WO1996037481A1 - Nouveau reactif de synthese de tetrazole et son emploi dans un procede de production de tetrazoles - Google Patents

Nouveau reactif de synthese de tetrazole et son emploi dans un procede de production de tetrazoles Download PDF

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WO1996037481A1
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branched
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Ginro Tokuhara
Tadashi Yamaguchi
Tetsuya Iwasaki
Original Assignee
Chugoku Kayaku Kabushiki Kaisha
Wakunaga Seiyaku Kabushiki Kaisha
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D257/04—Five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings

Definitions

  • the present invention relates to a novel synthetic reagent for tetrazole and a method for producing tetrazole using the same.
  • the alkyl nitriles or aryl nitriles are reacted with sodium ammonium chloride or sodium alkylamine hydrochloride sodium azide in a solvent such as dimethylformamide (DMF) or getyl sulfoxide.
  • a solvent such as dimethylformamide (DMF) or getyl sulfoxide.
  • This reference teaches a method for synthesizing sterically hindered tetrazole compounds. That is, a carbonitrile compound is reacted with a trialkyltin azide in a solvent such as toluene or kylene to synthesize a sterically hindered tetrazole compound.
  • This publication discloses a method for producing a tetrazole benzene compound by reacting a cyanobenzene compound with a compound represented by the formula (R) 3 SnN 3 (wherein R represents an alkyl group having 7 to 18 carbon atoms). Is described. (D) The method described in Chemiche Berichte, Vol. 89, No. 11, issued in 1956, pp. 2648-2653. This document discloses a method of synthesizing a tetrazole compound by reacting a nitrile compound with aluminum chloride Z sodium azide in tetrahydrofuran (THF).
  • the lower alkyltin azides such as tributyltin azide used in the method (B) had a problem that they had high vapor pressure and were toxic, so these methods were not suitable as industrial production methods.
  • the reagent (aluminum chloride) used in the production of the tetrazole compound by the method (D) has a drawback that, due to its properties, usable solvents are limited (mainly tetrahydrofuran) and lack versatility. there were.
  • the present invention provides a safe, inexpensive, highly versatile and industrially advantageous tetrazolating agent, and a method for industrially producing a tetrazole compound using the tetrazolating agent.
  • the lithium metal azide used as the tetrazolating agent of the present invention includes lithium azide, sodium azide, potassium azide, rubidium azide, and cesium azide, with sodium azide being particularly preferred.
  • nitrile compound of the formula (I) from which the 1H-tetrazole compound can be synthesized using the tetrazolating agent (zinc chloride alkali metal azide) of the present invention is not limited to a specific compound. Basically, it can be applied to any nitrile form. That is, R in the formula (I) represents an arbitrary substituent.
  • R examples include an optionally substituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl Group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n — Octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, pentadecyl group, pentadecyl group, heptadecyl group, etc., and optionally substituted alkenyl group (eg, vinyl group, 1-propenyl group, aryl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, etc., optionally substituted alkynyl group (eg, ethynyl group, propargyl group, etc.), optionally substituted alkoxy group (
  • Examples of the group which may be substituted in each of the above substituents include a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group and an ethyl group), a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (for example, A methoxy group, an ethoxy group, etc.), a halogen atom, (F, C1, Br., I), a hydroquinine group, an amino group, a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a carboxy group and the like.
  • the number of groups which may be substituted in each of the above substituents may be one or two or more.
  • R is hydrogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which may be substituted, or a linear or branched substituted group having 1 to 4 carbon atoms.
  • halogen atom selected from any of F, C1, Br, and I, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a linear chain having 1 to 4 carbon atoms
  • R 2 and R 3 are a halogen atom selected from F, C 1 .B r and I, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1-4 linear
  • A represents any of 0, NH or CH 2 ,
  • R 4 , R 5 and R e are a halogen atom selected from any of F, C 1, Br and I, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms.
  • 4 is independent from the group consisting of a linear or branched alkoxy group, a linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, a 2'-troamino group, and a carboxyl group A group represented by),
  • X and Y are independently selected from CH or N; R 4 , R 5 and R 6 are halogen atoms selected from any of F, C 1, Br, and I;
  • a linear or branched alkyl group having 4 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a linear or branched alkyl sulfonyl having 1 to 4 carbon atoms Group, nitro group, amino group, and carboxyl group are independently selected from
  • R 7 , R 8 , R 9 and R lfl are hydrogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n —Butyl, t-butyl), hydroxy, phenyl, halogen atom selected from F, C 1, Br, and I, trifluoroacetyl group, pentafluoropropionyl group, carbon number A linear or branched alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, ethoxyquincarbonyl), a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and substituted by phenyl; Groups (eg, benzyl, phenethyl)-independently of the group consisting of hydroxyl-substituted linear or branched alkyl groups of 1 to 4 carbon atoms (
  • Rn, R 12 , R 13 and R 14 are hydrogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl) Tyl, t-butyl), hydroxy, phenyl, halogen atom selected from F, C 1, Br, I, trifluoroacetyl group, pentafluoropropyl pionyl group, 1 to 1 carbon atoms 4 linear or branched alkoxyl propyl groups
  • a phenyl-substituted linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms e.g., benzyl, phenyl
  • a hydroxy-substituted alkyl group e.g., benzyl, phenyl
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms e.g., independently selected from the group consisting of hydroquinolmethyl and 2-hydroquinruethyl
  • R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are hydrogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n- Butyl, t-butyl), hydroxyl group, phenyl group, halogen atom selected from any of F, Cl, Br, and I, trifluoroacetyl group, pentafluoropropyl pionyl group, and 1 to 4 carbon atoms Linear or branched alkoxycarbonyl group
  • n-Bu formula c Specific examples of the group represented by n-Bu formula c include the following groups ( 23 24 25 26
  • the 1H-tetrazole compound When the 1H-tetrazole compound is produced using the synthesis reagent of the present invention, it is usually carried out under normal pressure at 50 ° C. to 150 ° C. for 30 minutes to 24 hours.
