却筒と、前記冷却筒の内側に嵌合される冷却補助筒とを備えるチョクラルスキー法による単結晶製造装置であって、前記冷却補助筒に嵌合される径拡大部材をさらに備え、前記冷却補助筒は、軸方向に貫く切れ目を有し、かつ前記径拡大部材が押し込まれることで径が拡大して前記冷却筒に密着するものであることを特徴とする単結晶製造装置を提供する。
このような単結晶製造装置によれば、冷却補助筒が軸方向に貫く切れ目を有するため、径拡大部材が冷却補助筒に押し込まれると、該冷却補助筒の径が拡大する。また、冷却補助筒の径が拡大することにより、冷却補助筒は、その外周を取り囲む冷却筒に密着する。従って、引き上げられた単結晶の熱が冷却補助筒から冷却筒に効率よく伝達される。すなわち、育成中の単結晶を効率良く冷却することで該単結晶の成長速度(結晶引上げ速度)の高速化が図られ、生産性の向上が実現できる。
前記径拡大部材は、くさび形状を有し、かつ前記冷却補助筒の切れ目の一部又は全てに嵌合し、押し込まれることで、前記冷却補助筒の径を拡大することが出来るものであることが好ましい。
このように、径拡大部材がくさびの役割を持つことで、冷却補助筒の径を拡大することが出来る。ここで、径拡大部材のくさび角度は、冷却補助筒の径を拡大する方向へ作用する力のベクトルと、その反作用により冷却補助筒の径を収縮する力(押し戻す力)とを考慮すると、45°以下であることが好ましい。また、径拡大部材の冷却補助筒への押し込み力を小さくして、径拡大部材を冷却補助筒へ押し込み易くするためには、くさび角度は、5°以上、20°以下であることがより好ましい。
また、冷却補助筒に設けられる軸方向に貫く切れ目の間隔は、くさびとしての機能を持たせるために、冷却補助筒の直径に対して、1%以上、70%以下であることが好ましい。くさびの押し込み力や冷却補助筒の径拡大効果を考慮すると、該間隔は、該直径に対して、5%以上、20%以下であることがより好ましい。
冷却補助筒に径拡大部材を押し込む方法としては、冷却補助筒に切れ目(スリット)を入れることにより容易に該冷却補助筒を変形させることが可能なため、径拡大部材を人力で押し込む方法を採用することも可能である。しかし、冷却補助筒に難変形材料を用いた場合に、冷却補助筒の径を拡大させ、これを確実に冷却筒に密着させるには、ハンマーなどの器具を用いて、径拡大部材を打ち込む方法を採用してもよい。
なお、冷却補助筒は、長いほど、かつ厚いほど熱容量を持つが、引き上げられた単結晶からの熱を吸収する冷却補助筒の内面が冷却筒から遠ざかると、該単結晶の冷却効果は低下する。そのため、冷却筒からその下方に飛び出す冷却補助筒の長さは、250mm以下であることが好ましく、冷却筒補助筒の肉厚は、60mm以下であることが好ましい。
また、径拡大部材の長さ(軸方向の長さ)は、長いほど冷却補助筒の径拡大効果が大きくなるが、押し込み時の径拡大部材の強度を考慮すると、冷却補助筒の長さの10%以上、60%以下の長さであることが好ましい。径拡大部材の肉厚は、冷却補助筒と同様に、60mm以下であることが好ましい。このとき、冷却補助筒に設けられる軸方向に貫く切れ目の間隔が大きい場合は、例えば、径拡大部材のくさび先端に冷却補助筒の切れ目の間隔に合致する直方体を接続してもよい。
前記冷却補助筒は、下方に内径が小さくなるテーパー形状を有し、前記径拡大部材は、下方に外径が小さくなるテーパー形状を有し、かつ前記冷却補助筒の内側に嵌合し、押し込まれることで、前記冷却補助筒の径を拡大することが出来るものであることが好ましい。
このように、冷却補助筒及び径拡大部材が共にテーパー形状を有し、該径拡大部材が冷却補助筒の内側に押し込まれることで、冷却補助筒は内側から径拡大部材により押し広げられることになり、該冷却補助筒の径は拡大することが出来る。ここで、径拡大部材のテーパー角度は、冷却補助筒の径を拡大する方向へ作用する力のベクトルと、その反作用により冷却補助筒の径を収縮する力(押し戻す力)とを考慮すると、45°以下であることが好ましい。また、径拡大部材の冷却補助筒への押し込み力を緩和し、径拡大部材を冷却補助筒へ押し込み易くするためには、テーパー角度は、5°以上、20°以下であることがより好ましい。
冷却補助筒に径拡大部材を押し込む方法としては、冷却補助筒に軸方向に貫く切れ目を入れることにより容易に変形をさせることが可能であり、冷却補助筒を分割することで更に容易に径を拡大することが可能となるため、径拡大部材を人力で押し込む方法を採用することが可能である。しかし、冷却補助筒の径を拡大させ、これを確実に冷却筒に密着させるには、ハンマーなどの器具を用いて、径拡大部材を打ち込む方法を採用してもよい。
また、径拡大部材の押し込み量は、冷却筒の内径と冷却補助筒の外径との間隔(差)に依存するが、例えば、黒鉛材の機械的強度を考慮すると、内径が430mmである冷却筒においては、20mm以下の押し込み量とすることが好ましい。また、冷却補助筒のテーパー上部の内径と径拡大部材のテーパー下部の外径との差は、径拡大部材が冷却補助筒の内側で該冷却補助筒に接触し、径拡大効果を高くするために、20mm以上、70mm以下であることが好ましい。
