WO1995006622A1 - Materiau ceramique laissant passer la lumiere et procede de fabrication correspondant - Google Patents

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WO1995006622A1
WO1995006622A1 PCT/JP1994/001429 JP9401429W WO9506622A1 WO 1995006622 A1 WO1995006622 A1 WO 1995006622A1 JP 9401429 W JP9401429 W JP 9401429W WO 9506622 A1 WO9506622 A1 WO 9506622A1
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WO
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translucent
treatment
producing
translucent ceramic
chelating agent
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Application number
PCT/JP1994/001429
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Naohito Wajima
Tetsuaki Bundo
Koichi Hayashi
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Toto Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • C04B35/645Pressure sintering
    • C04B35/6455Hot isostatic pressing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/10Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
    • C04B35/111Fine ceramics
    • C04B35/117Composites

Definitions

  • the present invention relates to a translucent ceramic made of polycrystalline alumina or the like and a method for producing the same, and more particularly to a translucent ceramic that can be used as an arc tube of a high-intensity discharge lamp such as a metal halide lamp and a method for producing the same.
  • High-intensity discharge lamps such as metal hydride lamps are attracting attention as light sources for lighting equipment in buildings and as light sources for 0 HP and LCD projectors.
  • the high-intensity discharge lamp enclosed metal halides such as S c 1 3 a translucent arc tube, to generate an arc discharge by applying a high 3 ⁇ 4E between electrodes facing the light emission tube, this ⁇
  • the encapsulated metal and metal halide are evaporated by the heat of the arc discharge, and dissociated into metal and halogen to emit light with a color unique to the metal.
  • quartz tube (S i 0 2 ) is generally used for the above-mentioned Wei tube. Quartz is poor in corrosion resistance and insufficient in thermal shock. Therefore, translucent alumina (polycrystalline alumina) is used. ) Is used as a tube material for high-intensity discharge lamps. In order to use polycrystalline alumina or the like as an arc tube material, it is necessary to have excellent mechanical 3 ⁇ 4 ⁇ and linear transmittance (in-line transmittance).
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a translucent ceramic excellent in linear transmittance, mechanical strength, thermal shock resistance and corrosion resistance, and a method for producing the same.
  • the present invention is intended to enhance the translucency of the translucent ceramic, such as (a) no air bubbles inside, (b) small surface roughness (R a), and (c) abnormal grain size.
  • the translucent ceramics according to the present invention is composed of a plurality of oxides each having a negative standard cast energy (AGf °) and an absolute value greater than 1581.9 KJZmol, and It should be obtained by hot water pressure treatment under high gas pressure.
  • the transmissive cell mix particles force of the A 1 2 0 3 is different from at least one kind of the oxide between A 1 2 0 3 particles is a kind of the oxide ⁇ complex mediated , and the above-mentioned a 1 2 0 3 is the major axis of the largest particles 30 Myupaiiota below, the minor axis below 20 / m, the major axis of the largest particle of oxides the intervening 10 m or less, the minor axis 5 m
  • the transmissive cell mix particles force of the A 1 2 0 3 is different from at least one kind of the oxide between A 1 2 0 3 particles is a kind of the oxide ⁇ complex mediated
  • the above-mentioned a 1 2 0 3 is the major axis of the largest particles 30 Myupaiiota below, the minor axis below 20 / m, the major axis of the largest particle of oxides the intervening 10 m or less, the minor axis 5 m
  • the translucent ceramics as well as including A 1 2 0 3 as a main component, as IJ components, La 2 0 3, Ta 2 0 3, Ho 2 0 3, Y 2 0 3, Yb 2 0 3, since including dy 2 0 3, S c 2 0 3, Ce 2 0 3, E r 2 0 3, Lu 2 0 3, Sm 2 0 3, Tm 2 0 oxide selected from among the class consisting of 3 this and power good Mai made, 0 - way, the production method of the translucent ceramic, compared high alumina powder, 0.1 in at least one form of the oxide particles of salts and oxides 01-18wt % To form a ceramic molded body, and the ceramic molded body is subjected to a primary firing in a temperature range of 1350 to 1800 ° C.
  • the present invention provides a method for producing a light-emitting material in a light-emitting tube, wherein the completed light-transmitting ceramic is used as a light-emitting tube of a high-intensity discharge lamp, no matter how much impurities are removed from the light-transmitting ceramic material before adjustment. This was also achieved based on the finding that the main cause of disappearance was due to impurities newly mixed during molding.
  • the translucent ceramics according to the present invention is composed of a plurality of oxides each of which is a standard generated cast energy (AG f °) negative and whose absolute value is greater than 1581.9 KJZmol, It is obtained by performing at least a chelating agent treatment prior to the sintering treatment and a hot water pressure treatment under high pressure and high gas pressure. Furthermore, the translucent ceramics are both mainly composed of A 1 2 0 3, a portion of A 1 of the A 1 2 0 3 was replaced by S c (A 1, S c ) 2 0 3 particles L a 2 0 3 of particle force intervening be constructed from the complex forces "good Mai, between.
  • the above-mentioned method for producing a translucent ceramic comprises a molding step of mixing a powdered ceramic raw material with a binder, a deflocculant and the like to form a molded body having a predetermined shape, and then calcining the molded body. Impregnating the calcined body with a chelating agent to bind the impurity metal ions in the calcined body to the chelating agent, and then removing the chelating agent soaked in the calcined body by washing; The method includes at least a chelating agent treatment step and a sintering step of sintering the calcined body to form a sintered body.
  • hot isostatic processing (HIP treatment) force method for producing translucent ceramics of L a 2 0 3 A 1 2 0 3 system built into the part FIG.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an apparatus used for the hot isostatic processing.
  • FIG. 3 is a rough drawing showing an example of the processing pattern of the hot isostatic pressure treatment.
  • FIG. 4 is a graph showing the relationship between the conditions (temperature and pressure) of the hot isostatic pressure treatment and occurrence of a defect.
  • FIGS. 5 (A1), (A2) and (A3) are microscopes showing the microstructure of the translucent ceramic (product of the present invention) obtained by the manufacturing method according to the first embodiment shown in FIG. Photo
  • Figure 6 (B1), (B2) and (B3) show the translucency obtained by the conventional manufacturing method.
  • Fig. 7 is a micrograph showing the microstructure of a ceramic (conventional product).
  • Fig. 7 is a graph showing the particle distribution of the translucent ceramic shown in Figs. 5 and 6, respectively.
  • Figure 8 is a graph showing the crystal grains Kai of A 1 2 0 3 in the light-transmissive ceramics shown in FIGS. 5 and 6, the linear transmittance, the relationship between the flexural strength and thermal shock resistance,
  • FIG. 9 is a schematic diagram of the structure of the translucent ceramic obtained by the manufacturing method according to the first example.
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the surface roughness and the translucency of the translucent ceramic obtained by the manufacturing method according to the first example.
  • Figure 11 shows a comparison of the present invention and the conventional product in total transmittance (diffuse transmittance).
  • FIG. 12 is a graph comparing the linear transmittance of the product of the present invention and the conventional product before and after heat treatment at 150 ° C. in the air.
  • FIG. 13 is a block diagram showing a method for producing a translucent ceramic according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a block diagram showing a method for producing a translucent ceramic according to the third embodiment of the present invention.
  • Fig. 15 compares the linear transmittance of a translucent ceramic (product of the present invention) obtained by the manufacturing method according to the second embodiment and that of a conventional product (Ito: MgO-Al2O3). It is a graph that did.
  • the translucent ceramics and the method of manufacturing the translucent ceramics according to the first embodiment of the present invention include: (a) no air bubbles inside; (b) surface roughness ( R a) Focusing on small forces, (c) no abnormal grain growth, and (d) using a material with a large negative standard cast energy (AGf °) as a factor to improve corrosion resistance. Has been achieved. That is, the translucent ceramic according to the present embodiment to be described below, A 1 and 2 0 3, their respective standard product Gibbs energy (AG f.) In one 1581.