  • the target compound was produced by the following four steps (1) to (4).
  • the zinc chloride / alkyl metal azide of the present invention is not limited to the sterically hindered nitrile form, but can basically be used for any nitrile form.

Description

明 細 書 テトラゾール類の新規な合成試薬及びそれを用いたテトラゾール類の製造方法 技術分野 .
本発明はテトラゾール類の新規な合成試薬及びそれを用いたテトラゾール類の 製造方法に関する。 背景技術
カルボ二トリル体をテトラゾール化する方法としては、 これまでに以下に記載 する方法が知られている。
(A) ジャーナル 'ォブ'アメリカン 'ケミカル . ソサイエティー （J. Ame. Chem. S o c. ) 第 80巻 （1958年発行） 第 3908頁〜第 3911頁 に記載の方法。
この文献には、 アルキル二トリル類又はァリール二トリル類をジメチルホルム アミ ド （DMF) 又はジェチルスルホキシドのような溶媒中で塩化アンモニゥム アジ化ナトリウム又はアルキルァミン塩酸塩 アジ化ナトリウムと反応させて 対応するテトラゾール類を合成する方法が記載されている。
(B) ジャーナル 'ォブ ·オーガニック 'ケミストリー （ J . Or . Chem. ) 第 56巻 （1991年発行） 第 2395頁〜第 2400頁に記載の方法。
この文献には、 立体障害にあるテトラゾール化合物を合成する方法が教示され ている。 すなわち、 カルボ二トリル化合物をトルエンまたはキンレンのような溶 媒中でトリアルキルスズアジドと反応させて立体障害にあるテトラゾール化合物 を合成するものである。
( C ) 特公平 6— 73028号公報に記載の方法。
この公報には、 シァノベンゼン化合物に式 （R) 3S nN3 (式中、 Rは炭素数 7〜 18のアルキル基を示す） で表される化合物を反応させてテトラゾールベン ゼン化合物を製造する方法が記載されいる。 (D) ヒエーミ ツシェ 'ベリ ッヒテ (Chemi s c h e Be r i ch t e) 第 89巻第 11号 （1956年発行） 第 2648頁〜第 2653頁に記載の方法。 この文献には、 二トリル化合物をテトラヒ ドロフラン （THF) 中で塩化アル ミニゥム Zアジ化ナトリウムと反応させることにより、 テトラゾール化合物を合 成する方法が開示されている。
式 R— CN (式中、 Rは任意の置換基を表す） で示される二トリル化合物の基
Rが大きく、 立体障害のあるものは、 （A) 法では収率が非常に低いか、 又は満 足する収率を得るためには、 非常に長い反応時間が必要であった。
また、 立体障害のあるテ卜ラゾール化合物を効率よく合成する上記 （B) 法及 び （C) 法が知られているが、 トリアルキルスズアジドが高価であることや、
(B) 法において用いられる トリブチルスズアジドのような低級アルキルスズァ ジドは蒸気圧が高く毒性を有するという問題点があつたため、 これらの方法もェ 業的製造方法としては不適切であった。
さらに、 （D) 法によるテトラゾール化合物の製造において使用されている試 薬 （塩化アルミニウム） は、 その性質上、 利用できる溶媒が限られてしまい （主 にテトラヒ ドロフラン） 、 汎用性に欠けるという欠点があった。
発明の開示
本発明は、 安全で安価であり、 しかも汎用性の高い工業的に有利なテトラゾー ル化剤及び当該テトラゾール化剤を用いたテトラゾール化合物の工業的製造方法 を提供する。
本発明者らは、 上記従来技術の問題点に鑑み、 工業的に優れた新規なテトラゾ ール化剤について鋭意研究を重ねた結果、 ZnC 12と N a N3のようなアルキル 金属アジドとを組み合わせて用いることにより、 所望のテ卜ラゾール化合物をェ 業的に安全に製造することができることを見い出し、 本発明を完成するに至った c すなわち、 アルカリ金属アジドと塩化亜鉛とからなることを特徴とする、 式 ( I )
R-CN ( I )
_ 9 - (式中、 Rは任意の置換基を表す） で示されるカルボ二トリル類から式 （II)
tj - H (Π)
(式中、 Rは上記の意味を表す） で示される 1H—テトラゾール類を製造するた めの新規で有用な合成試薬に関する。 また、 本発明は、 式 （I)
R-CN (I)
(式中、 Rは任意の置換基を表す） で示されるカルボ二トリル化合物に塩化亜鉛 を触媒としてアルカリ金属アジドを反応させることを特徴とする、 式 （II)
Figure imgf000005_0001
(式中、 Rは上記の意味を表す） で示される 1H—テトラゾール化合物の製造方 法に関する。 発明を実施するための最良の形態
本発明のテトラゾール化剤として用いるアル力リ金属アジドとしては、 アジ化 リチウム、 アジ化ナトリウム、 アジ化カリウム、 アジ化ルビジウム、 アジ化セシ ゥムが挙げられ、 このうちアジ化ナトリウムが特に好ましい。
本発明のテトラゾール化剤 （塩化亜鉛 アルカリ金属アジド） を用いて 1H— テトラゾール化合物を合成することのできる式 （I) の二トリル化合物は特定の 化合物に限定されず、 本発明のテトラゾール化剤は基本的にいかなる二トリル体 についても応用できる。 すなわち、 式 （I) における Rは任意の置換基を表す。 Rの例としては、 置換されていてもよいアルキル基 （例えば、 メチル基、 ェチル 基、 n—プロピル基、 i一プロピル基、 n—ブチル基、 s—ブチル基、 iーブチ ノレ基、 t—ブチル基、 n—ペンチル基、 n—へキシル基、 n—へプチル基、 n— ォクチル基、 n—ノニル基、 n—デシル基、 ゥンデシル基、 ペンタデシル基、 へ プタデシル基など） 、 置換されていてもよいアルケニル基 （例えば、 ビニル基、 1一プロぺニル基、 ァリル基、 1ーブテニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル 基など） 、 置換されていてもよいアルキニル基 （例えば、 ェチニル基、 プロパル ギル基など） 、 置換されていてもよいアルコキシ基 （例えば、 メ トキシ基、 エト キン基、 n—プロポキシ基、 i一プロポキシ基、 n—ブトキシ基、 t—ブトキシ 基など） 、 置換されていてもよいアルキルチオ基 （例えば、 メチルチオ基、 ェチ ルチオ基など） 、 置換されていてもよいアルキルスルホニル基 （例えば、 メシル 基など） 、 置換されていてもよいアルキルスルフィニル基 （例えば、 メチルスル フィニル基など） 、 置換されていてもよいアルキルアミノ基 （例えば、 メチルァ ミノ基、 ェチルァミノ基など） 、 置換されていてもよいアルケニルォキシ基 （例 えば、 ビニルォキシ基、 1一プロぺニルォキシ基、 ァリルォキシ基など） 、 置換 されていてもよいアルケニルチオ基 （例えば、 ビニルチオ基、 1一プロぺニルチ ォ基、 ァリルチオ基など） 、 置換されていてもよいアルコキシカルボニル基 （例 えば、 メ トキシカルボニル基、 エトキンカルボニル基、 n—プロポキシカルボ二 ル基、 i一プロポキシカルボニル基、 n—ブトキンカルボニル基、 t一ブトキシ カルボニル基など） 、 置換されていてもよいァリール基 （例えば、 フエニル基、 o—トリル基、 m—トリル基、 p—トリル基、 0—ビフヱニリル基、 m—ビフェ 二リル基、 p—ビフヱ二リル基、 一ナフチル基、 3—ナフチル基など） 、 置換 されていてもよいァリールォキシ基 （例えば、 フヱノキン基、 0—トリルォキシ 基、 m—トリルォキシ基、 p—トリルォキシ基、 0—ビフヱ二リルォキシ基、 m —ビフヱ二リルォキシ基、 ρ—ビフヱ二リルォキシ基、 α—ナフチルォキン基、 ナフチルォキン基など） 、 置換されていてもよいァラルキル基 （例えば、 ベ ンジル基、 フヱネチル基など） 、 置換されていてもよいァリールアルケニル基 (例えば、 スチリル基、 シンナミル基など） 、 置換されていてもよい複素環式基