前記冷却補助筒の材質は、黒鉛材、炭素複合材、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることが好ましい。
これにより、冷却補助筒から冷却筒への熱伝導率が向上するので結晶の冷却速度を向上させることができる。
前記径拡大部材の材質は、黒鉛材、炭素複合材、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることが好ましい。
これにより、径拡大部材から冷却補助筒への熱伝導率が向上するので結晶の冷却速度を向上させることができる。
以上のように、本発明によれば、育成中の単結晶を効率良く冷却することで該単結晶の成長速度の高速化を図ることが可能な単結晶製造装置を提供できる。
本発明の単結晶製造装置の例を示す断面図である。 冷却補助筒と径拡大部材の例を示す斜視図である。 径拡大部材が冷却補助筒に嵌合された状態を示す斜視図である。 本発明の単結晶製造装置の他の例を示す断面図である。 冷却補助筒の一部と径拡大部材の例を示す斜視図である。 径拡大部材が冷却補助筒に嵌合された状態を示す斜視図である。 径拡大部材が冷却補助筒に嵌合された状態を示す断面図である。 従来の単結晶製造装置の例を示す断面図である。 従来の単結晶製造装置の他の例を示す断面図である。
上記のとおり、CZ法による単結晶の製造において、生産性の向上を図り、コストを低減させるためには、育成中の単結晶を効率良く冷却し、該単結晶の成長速度を高速化することが有効であり、そのためにメインチャンバー内に該単結晶を取り囲む冷却筒を設ける構造が提案されている。
このような冷却筒により育成中の単結晶を冷却する構造では、冷却筒が原料融液に接触することを防止するため、冷却筒を原料融液の液面近くまで伸ばさず、その代わりに冷却筒の内側に冷却補助筒を嵌合し、該冷却補助筒を原料融液の液面に向かって延伸させる。この場合、育成中の単結晶が発する熱は、冷却補助筒を経由して冷却筒に伝達される。しかし、近年、単結晶製造装置の大型化に伴い、冷却補助筒を冷却筒にスムースに嵌合させるために、冷却補助筒の外径が冷却筒の内径よりも小さく設定され、その結果、両者を密着させることが難しくなり、冷却補助筒から冷却筒への熱の伝達効率が低下するという問題が発生していた。
本発明者らは、上記問題について鋭意検討を重ねた結果、冷却補助筒に設けられる軸方向に貫く切れ目(スリット)に着目した。すなわち、該切れ目を冷却補助筒に設けることで、冷却補助筒の径を拡大することができる。例えば、冷却補助筒のセッティングを容易化するために、冷却筒と冷却補助筒との間に所定の隙間を設けたとしても、該セッティング後に冷却補助筒の径を拡大することで、該冷却補助筒を冷却筒に密着させ、冷却補助筒から冷却筒への熱の伝達効率を向上できる。
さらに、本発明者らは、冷却補助筒の径を拡大する手法について鋭意検討を重ねた。すなわち、冷却補助筒に軸方向に貫く切れ目を設け、例えば、冷却補助筒の熱膨張により該冷却補助筒の径を拡大する手法では、冷却筒の内径と冷却補助筒の外径には寸法公差があり、両者の隙間にもバラつきがあることから、該冷却補助筒を冷却筒に確実に密着させるに十分な量だけ該冷却補助筒の径を拡大できない場合もあった。
そこで、本発明者らは、冷却補助筒の径を拡大する手法について鋭意検討を重ねた結果、冷却補助筒に嵌合される径拡大部材を新たに設け、該径拡大部材を押し込むことで冷却補助筒の径を拡大すれば、該冷却補助筒を確実に冷却筒に密着させることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、原料融液を収容するルツボ及び前記原料融液を加熱するヒータを格納するメインチャンバーと、該メインチャンバーの上部に連設され、前記原料融液から引き上げられた単結晶を収容する引上げチャンバーと、前記単結晶を取り囲むように前記メインチャンバーの天井部から前記原料融液の表面に向かって延伸する冷却筒と、前記冷却筒の内側に嵌合される冷却補助筒とを備えるチョクラルスキー法による単結晶製造装置であって、前記冷却補助筒に嵌合される径拡大部材をさらに備え、前記冷却補助筒は、軸方向に貫く切れ目を有し、かつ前記径拡大部材が押し込まれることで径が拡大して前記冷却筒に密着するものであることを特徴とする単結晶製造装置である。
以下、本発明の実施の形態について、添付した図面に基づいて具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
図1は、本発明の単結晶製造装置の例を示す。
単結晶製造装置1において、石英ルツボ6は、原料融液(例えば、シリコン融液)5を収容し、ヒータ8は、原料結晶(例えば、多結晶シリコン)を加熱、融解し、原料融液5を生成するとともに、原料融液5を適温に保つ。引上げワイヤ15の先端には、種結晶16を取り付けるための種ホルダ17が接続される。
石英ルツボ6は、黒鉛ルツボ7で保持された状態で設置され、該黒鉛ルツボ7は、底部中心で回転し、上下動するルツボ回転軸(支持軸)18により支持される。メインチャンバー2の上方には、原料融液5から引き上げられた単結晶(例えば、シリコン単結晶)4を取り出しする開口扉が設けられた引上げチャンバー3が設けられる。
