WO2000047403A1 - Minces films organiques, procede de production de ceux-ci et equipement prevu a cet effet; couches d'alignement pour cristaux liquides, procede de production de ceux-ci et equipement prevu a cet effet;et ecrans d'affichage a cristaux liquides fabriques a l'aide de ces couches d'alignement et procede de production de ceux-c - Google Patents

Minces films organiques, procede de production de ceux-ci et equipement prevu a cet effet; couches d'alignement pour cristaux liquides, procede de production de ceux-ci et equipement prevu a cet effet;et ecrans d'affichage a cristaux liquides fabriques a l'aide de ces couches d'alignement et procede de production de ceux-c Download PDF

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WO2000047403A1 PCT/JP2000/000776 JP0000776W WO0047403A1 WO 2000047403 A1 WO2000047403 A1 WO 2000047403A1 JP 0000776 W JP0000776 W JP 0000776W WO 0047403 A1 WO0047403 A1 WO 0047403A1
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liquid crystal
substrate
molecules
film
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PCT/JP2000/000776
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Tadashi Ootake
Kazufumi Ogawa
Takaiki Nomura
Takako Tekebe
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G02F1/133719Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films with coupling agent molecules, e.g. silane

Definitions

  • the present invention relates to an organic thin film formed on the surface of a substrate such as glass and ceramics, a method for producing the same, and a production apparatus therefor. Also, a liquid crystal alignment film having alignment capability for liquid crystal, a method of manufacturing the same, and a manufacturing apparatus therefor; and a liquid crystal display device including the liquid crystal alignment film, and a method of manufacturing the same. It is related to.
  • a method for producing an organic thin film for example, a method of chemically adsorbing a chlorosilane-based surfactant or the like to a substrate surface is known.
  • a method of chemically adsorbing a chlorosilane-based surfactant or the like to a substrate surface is known.
  • Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 3-71913 Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 3-230156
  • Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 4-330925 Japanese Patent Nos. 2,028,662, 2,598,867 and 2,638,446.
  • a film-forming molecule is placed on a substrate surface. After the adsorption and immobilization, a cleaning process is performed to remove unadsorbed molecules.However, the proper degree of cleaning in this cleaning process results in an ultra-thin film. It becomes possible to form a monomolecular film.
  • black mouth homes are known to be highly toxic. It is also known as a cause of destruction of the ozone layer, and is a substance with a very large environmental load.
  • the group of the present invention has been made to solve such problems of the prior art, and the first goal is to remove with a cleaning agent other than a chlorinated solvent.
  • a cleaning agent other than a chlorinated solvent is there .
  • the group of the present invention has been made to solve such problems of the prior art, and the second purpose is to use cleaning agents other than chlorinated solvents.
  • To provide a method for producing a liquid crystal orientation film including a removal step of removing the liquid crystal orientation film, a liquid crystal orientation film formed by the method, and a production apparatus used in the method. It is here.
  • a third object is to provide a liquid crystal display device provided with the liquid crystal directing film, and a method for manufacturing the same.
  • the organic thin film according to the present invention is an organic thin film composed of a group of molecules bonded on a substrate, and the organic thin film contains active hydrogen. After a group of molecules having a functional group exhibiting reactivity to the provided functional group is brought into contact with the base material surface and bonded thereto, it is not bonded to the base material.
  • the group of molecules is at least selected from the group consisting of ketones, alkyl alcohols, and alkoxy alcohols. It is characterized by being obtained by removal with a detergent containing one kind.
  • the organic thin film having the above-described configuration is composed of molecules arranged along the substrate surface with one end bonded to the substrate surface and the other end protruding in a direction away from the substrate surface. Become .
  • the organic thin film from which molecules that are not bonded to the substrate (hereinafter, sometimes referred to as unfixed molecules) are removed by the above-mentioned cleaning agent is a group of molecules. The film is not disturbed on the substrate surface, and a uniform film structure can be obtained.
  • the functional group exhibiting reactivity with the functional group having active hydrogen is one kind of functional group selected from the functional group group represented by the following general formula (1). be able to .
  • A represents one kind of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium and zirconium, and X represents nitrogen. It represents one type of functional group selected from gen, alkoxy group, and isocyanate group.
  • the term “on the substrate” is not limited to the case where the above-mentioned molecule group is directly fixed to the surface of the substrate, but is fixed via another substance layer. This also includes the case.
  • a method for producing an organic thin film according to the present invention comprises a method of preparing a molecular group having a functional group that is reactive with a functional group having active hydrogen. By being brought into contact with the base material, it is bound on the base material and A film forming step of forming a film composed of a group of particles, and the above-mentioned molecules which are not bonded to the above-mentioned base material are converted into ketones, alkylene glycols and alcohols. And a removing step of removing with at least one kind of cleaning agent selected from the group consisting of the callals.
  • the above molecule can have one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1).
  • A represents one type of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium, and zirconium, and X represents no, b, and b. It represents one type of functional group selected from gen, alkoxy group, and isocyanate group.
  • a group of molecules having one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the above general formula (1) is fixed to the surface of the substrate to form a film.
  • molecules that are not bonded to the substrate remain on the surface of the coating.
  • These unfixed molecules are selected from the group consisting of ketones, alkylene glycols and alkoxy alcohols during the removal step. Both of them can be easily removed by using a cleaning agent containing one kind. This is due to the fact that ketones and the like have excellent solubility in unfixed molecules.
  • an organic thin film comprising at least the above-mentioned molecule group immobilized on the substrate is formed on the surface of the substrate, and an organic thin film having a similar thickness is formed. Production becomes possible.
  • the ketones include, for example, acetate, methylethylketone, methylketone, methylisobutylketone and acetylacetone. At least one compound selected from the group consisting of tones can be used. These compounds have excellent solubility in a molecule group having one kind of functional S selected from the functional groups represented by the general formula (1). Therefore, according to the above-mentioned method using the above-mentioned compounds having excellent detergency, the most appropriate ketones are selected as necessary in consideration of the types of the above-mentioned molecules and the washing conditions. By doing so, it is possible to form an organic thin film having a uniform thickness from which unfixed molecules have been removed.
  • Polyethylene glycol may be used as the above-mentioned alkyl alcohol.
  • the polyethylene glycol has a solubility in a compound having one kind of functional group selected from the functional groups represented by the general formula (1). Are better . Therefore, according to the above-mentioned method using a polyethylene glycol having excellent detergency, the removal of the unfixed molecules is further facilitated, and the unfixed molecules are removed. The removed organic thin film can be formed.
  • the molecular weight of the above poly-ethylene glycol can be in the range of 100 or more and 300 or less.
  • low-molecular-weight polyethylene glycol is used as a detergent component, so that the detergent has low viscosity and is easy to handle. be able to .
  • a cleaning agent which does not contain a chlorine-based solvent can be used.
  • a small amount selected from the group consisting of ketones, alkylene glycols, and alkoxy alcohols is a type of cleaning agent, and can reduce the burden on the environment.
  • this cleaning agent exerts the same level of cleaning action as that of a conventional cleaning agent made of a chlorine-based solvent on the object to be cleaned, that is, on unfixed molecules.
  • a detergent removing step of removing the detergent adhered to the base material can be performed.
  • the cleaning film is formed as a functional film having a function such as water repellency or hydrophilicity, deterioration of various functions can be prevented by performing the above-described cleaning agent removing step.
  • the cleaning agent removing step includes a rinsing step of rinsing the cleaning agent attached to the base material with water and a drying step of drying the water attached to the base material. It may be.
  • the above-mentioned cleaning agent adhering to the film formed on the surface of the base material can be removed by washing with water.
  • a condensation reaction is caused between the AX group remaining in the coating and water to form the coating.
  • Hydroxy groups can be introduced into any molecule.
  • drying the substrate in the drying step water adhering to the substrate can be removed.
  • this drying step there is also a surface that promotes a dehydration reaction between molecules bonded to the substrate surface, and as a result, a crosslinked structure can be formed.
  • a base material having a functional group having active hydrogen on its surface can be used.
  • the molecule is a functional group represented by the general formula (1).
  • the HX molecule has a hydrogen atom
  • the HX molecule is desorbed between the functional group and the functional group having active hydrogen on the surface of the base material to cause a condensation reaction. And can be done.
  • the molecule having the functional group represented by the general formula (1) can be bonded to the surface of the substrate.
  • the film forming step and the removing step can be performed in a dry atmosphere.
  • a monomolecular film is formed on the surface of the base material, and a monomolecular film-like molecular layer is further formed on the monomolecular film.
  • An accumulated film is formed in many layers. This is because it is in a dry atmosphere, so that the moisture in the atmosphere and the functional group represented by the above general formula (1) are prevented from reacting and cross-linking.
  • the film thus formed is also subjected to a removing step in a dry atmosphere, so that all of the above-mentioned accumulated films or some of the molecules of the accumulated films are removed. The layer can be easily removed.
  • a group of molecules having one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the general formula (1) is fixed on the surface of the base material so as to form a monomolecular film. It is possible to form such a defined organic thin film.
  • a monomolecular organic thin film can be formed. Therefore, the molecular design of a molecule having a functional group represented by the general formula (1) can be controlled. This makes it easy to control the film thickness at the molecular level It becomes. As a result, an extremely thin organic thin film can be manufactured with a desired film thickness.
  • an apparatus for producing an organic thin film according to the present invention employs a molecular group having a functional group that is reactive to a functional group having active hydrogen.
  • the molecule can have one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1).
  • A represents one type of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium and zirconium, and X represents nitrogen.
  • X represents one type of functional group selected from gen, alkoxy group, and lithocyanate group.
  • Liquid crystal alignment film [Liquid crystal alignment film, method for manufacturing the same, and apparatus for manufacturing the same] (1) Liquid crystal alignment film
  • a liquid crystal alignment film according to the present invention is composed of a group of molecules bonded on a substrate, and aligns the liquid crystal molecules in a specific direction. Therefore, the liquid crystal orientation film contacts a group of molecules having a functional group that is reactive to a functional group having active hydrogen with the substrate surface. After binding, the molecules that are not bound to the substrate are removed from ketones, alkylene glycols and alcoholic alcohols. It is characterized in that it is obtained by removing with at least one kind of cleaning agent selected from a group.
  • the liquid crystal alignment film having the above-described configuration is composed of a group of molecules arranged along the substrate surface with one end bonded to the substrate side and the other end protruding in a direction away from the substrate. Since the thin film is cleaned using the above-mentioned cleaning agent, unfixed molecules that are not bonded to the substrate are removed, and the film has a uniform thickness.
  • liquid crystal alignment film having the above structure is a monomolecular film
  • nearby liquid crystal molecules have a certain tilt and / or alignment direction with respect to the substrate due to the interaction with the film constituent molecules. It is regulated.
  • a well-ordered membrane structure in which individual molecules are uniformly arranged has an excellent directing ability, and specifically, does not disturb the arrangement state. It becomes possible to orient liquid crystal molecules.
  • on the substrate is not limited to the case where the molecules are directly bonded to the substrate surface, but the case where the molecules are bonded via another material layer such as an electrode. It is also meant to include.
  • the functional group exhibiting reactivity with the functional group having active hydrogen is one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1). It can be done.
  • A represents one kind of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium and zirconium, and X represents It represents one type of functional group selected from the group consisting of a logene, an alkoxy group and an isocyanate group.
  • a method for producing a liquid crystal orientation film according to the present invention comprises a molecule group having a functional group showing a reactivity with a functional group having active hydrogen. Contacting the base material with the base material to form a coating made of the molecule group by bonding the base material to the base material, and not bonding the base material to the base material.
  • the molecule includes at least one selected from the group consisting of ketones, alkyl alcohols, and alkoxy alcohols. And a removing step for removing with a detergent.
  • the molecule can have one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1).
  • A represents one kind of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium, and zirconia, and X represents nitrogen. It represents one type of functional group selected from gen, alkoxy group, and isocyanate group.
  • the functional group represented by the above general formula (1) is used.
  • a group of molecules having one selected functional group is fixed to a substrate surface to form a film
  • unfixed molecules remain on the surface of the film. Since ketones and the like exhibit excellent solubility for these unfixed molecules, they can be easily removed by washing with the above-mentioned detergent. it can . Therefore, it is possible to form at least a liquid crystal alignment film comprising the above-mentioned molecule group fixed on the substrate surface while suppressing the load on the environment on the substrate surface. . Further, the liquid crystal alignment film formed by the above method can have a uniform film thickness and can be fixed without disturbing the molecular groups to form a uniform film structure. .
  • an apparatus for producing a liquid crystal alignment film comprises a substrate comprising a group of molecules having a functional group having a reactivity with a functional group having active hydrogen.
  • the molecule is selected from a group of functional groups represented by the following general formula (1)
  • is selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium and zirconium1 Represents a kind of atom, and X represents one kind of functional group selected from a nitrogen, an alkoxy group, and an isocyanate group.
  • a liquid crystal display device includes a liquid crystal display film provided with a liquid crystal orientation film for orienting liquid crystal molecules on a substrate in a predetermined direction. Therefore, the liquid crystal orientation film is a thin film in which a group of molecules having a functional group that is reactive to a functional group having active hydrogen is bonded to the substrate. And after bringing the group consisting of the above molecules into contact with the above-mentioned substrate and binding them, the above-mentioned molecules that are not bound to the above-mentioned substrate are replaced with ketones or alkylenes. It is obtained by removing with a cleaning agent containing at least one selected from the group consisting of alcohols and alcoholic alcohols. This is the feature.
  • the liquid crystal alignment film included in the liquid crystal display device having the above configuration is a thin film that has been cleaned using the above-described cleaning agent, molecules that are not bonded to the substrate are removed, and the liquid crystal alignment film is uniformly formed. It has an appropriate film thickness. Further, since the liquid crystal alignment film is not a thin film washed with a conventional cleaning agent made of a chlorine-based solvent, it has a film structure in which the molecular groups are uniformly arranged and arranged. . Thus, the liquid crystal molecules can be aligned without disturbing the alignment state. In other words, by providing the liquid crystal alignment film as described above, the liquid crystal display device having the above-described configuration has excellent display quality without alignment defects of the liquid crystal being visually recognized. And can be done.
  • a method for manufacturing a liquid crystal display device comprises a group of molecules bonded on a substrate, and orients the liquid crystal molecules in a specific direction.
  • a method of manufacturing a liquid crystal display device provided with a liquid crystal alignment film a molecule group having a functional group showing a reactivity with a functional group having active hydrogen is brought into contact with the substrate. And binds to the substrate surface to form the molecule group.
  • a film forming step of forming a film comprising the above, and the above molecules which are not bonded to the above-mentioned base material are treated with ketones, alkylene glycols and alkoxyls.
  • a liquid crystal display device having a liquid crystal alignment film having a uniform film thickness and excellent alignment ability can be manufactured.
  • the use of the above-mentioned cleaning agents as a substitute for chlorine-based cleaning agents enables the manufacture of liquid crystal display devices with excellent display quality while suppressing the burden on the environment. It becomes possible. Still other objects, features and advantages of the present invention will be more fully understood from the following description. Also, the advantages of the present invention will become apparent in the following description with reference to the accompanying drawings.
  • FIG. 1 is a flowchart showing a process of manufacturing an organic thin film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart for explaining a first cleaning agent removing method related to a cleaning agent removing step in the above-mentioned organic thin film manufacturing process.
  • FIG. 3 is a flowchart for explaining a second cleaning agent removing method relating to a cleaning agent removing step in the above-mentioned organic thin film manufacturing process.
  • FIG. 4 is an enlarged view of a main part schematically showing a state in which the organic thin film is adsorbed on a substrate.
  • Figure 5 is a cross-sectional view schematically showing the state in which the organic thin film is adsorbed on a substrate.
  • Fig. 5 (a) shows the state in which the adsorbed molecules are adsorbed in layers
  • Fig. 5 (b) shows the state in which the adsorbed molecules are adsorbed on the substrate while they are entangled.
  • FIG. 5 (a) shows the state in which the adsorbed molecules are adsorbed in layers
  • Fig. 5 (b) shows the state in which the adsorbed molecules are adsorbed on the substrate while they are entangled.
  • FIG. 6 is an enlarged view of a main part schematically showing a state in which the organic thin film is adsorbed on a substrate
  • FIG. FIG. 6 (b) is a view showing a state where the adsorbed molecules are cross-linked.
  • FIG. 7 is an explanatory view schematically showing an organic thin film production apparatus according to the present invention, and FIG. 7 (a) shows a case where a film forming means and a removing means are closed systems.
  • FIG. 7 (b) shows the case of an independent system, and
  • FIG. 7 (c) schematically shows the cleaning agent removing means.
  • FIG. 8 is a perspective view schematically showing the removing means according to the present invention.
  • FIG. 8 (a) shows a case of a batch processing type
  • FIG. 8 (b) shows a flow chart. Indicates the case of the processing expression. .
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing the liquid crystal display device according to the present invention.
  • FIG. 10 is an enlarged view of a principal part schematically showing the monomolecular film according to Example 11 of the present invention.
  • FIG. 11 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Example 11-11.
  • FIG. 12 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Example 11-11.
  • FIG. 13 is an enlarged view of a main part schematically showing a monomolecular film according to Examples 13 to 13 of the present invention.
  • FIG. 14 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Examples 13 to 13 above.
  • Figure 15 shows the FT-IR spectrum of the monolayer of Comparative Example 1-2. This is a diagram.
  • FIG. 16 is a spectrum diagram of FT—IR of the monomolecular film according to Comparative Example 14;
  • FIG. 17 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Example 115.
  • FIG. 18 is an enlarged view of a principal part schematically showing a monomolecular film according to Example 2-1 of the present invention.
  • FIG. 19 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Example 2-1.
  • FIG. 20 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Example 2-1.
  • FIG. 21 is an enlarged view of a main part schematically showing a monomolecular film according to Example 2-2 of the present invention.
  • FIG. 22 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Example 2-2 above.
  • FIG. 23 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Example 2-2.
  • FIG. 24 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Example 2-3 of the present invention.
  • FIG. 25 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Examples 2-3.
  • FIG. 26 is a spectrum diagram of FT-IR of the monomolecular film according to Comparative Examples 2-4.
  • the method for producing an organic thin film according to the present invention comprises contacting a substrate with a group of molecules having a functional group that is reactive to a functional group having active hydrogen.
  • a removing step of removing with a cleaning agent containing at least one selected from the group consisting of glycols and alcoholic alcohols. is there .
  • the above molecule can be a molecule having one kind of functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1).
  • A represents one kind of atom selected from the group consisting of silicon, germanium, soot, titanium, and zirconia, and X represents nitrogen. It represents one type of functional group selected from the group consisting of gen, an alkoxy group and an isocyanate group.
  • halogen examples include F, C1, Br and I, and C1 is preferred from the viewpoint of reactivity with the substrate.
  • the functional group listed below may be linked to the functional group represented by the general formula (1). Is formed.
  • the functional group linked to the functional group represented by the general formula (1) is not limited to those described above.
  • the preparation of the adsorption solution is performed in a dry atmosphere having a relative humidity of 35% or less, for example, in dry air, dry nitrogen, or dry helium. It is preferable to be told.
  • a group of molecules having a functional group represented by the general formula (1) is
  • a thin film 3 as shown in FIG. 5 (a) is formed on the surface of the substrate 1.
  • the adsorbed molecules adsorbed on the surface of the substrate 1 and the unadsorbed molecules not adsorbed on the substrate 1 are bonded to each other, and the unadsorbed molecules are further combined with other molecules.
  • a chain is formed, for example, by the unadsorbed molecules being bonded, resulting in a polymer-like structure. The longer the chain extends upward (to the atmosphere) from the surface of the substrate 1, the more it bends, and the three-dimensionally entangled with the other bent chains.
  • the thin film 3 is formed in a state where the thin films 3 are joined.
  • the thin film 3 having such a film structure is formed for the following reason. That is, unadsorbed molecules that do not adsorb to the surface of the substrate 1 react with moisture in the atmosphere, and HX molecules are desorbed. As a result, an OH group is introduced into the unadsorbed molecule. Then, the OH group cross-links by reacting with the functional group (adsorption site) represented by the general formula (1) in the other unadsorbed molecule. As a result, a thin film having the structure as described above is formed.
  • the thin film shown in the figure has a thickness such that a monomolecular film composed of adsorbed molecules is stacked in three layers, and in this case, it is referred to in this specification. Is referred to as the trimolecular layer for convenience.
  • a monomolecular film 2 is formed on the surface of the substrate 1 as shown in FIG. 5 (b).
  • a thin film having a structure in which the unadsorbed molecules 4 adhere to the surface of the monomolecular film 2 is formed. Since this is in a dry atmosphere, the adsorption site in the non-adsorbed molecule 4 does not react with moisture and adheres in a state having the functional group represented by the general formula (1). It depends on what you are doing.
  • the method for bringing the molecule having the functional group represented by the general formula (1) into contact with the surface of the base material 1 is not particularly limited.
  • a method in which the substrate 1 is immersed in an adsorption solution prepared in advance, a method in which the adsorption solution is applied to the substrate 1 and the like can be mentioned.
  • the functional group having active hydrogen present on the surface of the base material 1 may be:
  • the active hydrogen of the above functional group may be It may be a functional group substituted with a alkaline metal or an alkaline earth metal.
  • the surface of the substrate 1 is modified by introducing a compound oxidizing agent such as a manganic acid solution or the like to introduce the above-mentioned functional group, or the number thereof is increased. I prefer to do it.
  • the removal process is also performed using a cleaning agent containing one type (S3).
  • the main object to be washed in this step is a molecule having a functional group represented by the general formula (1), which remains without being fixed to the surface of the substrate 1 by a chemical bond. It is a group of unadsorbed molecules. More specifically, in FIG. 5 (a), not the base material 1 but the constituent molecules in the network-like molecular layer 3 formed on the base material 1. The unadsorbed molecules bound to all the adsorbed molecules are to be washed. In addition, in FIG.
  • the accumulated film 5 composed of the unadsorbed molecules 4 attached to the surface of the monomolecular film 2 is to be cleaned.
  • a monomolecular organic thin film having a uniform film thickness can be formed. Wear .
  • the ketones as cleaning components contained in the above-mentioned cleaning agent have excellent solubility in the molecule having a functional group represented by the above general formula (1).
  • Specific examples of the ketones include, for example, acetone, methylethylketone, methylketone, methylisobutylketone, and acetylene. Aceton and the like.
  • Alkylene glycols as a cleaning component contained in the above-mentioned cleaning agents are specifically, for example, ethylene glycols. , Propylene glycols, butylene glycols and the like. Of these, ethyl alcohol is the most suitable.
  • the above ethylene glycols are colorless with little odor and are easily miscible with many kinds of organic solvents, water, surfactants and the like. This is because that . Therefore, it is convenient to design the cleaning agent.
  • Specific examples of the above-mentioned ethylene glycols include, for example, ethylene glycol monoethyl alcohol, polyethylene glycol, and the like.
  • the above-mentioned alkyl alcohols include polyethylene glycols, polypropylene glycols, and polybutyl alcohols. It may be a polymer such as a English language.
  • Specific examples of the above-mentioned polyethylene glycols include, for example, polyethylene glycol, polyethylene glycol, etc. Tertiary, Polyethylene glycol monoethyl ether, Polyethylene glycol monoethyl acetate, Polyethylene glycol monoethyl acetate Acetate, Polyethylene glycol monomethyl ether, Polyethylene glycol monomethyl ether acetate, Polyethylene glycol Mono-n-butyl ether, polyethylene glycol monophenyl ether, and the like can be suitably used.
  • the above-mentioned alkyl alcohol is a polymer
  • its molecular weight is preferably about 2,000 or less, and it is preferably from 100 to 30. More preferably it is in the range of 0. If the molecular weight is larger than 2,000, the viscosity increases and the handling becomes too poor. However, minutes When using a polymer with a molecular weight of about 300 or more, it is best to use a solution that is dissolved in water, alcohol, etc. as a cleaning solution. is there .
  • polyethylene glycol As the polymer and want to dissolve it in water, you can use the polyethylene glycol
  • concentration is preferably about 10 to 50 wt%, and when it is dissolved in alcohol, it is about 10 to 50 wt%. Something is preferred.
  • the above-mentioned alcoholic alcohols are not particularly limited, and specifically, for example, methoxy alcoholic alcohols, Ethoxy and evening knoll.
  • the cleaning agent according to the present invention uses any one of the above ketones, alkyl alcohols or alkoxy alcohols alone. It may be a non-aqueous cleaning agent.
  • the above removal step may be performed in a dry atmosphere (relative humidity of 35% or less).
  • a dry atmosphere relative humidity of 35% or less.
  • the above-mentioned removing step is performed in a dry atmosphere, it is preferable to use a cleaning agent having a low water content.
  • the water content is less than 1.0%, there is often no practical problem, but it is preferable that the water content is less than about 0.1%, and more preferably. More preferably, it is less than about 0.01%. If the water content exceeds the above numerical range, the AX group in the unadsorbed molecule or the adsorbed molecule reacts with the water contained in the detergent to form a crosslinked structure. Also cannot form a monomolecular film.