(例えば、 2 _ピリジル基、 3—ピリジル基、 4一ピリジル基など） 、 などを挙 げることができる。
なお、 上記各置換基において置換されていてもよい基としては、 炭素数 1〜4 の低級アルキル基 （例えば、 メチル基、 ェチル基など） 、 炭素数 1〜4の低級ァ ルコキン基 （例えば、 メ トキシ基、 エトキン基など） 、 ハロゲン原子、 （F , C 1 , B r., I ) 、 ヒ ドロキン基、 アミノ基、 ニトロ基、 シァノ基、 トリフルォロ メチル基、 カルボキシ基などを挙げることができる。 また、 上記各置換基におい て置換されていてもよい基の数は 1個又は 2個以上のいずれでもよい。
さらに、 具体的には Rは水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換され ていてもよいアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていて もよいアルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよ いアルキルスルホニル基、 フヱニル基、 次式
Figure imgf000007_0001
(式中、 は F , C 1 , B r , Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭 素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝 鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホ二ル 基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より選択される） で示され る一置換されたフ ニル基、 次式
Figure imgf000007_0002
(式中、 R 2及び R 3は、 F , C 1 . B r , Iのいずれかから選択されるハロゲン 原子、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状
D - 又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルス ルホニル基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択 される） で示される二置換されたフヱニル基、 4' ーメチルビフヱニルー 2—ィ ル基、 次式
Figure imgf000008_0001
(式中、 Aは 0, NH又は CH2のいずれかを表し、
Zは次式
Figure imgf000009_0001
のいずれか 1つから選択される 2価の基を表し、
R4, R5及び Reは F, C 1 , B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分技鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分 枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホ二 ル基、 二'トロ基ァミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、
次式
Figure imgf000010_0001
(式中、 X, Yは CH又は Nから独立的に選択され、 R4, R5及び R6は F， C 1, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1~4の直鎖状又 は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホニル基、 ニトロ基ァミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、 次式 A
式 A
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0002
(式中、 R 7, R 8, R 9及び R l flは水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の アルキル基 （例えば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—ブチ ル、 t—ブチル） 、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F , C 1 , B r， Iのいずれ かから選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロ ピオニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基 （例 えば、 メ トキシカルボニル、 エトキンカルボニル） 、 フヱニルで置換された炭素 数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基 （例えば、 ベンジル、 フエネチル） - ヒドロキシルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基 （例 えば、 ヒ ドロキンルメチル、 2—ヒ ドロキンルェチル） からなる群より独立的に 選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式 B 式 B
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
(式中、 Rn, R12, R13及び R14は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基 （例えば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—ブ チル、 t—ブチル） 、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F, C 1 , B r, Iのいず れかから選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプ 口ピオニル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ力ルポニル基