引上げチャンバー3には、雰囲気ガス(例えば、Arガス)を導入するためのガス導入口11が設けられ、メインチャンバー2の底部には、導入された雰囲気ガスを排出するためのガス流出口10が設けられる。そして、ガス導入口11から雰囲気ガスを導入しながら、原料融液5に種結晶16を浸し、引上げワイヤ15を回転させながら巻き上げて、単結晶4を引き上げていく。
石英ルツボ6及び黒鉛ルツボ7は、ルツボ回転軸18を介して結晶成長軸方向に上昇/下降が可能であり、結晶成長中に結晶化して減少した原料融液5の液面の下降分を補うように上昇する。また、断熱部材9は、ヒータ8の外側(ルツボ6、7側とは反対側)を取り囲み、ヒータ8からの熱がメインチャンバー2に直接輻射されるのを防止するとともに、溶融された原料融液5の熱ロスを防止する。
また、単結晶4の成長速度を向上させるためには、該単結晶4を急速冷却する必要があり、そのために冷却筒12が設けられる。冷却筒12は、例えば、金属製であり、引き上げられた単結晶4を同軸状に取り囲む。また、冷却筒12の構造は、内部が空洞となっており、冷却媒体導入口13から導入された冷却媒体(例えば、水など)は、冷却筒12の該空洞内を循環して冷却筒12を冷却した後、外部へ排出される。
整流筒14は、引き上げられた単結晶4を同軸状に取り囲み、冷却筒12の下端から該冷却筒12の下方に向かって延伸する。整流筒14は、ガス導入口11から導入される不活性ガスの整流効果を有するとともに、ヒータ8及び原料融液5からの輻射熱を遮ることで単結晶4の冷却効果を高める。また、整流筒14は、冷却筒12の下端部より下方に位置することで冷却筒12が原料融液5に接触して水蒸気爆発を起こすことを防止する効果も有する。
冷却補助筒19は、冷却筒12の内側に嵌合される。冷却補助筒19の役割の一つは、引き上げられた単結晶4からの輻射を吸収し、それを冷却筒12に伝えることにある。そのために、冷却補助筒19は、引き上げられた単結晶4を同軸状に取り囲み、冷却筒12の下端よりも下方に延伸する。この場合、冷却補助筒19は、単結晶4の下方まで取り囲むことができるため、単結晶4からの熱を冷却補助筒19を介して冷却筒12に効率的に伝達することができる。
この時、単結晶4の冷却効果を最大限に高めるには、冷却補助筒19を冷却筒12に密着させて、冷却補助筒19から冷却筒12への熱が効率的に伝わるようにすることが重要となる。そこで、本発明では、冷却補助筒19に嵌合される径拡大部材20を採用し、該径拡大部材20を押し込むことで冷却補助筒19の径を拡大し、これを冷却筒12に密着させる。以下、冷却補助筒19の径を拡大する具体例を説明する。
図2は、冷却補助筒と径拡大部材の例を示す。
冷却補助筒19は、軸AXを中心とする円筒形を有する。軸AXは、単結晶の育成時における結晶成長軸と概略一致する。
冷却補助筒19は、軸方向に貫く切れ目SLを有する。該切れ目SLの上部は、V字型に切り込まれた嵌合部Fとなっている。切れ目SLは、冷却補助筒19のセッティングを容易化する効果がある。また、嵌合部Fは、径拡大部材20が嵌合されることで冷却補助筒19の径を拡大する効果がある。本例では、嵌合部Fは、逆三角形の形状をしており、最も下端(逆三角形の頂点)における角度θ1’は、例えば、5°以上、20°以下に設定される。
径拡大部材20は、くさび形状を有し、嵌合部Fの一部又は全てに嵌合する。具体的には、径拡大部材20は、下端に向かうほど幅が小さくなる逆三角形の形状を有し、最も下端(逆三角形の頂点)におけるテーパー角度(くさび角度)θ1は、例えば、嵌合部Fにおける角度θ1’と同じであることが好ましく、例えば、5°以上、20°以下に設定される。
このような冷却補助筒19と径拡大部材20を用いた場合、径拡大部材20が冷却補助筒19に嵌合され、かつ押し込まれると、図3に示すように、径拡大部材20の押し込み圧力が冷却補助筒19の径を拡大する力に変換され、該冷却補助筒19の径が拡大する。その結果、冷却補助筒19は、冷却筒12(図1参照)に確実に密着することになる。なお、冷却補助筒19及び径拡大部材20の材質は、耐熱性に優れ、熱伝導率及び輻射率が高い材質、例えば、黒鉛材、炭素複合材(CC材)、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることが好ましい。
図4は、本発明の単結晶製造装置の他の例を示す。
同図に示す単結晶製造装置1’は、図1の単結晶製造装置1と比べると、冷却補助筒19及び径拡大部材20が異なることを除いては、図1の単結晶製造装置1と同じである。そこで、以下では、冷却補助筒19及び径拡大部材20について述べ、それ以外の構成要素については、図1と同じ符号を付すことによりその詳細な説明を省略する。
図5は、冷却補助筒の一部と径拡大部材の例を示す。図6及び図7は、径拡大部材が冷却補助筒に嵌合された状態を示す。
