WO1996041688A1 - Procede et dispositif de lavage de l'interieur d'un recipient - Google Patents

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WO1996041688A1
WO1996041688A1 PCT/JP1996/001532 JP9601532W WO9641688A1 WO 1996041688 A1 WO1996041688 A1 WO 1996041688A1 JP 9601532 W JP9601532 W JP 9601532W WO 9641688 A1 WO9641688 A1 WO 9641688A1
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cleaning
container
nozzle
pipe
pedestal
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PCT/JP1996/001532
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English (en)
French (fr)
Inventor
Masao Morikawa
Yoshio Iino
Original Assignee
Sumitomo Chemical Company, Limited
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/0821Handling or manipulating containers, e.g. moving or rotating containers in cleaning devices, conveying to or from cleaning devices
    • B08B9/0826Handling or manipulating containers, e.g. moving or rotating containers in cleaning devices, conveying to or from cleaning devices the containers being brought to the cleaning device
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/0804Cleaning containers having tubular shape, e.g. casks, barrels, drums
    • B08B9/0813Cleaning containers having tubular shape, e.g. casks, barrels, drums by the force of jets or sprays

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus and a method for cleaning the inside of a container.
  • liquid chemicals such as sulfuric acid and hydrogen peroxide in so-called electronic industrial chemicals used for semiconductor manufacturing and the like.
  • concentration of particles contained in the chemicals as impurities is low.
  • This demand has become even stronger with the recent trend toward finer and higher-density integrated circuits.
  • electronic industrial chemicals even after microfiltration, may have an increased particulate concentration in the chemical at the point of use when filled into containers and transported to the point of use. This is probably due to the presence of particles inside the container.
  • the interior of the container is cleaned before being filled with chemicals.
  • a water jet method using a rotary nozzle head is employed.
  • the rotating nozzle head has a large number of cleaning liquid ejection holes, is rotatably mounted on one end of a relatively rigid pipe, and has a cleaning liquid introduced from the other end of the pipe, typically ultrapure. It is configured to be rotated by the pressure of water. Therefore, when the rotating nozzle head is inserted into the container and reciprocated between the opening and the bottom while the ultrapure water is ejected from the ejection hole of the rotating nozzle head, the ejected ultrapure water is obtained. The water hits the entire inner surface of the container and is efficiently cleaned. However, there is a fact that even after long-time cleaning with ultrapure water using a rotating nozzle head, a small amount of particles remains inside the container. Summary of the Invention
  • an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus and a cleaning method that can clean the entire inside of a container extremely cleanly with a relatively small amount of cleaning liquid.
  • the inventors of the present invention have found that the rotating part of the nozzle head is exposed to the flow path of the cleaning liquid, so that fine particles formed by the friction of the rotating part contaminate the cleaning liquid, and thus the container. Found to contaminate.
  • the present invention has been made based on such knowledge, and has been developed by using a cleaning nozzle having an elongated rigid pipe and a nozzle head formed with a large number of ejection holes and fixed to one end of the pipe. Cleaning the interior of the container with the cleaning liquid ejected from the ejection hole of the container, wherein the cleaning nozzle is inserted into the container through the opening of the container so that the nozzle head is disposed in the container; and the cleaning nozzle.
  • a cleaning nozzle having a nozzle head fixed to one end of a pipe, a moving means for linearly reciprocatingly moving the cleaning nozzle along its longitudinal axis, and a cleaning nozzle centering on the longitudinal axis.
  • Rotating means for alternately rotating in a clockwise direction and a counterclockwise direction, wherein when the washing nozzle is moved by the moving means, the nozzle head passes through the opening of the container supported by the container pedestal so that the inside of the container is Characterized in that they are arranged so that they can be inserted.
  • the cleaning nozzle since the cleaning nozzle performs the reciprocating linear motion and the reciprocating rotary motion by itself, the cleaning nozzle has no sliding portion, and particles generated by friction do not enter the cleaning liquid, so that the cleaning nozzle can be efficiently operated.
  • the inside of the container can be washed.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a container cleaning apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the container cleaning apparatus of FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a part of a cleaning nozzle used in the container cleaning apparatus of the present invention.
  • FIG. 4 is an arrow view taken along the line IV-IV in FIG. 3, and shows an arrangement of ejection holes provided at a tip portion of the nozzle head.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 3, and shows an arrangement of ejection holes provided at a tip portion of the nozzle head.
  • FIG. 6 is a side view of the support plate and its associated members, taken along line VI-VI of FIG. 2, with other parts of the device omitted for clarity.
  • FIG. 7 is a schematic view showing another mechanism for rotating the cleaning nozzle.
  • FIG. 1 and 2 show a container cleaning apparatus 10 according to the present invention.
  • This container cleaning apparatus 10 is for cleaning containers 12 for electronic chemicals, as shown more clearly in FIG.
  • this kind of container 12 is a cylindrical hollow body having an inner diameter of 200 to 600 mm and a length (height) of 300 to 900 mm, and is made of stainless steel or stainless steel. Is made of polyethylene; Teflon or the like.
  • two substantially identical openings 16 and 18 are formed in the substantially circular upper end plate 14 of the container 12 near the periphery of the upper end plate 14. The openings 16 and 18 are arranged point-symmetrically about the center point of the upper end plate 14.
  • the container cleaning device 10 has a container pedestal 20 for supporting the container 12 during cleaning.
  • the pedestal 20 has a first portion 22 to which the upper end plate 14 of the container 12 is abutted, and a second portion extending at a right angle from one side edge of the first portion 22 to support a side surface of the container 12. It consists of 2 parts 2 4.
  • the first portion 22 of the pedestal 20 is provided with through holes 26 and 28 at positions away from the second portion 24 and near the second portion 24 c. 6 and 28 should be aligned with the two openings 16 and 18 of the container 12 when the electronic chemical container 12 with specific dimensions and shape is placed in the predetermined position on the pedestal 20. Positioned.
  • the container pedestal 20 has a state in which the first part 22 extends vertically upward and the second part 24 is horizontal, and a state in which the first part 22 is horizontal and the second part 24 extends vertically upward. It is attached to the base 30 so that it can be tilted between.
  • a pneumatic cylinder 134 is mounted between the first part 22 of the base 20 and the recess 32 of the base 30 as an actuator for tilting the base 20. .