(例えば、 メ 卜キンカルボニル、 エトキンカルボニル） 、 フヱニルで置換された 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基 （例えば、 ベンジル、 フ ネチ ル） 、 ヒ ドロキシルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分技鎖状のアルキル 基 （例えば、 ヒ ドロキンルメチル、 2—ヒ ドロキンルェチル） からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式 C 式 c
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0002
(式中、 R15， R16, R17及び R18は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基 （例えば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—ブ チル、 tーブチル） 、 ヒドロキシル基、 フエニル基、 F, C l， B r, Iのいず れかから選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプ 口ピオニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基
(例えば、 メ トキシカルボニル、 エトキンカルボニル） 、 フヱニルで置換された 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基 （例えば、 ベンジル、 フエネチ ル） 、 ヒ ドロキシルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル 基 （例えば、 ヒ ドロキシルメチル、 2—ヒ ドロキシルェチル） からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 からなる群より選択される。
式 Aに示される基の具体例として以下の基を挙げることができる。
Figure imgf000014_0001
10 11
Figure imgf000014_0002
化合物 No. R T R 8 R9 R 1 0
1 n-Bu CI H OH
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H
e
Et
n-Pr
n-Bu
H CH2CH20H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
2 -Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-Et H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-CH2CH2-Ph H
Me
Figure imgf000015_0001
n-Bu
H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
3 -COOMe H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-COOEt H
Me
Et
n-Pr
n-Bu 化合物 No R7 R8 Rg R , n
4 H CI -COOMe
Me
Et
n-Pr
- n-Bu
H . CI -COOEt
Me
Et
n-rr
n Du，
H CI -COOMe Me
Me
Et
n-rr
n-Bu
H CI -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H CI -COOEt Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H CI -COOEt
Me
Et
n_r Γ
n-Bu
5 H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
化合物 No. R8 R 9 R l 0
5 Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
Et H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Pr H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Bu H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
6 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
7 Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
Et H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Pr H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Bu H
Me
Et
n-Pr
n-Bu 化合物 No. R7 Re R9 Rl 0
8 Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
Et H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Pr H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Bu H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
9 Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
Et 卜 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Pr H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
n-Bu H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
10 -CO-CF 3 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu 化合物 No. R8 g R l 0
10 -CO-CH 3 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
11 H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu
1
H -Ph
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
式 Bに示される基の具体例として以下の基を挙げることができる <
-81
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0002
AT 91 ST ΖΙ
£lPlOI96d£l∑Dd 化合物 No. u Rl 2 Rl 3
12 Me H H
Et
n-Pr
n-Bu
Me Me
Et
n-Pr
n-Bu
Me Et
Et
n-Pr
n-Bu
Me H -OH
Et
n-Pr
n-Bu
Me Me
Et
n-Pr
n-Bu
Figure imgf000022_0001
化合物 No. R Rl 2 Rl 3
16 H -NH-R9 Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -NH-R 9 n-Bu
Me
Et
n-Pr .