冷却補助筒19は、軸方向に貫く4つの切れ目SLを有し、かつこれら4つの切れ目SLにより冷却補助筒19が4つの部分A,B,C,Dに分断される。すなわち、これら4つの部分A,B,C,Dが組み合わさると、冷却補助筒19は、軸AXを中心とする円筒形となる。なお、図5に示す冷却補助筒19は、図6の4つの部分A,B,C,Dのうちの1つに対応する。
図7に示すように、冷却補助筒19は、その上部において内面が斜めになっており、かつ下方に内径が小さくなる、すなわち、上端に向かって断面幅が狭くなるテーパー形状を有する。一方、径拡大部材20は、冷却補助筒19の内側に嵌合するリング形状を有する。また、径拡大部材20は、その下部において外面が斜めになっており、かつ下方に外径が小さくなる、すなわち、下端に向かって断面幅が狭くなるテーパー形状を有する。
また、冷却補助筒19の内面と外面とのなす角度をテーパー角度θ2としたとき、該テーパー角度θ2は、例えば、5°以上、20°以下に設定される。同様に、径拡大部材20の内面と外面とのなす角度をテーパー角度θ2’としたとき、該テーパー角度θ2’は、冷却補助筒19のテーパー角度θ2と同じであることが好ましく、例えば、5°以上、20°以下に設定される。
このような冷却補助筒19と径拡大部材20を用いた場合、径拡大部材20が冷却補助筒19に嵌合され、かつ押し込まれると、図6及び図7に示すように、径拡大部材20の押し込み圧力が冷却補助筒19の径を拡大する力に変換され、該冷却補助筒19の径が拡大する。その結果、冷却補助筒19は、冷却筒12(図4参照)に確実に密着することになる。なお、冷却補助筒19及び径拡大部材20の材質は、耐熱性に優れ、熱伝導率及び輻射率が高い材質、例えば、黒鉛材、炭素複合材(CC材)、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることが好ましい。
以上のように、本発明の単結晶製造装置によれば、冷却補助筒19が軸方向に貫く切れ目SLを有するため、径拡大部材20が冷却補助筒19に押し込まれると、該冷却補助筒19の径が拡大する。また、冷却補助筒19の径が拡大することにより、冷却補助筒19は、その外周を取り囲む冷却筒12に密着する。従って、引き上げられた単結晶4の熱が冷却補助筒19から冷却筒12に効率よく伝達される。すなわち、育成中の単結晶4を効率良く冷却することで該単結晶4の成長速度(結晶引上げ速度)の高速化が図られ、生産性の向上が実現できる。
以下に本発明の実施例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、これらは、本発明を限定するものではない。
(実施例1)
実施例1では、以下の条件で設置された図1の単結晶製造装置1を用いて単結晶4の育成を行い、所望の品質の単結晶4を得ることができる結晶引上げ速度を検証した。
育成する単結晶4は、シリコン単結晶とし、直径12インチ(300mm)のシリコン結晶を磁場印加チョクラルスキー法(MCZ法)により製造した。石英ルツボ6の直径は32インチ(800mm)とした。冷却筒12の内径の設計値は、430mmとし、冷却補助筒19の外径の設計値は、429.5mmとし、その長さは、350mmとした。冷却筒12内径と冷却補助筒19の外径との公差は、それぞれ±0.4mm、±0.1mmであるものを使用した。
冷却補助筒19としては、図2に示すように、軸方向に貫く切れ目SLを有し、かつ切れ目SLの上部がV字型に切り込まれた嵌合部Fとなっているものを使用した。また、径拡大部材20としては、該嵌合部Fの一部又は全てに嵌合するくさび形状を有するものを使用した。具体的には、径拡大部材20は、下端に向かうほど幅が小さくなる逆三角形の形状とし、最も下端におけるテーパー角度θ1を10°とした。冷却補助筒19の嵌合部Fも、同様に逆三角形の形状をしており、最も下端における角度θ1’を10°とした。
このような単結晶製造装置1において、冷却補助筒19のセッティング直後の冷却筒12の内径と冷却補助筒19の外径との間隔(差)は0.8mmであったが、該冷却補助筒19に径拡大部材20を嵌合して、かつ径拡大部材20を押し込むことにより、冷却補助筒19が所望の径に拡大し、冷却筒12の内径と冷却補助筒19の外径との間隔は0mmとなった。すなわち、冷却補助筒19を冷却筒12に完全に密着させることができた。なお、冷却補助筒19及び径拡大部材20の材質としては、熱伝導率が金属に比較して同等であり、かつ輻射率が金属より高い黒鉛材を使用した。
そして、径拡大部材20により冷却筒12と冷却補助筒19とを密着させた状態で単結晶4の育成を行い、全てが無欠陥結晶となる成長速度を求めた。無欠陥結晶を得るための成長速度についてはそのマージンが非常に狭いため、引き上げた単結晶4からサンプルを切り出し、無欠陥結晶になったかどうかを確認することで、全てが無欠陥結晶である単結晶4を得るための適正な成長速度を判断しやすい。実施例1では、該サンプルに基づき、無欠陥結晶になったかどうかを選択エッチングにより確認し、全てが無欠陥結晶となる成長速度を求めた。
(比較例1)