  • HIP hot isostatic processing
  • the minor axis was less than 20 m
  • the major axis of the largest intervening oxide particle was less than 1 Ot / m
  • the minor axis was less than 5 m.
  • a method of manufacturing a translucent ceramic of the present embodiment is basically to high purity alumina powder, an La 2 0 3, etc. of 0. 01 ⁇ 18wt% was added in the form of a salt or oxide a ceramic molded body of non j1 ⁇ 2 forming Y, holding vacuum, air, N 2, a r, the ceramic body in one of an atmosphere of H 2 or water vapor 1350 ⁇ 1800 e C in 0.5 hours or more Te
  • the primary sintering process is followed by hot isostatic pressing (HIP) at high temperature and high gas pressure.
  • HIP hot isostatic pressing
  • the heat treatment is performed in an atmosphere of vacuum, air, N 2 , Ar, H 2, or steam in order to complete densification.
  • the primary temperature was 1,350 to 1,800 ° C, in less than 1350 ° C is insufficient sintering, 1800 ° exceeds C L a 2 0 3 or the like is solid to A 1 2 0 3 This is because there is a disadvantage of melting black body absorption.
  • the time was set to 0.5 hours or more because if it is less than 0.5 hours, it is difficult to obtain a uniform sintered structure.
  • the conditions of the hot isostatic pressing the temperature is 1300 to 1800 ° C, the atmosphere is Ar, N 2, H 2 or 0 2, the pressure selected range of 500 to 1200 a tm Power preferred.
  • the temperature of hot isostatic pressure treatment is 1300-1800.
  • the C is 1300 not sufficient translucency force ⁇ expression is less than C, because if it exceeds 1800 ° C L a 2 0 3 or the like is disadvantageous in black body absorbing a solid solution in A 1 2 03 results It is.
  • the pressure is set to 500 to 1200 atm, because if the pressure is less than 500 atm, sufficient translucency is not exhibited, and if the pressure exceeds 1200 atm, a crack force is generated.
  • HI P treatment is De ⁇ eliminate bubbles inside the ceramic, also, L a 2 0 3 or the like added to the oxide particles, such as L a 2 0 3 without solid solution of A 1 2 0
  • L a 2 0 3 or the like added to the oxide particles, such as L a 2 0 3 without solid solution of A 1 2 0
  • Standard product cast energy (AG f. :) In one 1581. 9 KJ / mo 1 or more, as i.e. A 1 2 0 3 oxide having a negative value of the above, La 2 0 3 (-1706K J / mo 1 ), Ta 2 0 3 (- 1911 KJ / mo 1), Ho 2 0 3 (- 1791 KJ / mo 1), Y 2 0 3 (-1727KJ / mo 1), Yb 2 0 3 (-1727K J / mol ), Dy 2 0 3 (-1772KJ / mo l), S c 2 0 3 (- 1819 KJ / m ol), Ce 2 0 3 ( -1706KJ / mo 1), E r 2 0 3 (-1809KJ / mo 1), LU 2O3 (-1789KJ / mo l), Sm 2 0 3 (- 1735 KJ / mo 1) , Tm 2 0 3 (one 1795KJZmo 1) or the like can
  • FIG. 1 is a block diagram showing a manufacturing process of a La 2 O 3 ZA 1203-based translucent ceramic partially incorporating the hot isostatic treatment according to the present embodiment. is a firstly a 1 2 0 3 material, L a 2 0 3 material, pure water, a binder - and dispersing agent was wet-type mixing and dispersing, followed after vacuum defoaming, molded inclusive ⁇ , dried and thereafter Primary sintering is performed, and then HIP processing is performed.
  • extrusion molding or injection molding may be performed as shown in FIG. 1 instead of the injection molding.
  • the mixing step is performed without adding pure water, and after the molding, a degreasing treatment is performed and then a primary treatment is performed.
  • binder examples include methyl cellulose, polyvinyl alcohol, acrylic emulsion, sugar alcohol, and the like
  • examples of the dispersant include polycarboxylic acid and polyacrylic acid ammonium salt.
  • L a 2 0 3 material of 0. 01 is added in a range of L 8w t% (A 1 2 0 3 99. 8 ⁇ 8 2wt%), relative to the mixture (powder)
  • an unformed ceramic molded body in the present embodiment takes the form of an arc tube of a high-intensity discharge lamp.
  • Various shapes as required by molding eg
  • an arc tube in which the diameter of the end sealing portion is 1 Z 2 or less of the diameter of the central portion and the boundary portion is smoothly continuous can be formed. With such a shape, it is possible to prevent the leakage of the metal vapor and to obtain a luminous tube having high luminous efficiency without cracks. Since it is conceivable that the Ca component is mixed in the molded body, a calcination step and a washing step with warm water (acid) may be performed after the molding to remove the Ca component. .
  • the primary sintering conditions are as follows: 135-180 °° (: 0.5 hours or more in a vacuum, air, N 2 , Ar, H 2, or steam atmosphere; 98% It should have the above bulk density.
  • FIG 2 shows the HIP device used for the HIP process.
  • This HIP device is provided with a water cooling jacket 2 on the outside of the pressure vessel 1, and the upper and lower sides of the pressure vessel 1 are closed by ⁇ M3 and the lower lid 4,
  • a crucible 6 for setting the primary sinter 5 to be processed is placed on 4
  • a heat insulating layer 7 is provided in the container 1 so as to surround the crucible 6, and a heater 8 is provided inside the tube 7.
  • the power container 1 is connected to the vacuum pump 11 and the compressor 12 by pipes 9 and 10 penetrating the lower lid 4.
  • the arc tube 5 as a primary sintered body is placed in the crucible 6, and beads 13 made of the same material as the arc tube are filled from above, and the crucible 6 is covered with the beads 13 covering the arc tube 5.
  • the beads 1 3, the crucible 6 is the same material as the tube 5, or the same material as the main component of the light emitting tube (e.g., A 1 2 0 3), or grain growth inhibitors, formed of, for example, M g O, etc.
  • the grain growth inhibitor may be present as an impurity on the arc tube surface. It can be easily removed. Under normal conditions, if the crucible is made of a grain growth inhibitor, it has no effect on the suppression of grain growth, but it is 135.
  • the crucible 6 is made up of an atmosphere by forming the crucible 6 with a grain growth inhibitor. It is considered that the presence of the elements constituting 6 suppresses grain growth at the surface boundary of the alumina sintered body.
  • FIG. 3 an example of the conditions of the HIP treatment is shown in FIG. 3, where the temperature is raised from room temperature to 158 (TC up to 200 ° C Zh at a heating rate of 1800 ° C and held at 1580 ° C for 6 hours. Increase the partial pressure and hold it for about 6 hours at 1 OOO ffi.At least one of N 2 , Ar, H 2 and 02 is used as the atmosphere gas.
  • FIG. 4 is a graph showing a preferable range of the above-mentioned conditions of the HIP treatment.As is clear from this graph, when the temperature is lower than 1300 ° C., sufficient translucency is not exhibited. , 1800. L a 2 0 3 is a solid solution in A 1 2 0 3 exceeds C, resulting disadvantage force of black body absorption. On the other hand, when the pressure is less than 500 atm, sufficient translucency is not exhibited, and when the pressure exceeds 1200 atm, a crack force is generated. Therefore, the temperature of HIP processing is 1300. C or more 1800. C or less, and the pressure is preferably 500 atm or more and 1200 atm or less.