  • a pneumatic circuit (not shown) is connected to the pneumatic cylinder 34, and by controlling the pneumatic circuit to control the supply and discharge of pressurized air to the pneumatic cylinder 34, the pneumatic cylinder 34 is expanded and contracted. Accordingly, the inclination angle of the pedestal 20 is adjusted.
  • the inclination angle of the pedestal 20 refers to the angle between the second portion 24 of the pedestal 20 and the horizontal plane (see FIG. 2).
  • the container cleaning device 10 has a cleaning nozzle 36 for introducing a cleaning liquid, preferably ultrapure water, into the container 12 supported on the pedestal 20 and spraying it as a jet stream.
  • the cleaning nozzle 36 includes an elongated pipe 38 and a nozzle head 40 fixed to one end of the pipe 38 for jetting ultrapure water carried through the pipe 38. I have.
  • the outside diameter of the pipe 38 is such that it passes through the through hole 26 of the pedestal 20, passes through the opening 16 of the container 12 on the pedestal 20, and is inserted into the container 12 so as to be inserted into the container 12.
  • the openings 16 are smaller than the inner diameters of the openings 16 and 18.
  • the inside diameter of the pipe 38 is If supply pressure is 0. 5 ⁇ 3 5 k gZ cm 2 G, it is usually 7-4 about 5 mm.
  • the total length of the pipe 38 is preferably about 100 to 900 mm when the total length of the container 12 is 300 to 90 Omm. Further, the pipe 38 needs to have a certain rigidity so as not to bend during cleaning, and is preferably made of, for example, stainless steel.
  • connection between the hose 44 and the pipe 38 is preferably made directly or through a pipe joint (not shown) having no moving parts. It should be noted that the connection must not be made through fittings that have.
  • a number of ejection holes 48 for ejecting a preferably linear jet flow are formed in the tip portion 46 of the nozzle head 40.
  • a nozzle head as shown in FIGS. 3 to 5 is preferable.
  • the tip portion 46 of the nozzle head 40 is preferably spherical, and its outer diameter is inserted together with the pipe 38 into the container 12 supported on the pedestal 20. In order to obtain, the inner diameters of the through holes 26 of the pedestal 20 and the openings 16, 18 of the container 12 are smaller.
  • the orifices 48 pass through each of the points plotted on the longitudinal axis of the cleaning nozzle 36 and intersect at right angles to said axis, as can be seen from FIGS.
  • the angular interval between the adjacent injection holes 48, 48 in each reference circle RC i RC? That is, the angle 5 between the adjacent injection holes 48, 48 and the perpendicular extending from the axis to the axis, the smaller the angle. , Increases the cleaning effect in a certain time, but increases the instantaneous flow rate. On the other hand, when this angle /? Is increased, the cleaning effect at a fixed time decreases. For this reason, the angle /? Is preferably 20 to 90 degrees.
  • the number of reference circles is preferably 3 to 8 from the relationship between the flow rate and the cleaning effect. Therefore, the total number of the ejection holes 48 is 30 to 100.
  • the diameter of the ejection hole 48 is preferably from 0.1 to 2.0 mm, more preferably from 0.5 to 1.5 mm.
  • a swing arm 56 is attached to the outer peripheral surface of the pipe 38 located between 54 and c.
  • the swing arm 56 extends in a direction perpendicular to the longitudinal axis of the washing nozzle 36.
  • the cleaning nozzle 36 can be alternately rotated clockwise and counterclockwise by rotating the arm 56.
  • a pneumatic cylinder 58 is provided on the support plate 50 as an actuator for swinging the arm 56. More specifically, the end of the piston rod 60 of the pneumatic cylinder 58 is pivotally connected to the tip of the arm 56, and the end of the cylinder tube 62 is pivotally mounted on the support plate 50.
  • the arm 56 swings in a range of about 120 degrees with the maximum one stroke of the pneumatic cylinder 58.
  • the pneumatic cylinder 58 is connected to a suitable pneumatic circuit (not shown) for controlling the supply and discharge of pressurized air. Therefore, by controlling the pneumatic circuit, it is possible to adjust the swing angle a of the arm 56 and, consequently, the rotation angle a of the cleaning nozzle 36.
  • the support plate 50 is arranged on the lower surface side of the first portion 22 of the pedestal 20, that is, on the side opposite to the second portion 24.
  • the support plate 50 extends in the same direction as the pipe 38 of the cleaning nozzle 36 and is longer than the pipe 38.
  • Each guide hole 70, 72 of the guide block 68 and the pneumatic cylinder 74 extend in parallel with the central axis of the through hole 26 formed in the first portion 22 of the pedestal 20.
  • the cleaning nozzle 36 is positioned so as to be coaxial with the through hole 26. Therefore, when the support plate 50 is reciprocated linearly by the pneumatic cylinder 74, the cleaning nozzle 36 can be moved in and out of the through hole 26.
  • the container 12 to be cleaned is placed on the container base 20.
  • one opening 16 provided in the upper end plate 14 of the container 12 matches the through hole 26 of the pedestal 20, and the other opening 18 matches the through hole 28 of the pedestal 20. It is arranged in the state where it was made. Further, it is preferable to fix the container 12 with a fastening belt or the like so that the container 12 does not fall off the pedestal 20.
  • the pneumatic cylinder 34 is operated to tilt the container pedestal 20 to set the inclination angle of the pedestal 20 to a desired angle.
  • This angle can be appropriately selected from the range of 0 to 90 degrees according to the shape of the container and the position of the opening.
  • the opening 18 is provided at the outlet of the cleaning liquid. Therefore, about 20 to 70 degrees is preferable.
  • the pneumatic cylinder 74 is controlled to move the cleaning nozzle 36 from the lower surface of the first portion 22 of the pedestal 20 through the through hole 16 of the pedestal 20 and the opening 16 of the container 12. Insert into container 12.
  • ultrapure water as the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply device 42 at a supply pressure of, for example, 0.5 to 35 kg / cm 2 G, preferably 10 to 20 kg / cm 2 G.
  • the ultrapure water passes through the flexible hose 44, the washing nozzle 36 2, and the pipe 38, and is ejected from each ejection hole 48 of the nozzle 40 as a jet stream.