比較例1では、図8の単結晶製造装置101を用いて、全てが無欠陥結晶となる単結晶104の成長速度を求めた。すなわち、比較例1は、冷却補助筒を有しない単結晶製造装置101を用いた場合の成長速度について評価した。
なお、比較例1では、図8の単結晶製造装置を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で単結晶104を製造し、かつ実施例1と同様の評価を行った。
また、図8において、102、103、104、105、106、107、108、109、110、111、112、113、114、115、116、117、及び118は、それぞれ図1におけるメインチャンバー2、引上げチャンバー3、単結晶4、原料融液5、石英ルツボ6、黒鉛ルツボ7、ヒータ8、断熱部材9、ガス流出口10、ガス導入口11、冷却筒12、冷却媒体導入口13、整流筒14、引上げワイヤ15、種結晶16、種ホルダ17、及びルツボ回転軸18に対応する。
(比較例2)
比較例2では、図9の単結晶製造装置101を用いて、全てが無欠陥結晶となる単結晶104の成長速度を求めた。すなわち、比較例2は、冷却補助筒を有するが径拡大部材を有しない単結晶製造装置101を用いた場合の成長速度について評価した。
なお、比較例2では、図9の単結晶製造装置を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で単結晶104を製造し、かつ実施例1と同様の評価を行った。
また、図9において、図8と同じ要素には同じ符号を付してある。また、図9において、119は、図1における冷却補助筒19に対応する。
表1は、実施例1、比較例1、及び比較例2について、引き上げられた単結晶の全てが無欠陥結晶となる結晶引上げ速度(成長速度)を示したものである。
Figure 0006614380
表1から明らかなように、実施例1では、冷却補助筒を用いない比較例1に比べて、約10.5%の成長速度の高速化が図れた。また、実施例1では、冷却補助筒を用いるが径拡大部材を用いない比較例2に比べて、約4.4%の成長速度の高速化が図れた。
(実施例2)
実施例2では、以下の条件で設置された図4の単結晶製造装置1’を用いて単結晶4の育成を行い、所望の品質の単結晶4を得ることができる結晶引上げ速度を検証した。
育成する単結晶4は、シリコン単結晶とし、図5に示すような冷却補助筒19及び径拡大部材20を用いたこと以外は、実施例1と同様な条件で単結晶を製造し、かつ実施例1と同様の評価を行った。すなわち、冷却筒12の内径の設計値は、430mmとし、冷却補助筒19の外径の設計値は、429.5mmとし、その長さは、350mmとした。また、冷却筒12内径と冷却補助筒19の外径との公差は、それぞれ±0.4mm、±0.1mmであるものを使用した。
冷却補助筒19としては、図6に示すように、軸方向に貫く4つの切れ目SLを有し、かつこれら4つの切れ目SLにより冷却補助筒19が4つの部分A,B,C,Dに分断されるものを使用した。また、冷却補助筒19は、図7に示すように、その上部において内面が斜めになっており、かつその断面形状は上端に向かうほど幅が狭くなるテーパー形状を有するものを使用した。一方、径拡大部材20としては、図7に示すように、冷却補助筒19の内側に嵌合するリング形状を有するものを使用した。また、径拡大部材20は、その下部において外面が斜めになっており、かつその断面形状は下端に向かうほど幅が狭くなるテーパー形状を有するものを使用した。
また、冷却補助筒19の内面と外面とのなすテーパー角度θ2、及び径拡大部材20の内面と外面とのなすテーパー角度θ2’を、それぞれ10°とした。
このような単結晶製造装置1’において、冷却補助筒19のセッティング直後の冷却筒12の内径と冷却補助筒19の外径との間隔(差)は0.8mmであったが、該冷却補助筒19に径拡大部材20を嵌合して、かつ径拡大部材20を押し込むことにより、冷却補助筒19の4つの部分がそれぞれ径方向に移動し、冷却補助筒19が所望の径に拡大することで、冷却筒12の内径と冷却補助筒19の外径との間隔は0mmとなった。すなわち、冷却補助筒19を冷却筒12に完全に密着させることができた。
表2は、実施例2、比較例1、及び比較例2について、引き上げられた単結晶の全てが無欠陥結晶となる結晶引上げ速度(成長速度)を示したものである。
Figure 0006614380
表2から明らかなように、実施例2では、冷却補助筒を用いない比較例1に比べて、約10.2%の成長速度の高速化が図れた。また、実施例2では、冷却補助筒を用いるが径拡大部材を用いない比較例2に比べて、約4.1%の成長速度の高速化が図れた。すなわち、実施例2においても、実施例1と同程度の成長速度の高速化を図ることができた。
以上の結果から分かるように、実施例1及び2では、共に、比較例1及び2に比べて、単結晶4の成長速度の高速化を図ることができた。すなわち、本発明の単結晶製造装置1、1’は、育成中の単結晶4を効率良く冷却することができ、単結晶4の成長速度の高速化を図ることができるものであることが立証された。