  • FIGS. 5 (A1), (A2) and (A3) are micrographs showing the assembled structure of the transparent ceramics according to the present invention obtained under the above-described conditions
  • B3) is a micrograph showing the microstructure of a conventional translucent ceramic, and the details of these conditions are shown below.
  • FIG. 7 is a graph showing the linear transmittance, bending strength, and thermal shock resistance of each.
  • the conventional product (B 1) is smaller ⁇ Ka average crystal grain of the A 1 2 0 3
  • the seagull distribution curve is a shear. As can be seen from Fig. 8, this is satisfactory in bending strength and thermal shock resistance, but is not sufficient in terms of linear transmittance.
  • conventional (B2) and (B3) is excellent in the linear transmittance for the average crystal grain size of the A 1 2 0 3 is large, often the proportion of foot wide abnormal grain growth of the distribution curve. As a result, it is inferior in terms of bending 3 ⁇ 4Jg and thermal shock resistance.
  • the present invention product (Al), (A 2) and (A3) organizational structure as shown in FIG. 9, not the A 1 2 O a and L a 2 0 3 was dissolved L, has a a 1 2 0 3 L a 2 0 3 particles between the particles is interposed complex, with L a 2 0 3 particles to inhibit the growth of a 1 2 0 3 particles, cracks caused by the various stresses It has a structure that can suppress absorption of this as the development progresses.
  • the magnitude of the complex L a 2 0 3 particles is 1 3 to 1 30 of the magnitude of A 1 2 0 3 particles
  • the long axis of the largest particle of A 1 2 0 3 is 3 O zm below
  • the minor axis is less and summer, with further a 1 2 0 3 particles and L a 2 0 3 particles crystals
  • Abnormal grain growth particles more than 3 times as large as the average particle size are not substantially contained, and the distribution curve is sharp.
  • the products of the present invention (Al), (A2) and (A3) all had a linear transmittance of 4% or more at a wavelength of 600 nm, and exhibited a bending 3 ⁇ 43 ⁇ 4 It has excellent properties.
  • Figure 10 shows the inner surface of the product of the present invention formed by injection molding with excellent average surface roughness (R a) (0.09 / m), while the outer surface is polished (ruff * W polishing)
  • FIG. 5 is a graph showing the relationship between the average surface roughness and the permeability at the time of polishing. As described above, since the present invention can sufficiently withstand polishing, the average surface of the outer surface of the tube is reduced. The roughness can be less than 0.1 zm.
  • the product obtained by the conventional manufacturing method has an average surface roughness (Ra) of about 2.7 m, which is not sufficient in strength. It is apparent that the light-transmitting property is inferior due to the occurrence of cracks.
  • Fig. 11 shows a graph comparing the product of the present invention and the conventional product in total transmittance (diffuse transmittance). It is clear that the product of the present invention is superior to the conventional product in total transmittance.
  • Fig. 12 is a graph comparing the linear transmittance of the product of the present invention with that of the conventional product before and after heat treatment at 150 CTC in the air. It can be seen that the product of the present invention is also superior in heat resistance to the conventional product.
  • the above-mentioned high alumina mixed powder is subjected to primary treatment under predetermined conditions, and then the primary j ⁇ body is subjected to hot isostatic pressure treatment under predetermined high temperature and high gas pressure.
  • the primary j ⁇ body is subjected to hot isostatic pressure treatment under predetermined high temperature and high gas pressure. Since as the applied, can suppress the particle size of the a 1 2 0 3 (amount of L a 2 0 3 is in FIG. 5 (A1) and (A2) is same as HIP conditions are different), wide, Within the range, it can be expected to have properties such as translucency and acid.
  • the particles such as L a 2 0 3 between A 1 2 0 3 particles constituting the translucent ceramic is interposed complex is and the long axis of the largest particle of A 1 2 0 3 30 m or less, a minor axis in the following 20 ⁇ m, L a 2 0 long axis of the largest particles, such as 3 or less 10 [mu] m, since the minor axis is equal to or less than 5 m, a thickness of, for example, 0.
  • an in-line transmittance (linear transmittance) of 4% or more and a total transmittance of 75% or more for visible light of 600 nm can be obtained (measurement equipment manufactured by Hitachi, Ltd .: double beam spectrometer « U-2000, U-4000), and the thermal shock resistance and mechanical properties were also significantly improved compared to the conventional one.
  • the light-transmitting ceramics according to the present invention are excellent in strength, they are capable of sufficiently withstanding lapping, and therefore have extremely low average surface roughness and reduce surface scattering, thereby reducing light transmission. Performance can be greatly improved.
  • the temperature is raised, for example, to a sintering temperature of 135 ° C. and held until sintering is completed. Sintering with such a heat curve. As the sintering progresses slowly, the molded body force is warped, and the Si 0 2 that has been vaporized from the heater material etc. is mixed into the sintered body from the surface of the molded body. It is possible that they are taken into the tube and cause deterioration of the arc tube.
  • the temperature of the unsintered ceramics compact at the time of the primary sintering is temporarily raised to a temperature higher than the holding temperature as the above sintering temperature by a temperature of ⁇ V (for example, 135 °). (C ⁇ 140 ° C), after sintering the surface of the compact (for example, about 5 minutes), lower the temperature to the holding temperature (135 ° C), and proceed with sintering there. .
  • the translucent ceramics according to the second embodiment and the method for producing the same are greatly different from the translucent ceramics according to the first embodiment and the method for producing the same.
  • the calcined body was sintered.
  • the chelating agent impregnated into the calcined body can be effectively removed together with the impurity metal, and hydrofluoric acid treatment is performed after the treatment with the chelating agent or after sintering. By doing so, the Si force can be effectively removed.
  • the chelating agent is EDTA
  • the pH is 8 to 10 to mainly remove Ca and Mg and to improve the corrosion resistance, such as La. Can be left.
  • the arc tube according to the present embodiment with a part of A 1 in A 1 2 0 3 was replaced by S c a (A 1, S c) 2 0 3 as a main component, substantially Ca, Mg It does not contain Si, has a linear transmittance of 40% or more, a strength of 235 (MPa) or more, a thermal shock resistance of 150 ( ⁇ ° 0) or more, and a thermal conductivity of light with a wavelength of 600 nm converted to a thickness of lmm The rate is 0.08 (ca 1 / cm ⁇ ° C) or more and the softening is 1200 (.C) or more.
  • the pores are closed after the main sintering process, so that the inside cannot be impregnated with the chelating agent or the impregnated chelating agent cannot be removed together with the impurities. Since it is continuous, the inside can be impregnated with a chelating agent, and further, a chelating agent bonded to metal ions such as Mg and Si, which are impurities, can be removed from the inside. Moreover, since the calcined body is closer to the final stage than the powder raw material stage, there is very little opportunity for impurities to enter the calcined body from this calcined body stage.
  • Figure 13 is a block diagram showing a method of manufacturing a translucent ceramic according to the first 23 ⁇ 43 ⁇ 43 ⁇ 4 example, in the present embodiment, first, A 1 2 0 3 material as a powder ceramic raw material, S c 2 0 3 material and the L a 2 0 3 material, pure water, a binder, and deflocculants and dispersants such as wet mixing dispersion, after vacuum defoaming, the ceramics molded body unsintered dried by molding inclusive ⁇ Obtained and then calcined.
  • extrusion molding or injection blow molding may be performed as shown in the figure instead of the injection molding.
  • injection blow molding drying is not necessary because pure water is not added, and the method is performed instead.
  • the compact After the calcination, the compact is subjected to a chelating agent treatment to bind impurity metal ions in the body, such as Ca and Mg, to the chelating agent, and then the chelating agent impregnated in the calcined body, Using pure water as a chelating agent that incorporates impurity metal ions After being removed from the calcined body by ultrasonic cleaning or the like, the calcined body is primarily calcined and further HIPed to obtain an arc tube made of a translucent ceramic.