  • Specific cleaning methods performed in the above-mentioned removing step include, for example, a method in which the substrate 1 is gently immersed in a cleaning tank filled with a cleaning agent, and a method in which the cleaning is performed.
  • the cleaning conditions in the above-mentioned removal step are not particularly limited, but include the degree of adhesion of unadsorbed molecules to the object to be cleaned, the material and shape of the object to be cleaned, and It may be set as needed, taking into account the effect on the post-process. Furthermore, by changing the concentration of the detergent, the cleaning time, the number of times of cleaning, etc., for example, a film thickness equivalent to not only a monomolecular organic film but also two molecular layers is obtained. It is possible to control the film thickness, for example, to form an organic thin film having a thickness. That is, the film thickness is controlled by controlling the degree of the remaining unadsorbed molecules.
  • washing tanks containing a cleaning agent of a predetermined concentration are provided, and each washing tank is washed for a predetermined time to increase the degree of washing, so that non-adsorption is achieved. Almost all of the molecules are removed, and a monomolecular organic thin film can be obtained.
  • the washing tank is reduced to about one tank and the washing time is shorter than the above-mentioned predetermined time and only light washing is performed, many unadsorbed molecules remain. .
  • the unadsorbed molecules react with the moisture in the air and are fixed, and for example, a film having a film thickness equivalent to several molecular layers such as two molecular layers. An organic thin film is formed.
  • the molecular design of the adsorbed molecules to be adsorbed on the substrate 1 is changed to improve the accuracy. Good control is also possible.
  • This cleaning agent removal process is mainly divided into a first cleaning agent removal method in which the cleaning agent is washed away with a rinsing agent, and a second cleaning agent removal method in which the cleaning agent is dried and evaporated. It is.
  • the first cleaning agent removal method is based on the group consisting of ketones, alkyl glycols and alcohols in the cleaning agent. It can be adopted if at least one species selected is included.
  • the second cleaning agent removal method can be mainly used when the cleaning agent contains ketones.
  • the first cleaning agent removing method includes a rinsing step (S5) of rinsing the cleaning agent with the rinsing agent, and removing the rinsing agent by evaporating the rinsing agent.
  • the process consists of a rinsing agent drying step (S6) (see Fig. 2).
  • This first cleaning agent removal method uses a relatively boiling point as a cleaning agent from the viewpoint of safety or the like when the molecular group in which the AX group remains is adsorbed on the surface of the substrate 1. It is preferable to use this method when using a solvent with high viscosity.
  • the residual washing agent is removed, and at the same time, the elimination reaction of HX occurs between the unreacted AX group and water to introduce OH groups into the adsorbed molecules.
  • the rinsing process is performed for the purpose of (see Fig. 6 (a)). Therefore, it is preferable to use water as the rinsing agent.
  • the OH groups undergo a dehydration reaction to form an organic thin film having a crosslinked structure shown in FIG. 6 (b). You can do it.
  • the high-boiling solvent (cleaning agent) adhering to the object to be cleaned is difficult to dry and evaporate at room temperature.
  • the high-boiling solvent is replaced with a low-boiling rinse agent.
  • the main purpose is to give As a low-boiling rinsing agent to be used in this case, it is possible to use, for example, acetate or alcohol.
  • the rinsing effect can be improved by applying a mechanical force such as ultrasonic waves.
  • the above-mentioned second cleaning agent removal method is based on evaporating the cleaning agent. It consists of a cleaning agent drying step (S7) for removing, a contacting step (S8) for bringing the substrate 1 into contact with moisture, and a drying step (S9) for drying moisture (S9). See Figure 3).
  • This second cleaning agent removal method uses a low-boiling-point cleaning agent that evaporates at normal temperature, such as, for example, acetonitrile-methylketone. It is preferable to do this when The contacting step is performed in order to introduce OH groups into the adsorbed molecules by reacting the AX groups remaining on the molecules adsorbed on the surface of the substrate 1 with water and the adsorbed molecules. .
  • a method of bringing into contact with moisture for example, a method of leaving the material in the air and reacting with the moisture in the air or directly reacting with water is adopted.
  • a drying step (S9) the OH groups can be dehydrated to form an organic thin film having a crosslinked structure.
  • a low-boiling-point cleaning method in which the adsorbed molecules adsorbed on the substrate 1 do not have AX groups and evaporate at room temperature. If a cleaning agent is used, it is only necessary to dry the cleaning agent after the removal step.
  • the substrate 1 is made of glass, metal, metal oxide, ceramics, plastic, wood, stone, fiber, paper, polymer resin, or the like. Materials consisting of any one of the materials selected from the group can be applied. Further, the surface of the substrate 1 may be coated with a paint or the like. Substrates made of these materials have similar physical properties in that a functional group having active hydrogen is present on the surface. In addition, when a plastic or the like is particularly used as the material of the base material 1, depending on the type of the plastic, the base material 1 may be modified or dissolved. It may be possible to cause damage. Therefore, it is necessary to use the cleaning agent after confirming that the cleaning agent does not exert the above-mentioned effects on the base material 1 made of plastic. Hereinafter, specific examples of uses to which the present invention can be applied are listed. The present invention is not limited to them.
  • Knits kitchen knives, scissors, knife, katsu yuichi, chisel, razor, glue, saw, canna, chisel, chisel, cone, a thousand pieces, knife , Drill Blade, Mixer Blade, Juicer Blade, Flour Miller Blade, Lawn Mower Blade, Punch, Push-Off, Hot-Kiss Blade, Can Opener Blade or surgical tool.
  • needles for needle surgery, sewing needles, sewing needles, foot needles, tatami needles, injection needles, surgical needles, safety pins, push pins, etc.
  • Ceramic products ceramics, glass, ceramics, or products containing porcelain.
  • sanitary ware eg, toilet bowl, wash basin, bathtub, etc.
  • tableware eg, bowls, dishes, bowls, teacups, cups, bottles, coffee boilers
  • Containers, pots, mortars, cups, etc. vases (eg, basins, flowerpots, single-wheel inserts, etc.), water tanks (eg, aquaculture tanks, viewing tanks, etc.), chemical laboratory equipment (For example, beakers, reaction vessels, test tubes, flasks, schales, cooling tubes, stirring rods, stirrers, mortars, mortars, bottles, syringes, etc.)
  • mirrors Hand mirrors, cosmetic accessory mirrors, mirrors, bathroom mirrors, bathroom mirrors, car mirrors (for example, knock mirrors, side mirrors, etc.) Etc.), traffic mirrors (eg, car mirrors, reflectors, etc.), mirrors for half mirrors, mirrors for short winds, and department store Mirror etc.
  • molding members press molding dies, ⁇ molding dies, injection molding dies, transfer molding dies, vacuum molding dies, blowing Injection molding dies, extrusion molding dies, inflation molding die, fiber spinning die, calendar processing rolls, etc.
  • Examples of food molds cake baking molds, cooky baking molds, pan baking molds, chocolate baking molds, jelly molding molds, ice Cream molds, open dishes, ice trays, etc.
  • cooking utensils pots, kettles, kettles, pots, bowls, fly nonons, hotplates, grilled grills, oil drainers, and evening grills Plates, pots for bread baking machines, pots for rice cake making machines, rice cookers, ladles, whisks, etc.
  • resins examples include polyolefins such as polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, vinyl chloride polyvinylidene, and polyamide , Polyimide, Polyamide Imide, Polyester, Aramid, Polystyrene, Polyphon, Polyethersulfone , Polyphenylene sulfide, phenolic resin, franc resin, urea resin, epoxy resin, polyurethane, silicone resin, ABS resin, methacrylic acid resin, methacrylic acid ester resin, acrylic acid resin, acrylic acid ester resin, polyacetyl resin, poly Phenyl oxide, etc.
  • polyolefins such as polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, vinyl chloride polyvinylidene, and polyamide , Polyimide, Polyamide Imide, Polyester, Aramid, Polystyrene, Polyphon, Polyethersulfone , Polyphenylene sulfide, phenolic resin, franc resin, urea resin,
  • Dishwasher shaving machine, antenna, fan wings, dial, palmer dryer, etc.
  • ABS resin Lampcano, 'I, instrument-inner internal components, photo-noise protector
  • FRP fiber reinforced resin
  • Phenolic resin brake
  • roofing materials include kiln tiles, flat tiles, and tin (zinc plating iron plate).
  • Wood including processed wood
  • mortar including processed wood
  • concrete mortar
  • ceramic sizing including processed wood
  • metal sizing lingers, stones
  • Metal materials such as chip materials and aluminum.
  • Interior materials include wood (including processed wood), aluminum and other metals and materials, plastics, paper, and textiles.
  • Examples of stone materials Kako ⁇ rock, marble, granite, etc.
  • thermos bottles such as thermos bottles, vacuum equipment, insulators for power transmission, and high withstand voltage insulators with high water-repellent, oil-repellent and antifouling effects such as spark plugs.
  • the present inventors disclosed in Japanese Patent No. 2,598,867 a chemisorption film having an improved film density and a method for producing the same. ing .
  • the method of manufacturing a chemisorbed membrane disclosed in this publication is based on a chemical reaction method in which an adsorption reaction and a washing for removing unreacted adsorbed molecules are alternately repeated.
  • An adsorbent is immobilized on a substrate and a chemically adsorbed film to form a chemically adsorbed film having a high film density.
  • a non-aqueous solution is used for cleaning, the formed chemical adsorption film differs from the organic thin film of the present invention in the following points in terms of the film structure.
  • the chemically adsorbed film formed by the above-mentioned method can be used for the first time even if the surface of the substrate has no active hydrogen-containing functional groups, the chemically adsorbed film is first adsorbed on the substrate. Since a chemisorbed graphitic molecule is bonded to the stem molecule, the distance between the constituent molecules of the chemisorbed membrane is shortened, resulting in a structure with a high film density. However, the chemisorbed graphitic molecule still has a hydroxyl group that has not been used for bonding with the chemisorbent stem molecule or the like. Many hydroxyl groups are left inside.
  • the film density of the organic thin film of the present invention is lower than that of the chemisorbed film because most of the film-forming molecules are adsorbed on the surface of the substrate.
  • a drying step is performed in the manufacturing process, and the hydroxyl groups present in the film are cross-linked by a dehydration reaction, so that they are compared with the above-mentioned chemical adsorption film. The probability of the presence of hydroxyl groups is low.
  • the present invention has established a production process for an organic thin film having a film structure essentially different from that of the chemisorption film described in the above publication. It is.
  • the apparatus for producing an organic thin film according to the present invention is provided with a film forming means and a removing means (see FIG. 7). Further, between the film forming means and the removing means, it is also possible to provide a base material transfer means 52 such as a conventionally known transport device or the like, for example.
  • the film forming means applies the adsorbing solution onto a substrate, etc. It has the function of adsorbing and fixing the group of adsorbed molecules contained in the deposition solution on the substrate to form a film.
  • Specific examples of the film-forming means include a spin-type or roller-type coating device.
  • the above-described removing means is at least one selected from the group consisting of ketones, alkyl alcohols, and alkoxy alcohols. It has the function of cleaning the object to be cleaned with the contained cleaning agent.
  • what is to be cleaned is unadsorbed adsorbed molecules (unfixed molecules) remaining on the substrate after being adhered.
  • the film forming means and the removing means may be included in the same closed system, or may be provided independently of each other.
  • the film forming means and the removing means are of the same closed system as in the above configuration, it is possible to shut off the outside air.
  • the film formation step and the removal step can be performed in a dry atmosphere (FIG. 7 (a)).
  • the film forming means and the removing means are configured to be included in the same closed system means that, for example, the outside air shielding means 51 capable of installing the film forming means and the removing means inside the organic thin film is manufactured. This means that the device is provided in the device.
  • the outside air shielding means 51 is not particularly limited as long as it can shield outside air from the inside of the outside air shielding means 51, and is not limited to, for example, temperature and humidity.
  • An example is a controllable chamber or a processing room.
  • a convection control means capable of controlling the internal convection as well as controlling the humidity at normal temperature and normal pressure may be provided. This makes it possible to control the internal humidity and the convection state, thereby ensuring work safety. It is necessary to ensure safety when using compounds with a low molecular weight among the above ketones, alkylene glycols or alcoholic alcohols. Therefore, care must be taken because cleaning agents containing these are flammable.
  • the film forming means and the removing means can be constituted as separate and independent processing units (FIG. 7 (b)). When the film forming step and the removing step are to be performed in a dry atmosphere, the outside air shielding means is provided for each processing unit so that isolation from outside air and control of humidity and the like can be performed. May be provided.
  • the removing means may be of a no-touch type or of a flow-type.
  • Examples of the batch treatment method include an immersion method of immersing a base material as an object to be cleaned.
  • this dipping method as shown in FIG. 8 (a), specifically, as shown in FIG. 8 (a), the cleaning agent 32 is filled in the cleaning tank 31 and the base material 34 is force-set.
  • the cassette 33 is placed on the washing tank 31 and washed by immersing the cassette 33 in the washing tank 31 for a predetermined time.
  • a transport section 4.1 for transporting the base material 34 and a plurality of jetting devices 4 2 for jetting the cleaning agent are provided.
  • the spraying device 42 includes a gate-shaped main body 43 and nozzles 43 for spraying the cleaning agent in the form of mist or droplets. It has been done.
  • the nozzle 43 is provided such that the direction of spraying the cleaning agent is the same as the direction directly downward.
  • the transport section 41 is installed so as to be inside the gate-shaped main body section 43.
  • the substrates 34 placed on the transport section 41 are transported in the direction indicated by the arrow A, and the nozzles 44. Cleaning is performed by spraying the cleaning agent.
  • the above-described patch processing method and flow processing method are merely examples, and are not limited to the above-described means, but are included in the scope of the claims of the present invention. Anything having substantially the same configuration as the described technical idea and exerting the same action and effect is included in the technical scope of the present invention. Included.
  • the apparatus for producing an organic thin film according to the present invention may include a cleaning agent removing step for removing a cleaning agent attached to a base material, if necessary. It can also be installed ( Figure 7 (a) and Figure 7 (b)).
  • the cleaning agent removing means may have a structure including a rinsing means and a drying means, as shown in FIG. 7 (c).
  • the above-mentioned rinsing means is not particularly limited, and various conventionally known rinsing devices can be used.
  • the drying means is not particularly limited, and various conventionally known drying apparatuses can be used. Among them, as the drying means, a room temperature air or a hot air flow can be suitably used.
  • the type of the cleaning agent and the washing method may be used as necessary. Must be selected.
  • the organic thin film of the present invention When the organic thin film of the present invention is applied to a liquid crystal display device as a liquid crystal alignment film, the organic thin film can be manufactured by the following method. First, in the same procedure as described above, a substrate on which an electrode made of, for example, IT0 (indium tin oxide) is formed is brought into contact with the adsorption solution. To adsorb the adsorbed molecules (S2, see Fig. 1). The adsorbed molecules can be adsorbed on the IT0 surface because OH groups are present on the ITO surface, and the adsorbed molecules are reactive with functional groups having active hydrogen such as OH groups. This is because it has a functional group showing As a result, a thin film having excellent peel resistance and the like can be formed.
  • IT0 indium tin oxide
  • the IT0 surface uses excimer UV treatment.
  • a treatment such as a plasma treatment
  • the ITO surface is modified to reduce the OH group or the like, or a layer of another material (for example, a vapor-deposited S It is preferable that an i 0 layer is formed on a substrate and a liquid crystal alignment film is formed via this material layer.
  • the above-mentioned removal step it is selected from the group consisting of ketones, alkylene glycols and alcoholic alcohols. Since the cleaning is performed with a cleaning agent containing at least one kind, the adsorption state of the adsorbed molecules is hardly disturbed, and a film structure in which the adsorbed molecules are uniformly arranged and ordered is achieved. it can .
  • the cleaning agent is removed in S 4, whereby the liquid crystal orientation film according to the present invention is formed.
  • the film can be formed.
  • the liquid crystal alignment film may be subjected to an alignment treatment such as a rubbing treatment, if necessary.
  • the method of manufacturing a liquid crystal alignment film according to the present invention is capable of forming a liquid crystal alignment film having a uniform film thickness without using a chlorine-based cleaning agent on the environment. It can be formed while suppressing the amount of the compound.
  • the liquid crystal display device includes a first substrate 61, a second substrate 62 paired with the first substrate 61, and a first substrate 61 and a second substrate 62 interposed between the first substrate 61 and the second substrate 62.
  • a liquid crystal layer 6 3 Configuration On the inner surface of the first substrate 61, a thin film transistor (TFT) group 64 4... And a first electrode 65 are formed, and a liquid crystal orientation film 6 is formed on the first electrode 65. 6 is formed.
  • TFT thin film transistor
  • a color filter 67 is formed on the inner surface of the second substrate 62, and a second color filter 67 is formed on the second substrate 62 and the color filter 67. Electrodes 68 are provided. A liquid crystal alignment film 69 is formed on the second electrode 68. Further, the first substrate 61 and the second substrate 62 are bonded and adhered by a seal material 70, and the liquid crystal is sealed and held in the panel. A polarizing plate 71 is provided outside the first substrate 61, and a polarizing plate 72 is provided outside the second substrate 62.
  • the first substrate 61 and the second substrate 62 are transparent substrates made of glass, for example. Further, the first electrode 65 and the second electrode 68 are, for example, transparent conductive films made of IT0.
  • the liquid crystal layer 63 includes, for example, a nematic liquid crystal.
  • the above-mentioned color filter 167 is a liquid crystal display device having the above-described configuration which includes the dots of R (red), G (green) and B (blue). If so, alignment defects and the like of the liquid crystal are not observed, and the display quality can be excellent. This is because, as described above, the liquid crystal alignment film has a uniform film thickness, and a group of adsorbed molecules is uniformly arranged and adsorbed. As a result, the liquid crystal alignment film exhibits excellent alignment ability and exhibits an alignment property. This is because the liquid crystal molecules can be aligned without disturbing the state.
  • the liquid crystal display device having the above configuration is manufactured by adopting a conventionally known method except that the liquid crystal alignment films 66 and 69 are formed by the above-described method. I can do it.
  • the apparatus for manufacturing a liquid crystal alignment film according to the present invention may have the same configuration as the above-described apparatus for manufacturing an organic thin film. Therefore, the detailed theory Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
  • the materials and manufacturing conditions of the components described in the examples are not limited to the scope of the present invention unless otherwise specified. It is not intended to be limited to only the examples, and is merely an example of explanation.
  • an adsorption solution A was prepared by dissolving n-year-old octadecyl trichlorosilan in hexadecane so as to be about 1% by weight.
  • the glass substrate 11 (2 cm ⁇ 5 cm, thickness 1.1 mm), which had been sufficiently degreased and cleaned, was immersed in the adsorption solution A for 1 hour.
  • the hydroxyl group present on the surface of the glass substrate 11 and the trichloride silyl group cause a dehydrochlorination reaction represented by the following chemical reaction formula.
  • it was chemisorbed onto the glass substrate 11 via a siloxane bond.
  • FT-IR Fourier transform infrared spectroscopy
  • Comparative Example 11-11 a glass substrate was obtained by performing the same steps as in Example 11 except that a black hole form was used as a cleaning agent.
  • a monomolecular film 12 was formed on 11.
  • the FT-IR measurement was performed on the monomolecular film 12, as shown in FIG. 12, the absorption spectrum was almost the same as the absorption spectrum shown in FIG. A signal having almost the same absorption intensity was obtained at the same absorption position.
  • Example 1-1 and Comparative Example 11-11 the following differences were found in the film structure between the two.
  • the absorption originating from the antisymmetric stretching vibration in CH 2 of 292 cm- 1 is 2880 the CH 2 of cm one 1 If you compare the absorption and that causes derived symmetric stretching vibration, its a The absorption ratio is 2.2: 1 in FIG. 11 according to Example 1-1, and 2.0: 1 in FIG. 12 according to Comparative Example 1-1. Met . This indicates that the monomolecular film according to Example 1-1 has a more uniform film structure than the monomolecular film according to Comparative Example 11-11. ing .
  • Example 112 the same procedures as in Example 11 were carried out except that methyl alkyl ketone (50 ml to 100 ml) was used as a cleaning agent.
  • a monomolecular film 12 was formed on the glass substrate 11 by performing the above steps.
  • the FT-IR measurement was performed on the monomolecular film 12, a signal having almost the same absorption intensity was obtained at almost the same position as in FIG. 11 described above.
  • a siloxane-based solvent trade name: KF966L, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Toluene 10/1
  • an adsorption solution B was prepared.
  • the glass substrate l1 which had been sufficiently degreased and cleaned, was immersed in the adsorption solution B for 1 hour in a nitrogen atmosphere.
  • the molecule represented by the above chemical formula (4) is converted into the glass substrate 1 as shown in the following chemical formula (5). Chemisorbed on
  • Comparative Example 1-2 glass was obtained by performing the same steps as in Examples 1-3 except that a black hole holm was used as a cleaning agent. A monomolecular film 13 was formed on the substrate 11. When the FT-IR measurement was performed on the monomolecular film 13, as shown in FIG. A signal with almost the same absorption intensity was obtained at almost the same position as above.
  • Comparative Example 13-13 the same steps as in Examples 1-3 were performed except that ethyl acetate or ethyl formate was used as the cleaning agent.
  • a monomolecular film 13 was formed on a glass substrate 11. When exposed to air after the formation of the monomolecular film 13, the surface of the glass substrate 11 becomes cloudy instantaneously, and it is impossible to form a thin film having transparency. It was possible.
  • the above-mentioned ethyl formate and methyl formate are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-41542, Japanese Patent Application No. 6-3122477, and Japanese Patent Application Laid-open No. 6-187692. Esters having a carbonyl group, which are described in gazettes and the like.
  • Example 11-13 In Comparative Examples 1-4, except that toluene was used as the cleaning agent, the same steps as those in Example 11-13 were carried out. A monomolecular film 13 was formed thereon.
  • Example 115 the same steps as in Example 113 were performed except that DMF (dimethylformamide) was used as the cleaning agent. Thus, a monomolecular film 13 was formed on the glass substrate 11.
  • DMF dimethylformamide
  • an adsorption solution A was prepared by dissolving n-year-old octadecyl trichlorosilan in hexadecane so as to be about 1% by weight.
  • the glass substrate 21 (20 ⁇ 7 mm, thickness 1.1 mm), which had been sufficiently degreased and cleaned, was immersed in the adsorption solution A for 1 hour.
  • the hydroxyl group and the tricyclosilyl group present on the surface of the glass substrate 21 cause a dehydrochlorination reaction represented by the following chemical reaction formula.
  • it was chemisorbed onto the glass substrate 21 via a siloxane bond.
  • the unreacted C 1 group in the molecule chemically adsorbed on the glass substrate 21 is replaced with an O H group while washing away the cleaning agent. Subsequently, the glass substrate 21 was dried. As a result, the OH groups were cross-linked by causing a dehydration reaction, and the monomolecular film 22 shown in FIG. 18 was formed on the glass substrate 21.
  • the Fourier transform infrared spectroscopy (hereinafter, referred to as the monomolecular film 22) is described.
  • FT-Abbreviation for IR When you hand measurement), Ni Let 's are shown in FIG. 1 9, 2 9 3 0 ⁇ 2 8 4 0 cm- 1 ( attributable: CH 3 and one CH 2 -), 1 4 7 0 cm - 1 ( Attribution: —CH 2 —) and 108 cm-- 1 (attribution: one Si—0—) gave characteristic signals. As a result, it was confirmed that the monomolecular film 22 shown in FIG. 18 was formed.
  • Comparative Example 2-1 the same steps as those in Example 2-1 were carried out except that the black hole film was used as the cleaning agent.
  • a monomolecular film 22 was formed on a substrate 21.
  • the FT-IR measurement was performed on the monolayer 22, as shown in FIG. 20, the absorption spectrum was almost the same as the absorption spectrum shown in FIG. A signal with almost the same absorption intensity was obtained at the absorption position.
  • Example 2-1 had a more uniform and ordered film structure than the monomolecular film according to Comparative Example 2-1.
  • siloxane-based solvent (trade name: KF966L, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
  • the glass substrate 21 that had been sufficiently degreased and washed was immersed in the adsorption solution B for 1 hour in a nitrogen atmosphere.
  • the molecule represented by the above chemical formula (4) was chemically adsorbed on the glass substrate 21 as shown in the following chemical formula (5).
  • Glycol ether as a cleaning agent (trade name: PK-LCG55, manufactured by Pachiriki Co., Ltd.) (Average molecular weight: 200) was placed in a washing tank so as to obtain a sufficient amount, and heated at about 80 ° C.
  • the glass substrate was thoroughly cleaned in this cleaning tank.
  • the glass substrate 21 was thoroughly washed with water in order to wash off the polyethylene glycol adhering to the surface thereof.
  • the unreacted C 1 group in the molecule chemically adsorbed on the glass substrate is replaced with an O H group while washing away the cleaning agent.