n-Bu
H -NH-R 9 n-CsHu
Me
Et
n-Pr
n-Bu
17 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
18 H H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-CHO H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
化合物 No. Kl 2 Rl 3
19 H H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-99- 化合物 N o . Rn El 2 Rl 3
20 -COOMe H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
-COOEt R
Me
Et
n-Pr
n-Bu
21 H -COOH
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOMe
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
22 H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Et
He
Et
n-Pr
n-Bu
H n-Bu
Me
Et
n-Bu 式 cに示される基の具体例として以下の基を挙げるごとができる ( 23 24 25 26
:15
Figure imgf000026_0001
27 28 29 30
:15
Figure imgf000026_0002
化合物 N o ■I 5 R i β R l 7
23 H Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H n-Bu
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOMe
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
Me H Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H n-Bu
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOMe
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu 化合物 N o. Rl 5 Ki β Rl 7 Rl 8
24 H
Me
Et
η_Ρτ- n-Bu
25 H
Me
Et
n-rr
n-Bu
26 H
Me
Et
n-rr
n-Bu
Δί H H H H
Me
Et
Π— ΓΓ
n-Bu
H Me H
Me
Et
n~rr
Figure imgf000028_0001
n H -COOMe
Me
Ll
Π Γ Γ
n-Bu
H H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
ィ匕合物 N o "15 ft, 1 β a D, , p
" 17 Kl 8
28 Η H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H 1 -COOMe
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Me H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOMe
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H -COOEt
Me
Et
n-Pr
n-Bu
29 H H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Me
Me
Et
n-Pr
n-Bu
H Et
Me
Et
n-Pr
n-Bu 仆 1し会口物 M i " oリ · "15 R 16 R, R 13
30 H
Me
Et
n-Pr
n-Bu
本発明の合成試薬を用いて 1H—テトラゾール化合物を製造する場合、 通常は 常圧において 50°C〜150°C、 30分〜 24時間の条件下で行う。 また、 本発 明のテトラゾ一ル化合物の製造に際しては必要に応じてメチルェチルケトン、 D MF、 n—ブタノール、 アミノレアノレコール、 n—へキシルアルコール、 エタノー ル、 イソプロピルアルコール、 ヘプチルアルコール、 DMSO、 クロ口ホルム、 ジクロロェタン、 THF、 ジォキサン、 N—メチルピロリ ドン、 1, 3—ジメチ ルイミダゾリジノン、 t—ブチルメチルエーテルなどの反応溶媒を用いてもよい c 実施例
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、 本発明はこれらの実 施例に何ら限定されるものではない。
実施例 1 ： 5—エトキンカルボ二ルー 1 H—テトラゾールの製造
Figure imgf000030_0001
温度計、 滴下ロート及び還流冷却器を装着した、 ガラス製 200m lの反応器 ：、 塩化亜鉛 14. 4 g (105. 6mmo 1 ) 、 アジ化ソーダ 13. 7 g (2 11. 2 mm o 1 ) 及びメチルェチルケトン 70 m 1を仕込み、 水浴上で撹拌す る。 この混合物に滴下ロートから、 シァノ蟻酸ェチル 10. 15 g (102. 5 mmo l ) を約 30分かけて滴下した後、 昇温し、 内部温度 60〜70°Cで 1 h r反応させた。
反応終了後、 冷却し、 過剰の希 HC 1を添加し、 約 1 h r撹拌する。 減圧下で メチルェチルケトンを留去し残渣の水層から、 t e r t—ブチルメチルエーテル を用いて抽出 （連続抽出） を行い、 MgS〇4で乾燥した後、 溶媒を留去すると、 白色結晶が 12. 8 g得られた。 これをベンゼンにて再結晶を行うと、 高純度の テトラゾール誘導体が 11. g (再結晶後収率 80. 2%) 得られた。 融点 ： 90. 4〜91. 6。C。
実施例 2 ： 5—メチル—1H—テトラゾールの製造
Figure imgf000031_0001
ァセトニトリル 5 Om 1、 塩化亜鉛 13 g (95. 4mm o 1 ) 、 アジ化ソー ダ 12. 4 g (190. 7 mm o l) を温度計及び還流冷却器を装着した、 ガラ ス製 10 Om 1の反応器に仕込む。 これを撹拌しながら加熱還流させ、 約 10 h r反応させた。
反応混合物に希塩酸を添加し、 均一層とした後、 減圧下、 未反応のァセトニト リルを回収した。 残渣 （水層） から酢酸ェチルにより抽出 （連続抽出） を行い、 酢酸ェチル層と Mg S〇4にて乾燥後、 減圧下、 溶媒を留去すると、 5—メチル 一 1H—テトラゾールが白色結晶として得られた。 粗収量 7. 4 g (収率 92. 5%) 。 融点： 146. 2〜147. 0°C。
実施例 3 ： 5- (4' ーメチルビフヱニルー 2—ィル） 一1H—テトラゾール の製造
Figure imgf000032_0001
4' ーメチルビフエニル一 2—カルボ二卜リル 5 g (25. 9mmo l) 、 塩 化亜鉛 7· 06 g (51. 8 mmo 1) 、 アジ化ソ一ダ 6. 73 g (103. 6 mmo 1 ) 及び DMF 15mlの混合物を、 温度計及び還流冷却器を装着した。 ガラス製 50m 1反応器中で、 110〜120°C、 15h r反応させた。
原料が消失し.たのを TLCで確認した後冷去し、 内部温度が、 100°C以下に なつてから希 HC 1をゆつく り添加した。 析出してくる白色結晶を濾取 ·水洗し たのち、 減圧下乾燥すると、 高純度のテトラゾール誘導体が 5. 74 g (収率 9 4. 0%) 得られた。 融点： 147. 5〜： L 48. 5°C。