  • AACH a (Anmoniumu 'aluminum Niumu-Kaboneito Hydro O key side) in «on 4 N (4 nines) or more whose base salt, 0.1 05 ⁇ 1.
  • binder examples include methylcellulose, polyvinyl alcohol, acryl emulsion, sugar alcohol, and the like.
  • examples of the dispersant include polycarboxylic acid and ammonium salt of polyacrylic acid.
  • plaster casts when performing ⁇ inclusive molded using a porous resin mold, or a porous ceramic mold, etc., the S c 2 0 3 material above 0. 005 ⁇ 15wt%, a La 2 0 3 material 0 .01 ⁇ ; L is added in the range of 8wt%, and the binder (dispersing agent) is added to the mixture (powder) in the range of 0.2 ⁇ 1% and pure water in the range of 20 ⁇ ; L 00%, The slurry is obtained by wet mixing in a ball mill for at least 10 hours.
  • the calcination condition is 600-1200 ° C and the porosity is about 20-50%.
  • the porosity force is an important factor. If the porosity is too large, the calcined body becomes insufficient and handling becomes difficult, and if the porosity is too small, the chelating agent is deposited in the calcined body in a later step. Without impregnation, treatment with chelating agent becomes impossible.
  • the calcined body is immersed in an aqueous solution of the chelating agent, and bubbles in the calcined body are removed by a vacuum pump for at least one hour.
  • EDTA, DPTA, EDDA, and EDDP are used as the chelating agent, and the concentration of the chelating agent is preferably a solution containing twice or more moles of the total moles of impurities to be removed.
  • the pH of the aqueous solution of the chelating agent (EDTA) is preferably 8 to 10.
  • selectivity occurs in binding to metal ions, Ca and Mg are removed by binding to the chelating agent, and La and Sc added as starting materials remain.
  • the structure of the arc tube, L a 2 0 3 particles were manually replacing a part of A 1 in A 1 2 0 3 to S c interposed between (A l, S c) 2 0 3 particles becomes complex
  • La 2 0 3 is sized force of particles by suppressing the abnormal grain growth "uniform ceramic sintered strength" obtained, since more particles force ⁇ manner small constituting the ceramics sintered body, heat Improves impact and mechanical tension.
  • the chelating agent incorporating the impurity metal ions is removed from the calcined body by use of a ⁇ difference by ultrasonic cleaning using pure water or the like, and then dried, followed by drying.
  • the primary sintering conditions are as follows: vacuum, air, N 2 , Ar, H 2, or steam in an atmosphere of 1350 to: L 800 ° C, 0.5 hours or more, and a bulk density of 98% or more.
  • the temperature of the treatment is 1300. C or more 1800. C, and the pressure is preferably 500 atm or more and 1200 atm or less. Specifically, carried out at a temperature Yutakasoku degree of 200 e O h from room temperature to 158 (TC, 158 (and held for 6 hours at TC, whereas 1 enhances the internal pressure in parallel with the heating, 0 6 hours OOMff ⁇ holds.
  • FIG. 14 is a block diagram showing a method of manufacturing a light-transmitting ceramic according to a third embodiment of the present invention, in which the method of manufacturing a light-transmitting ceramic according to the second embodiment is partially modified.
  • hydrofluoric acid (HF) treatment is performed after the washing step of the chelating agent treatment or after the HI ⁇ treatment.
  • Si is removed by performing a hydrofluoric acid (HF) treatment after the cleaning process or after the HIP treatment. It is also conceivable to perform hydrofluoric acid (HF) treatment before the chelating agent treatment. In this case, however, the hydrofluoric acid reacts with calcium or magnesium with force to remove the hydrofluoric acid during the chelating agent treatment. It is preferable to perform hydrofluoric acid (HF) treatment after chelating agent treatment because it is possible to generate a reaction product that is difficult to react.
  • HF hydrofluoric acid
  • the product of the present invention has a linear transmittance of 40% or more, a light intensity of 235 (MPa) or more of Heat shock 150 ( ⁇ ° 0 or more, the thermal conductivity of 0. 08 (ca 1 / cm ⁇ sec • .C) above, the softening point has a 1200 (° C) or more properties, S i 0 2 composition made to conventional products from are significantly superior in all the characteristics of other inferior in linear transmittance and MgO-a 1 relative to the 2 0 3 a composition conventional, all including linear transmittance We understand that we are superior in characteristics of.
  • the calcined body is impregnated with a chelating agent to bind the impurity ions in the calcined body to the chelating agent, and the chelating agent is removed by washing. Therefore, impurities can be removed in the process approaching the product, and there is little possibility that impurities will enter the ⁇ : tube, and the life of the high-intensity discharge lamp can be extended.
  • the chelating agent impregnated into the calcined body can be effectively removed together with the impurity metal, and the hydrofluoric acid treatment can be performed after or after the treatment with the chelating agent.
  • Si can be removed from the crane, and the chelating agent is, for example, EDT A, and by setting the pH to 8 to 10, it mainly removes Ca and Mg and is excellent in suppressing grain growth and improving religion. Effective La can be left.
  • the excellent characteristics as the arc tube that is, the linear transmittance converted to the thickness of 1 mm of the light beam having a wavelength of 6 OOnm is 40% or more, and the intensity is high.
  • the translucent ceramic according to the present invention has excellent mechanical strength, linear transmissivity, corrosion resistance, and thermal shock resistance, and can be used for various applications such as arc tubes in high-intensity discharge lamps by utilizing its characteristics.