  • the glass substrate 21 was dried.
  • the OH groups caused a dehydration reaction to crosslink with each other, and the monomolecular film 23 shown in FIG. 21 was formed on the glass substrate 21.
  • Comparative Example 2-2 the same process as in Example 2-2 was carried out, except that the mouth opening film was used as a cleaning agent.
  • a monomolecular film 23 was formed on the substrate 21.
  • the FT-IR measurement was performed on the monolayer 23, as shown in FIG. 23, the absorption spectrum was almost the same as the absorption spectrum shown in FIG. A signal with almost the same absorption intensity was obtained at the same absorption position.
  • Example 2-2 had a more uniform and uniform film structure than the monomolecular film according to Comparative Example 2-2.
  • Example 2-3 the same steps as those in Example 2-2 were performed except that ethoxyethanol was used as a cleaning agent.
  • a monomolecular film 23 was formed on a glass substrate 21.
  • the FT-IR measurement was performed on the monomolecular film 23, as shown in FIG. Signals with almost the same absorption intensity were obtained at almost the same positions as in FIGS. 22 and 23.
  • Example 2-3 except that toluene was used as the cleaning agent, the same process as in Example 2-2 was performed, whereby the glass substrate 2 was formed. A monomolecular film 23 was formed on 1.
  • Example 2-4 the same steps as in Example 2-2 were performed except that DMF (dimethylformamide) was used as a cleaning agent. Thus, a monomolecular film 23 was formed on the glass substrate 21.
  • DMF dimethylformamide
  • the object of the present invention can be sufficiently achieved.
  • the organic thin film of the present invention is composed of a group consisting of ketones, alkylene glycols, and alcoholic alcohols. Since it is formed by cleaning with a cleaning agent containing at least one selected from the group, a film structure having a uniform film thickness and being uniformly arranged and ordered can be obtained.
  • a cleaning agent containing at least one selected from the group ketones, alkyl alcohols, and alkoxy alcohols can be obtained.
  • the use of cleaning agents containing at least one selected from the group consisting of Unfixed molecules can be removed as a substitute for the detergent, and an organic thin film having a uniform film thickness can be produced. As a result, there is an effect that it is possible to provide a process for producing an organic thin film with reduced environmental load.
  • the alignment state is not disturbed because the liquid crystal alignment film has a uniform film thickness and a uniform film structure in which the molecular groups are uniformly arranged. It becomes possible to orient liquid crystal molecules.
  • ketones, alkylene glycols and alcoholic alcohols are used.
  • a cleaning agent containing at least one selected from a group unfixed molecules can be removed without using a chlorine-based organic solvent.
  • a liquid crystal alignment film having a uniform film thickness can be manufactured.
  • a liquid crystal alignment film having a good orientation and a good orientation ability can be manufactured by reducing the load on the environment without causing a disorder in the film structure due to good adsorption state to the substrate. It has the effect of

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Description

明 細
有機薄膜、 そ の製造方 法及びそ の製造装置 と 、 液晶配 向膜、 そ の製造 方 法及びそ の製造装置 と 、 液晶配 向膜 を 用 い た液晶表示装置及びそ の 製造 方 法
技 技
本発明 は、 ガ ラ ス や セ ラ ミ ッ ク ス 等の基材表面 に形成す る 有機薄 膜、 そ の製造方 法及びそ の製造装置 に 関す る も の で あ る 。 又、 液 晶 に対す る 配向能 を 備 え た液晶配 向膜、 そ の製造方法及びそ の製造装 置 と.、' 該液晶配 向膜を 備 え た液晶表示装置及びそ の製造方法 と に 関 す る も の で あ る 。
従来 よ り 有機薄膜を 製造 す る 方 法 と して は、 例 え ば ク ロ ロ シ ラ ン 系界面活性剤等 を 基材表面 に化学吸着 さ せ る 方法が知 ら れて い る 。 こ の方法の 詳細 に つ い て は、 例 え ば特開平 3 — 7 9 1 3 号公報、 特 開平 3 — 2 3 0 1 5 6 号公報、 特開平 4 一 3 3 0 9 2 5 号公報、 日 本国特許第 2 , 0 2 8 , 6 6 2 号、 第 2 , 5 9 8 , 8 6 7 号及び第 2 , 6 3 8 , 4 4 6 号等 に 開示 さ れて い る 。 上記公報 に 記載 さ れて い る 方法で は、 膜形成分子 を 基材表面上 に 吸着 固定 さ せ た 後、 未吸着分子 を 除去 す る 洗浄工程 を 行 っ て い る が 、 こ の 洗浄工程 に 於 け る 洗浄の程度 を 適正 に 行 う こ と に よ り 超薄膜 で あ る 単分子膜 を 形成す る こ と が 可能 と な る 。
そ し て こ の よ う な 洗浄 に は従来 よ り 、 上 記 し た 何 れ の 公報 に 記載 さ れ た 洗浄工程 に お い て も 、 そ の 洗浄剤 に ク 口 口 ホ ル ム が使用 さ れ て レ、 る 。 そ の 理 由 は 、 ク ロ 口 ホ ル ム が以下 に 述べ る 、 2 つ の 大 き な 特徴 を 有 し て い る か ら で あ る 。 即 ち 、
1 . 有機化合物 に 対す る 溶解能が大 き い 。
2 . 沸点が 6 1 °C と 低い の で 、 蒸発 さ せ る こ と に よ り 簡単 に 除去で き る 。
し か し な が ら 、 上記 ク ロ 口 ホ ル ム は毒性が高い こ と で 知 ら れて い る 。 又、 オ ゾ ン層 を 破壊す る 原 因 と し て も 知 ら れて お り 、 環境負 荷 の非常 に 大 き な 物質で あ る 。
■ 他方、 例 え ば特開平 6 — 4 5 1 4 2 号公報、 特閧 平 6 — 1 8 7 6 9 2 号公報、 特開平 6 — 3 1 2 4 7 7 号公報等で は 、 ク ロ 口 ホ ル ム の代替洗浄剤 と して 、 エーテ ル類、 ラ ク ト ン 類、 エ ス テ ル類、 ニ ト リ ル類、 ア ミ ド 類等 が開示 さ れて い る が、 こ れ ら の 洗浄剤で は洗浄 力 の点で疑問 が残 る 。 実際 に お い て も こ れ ら の代替洗浄剤 は使用 さ れて お ら ず、 洗浄剤 と し て 優れて い な か っ た 。
以上の こ と か ら 、 環境に 対す る 負荷がな く 、 塩素 系 溶剤 と 同等 の 洗浄力 を 有 す る 代替洗浄剤 を 用 い た有機薄膜の製造 プ ロ セ ス の確立 が嘱望 さ れて い る 。
発 明 の 開 示 一群の本発 明 は 、 こ の よ う な 従来技術の 課題 を解決 すべ く な さ れ た も の で あ り 、 そ の第 1 の 的 は 、 塩素 系溶剤 以外の 洗浄剤 に て 除 去 す る 除去工程 を 含む 有機簿膜の 製造 方 法 と 、 こ の 方法 に よ り 成膜 さ れ た 有機薄膜 と 、 こ の 方 法 に 於 い て 使用 す る 製造装置 と を 提供 す る こ と に あ る 。
又、 一群の 本発 明 は、 こ の よ う な従来技術の課題 を 解決すベ く な さ れた も の で あ り 、 そ の第 2 の 目 的 は 、 塩素系溶剤 以外の洗浄剤 に て 除去 す る 除去工程 を 含む液晶配 向膜の 製造方法 と 、 こ の 方法 に よ り 成膜 さ れ た 液晶配向膜 と 、 こ の 方法 に於い て 使用 す る 製造装置 と を 提供 す る こ と に あ る 。
更 に 、 第 3 の 目 的 は、 前記液晶 配 向膜 を 備 え た 液晶表示装置 と 、 そ の製造方 法 と を 提供 す る こ と に あ る 。
[有機簿膜、 そ の製造 方 法及びそ の製造装置 ] 本願発明者等は 、 上記従来 の 問題点 を 解決すべ く 、 有機薄膜の 製 造方法 に つ い て 鋭意検討 し た 。 そ の 結果、 基材表面 に 分子群が結合 さ れて な る 有機薄膜 に 対 し て 、 ケ ト ン 類、 アル キ レ ン グ リ コ ー ル類 又はア ル コ キ シ ア ル コ ール類 を 含 む洗浄剤 にて 洗浄等 す る と 、 上記 基材に結合 さ れな い上記分子 を 除去す る こ と がで き 、 塩素系溶剤 の 洗浄剤 に て 洗浄 し た 場合 と 同様の効果 を 有 す る こ と を 見出 して 、 本 発明 を 完成す る に 至 っ た。
( 1 ) 有機薄膜
上記の課題 を 解決す る 為 に 、 本発 明 に係 る 有機薄膜は、 基材上 に 結合さ れた 分子群か ら な る 有機薄膜で あ っ て 、 上記有機薄膜は、 活 性水素 を 備 え た 官能基 に対 し て 反応性 を 示 す官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に接触 さ せて 結合 さ せ た 後、 上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子群 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル 類及 びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む洗净 剤 で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成の 有機簿膜は 、 一端 が基材面 に 結合 し 、 他端が基材面 か ら 離れ る 方 向 に 突 出 し た状態で 基材面 に 沿 っ て 配列 し た 分子群か ら な る 。 そ し て 、 上記洗浄剤 に よ り 、 基材 に 結合 さ れ な い 分子 ( 以下、 未固定分子 と 称 す る こ と も あ る ) が除去 さ れて な る 有機薄膜は 、 分 子群が基材面 に 乱 れ た状態 と な る こ と な く 、 均一 な 膜構造 と す る こ と がで き る 。
又、 上記活性水素 を 備 え た 官能基に 対 し て 反応性 を 示す官能基は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 と す る こ と がで き る 。
-AX 、 -AX2 及び 一 AX3 ■ · · <!>
(式 中、 A は ケ ィ 素 、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
尚、 上記 「基材上 に 」 と は、 上記分子群が基材表面 に 直接 固定 さ れ る 場合 に限定 さ れ る も の で は な く 、 他の物質層 を 介 し て 固定 さ れ る 場合 も 含む意味で あ る 。
( 2 ) 有機薄膜の製造方 法
上記の課題 を解決す る 為 に 、 本発明 に 係 る 有機簿膜の製造方 法 は 、 活性水素 を 有 す る 官能基に 対 し て 反応性 を 示す 官能基を 備 え た 分 子群 を 基材 に 接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材上 に 結合 さ せて 、 該 分 子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、 上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール 類 か ら な る 群 よ り 選 ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄 剤 で 除去 す る 除去工程 と 、 を 含 む こ と を 特徴 と す る 。
上記分子 は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る も の と す る こ と がで き る 。
-AX 、 -AX2 及び · · ' (!)
( 式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の 原子 を 表 し、 X は ノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ 基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
上記被膜形成工程に て 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基を 有 す る 分子群 を 、 基材表面 に 固定さ せて 被 膜を 形成す る と 、 該被膜の表面 に は基材 に 結合 さ れな い 分子 (未 固 定分子) が残存 す る 。 こ の未 固定分子 は、 除去工程 に て ケ ト ン類、 アル キ レ ン グ リ コ 一ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 を 含む 洗浄剤 を 用 い る こ と に よ り 、 容易 に除去す る こ と がで き る 。 こ れは 、 ケ ト ン類等 が未固定分子 に対 す る 溶解能 に優れて い る こ と に よ る 。 こ れ に よ り 、 基材表面 に は少 な く と も 該基材に 固定 し た上記分子群か ら な る 有機簿膜が形成 さ れ、 —様な膜厚 を 有 す る 有機薄膜の製造が可能 と な る 。
上記ケ ト ン類 と し て は、 ア セ ト ン 、 メ チ ル ェ チ ル ケ ト ン、 ジ ェ チ ル ケ ト ン 、 メ チ ル イ ソ プチ ル ケ ト ン及びァ セ チ ル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種 の 化合物 を 使用 で き る 。 こ れ ら の 化合物群は 、 前記 一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種 の 官能 S を 有 す る 分子群 に 対 す る 溶解能 に優れて い る 従 っ て 、洗浄 力 に 優れ た 上記化合物群 を 用 い た 上記の 方 法 に よ れば 、 上記分子の種類 や洗浄条件等 を 勘案 し て 、 最適 な ケ ト ン 類 を 必要 に 応 じ て 選択 す る こ と に よ り 、 未 固定分子 を 除去 し た膜厚 の均一 な 有 機薄膜 を 形成す る こ と がで き る 。
又、 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 と し て ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル を 用 い る こ と がで き る 。
上記ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル は 、 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官 能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る 化合物 に 対す る 溶解能 に 優れて い る 。 従 っ て 、 洗浄力 に 優れて い る ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル を 用 い た 上記の 方法 に よ れば、 未 固定分子 の除去が一層容易 に な り 、 該未固定分子 を 除去 し た 有機薄膜を形成す る こ と がで き る 。
更 に、 上記ポ リ ^チ レ ン グ リ コ ールの 分子量は 1 0 0 以上、 3 0 0 以下の範囲 内 と す る こ と がで き る 。
こ れ に よ り 、 低分子量の ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ール を 洗浄剤成分 と して使用 す る の で 、 粘性が小 さ く 取 り 扱い性 に優れた 洗浄剤 と す る こ と がで き る 。
又、 上記洗浄剤 と し て 、 塩素 系 溶剤 を 含 ま な い も の を 使用 す る こ と がで き る 。
上記の様に 、 除去工程 に お い て 、 ケ ト ン 類、 アル キ レ ン グ リ コ ー ル類及びアル コ キ シ ア ル コ ール類 か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種を含む洗浄剤 で あ っ て 、 塩素系溶剤 が含 ま れな い洗浄剤 を 使 用 す る と 、 環境 に 対 す る 負荷 を 抑 制す る こ と がで き る 。 し か も 、 こ の洗浄剤は、 従来 の 塩素系 溶剤 か ら な る 洗浄剤 と 比較 し て 同程度 の 洗浄作用 を 被洗浄物、 即 ち 未 固定分子 に 対 し て 発揮す る ので 、 均 一 な膜厚 を 有 す る 有 機薄膜の形成が 可能で あ る 。 よ っ て 、 塩素 系 溶剤 を 使用 し な く と も 一様 な膜厚 を 有 す る 有機薄膜 を 形成 す る こ と が で き 、 環境 に 対 す る 負 荷 を 抑制 し た 有機簿膜の 製造 プ ロ セ ス を 提供 す る こ と がで き る 。
更 に 、 上記除去工程 の後 に 、 上記基材 に付着 し た 上記洗浄剤 を 除 去 す る 洗浄剤 除去工程 を 行 う こ と がで き る 。
こ れ に よ り 、 形成 さ れた 有機薄膜に 洗浄剤 が残留 す る こ と に よ つ て膜の 品質 に 悪影響 が及ぶの を 防止す る こ と がで き る 。 特 に 、 撥水 作 用 や親水性等 の機能 を 有 し た機能膜 と し て 形成す る 場合 に 、 上記 洗浄剤 除去工程 を 行 え ば、 種 々 の機能の 劣化 を 防止で き る 。
上記洗浄剤 除去工程は、 上記基材に付 着 し た 上記洗浄剤 を水で 洗 い流す リ ン ス 工程 と 、 上記基材 に付着 し た 上記水 を 乾燥 さ せ る 乾燥 工程 と を 有 し て い て も よ い。
上記方法で あ る と 、 基材表面 に形成 さ れ た 被膜 に付着 し て い る 上 記洗浄剤 を 水 に よ り 洗浄 し て 除去 す る こ と がで き る 。 こ の結果、 例 え ば分子が A X 基 を 備 え て い る 場合に は 、 該被膜 に残存 し て い る A X基 と 水 と の 間 で縮合反応が引 き起 こ さ れ、 被膜 を 構成す る 分子 に ヒ ド ロ キ シ ル基 を 導入す る こ と がで き る 。 更 に 、 乾燥工程 に て 基材 を乾燥 さ せ る こ と に よ り 、 該基材 に付着 し た 水 を 除去す る こ と が で き る 。 一方で 、 こ の 乾燥工程 を 行 う こ と に よ り 、 基材表面 に結合 し た分子間で脱水反応 を 促進 さ せ る 面 も あ り 、 こ の 結果架橋構造 と す る こ と がで き 、 耐摩耗性ゃ耐擦傷性等 に優れ た 有機薄膜 を 製造す る こ と がで き る 。
上記基材 と し て 、 そ の表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基が存在 す る も の を使用 す る こ と がで き る 。
上記の 方法 に よ れば、 分子が前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 場合 に 、 こ の 官能基 と 、 基材 表 面 に於 け る 活性水素 を 有 す る 官能基 と の 間 で 、 H X 分子 が脱離 し て 縮合反応 を 引 き 起 こ す こ と がで き る 。 こ れ に よ り 、 該 一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子 を 基材表面 に 結合 さ せ る こ と がで き る 。
更 に 、 上記被膜形成工程及び除去工程は 、 乾燥雰 囲気 中 で 行 う こ と がで き る 。
上記被膜形成工程 を 乾燥雰 囲気 中 に て 行 う こ と に よ り 、 基材表 面 に は 単分子膜 を 形成 し 、 更 に こ の 単分子膜の 上 に 単分子膜状の分子 層 が何層 に も 累積 し た 累積膜が形成 さ れ る 。 こ れは乾燥雰囲気 中 で あ る 為 に 、 雰 囲気中 の水分 と 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 と が反応 し て 架橋 す る こ と を 防 ぐ こ と に よ る 。 こ の よ う に し て 形成 さ れた 被膜 に 対 し て 、 除去工程 も 乾燥雰 囲気 中 で 行 う の で 、 上記累積 膜の全て 、 或い は該累積膜の う ち 何層 かの 分子層 を 容易 に除去す る こ と がで き る 。 こ れは、 除去工程 に於い て も や は り 乾燥雰囲気 中 で 行 う 為 に、 累積膜を形成す る 分子 に於け る 前記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基 と 雰 囲気 中 の水分 と の 間で 、 H X 分子の脱離 に よ る 縮合 反応が起 こ る の を 防 ぐ こ と がで き る か ら で あ る 。 よ っ て 、 基材表 面 に 固定 して い る 分子や固定 さ れて い な い 分子が架橋 す る こ と を 防 ぐ こ と がで き 、 単分子膜状又は 単 分子膜状の 分子層 が複数累積 し た 有 機簿膜を形成す る こ と がで き る 。
上記基材の表面 に 、 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 1 種の 官能基 を 有す る 分子群 を 、 単分子膜状 と な る よ う に 固 定 さ せた、 そ の よ う な 有機薄膜 を 形成 す る こ と がで き る 。
上記の 方法 に よ れば、 単分子膜状の 有機薄膜 を 形成す る こ と で き る ので 、 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子の 分子設 計を 制御 す る こ と に よ り 、 分子 レ ベル で の膜厚 の 制御 が容易 に 可能 と な る 。 こ の 結 果、 非 常 に 薄 い 有機薄膜 を 所望の膜厚 で 製造 す る こ と がで き る 。
( 3 ) 有機薄膜 の製造装置
上記の課題 を 解決 す る 為 に 、 本発 明 に 係 る 有機薄膜 の製造装置 は 、 活性水素 を 有 す る 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す官能基 を 備 え た 分 子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表面 に 結合 さ せて 、 該分 子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成手段 と 、 上記基材 に 結合 さ れ な い上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ アル コ 一ル類 か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 を 含む洗浄 剤で除去す る 除去手段 と 、 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 。
上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の官能基 を 有 す る も の と す る こ と がで き る 。
I I
-AX 、 -AX2 及び — A 3 ■ * * <i>
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 して い る 。)
[液晶配向膜、 そ の製造方法及びそ の製造装置 ] ( 1 ) 液晶配向膜
上記の課題 を 解決す る 為 に 、 本発明 に係 る 液晶配 向膜は 、 基板上 に結合 さ れた 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜で あ っ て 、 上記液晶配 向膜は 、 活性水素 を 備 え た 官能基 に対 し て反応性 を 示 す 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た 後、 上記基板 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類 、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類及び ア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 か ら な る 群 よ り 選 ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成の液 晶 配向膜は、 一端 が基板側 に 結合 し 、 他端が基板か ら 離れ る 方 向 に 突 出 し た状態で 基板面 に 沿 っ て 配列 し た 分子群か ら な る 。 そ し て 、 上記洗浄剤 を 用 い て 洗浄 さ れ た 薄膜で あ る の で 、 基 板 に 結合 さ れな い未 固定分子が除去 さ れ均一 な膜厚 を 有 し て い る 。
又、 従来、 塩素 系溶剤 か ら な る 洗浄剤 (塩素系 洗浄剤 ) に て 分子 群が 固定 し た 基板 を 洗浄す る と 、 こ れ ら の 分子群は 乱 れ た状態で 固 定 し た膜構造 と な る 場合があ っ た 。 こ れ に 対 して 、 上記構成で あ る と 、 液晶配向膜は、 塩素系溶剤 か ら な る 洗浄剤 で 洗浄 さ れた 薄膜で は な い の で 、 分子群が基板面 に乱れた状態で 固定 し た膜構造 と な る の が防止 さ れ、 分子群が均一 に 配列 し整 っ た膜構造 の 有機薄膜 と す る こ と がで き る 。
こ こ で 、 上記構成の液晶配向膜が単分子膜で あ る 場合、 近傍の液 晶分子は膜構成分子 と の相互作用 に よ り 、 基板 に 対 し あ る 傾 き 及び /又は配向 方位 に規制 さ れ る 。
従っ て 、 上述の よ う に 、 個 々 の 分子が均一 に 配列 し た整 っ た膜構 造で あ る と 優れ た 配 向能 を 有 し、 具体的 に は配列状態 を 乱す こ と な く 液晶分子 を 配向 さ せ る こ と が可能 と な る 。
尚、 上記 「基板上 に 」 と は、 分子が基板表面 に 直接結合 さ れ る 場 合に限定 さ れ る も の で は な く 、 電極等 の他の物質層 を 介 し て 結合 さ れる場合 も 含む意味で あ る 。
又、 上記活性水素 を 備 え た 官能基に 対 し て 反応性 を 示 す官能基は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 と す る こ と が で き る 。
-AX 、 -AX2 及び 一 A 3 · ■ * !)