以上、説明してきたように、本発明によれば、冷却補助筒19を径拡大部材20に嵌合し、かつ押し込むことにより、冷却補助筒19の外径を大きくすることができる。その結果、冷却補助筒19と冷却筒12との密着度合いを高めることができ、育成中の単結晶4を効率よく冷却することが可能となる。すなわち、育成中の単結晶4を効率良く冷却することで該単結晶4の成長速度の高速化を図ることが可能となる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
1、1’…単結晶製造装置、 2…メインチャンバー、 3…引上げチャンバー、 4…単結晶、 5…原料融液、 6、7…ルツボ、 8…ヒータ、 9…断熱部材、 10…ガス流出口、 11…ガス導入口、 12…冷却筒、 13…冷却媒体導入口、 14…整流筒、 15…引上げワイヤ、 16…種結晶、 17…種ホルダ、 18…ルツボ回転軸、 19…冷却補助筒、 20…径拡大部材。

Claims (5)

  1. 原料融液を収容するルツボ及び前記原料融液を加熱するヒータを格納するメインチャンバーと、該メインチャンバーの上部に連設され、前記原料融液から引き上げられた単結晶を収容する引上げチャンバーと、前記単結晶を取り囲むように前記メインチャンバーの天井部から前記原料融液の表面に向かって延伸する冷却筒と、前記冷却筒の内側に嵌合される冷却補助筒とを備えるチョクラルスキー法による単結晶製造装置であって、
    前記冷却補助筒に嵌合される径拡大部材をさらに備え、
    前記冷却補助筒は、軸方向に貫く切れ目を有し、かつ前記径拡大部材が押し込まれることで径が拡大して前記冷却筒に密着するものであることを特徴とする単結晶製造装置。
  2. 前記径拡大部材は、くさび形状を有し、かつ前記冷却補助筒の切れ目の一部又は全てに嵌合し、押し込まれることで、前記冷却補助筒の径を拡大することが出来るものであることを特徴とする請求項1に記載の単結晶製造装置。
  3. 前記冷却補助筒は、下方に内径が小さくなるテーパー形状を有し、
    前記径拡大部材は、下方に外径が小さくなるテーパー形状を有し、かつ前記冷却補助筒の内側に嵌合し、押し込まれることで、前記冷却補助筒の径を拡大することが出来るものであることを特徴とする請求項1に記載の単結晶製造装置。
  4. 前記冷却補助筒の材質は、黒鉛材、炭素複合材、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の単結晶製造装置。
  5. 前記径拡大部材の材質は、黒鉛材、炭素複合材、ステンレス、モリブデン、及びタングステンのいずれかであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の単結晶製造装置。
JP2019053430A 2019-03-20 2019-03-20 単結晶製造装置 Active JP6614380B1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019053430A JP6614380B1 (ja) 2019-03-20 2019-03-20 単結晶製造装置
CN201980094084.0A CN113574213A (zh) 2019-03-20 2019-12-26 单晶制造装置
US17/435,224 US11821104B2 (en) 2019-03-20 2019-12-26 Apparatus for manufacturing single crystal
KR1020217029271A KR20210134667A (ko) 2019-03-20 2019-12-26 단결정 제조장치
DE112019006883.0T DE112019006883T5 (de) 2019-03-20 2019-12-26 Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen
PCT/JP2019/051060 WO2020188947A1 (ja) 2019-03-20 2019-12-26 単結晶製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019053430A JP6614380B1 (ja) 2019-03-20 2019-03-20 単結晶製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6614380B1 true JP6614380B1 (ja) 2019-12-04
JP2020152612A JP2020152612A (ja) 2020-09-24

Family

ID=68763481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019053430A Active JP6614380B1 (ja) 2019-03-20 2019-03-20 単結晶製造装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11821104B2 (ja)
JP (1) JP6614380B1 (ja)