Description

透光性セラミックス及びその製造方法 技 術 分 野
本発明は多結晶アルミナ等から成る透光性セラミックス及びその製造方法に関 し、 特にメタルハラィドランブ等の高輝度放電灯の発光管となり得る透光性セラ ミックス及びその製造方法に関する。
背 景 技 術
建物内の照明装置の光源や、 0 H P及び力ラ一液晶プロジェクタ一の光源とし てメタルハラィドランブ等の高輝度放電灯 (H I D) 力注目されている。 この高 輝度放電灯は、透光性の発光管内に S c 1 3等の金属ハロゲン化物を封入し、 発 光管内に臨む電極間に高 ¾Eを印加することでアーク放電を発生させ、 このァー ク放電による熱で封入した金属ノ、口ゲン化物を蒸発させ、 金属とハロゲンとに解 離し、金属特有の色を呈する発光を行なわせるようにしたものである。
従来より上記の魏管には一般に石英 (S i 02) 力用いられていた力く、 石英 は耐食性に劣り且つ耐熱衝撃の点でも不十分であるので、 透光性アルミナ (多結 晶アルミナ) を 管材料として用いた高輝度放電灯力提案されている。 多結晶 アルミナ等を発光管材料として用いるには、機械的な ¾ ^及び直線透過性 (イン ライン透過率) にも優れていること力必要になる。
そこで、従来にあっては高 アルミナに少量の M g 0を粒成長抑制剤として 添加して ^することで、均一な組織の多結晶アルミナを得るようにした方法 (米国特許第 3, 0 2 6, 2 1 0号公報) 、或ぃは1^ £ 0の他に1^ & 203及び丫 203を添加して粒界相をつくり、更にアルミナ結晶粒子の粒径を揃え、 インライ ン透過率を高めるようにした方法 (特公昭 5 7 - 3 7 5 5 4号公報) が提案され ている。
また、 直線透皿と発光管の形状の自由度を高めるため、铸込み成形にて得ら れた成形体を、 H2雰囲気、 1 7 0 OeC以上で焼結させる方法が特開昭 5 9 - 1 3 8 0 4 7号公報、特開昭 5 9 - 1 8 4 4 5 0号公報及び特公昭 3— 6 9 8 5 9 号公報に開示されている。 これらの方法にあっては、 泥漿铸込み成形によって例 え ί«端力《小径で、胴部力大径の発光管を得ると共に、 Η 2雰囲気で焼結を行い、 内部に気泡が存在しな t、透光性に優れた発光管を得るようにしている。
しかしながら、高純度アルミナに MgOを添加する方法にあっては、 MgOが
A 1203と固溶し、 A 1203の結晶構造と異なる組織が A 1203結晶粒界に生成
(侵入型固溶) し、化学量論的なずれ、即ち不定比幅を持っため、 酸素欠陥が生 じてこれが黒体吸収の原因となる。 特にこの傾向は真空高温下 (高輝度放電灯の 使用忧態) で顕著となる。
一方、 MgOの他に L a 203及び Y203を添加する方法にあっては、高温 (1
700。C以上) で異常粒成長が促進され易く、所望の透光性は得られたとしても 耐熱衝撃 tt¾び機械的強度の点で極めて劣つた製品となる。
更に添加された Mg 0は A 1203に比べて標準生成ギプスエネルギー (AG f
。 ) が小さく、 熱力学的な安定性力 <低い。 このためこれを発光管として用いた場 合、 管内部に封入した 物質、特に S c (スカンジウム) 等と A 1203粒 界に存在する Mg 0との間に¾¾が生じ、腐食する懸念がある。
また、粒径を大きくして内部散乱を減少させる手段では透光性を向上させるに 限界があり、 一方、表面を研磨して表面粗さ (Ra) を小さくすれば透光性が向 上するのであるが、加工に耐える強度の透光性セラミックスは得られていない。 また逆に、 発光管を高 ¾アルミナにて形成しても、 Mg、 Ca、 S i、 Fe、
C r、 N i等の不純物をある^含んでしまう。
そして、 Mg (Mg O) の場合には次のような反応が起こり発光物質 (S c 13) が消失してしまう。
3Mg A 1204 (スピネル) + 2 S c I 3
→2A l S c03+2A l203+ 3Mg l2
A 12O3+S c 13→A 1 S c 03 + A 1 I 3
Mg等の不純物を極力少なくした発光管とすれば、高輝度放電灯の寿命を延す ことができる。 しかし微細な Mg等の不純物を物理的に除去するのは困難である。 そこでこれらを化学的に除去する方法としてキレー卜剤を用いる方法力 <特開昭 6
3-230550号公報に開示されている。
特開昭 63-230550号公報に開示される方法は、 粘土鉱物中に含まれる 硫化鉱物をキレート剤と反応させて分離するようにしたものである。 し力、しな力《ら、上述したキレート剤を用いる方法を禾 IJ用して、 粉末セラミック ス原料中の不純物を除去して発光管を製造しても、 結果的には短時間のうちに発 光物質力消失する不利を十分に解消するに至っていない。
発 明 の 開 示
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、 その目的は直線透過率、機 械的強度、耐熱衝撃性並びに耐食性に優れた透光性セラミックス及びその製造方 法を提供することある。
特に本発明は、透光性セラミックスの透光性等を高める為の要素として、 (a) 内部に気泡がないこと、 (b)表面粗さ (R a) が小さいこと、 (c)異常粒成 長がないこと、 (d)耐食性等を高める要素として標準生成ギプスエネルギー (△Gf° ) 力 <負に大きな材料を用いること、 に着目して達成されたものである。 よって、本発明に従う透光性セラミックスは、 それぞれが標準生成ギプスエネ ルギー (AG f ° ) が負で且つその絶対値が 1581. 9KJZmo lよりも大 である複数種の酸化物から構成され、高温、高ガス圧下で熱間水圧処理すること によって得るようにする。 更に、上記透光性セ ミックスは、上記酸化物の一種 である A 1203の粒子間に該 A 1203と異なる少なくとも 1種以上の上記酸化物 の粒子力 <介在する複合体であり、上記 A 1203の最大粒子の長軸は 30 μπι以下、 短軸は 20 / m以下で、 上記介在する酸化物の最大粒子の長軸は 10 m以下、 短軸は 5 m以下であること力好ましい。 また、上記透光性セラミックスは、主 成分として A 1203を含むと共に、 IJ成分として、 La 203、 Ta 203、 Ho2 03、 Y203、 Yb 203、 Dy203、 S c 203、 Ce 203、 E r 203、 Lu203、 Sm203、 Tm203から成る部類中から選択された酸化物を含むことから成るこ と力好まい、0 —方、上記透光性セラミックスの製造方法としては、 高 アル ミナ粉末に対し、酸化物粒子を塩及び酸化物の内の少なくとも一方の形態で 0. 01-18wt %添加してセラミックス成形体を形成し、 該セラミックス成形体 に対して真空、空気、 N2、 Ar、 H 2及び水蒸気の内の少なくとも 1つの雰囲気 中で 1350〜 1800 °Cの範囲の一次焼結温度で 0. 5時間以上保持して一次 i½ 処理を施し、 次いでこの一次焼結体に対して高温、高ガス圧下で熱間静水圧 処理を施すことから成る。 また本発明は、 調整前の透光性セラミックス原料中の不純物をいくら除去して も、 完成された該透光性セラミックスを高輝度放電灯の発光管として利用した場 合、発光管内の発光物質が消失する主たる原因が、成形中に新たに混入する不純 物によると云う知見に基づいて達成されたものでもある。
よって、本発明に従う透光性セラミツクスは、 それぞれが標準生成ギプスエネ ルギ一 (AG f ° ) 力負で且つのその絶対値が 1581. 9KJZmo lよりも 大である複数種の酸化物から構成され、焼結処理に先立ってのキレート剤処理と、 高' つ高ガス圧下での熱間水圧処理と力少なくとも施されることによって得る ようにする。 更に、上記透光性セラミックスは、 A 1203を主体とする共に、該 A 1203の A 1の一部を S cにて置換した (A 1, S c) 203粒子間に L a203 の粒子力介在する複合体から構成されこと力《好まい、。 一方、 上記透光性セラミ ックスの製造方法は、粉末セラミックス原料をバインダ一、解膠剤等とともに混 合して所定形状の成形体を形成する成形工程と、次いで該成形体を仮焼した後、 該仮焼体にキレート剤を含浸せしめて上記仮焼体中の不純物金属イオンを上記キ レート剤に結合せしめ、 次いで上記仮焼体中に舎浸している上記キレート剤を洗 浄によって除去するキレート剤処理工程と、該仮焼体を焼結して焼結体となす焼 結工程とを少なくとも含むことから成る。