  • each of the pneumatic cylinders 58, 74 is controlled, and the cleaning nozzle 36 is turned clockwise and counterclockwise within the desired rotation angle range.
  • the nozzle plate 40 is reciprocated between the opening 16 of the container 12 and a predetermined position in the container 12 by alternately rotating the nozzle plate 40 and reciprocating the support plate 50 linearly.
  • the jet flow from each of the nozzle holes 40 of the nozzle hole 40 will cause the jet flow of the container 12 to move.
  • the point of collision with the inner wall surface moves linearly in the circumferential direction on the inner wall surface of the container 12.
  • the point of impact of the jet flow from one of the ejection holes 48 on the container wall will eventually reach the point from the adjacent ejection hole 48 on the same reference circle RC. Reach the starting point of the impact point of the jet flow. Therefore, it is not necessary to rotate the washing nozzle 36 in that direction any more.
  • the rotation angle a of the cleaning nozzle 36 may be equal to the angular interval /?
  • the angle a is an angle. It is more preferable to set the value slightly larger, for example, about 4 degrees.
  • the maximum moving speed of the impact point of each jet stream with respect to the inner wall surface of the container is preferably 100 Omm / s or less in consideration of the cleaning effect, the flow rate of the cleaning liquid, and the like. Therefore, the time required for the cleaning nozzle 36 to rotate only once in both the forward and reverse directions, that is, the rotation speed of the cleaning nozzle 36, is preferably 600 seconds / cycle or less. And more preferably at most 120 seconds / cycle. If the speed 1 ⁇ is too small, there may be a part where the ultrapure water does not come in. Therefore, it is desirable that the speed is 20 seconds / cycle or more.
  • T 2 is the time the cleaning nozzle 3 6 takes to reciprocating once back and forth, the speed of reciprocating linear motion of the ie cleaning nozzle 3 6 (s / cycle), S is the cleaning nozzle 3 6 strokes.
  • the ratio S / L of the stroke S of the cleaning nozzle 36 to the distance L from the opening 16 to the bottom of the container 12 is 0.1 to 1.0. Is preferred, and more preferably 0.2 to 0.5.
  • the jet stream from the nozzle head 40 efficiently collides with the entire inner wall surface of the container 12.
  • the jet stream from the nozzle head 40 efficiently collides with the entire inner wall surface of the container 12.
  • there is no sliding part such as a rotating part in the flow path through which the ultrapure water passes that is, in the inner space of the hose 44 and the cleaning nozzle 36, particles generated by friction generate ultrapure water. No contamination and no risk of cross-contamination. Therefore, a desired cleaning effect can be obtained in a short time and with a very small amount of ultrapure water.
  • the container 12 When the cleaning using the opening 16 of the container 12 is completed, the container 12 is rotated 180 degrees, and the opening 18 is aligned with the through hole 26 of the pedestal 20. Then, the cleaning nozzle 36 is inserted into the opening 18 to perform cleaning in the same manner as above, and the cleaning operation is completed.
  • the above operation can be automated by automatically controlling the pneumatic circuits associated with the factor units 34, 58, 74.
  • the ultrapure water used for cleaning is discharged to the outside through the opening 18 or 16 of the container 12 and the through hole 28 of the pedestal 20.
  • a container made of polyethylene electronics industrial chemicals having the shape shown in Fig. 2 was used as the container to be cleaned (12).
  • the inner diameter of this container was about 58 Omm
  • the length (L) from the opening to the bottom of the container was about 900 mm
  • the inner diameter of the openings (16, 18) was 58 mm.
  • the container cleaning device (10) used had the configuration shown in Fig. 1 and Fig. 2.
  • the inner diameter of the pipe (38) of the cleaning nozzle (36) was 27.2 mm.
  • the length was 450 mm.
  • the shape of the nozzle head (40) was substantially the same as that shown in Figs. 3 to 5, the number of the ejection holes (48) was 67, and the hole diameter was 0.8 mm.
  • washing was performed according to the above procedure.
  • the rotation angle (a) of the cleaning nozzle was 40 degrees, and the rotation speed (1 ⁇ ) was 1.5 seconds cycle.
  • the speed (T 2 ) of the reciprocating linear movement of the cleaning nozzle was set to 40 seconds / cycle.
  • Ultrapure water was used as the cleaning liquid.
  • the supply flow rate of ultrapure water was 0.08 m 3 / min, and the supply pressure was 10 kg / cm 2 G.
  • the cleaning time for each opening (16, 18) was 10 minutes.
  • the container After the washing is completed, the container is filled with ultrapure water. After one hour, the concentration (particles / ml) of the fine particles having a particle diameter of 0.2111 or more in the ultrapure water is measured using a light scattering type particle counter. It was measured.
  • washing was performed on the four containers under the same conditions as in the previous example, except that the washing nozzle was fixed or stopped while the nozzle head was arranged at a substantially central position in the longitudinal direction of the container.
  • the particle concentration of each container was 49.4, 16.2, 31.7, and 23.9, respectively, and the average value was 30.3.
  • a cleaning nozzle is composed of a pipe and a nozzle head rotatably attached to the end of the pipe, and the nozzle head is rotated by the fluid pressure of ultrapure water to clean the nozzle.
  • concentration of fine particles in each container was 76.4, 144, 319 and 102, respectively, except that the above-described apparatus was used.
  • the average value was 160.
  • the entire inner surface of the container can be cleaned extremely cleanly, and therefore, the increase in the particle concentration in the liquid when the liquid is filled and stored in the container is extremely low. You can see that it can be maintained at the standard. Further, according to the present invention, the flow rate of the cleaning liquid necessary for obtaining a desired cleaning effect can be reduced, and the inside of the container can be efficiently and economically cleaned.
  • the present invention is not limited to the above embodiment.
  • the present invention is applicable to other types of containers, such as a container having only one opening.
  • a container having only one opening In the case of a cylindrical container having only one opening, only one through hole is provided in the first part of the pedestal, and its size and position, or the inclination angle of the pedestal at the time of washing, are appropriately selected. Will be done.
  • the cleaning nozzle is rotated by the link mechanism. For example, as shown in FIG.
  • a gear 90 is coaxially fixed to the outer peripheral surface of the pipe 38 of the cleaning nozzle 36, and the gear 9
  • the cleaning nozzle may be rotated by a configuration in which the small gear 94 of the motor 92 is combined with 0.