( 式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 2 ) 液晶配 向膜の製造方法
上記の課題 を 解決す る 為 に 、 本 発明 に 係 る 液晶配 向膜の製造方 法 は 、 活性水素 を 有 す る 官能基 に 対 して 反応性 を 示 す官能基 を 備 え た 分子群 を 基材 に接触さ せ る こ と に よ り 、 該基材上 に結合 さ せて 、 該 分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成工程 と 、 上記基材 に結合 さ れな い上記分子 を 、. ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少な く と も 一種 を含む 洗 浄剤で 除去す る 除去工程 と 、 を 含む こ と を 特徴 と す る 。
上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る も の と す る こ と がで き る 。
-AX 、 -AX2 及び 一 A 3 ' * <1>
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
上記被膜形成工程 に て 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 基板表面 に 固定 さ せ て 被 膜 を形成す る と 、 該 被膜の 表 面 に は、 未固定分子 が残存 す る 。 ケ ト ン類等は こ の 未 固定分子 に 対 し て 優れ た 溶解能 を 発揮 す る 為、 上 記 洗浄剤 を 用 い て 洗浄 す る こ と に よ り 、容易 に 除去 す る こ と がで き る 。 よ っ て 、 基板表面 に は 少 な く と も 該基板 に 固定 し た 上記分子群か ら な る 液晶配向膜 を 環境 に 対す る 負荷 を抑 制 し つ つ形成す る こ と が で き る 。 更 に 、 上記方法 に よ り 形成 さ れ る 液晶配向膜は 、 均一な膜厚 を 有 し、 かつ 分子群が乱れ る こ と な く 固定 し て 均一 な 膜構造 と す る こ と がで き る 。
( 3 ) 液晶配 向膜の製造装置
上記の課題 を 解決 す る 為 に 、 本発明 に係 る 液晶配向膜の製造装置 は、 活性水素 を 有 す る 官能基 に 対 して 反応性 を 示 す官能基 を 備 え た 分子群を 基板に接触 さ せ る こ と に よ り 該基板表面 に 結合 さ せて 、 該 分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成手段 と 、 上記基材 に結合 さ れな い上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類及びア ル コ キ シ アル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 を含む洗 浄剤で 除去す る 除去手段 と 、 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 。
上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る
1 種の官能基を 有 す る も の と す る こ と がで き る 。
\ I
-AX 、 -AX2 及び -AX¾ … ω (式中、 Α は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ムか ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種の 原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。) [液 晶 表示装 置及 びそ の製造方 法 ]
( 1 ) 液晶表 示 装置
上記の課題 を 解決 す る 為 に 、 本発明 に係 る 液晶 表 示装置は、 基板 上 に液晶分子 を 所定 の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配 向膜 を 備 え た 液 晶 表 示装置で あ っ て 、 上記液晶配 向膜は、 活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す 官能基を 有 す る 分子群が、 上記基板上 に 結合 さ れ て な る 薄膜で あ り 、 かつ 、 上記分子か ら な る 群 を 上記基板 に接触 さ せ て 結合 さ せ た 後、 該基板 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成の液晶 表示装置が有 して い る 液晶配向膜は 、 上記洗浄剤 を 用 い て 洗浄 さ れた 薄膜で あ る の で、 基板 に 結合 さ れ な い分子は 除 去 さ れ、 均一 な膜厚 を 有 して い る 。 又、 上記液晶配向膜は、 従来の 塩素系溶剤 か ら な る 洗浄剤 で 洗浄 さ れ た 薄膜で は な い の で 、 分子群 が均一 に配列 し 整 っ た膜構造 を 有 し て い る 。 よ っ て 、 配列状態 を 乱 す こ と な く 液晶分子 を 配向 さ せ る こ と が可能で あ る 。 即 ち 、 上記の 様な液晶配向膜 を 具備 さ せ る こ と に よ り 、 上記構成の 液晶表示装置 は、 液晶の配向欠陥等が視認 さ れず表示品位 に優 れ た も の と す る こ と がで き る 。
( 2 ) 液晶表示装置 の製造方法
上記の課題 を解決す る 為に 、 本発明 に係 る 液晶 表示装置の製造方 法は、 基板上 に 結合 さ れた分子群か ら な り 、 液晶 分子 を 特定の 方 向 に配向 さ せ る 液晶配向膜 を 備 え た液晶表示装置 の製造方法で あ っ て 、 上記基板 に 、 活性水素 を 有 す る 官能基に 対 し て 反応性 を 示 す官能 基 を 備 え た分子群 を 接触 さ せ、 該基板表面 に 結合 さ せ て 、 該分子群 か ら な る 被膜 を 形成 す る 被膜形成工程 と 、 上 記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一 ル類及びア ル コ キ シ ァ ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去 工程 と 、 を 含む こ と を 特徴 と す る 。
上記の 方法 に よ れば、 膜厚 が均 一 で 配向能 に 優れ た 液晶配向膜 を 備 え た 液晶表示 装置 を 製造す る こ と がで き る 。 即 ち 、 塩素系洗浄剤 の代替洗浄剤 と し て 上記洗浄剤 を 使用 す る こ と に よ り 、 環境 に 対 す る 負荷 を 抑制 し つ つ 、 表示品位 に優れ た 液晶表示装置の製造が可能 と な る 。 本発明の さ ら に他の 目 的、 特徴、 及び優れ た 点は、 以下 に 示 す記 載 に よ っ て 充分理解 さ れ る で あ ろ う 。 又、 本発明 の利点は、 添付 図 面 を参照 し た 次 の説明で 明 白 に な る で あ ろ う 。
図 面 の 簡 単 な 説 明 図 1 は、 本発 明 の実施の形態 に 係 る 有機薄膜の製造工程 を 示 す フ 口 一チ ャ ー ト で あ る 。
図 2 は、 上記有機薄膜の製造工程 に於い て 、 洗浄剤除去工程 に 係 る 第 1 洗浄剤除去方法 を 説明 す る 為の フ ロ ーチ ヤ 一 ト で あ る 。
図 3 は、 上記有機薄膜の製造工程 に於いて 、 洗浄剤除去工程 に 係 る 第 2 洗浄剤除去方法 を 説明 す る 為の フ ロ ーチ ャ ー ト で あ る 。
図 4 は、 上記有機薄膜が基材 に 吸着 し た状態 を模式的 に 示 す要部 拡大図で あ る 。
図 5 は、 上記有機薄膜が基材 に 吸着 し た状態 を模式的 に 示 す 断面 図 で あ っ て 、 図 5 ( a ) は吸着分子 が層状 に 吸着 し た 状態 を 示 す 図 で あ り 、 図 5 ( b ) は 吸着分子 が絡み合い な が ら 基材 に 吸着 し た 状 態 を 示 す 図 で あ る 。
図 6 は、 上記有機薄膜が基材 に 吸着 し た 状態 を 模式 的 に 示 す要部 拡大図 で あ っ て 、 図 6 ( a ) は吸着分子 に ヒ ド ロ キ シ ル基が導入 さ れた状態 を 示 す 図 で あ り 、 図 6 ( b ) は吸着分子 が架橋 し た状態 を 示 す図 で あ る 。
図 7 は、 本発明 に 係 る 有機薄膜の製造装置 を模式 的 に 示 し た 説明 図で あ っ て 、 図 7 ( a ) は被膜形成手段 と 除去手段が密閉系で あ る 場合 を 示 し 、 図 7 ( b ) は独立系 で あ る 場合を 示 し 、 図 7 ( c ) は 洗浄剤 除去手段 を 模式的 に 示 して い る 。
図 8 は、 本発 明 に係 る 除去手段 を模式的 に 示 し た 斜視図で あ っ て 、 図 8 ( a ) はバ ッ チ処理式 の場合を 示 し 、 図 8 ( b ) は流れ処理 式の.場合 を 示す。 .
図 9 は、 本発 明 に係 る 液晶表示装置 を 示 す断面 図で あ る 。
図 1 0 は、 本発 明 の 実施例 1 一 1 に係 る 単分子膜 を模式的 に 示 す 要部拡大図で あ る 。
図 1 1 は、 上記実施例 1 一 1 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 1 2 は、 比較例 1 一 1 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 1 3 は、 本発明 の 実施例 1 一 3 に係 る 単分子膜 を模式的 に 示 す 要部拡大図で あ る 。
図 1 4 は、 上記実施例 1 一 3 に 係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 1 5 は、 比較例 1 一 2 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル 図 で あ る 。
図 1 6 は 、 比較例 1 一 4 に係 る 単 分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル 図 で あ る 。
図 1 7 は 、 比較例 1 一 5 に 係 る 単 分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル 図 で あ る 。
図 1 8 は、 本発明 の実施例 2 — 1 に 係 る 単分子膜を 模式的 に 示 す 要部拡大図 で あ る 。
図 1 9 は、 上記実施例 2 — 1 に 係 る 単分子膜の F T — I Rの ス ぺ ク ト ル図 で あ る 。
図 2 0 は 、 比較例 2 — 1 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 2 1 は、 本発明 の実施例 2 — 2 に 係 る 単分子膜 を模式 的 に 示 す 要部拡大図 で あ る 。
■ 図 2 2 は、 上記実施例 2 — 2 に 係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 2 3 は、 比較例 2 — 2 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 2 4 は、 本発明の実施例 2 — 3 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺク ト ル図で あ る 。
図 2 5 は、 比較例 2 — 3 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
図 2 6 は、 比較例 2 — 4 に係 る 単分子膜の F T — I R の ス ぺ ク ト ル図で あ る 。
発明 を 実施す る た めの最良の形態 [有 機 薄膜 ]
本発 明 の 実施の形態 に つ い て 、 図 1 な い し 図 8 に 基づ い て 説明 す れば以下 の 通 り で あ る 。 但 し 、 説明 に 不要 な 部分は省略 し 、 又、 説 明 を 容易 に す る 為 に拡大或い は縮 小等 して 図 示 し た 部分があ る 。 以 上の こ と は 以下 の 図 面 に 対 し て も 同様で あ る 。
本発明 に係 る 有機薄膜の製造 方 法は 、 活性水素 を 有 す る 官能基 に 対 して 反応性 を 示 す官能基 を 備 え た分子群 を基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表 面 に 固定 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜 を形成す る 被膜形成工程 と 、 上記基材 に 固定 し な い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ァ ルキ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と を 含む 点に特徴があ る 。
■ こ こ で、 上記分子 は、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子 と す る こ と がで き る 。
-AX 、 -AX2 及び 一 AX3 ■ · ' <!)
I
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の官能基を 表 し て い る 。)
又、 上記ハ ロ ゲ ン と は、 F 、 C 1 、 B r 又は I 等が挙げ ら れ る が 、 基材 と の反応性の観点か ら C 1 が好 ま し い 。
上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子 と して は、 以下 に列挙す る 官能基が該 一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 と 連結 し て 構 成 さ れ る 。
( a ) メ チ ル 基、 ェ チ ル基、 n— プ ロ ピル基、 n— ブチ リレ基、 n— ぺ ン チル基、 n— へ キ シ ル基、 n— へ プチ ル基、 n — ォ ク チ ル基、 n— ノ ニ ル基、 n— デ シ ル基、 n— ゥ ン デ シル基、 n — ド デ シ ル基、 n— 卜 リ デ シ ル基、 n— テ ト ラ デ シ ル基、 n— ペ ン タ デ シ ル基、 n— へ キ サデ シ ル基、 n— ヘ プ 夕 デ シ ル基、 n— 才 ク タ デ シ ル基、 n— ノ ナ デ シ ル基、 n— エ イ コ シ ル基、 フ ヱ ニル基等の炭化水素基。
( b ) 上記 ( a ) の炭化水素基の 一部 に炭素 一 炭素二重結合若 し く は炭素 一 炭素三重結合を 含む炭化水素基。
( c ) 上記 ( a ) 及び ( b ) の炭化水素基 に於 け る 水素 が他の 官 能基 (例 え ば、 メ チ ル基、 ノ、 ロ ゲ ン化 メ チル基、 水酸基、 シ ァ ノ 基 、 ア ミ ノ 基、 ィ ミ ノ 基、 力 ルポ キ シル基、 エ ス テ ル基、 チ オ ール基 、 アルデ ヒ ド 基等 ) 及び /又は原子 (例 え ば、 F 、 C 1 、 B r 、 I 等) に 置換 さ れ た 官能基。
( d ) 上記 ( a ) 及び ( b ) の炭化水素基 に 於 け る C 一 C 結合の 一部が C — 0 — C (ェ一テ ル) 結合、 C 一 C O — C 一 ( カ ルポニ ル ) 結合又は C = N 結合 に置換 さ れた官能基。
尚、 本発明 に於い て 、 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 と 連結す る 官能基 と し て は、 上記 し た も の に限定 さ れ る こ と は な い。
以下 に、 本発明 に係 る 有機薄膜の製造方法 に つ い て 、 図 1 を参照 し な が ら 詳述 す る 。 先ず、 非水系有機溶媒 に 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子 ( 以下、 単 に 吸着分子又は分子 と 称す る こ と も あ る 。) 群が溶解 し た 吸着溶液 を 作製す る (吸着溶液作製工程
、 S 1 )。 こ の 吸着溶液の作製 に 際 し て は、 相 対湿度が 3 5 %以下 の 範囲内 に な る よ う な 乾燥雰囲気、 例 え ば乾燥空気、 乾燥窒素 又は 乾 燥ヘ リ ゥ ム 中 で 行 わ れ る の が好 ま し い 。 次 に 、 上 記吸着溶液作製工程 に て 作製 し た 吸着溶液 を 、 予め よ く 洗浄 す る こ と に よ り 脱脂 し た 基材 1 に 接触 さ せ る と (被膜形成工程 、 S 2 )、 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子群が該基
XAXII
材 1 表面 に 化 X学吸着 し て 固定 さ れ る ( 図 4 参照 )。 よ り 詳細 に は、 前 記一.般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子 と 、 上記基材表面 に 存在 す る 活性水素 を 有 oす る 官能基 と の 間で縮合反応が起 こ る 。 例 え ば、 吸着分子 が — A X 3 基を 有 す る 分子 で あ り 、 活性水素 を 有 す る 官能基が ヒ ド ロ キ シ ル基で あ る 場合、 下記化学反応式 ( 2 ) に 示 す 反応が起 こ る 。
X
基材 一 A— O— 材
X
+HX ' · ' (2) (式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し て お り 、 X はノ、 ロ ゲ ン 、 アル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 して い る o )
こ の縮合反応の結果、 H X が脱離 し て 前記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基を 有 す る 分子群が基材 1 表面 に吸着す る 。 尚、 上記脱脂は 、 吸着溶液の基材 1 表面 に対す る 付着性能 を 向上 さ せ る 為 に行 う も の で あ り 、 そ の他 に も 従来公知の 方法 に て 表面処理 を 行 っ て も よ い 。
こ こ で 、 上記被膜形成工程 を 通常の 湿度の雰囲気中 (即 ち 、 大気 中 ) で 行 う と 、 図 5 ( a ) に 示 す よ う な 薄膜 3 が基材 1 表面 に形成 さ れ る 。 よ り 詳細 に は、 基材 1 表面 に 吸着 し た 吸着分子 と 、 該基材 1 に吸着 し な い未吸着分子 と が結合 し 、 更 に こ の 未吸着分子 に他の 未吸着分子 が結合 す る 等 し て 鎖が形成 さ れ、 ポ リ マ 一 ラ イ ク な 構造 と な っ て い る 。 そ し て 、 こ の鎖が基材 1 の表面 か ら 上 方 に ( 大気 中 に ) 向 か っ て 長 く 延 び る 程屈 曲 し 、 他の屈 曲 し た 鎖 と 3 次元 的 に 絡 み合 っ た状態で 上記薄膜 3 が形成 さ れて い る 。 こ の よ う な膜構造 を 有 す る 薄膜 3 が形成 さ れ る の は 、 以下 に述べ る 理 由 に よ る 。 即 ち 、 基材 1 表面 に 吸着 し な い 未吸着分子は雰囲気 中 の水分 と 反応 し 、 H X 分子が脱離 さ れ る 。 こ の結果、 該未吸着分子 に は O H 基が導入 さ れ る 。 そ し て 、 こ の O H 基が他 の 未吸着分子 に於け る 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基 (吸着部位) と 反応す る 等 し て 架橋結合す る 。 よ っ て 、 上記 し た よ う な構造の 薄膜が形成 さ れ る 。 こ こ で 、 同 図 に示す 薄膜は膜厚 と し て は、 吸着分子か ら な る 単分子膜が 3 層 に 積 層 し た程度の厚みがあ り 、 こ の場合に は本明細書で は便宜的 に 3 分 子層 と 呼ぶ。 一 方、 乾燥雰囲気 中 (例 え ば、 相対湿度 3 5 % 以下 ) で行う と 、 図 5 ( b ) に 示 す よ う に 、 基材 1 表面 に は、 単分子膜 2 が形成 さ れ、 更 に こ の 単分子膜 2 表面 に 未吸着分子 4 が付着 し た 構 造の薄膜が形成 さ れ る 。 こ れは、 乾燥雰囲気中 で あ る 為、 未吸着分 子 4 に於け る 吸着部位が水分 と 反応せ ず、 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れる 官能基を 有 し た状態で付着 し て い る こ と に よ る 。
尚、 前記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基を 有 す る 分子 を 基材 1 表 面に接触 さ せ る 方法 と し て は特 に 限定 さ れ る も の で は な く 、 例 え ば 予め作製 して お い た 吸着溶液 に 基材 1 を 浸潰 さ せ る 方法や、 該吸着 溶液を 基材 1 に 塗布 す る 方法等が挙げ ら れる 。
又、 上記基材 1 表面 に存在 す る 活性水素 を 有 す る 官能基 と し て は
、 上記 ヒ ド ロ キ シ ル基の他 に 、 例 え ば カ ルボ キ シ ル基、 ス ル フ ィ ン 酸基、 ス ル フ ォ ン 酸基、 リ ン 酸基、 亜 リ ン 酸基、 チ オ ール基、 ア ミ ノ 基等が挙げ ら れ る 。 更 に 、 上記官能基の活性水素 が、 そ れ それ ァ ル カ リ 金属 又 は ア ル 力 リ 土類金属 で 置換 さ れ た 官能基で あ っ て も よ い 。 又、 上記基材 1 表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基が 存在 し な い か 、 或い は そ れ が少 な い場合 に は 、 U V /オ ゾ ン 処理、 酸素 プラ ズ マ 処理、 過マ ン ガ ン 酸 力 リ ゥ ム 溶液等の 化合物酸化剤処理 を 行 う こ と に よ り 、 該基材 1 表面 を 改質 し て 上記官能基 を 導入 し 、 或 い は そ の 数 を 増や す こ と が好 ま し い。
続い て 、 少 な く と も ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む 洗浄剤 に て 除去工程 を 行 う ( S 3 )。 こ の工程 に て 洗浄 す る 主 な 対象 は、 上記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基 を 有 す る 分子 の う ち 、 基材 1 表面 に化学結合 に よ り 固定せ ず に残存 し て い る 未吸着分子群で あ る 。 よ り 詳細 に は 、 図 5 ( a ) に 於い ては、 基材 1 で は な く 、 こ の 基材 1 上 に形成 さ れた網 目 状分子層 3 に於け る 構成分子 と して の 吸 着分子 に 結合 し た 未吸着分子が洗浄の 対象 と な る 。 又、 図 5 ( b ) に於い て は、 単分子膜 2 表面 に付着 し た 未吸着分子 4 か ら な る 累積 膜 5 が洗浄の対象 と な る 。 こ れ ら の未吸着分子群 を 上記洗浄剤 に て 溶解 さ せて 除去す る こ と に よ り 、 均一 な膜厚 を 有 す る 単分子膜状 の 有機薄膜を形成す る こ と がで き る 。
上記洗浄剤 に含 ま れ る 洗浄成分 と し て の ケ ト ン 類は、 上記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基を 有す る 分子 に 対す る 溶解能 に優れて い る 。 上記ケ ト ン類 と し て は、 具体的 に は、 例 え ば ア セ ト ン 、 メ チル ェ チル ケ ト ン、 ジ ェチルケ ト ン 、 メ チル イ ソ プチ ル ケ ト ン 、 ァセ チ ル ァセ ト ン 等が挙げ ら れ る 。
又、 上記洗浄剤 に含 ま れ る 洗浄成分 と し て の ア ル キ レ ン グ リ コ 一 ル類 と して は、 具体的 に は 、 例 え ばエ チ レ ン グ リ コ ール類、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ール類、 ブチ レ ン グ リ コ ール類等 が挙げ ら れ、 こ れ ら の う ち エチ レ ン グ リ コ 一 ル類が最適 で あ る 。 上記エ チ レ ン グ リ コ ー ル 類は、 臭 い が少 な く 無色で あ り 、 多 く の 各種有機溶剤 、 水及び界 面 活性剤等 と 容易 に 混和 す る 特徴 を 有 し て い る か ら で あ る 。 従 っ て 、 洗浄剤設計 に は 都合が よ い 。 上 記エ チ レ ン グ リ コ ール類 と し て は 、 具体的 に は、 例 え ばエ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チルェ一テ ル、 ジ ェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エチ ル ェ 一 テ ル、 ジ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチ ルェ一テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ ェチル ェ一 テ ルアセ テ ー ト 、 エチ レ ン グ リ コ 一ノレモ ノ メ チル ェ一テ ル、 エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チ ルェ一テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ 一ル モ ノ 一 n — ブチル ェ一テ ル、 エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ フ エ 二ルェ一 テ ル等が好適 に使用 で き る 。
更 に、 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 と して は 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール類、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ール類、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ 一 ル 類等の ポ リ マ 一で あ っ て も よ い 。 上記ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール類 と して は、 具体的 に は、 例 え ば ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ エチ ルェ一テ ル、 ポ リ ジ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチルエーテ ル、 ポ リ ジ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ エチリレエ一テ ル ァ セ テー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ ェチルエーテ ル アセ テ ー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チル ェ一テル、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チ ルエーテル ア セ テ ー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ル モ ノ ー n — ブチルエーテ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ フ エ ニル ェ —テル等が好適 に使用 で き る 。
上記アルキ レ ン グ リ コ ール類が ポ リ マ ー の場合、 そ の分子量 と し て は、 2 , 0 0 0 以下程度で あ る こ と が好 ま し く 、 1 0 0〜 3 0 0 の範囲内で あ る こ と が よ り 好 ま し い 。 分子量が 2 , 0 0 0 よ り 大 き い場合、 粘性が大 き く な り 過 ぎ て 取 り 扱い性が低下 す る 。 但 し、 分 子量が約 3 0 0 以上 の ポ リ マ 一 を 使用 す る 場合、 水や 、 ア ル コ ー ル 等 に 溶解 さ せ て 溶液 と し て 用 い る 方 が洗浄剤 と し て は 最適で あ る 。 例 え ば、 ポ リ マ ー と し て ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ール を 使用 し 、 こ れ を 水 に 溶解 さ せ る 場合 に は、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル の 濃度 と し て は 1 0 〜 5 0 w t %程度 で あ る こ と が好 ま し く 、 一 方 ア ル コ ール に 溶 解 さ せ る 場合 に は 1 0 〜 5 0 w t %程度で あ る こ と が好 ま し い 。
一 方 、 上記 ア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 と し て は、 特 に 限定 さ れ る も ので は な く 、 具体的 に は、 例 え ば メ ト キ シ ア ル コ ー ル、 エ ト キ シ ェ 夕 ノ ール等 が挙げ ら れ る 。
こ こ で 、 本発 明 に係 る 洗浄剤 は 、 上記ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類又は ア ル コ キ シ アル コ ー ル類 の何れか一種 を 単独で 用 い た 非水系 の 洗浄剤 で あ っ て も よ い。
尚、 上記除去工程は乾燥雰 囲気 中 (相対湿度 3 5 %以下 ) で行 つ て も よ い。 例 え ば、. 図 5 ( a ) に 示す よ う な単分子膜 2 上 に 累積膜 5 が形成さ れ た 被膜を 洗浄す る 場合、 乾燥雰囲気 中 で あ る 為、 雰 囲 気中 の水分 と 未吸着分子 4 に於 け る 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官 能基 と の 間で 、 H X分子の脱離反応が生 じ る 等 し て 架橋 す る こ と を 防 ぐ 。 従 っ て 、 洗浄剤 の洗浄作用 に よ り 累積膜 5 を 除去す る こ と が で き 、 単分子膜状の有機薄膜を 形成す る こ と がで き る 。 又、 上記除 去工程 を乾燥雰 囲気 中で行 う 場合、 洗浄剤 も 含水率の低い も の を 使 用 す る のが好 ま し い 。 具体的 に は、 含水率が 1 . 0 %未満で あ れば 実用 上問題の な い場合が多 い が、 好 ま し く は 0 . 1 %未満程度で あ れば よ く 、 よ り 好 ま し く は、 0 . 0 1 %未満程度 が よ い 。 含水率が 上記数値範囲 を 越 え る と 、 未吸着分子や吸着分子 に於 け る A X基が 洗浄剤 に含 ま れ る 水 と 反応 し て 架橋構造 を形成す る の で 、 こ の場合 に も 単分子膜を 形成す る こ と がで き な い 。 上記除去工程 に て 行 う 具体的 な 洗浄方 法 と し て は、 例 え ば洗浄 剤 が満 た さ れ た 洗浄槽 に 基材 1 を 静か に 浸漬 さ せ る 方 法 の他 に 、 該 洗 浄剤 中 に 基材 1 を 浸漬 さ せ た状態 で超音波 を 照射 す る 等機械力 を 付 与 す る 方法や、 該洗浄剤 自 体の 洗浄力 を 向 上 さ せ る 為 に 洗浄剤 を 加 熱す る 方 法等が 挙げ ら れ る 。 尚 、 超音波等の応 力 が基材 1 に か か る 場合 に は 、 応力 が基材 1 に悪影響 を 与 え な い様 に す る 必要があ る 。
又、 上記除去工程 に於け る 洗浄条件 と し て は特 に 限定 さ れ る も の で は な く 、 未吸着分子 の被洗浄物 に対す る 付着の程度、 被洗浄物 の 材質、 形状、 後工程へ の 影響等 を 考慮 し て 、 適宜必要 に応 じて 設定 すれば よ い 。 更 に 、 洗浄剤 の 濃度 や洗浄時間、 洗浄 回数等 を 変 え る こ と に よ り 、 例 え ば単分子膜状 の 有機簿膜だ け で な く 2 分子層 に 相 当 す る 膜厚 を 有 す る 有機薄膜 を 形成す る こ と がで き る 等、 膜厚 の 制 御が可能 と な る 。 つ ま り 、 未吸着分子の残存 の程度 を 制御 す る こ と に よ り 、 膜厚 を 制御す る 。 例 え ば、 所定濃度 の 洗浄剤 が入 っ て い る 洗浄槽 を 3 槽程度設け、 各洗浄槽 に て 所定時間洗浄す る 等 し て 洗浄 の程度 を 高め る こ と に よ り 、 未吸着分子が殆 ど取 り 除かれ、 単分子 膜状の有機薄膜 を得 る こ と がで き る 。 そ の 一 方、 洗浄槽 を 1 槽程度 に して 上記所定時間 よ り も 短い時間洗浄す る 等軽 く 洗浄す る に 留 め た場合に は、 多 く の未吸着分子が残存 して い る 。 こ の よ う な状態で 大気中 に 曝す と 、 該未吸着分子が大気 中 の水分 と 反応 し て 固定 さ れ 、 例 え ば、 2 分子層 な ど数分子層 に相 当 す る 膜厚 の有機薄膜が形成 さ れ る 。
更 に、 単分子膜状 に形成 さ れ た 有機薄膜の膜厚 を 制御す る 為 に は 、 基材 1 に 吸着 さ せ る 吸着分子 の 分子設計 を 変 更 す る こ と に よ り 、 精度良 く 制御 す る こ と も 可能で あ る 。
次 に、 上記除去工程後、 洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤 除去工程 を 行 つ て も よ い ( S 4 )。 こ の 洗浄剤 除去工程は 、 主 に 洗浄剤 を リ ン ス 剤 で 洗い流す第 1 洗浄剤 除去方法 と 、 洗浄剤 を 乾燥 し て 蒸 発 さ せ る 第 2 洗浄剤除去方 法 と に 分 け ら れ る 。 そ し て 、 第 1 洗浄剤 除去方 法は 、 洗浄剤 に ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類及びア ル コ キ シ アル コ —ル類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種が含 ま れ る 場合 に 採 用 で き る 。 そ の 一 方、 第 2 洗浄剤 除去方 法は、 洗浄剤 に ケ ト ン類が 含 ま れ る 場合 に 主 に採用 で き る 。