図面の簡単な説明
図 1は本発明の第 1実施例に係る、 熱間静水圧処理 (H I P処理) 力一部に組 み込まれた L a203 A 1203系の透光性セラミックスの製造方法を示すブロッ ク図であり、
図 2は上記熱間静水圧処理に用いる装置の概略断面図であり、
図 3は上記熱間静水圧処理の処理パターンの一例を示すダラフであり、 図 4は上記熱間静水圧処理の条件 (温度及び圧力) と不具合発生との関係を示 すグラフであり、
図 5 (A1)、 (A2)及び (A3) は図 1に示された上記第 1実施例に係る 製造方法によって得られた透光性セラミックス (本発明品) の組織構造を示す顕 微鏡写真であり、
図 6 (B1)、 (B2)及び (B3) は従来製造方法によって得られた透光性 セラミックス (従来品) の組織構造を示す顕微鏡写真であり、 図 7は図 5及び図 6にそれぞれ示された透光性セラミックスの粒 分布を示す グラフであり、
図 8は図 5及び図 6にそれぞれ示された透光性セラミックスにおける A 1 203 の結晶粒子怪と、 直線透過率、 曲げ強度及び耐熱衝撃性との関係を示すグラフで あり、
図 9は上記第 1 例に係る製造方法によって得られた透光性セラミックスの 組織構造の模式図であり、
図 1 0は上記第 1 例に係る製造方法によって得られた透光性セラミックス の表面粗さと透光性との関係を示すグラフであり、
図 1 1は本発明品と従来品とを全透過率 (拡散透過率) において比較したダラ フであり、
図 1 2は本発明品と従来品との直線透過率を大気中 1 5 0 0 °Cの熱処理前後で 比較したグラフである。
図 1 3は本発明の第 2実施例に係る透光性セ ミックスの製造方法を示すプロ ック図であり、
図 1 4は本発明の第 3実施例に係る透光性セラミックスの製造方法を示すプロ ック図であり、
図 1 5は上記第 2実施例に係る製造方法によって得られた透光性セラミックス (本発明品) と従来品 (糸滅: M g O -A l 2 O 3) との直線透過率を比較したグ ラフである。
発明を実施するための最良の形態
以下に本発明の好適実施例に係る透光性セラミックス及びその製造方法を添付 図面に基づき詳細に説明する。
本発明の第 1実施例に係る透光性セラミックス及びその製造方法は、 セラミツ クスの透^ ¾を高める為の要素として、 (a ) 内部に気泡がないこと、 (b ) 表 面粗さ (R a ) 力《小さいこと、 (c ) 異常粒成長がないこと、 (d ) 耐食性を高 める要素として標準生成ギプスエネルギー (AG f ° ) が負に大きな材料を用い ること、 に着目して達成されたものである。 即ち、 以下に詳述する本実施例に係る透光性セラミックスは、 A 1203と、 そ れぞれが標準生成ギプスエネルギー (AG f。 ) で一 1581. 9 K J /m 01 以上の負の値をもつ少なくとも一種以上の酸化物とで構成され、 高温、 高ガス圧 下で熱間静水圧処理 (H I P)することで得られており、 A 1203粒子間に例え ば La 203、 S c 203、 Ta 203、 Hひ203等の酸化物粒子力少なくとも一種以 上介在した複合体とし、 A 1203の最大粒子の長軸は 30 πι以下、 短軸は 20 m以下で、 介在する酸化物の最大粒子の長軸は 1 O t/m以下、 短軸は 5 m以 下であるようにした。
ここで、 A 1203の最大粒子の長軸が 30 /mを越えるか、 短軸が 20 yt mを 越える力、、介在する酸化物の最大粒子の長軸が 10 mを越える力、、 短軸が 5 mを越えるかすると、 強度的に不十分となり研磨加工等に耐えることが出来なく なる。
また、本実施例での透光性セラミックスの製造方法は、 基本的には高純度アル ミナ粉末に対し、 0. 01〜18wt%の La 203等を塩若しくは酸化物の形態 で添加して未 j½ のセラミックス成形体を形成 ϋ、真空、 大気、 N2、 A r、 H2 又は水蒸気の何れかの雰囲気中でこのセラミックス成形体を 1350〜 1800 eCで 0. 5時間以上保持して一次焼結処理し、 次いでこの一次焼結体に対し高温、 高ガス圧下で熱間静水圧処理 (HI P) を施すようにしたこと力、ら成る。
ここで、 L a208等の添加割合を 0. 01wt%未満とすると、異常粒成長が 認められ、 18wt%を越えると透光性が著しく低下する。
また、真空、大気、 N2、 Ar、 H 2又は水蒸気の雰囲気で行うのは緻密化を完 了させるためである。
また、一次 の温度を 1350〜1800°Cとしたのは、 1350°C未満で は焼結が不十分であり、 1800 °Cを越えると L a 203等が A 1203に固溶し黒 体吸収の不利力生じるからである。
更に 0. 5時間以上としたのは 0. 5時間未満であると均一な焼結組織を得難 いからである。
上記の熱間静水圧処理の条件としては、 温度が 1300〜 1800 °C、 雰囲気 が Ar、 N2、 H2又は 02、圧力が 500〜1200 a tmの範囲を選定するの 力好ましい。
ここで、 熱間静水圧処理の温度を 1300〜1800。Cとしたのは、 1300 C未満では充分な透光性力 <発現せず、 1800 °Cを越えると L a 203等が A 12 03に固溶し黒体吸収の不利が生じるからである。
また、圧力を 500~1200 a tmとしたのは、 500 a t m未満では充分 な透光性が発現せず、 1200 a t mを越えるとクラック力《発生するからである。
HI P処理することで、 セラミックス内部の気泡をなくすことが出籴、 また、 L a 203等の添加した酸化物を固溶させずに L a 203等の粒子が A 1203粒子間 に介在する複合体とすることで、異常粒成長を抑制して粒子の大きさ力揃ったセ ラミックス焼結体力得られ、 更にセラミックス焼結体を構成する粒子が比較的小 さいので、耐熱衝撃性と機械的 ¾J¾を高めることが出来、 従ってラップ加工等に よって表面粗さ (Ra) を高めることで透光性を向上出来る。
また標準生成ギプスエネルギー (AG f ° ) がー 1581. 9 K J o 1以 上の負の値をもつ酸化物 (^ 80は厶0£° =— 569. 4KJZmo 1) によ り構成されているため、 熱力学的に安定であり、発光物質特に S c等との反応性 が低いため耐食性を高めることが出来る。
これまで、 MgOを添加した透光性アルミナセラミックスにあっては、 A l2
03粒界に存在する MgOと発光物質、特に S c等との反応により、粒界部が侵 食され透光性のみならず機械的 の劣化を招いている。
本雄例では、透光性セラミックス力標準生成ギプスエネルギー (AG f ° ) で一 1581. 9 K J /m 01以上の負の値をもつ酸化物、 即ち A 1203以上の 熱力学的安定性をもつ酸化物で構成されているため、 MgO (AGf° =—56
9. 4K J/mo 1) の場合と異なり、発光物質、特に S cとの反応による A 1
203粒界の侵食は殆ど生じない。
標準生成ギプスエネルギー (AG f。 :) で一 1581. 9 K J /m o 1以上、 即ち A 1203以上の負の値をもつ酸化物としては、 La203 (-1706K J/ mo 1) 、 Ta203 (- 1911 K J /m o 1 ) 、 Ho203 (- 1791 K J / mo 1) 、 Y203 (-1727KJ/mo 1) 、 Yb203 (-1727K J/m o l) 、 Dy203 (-1772KJ/mo l) 、 S c203 (- 1819 K J /m o l) 、 Ce203 (-1706KJ/mo 1) , E r203 (-1809KJ/m o 1 ) 、 L U 2O3 (-1789KJ/mo l) 、 Sm203 (- 1735 K J /m o 1) 、 Tm203 (一 1795KJZmo 1) 等を用いることが出来る。