  • the cleaning liquid is not limited to ultrapure water, but is filled in a container.
  • a liquid of the same type as the liquid may be used.

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Description

明 細 書 容器内部の洗浄方法及び洗浄装置 技術分野
本発明は、 容器の内部を洗浄するための装置及び方法に関する。
背景技術
半導体製造等に使用されるいわゆる電子工業薬品には、 硫酸や過酸化水素水を 始めとする液体状のものがある。 これら液体状の電子工業薬品に要求される品質 の一つとしては、 不純物として薬品中に含まれる粒子の濃度が低いことがある。 この要求は、 近年の集積回路の微細化や高密度化等に伴って、 より一層強くなつ ている。 かかる要求を満たすため、 従来においては、 薬品を精密濾過することに より、 薬品中の粒子を除去する方法が採られている。 しかしながら、 電子工業薬 品は、 精密濾過されたとしても、 容器に充填され使用地点まで輸送されると、 使 用地点での薬品中の粒子濃度が増加していることがある。 これは、 容器の内部に 粒子が存在しているからと考えられる。
勿論、 容器の内部は、 薬品が充填される前に洗浄される。 従来の容器内部の洗 浄方法としては、 回転ノズルへッドを用いたウォー夕ジエツト方式が採用されて いる。 回転ノズルヘッドは多数の洗浄液噴出孔を有し、 比較的剛性のあるパイプ の一端に回転可能に取り付けられたものであり、 パイプの他端から導入された洗 浄液、 典型的には超純水の圧力により回転されるよう構成されている。 従って、 超純水を回転ノズルへッドの噴出孔から噴出させながら、 回転ノズルへッドを容 器内に挿入して開口部と底部との間で往復動させると、 噴出された超純水は容器 の内面全体に当たり、 効率的に洗浄が行われる。 しかし、 回転ノズルヘッドを用 いて超純水で長時間にわたり洗浄を行っても、 容器の内部に微量の粒子が残留す るという事実がある。 発明の概要
そこで、 本発明の目的は、 比較的少量の洗浄液で容器内部全体を極めて清浄に 洗浄することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
本願発明者らは、 前記事実を考察した結果、 ノズルヘッドの回転部が洗浄液の 流路に露出されているため、 この回転部の摩擦によって形成された微小な粒子が 洗浄液を汚染し、 ひいては容器を汚染することを見出した。 本発明は、 かかる知 見に基づき為され、 細長い剛性を有するパイプと、 多数の噴出孔が形成され前記 パイプの一端に固着されたノズルへッドとを有する洗浄ノズルを用い、 ノズルへ ッドの噴出孔から噴出される洗浄液により容器の内部を洗浄する方法であって、 ノズルへッドが容器内に配置されるよう、 洗浄ノズルを容器の開口から容器内に 挿入するステツプと、 洗浄ノズルのパイプの他端から洗浄液を供給してノズルへ ッドの噴出孔からジエツト流として噴出させるステップと、 洗浄ノズルをその長 手方向軸線に沿って往復直線運動させると共に、 洗浄ノズルをその長手方向軸線 を中心として時計回り方向及び反時計回り方向に交互に回転させるステップとを 備える容器内部の洗浄方法を特徴としている。
また、 本発明の他の面は、 容器の内部を洗浄するための装置を提供するもので、 容器を支持するための容器台座と、 細長い剛性を有するパイプ、 及び、 多数の噴 出孔が形成されパイプの一端に固着されたノズルヘッドを有する洗浄ノズルと、 洗浄ノズルをその長手方向軸線に沿って直線的に往復動可能に移動させる移動手 段と、 洗浄ノズルをその長手方向軸線を中心として時計回り方向及び反時計回り 方向に交互に回転させる回転手段とを備え、 洗浄ノズルが、 移動手段により移動 された場合にノズルへッドが容器台座に支持された容器の開口を通して該容器の 内部に挿入され得るように配置されていることを特徴としている。
本発明によれば、 洗浄ノズルがそれ自体で往復直線運動と往復回転運動を行う ため、 洗浄ノズルには摺動部分がなく、 摩擦により生ずる粒子が洗浄液に混入す ることがなく、 効率的に容器内を洗浄することができる。 本発明のこれらの特徴や利点及びその他の特徴や利点は、 図面に沿っての以下 の詳細な説明から明かとなろう。
図面の簡単な説明
以下の詳細な説明においては、 次の添付図面が参照されることとなる。
図 1は、 本発明による容器洗浄装置を示す斜視図である。
図 2は、 図 1の容器洗浄装置を示す縦断面図である。
図 3は、 本発明の容器洗浄装置に用いられる洗浄ノズルの一部を示す拡大断面 図である。
図 4は、 図 3の IV— IV線に沿って見た矢視図であり、 ノズルヘッドの先端部分 に設けられた噴出孔の配列を示している。
図 5は、 図 3の V— V線に沿っての断面図であり、 ノズルヘッドの先端部分に 設けられた噴出孔の配列を示している。
図 6は、 図 2の VI— VI線に沿って見た支持プレート及びその関連部材の側面図 であり、 装置の他の部分は明瞭化のために省略している。
図 7は、 洗浄ノズルを回転させる他の機構を示す概略図である。
発明を実施するための最良の形態