実施例 4 ： 5—フヱニルー 1H—テトラゾールの製造
Figure imgf000032_0002
ベンゾニ卜リル 10 g (97. Ommo 1 ) 、 塩化亜鉛 14. 5 g (106. 7 mmo 1 ) 、 アジ化ソーダ 13. 9 g (213. 3 mm o 1 )及び DMF 20 m 1の混合物を、 温度計及び還流冷却器を装着した。 ガラス製 100mlの反応 器に仕込み、 これを撹拌しながら内温 100〜110°Cで 30分反応させた。 原料が消失したのを T L Cで確認した後冷去し、 希塩酸を過剰に加え酸性状態 のまま数時間撹拌した。 析出してくる白色結晶を濾取 ·水洗したのち、 減圧下で 乾燥すると、 高純度の 5—フエ二ルー 1 H—テトラブールが 13. 7 g得られた c 収率： 96. 6 %。 融点： 215. 5〜217. 0°C。 実施例 5 ： —5— （2—プロモフヱニル） — 1 H—テトラゾールの製造
Figure imgf000033_0001
2—ブロモベンゾニトリル 8. 83 g (48. 5mmo 1 ) 、 塩化亜鉛 7. 2 7 g (53. 4mmo 1 ) 、 アジ化ソーダ 6. 94 g (106. 8mmo 1 ) 及 び DMF 10mlの混合物を温度計及び還流冷却器を装着したガラス製 50ml の反応器に仕込み、 これを撹拌しながら内温 100〜110°Cで 2 h r反応させ た。
原料が消失したのを T L Cで確認した後、 実施例 4の場合と同様にして後処理 した。 高純度の 5— （2—プロモフヱニル） 一 1 H—テトラゾ一ルの白色結晶が 9. 44g (収率 86. 5%) 得られた。 融点： 181. 5〜182. 5°C。 実施例 6 ： 5—ェチルー 2—イミノー 3— [2' 一 （1H—テトラゾールー 5 一ィル） ビフヱ二ルー 4一ィル] メチルー 1, 3, 4—チアジアゾリ ンの製造
Figure imgf000033_0002
以下の （1) 〜 （4) の 4工程により目的化合物を製造した。
( 1 ) 2—トリフルォロアセトアミ 卜"—一 5ーェチルー 1， 3， 4ーチアジアゾ一 ルの製造
2—アミノー 5—ェチル一1, 3, 4—チアジアゾール 200 gをトルエン 3 1に懸濁し、 - 室温でトリェチルァミン 260 m 1を加え、 氷冷下無水トリフルォ 口酢酸 265ml滴下し、 室温で 1時間撹拌した。 反応液に水を加え、 析出した 結晶を濾取した。 更に、 濾液に酢酸ェチルを加え、 有機層を分取し、 無水硫酸マ グネシゥムで乾燥後、 減圧下溶媒を留去し、 標記化合物を 237. 5 g (68%) 得た。
(2) 4一プロモメチルー 2' —シァノビフエニルの製造
4ーメチルー 2' —シァノビフエニル 10. 5g、 N—ブロモコハク酸イミ ド 9. 79g、 2, 2' 一ァゾジイソプチロニトリル 12 Omgを四塩化炭素 11 Omgに加え、 2時間加熱還流した。 熱時不溶物を濾別し、 濾液を放冷後、 析出 した結晶を濾取し、 標記化合物を 6. 6 g (44%) 得た。
(3) 5—ェチル一 2—トリフルォロアセチルイミノー 3— (2' 一シァノビフ ェニルー 4—ィル） メチルー 1， 3 , 4：チ—アジアゾ―リンの製造
水素化ナトリウム 124. 1 g (55%油性） を N, N—ジメチルホルムアミ ド 1. 51に懸濁し、 氷冷下上記 （1) で得た 2—トリフルォロアセトアミ ドー 5—ェチル—1, 3, 4—チアジアゾール 533. 7 gを加えた。 水素の発生が 止まった後、 上記 （2) で得た 4一プロモメチルー 2' —シァノビフヱニル 64 3. 6gのN, N—ジメチルホルムアミ ド 31溶液を滴下した。 室温で 1時間撹 拌した後、 80°Cで 5時間撹拌した。 反応溶液を減圧濃縮し、 水と酢酸ェチルを 加え、 有機層を水洗し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下溶媒を留去した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一に付し、 へキサン：酢酸ェチル =3 ： 1で溶出した。 粗結晶をエタノールより再結晶し、 標記化合物を 490. 8 g (50%) 得た。
(4) 5—ェチルー 2—イミノー 3— [2' - (1 H—テトラゾールー 5—ィル） ビフエ二ルー 4一ィル] メチルー 1, 3, 4—チアジアゾリンの製造 温度計、 還流冷却器、 塩化カルシウム管及び撹拌装置を装着したガラス製の 1 00mlの反応器に n— BuOH30ml、 塩化亜鉛 6. 0 g (44mmo 1 ) , アジ化ソーダ 7. 4 g (113. 8mmo 1 ) を仕込み 30分撹拌した。 これに 上記 （3) で得た 5—ェチル— 2—トリフルォロアセチルイミノ一 3— (2* 一 シァノビフヱニルー 4—ィル） メチルー 1， 3， 4ーチアジアゾリ ン 9. 5 g (22. 8mmo 1 ) を仕込んだ後、 昇温し、 内部温度 105〜： L 15°Cで 24 時間反応させた。
原料が消失したのを TLCで確認した後、 クロ口ホルムと水を適量加え、 10 %H2 S 04にて処理した後に分液し有機層を取り出した。 この有機層に 5 %N a 〇H水溶液を加え数時間撹拌し、 TL Cにて加水分解が終了しているのを確認し た後に分液し、 水層を取り出した。 このアルカリ性の水層を 3NHC 1水溶液に て pH5. 5〜6. 0とすると、 白色結晶が析出してくるので、 これを濾取，乾 燥すると所望の化合物が 6. 5g (粗収率 78. 5%) 得られた。
実施例 7 ： 5—ェチル—2—イミノー 3— [2' — (1H—テトラゾールー 5 —ィル） ビフヱ二ルー 4一ィル] メチルー 1， 3， 4ーチアジアゾリンの製造
Figure imgf000035_0001
生成物 温度計、 還流冷却管、 塩化カルシウム管及び撹拌装置を装着したガラス製の 1 000ml反応器に、 n— BuOH300m l、 塩化亜鉛 73. 9 g (0. 54 mo 1 ) 、 アジ化ソーダ 71. 0 g (l. lmo 1 ) を仕込み 30分撹拌した。 これに 5—ェチルー 2—イ ミ ノー 3— (2' ーシァノ ビフエニル一 4—ィル） メ チルー 1. 3. 4—チアジアゾリン 90. 0 g (0. 28 mo 1 ) を仕込んだ後. 昇温し、 内部温度 105〜115°Cで 24時間反応させた。
原料が消失したのを TL Cで確認した後、 クロ口ホルムと水を適量加え、 10 %硫酸にて処理した後に分液し有機層を取り出した。 この有機層に 5 %水酸化ナ トリウム水溶液を加え数時間撹拌した後に分液し、 水層を取り出した。 このアル カリ性の水層を 3 N塩酸水溶液にて pH 5. 5〜6. 0とすると白色結晶が析出 してくるので、 これを濾取 ·乾燥すると所望の化合物が 76. 5 g (粗収率 75 %) 得られだ。 産業上の利用可能性
本発明のテトラゾール化剤を用いることにより、 以下に挙げる効果が期待され るので、 本発明は 1 H—テトラゾ一ル化合物の工業的製造方法として極めて有用 である。
(1) (B) 法あるいは （C) 法で用いられている高価なトリアルキルスズアジ ドの代わりに、 安価な塩化亜鉛を使用するので原料経費が安くなる。 また、 毒性 の高い （かぶれの原因になる） スズ化合物を使用しないで済む。
(2) (D) 法と比較して、 利用できる溶媒の種類が多く、 汎用性が高いと言え る。 また、 塩化亜鉛は塩化アルミニウムよりも安価であり （k g当たりの価格は 前者が後者の 6割前後） 、 しかも塩化アルミニウムは 3倍モル当量のアルキル金 属アジドを必要とするのに対して、 塩化亜鉛は 2倍モル当量で済むので、 コスト の削減となる。