上記第 1 洗浄剤除去方法 は 、 洗浄剤 を リ ン ス 剤 に て リ ン ス す る リ ン ス 工程 ( S 5 ) と 、 こ の リ ン ス 剤 を 蒸発 さ せ る こ と に よ り 除去 す る リ ン ス 剤乾燥工程 ( S 6 ) と か ら な る ( 図 2 参照)。 こ の第 1 洗浄 剤除去方法は A X 基の残存 し て い る 分子群が基材 1 表面 に吸着 し て い る 場合、 或い は 安全上等 の観点か ら 洗浄剤 と し て 比較的沸点の 高 い溶剤 を使用 す る 場合 に行 う の が好 ま し い。 前者の場合、 残留 し た 洗浄.剤 を除去 す る と 共 に 、 未反応 の A X 基 と 水 と の 間で H X の脱離 反応を起 こ さ せ、 吸着分子 に O H 基を 導入す る こ と を 目 的 と し て リ ン ス工程は行わ れ る ( 図 6 ( a ) 参照)。 従 っ て 、 リ ン ス 剤 と し て は 水を使用 す る の が好 ま しい。 更 に 、 リ ン ス 剤乾燥工程 ( S 6 ) を 行 う こ と に よ り 、 O H 基同士 が脱水反応 し て 図 6 ( b ) に 示 す架橋構 造を有す る 有機薄膜を形成す る こ と がで き る 。 一 方、 後者の場合、 被洗浄物に付着 し て い る 高沸点溶剤 (洗浄剤 ) は常温 に て 乾燥蒸発 が困難な為、 こ の高沸点溶剤 を 低沸点の リ ン ス 剤 に 置換 さ せ る こ と を 主 目 的 と して い る 。 こ の場合 に 使用 す る 低沸点の リ ン ス 剤 と し て は、 アセ ト ン や ア ル コ ール等 を 用 い る こ と がで き る 。 尚、 上記 リ ン ス 工程は上記除去工程 と 同様 に 、 超音波等 の機械力 を 与 え る と リ ン ス効果を 向上 さ せ る こ と がで き る 。
又、 上記第 2 洗浄剤除去方法 は 、 洗浄剤 を 蒸発 さ せ る こ と に よ り 除去 す る 洗浄剤 乾燥工程 ( S 7 ) と 、 基材 1 を 水分 に 接触 さ せ る 接 触工程 ( S 8 ) と 、 水分 を 乾燥 さ せ る 乾燥工程 ( S 9 ) と か ら な る ( 図 3 参照 )。 こ の 第 2 洗浄剤除去方 法 は 、 例 え ば ァ セ ト ン ゃ メ チ ル ェチ ル ケ ト ン な ど常温 に於い て 蒸発す る よ う な低沸点 の 洗浄剤 を 使 用 す る 場合 に 行 う の が好 ま し い 。 上記接触工程は 、 基材 1 表面 に 吸 着 し て い る 分子群 に 残存 し て い る A X 基 と 水分 と を 反応 さ せて 、 吸 着分子 に O H 基 を 導入す る 為 に 行 われ る 。 従 っ て 、 水分 と 接触 さ せ る 方法 と し て は 、 例 え ば空気中 に 放置 し て 該空気 中 の 水分 と 反応 さ せ た り 、 直接水 と 反応 さ せ る 方 法 が採用 さ れ る 。 こ の後、 乾燥工程 ( S 9 ) を 行 う こ と に よ り 、 O H 基同 士 が脱水反応 し て 架橋構造 を 有 す る 有機薄膜 を 形成す る こ と が で き る 。
又、 以上 に 説明 し た洗浄剤 除去方法 の他 に 、 基材 1 に 吸着 し た 吸 着分子 に は A X 基が存在せず、 かつ常温に於い て 蒸発 す る よ う な低 沸点の洗浄剤 を 使用 して い る 場合 に は、 除去工程の後単 に 洗浄剤 を 乾燥さ せ る だ け で よ い。
尚、 前記基材 1 と し て は、 ガ ラ ス 、 金属、 金属酸化物、 セ ラ ミ ツ ク ス 、 プラ ス チ ッ ク 、 木材、 石材、 繊維、 紙及び高分子樹脂等 か ら な る 群 よ り 選ばれ る 何れか 1 種の材料か ら な る も の を 適用 で き る 。 又、 基材 1 表面 は、 塗料等で 塗装 さ れて い て も 構わ な い。 こ れ ら の 材料か ら な る 基材は そ の表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基が存在す る と い う 点で類似 の物性を 有す る 。 尚、 基材 1 の材料 と し て 特 に プラ ス チ ッ ク 等 を 用 い る 場合は、 プラ ス チ ッ ク の種類 に よ っ て は基材 1 を 変質 さ せ た り 、 溶解等 に よ る 損傷 を 与 え た り す る 場合が考 え ら れ る 。 従 っ て 、 予 め洗浄剤 が プラ ス チ ッ ク か ら な る 基材 1 に 上記の よ う な作用 を 与 え な い こ と を 確認 し た う え で使用 す る 必要があ る 。 以下 に 、 本発明 が適用 可能な 用 途 に つ い て 具体例 を 列挙す る が、 本発 明 は こ れ ら に 何 ら 限定 さ れ る も の で は な い 。
( a ) 刃物の例 : 包 丁、 鋏、 ナ イ フ 、 カ ツ 夕 一、 彫刻 刀 、 剃刀 、 ノ リ カ ン 、 鋸、 カ ン ナ 、 ノ ミ 、 錐、 千枚通 し 、 ノ イ ト 、 ド リ ルの 刃 、 ミ キ サー の 刃 、 ジ ュ ーサーの 刃 、 製粉機の 刃、 芝刈 り 機の 刃 、 パ ン チ、 押 し切 り 、 ホ ッ チ キス の 刃 、 缶切 り の 刃 又 は手術用 メ ス 等。
( b ) 針の例 : 緘術用 の針、 縫 い針、 ミ シ ン 針、 フ ト ン針、 畳針、 注射針、 手術用 針、 安全 ピ ン 、 押 し ピ ン 等。
( c ) 窯業製品 の例 : 陶磁器製、 ガ ラ ス 製、 セ ラ ミ ッ ク ス 製 又は ほ う ろ う を 含む製品等。 例 え ば、 衛生陶器 (例 え ば、 便器、 洗面器、 浴槽等)、 食器 (例 え ば、 茶碗、 皿、 ど ん ぶ り 、 湯呑み、 コ ッ プ、 瓶 、 コ ー ヒ ー沸 か し容器、 鍋、 す り 鉢、 カ ッ プ等 )、 花器 (例 え ば、 水 盤、 植木鉢、 一輪差 し等)、 水槽 (例 え ば、 養殖用水槽、 鑑賞用 水槽 等 )、 化学実験器具 (例 え ば、 ビ ー カ 一、 反応容器、 試験管、 フ ラ ス コ 、 シ ャ ー レ 、 冷却管、 撹拌棒、 ス タ 一 ラ ー、 乳鉢、 ノ、' ッ ト 、 注射 器等)、 瓦、 タ イ ル、 ほ う ろ う 製食器、 ほ う ろ う 製洗面器、 ほ う ろ う 製鍋等。
( d ) 鏡の例 : 手鏡、 化粧用 コ ン パ ク ト 付属鏡、 姿見、 浴室用 鏡、 洗面所用鏡、 自 動車用鏡 (例 え ば、 ノ ッ ク ミ ラ 一、 サイ ド ミ ラ 一等 )、 交通用鏡 (例 え ば、 カ ー ブ ミ ラ 一、 反射鏡等)、 ハ ー フ ミ ラ 一、 シ ョ 一 ウ ィ ン ド一用鏡、 デパ ー ト の商品売 り 場の鏡等。
( e ) 成形用 部材の例 : プ レ ス 成型用金型、 铸型成形用金型、 射 出 成型用金型、 ト ラ ン ス フ ァ 一成型用金型、 真空成型用 金型、 吹 き 込 み成型用金型、 押 し 出 し成型用 ダイ 、 イ ン フ レ ー シ ョ ン成型用 口 金 、 繊維紡糸用 口金、 カ レ ン ダ一加工用 ロ ール等。
( f ) 装飾品 の例 : 時計、 宝石、 真珠、 サ フ ァ イ ア、 ル ビ一、 ェ メ ラ ル ド 、 ガ一 ネ ッ ト 、 キ ャ ッ ツ ア イ 、 ダイ ァ モ ン ド 、 ト ノ 一ズ、 ブ ラ ッ ド ス ト ー ン 、 ア ク ア マ リ ン 、 サー ド ニ ッ ク ス 、 ト ル コ 石 、 翡 翠 、 大理石、 ア メ ジ ス ト 、 カ メ オ 、 オ ノ 一ル、 水晶、 ガ ラ ス 、 指輪 、 腕輪、 ネ ッ ク レ ス 、 ア ン ク レ ッ ト 、 ブ ロ ーチ 、 タ イ ピ ン 、 ィ ャ リ ン グ、 ピ ア ス 、 貴金属 装飾製品 、 白 金、 金、 銀、 銅、 ア ル ミ 、 チ タ ン 、 錫あ る い は そ れ ら の合金や ス テ ン レ ス 製、 メ ガ ネ フ レ ー ム 等。
( g ) 食品成形用 型 の例 : ケ ー キ焼成用型、 ク ッ キー焼成用 型、 パ ン焼成用 型、 チ ョ コ レ ー ト 焼成用 型、 ゼ リ ー成形用 型、 ア イ ス ク リ — ム成形用 型、 オ ー ブ ン 皿、 製氷皿等。
( h ) 調理器具 の例 : 鍋、 釜、 や かん、 ポ ッ ト 、 ボール、 フ ラ イ ノ ン 、 ホ ッ ト プ レ ー ト 、 焼 き 物調理用網、 油切 り 、 夕 コ 焼 き プ レ ー ト 、 パ ン焼 き機用 釜、 餅つ き機用 釜、 炊飯器釜、 お玉杓子、 泡た て 器 等。
( i ) 紙の例 : グ ラ ビ ア紙、 撥水撥油紙、 ポ ス タ 一紙、 高級パ ン フ レ ッ ト 紙等。
( j ) 樹脂の例 : ポ リ プ ロ ピ レ ン 、 ポ リ エチ レ ン 等 の ポ リ オ レ フ ィ ン 、 ポ リ 塩化 ビ ニル、 ポ リ 塩化 ビ ニ リ デ ン、 ポ リ ア ミ ド 、 ポ リ イ ミ ド 、 ポ リ ア ミ ド イ ミ ド 、 ポ リ エス テ ル、 ァ ラ ミ ド 、 ポ リ ス チ レ ン 、 ポ リ ス ル フ ォ ン 、 ポ リ エーテ ル ス ル フ ォ ン 、 ポ リ フ エ 二 レ ン ス ル フ イ ド 、 フ ヱ ノ ール樹脂、 フ ラ ン樹脂、 ユ リ ア樹脂、 エ ポ キ シ樹脂、 ポ リ ウ レ タ ン 、 ケ ィ 素樹脂、 A B S 樹脂、 メ タ ク リ ル酸樹脂、 メ タ ク リ ル酸エス テ ル樹脂、 ア ク リ ル酸樹脂、 ア ク リ ル酸エ ス テ ル樹脂 、 ポ リ アセ タ ール樹脂、 ポ リ フ エ 二 レ ン オ キサイ ド 等。
( k ) 家庭電化製品 の例 : テ レ ビ ジ ョ ン 、 ラ ジ オ 、 テ ー プ レ コ ー ダ ―、 オーデ ィ オ、 ノ 一 ソ ナ ル コ ン ピ ュ ー タ 、 コ ン ノ ク ト デ ィ ス ク ( C D ) , ミ ニデ ィ ス ク ( M D )、 デ ジ タ ル ビデオデ ィ ス ク ( D V D ) 、 冷凍関係機器の 冷蔵庫、 冷凍庫、 エ ア一 コ ン デ ィ シ ョ ナ ー、 ジ ュ — サ一、 ミ キ サ ー 、 ミ ルザ一、 洗濯機、 掃除機、 照 明器具、 乾燥機
、 食器洗い機、 ひ げ剃 り 機、 ア ン テ ナ 、 扇風機の 羽、 文字盤、 パ ー マ 用 ド ラ イ ヤ ー等 。
( 1 ) ス ポ ー ツ 用 品 の例 : ス キ ー板、 ス ノ ボ ー ド 板、 ス ケ ー ト ボ — ド 板、 釣 り 竿 、 釣 り 糸、 漁網、 釣 り 浮 き 棒高跳び用 ポー ル 、 ボ —ル、 ヨ ッ ト 、 ジ ヱ ッ ト ス キ一、 サ一 フ ボ ド 、 ゴ ル フ ボ ー ル 、 ボ — リ ン グの ボー ル等。
( m ) 乗 り 物部 品 に適用 す る 例 :
( 1 ) A B S 樹脂 : ラ ン プ カ ノ、'一、 イ ン ス ト ル メ ン ト ノ ネ ル 内 装部品、 ォ 一 ト ノ イ の プ ロ テ ク タ ー
( 2 ) セ ル ロ ー ス プラ ス チ ッ ク : 自 動車 の マ ー ク 、 ノ、 ン ド ル
( 3 ) F R P (繊維強化樹脂 ) : 外板バ ン パ ー 、 エ ン ジ ン 力 パ ー ( 4 ) フ エ ノ ール樹脂 : ブ レ ー キ
• ( 5 ) ポ リ ア セ タ ール : ヮ イ ノ 一ギ ア 、 ガス バル ブ、 キ ヤ ブ レ タ 一部品
( 6 ) ポ リ ア ミ ド : ラ ジ ェ一 夕 一 フ ァ ン
( 7 ) ポ リ ア ク リ レ ー ト : 方 向指示 レ ン ズ、 計器板 レ ン ズ、 リ レ — ノヽ ウ ジ ン グ
( 8 ) ポ リ ブチ レ ン テ レ フ タ レ 一 ト : リ ャ エ ン ド 、 フ ロ ン ト フ エ ン ダ一
( 9 ) ポ リ ア ミ ノ ビ ス マ レ イ ミ ド : エ ン ジ ン 部品、 ギ ヤボ ッ ク ス 、 ホ イ ール、 サ ス ペ ン シ ョ ン ド ラ イ ブシ ス テ ム
( 1 0 ) メ タ ク リ ル樹脂 : ラ ン プカ バー レ ン ズ、 計器板、 計器板 カ ノ、一、 セ ン タ 一マー ク
( 1 1 ) ポ リ プ ロ ピ レ ン : ノ、' ン ノ 一
( 1 2 ) ポ リ フ エ 二 レ ン ォ キ サ イ ド : ラ ジ ェ一 夕 一 グ リ ル、 ホ イ — ル キ ヤ ッ プ
( 1 3 ) ポ リ ウ レ タ ン : ノ ン ノ 一 、 フ ェ ン ダ ー 、 イ ン ス ト ル メ ン ト ノ ネ ル 、 フ ァ ン
( 1 4 ) 不飽和 ポ リ エ ス テ ル樹脂 : ボデ ィ ー 、 燃料 タ ン ク 、 ヒ 一 夕 一ハ ウ ジ ン グ、 計器板等。
( n ) 事務用 品 の例 : 万年筆、 ボ ー ル ペ ン 、 シ ャ ー プペ ン シ ル 、 筆 入れ、 ノ、 'イ ン ダ一、 机、 椅子、 本棚、 ラ ッ ク 、 レ タ ー ケース 、 電話 台 、 物差 し 、 製図用 具等。
( o ) 建材の例 : 屋根材、 外壁材、 内装材。 屋根材 と して 、 窯瓦、 ス レ ー ト 瓦、 ト タ ン (亜鉛 メ ツ キ鉄板) 等 。 外壁材 と し て は 、 木材 (加工木材 を含む )、 モ ル タ ル 、 コ ン ク リ ー ト 、 窯業系サイ ジ ン グ、 金属系サイ ジ ン グ、 レ ン ガ、 石材、 プ ラ ス チ ッ ク 材料、 アル ミ 等 の 金属材料等。 内装材 と し て は 、 木材 (加工木材 を含む )、 アル ミ 等 の 金属.材料、 プラ ス チ ッ ク 材料、 紙、 繊維等。
( p ) 石材の例 : カ コ ゥ 岩、 大理石、 御影石等。 例 え ば、 建築物、 建築材、 芸術品、 置物、 風呂 、 墓石、 記念碑、 門柱、 石垣、 敷石等
( q ) 楽器及び音響機器の例 : 打楽器、 弦楽器、 鍵盤楽器、 管楽器 等の楽器、 及びマ イ ク ロ フ ォ ン 、 ス ピー カ 一等 の音響機器等。 例 え ぱ、 ド ラ ム、 シ ンノ、 *ル、 ノ 一 カ ツ シ ヨ ン 、 ノ ィ ォ リ ン 、 チ ェ ロ 、 ギ タ 一、 琴、 ピ ア ノ 、 オ ル ガ ン 、 ア コ ー デ ィ オ ン 、 ハ ー モ ニ カ 、 フ ル — ト 、 尺八、 ホ ル ン 等。
( r ) そ の他、 魔法瓶、 真空系機器、 電力送電用碍子又は ス パ ー ク プラ グ等の撥水撥油防汚効果の高 い高耐電圧性絶縁碍子等。
尚、 本願発明者等は 日 本国特許第 2 , 5 9 8 , 8 6 7 号 に於い て 、 膜密度 を 向上 さ せ た化学吸着膜及びそ の製造方法 に つ い て 開 示 し て い る 。 こ の 公報 に て 開示 さ れて い る 化学吸着膜の 製造方 法 は 、 吸 着反応 と 、 未反応吸着分子 を 除去 す る 為の 洗浄 と を 交互 に繰 り 返 す こ と に よ り 化学吸着剤 を 基体及び化学吸着膜 に 固定 さ せ 、 膜密度 の 高い化学吸着膜 を 形成す る と い う も の で あ る 。 又、 洗浄 に は非水 系 溶液 を 用 い て い る が、 形成 さ れ る 化学吸着膜は 以下 に 述べ る 点で 本 願発明 の 有機薄膜 と 膜構造が異 な る 。
即 ち 、 上記方 法 に て 形成 さ れ る 化学吸着膜は、 基材表面 の活性水 素 を 有 す る 官能基が存在 し な い 部分で も 、 基材 に 最初 に 吸着 し た 化 学吸着幹分子 に 化学吸着 グ ラ フ ト 分子 を 結合 さ せ る 為、 化学吸着膜 の構成分子 間距離が短 く な り 膜密度の高い構造 と な っ て い る 。 し か も 、 化学吸着 グ ラ フ ト 分子 に は、 化学吸着幹分子等 と の結合 に 用 い ら れな か っ た水酸基が結合 し た ま ま で あ り 、 よ っ て 化学吸着膜の 膜 中 に は多数の水酸基が取 り 残 さ れて い る 。
一方、 本願発明の 有機薄膜は、 ほ と ん どの膜形成分子が基材表面 に 吸着 し て い る の で 、 膜密度 は上記化学吸着膜 と 比較 して低い 。 又 、 製造 プ ロ セ ス に於 い て 乾燥工程 を 行い、 膜中 に 存在 す る 水酸基 同 士 を脱水反応 さ せ て 架橋結合 さ せて い る の で 、 上記化学吸着膜 と 比 較 して水酸基の存在確率は低い 。
以上の こ と か ら 本願発明は、 上記公報 に記載 さ れて い る 化学吸着 膜 と は本質的 に膜構造の異な る 有機薄膜に 関 して 、 製造 プ ロ セ ス を 確立 し た も の で あ る 。
又、 本発明 に係 る 有機薄膜の製造装置は、 被膜形成手段 と 、 除去 手段 と を備 え て 構成 さ れて い る ( 図 7 参照)。 更 に 、 被膜形成手段 と 除去手段 と の 間 に は、 例 え ば従来公知 の搬送装置等か ら な る 基材 の 受け渡 し手段 5 2 を 設 け る こ と も 可能で あ る 。
上記被膜形成手段は、 吸着溶液 を 基材上 に 塗布 す る 等 して 、 該 吸 着溶液 に 含 ま れて い る 吸着分子群 を 基材上 に 吸着 固定 さ せ て 被膜 を 形成す る 機能 を 有 し て い る 。 該被膜形成手段 と し て は 、 具体的 に は 、 例 え ば ス ピ ン 式又は ロ ー ラ 式等 の 塗布装置等 が挙 げ ら れ る 。
上記除去手段は、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む 洗 浄剤 に て 被洗浄物 を 洗浄す る 機能 を 有 す る 。 こ こ で 、 洗浄の 対象 と な る の は、 基材上 に付着 し て 残存 し て い る 未吸着 の 吸着分子 (未 固 定分子) で あ る 。
又、 上記被膜形成手段 と 除去手段 と は 同 一 の 密閉系 に 含み構成 さ れて い て も よ く 、 或い は個 々 に 独立 して 設け ら れて い て も よ い 。
上記構成の様 に 、 被膜形成手段 と 除去手段 と を 同 一 の 密閉系 と す る と 、 外気 と 遮断す る こ と がで き る 。 こ の結果、 例 え ば乾燥雰囲 気 中 で被膜形成工程及び除去工程 を 行 う こ と が可能 と な る ( 図 7 ( a ) )。 こ こ で 、 被膜形成手段 と 除去手段 と を 同一 の 密閉系 に含み構成 さ れ る と は、 例 え ば被膜形成手段及び除去手段 を 内部 に 設置可能 な 外気遮蔽手段 5 1 が有機薄膜の 製造装置 に 具備 さ れて い る 場合等 を 意味す る 。 上記外気遮蔽手段 5 1 と し て は、 そ の 内部か ら 外気 を 遮 蔽で き る も の で あ れば特 に限定 さ れ る も の で は な く 、 例 え ば温度 や 湿度等の制御が可能な チ ャ ン バ 一や処理室等が例 示で き る 。 尚、 上 記外気遮蔽手段 5 1 と して は、 常温常圧 に於い て 湿度 の 制御は勿 論 、 内部の対流の 制御 も 可能な 対流制御手段 を 設 け る こ と も で き る 。 こ れに よ り 、 内部の湿度や対流状態 を 制御す る こ と がで き 、 作業 の 安全性が確保で き る 。 安全性の 確保が必要な の は、 上記ケ ト ン類、 アルキ レ ン グ リ コ ール類又は ア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類の う ち 分子量 の小 さ い化合物の使用 に際 し て は 、 こ れ ら を 含有 し た 洗浄剤 は 引 火 性を 有 す る 為注意 を 要 す る か ら で あ る 。 又、 被膜形成手段 と 除去手段 と は、 上記 し た様 に 、 相互 に 分離 · 独立 し た処理単位 と し て 構成す る こ と も で き る ( 図 7 ( b ) )。 又、 被膜形成工程及 び除去工程 を 乾燥雰 囲気 中 で 行 い た い 場合 に は 、 外 気 と の 隔離 と 湿度等 の 制御 と がで き る 様 に 、 各処理単位毎 に外気遮 蔽手段が設け ら れて い る 構成で あ っ て も よ い 。
尚、 上記除去手段は、 ノ、' ツ チ処理式で も よ く 、 或い は流れ処理式 で も よ い 。
バ ッ チ処理式 と し て は、 被洗浄物 と し て の基材 を 浸漬す る 浸漬法 等が挙げ ら れ る 。 こ の浸漬法 は 、 具体的 に は 図 8 ( a ) に 示 す よ う に 、 上記洗浄剤 3 2 を 洗浄槽 3 1 に満 た す と 共 に 、 基材 3 4 … を 力 セ ッ ト 3 3 に載置 し 、 こ の カ セ ッ ト 3 3 を 洗浄槽 3 1 に所定時間浸 潰 して 洗浄す る も の で あ る 。
流れ処理式 と し て は、 例 え ば 図 8 ( b ) に 示 す様 に 、 基材 3 4 … を搬送す る 搬送部 4. 1 と 、 洗浄剤 を 噴射す る 複数の噴射装置 4 2 … と か ら な る 洗浄装置が挙げ ら れ る 。 更 に、 上記噴射装置 4 2 は、 門 形アーチ状の本体部 4 3 と 、 洗浄剤 を 霧状 に 又は液滴状 に噴射す る ノ ズル 4 3 ··· と が設 け ら れて 構成 さ れて い る 。 又、 ノ ズル 4 3 は、 洗浄剤の噴射方 向 が直下方 向 と 同様の 方 向 と な る 様 に設け ら れて い る 。 そ の一方、 搬送部 4 1 は 門形 アーチ状の本体部 4 3 の 内側 と な る 様に設置 さ れて い る 。 上記構成の洗浄装置 に於い て は、 搬送部 4 1 上に載置 さ れ た基材 3 4 … は矢印 A で 示 す方 向 に搬送 さ れ る と 共 に、 ノ ズル 4 4 … か ら 洗浄剤 が噴射 さ れ る こ と に よ り 洗浄 さ れ る 。 こ こ で、 上記 し たパ ッ チ処理式及び流れ処理式は あ く ま で も 例 示 で あ っ て上記の手段 に 限定 さ れ る も ので は な く 、 本発明の特許請求の 範囲 に記載 さ れ た 技術的思想 と 実質的 に 同 一 な構成 を 有 し、 同様 な 作用効果を 奏す る も の は、 い か な る も の も 本発明 の 技術的範囲 に 包 含 さ れ る 。
又、 本発 明 に 係 る 有機薄膜の 製造装置は 、 必要 に 応 じ て 、 基材 に 付着 し た 洗浄剤 を 除去 す る 為の 洗浄剤 除去工程 を 行 う べ く 、 洗浄剤 除去手段 を 設 け る こ と も 可能で あ る ( 図 7 ( a ) 及び図 7 ( b ) )。 更 に 、 上記洗浄剤 除去手段 と し て は、 図 7 ( c ) に 示 す よ う に 、 リ ン ス 手段 と 乾燥手段 と を 有 す る 構成で あ っ て も よ い 。 上記 リ ン ス 手 段 と して は 、 特 に 限定 さ れ る も の で は な く 、 従来公知 の種 々 の リ ン ス 装置 を 用 い る こ と がで き る 。 又、 上記乾燥手段 と し て は、 特 に 限 定 さ れ る も の で は な く 、 従来公知 の種 々 の乾燥装置 を 用 い る こ と が で き る 。 中 で も 上記乾燥手段 と し て は、 常温風又は温風に よ る プ ロ —が好適 に採用 で き る 。
又、 基材 と し て 紙や繊維等か ら な る も の を 使用 し、 こ れ に有機薄 膜を形成す る 場合 に は、 適宜必要 に応 じ て 洗浄剤 の種類や洗浄方 法 等 を 選択す る 必要があ る 。
[液晶配向膜及び液晶表示装置 〗
ま た、 本発明 の 有機簿膜を液晶配向膜 と し て 液晶表示装置 に適用 す る 場合に は、 該有機薄膜は以下 の方法で製造す る こ と がで き る 。 先ず、 上記 し た の と 同様の手順 にて 、 例 え ば I T 0 ( イ ン ジ ウ ム 錫酸化物) か ら な る 電極等が形成 さ れた基板 を 、 上記吸着溶液 に 接 触さ せて 吸着分子 を 吸着 さ せ る ( S 2 、 図 1 参照 )。 吸着分子が I T 0 表面 に 吸着で き る の は、 該 I T O 表面 に は O H 基が存在 し て お り 、 かつ吸着分子 は O H 基等 の活性水素 を 有 す る 官能基に 対 して 反応 性を 示 す官能基 を 具備 す る か ら で あ る 。 こ れ に よ り 、 耐剥離性等 に 優れた 薄膜の形成が可能 と な る 。
又、 I T 0 表面 に 0 H 基等 が少な い場合 に は 、 エ キ シ マ U V 処理 、 プ ラ ズマ処理等 の処理 を施す こ と に よ り 、 I T O 表面 を 改質 し て O H 基等 を 增 や し た り 、 或い は他 の 物 質層 ( 例 え ば、 蒸着 し た S i 0 層等 ) を 基板上 に形成 し 、 こ の 物質層 を 介 し て 液晶配向膜 を 形成 す る の が好 ま し い 。
続い て 、 S 3 に於 い て 基板表 面 に 残存 す る 未吸着分子 を 洗浄 . 除 去 す る 。 こ れ に よ り 、 残存 す る 未吸着分子 (御子低分子 ) が除去 さ れ、 膜厚 の 均 一 な 薄膜形成が可能 に な る 。 よ っ て 、 残存す る 未吸着 分子 に起因 し て 生 じ る 液晶 の 配列状態の 乱れ、 即 ち 配 向欠陥 を 抑 制 す る こ と がで き る 。 又、 従来 の例 え ば ク ロ 口 ホ ル ム 等 の洗浄剤 に よ る 洗浄 を 行 っ た 場合 に は、 こ の 洗浄 に 起因 し て 吸着分子の吸着状態 の乱れが発生 す る 問題が生 じ て い た 。 し か し、 上記除去工程 に於 い て は、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を含む洗浄剤 に て 洗浄 す る の で 、 吸着分子 の 吸着状態の 乱れが発生 し難 く 、 吸着分子群 が 均一 に 配列 し整 っ た膜構造す る こ と がで き る 。
次い で、 上述の有機薄膜の製造方法 に於け る 場合 と 同様 に 、 S 4 に於い て 洗浄剤 の除去等 を 行 い 、 こ れ に よ り 本発明 に係 る 液晶配 向 膜を製膜す る こ と がで き る 。 尚 、 更 に 必要 に応 じ て 液晶配向膜 に 、 ラ ビ ン グ処理等 の配向処理 を施 し て も よ い。
以上の こ と か ら 、 本発 明 に係 る 液晶配向膜の製造方法は、 塩素 系 洗浄剤 を使用 せ ず に 一様な膜厚 を 有 す る 液晶配向膜を 、 環境 に 対 す る 負荷 を 抑制 し つつ形成す る こ と がで き る 。
上記の様 に し て 得 ら れ た液晶配 向膜は 、 例 え ば 図 9 に 示す態様 の 如 く 液晶表示装置 に 適用 す る こ と がで き る 。 即 ち 、 本発明 に係 る 液 晶表示装置は、 第 1 基板 6 1 と 、 こ れ と 対 を な す第 2 基板 6 2 と 、 第 1 基板 6 1 及び第 2 基板 6 2 の 間 に 介在 す る 液晶層 6 3 と を 有 す る 構成 と す る こ と が で き る 。 第 1 基板 6 1 の 内側 面 に は、 T F T ( 薄膜 ト ラ ン ジ ス タ ) 群 6 4 …及び第 1 電極 6 5 が形成 さ れ、 該第 1 電極 6 5 上 に は 液晶配 向膜 6 6 が形成 さ れて い る 。 上記第 2 基板 6 2 の 内側面 に は 、 カ ラ 一 フ ィ ル タ 一 6 7 が形成 さ れ、 更 に第 2 基板 6 2 及び カ ラ 一 フ ィ ル タ 一 6 7 上 に は第 2 電極 6 8 が設 け ら れて い る 。 該第 2 電極 6 8 上 に は、 液晶配向膜 6 9 が形成 さ れて い る 。 又 、 上記第 1 基板 6 1 及び第 2 基板 6 2 は 、 シ ール材 7 0 に よ り 接着 貼 り 合わせ さ れ、 液晶 を パ ネ ル 内 に封止保持 さ れて い る 。 上記第 1 基板 6 1 の外側 に は偏光板 7 1 が設け ら れ、 第 2 基板 6 2 の外側 に は偏光板 7 2 が設け ら れて レヽ る 。
上記第 1 基板 6 1 及び第 2 基板 6 2 は、 例 え ば ガ ラ ス 等か ら な る 透明基板で あ る 。 又、 上記第 1 電極 6 5 及び第 2 電極 6 8 は 、 例 え ば I T 0 か ら な る 透明導電膜で あ る 。 上記液晶層 6 3 は、 例 え ば ネ マ テ イ ッ ク 液晶 を 含み構成 さ れて い る 。 上記カ ラ ー フ ィ ル タ 一 6 7 は、 R (赤) . G (緑) . B (青 ) の各 ド ッ ト を含み構成 さ れて い る 以上の様な構成の液晶表示装置で あ る と 、 液晶 の配向欠陥等が視 認さ れず表示 品位 に優れた も の と す る こ と がで き る 。 こ れは、 上述 の様に 、 液晶配向膜の膜厚が均一で あ り 、 かつ吸着分子群 も 均一 に 整っ て 吸着 し た膜構造で あ る 結果、 優れた 配向能 を 発揮 し、 配列状 態 を 乱す こ と な く 液晶分子 を 配向 さ せ る こ と がで き る か ら で あ る 。
又、 上記構成の液晶表示装置は 、 液晶配向膜 6 6 · 6 9 を 上述の 方法 に て 製膜す る 以外は、 従来公知の方法 を採用 す る こ と に よ り 作 製す る こ と がで き る 。
尚、 本発明 に係 る 液晶配向膜の製造装置は、 上述 し た有機薄膜 の 製造装置 と 同様の構成 と す る こ と がで き る 。 よ っ て 、 そ の詳細 な 説 明 は省略す る 以下 に 、 図 面 を 参照 して 、 こ の 発明 の 好適 な 実施例 を 例示的 に 詳 し く 説明 す る 。 こ こ で 、 こ の 実施例 に 記載 さ れて い る 構成要素 の 材 質、 製造条件等 は、 特 に 限定的 な 記載が な い限 り は 、 こ の発 明 の 範 囲 を そ れ ら の み に 限定す る 趣 旨 の も の で は な く 、 単 な る 説明例 に 過 ぎ な い 。
[第 1 実施例 ]
(実施例 1 一 1 )
先 ず、 へキ サデカ ン に n — 才 ク タ デ シ ル ト リ ク ロ ロ シ ラ ン を 約 1 重量% と な る よ う に 溶解 さ せ、 吸着溶液 A を 調製 し た 。
次 に 、 十分 に脱脂洗浄 を施 し た ガ ラ ス 基板 1 1 ( 2 c m x 5 c m 、 厚み 1 . 1 m m ) を 、 吸着溶液 Aに 1 時間浸漬 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 ガ ラ ス 基板 1 1·表面 に存在 す る ヒ ド ロ キ シ ル基 と 、 ト リ ク ロ 口 シ リ ル基 と が、 下記化学反応式 に 示す脱塩酸反応 を起 こ し、 シ ロ キ サ ン 結合 を 介 し て 該 ガ ラ ス基板 1 1 上 に化学吸着 し た 。 σ
CH3(CH2)i7-Si™Cl + HO— 材
CI
α
Cffi(CH2>n - Si- Ο— 材 ' (3)
C1 続い て 、 相対湿度 3 5 %程度 の 空気 中 で 、 洗浄剤 と して の ァ セ ト ン を 十分な量 ( 5 0 m l 〜 1 0 0 m l ) と な る よ う に 洗浄槽 に 入れ 、 約 4 5 °Cで加熱 し た 。 こ の洗浄槽の 中 で ガ ラ ス 基板 1 1 を 十分 に 洗浄 し た 。 更 に 、 ガ ラ ス 基板 1 1 表面 に付着 し た ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル を 洗い 流 す 為 に 、 充分 に 水洗 を 行 っ た 。 こ れ に よ り 、 洗浄剤 を 洗い 流す と 共 に 、 ガ ラ ス 基板 1 1 上 に 化学吸着 し た 分子 に於 け る 未反応の C 1 基が O H基に 置換 さ れ る 。 続い て 、 ガ ラ ス 基板 1 1 を 乾燥 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 O H基 同 士 が脱水反応 を起 こ し て 架橋 し 、 図 1 0 に 示 す単分子膜 1 2 が ガ ラ ス 基板 1 1 上 に形成 さ れ た 。
こ こ で、 フ ー リ エ 変換赤外分光 法 ( 以下、 F T — I R と 略す。) に て 単分子膜 1 2 を 測定 す る と 、 図 1 1 に 示 す よ う に 、 2 9 3 0 〜 2 8 4 0 c m— 1 (帰属 : C H 3 及び — C H 2 — )、 1 4 7 0 c m— 1 ( 帰属 : 一 C H 2 — )、 1 0 8 0 c m— 1 ( 帰属 : 一 S i — 0 — ) に 特 徴的な シ グナ ル が得 ら れ た 。 こ れ に よ り 、 図 1 0 に 示 す単分子膜 1 2 が形成 さ れて い る こ と が確認 さ れた 。
尚、 本実施例 に於け る 除去工程は、 相対湿度 5 %以下の ド ラ イ エ ァ一 中 又は窒素 中 で 行 う 方 が良 い が、 相対湿度 3 5 %以下 の空気 中 で あれば、 良好な 結果が得 ら れ た 。
( 比較例 1 一 1 )
本比較例 1 一 1 に於いて は、 洗浄剤 と して ク ロ 口 ホル ム を 用 い た 他は、 前記実施例 1 一 1 と 同様の工程 を行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に単分子膜 1 2 を成膜 し た 。 こ の単分子膜 1 2 に つ い て F T 一 I R測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 1 2 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 1 1 に示す吸収ス ぺ ク ト ル と ほぼ同 じ 吸収位置 に ほぼ同 じ吸収強度 の シ グナ ル を得 ら れた。
更 に 、 実施例 1 — 1 と 比較例 1 一 1 と に つ いて 詳細 に 比較検討 し た結果、 両者 に は膜構造 に於い て 以下 に 述べ る 相違点が見出 さ れ た 。 即 ち 、 図 1 1 及び図 1 2 に 示 す 吸収ス ぺ ク ト ル に於い て 、 2 9 2 0 c m— 1 の C H 2 に逆対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と 、 2 8 6 0 c m一 1 の C H 2 に 対称伸縮振動 に 由 来す る 吸収 と を 比較す る と 、 そ の 吸収比は 、 実施例 1 — 1 に 係 る 図 1 1 に 於 い て は 2 . 2 : 1 で あ り 、 比較例 1 — 1 に 係 る 図 1 2 に 於 い て は 2 . 0 : 1 で あ っ た 。 こ の こ と は、 実施例 1 — 1 に係 る 単分子膜が、 比較例 1 一 1 に 係 る 単 分 子膜 よ り も 均 一 で 整 っ た膜構造で あ る こ と を 示 し て い る 。 なぜ な ら ば、 F T — I R 測定 方法 に 於 い て は、 C H 2 の 吸収比 が 1 : 1 に 近 づ く 程、 膜形成分子 ( 吸着分子 ) の吸着状態が乱 れ た 状態 に あ る と 判断 さ れ得 る 力 ら で あ る ( T.Ohtake et al . , L angmu i r , 2081 , 8 , 1992
)o
(実施例 1 一 2 )