図 1及び図 2は、 本発明による容器洗浄装置 1 0を示している。 この容器洗浄 装置 1 0は、 図 2においてより明瞭に示されるように、 電子工業薬品用の容器 1 2を洗浄するためのものである。 一般的に、 この種の容器 1 2は、 内径が 2 0 0 〜6 0 0 mm、 長さ (高さ) が 3 0 0〜 9 0 0 mmである円筒中空体であり、 ス テンレススチール或はポリエチレン; テフロン等から作られている。 また、 容器 1 2の略円形の上端板 1 4には、 2つの同形の開口 1 6, 1 8が当該上端板 1 4 の周縁の近傍に形成されている。 これらの開口 1 6 , 1 8は、 上端板 1 4の中心 点を中心とした点対称で配置されている。 通常、 一方の開口は内容液の注入及び 排出に用いられ、 他方の開口は、 内容液の注入及び排出に伴う空気の流通を助け るために用いられる。 容器洗浄装置 1 0は、 洗浄中に前記容器 1 2を支持するための容器台座 2 0を 有している。 この台座 2 0は、 容器 1 2の上端板 1 4が当接される第 1部分 2 2 と、 この第 1部分 2 2の一側縁から直角に延び、 容器 1 2の側面を支持する第 2 部分 2 4とから構成されている。 台座 2 0の第 1部分 2 2には、 第 2部分 2 4か ら離れた位置及び第 2部分 2 4に近い位置に貫通孔 2 6 , 2 8が設けられている c これらの貫通孔 2 6, 2 8は、 特定の寸法及び形状を有する電子工業薬品用容器 1 2を台座 2 0の所定位置に配置した場合、 容器 1 2の 2つの開口 1 6, 1 8と それぞれ一致するように位置決めされている。
容器台座 2 0は、 第 1部分 2 2が垂直上方に延び且つ第 2部分 2 4が水平とな る状態と、 第 1部分 2 2が水平となり第 2部分 2 4が垂直上方に延びる状態との 間で傾動し得るよう、 基台 3 0に取り付けられている。 台座 2 0の第 1部分 2 2 と基台 3 0の夕ィバ一 3 2との間には、 台座 2 0を傾動させるためのァクチユエ 一夕一として空気圧シリンダ一 3 4が取り付けられている。 空気圧シリンダー 3 4には、 図示しない空気圧回路が接続されており、 この空気圧回路を制御して空 気圧シリンダー 3 4に対する加圧空気の給排を調節することで、 空気圧シリンダ —3 4は伸縮され、 もって台座 2 0の傾斜角度が調節されるようになっている。 ここで、 台座 2 0の傾斜角度とは台座 2 0の第 2部分 2 4と水平面とのなす角度 ひをいうものとする (図 2参照) 。
この容器洗浄装置 1 0は、 洗浄液、 好ましくは超純水を台座 2 0に支持された 容器 1 2内に導入し、 ジェヅト流として吹き付けるための洗浄ノズル 3 6を有し ている。 洗浄ノズル 3 6は、 細長いパイプ 3 8と、 このパイプ 3 8を通して運ば れてきた超純水をジエツト噴射するためにパイプ 3 8の一端に固着されたノズル へヅ ド 4 0とから構成されている。
パイプ 3 8は、 台座 2 0の貫通孔 2 6を通り台座 2 0上の容器 1 2の開口 1 6 を通って容器 1 2内に挿入されるよう、 その外径は貫通孔 2 6及び容器 1 2の開 口 1 6 , 1 8の内径よりも小さくされている。 パイプ 3 8の内径は、 洗浄液の供 給圧力が 0 . 5〜3 5 k gZ c m2 Gである場合、 通常 7〜 4 5 mm程度である。 また、 パイプ 3 8の全長は、 容器 1 2の全長が 3 0 0〜9 0 O mmである場合、 1 0 0〜9 0 0 mm程度が好ましい。 更に、 パイプ 3 8は、 洗浄中に橈むことが ないよう、 ある程度の剛性を有する必要があり、 例えばステンレススチールから 作られるのが好適である。 パイプ 3 8の他端には、 洗浄液供給装置 4 2から延び る可撓性のホース 4 4が接続されている。 ここで、 このホース 4 4とパイプ 3 8 との接続は直接的に或は可動部分のない管継手 (図示せず) を介して行われるこ とが好ましく、 自在継手のような摺動部分を有するような管継手を介して接続し てはならないことに注意すべきである。
ノズルへッド 4 0の先端部分 4 6には、 好ましくは線状のジエツト流を噴出す るための多数の噴出孔 4 8が形成されている。 噴出孔 4 8の数や配列及びノズル へッド 4 0の形状は適宜定められるものであるが、 図 3〜図 5に示すようなノズ ルヘッドが好適である。 図 3〜図 5に明示するように、 ノズルヘッド 4 0の先端 部分 4 6は好ましくは球形であり、 その外径は、 台座 2 0に支持された容器 1 2 内にパイプ 3 8と共に挿入され得るよう、 台座 2 0の貫通孔 2 6及び容器 1 2の 開口 1 6 , 1 8の内径よりも小さくされている。
噴出孔 4 8は、 図 4及び図 5から理解され得るように、 洗浄ノズル 3 6の長手 方向軸線上にプロットされた複数の点のそれそれを通り且つ前記軸線に対して直 角に交差する面と、 ノズルへッド 4 0の外表面とが交差して作る各基準円
〜R C 7に沿って、 等間隔に設けられている。 各基準円 R C i R C ?における隣 合う噴射孔 4 8, 4 8の角度的間隔、 すなわち隣合う噴射孔 4 8, 4 8のそれそ れから前記軸線に延びる垂線のなす角度5は、 小さいほど、 一定時間における洗 浄効果を高めるが、 瞬時流量を増加させる。 一方、 この角度/?を大きくした場合、 —定時間における洗浄効果が低下してしまう。 このため、 角度/?は 2 0 ~ 9 0度 であるのが好適である。 同様に、 流量と洗浄効果の関係から、 基準円の数は 3〜 8であることが好ましい。 従って、 噴出孔 4 8の全数は 3 0〜1 0 0個となる。 更に、 同様の理由から、 噴出孔 4 8の径は 0 . 1〜2 . 0 mmであることが好ま しく、 より好ましくは 0 . 5〜1 . 5 mmである。
ホース 4 4が接続された側のノズルパイプ 3 8の端部部分は支持プレート 5 0 に設けられた 1対の軸受 5 2, 5 4によって支持されている。 これらの軸受 5 2 3 5 4は、 洗浄ノズル 3 6をその長手方向軸線を中心として回転可能に支持するが、 当該軸線に沿う方向については移動できないよう支持するものである。 軸受 5 2 ,