(3) 本発明の塩化亜鉛/アルキル金属アジドは、 立体障害のある二トリル体に 限らず、 基本的にどのような二トリル体についても使用できる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . アル力リ金属アジドと塩化亜鉛とからなることを特徴とする、 式 （ I )
R - C N ( I )
(式中、 Rは任意の置換基を表す） で示されるカルボ二トリル類から式 （II)
Figure imgf000037_0001
(式中、 Rは上記の意味を表す） で示される 1 H—テ卜ラゾール類を製造するた めの合成試薬。
2. アルカリ金属アジドがアジ化ナトリウムである請求項 1記載の合成試薬。
3. Rが水素、 置換されていてもよいアルキル基、 置換されていてもよいアル ケニル基、 置換されていてもよいアルキニル基、 置換されていてもよいアルコキ シ基、 置換されていてもよいアルキルチオ基、 置換されていてもよいアルキルス ルホニル基、 置換されていてもよいアルキルスルフィニル基、 置換されていても よいアルキルアミノ基、 置換されていてもよいアルケニルォキシ基、 置換されて いてもよいアルコキシカルボニル基、 置換されていてもよいァリール基、 置換さ れていてもよいァリールォキシ基、 置換されていてもよいァリールチオ基、 置換 されていてもよいァラルキル基、 置換されていてもよいァリールアルケニル基、 置換されていてもよい複素環式基からなる群より選択される、 請求項 1又は 2記 載の合成試薬。
4 . Rが水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分技鎖状の置換されていてもよいァ ルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよいアルコキ シ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよいアルキルスル ホニル基、 フヱニル基、 次式
Figure imgf000038_0001
(式中、 は F, C I, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭 素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝 鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホニル 基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より選択される） で示され る一置換されたフヱニル基、 次式
Figure imgf000038_0002
(式中、 R2及び R3は、 F, C I, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン 原子、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状 又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルス ルホニル基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択 される） で示される二置換されたフヱニル基、 4' ーメチルビフヱニル一 2—ィ ル基、 次式 ，
Figure imgf000038_0003
(式中、 Aは 0. NH又は CH2のいずれかを表し. Zは次式
Figure imgf000039_0001
のいずれか 1つから選択される 2価の基を表し, R4, R5及び Reは F, C I . B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分技鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分 枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホ二 ル基、 二.トロ基ァミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、
次式
Figure imgf000040_0001
(式中、 X, Yは CH又は Nから独立的に選択され、 R4, R5及び R6は F, C 1 , B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1〜4の直鎖状又 は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホニル基、 ニトロ基、 ァミノ 基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、 次式
Figure imgf000041_0001
Figure imgf000041_0002
(式中、 R7, R8, R9及び R1()は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の アルキル基、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F. C I , B r, Iのいずれかから 選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロピオ二 ル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フヱニル で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 ヒドロキシルで 置換された炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のァルキル基からなる群より独立 的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式
Figure imgf000042_0001
13
Figure imgf000042_0002
(式中、 Rn, R12, R13及び R14は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基、 ヒドロキシル基、 フヱニル基、 F, C 1. B r, Iのいずれかか ら選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロピオ ニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フエ二 ルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 ヒ ドロキシル で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式
Figure imgf000043_0001
Figure imgf000043_0002
(式中、 R15, R16, R17及び R18は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F, C 1. B r , Iのいずれかか ら選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペン夕フルォロプロピオ ニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フエ二 ルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分技鎖状のアルキル基、 ヒ ドロキシル で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 からなる群より選択される、 請求項 1又は 2記載 の合成試薬。