KR (1) KR20210134667A (ja)
CN (1) CN113574213A (ja)
DE (1) DE112019006883T5 (ja)
WO (1) WO2020188947A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6614380B1 (ja) * 2019-03-20 2019-12-04 信越半導体株式会社 単結晶製造装置
JP7420060B2 (ja) 2020-12-10 2024-01-23 信越半導体株式会社 単結晶製造装置
KR20230116813A (ko) * 2020-12-10 2023-08-04 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 단결정 제조장치
JP7428149B2 (ja) 2021-01-14 2024-02-06 信越半導体株式会社 単結晶製造装置
JP7115592B1 (ja) 2021-05-28 2022-08-09 信越半導体株式会社 単結晶製造装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5947163B2 (ja) * 1972-11-27 1984-11-17 岡部株式会社 散開アンカ−付ロツクボルト
DE2821481C2 (de) 1978-05-17 1985-12-05 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Vorrichtung zum Ziehen von hochreinen Halbleiterstäben aus der Schmelze
JPS5559143A (en) 1978-10-27 1980-05-02 Tokuyama Soda Co Ltd Purification of diethylene glycol bis(allyl carbonate)
JPS61123278A (ja) * 1984-11-20 1986-06-11 Fujitsu Ltd デイザ画像デ−タ復元回路
JPH0639351B2 (ja) 1987-09-05 1994-05-25 信越半導体株式会社 単結晶棒の製造装置及び方法
JP3203341B2 (ja) 1993-01-06 2001-08-27 ワッカー・エヌエスシーイー株式会社 半導体単結晶棒製造装置
JPH10203898A (ja) 1997-01-17 1998-08-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd シリコン単結晶の製造方法および種結晶
JP3747123B2 (ja) 1997-11-21 2006-02-22 信越半導体株式会社 結晶欠陥の少ないシリコン単結晶の製造方法及びシリコン単結晶ウエーハ
TW505710B (en) * 1998-11-20 2002-10-11 Komatsu Denshi Kinzoku Kk Production method for silicon single crystal and production device for single crystal ingot, and heat treating method for silicon single crystal wafer
US6776840B1 (en) * 1999-03-22 2004-08-17 Memc Electronic Materials, Inc. Method and apparatus for controlling diameter of a silicon crystal in a locked seed lift growth process
FR2801304B1 (fr) * 1999-11-24 2002-02-15 Snecma Procede de fabrication d'un bol en materiau composite thermostructural, notamment pour une installation de production de silicium monocristallin
EP1182281A4 (en) 2000-01-31 2009-03-04 Shinetsu Handotai Kk SINGLE CRYSTAL DEVICE AND METHOD OF PRODUCING A CRYSTAL WITH THE SAID DEVICE AND CRYSTAL
JP4788029B2 (ja) * 2000-08-31 2011-10-05 信越半導体株式会社 半導体単結晶の製造装置及びそれを用いた半導体単結晶の製造方法
JP4432458B2 (ja) * 2003-10-30 2010-03-17 信越半導体株式会社 単結晶の製造方法
JP4582149B2 (ja) 2008-01-10 2010-11-17 信越半導体株式会社 単結晶製造装置