5 4間に位置するパイプ 3 8の外周面には揺動アーム 5 6が取り付けられている c 摇動アーム 5 6は、 洗浄ノズル 3 6の長手方向軸線に直角な方向に延び、 このァ ーム 5 6を摇動させることで、 洗浄ノズル 3 6を時計回り方向と反時計回り方向 に交互に回転させることができるようになつている。 図 6に示すように、 アーム 5 6を揺動させるためのァクチユエ一夕一として、 空気圧シリンダ一 5 8が支持 プレート 5 0に設けられている。 より詳細には、 空気圧シリンダー 5 8のピスト ンロッド 6 0の端部がアーム 5 6の先端に枢着され、 シリンダ一チューブ 6 2の 端部が支持プレート 5 0上に枢着されている。 この実施形態では、 空気圧シリン ダ一 5 8の最大の 1ストロークでアーム 5 6は約 1 2 0度の範囲で揺動するよう になっている。 この空気圧シリンダー 5 8は、 加圧空気の給排を制御するための 適当な空気圧回路 (図示せず) に接続されている。 従って、 空気圧回路を制御す ることで、 アーム 5 6の揺動角度ァ、 ひいては洗浄ノズル 3 6の回転角度ァを調 節することが可能である。
支持プレート 5 0は、 台座 2 0の第 1部分 2 2の下面側、 すなわち第 2部分 2 4とは反対の側に配置されている。 また、 支持プレート 5 0は、 洗浄ノズル 3 6 のパイプ 3 8と同方向に延び且つパイプ 3 8よりも長い 1対の案内シャフト 6 4 ,
6 6を有している。 これらの案内シャフト 6 4 , 6 6は、 台座 2 0の第 1部分 2 2の隅部に設けられた案内ブロック 6 8の対応の案内孔 7 0 , 7 2に摺動可能に 挿入され、 これによつて支持プレート 5 0は台座 2 0に対して往復動可能に支持 される。 支持プレート 5 0を往復動させるために、 空気圧シリンダー 7 4のよう なァクチユエ一夕一が設けられている。 空気圧シリンダー 7 4のシリンダーチュ —ブ 7 6は、 案内孔 7 0 , 7 2と平行な関係で案内ブロック 6 8に固定され、 シ リンダーチューブ 7 6から延びるビストンロッド 7 8の先端は支持プレート 5 0 に接続されている。 この空気圧シリンダ一 7 4を適当な空気圧回路により制御す ることで、 支持プレート 5 0を所望のストロークで往復直線運動をさせることが 可能となる。
案内ブロック 6 8の各案内孔 7 0, 7 2及び空気圧シリンダー 7 4は、 台座 2 0の第 1部分 2 2に形成された貫通孔 2 6の中心軸線と平行に延びている。 また、 洗浄ノズル 3 6は、 貫通孔 2 6と同軸となるように位置決めされている。 従って、 支持プレート 5 0を空気圧シリンダー 7 4により往復直線運動させると、 洗浄ノ ズル 3 6を貫通孔 2 6に対して出し入れすることができる。 なお、 案内シャフト 6 4, 6 6が案内ブロック 6 8から脱落しないように、 案内シャフト 6 4 , 6 6 の自由端に、 拡径されたストッパ 8 0を設けておくのが好適である。
次に、 上述したような容器洗浄装置 1 0を用いて、 電子工業薬品用容器 1 2の 内部を洗浄する方法について説明する。
まず、 容器台座 2 0に、 洗浄すべき容器 1 2を配置する。 この際、 容器 1 2の 上端板 1 4に設けられた一方の開口 1 6を台座 2 0の貫通孔 2 6と一致させ、 他 方の開口 1 8を台座 2 0の貫通孔 2 8と一致させた状態で配置する。 また、 容器 1 2が台座 2 0から脱落しないよう、 締付けベルト等により固定することが好ま しい。
次いで、 空気圧シリンダー 3 4を動作させ、 容器台座 2 0を傾動させ、 台座 2 0の傾斜角度ひを所望の角度とする。 この角度ひは、 容器の形状や開口の位置に 応じて 0〜 9 0度の範囲内から適宜選ぶことができるが、 図 2に明示する容器 1 2の場合、 開口 1 8が洗浄液の排出口となるため、 2 0〜 7 0度程度が好ましい。 この後、 空気圧シリンダー 7 4を制御して、 洗浄ノズル 3 6を、 台座 2 0の第 1部分 2 2の下面側から台座 2 0の貫通孔 1 6及び容器 1 2の開口 1 6を通して 容器 1 2内に挿入する。 そして、 洗浄液供給装置 4 2から、 例えば 0 . 5〜3 5 k g/ c m2 G、 好ましくは 1 0〜2 0 k g/ c m2 Gの供給圧力をもって、 洗浄 液としての超純水を供給する。 この超純水は、 可撓性ホース 4 4、 洗浄ノズル 3 6 2パイプ 3 8を通り、 ノズルへヅド 4 0の各噴出孔 4 8からジェット流となつ て噴出される。
超純水の供給が開始されたならば、 空気圧シリンダー 5 8, 7 4のそれそれを 制御して、 洗浄ノズル 3 6を所望の回転角度ァの範囲で時計回り方向と反時計回 り方向に交互に回転させると共に、 支持プレート 5 0を往復直線運動させて、 ノ ズルへヅ ド 4 0を容器 1 2の開口 1 6から容器 1 2内の所定位置までの間で往復 動させる。
支持プレート 5 0を移動させずに、 洗浄ノズル 3 6のみをその長手方向軸線を 中心として一定方向に回すと、 ノズルへヅド 4 0の各噴出孔 4 8からのジエツト 流が容器 1 2の内壁面に衝突する点は、 容器 1 2の内壁面を周方向に直線的に移 動する。 洗浄ノズル 3 6の一定方向の回転を続けると、 一の噴出孔 4 8からのジ ェヅ ト流の容器壁面に対する衝撃点は、 やがて、 同一の基準円 R Cにおける隣接 の噴射孔 4 8からのジェット流れの衝撃点の始点に到達する。 従って、 それ以上 はその方向に洗浄ノズル 3 6を回転させる必要はなく、 この時に洗浄ノズル 3 6 の回転方向を逆転させると、 同一高さレベルにおける容器 1 2の内壁面全体にジ エツト流が繰り返し当たることとなる。 よって、 洗浄ノズル 3 6の回転角度ァは、 ノズルへッドの隣合う噴射孔の角度的間隔/?と等しくすればよく、 噴出孔 4 8の 加工精度等を配慮すれば、 角度ァは角度 よりも僅かに、 例えば 4度程度大きな 値とするのがより好ましい。