5. 式 （ I )
R - C N ( I )
(式中、 -Rは任意の置換基を表す） で示されるカルボ二トリル化合物に塩化亜鉛 を触媒としてアルカリ金属アジドを反応させることを特徴とする、 式 （II)
Figure imgf000044_0001
(式中、 Rは上記の意味を表す） で示される 1 H—テトラゾール化合物の製造方 法 ο
6. アル力リ金属アジドがアジ化ナトリウムである請求項 5記載の製造方法。
7. Rが水素、 置換されていてもよいアルキル基、 置換されていてもよいアル ケニル基、 置換されていてもよいアルキニル基、 置換されていてもよいアルコキ シ基、 置換されていてもよいアルキルチオ基、 置換されていてもよいアルキルス ルホニル基、 置換されていてもよいアルキルスルフィニル基、 置換されていても よいアルキルアミノ基、 置換されていてもよいアルケニルォキシ基、 置換されて いてもよいアルコキシカルボニル基、 置換されていてもよいァリール基、 置換さ れていてもよいァリールォキシ基、 置換されていてもよいァリールチオ基、 置換 されていてもよいァラルキル基、 置換されていてもよいァリールアルケニル基、 置換されていてもよい複素環式基からなる群より選択される、 請求項 5または 6 記載の製造方法。
8. Rが水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよいァ ルキル基、 炭素数 1 ~ 4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよいアルコキ シ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状の置換されていてもよいアルキルスル ホニル基、 フヱニル基、 次式
Figure imgf000045_0001
(式中、 は F, C I, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭 素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分技 鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホニル 基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より選択される） で示され る一置換されたフエニル基、 次式
Figure imgf000045_0002
(式中、 R2及び R3は、 F. C I, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン 原子、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状 又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルス ルホニル基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択 される） で示される二置換されたフヱニル基、 4' ーメチルビフヱニルー 2—ィ ル基、 次式 5 又は
Figure imgf000045_0003
(式中、 Aは 0, NH又は CH2のいずれかを表し、 Zは次式
Figure imgf000046_0001
のいずれか 1つから選択される 2価の基を表し、
R4, R5及び Reは F, C 1 , B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜 4の直鎖状又は分 技鎖状の.アルコキシ基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホ二 ル基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、
次式
Figure imgf000047_0001
(式中、 X, Yは CH又は Nから独立的選択され、 R4, R5及び R6は F， C I, B r, Iのいずれかから選択されるハロゲン原子、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分 枝鎖状のアルキル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ基、 炭素 数 1〜.4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキルスルホニル基、 ニトロ基、 アミノ基、 カルボキシル基からなる群より独立的に選択される） で示される基、 次式
- 4ο -
Figure imgf000048_0001
Figure imgf000048_0002
(式中、 R7, R8, R9及び R1()は水素、 炭素数 1~4の直鎖状又は分枝鎖状の アルキル基、 ヒドロキシル基、 フヱニル基、 F, C 1 , B r , Iのいずれかから 選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロピオ二 ル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フエニル 基で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 ヒドロキシル で置換された炭素数 1〜 4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式、 3
Figure imgf000049_0001
Figure imgf000049_0002
(式中、 Ru， R12, R13及び R14は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F, C I, B r, Iのいずれかか ら選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロピオ ニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フエ二 ルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 ヒ ドロキシル で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 次式 16
15
N
R
17
Figure imgf000050_0001
Figure imgf000050_0002
(式中、 R15, R16, R17及び R18は水素、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状 のアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 フヱニル基、 F, C I, B r, Iのいずれかか ら選択されるハロゲン原子、 トリフルォロアセチル基、 ペンタフルォロプロピオ ニル基、 炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシカルボニル基、 フヱ二 ルで置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基、 ヒドロキシル で置換された炭素数 1〜4の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基からなる群より独 立的に選択される）
で示されるいずれか 1つの基、 からなる群より選択される、 請求項 5又は 6記載 の製造方法。
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