以下に本実施例としての、 L a 203を A 1203粒子間に介在させて複合化した L a 203/A 1203系の透光性セラミックスを添付図面に基づいて説明する。
ここで、 図 1は本実施例に係る熱間静水圧処理を一部に組込んだ L a 203ZA 1203系の透光性セラミックスの製造工程を示すプロック図であり、本実施例に あっては、 先ず A 1203原料、 L a 203原料、 純水、 バインダ—及び分散剤を湿 式混合分散し、 次いで真空脱泡した後、铸込み成形し、 この後乾燥及び一次焼結 をなし、 それから H I P処理を行うようにしている。
尚、铸込み成形の代りに図 1に示すように押出し成形或いは射出プロ一成形を 行うようにしてもよい。 また、射出ブロー成形の場合には混合工程において純水 を添加せずに行 、、成形後に脱脂処理してから一次^ ^を行う。
上記 A 1203の出発原料としては、 AACH (アンモニゥム .アルミニウム · 力一ボネィト ·ハイドロォキサイド) を母塩とする 4N (4ナイン) 以上の純度 で、 0. 05〜1. 0 mの粒径分布の原料を用い、 La 203の出発原料として は、 3 N以上の純度で、 0. 1〜2. 0 mの粒径分布の原料を用いる。
また、 バインダーとしてはメチルセルロース、 ポリビニルアルコール、 ァクリ ルェマルジヨン、糖アルコ一ノレ等力《挙げられ、 分散剤としてはポリカルボン酸や ポリアクリル酸のアンモニゥム塩等力《挙げられる。
そして、上記の L a 203原料を 0. 01〜: L 8w t % (A 120399. 8〜8 2wt%) の範囲で添加し、 この混合体 (粉体) に対して上記バインダー及び分 散剤を 0. 2〜1%、純水を 20〜100%の範囲で加え、 ボールミル中で 10 時間以上湿式混合してスラリ一を得る。
以上のようにして調製したスラリ一に必要に応じて消泡剤を加えて真空下で脱 泡した後、石膏型、 多孔質樹脂型或いは多孔質セラミックス型等を用いて铸込み 成形を行い、 ^ ^結のセラミックス成形体を得る。
ここで本実施例における未 のセラミックス成形体としては、 高輝度放電灯 の発光管の形態を呈している。 铸込み成形によれば必要に応じて種々の形状、 例 えば端部封止部の径が中央部の径の 1 Z 2以下でしかも境界部がスムーズに連続 した形状の発光管を成形できる。 このような形状とすると、 金属蒸気のリークを 防止でき且つクラックの発生もない発光効率の高い発光管を得ることが出来る。 尚、 成形体中に C a成分の混入力考えられるので、 铸込み成形に引き続いて仮 焼ェ¾¾び温水 (酸) での洗浄工程を入れ、 C a成分の除去を行うようにしても よい。
そして、 未焼結のセラミックス成形体としての発光管を乾燥せしめた後に一次 する。一次焼結の条件としては、真空、空気、 N 2、 A r、 H 2又は水蒸気の 雰囲気中で、 1 3 5 0〜1 8 0 0 ° (:、 0. 5時間以上とし、 9 8 %以上の嵩密度 を有するようにする。
この後、一次焼結体を H I P処理する。 図 2が当該 H I P処理に用いる H I P 装置であり、 この H I P装置は圧力容器 1の外側に水冷用のジャケット 2を設け、 圧力容器 1の上下を ±M 3、下蓋 4で閉塞し、 下蓋 4上に被処理物である一次焼 結体 5をセッ卜する坩堝 6を配置し、坩堝 6を囲むように断熱層 7を容器 1内に 設け、断! ¾« 7の内側にヒータ 8を配置し、更 下蓋 4を貫通するパイブ 9 , 1 0にて 力容器 1内を真空ポンプ 1 1及びコンブレッサ 1 2につなげている。 そして、一次焼結体としての発光管 5を坩堝 6内に入れ、 この上から発光管と 同じ材料からなるビーズ 1 3を充填し、 ビーズ 1 3で発光管 5を覆った状態で坩 堝 6を圧力容器 1の内部空間にセッ卜し、 H I P処理する。 このように 管と 同じ材料からなるビーズ 1 3を充填した状態で することで、 焼結を充分に完 結させることが出来る。
また、上記ビーズ 1 3、坩堝 6は 管 5と同じ材料、 若しくは、 該発光管の 主成分と同じ材料 (例えば、 A 1 20 3) 、若しくは粒成長抑制剤、例えば M g O 等からなるものを用いること力できる。 この場合、発光管の材料と違う粒成長抑 制剤を利用した場合、 発光管表面に粒成長抑制剤が不純物として存在する可能性 がある力 この不純物は、表面のみであるので、後加工により簡単に除去できる。 通常の条件であれば、坩堝を粒成長抑制剤によって構成しても粒成長の抑制には 全く関与しないが、 1 3 5 0。C以上の高温でしかも 5 0 0 a t m以上の高圧下に おいては、坩堝 6を粒成長抑制剤によって構成することによって雰囲気内に坩堝 6を構成する元素が存在するためアルミナ焼結体での表面境面部分での粒成長が 抑制されると考えられる。
次に H I P処理の条件の一例を図 3で示すと、室温から 158 (TCまでは 20 0°CZhの昇温速度で行い、 1580°Cで 6時間保持し、 一方昇温と並行して内 部圧を高め 1 OOO ffiで 6時間程度保持する。 尚、雰囲気ガスとしては N2、 Ar、 H2、 02のうちの一種以上を用いる。
ここで、 図 4は上記の HI P処理の条件の好適な範囲を示すグラフであり、 こ のグラフからも明らかなように、温度については 1300°C未満では充分な透光 性が発現せず、 1800。Cを越えると L a 203が A 1203に固溶し、 黒体吸収の 不利力生じる。 一方圧力については、 500 a t m未満では充分な透光性が発現 せず、 1200a tmを越えるとクラック力発生する。 従って、 H I P処理の温 度は 1300。C以上 1800。C以下、圧力は 500 a tm以上 1200 a t m以 下であることが好ましい。
図 5 (A1) 、 (A2) 、 (A3) は上述した諸条件で得られた本発明に係る 透 ¾ttセラミックスの組綠構造を示す顕微鏡写寘、 図 6 (B1) 、 (B2) 、 (B3) は従来の透光性セラミックスの組織構造を示す顕微鏡写真であり、 以下 にこれらの生成条件の詳細を示す。
(A 1) . ····. L a203 0.5wt%添加 580oC、 1000 a tm (本発明品) (A 2) …… L a203 0.5wt%添加 800°C、 1000 a tm (本発明品) (A3) …… L a203 0.06w應加 580°C 1000 a t m (本発明品) (B 1) …… L a203 無添加 350°C、 1000 a t m (従来品) (B2) …… MgO 0.05wt%添加 800°C、 水素気流下 (従来品) (B 3) …… L a203 無添加 800。C、 1000 a t m (従来品) 上記の (A1) 〜 (A3)及び (B1) 〜 (B3) は図 7に示すように、 A 1 203の平均結晶粒子怪の小さなものから順に並べたものであり、 図 8はそれぞれ の直線透過率、 曲げ強度、 耐熱衝撃性を示すグラフである。
これらのグラフから、 従来品 (B 1) は A 1203の平均結晶粒子径カ小さくし かも分布曲線がシヤーブである。 このことは図 8から分かるように曲げ強度と耐 熱衝撃性には満足できるが、 直線透過率の点で充分とは言えない。
また、 従来品 (B2)及び (B3) は A 1203の平均結晶粒子径が大きいため 直線透過率は優れているが、 分布曲線の裾野が広く異常粒成長の割合が多い。 そ して、 その結果として曲げ ¾Jgと耐熱衝撃性の点において劣っている。
—方、本発明品 (Al)、 (A 2)及び (A3) の組織構造は図 9に示すよう に、 A 12Oaと L a 203とが固溶 Lたものではなく、 A 1203粒子間に L a 203 粒子が介在した複合体となっており、 L a203粒子が A 1203粒子の成長を抑制 すると共に、 種々の応力に伴うクラックの進展に対してこれを吸収抑制できる構 造となっている。