また、 各ジェット流の容器内壁面に対する衝撃点の最大移動速度は、 洗浄効果 及び洗浄液の流量等を考慮すると、 1 0 0 O mm/s以下とするのが好適である。 従って、 洗浄ノズル 3 6が正逆両方向に 1回だけ回転するのに要する時間、 すな わち洗浄ノズル 3 6の回転速度 は 6 0 0秒/サイクル以下であるのが好まし く、 より好ましくは 1 2 0秒/サイクル以下である。 なお、 この速度 1\が過小 であると、 超純水が当たらない部分がでる場合があるので、 速度 は 2 0秒/ サイクル以上であることが望ましい。
洗浄ノズル 3 6は回転のみならず、 その軸線方向に往復動するため、 各ジェヅ ト流の容器内壁面に対する衝撃点はサインカーブを描きながら、 容器 1 2の長手 方向に沿って移動する。 全ジエツト流についての軌跡が容器 1 2の内壁面の全体 を実質的にカバーするためには、 各軌跡が洗浄ノズル 3 6の往復直線運動に伴つ てずれていくことが重要となる。 この条件は、 コンビユー夕一等を用いてシミュ レーシヨンすることで容易に求め得るが、 次式の条件を満たすことが好ましい。
Figure imgf000011_0001
1 0≤Δ≤3 0
ここで、 Τ 2は、 洗浄ノズル 3 6が前後に 1回だけ往復するのに要する時間、 す なわち洗浄ノズル 3 6の往復直線運動の速度 (秒 /サイクル) であり、 Sは洗浄 ノズル 3 6のストロークである。
更に、 洗浄効果及び洗浄液の消費流量を考慮すると、 容器 1 2の開口 1 6から 底面までの距離 Lに対する洗浄ノズル 3 6のストロ一ク Sの割合 S/Lは、 0 . 1〜 1 . 0が好ましく、 0 . 2〜 0 . 5とするのがより好適である。
以上のような条件の下で洗浄を続けると、 ノズルへッド 4 0からのジェット流 は効率よく容器 1 2の内壁面全体に衝突する。 しかも、 超純水の通る流路、 すな わちホース 4 4及び洗浄ノズル 3 6の内部空間には、 回転部のような摺動部分が 存在しないため、 摩擦により生じた粒子が超純水に混入するということがなく、 二次汚染の心配もない。 よって、 短時間で且つ非常に少量の超純水で所望の洗浄 効果を得ることができる。
容器 1 2の開口 1 6を用いての洗浄が終了したならば、 容器 1 2を 1 8 0度回 転させ、 開口 1 8を台座 2 0の貫通孔 2 6に合せる。 そして、 洗浄ノズル 3 6を 開口 1 8に挿入して上記と同様にして洗浄を行い、 洗浄作業を完了する。 勿論、 以上の動作は、 各ァクチユエ一ター 34, 58, 74に関連させる空気圧回路を 自動制御することで、 自動化を図ることが可能である。
なお、 洗浄に用いられた超純水は容器 12の開口 18又は 16及び台座 20の 貫通孔 28を通って外部に排出される。
次に、 上記構成の容器洗浄装置を用いて実際に容器を洗浄した結果を示す。 実施例
洗浄すべき容器 (12) として、 図 2に示す形状のポリエチレン製電子工業薬 品用容器を用いた。 また、 この容器の内径は約 58 Ommであり、 容器の開口か ら底面までの長さ (L) は約 900mm、 開口 ( 16, 18) の内径は 58mm であった。 用いた容器洗浄装置 (10) は、 図 1及び図 2に示す構成を有してお り、 洗浄ノズル (36) のパイプ (38) の内径は 27. 2mm. 長さは 450 mmであった。 ノズルヘッド (40)の形状は図 3〜図 5に示すものと実質的に 同一であり、 噴出孔 (48) の数は 67個、 孔径は 0. 8mmであった。
洗浄は上記の手順に従って行った。 その際、 洗浄ノズルの回転角度 (ァ) は 4 0度とし、 回転速度 (1\) は 1. 5秒 サイクルとした。 また、 洗浄ノズルの ストローク (S) と容器の長さ (L) との間の関係を S/L = 0. 5が成立する 関係とした。 更に、 洗浄ノズルの往復直線運動の速度 (T2) を 40秒/サイク ルとした。 洗浄液としては超純水を用いた。 超純水の供給流量は 0. 08m3/ 分、 供給圧力は 10kg/cm2Gとした。 各開口 (16, 18) を用いての洗 浄時間はそれそれ 10分間とした。
洗浄終了後、 容器に超純水を充填 'し、 一時間経過後の超純水中における粒径 0. 2 111以上の微粒子の濃度 (個/ ml) を光散乱方式のパーティクルカウンター を用いて測定した。
上記条件下で 4本の容器に対して洗浄を行った結果、 各容器についての微粒子 濃度は、 それそれ、 15. 7、 8. 3、 9. 6及び 10. 3であり、 その平均値 は 11. 0であった。 比較例 1
ノズルへッドを容器の長手方向のほぽ中心位置に配置した状態で洗浄ノズルを 固定ないしは静止させた点を除き、 前記実施例と同じ条件で 4本の容器に対して 洗浄を行った。 その結果、 各容器についての微粒子濃度は、 それぞれ、 4 9 . 4、 1 6 . 2、 3 1 . 7及び 2 3 . 9であり、 その平均値は 3 0 . 3であった。
比較例 2
洗浄ノズルを、 パイプと、 このパイプの先端に回転可能に取り付けられたノズ ルへッドとから成るものを用い、 超純水の流体圧力によりノズルへッドを回転さ せながら洗浄する従来一般の装置を用いたこと以外、 前記実施例と同様に行った その結果、 各容器についての微粒子濃度は、 それそれ、 7 6 . 4、 1 4 4、 3 1 9及び 1 0 2であり、 その平均値は 1 6 0であった。
以上の結果から、 本発明によれば、 容器の内部の全面を極めて清浄に洗浄する ことができ、 よって、 液体を容器に充填して保存する際の液体中の粒子濃度の増 加を極めて低い水準に維持することができることが分る。 また、 本発明によれば、 所望の洗浄効果を得るために必要な洗浄液の流量も少なくて済み、 効率的に且つ 経済的に容器内部の洗浄を行うことができる。