本実施例 1 一 2 に 於い て は、 洗浄剤 と し て メ チ ルェ チ ル ケ ト ン ( 5 0 m l 〜 1 0 0 m l ) を 用 い た 他は 、 前記実施例 1 一 1 と 同様 の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に単分子膜 1 2 を成膜 し た 。 こ の単分子膜 1 2 に つ い て F T — I R測定 を 行 っ た と こ ろ 、 前記 図 1 1 と ほぼ同 じ位置 に ほぼ同 じ 吸収強度の シ グナ ル を 得 ら れた 。 (実施例 1 一 3 )
先ず、 シ ロ キサ ン 系溶媒 (商品 名 : K F 9 6 L 、 信越化学 (株 ) 製) /ト ルエ ン ( = 1 0 / 1 ) に 下記化学式 ( 4 ) で 表 さ れ る 化合物 を約 1 重量% と な る よ う に 溶解 さ せて 、 吸着溶液 B を 調製 し た 。
Figure imgf000041_0001
… (4)
次に、 十分 に脱脂洗浄 を施 し た ガ ラ ス 基板 l 1 を 窒素雰 囲気 中 で 、 吸着溶液 B に 1 時間浸潰 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 上記化学式 ( 4 ) で表さ れ る 分子 が、 下記化学式 ( 5 ) に 示 す よ う に 、 ガ ラ ス 基板 1 上 に 化学吸着 し た
O - 1基材
Figure imgf000042_0001
(5)
次 に 、 湿度 3 5 % の空気 中 、 洗浄剤 と し て の ア セ ト ン を 十分 な 量 ( 5 0 m l 〜 1 0 0 m l ) と な る よ う に 洗浄槽 に 入れ、 こ の洗浄槽 の 中 で ガ ラ ス 基板 1 1 を 十分 に 洗浄 し た 。 更 に 、 ガ ラ ス 基板 1 1 表 面 に付着 し た ア セ ト ン を 洗い 流す 為 に 、 充分 に水洗 を 行 っ た 。 こ れ に よ り 、 洗浄剤 を 洗い流す と 共 に 、 ガ ラ ス 基板 1 1 上 に化学吸着 し た 分子 に於け る 未反応の C 1 基が O H 基 に 置換 さ れ る 。 続いて 、 ガ ラ ス 基板 1 1 を 乾燥 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 O H 基同士 が脱水反応 を ^ こ して 架橋 し、 図 1 3 に 示 す単分子膜 1 3 が ガ ラ ス 基板 1 1 上 に 形成 さ れた 。
こ こ で 、 F T — I R に て 測定 す る と 、 図 1 4 に 示す よ う に、 2 9 2 0 〜 2 8 4 0 c m - 1 (帰属 : 一 C H 2 — )、 1 6 5 0 c m — 1 (帰 属 : C = 0 )、 1 6 0 0 c m - 1 (帰属 : ベ ン ゼ ン 骨格)、 1 3 4 5 c m - 1 (帰属 : ベ ン ゼ ン 骨格)、 1 0 8 0 c m — 1 (帰属 : — S i — 0 一 ) に特徴的な シ グナ ルが得 ら れた 。 こ れ に よ り 、 膜形成の確認が さ れた 。
(比較例 1 一 2 )
本比較例 1 一 2 に於いて は 、 洗浄剤 と し て ク ロ 口 ホ ル ム を 用 い た 他は、 前記実施例 1 — 3 と 同様の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に単分子膜 1 3 を成膜 し た 。 こ の 単分子膜 1 3 に ついて F T 一 I R 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 1 5 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 1 4 と ほぼ同 じ位置 に ほぼ 同 じ吸収強度の シ グナ ル を 得 ら れ た 。
更 に 、 実施例 1 一 3 と 比較例 1 一 2 と に つ い て 詳細 に 比較検討 し た 結果、 両者 に は膜構造 に於 い て 以下 に 述べ る 相違点が見出 さ れ た 。 即 ち 、 図 1 4 及び図 1 5 に 示 す 吸収ス ペ ク ト ル に於 い て 、 2 9 2 0 c m— 1 の C H 2 に 逆対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と 、 2 8 6 0 c m一 1 の C H 2 に 対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と を 比較す る と 、 そ の 吸収比は、 実施例 1 — 3 に 係 る 図 1 4 に於い て は 2 . 1 : 1 で あ り 、 比較例 1 — 2 に係 る 図 1 5 に於 いて は 1 . 9 : 1 で あ っ た 。 よ つ て 、 実施例 1 — 3 に 係 る 単 分子膜が、 比較例 1 一 2 に 係 る 単分子膜 よ り も 均一で 整 っ た 膜構造で あ る こ と が分か っ た 。
(比較例 1 一 3 )
本比較例 1 一 3 に於い て は、 洗浄剤 と して 酢酸ェチ ル又は ギ酸ェ チル を用 い た他は、 前記実施例 1 — 3 と 同様の工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に 単分子膜 1 3 を成膜 し た 。 こ の単分子膜 1 3 の形成後空気 中 に さ ら す と 、 ガ ラ ス基板 1 1 表面は一瞬に して 白 濁 し、 透明性を 有 す る 薄膜を 成膜す る こ と は不可能で あ っ た 。 尚、 上 記舴酸ェチル及びギ酸メ チ ル は特開平 6 — 4 5 1 4 2 号公報、 特閧 平 6 — 3 1 2 4 7 7 号公報、 特開平 6 — 1 8 7 6 9 2 号公報等 に 記 載さ れて い る 、 カ ルボ二 ル基 を 有 す る エ ス テ ル類で あ る 。
(比較例 1 一 4 )
本比較例 1 — 4 に於いて は、 洗浄剤 と して ト ルエ ン を 用 い た他は 、 前記実施例 1 一 3 と 同様の 工程 を行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に単分子膜 1 3 を 成膜 し た 。
ガ ラ ス 基板 1 1 上 に 成膜 さ れ た 単分子膜 1 3 に つ いて 観察 し た と こ ろ 、 ご く 薄 く 雲 が懸か っ た よ う に 見え た 。 更 に 、 こ の単分子膜 1 3 について F T — I R 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 1 6 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 1 4 及 び図 1 5 と は 明 ら か に 異 な り 、 吸収強度 の 大 き な シ グナ ル が得 ら れ た 。 こ の こ と は 、 洗浄剤 と し て ト ル エ ン を 用 い た 場合 に は 、 洗浄 が不 十分で あ る こ と を 示 し て い る 。
( 比較例 1 一 5 )
本比較例 1 一 5 に於い て は、 洗浄剤 と し て D M F ( ジ メ チル フ ォ ル ム ア ミ ド ) を 用 い た他は、 前記実施例 1 一 3 と 同様 の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 1 1 上 に 単分子膜 1 3 を 成膜 し た 。
こ の 単分子膜 1 3 に つ いて 観察 し た と こ ろ 、 無色透明 に 見え た 。 更 に 、 こ の 単分子膜 1 3 に つ い て F T — I R 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 1 7 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 1 4 及び図 1 5 と は 明 ら か に 異 な り 、 吸収強度 の大 き な シ グナ ル が得 ら れた 。 こ の こ と は、 洗浄剤 と して D M F を 用 い た場合に は、 洗浄が不十分で あ る こ と を 示 し て い る 。
'(結果)
以上の結果か ら 、 有機薄膜を 製造す る に 際 し て 、 そ の 除去工程 に て ァセ ト ン 又は メ チルェチル ケ ト ン を 洗浄剤 と し て 用 い れば、 ク ロ 口 ホ ル ム と 同様 の洗浄効果があ る こ と が確認 さ れた 。 更 に 、 上記ァ セ ト ン や メ チルェチルケ ト ン の他 に、 ジ ェチ ル ケ ト ン 、 メ チル イ ソ プチルケ ト ン 又は ァ セ チルァ セ ト ン等 を 使用 し た場合 に も 、 ク ロ 口 ホル ム を使用 し た場合 と 同様の洗浄効果 を 奏す る こ と が確認 さ れ た 。 一方、 塩素系洗浄剤 で はな い ト ルエ ン や D M F を 洗浄剤 と して 使 用 し た場合 と 比較 して 、 洗浄作用 に優れて い る こ と が確認さ れた 。 よ っ て 、 上記各実施例 に係 る 洗浄剤 は有機塩素 系溶剤 の代替洗浄剤 と し て 有用 で あ る こ と が判明 し た 。
[第 2 実施例 ]
(実施例 2 — 1 ) 先ず、 へ キ サデ カ ン に n — 才 ク タ デ シ ル ト リ ク ロ ロ シ ラ ン を 約 1 重量% と な る よ う に 溶解 さ せ 吸着溶液 A を 調製 し た 。
次 に 、 十分 に 脱脂洗浄 を 施 し た ガ ラ ス 基板 2 1 ( 2 0 X 7 m m 、 厚み 1 . 1 m m ) を 、 吸着溶液 A に 1 時間浸潰 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 ガ ラ ス 基板 2 1 表面 に 存在 す る ヒ ド ロ キ シ ル基 と 、 ト リ ク ロ ロ シ リ ル基 と が、 下記化学反応式 に 示 す脱塩酸反応 を 起 こ し、 シ ロ キ サ ン 結合 を 介 し て 該 ガ ラ ス 基板 2 1 上 に化学吸着 し た 。
C1
CH3(CH2)17-Si-Cl + HO—基材
C1
C1
~ CH3(CH2)17— Si— 0—基材 . ' ' (3>
C1
■ 次に、 相対湿度 3 5 %程度 の 空気中 で 、 洗浄剤 と し て の ポ リ ェ チ レ ン グ リ コ 一ル (平均分子量 3 0 0 ) を 5 0 m l ( ガ ラ ス 基板 2 1 が十分 に浸か り 、 振 り 払い洗浄が可能な程度 の量) 洗浄槽 に 入れ、 約 4 5 °Cで加熱 し た 。 こ の洗浄槽 の 中で ガ ラ ス 基板 2 1 を 3 回洗浄 し た。 1 回 の洗浄 に有 す る 洗浄時間は 1 分間程度 と し た 。 更 に 、 ガ ラ ス基板 2 1 表面 に付着 し た ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール を洗い流す為 に、 水洗を 行 っ た 。 水洗は流水下で約 5 分間置 く こ と に よ り 行 っ た 。 こ れに よ り 、 洗浄剤 を洗い 流 す と 共 に 、 ガ ラ ス 基板 2 1 上 に化学 吸着 し た分子 に於け る 未反応 の C 1 基が O H 基 に 置換 さ れ る 。 続 い て 、 ガ ラ ス 基板 2 1 を 乾燥 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 O H 基同士が脱水 反応を起 こ して 架橋 し、 図 1 8 に 示 す 単分子膜 2 2 が ガ ラ ス 基板 2 1 上 に形成さ れた 。
こ こ で 、 単分子膜 2 2 に つ い て フ ー リ エ 変換赤外分光法 ( 以下 、 F T — I R と 略 す 。) に て 測定 す る と 、 図 1 9 に 示 す よ う に 、 2 9 3 0 ~ 2 8 4 0 c m— 1 ( 帰属 : C H 3 及び一 C H 2 — )、 1 4 7 0 c m - 1 (帰属 : — C H 2 — )、 1 0 8 0 c m - 1 (帰属 : 一 S i — 0 — ) に 特徴的 な シ グナ ル が得 ら れ た 。 こ れ に よ り 、 図 1 8 に 示 す単分子 膜 2 2 が形成 さ れて い る こ と が確認 さ れた 。
尚、 本実施例 に於 け る 除去工程 は、 相対湿度 5 %以下 の ド ラ イ エ ァ一 中 又は窒素 中 で 行 う 方 が良 い が、 相対湿度 3 5 %以下 の空気 中 で あれば、 良好 な結果が得 ら れ た 。
(比較例 2 — 1 )
本比較例 2 — 1 に於 い て は 、 洗浄剤 と し て ク ロ 口 ホ ル ム を 用 い た 他は、 前記実施例 2 — 1 と 同様の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 2 1 上 に単分子膜 2 2 を成膜 し た 。 こ の単分子膜 2 2 に つ い て F T 一 I R測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 2 0 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 1 9 に示す吸収ス ぺ ク トル と ほぼ同 じ吸収位置 に ほぼ同 じ 吸収強度 の シ グナル を得 ら れた 。
更 に、 実施例 2 — 1 と 比較例 2 — 1 と に つ い て 詳細 に 比較検討 し た結果、 両者 に は膜構造 に於い て 以下 に述べ る 相違点が見出 さ れ た 。 即ち 、 図 1 9 及び図 2 0 に 示す吸収ス ペク ト ル に於いて 、 2 9 2 0 c m— 1 の C H 2 に 逆対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と 、 2 8 6 0 c m— 1 の C H 2 に対称伸縮振動 に 由 来す る 吸収 と を 比較す る と 、 そ の 吸収比は、 実施例 2 — 1 に係 る 図 1 9 に於い て は 1 . 6 5 : 1 で あ り 、 比較例 2 — 1 に 係 る 図 2 0 に於い て は 1 . 5 8 : 1 で あ っ た 。 よ っ て、 実施例 2 — 1 に 係 る 単分子膜が、 比較例 2 — 1 に係 る 単分 子膜よ り も 均一で整 つ た膜構造で あ る こ と が分か っ た 。
(実施例 2 - 2 )
先ず、 シ ロ キ サ ン 系溶媒 ( 商品 名 : K F 9 6 L 、 信越化学 (株 ) 製) / ト ル エ ン ( = 1 0 / 1 ) に 下記化学式 ( 4 ) で 表 さ れ る 化合物 を 約 1 重量% と な る よ う に 溶解 さ せ て 、 吸着溶液 B を 調製 し た 。
C1
《 CH=CH-C - - O- <CH2)6- OSi-Cl
II
o CI
(4)
次 に 、 十分 に 脱脂洗浄 を施 し た ガ ラ ス 基板 2 1 を 窒素雰囲気中 で 、 吸着溶液 B に 1 時間浸漬 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 上記化学式 ( 4 ) で表 さ れ る 分子が、 下記化学式 ( 5 ) に 示 す よ う に 、 ガ ラ ス 基板 2 1 上 に化学吸着 し た 。
C1
《 CH=CH- C-《 ])-0(CH2)6-OSi-O-基材
II
0 CI
(5) 次に、 湿度 5 0 %の 空気中 、 洗浄剤 と して の グ リ コ ー ルエーテ ル (商品名 : P K — L C G 5 5 、 パ 一力 一 コ ーポ レ ー シ ョ ン製) ( 平均 分子量 2 0 0 ) を 十分 な 量 と な る よ う に洗浄槽 に 入れ、 約 8 0 °Cで 加熱 し た。 こ の洗浄槽の 中 で ガ ラ ス 基板を 十分 に 洗浄 し た。 更 に 、 ガ ラ ス基板 2 1 表面 に付着 し た ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール を 洗い 流 す 為に、 充分 に 水洗 を 行 っ た 。 こ れ に よ り 、 洗浄剤 を 洗い 流す と 共 に 、 ガ ラ ス基板上 に化学吸着 し た 分子 に於け る 未反応の C 1 基が O H 基に置換 さ れ る 。 続い て 、 ガ ラ ス 基板 2 1 を 乾燥 さ せ た 。 こ れ に よ り 、 O H基同士 が脱水反応 を 起 こ して 架橋 し 、 図 2 1 に 示 す単分子 膜 2 3 がガ ラ ス 基板 2 1 上 に形成 さ れた 。
こ こ で、 単分子膜 2 3 に つ い て F T — I R測定 を す る と 、 図 2 2 に 示 す よ う に 、 2 9 2 0 〜 2 8 4 0 c m— 1 ( 帰属 : 一 C H 2 — )、
1 6 5 0 c m— 1 (帰属 : C = 0 )、 1 6 0 0 c m— 1 ( 帰属 : ベ ン ゼ ン 骨格)、 1 3 4 5 c m— 1 ( 帰属 : ベ ン ゼ ン 骨格)、 1 0 8 0 c m— 1 ( 帰属 : 一 S i — 0 — ) に 特徴的 な シ グナ ル が得 ら れた 。 こ れ に よ り 、 膜形成の 確認が さ れた 。
( 比較例 2 — 2 )
本比較例 2 — 2 に 於いて は 、 洗浄剤 と し て ク 口 口 ホ ル ム を 用 い た 他は、 前記実施例 2 — 2 と 同様の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 2 1 上 に 単分子膜 2 3 を成膜 し た 。 こ の 単分子膜 2 3 に つ い て F T — I R測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 2 3 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 2 2 に 示 す吸収 ス ぺ ク ト ル と ほぼ 同 じ 吸収位置 に ほぼ 同 じ 吸収強度の シ グナ ル を得 ら れた 。
更 に 、 実施例 2 - 2 と 比較例 2 — 2 と に つ い て 詳細 に 比較検討 し た結果、 両者 に は膜構造 に於い て 以下 に 述べ る 相違点が見出 さ れ た 。 即 ち 、 図 2 2 及び図 2 3 に 示 す吸収ス ぺ ク ト ル に於 い て 、 2 9 2 0 c m— 1 の C H 2 に逆対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と 、 2 8 6 0 c m一 1 の C H 2 に対称伸縮振動 に 由来す る 吸収 と を 比較す る と 、 そ の 吸収比は、 実施例 2 — 2 に係 る 図 2 2 に於い て は 1 . 8 : 1 で あ り 、 比較例 2 — 2 に係 る 図 2 3 に於い て は 1 . 7 : 1 で あ っ た 。 よ つ て 、 実施例 2 — 2 に係 る 単分子膜が、 比較例 2 — 2 に 係 る 単分子膜 よ り も 均一で整 っ た膜構造で あ る こ と が分か っ た 。
(実施例 2 — 3 )
本実施例 2 — 3 に於いて は、 洗浄剤 と し て ェ ト キ シ エ タ ノ ール を 用 い た他は 、 前記実施例 2 — 2 と 同様の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス基板 2 1 上 に 単分子膜 2 3 を 成膜 し た 。 こ の単分子膜 2 3 に つ い て F T — I R測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 2 4 に 示 さ れ る よ う に 、 前記 図 2 2 及び図 2 3 と ほ ぼ同 じ 位 置 に ほぼ 同 じ 吸収強度 の シ グナ ル を 得 ら れた 。
( 比較例 2 — 3 )
本比較例 2 — 3 に於い て は 、 洗浄剤 と し て ト ルエ ン を 用 い た他 は 、 前記実施例 2 — 2 と 同様の 工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 2 1 上 に 単分子膜 2 3 を 成膜 し た 。
ガ ラ ス 基板 2 1 上 に成膜 さ れ た 単分子膜 2 3 に つ い て 観察 し た と こ ろ 、 ご く 薄 く 雲が懸か っ た よ う に見え た 。 更 に 、 こ の単分子膜 2 3 に つ い て F T — I R 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 2 5 に 示 さ れ る よ う に 、 前記図 2 2 及び図 2 3 と は 明 ら か に 異 な り 、 吸収強度の大 き な シ グナルが得 ら れた 。 こ の こ と は 、 洗浄剤 と し て ト ルエ ン を 用 い た 場合に は、 洗浄が不十分で あ る こ と を 示 し て い る 。
( 比較例 2 — 4 )
本比較例 2 — 4 に於い て は、 洗浄剤 と して D M F ( ジ メ チ ル フ ォ ルム ア ミ ド ) を 用 い た他は、 前記実施例 2 — 2 と 同様の工程 を 行 う こ と に よ り ガ ラ ス 基板 2 1 上 に 単分子膜 2 3 を 成膜 し た 。
こ の単分子膜 2 3 に つ い て 観察 し た と こ ろ 、 無色透明 に見え た 。 更 に、 こ の単分子膜 2 3 に つ い て F T — I R 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 2 6 に 示 さ れ る よ う に、 前記図 2 2 及び図 2 3 と は 明 ら か に異 な り 、 吸収強度の大 き な シ グナ ル が得 ら れた 。 こ の こ と は、 洗浄剤 と して D M F を 用 い た場合に は 、 洗浄が不十分で あ る こ と を 示 し て い る 。
(結果)
以上の結果か ら 、 有機薄膜 を 製造す る に 際 し て 、 そ の除去工程 に て ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル、 グ リ コ ー ル エーテ ル 又はエ ト キ シ エ タ ノ ール を 洗浄剤 と し て 用 い れば 、 ク ロ 口 ホ ル ム と 同様の洗浄効果 が あ る こ と が確認 さ れ、 未吸着 の 分子 が除去 さ れた 均一 な膜厚 の 有機 薄膜を 製造 す る こ と がで き た 。 一 方 、 塩素 系洗浄剤 で は な い ト ル ェ ン ゃ D M F 等 の従来の 代替洗浄剤 を使用 し た 場合 と 比較 し て 、 上 記 洗浄剤 は洗浄作 用 に 優れて い る こ と が確認 さ れた 。 よ っ て 、 上記各 実施例 に係 る 洗浄剤 は 有機塩素 系 溶剤 の代替洗浄剤 と し て 有 用 で あ る こ と が判明 し た 。 発明 の詳細 な 説明 の項 に お い て な さ れた 具体的 な 実施態様は、 あ く ま で も 、 本発明の 技術内容 を 明確に す る も の で あ っ て 、 そ の よ う な 具体例 に の み限定 し て 狭義 に 解釈さ れ る べ き も ので は な く 、 本発 明の精神 と 次 に 記載す る 許請求事項 と の範囲内で 、 種 々 に 変更 し て 実施す る こ と がで き る も の で あ る 。
産業上の利用 可能性
以上説明 し た様 に、 本発 明の構成に よ れば、 本発明 の課題を 十分 に達成す る こ と がで き る 。
即 ち 、 本発明 に係 る 有機薄膜 に よ れば、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 に よ り 洗浄 さ れて形成 さ れ る ので 、 均 一 な膜厚 を有 し 、 かつ均 一 に 配列 し 整 っ た膜構造 と す る こ と がで き る 更 に、 本発明 に 係 る 有機薄膜の製造方法 に よ れば、 ケ ト ン類、 ァ ルキ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 を 含む洗浄剤 を 用 い る こ と に よ り 、 塩素系 洗浄剤 の代替洗浄剤 と して 未固定分子 を 除去 す る こ と がで き 、 一様 な膜厚 を 有 す る 有機薄膜の製造 が可能 と な る 。 こ の 結果、 環境 に 対 す る 負 荷 を 低減 し た 有機薄膜の製造 プ ロ セ ス を 提供 で き る と い う 効 果 を 奏 す る 。
又、 本発 明 に 係 る 液晶配向膜 に よ れば、 膜厚 が均一 で 、 かつ 分子 群が均一 に 配列 し整 っ た膜構造 を 有 す る の で 、 配列状態 を 乱す こ と な く 液晶分子 を 配向 さ せ る こ と が可能 と な る 。
更 に 、 本発 明 に 係 る 液晶配 向膜の製造方法 に よ れば、 ケ ト ン類、 アル キ レ ン グ リ コ 一ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少な く と も 一種 を 含む洗浄剤 を 用 い る こ と に よ り 、 塩素 系有機溶剤 を 使 う こ と な し に 未固定分子 を 除去す る こ と がで き 一様 な膜厚 を 有 す る 液晶配向膜 を 製造で き る 。 し か も 、 基板 に 対す る 吸 着状態が良好で膜構造 に乱れが生 じ る こ と な く 、 配 向能 に優れ た 液 晶配向膜 を 、 環境 に対す る 負荷 を 低減 し て製造で き る と い う 効果 を 奏す る 。
更 に 、 こ の様な液晶配向膜 を 備 え た 液晶表示装置で あ る と 、 液晶 の配向欠陥等が視認 さ れず表示品位 に優れ た も の に で き る と い う 効 果を奏す る 。 よ っ て 、 本発明 の産業上 の意義は大で あ る 。

Claims

請 求 の 範 囲
( 1 ) 基材上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な る 有機薄膜で あ っ て 、 上記有機薄膜は 、 活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た後、 上 記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一 ル類及びア ル コ キ シ アル コ ール類 か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜。
( 2 ) 上記活性水素 を 備 え た 官能基に対 して 反応性 を 示 す官能 基は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官 能基で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 に 記載の有機薄膜。
I I
-AX 、 -AX2 及び —AX3 · * * <!>
I
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 3 ) 上記洗浄剤 は、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い こ と を 特徴 と す る 請求項 1 に記載の 有機薄膜。
( 4 ) 上記洗浄剤 の含水率 が 1 % 未満で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 に記載の 有機薄膜。
( 5 ) 上記基材の 表面 に は 、 活性水素 を 有 す る 官能基が存在 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 に 記載の有機薄膜。
( 6 ) 上記基材は 、 ガ ラ ス 、 金属、 金属酸化物、 樹脂、 紙、 布
、 木材及びセ ラ ミ ッ ク ス か ら な る 群 よ り 選ばれ る 何 れ か一種か ら な る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 に 記載の有機薄膜。
( 7 ) 上記有機薄膜は 乾燥雰囲気 中 で 上記分子 を 上記基材面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た後 乾燥雰囲気 中で上記洗浄剤 に て 除去 し て 得 ら れた 単分子膜で あ る と を 特徴 と す る 請求項 1 に 記載の 有機 簿膜。
( 8 ) 基材上 に 結合さ れ た 分子群か ら な る 有機薄膜で あ っ て 、 上記有機薄膜は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れる 一種の官能基を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に接触 さ せて 結合 さ せた後、 上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チ ル ェ チル ケ ト ン 、 ジェチル ケ ト ン 、 メ チルイ ソ プチ ル ケ ト ン及びァ セ チ ルアセ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 1 種の ケ ト ン 類 を 含 む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜 -AX 、 -AX 及び -Α ί ■ * · <!>
( 式 中 、 Α は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種の 原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ば れ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。)
( 9 ) 基材上 に 結合 さ れた 分子群か ら な る 有機薄膜で あ っ て 、 上記有機薄膜は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種 の官能基を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に接触 さ せて 結合 さ せ た後、 上記基材 に結合さ れな い 上記分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ ー ル 、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル、 ブチ レ ン グ リ コ 一 ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ エ チ ル エ ー チ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル ア セ テ ー ト 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル ァ セ テ一 ト 及びエチ レ ン グ リ コ ールモ ノ 一 n—ブチル ェ 一 テ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 を含む洗浄剤で 除去 し て得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 有機 薄膜。
-AX 、 -AX2 及び — A 3 - ' ' <1>
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム、 ス ズ、 チ タ ン及び ジル コ ニ ゥ ムか ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 1 0 ) 基材上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な る 有機薄膜で あ っ て 上記有機薄膜は 、 下 記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に 接触 さ せて 結合 さ せ た後、 上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ —ル、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ール 、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ エチ ルェ 一テ ル、 ポ リ ジ エチ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル ア セ テ ー ト 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ノレ エ 一 テ ル 、 ポ リ ェチ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チ ル ェ 一テ ル ァ セ テ 一 ト 及びポ リ ェチ レ ン グ リ コ ールモ ノ ー n — ブチ ルエーテルか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な ぐと も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 を 含む洗浄剤 で除去 し て 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜。
-AX 、 -AX2 及び — AX3 . . . (1)
(式中、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。)
( 1 1 ) 上記ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類の分子量が 1 0 0 以上、 3 0 0 以下の範囲 内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 0 に記載の 有 機薄膜。 ( 1 2 ) 基材上 に 結合 さ れ た 分子群 か ら な る 有機薄膜で あ っ て 上記有機薄膜 は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基材面 に 接触 さ せ て 結合 さ せ た後、 上記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ー ル 及びメ ト キ シ ア ル コ ールか ら な る 群 よ り 選 ばれ る 少 な く と も 一種 の アル コ キ シ ア ル コ ール類 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜。
1 I
-AX 、 -AX2 及び 一 A 3 - ' ' (1)
I (式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し 、 X は ノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ゾ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ば れ る 1 種の官能基を 表 し て い る 。) ( 1 3 ) 活性水素 を有 す る 官能基 に 対 して 反応性 を 示 す官能基 を備え た 分子群 を基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材上 に結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に結合さ れな い上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤で 除去 す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造方 法。