EP2246867B1 (en) 2009-04-29 2013-12-25 ABB Technology AG A support bracket
JP5402404B2 (ja) * 2009-08-28 2014-01-29 新日鐵住金株式会社 差厚金属板及びその製造方法
JP5733245B2 (ja) * 2012-03-16 2015-06-10 信越半導体株式会社 シリコン単結晶ウェーハの製造方法
JP5880353B2 (ja) * 2012-08-28 2016-03-09 信越半導体株式会社 シリコン単結晶の育成方法
EP3731261A4 (en) * 2017-12-22 2021-08-25 Nissan Chemical Corporation POLISHING COMPOSITION INTENDED FOR USE IN THE REMOVAL OF SURFACE IN THE PERIPHERY OF A LASER BRAND
JP6614380B1 (ja) * 2019-03-20 2019-12-04 信越半導体株式会社 単結晶製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020152612A (ja) 2020-09-24
CN113574213A (zh) 2021-10-29
WO2020188947A1 (ja) 2020-09-24
DE112019006883T5 (de) 2021-11-04
US11821104B2 (en) 2023-11-21
KR20210134667A (ko) 2021-11-10
US20220136130A1 (en) 2022-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6614380B1 (ja) 単結晶製造装置
JP4582149B2 (ja) 単結晶製造装置
JP3944879B2 (ja) 単結晶インゴットの製造装置
JPH1192272A (ja) 単結晶製造装置および単結晶の製造方法
US9738989B2 (en) Single-crystal manufacturing apparatus and method of manufacturing single crystal
KR101105950B1 (ko) 단결정 잉곳 제조장치
JP2004511410A (ja) 結晶引上装置用のヒートシールドアセンブリ
TW470787B (en) Apparatus for fabricating single-crystal silicon
JP5092940B2 (ja) 単結晶製造装置及び単結晶の製造方法
JP2002104899A (ja) 結晶成長方法
JP2003002782A (ja) シリコン単結晶引上方法およびその装置
US20230015551A1 (en) Apparatus for manufacturing single crystal
JP2006044962A (ja) シリコン単結晶引上装置
JP7428149B2 (ja) 単結晶製造装置
WO2022123957A1 (ja) 単結晶製造装置
JP3241518B2 (ja) シリコン単結晶の製造装置
JP2755452B2 (ja) シリコン単結晶の引上げ装置
JP3253742B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法および製造装置
JP2940461B2 (ja) 単結晶の成長方法
WO2021162046A1 (ja) シリコン単結晶の製造方法
JP4341379B2 (ja) 単結晶の製造方法
WO2022249614A1 (ja) 単結晶製造装置
JPH06298589A (ja) シリコン単結晶の製造方法およびこれに用いられる冷却筒
JP2006131440A (ja) 単結晶引上げ装置のシードチャック
JP2003267795A (ja) シリコン単結晶引上装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190816

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190816

TRDD Decision of grant or rejection written
A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20190926

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191008

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191021

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6614380

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250