以上、 本発明の好適な実施形態について説明したが、 本発明は上記実施形態に 限定されないことは言うまでもない。 例えば、 本発明は、 開口が 1つだけの容器 等、 他の型式の容器にも適用可能である。 勿論、 開口が 1つしかない円筒形容器 の場合、 台座の第 1部分に設けられる貫通孔は 1つだけでよく、 その寸法や位置、 或は、 洗浄時の台座の傾斜角度等は適宜選択されることとなる。 また、 上記実施 形態では、 洗浄ノズルはリンク機構により回転されるが、 例えば図 7に示すよう に、 洗浄ノズル 3 6のパイプ 3 8の外周面に歯車 9 0を同軸に固着し、 その歯車 9 0にモ一夕 9 2の小歯車 9 4を嚙合させた構成により、 洗浄ノズルを回転させ てもよい。 図 7の構成では、 洗浄ノズルの最大回転角度を 3 6 0度程度まで大き くすることも可能である。 更に、 洗浄液は超純水に限られず、 容器に充填される 液体と同種の液体を用いてもよい。 このように、 上記実施形態は一例に過ぎず、 本発明の範囲及び精神を逸脱することなく形態、 構成及び配列を種々変形し得る ことは、 明らかであろう。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 細長い剛性を有するパイプと、 多数の噴出孔が形成され前記パイプの一 端に固着されたノズルへッドとを有する洗浄ノズルを用い、 前記ノズルへッドの 噴出孔から噴出される洗浄液により容器の内部を洗浄する方法であって、
前記ノズルへッドが前記容器内に配置されるよう、 前記洗浄ノズルを該容器の 開口から前記容器内に挿入するステップと、
前記パイプの他端から洗浄液を供給して前記ノズルへッドの噴出孔からジエツ ト流として噴出させるステップと、
前記洗浄ノズルをその長手方向軸線に沿って往復直線運動させると共に、 前記 洗浄ノズルをその長手方向軸線を中心として時計回り方向及び反時計回り方向に 交互に回転させるステップと、
を備える容器内部の洗浄方法。
2 . 前記容器を、 その開口を下向きとした状態で固定するステップを備える 請求項 1記載の容器内部の洗浄方法。
3 . 前記容器の前記開口から該容器の底面までの長さ (L ) に対する前記洗 浄ノズルの前記往復直線運動のストローク (S ) の割合 (SZL ) が 0 .
0である請求項 1記載の容器内部の洗浄方法。
4 . 前記洗浄ノズルの前記往復直線運動の速度が 2 0〜 6 0 0秒ノサイクル である請求項 1記載の容器内部の洗浄方法。
5 . 前記洗浄ノズルの時計回り方向及び反時計回り方向のそれそれについて の回転の角度 (ァ) は 1 0〜3 6 0度である請求項 1記載の容器内部の洗浄方法。
6 . 前記洗浄ノズルの前記回転の速度が 0 . 5〜 1 5秒/サイクルである請 求項 1記載の容器内部の洗浄方法。
7 . 前記容器が電子工業薬品用容器である請求項 1記載の容器内部の洗浄方
8 . 容器の内部を洗浄するための装置であって、
前記容器を支持するための容器台座と、
細長い剛性を有するパイプ、 及び、 多数の噴出孔が形成され前記パイプの一端 に固着されたノズルへッドを有する洗浄ノズルと、
前記洗浄ノズルをその長手方向軸線に沿って直線的に往復動可能に移動させる 移動手段と、
前記洗浄ノズルをその長手方向軸線を中心として時計回り方向及び反時計回り 方向に交互に回転させる回転手段と、
を備え、 前記洗浄ノズルは、 前記移動手段により移動された場合に前記ノズルへ ッドが前記容器台座に支持された容器の開口を通して該容器の内部に揷入され得 るように配置されている容器内部の洗浄装置。
9 . 前記容器台座に支持された容器の開口が下向きとなるように該容器台座 を傾動可能に支持する基台と、
前記容器台座の傾斜角度を調節するために前記容器台座を傾動させる傾動手段 とを備える請求項 8記載の容器内部の洗浄装置。
1 0 . 前記ノズルへッドの前記噴出孔が該ノズルへッドの略球状の先端部分に 形成されている請求項 8記載の容器内部の洗浄装置。
1 1 . 前記噴出孔の孔径が 0 . 1〜2 . 0 mmである請求項 8記載の容器内部 の洗浄装置。
1 2 . 前記噴出孔が、 前記洗浄ノズルの長手方向軸線を中心とした該洗浄ノズ ルの回転方向に沿って等間隔に配置されている請求項 8記載の容器内部の洗浄装 置。
1 3 . 前記洗浄ノズルの時計回り方向及び反時計回り方向のそれそれについて の回転の角度 (ァ) が、 隣合う前記噴出孔のそれそれから前記洗浄ノズルの長手 方向軸線に延びる垂線により画成される角度 ( ? ) 以上である請求項 1 2記載の 容器内部の洗浄装置。
1 4 . 前記洗浄ノズルの時計回り方向及び反時計回り方向のそれそれについて の回転の角度 (ァ) が 1 0〜3 6 0度である請求項 8記載の容器内部の洗浄装置 c 1 5 . 前記移動手段が、
前記容器台座に対して往復動自在に設けられ、 前記洗浄ノズルの前記パイプを 支持する支持プレートと、
前記支持プレートを往復直線運動させるァクチユエ一夕一と、
を備える請求項 8記載の容器内部の洗浄装置。
1 6 . 前記ァクチユエ一夕一が空気圧シリンダーである請求項 1 5記載の容器 内部の洗浄装置。
1 7 . 前記回転手段が、
前記支持プレートに前記洗浄ノズルを回転可能に支持する軸受と、
前記支持プレート上に設けられたァクチユエ一夕一と、
前記ァクチユエ一夕一の駆動力を伝動して前記洗浄ノズルを回転させる伝動機 構と、
を備える請求項 1 5記載の容器内部の洗浄装置。
1 8 . 前記回転手段の前記ァクチユエ一夕が空気圧シリンダーであり、 前記伝 動機構が前記洗浄ノズルの前記パイプの外周面に固着された揺動アームを含んで いる請求項 1 7記載の容器内部の洗浄装置。
1 9 . 洗浄液供給装置と、
前記洗浄液供給装置からの洗浄液を移送する可撓性のホースと、
を備え、 前記ホースを前記洗浄ノズルの前記パイブの他端に直接的に接続した請 求項 8記載の容器内部の洗浄装置。
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