( 1 4 ) 上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選 ばれ る 1 種 の 官能基 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 3 に 記 載の有機薄膜の 製造 方 法。
-AX 、 -AX2 及び —AX3 . . . <1>
( 式 中 、 Aは ケ ィ 素 、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し 、 Xは ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 1 5 ) 上記洗浄剤 と し て 、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 3 に 記載の 有機薄膜の 製造方法。
( 1 6 ) 上記洗浄剤 と し て 、 含水率が 1 %未満の も の を使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 3 に 記載の有機薄膜の製造方法。
( 1 7 ) 更 に 、 上記除去工程の後 に 、 上記基材 に 付着 し た上記 洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤除去工程 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 3 に記載の有機薄膜の製造方法。
( 1 8 ) 上記洗浄剤除去工程は、 上記基材 に付着 し た上記洗浄 剤 を水で洗い流す リ ン ス 工程 と 、 上記基材 に付着 し た 上記水 を 乾燥 さ せ る 乾燥工程 と を有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 7 に記載の 有 機薄膜の製造方法。
( 1 9 ) 上記基材 と し て 、 そ の 表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基 が存在 す る も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 4 に 記載の 有 機薄膜の製造 方法。
( 2 0 ) 上記基材 と し て 、 ガ ラ ス 、 金属、 金属酸化物、 樹脂 、 紙、 繊維、 木材及び セ ラ ミ ッ ク ス か ら な る 群 よ り 選ば れ る 何 れか一 種か ら な る も の を 用 い る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 9 に 記載の 有機 薄膜の製造方法。
( 2 1 ) 上記被膜形成工程及 び除去工程 を 乾燥雰 囲気中 で 行 う こ と を 特徴 と す る 請求項 1 4 に 記載の有機薄膜の製造方法。
( 2 2 ) 上記基材上 に 、 上記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 有 す る 分子群 を 、 単分子膜状 と な る よ う に.結合 さ せ た 、 そ の よ う な 有機薄膜を形成す る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 1 に 記載の 有機簿膜の製造方法。
( 2 3 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材 上に結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に結合 さ れな い上記分子を 、 アセ ト ン 、 メ チ ルェチ ル ケ ト ン、 ジェチルケ ト ン 、 メ チ ル イ ソ ブチ ル ケ ト ン及びァ セ チ ル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種の ケ ト ン類 を 含む洗浄 剤で除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造方法。 AX AX2 ¾び ( 1)
( 式 中 、 Α は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及 び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ 基及び イ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 2 4 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材 上 に 結合 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と
• 上記基材上 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 エ チ レ ン グ リ コ ール、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ブチ レ ン グ リ コ 一 ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ — ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ メ チ ル エー テ ル ァ セ テ 一 ト 及びェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ 一 n — ブチ ル エ ー テ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類 を 含 む洗浄剤で除去 す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造方法。 I I
-AX 、 -AX2 及び — AX3 ■ · · !>
(式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲ ル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の 原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 2 5 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基 を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材 上 に結合さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 上記基材上 に結合 さ れな い上記分子 を 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ ェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル、 ポ リ ジ エ チ レ ン グ リ コ 一 ノレ モ ノ エチ ルェ一 テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル ァ セ テー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ メ チ ルエーテ ル、 ポ リ ェ チ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ メ チルェ一テ ル ア セ テ ー ト 及びポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ 一 n — プチルェ一テ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種のアル キ レ ン グ リ コ ール類 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去ェ 程 と、
を含む こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造方法。
I I
-AX 、 -AX2 及び — AX3 ■ * ■ <!>
I (式中、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 1 種 の 原子 を 表 し 、 X は ノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及 びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。) ( 2 6 ) 上記 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類の分子量が 1 0 0 以上 、
3 0 0 以下 の範囲 内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 5 に記載の 有 機薄膜の製造方 法。
( 2 7 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基 を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 、 該基材 上 に結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 上記基材上 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ー ル及び メ ト キ シ ア ル コ ール か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 を 含む洗浄剤 で除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び ■ · · <!>
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 X はノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 2 8 ) 活性水素 を 有 す る 官能基に 対 し て 反応性 を 示す官能基 を備 え た分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表面 に 結合 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成手段 と 、 上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及 びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去 す る 除去手段 と 、
を 有 す る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造装置。
( 2 9 ) 上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 8 に 記 載の 有機薄膜の製造装置。
-AX 、 -AX2 及び 一 A 3 ■ ' ■ <i> (式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の官能基を 表 し て い る 。) ( 3 0 ) 上記有機簿膜の製造装置は、 上記被膜形成手段 と 除去 手段 と が同 一の密閉系 に含み構成 さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求 項 2 8 に記載の有機簿膜の製造装置。
( 3 1 ) 上記被膜形成手段及び除去手段 を 内部 に設置 し 、 同 一 の密閉系 と す る こ と が可能な外気遮蔽手段で あ っ て 、 内部の湿度 を 制御 し て 乾燥雰囲気 と す る 外気遮蔽手段 を 備 え る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 0 に 記載の有機薄膜の 製造装置。 ( 3 2 ) 上記被膜形成手段 と 除去手段 と は 、 相 互 に 分離 · 独 立 し て 設け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 8 に 記載の有機薄膜 の製造装置。 ( 3 3 ) 上記洗浄剤 は、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い こ と を 特徴 と す る 請求 2 8 に 記載の 有機薄膜の 製造装置。
( 3 4 ) 上記洗浄剤 の含水率が 1 %未満で あ る こ と を 特徴 と す る 請求 2 8 に 記載の 有機薄膜の製造装置。
( 3 5 ) 上記基材 に付着 し た 上記洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤 除去 手段 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 8 に 記載の有機薄膜の製造 装置。 ( 3 6 ) 上記洗浄剤 除去手段は、 上記基材 に付着 し た上記洗浄 剤 を水で洗い流す リ ン ス 手段 と 、 上記基材 に付着 し た上記水 を 乾燥 し除去す る 乾燥手段 と か ら な る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 5 に 記載 の有機薄膜の製造装置。 ( 3 7 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表 面に結合さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に 結合 さ れ な い上記分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チ ルェチル ケ ト ン、 ジ ェ チ ル ケ ト ン 、 メ チ ル イ ソ プチ ル ケ ト ン 及 び ァ セ チ ル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種 の ケ ト ン類 を 含む洗浄 剤 で 除去 す る 除去手段 と 、
を 有 す る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜 の製造装置。
-AX 、 -AX2 及び — A 3 ■ * ' <!>
( 式 中 、 A は ケ ィ 素 、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の 原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及び ィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選 ばれ る 1 種 の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 3 8 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基 を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表 面 に結合 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に結合 さ れな い上記分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ 一ル、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ 一ル、 ブチ レ ン グ リ コ ール、 ェチ レ ン グ リ コ 一 ノレ モ ノ ェチルェ一テ ル、 ジ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチ ルェ一テ ル、 ェチ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ ェチルエーテ ルァセ テ一 ト 、 エチ レ ン グ リ コ 一 ルモ ノ メ チ ルェ一テ ル、 エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ メ チ ルエーテ ル ァ セ テー ト 、 エチ レ ン グ リ コ ール モ ノ ー n—ブチ ル エーテ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一ル、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ プチ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ —ル モ ノ エチルェ —テ ル、 ポ リ ジ ェ チ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ ェ チルエーテ ル、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一 レ モ ノ ェチルェ一テ ル ァ セ テ ー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ —ルモ ノ メ チ ル ェ —テル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ール モ ノ メ チルエ ーテ ル ァ セ テ 一 ト 及 びポ リ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ 一 n — ブチ ルェ一テ ル か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 少 な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 を 含む洗浄 剤 で 除去す る 除去手段 と 、
を 有 す る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造装置。
-AX 、 -AX2 及び —A 3 ■ ' ' <1>
( 式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 3 9 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の官能基を 有 す る 分子群 を 基材 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基材表 面 に結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ール及び メ ト キ シ アル コ ールか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル コ キ シ ア ル コ ール類 を含む洗浄剤 で 除去す る 除去手段 と 、
を 有す る こ と を 特徴 と す る 有機薄膜の製造装置。
I I
-AX 、 -AX2 及び — A 3 - · · <!>
I
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。) ( 4 0 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜で あ っ て 、
上記液晶配向膜は 、 活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た 後、 上記基板 に結合 さ れな い上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜。
( 4 1 ) 上記活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す 官 能基は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 0 に 記載の液晶配向膜。
\
AX -AX2 及び -AX3 (1)
I
(式中、 Aは ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 Xは ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 4 2 ) 上記洗浄剤は、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い こ と を特徴 と す る 請求項 4 0 に 記載の液晶配 向膜。
( 3 ) 上記洗浄剤 の含水率 が 1 %未満で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 0 に 記載の 液晶配向膜。
( 4 4 ) 上 記基板の 表面 に は 、 活性水素 を 有 す る 官能基が存在 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 1 に 記載の液晶 配 向膜。
( 4 5 ) 上 記液晶配向膜は 、 乾燥雰囲気 中 で 上記分子 を 上記基 板面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た後、 乾燥雰 囲気 中 で 上記洗浄剤 に て 除 去 し て 得 ら れ た 単分子膜で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 0 に 記載 の液晶配 向膜。
( 4 6 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜で あ っ て 、
上記液晶配向膜は、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せて 結合 さ せ た後、 上記基板 に結合 さ れな い分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チルェ チ ルケ ト ン 、 ジ ェ チ ル ケ ト ン、 メ チ ルイ ソ プチ ル ケ ト ン及びァ セ チ ル アセ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 1 種の ケ ト ン類 を含む 洗浄剤で除去 し て 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜
AX -AX2 及び -A ¾ (1)
(式中 、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ムか ら な る群 よ り 選ば れ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ 基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。) ( 4 7 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群 か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜で あ っ て 、
上記液晶配 向膜は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せて 結合 さ せ た後、 上記基板 に結合 さ れな い分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ ール 、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ 一 ル 、 ブチ レ ン グ リ コ ー ル 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ジ ェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ エ チ ノレ エ 一 テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル ア セ テ ー ト 及びエチ レ ン グ リ コ ール モ ノ ー n — ブチ ルエーテ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 を 含む洗浄剤 で 除去 して 得 ら れ た も ので あ る こ と を 特徴 と す る 液晶配 向膜。
I
AX AX2 及び -AXJ
I
(式 中、 Αは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 4 8 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の方向 に配向 さ せ る 液晶配向膜で あ っ て 、
上記液晶配向膜は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せ て 結合 さ せ た後、 上記基板 に 結合 さ れな い 分子 を 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ルモ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル 、 ポ リ ジ エチ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェ チ ルェ一テ ル ァ セ テ 一 ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チルェ一テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ール モ ノ メ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 及びポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ー n — プチル ェ 一 テ ル か ら な る 群 よ り 選 ばれ る 少 な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れた も ので あ る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜。
AX AX2 及び (1)
(式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 4 9 ) 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ール類の分子量が 1 0 0 以上、 3 0 0 以下の範囲 内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 8 に 記載の液 晶配向膜。
( 5 0 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の方向 に配向 さ せ る 液晶配 向膜で あ っ て 、 上記液晶配 向 膜は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 該基板面 に接触 さ せて 結合 さ せ た後、 上記基板 に 結合 さ れ な い分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ール及 び メ ト キ シ ア ル コ ー ルか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種の ァ ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 を 含む洗浄剤で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜。
( 式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選 ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 5 1 ) 基板上 に 結合 さ れた 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に配向 さ せ る 液晶配向膜の製造方法で あ っ て 、
上記基板に 、 活性水素 を 有 す る 官能基に 対 し て 反応性 を 示 す官能 基 を備 え た 分子群 を接触さ せ、 該基板表面 に 結合 さ せ て 、 該分子群 か ら な る 被膜を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い上記分子を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤で 除去 す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造方法。
( 5 2 ) 上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれる 1 種 の 官能基を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 1 に 記 載の液晶配向膜の製造方法。 -AX 、 -AX2 ¾び — A 3 · * * <!>
( 式 中 、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 Xはノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 5 3 ) 上記洗浄剤 と し て 、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 1 に記載の液晶配 向膜の製造方法。
( 5 4 ) 上記洗浄剤 と し て 、 含水率が 1 %未満の も の を使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 1 に 記載の液晶配向膜の製造方法。
( 5 5 ) 更 に 、 上記除去工程の後 に 、 上記基板に付着 し た 上記 洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤除去工程 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 1 に記載の液晶配向膜の製造方 法。
( 5 6 ) 上記洗浄剤除去工程は、 上記基板に 付着 し た 上記洗浄 剤 を水で洗い流す リ ン ス 工程 と 、 上記基板 に付着 し た 上記水 を 乾燥 さ せ る 乾燥工程 と を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 5 に 記載の液 晶配向膜の製造方法。
( 5 7 ) 上記基板 と して 、 そ の表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基 が存在す る も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 2 に 記載の 液 晶配向膜の製造方法。 ( 5 8 ) 上記被膜形成工程及び除去工程 を 乾燥雰 囲気中 で 行 う こ と を 特徴 と す る 請求項 5 2 に 記載の液晶配 向膜の製造方法。 ( 5 9 ) 上記基板上 に 、 上記 一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 単分子膜状 と な る よ う に結合 さ せ た 、 そ の よ う な液晶配向膜 を形成す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 8 に 記載の液晶配向膜の製造方法。 ( 6 0 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜の製造方法で あ っ て 、
下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基板 に接触さ せ、 該基板に結合 さ せて 、 該分子群 ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 アセ ト ン 、 メ チルェチル ケ ト ン、 ジ ェチル ケ ト ン 、 メ チル イ ソ プチルケ ト ン及びァセ チル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 1 種の ケ ト ン類 を含む洗浄 剤で除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び — A 3 ■ ' ■ <»> (式中、 Aは ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及びジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 Xはノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。) ( 6 1 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液 晶分子 を 特定 の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配向膜の製造方 法で あ っ て 、
上記基板 に 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 接触 さ せ、 該基板 に 結合 さ せて 、 該 分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ ール、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ブチ レ ン グ リ コ 一 ル 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル ァ セ テ ー ト 及びエ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ 一 n — ブチ ルエ ー テ ルか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種 の アル キ レ ン グ リ コ ール類 を含む 浄剤で除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶配 向膜の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び — AX3 · - · !>
I
(式中 、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。)
( 6 2 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の方向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜の製造方 法で あ っ て 、
上記基板に 、 下記一般式 ( 1 ) で表 さ れ る 官能基群 か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基板 に 接触 さ せ 、 該基板 に 結合 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成 す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ール 、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ 一ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチ ルエー テ ル 、 ポ リ ジ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチ ル エーテ ル 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ ェチ ル エーテ ルァ セ テ ー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ル モ ノ メ チルェ一テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ メ チ ルエー テ ル アセ テ ー ト 及びポ リ エチ レ ン グ リ コ 一ルモ ノ ー n — ブチルエー テ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 を含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造方法。
I
AX -AX2 及び -AX¾ (1)
(式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 6 3 ) 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ール類の分子量が 1 0 0 以上 、 3 0 0 以下の範囲内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 2 に記載の液 晶配向膜の製造方法。
( 6 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方向 に配向 さ せ る 液晶配向膜の製造方法で あ っ て 、 上記基板 に 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を接触 さ せ、 該基板 に 結合 さ せて 、 該 分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ェ ト キ シ エ タ ノ ー ル及び メ ト キ シ ア ル コ ー ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル コ キ シ ア ル コ ー ル類 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と 、
を 含む こ と を 特徴 と す る 液晶配 向膜の製造方法。
AX -AX2 及び 一 AX3 <1)
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。) ( 6 5 ) 活性水素 を 有す る 官能基に 対 し て反応性 を 示 す官能基 を備 え た 分子群 を 基板 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基板表面 に 結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜を形成す る 被膜形成手段 と 、
上記基材に 結合 さ れな い上記分子を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ ール類及びア ル コ キ シ アル コ ー ル類か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 を含む洗浄剤 で除去す る 除去手段 と 、
を有す る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造装置。
( 6 6 ) 上記分子 は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請 求項 6 5 に 記 載の液晶配 向膜の製造装置。
-AX 、 -AX2 ;&び — AX3 · ' ' <!>
( 式 中 、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 6 7 ) 上記液晶配向膜の製造装置は、 上記被膜形成手段 と 除 去手段 と が 同 一 の密閉系 に 含み構成 さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請 求項 6 5 に 記載の液晶配向膜の製造装置。
( 6 8 ) 上記被膜形成手段及び除去手段 を 内部 に 設置 し、 同 一 の密閉系 と す る こ と が可能な外気遮蔽手段で あ っ て 、 内部の 湿度 を 制御 して 乾燥雰囲気 と す る 外気遮蔽手段 を 備 え る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 7 に 記載の液晶配向膜の 製造装置。
( 6 9 ) 上記被膜形成手段 と 除去手段 と は、 相互 に 分離 · 独 立 して設け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 5 に 記載の液晶配 向 膜の製造装置。
( 7 0 ) 上記洗浄剤は、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い こ と を 特徴 と す る 請求項 6 5 に 記載の液晶配向膜の製造装置。 ( 7 1 ) 上 記洗浄剤 の含水率 が 1 % 未満で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 5 に 記載の液晶配 向膜 の製造装置。
( 7 2 ) 上記基板 に付着 し た 上記洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤 除去 手段 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 5 に 記載の液晶配向膜の 製 造装置。
( 7 3 ) 上記洗浄剤除去手段は、 上記基板 に付着 し た上記洗浄 剤 を水で洗い 流す リ ン ス 手段 と 、 上記基板 に付着 し た 上記水 を 乾燥 し除去す る 乾燥手段 と か ら な る こ と を 特徴 と す る 請求項 7 2 に 記載 の液晶配向膜の製造装置。
( 7 4 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 Sの官能基を 有 す る 分子群 を 基板 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基板表 面 に結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜 を形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に結合 さ れな い上記分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チルェチ ル ケ ト ン、 ジェチルケ ト ン 、 メ チ ル イ ソ プチル ケ ト ン及びァセ チ ル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種の ケ ト ン類 を含む洗浄 剤で除去す る 除去手段 と 、
を有す る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造装置。
I I
-AX 、 -AX2 及び —AX3 " · ' <!>
I
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種の原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ 基及び ィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ば れ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。)
( 7 5 ) 下 記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基板 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基板表 面 に結合 さ せ て 、 該分子群か ら な る 被膜を 形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に 結合 さ れ な い上記分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ ール、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ブチ レ ン グ リ コ ー ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ 一 リレ モ ノ エ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ルモ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル ァ セ テ 一 ト 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ 一 n — ブチ ル ェ 一 テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ 一 ル 、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ー ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ポ リ ジ ェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル ア セ テ ー ト 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ —テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル ァ セ テ 一 ト 及 びポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ー n — ブチ ル エ ー テ リレ か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 を 含む洗浄剤 で除去す る 除去手段 と 、
を有 す る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造装置。
I I
-AX 、 -AX2 及び — AX3 ' * <1>
( 式 中 、 A は ケ ィ 素 、 ゲ ル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及 び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の 原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ 基及び ィ ソ シ ァ ネ 一 卜 基か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。) ( 7 6 ) 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 有 す る 分子群 を 基板 に接触 さ せ る こ と に よ り 該基板表 面 に 結合 さ せて 、 該分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成手段 と 上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ェ ト キ シ エ タ ノ ール及び メ ト キ シ ア ル コ ール か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種の ア ル コ キ シ ア ル コ ール類 を 含む洗浄剤 で 除去 す る 除去手段 と 、
を 有 す る こ と を 特徴 と す る 液晶配向膜の製造装置。
AX -AX2 及び -ΑΧί (1)
( 式 中、 Αは ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネー ト 基か ら 選ば れ る 1 種の官能基を 表 し て い る 。)
( 7 7 ) 基板上 に液晶分子 を 所定の 方 向 に配向 さ せ る液晶配向 膜を 備 え た液晶表示装置で あ っ て 、
上記液晶配向膜は、 活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す官能基を 有 す る 分子群が、 上記基板上 に 結合 さ れて な る 薄膜で あ り 、
かつ、 上記分子か ら な る 群 を 上記基板 に接触 さ せて 結合さ せ た 後 フ7 、 該基板 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ケ ト ン類、 ア ル キ レ ン グ リ コ —ル類及 びア ル コ キ シ ア ル コ ー ル 類か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 少 な く と も 一種 を 含む 洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液晶表示 装置。
( 7 8 ) 上記活性水素 を 備 え た 官能基 に 対 し て 反応性 を 示 す 官 能基は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 1 種 の 官能基で あ る こ と を 特徴 と す る 請 求項 7 7 に記載の液晶表示装置 。
AX -AX2 及び 一 AX3 (1)
(式 中、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 Xはノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基を 表 し て い る 。)
( 7 9 ) 上記洗浄剤は、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い こ と を 特徴 と す る 請求項 7 7 に 記載の液晶表示装置。
( 8 0 ) 上記洗浄剤 の含水率 が 1 %未満で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 7 7 に 記載の液晶表示装置。
( 8 1 ) 上記基板の表面 に は 、 活性水素 を 有 す る 官能基が存在 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 7 8 に 記載の液晶表示装置。 ( 8 2 ) 上 記液 晶配向膜は 、 乾燥雰 囲気 中 で 上記分 子 を 上記基 板面 に 接触 さ せ て 結合 さ せ た 後、 乾燥雰 囲気 中 で 上記洗浄剤 に て 除 去 し て 得 ら れ た 単分子膜で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 7 7 に 記載 の液晶表 示装 置 。
( 8 3 ) 基板上 に 液晶分子 を 所定の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配 向 膜 を 備 え た 液晶表示 装置で あ っ て 、
上記液晶配 向膜は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 一種 の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 上記基板面 に 接触 さ せ て 結 合 さ せ た後、 該基板 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チ ル ェチ ル ケ ト ン 、 ジ ェ チ ルケ ト ン 、 メ チル イ ソ ブチ ル ケ ト ン及びァ セ チル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種の ケ ト ン 類 を 含む洗浄剤で 除去 して 得 ら れた も ので あ る こ と を 特徴 と す る 液晶表 示装置。
AX AX2 ¾び <1)
(式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し 、 X は ノ、 ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及び ィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 8 4 ) 基板上 に 液晶分子 を 所定の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配 向 膜を備 え た液晶表示装置で あ っ て 、
上記液晶配向膜は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ば れ る 一種 の 官能基 を 有 す る 分子群を 、 上 記基板 面 に接触 さ せ て 結 合 さ せ た 後、 該基板 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル 、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ブ チ レ ン グ リ コ ー ル 、 エ チ レ ン グ リ コ — ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル ェ — テ ル ア セ テ ー ト 及 びエ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ー n — ブチ ル エ ー テ ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル 類 を 含む洗浄剤 で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液 晶表示装置。
-AX 、 -AX2 及び — · · ■ !>
( 式 中 、 A は ケ ィ 素 、 ゲ ル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及 び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の 原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン、 ア ル コ キ シ基及びイ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 表 し て い る 。)
( 8 5 ) 基板上 に液晶分子 を 所定の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向 膜を備え た 液晶表示装置で あ っ て 、
上記液晶配向膜は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群を 、 上記基板面 に接触 さ せて 結 合さ せた後、 該基板 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ール、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ エ チ ル ェ 一 テ ル 、 ポ リ ジ エ チ レ ン グ リ コ
— ル モ ノ エ チ ル ェ一 テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 及 び ポ リ ェ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ 一 n — ブチ ル エーテ ルか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 を 含む洗浄剤で 除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置。
-AX 、 -AX2 及び — AX3 · · · <!>
( 式 中、 A は ケ ィ 素 、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選 ば れ る 1 種 の 原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 8 6 ) 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ール類の分子量が 1 0 0 以上 、 3 0 0 以下 の範囲 内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 5 に 記載の 液 晶表示装置。
( 8 7 ) 基板上 に液晶分子 を 所定の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配 向 膜を備 え た液晶表示装置で あ っ て 、
上記液晶配向膜は 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選 ばれ る 一種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 上記基板面 に接触 さ せて 結 合 さ せ た後、 該基板 に 結合 さ れ な い上記分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ー ル及びメ ト キ シ ア ル コ ールか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種 のア ル コ キ シ アル コ ール類 を 含む洗浄剤 で除去 し て 得 ら れ た も の で あ る こ と を特徴 と す る 液晶 表示 装置。 I I
-AX 、 -AX2 及び —AX3 · ' · !>
( 式 中 、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及 び ジ リレ コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種 の原子 を 表 し 、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及び ィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 8 8 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液 晶分子 を 特定 の 方 向 に 配向 さ せ る 液晶配向膜 を 備 え た液晶表示 装置 の製造方 法 で あ っ て 、
上記基板 に 、 活性水素 を 有 す る 官能基に対 し て 反応性 を 示す 官能 基を備 え た 分子群 を 接触 さ せ、 該基板表面 に 結合 さ せ て 、 該分子群 か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い上記分子 を 、 ケ ト ン 類、 ア ル キ レ ン グ リ コ 一ル類及びア ル コ キ シ ア ル コ ール類か ら な る 群 よ り 選 ばれ る 少 な く と も 一種 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置の製造方法。
( 8 9 ) 上記分子は、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種の 官能基を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 8 に 記 載の液晶表示装置 の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び 一 A 3 ■ · · <!> ( 式 中 、 Aは ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種 の 原子 を 表 し 、 Xは ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及び イ ソ シ ァ ネ ー ト 基 か ら 選 ば れ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 9 0 ) 上記洗浄剤 と し て 、 塩素 系溶剤 を 含 ま な い も の を使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 8 に 記載 の液晶表示装置の製造方 法
( 9 1 ) 上記洗浄剤 と して 、 含水率 が 1 %未満の も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 8 に 記載の液晶表示装置 の製造方法。
( 9 2 ) 更 に 、 上記除去工程 の後 に 、 上記基板 に 付着 し た 上記 洗浄剤 を 除去す る 洗浄剤除去工程 を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 8 に記載の液晶表示装置の製造方法。
( 9 3 ) 上記洗浄剤除去工程は、 上記基板 に付着 し た上記洗浄 剤 を水で洗い流す リ ン ス 工程 と 、 上記基板 に付着 し た 上記水 を 乾燥 さ せ る 乾燥工程 と を 有 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 9 2 に記載の 液 晶表示装置の製造方法。
( 9 4 ) 上記基板 と して 、 そ の表面 に 活性水素 を 有 す る 官能基 が存在す る も の を 使用 す る こ と を 特徴 と す る 請求項 8 9 に 記載の 液 晶表示装置の製造方法。
( 9 5 ) 上記被膜形成工程及 び除去工程 を 乾燥雰 囲気 中 で 行 う こ と を 特徴 と す る 請求項 8 9 に 記載の 液晶表示装 置 の 製造方 法。
( 9 6 ) 上 記基板上 に 、 上 記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基 を 有 す る 分子群 を 、 単分子膜状 と な る よ う に結合 さ せ た 、 そ の よ う な 液 晶配向膜を 形成す る こ と を 特徴 と す る 請求項 9 5 に 記載の液晶表示装置の製造方法。
( 9 7 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配 向膜 を 備 え た液晶表示装置 の製造方法 で あ っ て 、
下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基板 に接触 さ せ、 該基板 に 結合 さ せ て 、 該分子群 か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 ア セ ト ン 、 メ チ ルェチ ル ケ ト ン、 ジ ェ チ ル ケ ト ン 、 メ チ ル イ ソ ブチ ル ケ ト ン 及び ァ セ チ ル ァ セ ト ン か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 1 種の ケ ト ン 類 を 含む洗浄 剤で除去す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置 の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び —AX3 · ' " <1>
(式中、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノ、 ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及び ィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種 の 官能基 を 表 し て い る 。) ( 9 8 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液 晶 分子 を 特定 の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶配向膜 を 備 え た 液晶表示 装置 の 製造方 法 で あ っ て 、
上記基板 に 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群 か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 接触 さ せ、 該基板 に 結合 さ せ て 、 該 分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 エチ レ ン グ リ コ ール、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル 、 ブチ レ ン グ リ コ 一 ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル ェ 一 テ ル 、 ジ エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル 、 ェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ ェ チ ル エ ー テ ル ア セ テ ー ト 、 エ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ メ チ ル ェ 一 テ ル 、 エ チ レ ン グ リ コ ー ル モ ノ メ チ ル エ ー テ ル ァ セ テ 一 ト 及びェ チ レ ン グ リ コ 一 ル モ ノ 一 n — ブチ ルエー テ ルか ら な る 群 よ り 選ばれ る 少 な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ー ル類 を 含む 洗浄剤 で 除去 す る 除去工程 と 、
を含む こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置の製造方 法。
I I
-AX 、 -AX2 及び —AX3 · · * !
( 式中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X は ノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ば れ る 1 種 の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 9 9 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群 か ら な り 、 液晶分子 を 特定 の方向 に配向 さ せ る 液晶配向膜 を 備 え た液晶表示装置 の製造方 法 で あ っ て 、 上記基板 に 、 下 記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 基板 に接触 さ せ 、 該基板 に 結合 さ せ て 、 該分子群 か ら な る 被膜 を 形成 す る 被膜形成工程 と 、 上記基材 に 結合 さ れ な い 上記分子 を 、 ポ リ エチ レ ン グ リ コ ール 、 ポ リ プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ル、 ポ リ ブチ レ ン グ リ コ ー ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一ル モ ノ エ チ ルェ一 テ ル 、 ポ リ ジ エチ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェチ ル ェ 一 テ ル 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ェ チ ル エ ーテ ル ァ セ テ ー ト 、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ 一ル モ ノ メ チ ルエ ー テ ル、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ メ チ ルェ一テ ル アセ テ ー ト 及びポ リ エ チ レ ン グ リ コ ールモ ノ ー n — ブチ ルエーテ ル か ら な る 群 よ り 選ば れ る 少な く と も 一種の ア ル キ レ ン グ リ コ ール類 を含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と 、 を含む こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置の製造方 法。
-AX 、 -AX2 及び — A 3 ■ ' ■ <!>
(式 中、 A は ケ ィ 素、 ゲルマ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン 及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ば れ る 1 種の原子 を 表 し 、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及び ィ ソ シ ァ ネ ー ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
( 1 0 0 ) 上記ア ル キ レ ン グ リ コ ール類の 分子量が 1 0 0 以 上 、 3 0 0 以下 の 範囲 内 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 9 9 に 記載の 液晶表示装置 の製造方法。
( 1 0 1 ) 基板上 に 結合 さ れ た 分子群か ら な り 、 液晶分子 を 特 定の 方 向 に 配 向 さ せ る 液晶 配 向膜 を 備 え た 液晶表示 装 置 の製造 方 法 で あ っ て 、
上記基板 に 、 下記一般式 ( 1 ) で 表 さ れ る 官能基群か ら 選ば れ る 1 種の 官能基 を 有 す る 分子群 を 接触 さ せ、 該基板 に 結合 さ せて 、 該 分子群か ら な る 被膜 を 形成す る 被膜形成工程 と 、
上記基材 に 結合 さ れな い 上記分子 を 、 エ ト キ シ エ タ ノ ール及び メ ト キ シ ア ル コ ー ル か ら な る 群 よ り 選ばれ る 少な く と も 一種の ア ル コ キ シ ア ル コ ール類 を 含む洗浄剤 で 除去す る 除去工程 と 、
を 含む こ と を 特徴 と す る 液晶表示装置の製造方法。
-AX 、 -AX2 及び — AX3 ■ · · !>
(式 中 、 A は ケ ィ 素、 ゲル マ ニ ウ ム 、 ス ズ、 チ タ ン及び ジ ル コ ニ ゥ ム か ら な る 群 よ り 選ばれ る 1 種の原子 を 表 し、 X はノヽ ロ ゲ ン 、 ア ル コ キ シ基及びィ ソ シ ァ ネ 一 ト 基か ら 選ばれ る 1 種の 官能基 を 表 し て い る 。)
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