そして、 この複合体において L a 203粒子の大きさは A 1203粒子の大きさの 1 3〜1 30で、 A 1203の最大粒子の長軸は 3 O zm以下、 短軸は 20 m以下で、 L a203の最大粒子の長軸は 1 O zm以下、短軸は 以下となつ ており、更に A 1203粒子及び L a203粒子とも結晶の平均粒径に対して 3倍以 上の異常粒成長粒子が実質的に含まれておらず、'分布曲線がシャープである。 その結果、 図 8に示すように本発明品 (Al)、 (A 2)及び (A3) につい ては何れも 600 n m波長での直線透過率が 4 %以上で、 しかも曲げ¾¾と耐熱 街撃性に優れたものとなっている。
図 10は铸込み成形によつて形成された本発明品の優れた平均表面粗さ ( R a ) (0. 09 /m) を持つ内面に対して、 外表面を研磨 (ラッフ *W磨) した時の平 均表面粗さと透過性との関係を示すグラフであり、 本発明品にあつては上述した ように 3«的に研磨に充分耐えることができるので、 管の外表面の平均表面 粗さを 0. 1 zm以下とすることができる。
—方、従来の製法にて得られた製品は、平均表面粗さ (Ra) は 2. 7 m程 度であり、 強度的に充分とは言えないのでこの表面を研磨しても研磨時にクラッ クが発生してしまうので、透光性の点で劣ることが明らかである。
特に押出し成形では A 1203粒子が結晶学的に等方でないため、 クラックの発 生方向に一定の規則性がある。
図 11は本発明品と従来品とを全透過率 (拡散透過率) において比較したグラ フであり、全透過率においても本発明品は従来品に比べて優れていること力《分か る。
また、 図 12は本発明品と従来品との直線透過率を大気中 150 CTCの熱処理 前後で比較したグラフであり、 本発明品は耐熱性においても従来品に比べ優れて いること力分かる。
以上の説明や図 4乃至図 11のサンブルに対する試験結果から分かるように、 本発明に係る透光性セラミックスの製造方法によれば、高^ J¾アルミナ粉末に対 し 0. 01〜: L 8wt%の L a203等を塩若しくは酸化物の形態で添加すること で、 L a203等を誠長抑制剤として有効に作用させることができる。
また本発明に係る製造方法によれば、上記の高 アルミナ混合粉末に対して 所定の条件で一次 ^処理し、次いでこの一次 j ^体に対し所定の高温、 高ガス 圧下で熱間静水圧処理を施すようにしたので、 A 1203の粒径を抑制でき (図 5 の (A1) と (A2) とは L a 203の添加量は同じで H I P条件が異なる) 、広 、範囲で透光性や酸等の特性力《期待できる。
更に本発明によれば、 透光性セラミックスを構成する A 1203粒子間に L a 2 03等の粒子が介在した複合体とし、且つ A 1203の最大粒子の長軸は 30 m 以下、短軸は 20〃 m以下で、 L a 203等の最大粒子の長軸は 10μ m以下、短 軸は 5 m以下となっているので、 例えば厚み 0. 75mmのチューブ状とした 場合には、 600 nmの可視光に対して 4%以上のィンライン透過率 (直線透過 率) 、 75%以上の全透過率が得られ (測定機器は日立製作所製:ダブルビーム 分光 «計 U— 2000、 U— 4000) 、更に対熱衝撃性及び機械的 も従 来のものに比べ大幅に向上していた。
更に、本発明に係る透光性セラミックスは強度的に優れているので、 ラップ研 磨に充分に耐えること力《でき、従って平均表面粗さを極めて小さくし、表面散乱 を減少させることで透光性を大幅に向上させることができる。
また、透光性セラミックスが標準生成ギプスエネルギー (AG f ° ) で一 15 81. 9 K Jノ mo 1以上の負の値をもつ酸化物、即ち A 1203以上の熱力学的 安定性をもつ酸化物で構成されているため、 MgO (AG f° =— 569. 4K J /mo 1) の場合と異なり、 ¾ ^:物質、特に S cとの反応による A 1203粒界 の侵食は殆ど生じないため、 耐食性を高めることができる。
尚、 上述の第 1実施例での未焼結のセラミックス成形体を一次焼結するに際し ては、例えば 1 3 5 0 Cの焼結温度まで温度を上げてそのまま焼結が完了するま で保持するようなヒートカーブで焼結することになる。 し力、しな力 <ら、 焼結がゆ つくり進むので、成形体力《反ってしまったり、 ヒータ素材等からベーパーしてい た S i 02が成形体表面から内部に混入して焼結体内に取り込まれ、 発光管の劣 化を引き起こす可能性が考えられる。
よってこの問題を回避するためには、一次焼結に際しての未焼結のセラミック ス成形体を上記焼結温度としての保持温度より高 ^ V温度まで一旦昇温し (例えば、 1 3 5 0°C→1 4 0 0 °C) 、成形体の表面の焼結が済んだら (例えば 5分程度) 、 逆に保持温度 ( 1 3 5 0 °C) まで下げてそこで焼結を進めるようにする。 この場 合、成形体表面の焼結が済んでいるので、成形体の形態を保ったまま (内部的な) を進めることができ、反り力起きず、 また上記のベーパーしている S i 02 がそうした表面に付着したとしても成形体内部に混入すること力できず、 その付 着物は後工程で簡単に除去できる。
次に本発明の第 2実施例に係る透光性セラミックス及びその製造方法を添付図 面に基づいて説明する。 この第 2実施例に係る透光性セラミックス及びその製造 方法が、 上述の第 1実施例に係る透光性セラミックス及びその製造方法と大きく 異なる点は、 その製造工程において、 セラミックス成形体中に混入された C a, M g等の不純物金属イオンを除去する目的でのキレート剤処理を追加したことと、 該キレ—ト剤処理の後或いは H I P処理の後に成形体から S iを除去する目的で のフッ酸処理を追加したことである。
本発明者等はキレート剤を用いて原料中の不純物を除去しても、 完成された透 光性セラミックスを高輝度放電灯の 管として利用した場合に、発光管内の発 光物質が消失する主たる原因が、成形中に新たに混入する不純物によると云う知 見を得た。 即ち、 いくら原料を高純度のものとしても、 その後に行なう成形等の 工程において不純物が混入することを完全になくすことはできないと云うことを 発見した。 そこで、本実施例では、 所定形状に成形したセラミックス成形体を仮 焼した後、 該仮焼体にキレート剤を含浸せしめて仮焼体中の不純物金属イオンを キレート剤に結合せしめ、 次いで、 仮焼体中に含浸しているキレ—卜剤を洗浄に よって除去した後、仮焼体を焼結するようにした。 特にこの洗浄を超音波洗浄と することで、 仮焼体内部にまで含浸したキレート剤を不純物金属と共に有効に除 去でき、 また、 キレート剤による処理の後に、 或いは焼結後にフッ酸処理を行な うことで S i力《有効に除去でき、 また、 キレート剤は EDTAとし、 pHは 8〜 10とすることで C a及び Mgの除去を主として行なうと共に耐食性向上等に有 効な L a等を残すことができる。
また本実施例に係る発光管は、 A 1203の A 1の一部を S cにて置換した(A 1, S c) 203を主体とすると共に、実質的に Ca、 Mg並びに S iが含まれず、 厚さ lmm当りに換算した波長 600nmの光線の直線透過率が 40%以上、 強 度が 235 (MP a) 以上、耐熱衝撃が 150 (ΔΤ°0) 以上、 熱伝導率が 0. 08 (c a 1 /cm · °C) 以上、軟化、が 1200 (。C) 以上である。
以上のように、本焼結工程後では気孔が閉塞されるので内部までキレート剤を 含浸させたり、含浸させたキレート剤を不純物と共に除去することができないが、 仮焼体であれば気孔力 <連続しているので内部までキレート剤を含浸させ、更に不 純物である Mgや S i等の金属イオンと結合したキレート剤を内部から除去する ことができる。 しかも仮焼体は粉末原料の段階よりも最終段階に近いため、 この 伢焼体段階から該仮焼体へ不純物が混入する機会は極めて少ない。
図 13は本第 2¾¾¾例に係る透光性セラミックスの製造方法を示すブロック図 であり、本実施例にあっては、先ず粉末セラミックス原料としての A 1203原料、 S c 203原料並びに L a203原料を、純水、 バインダー、 解膠剤及び分散剤等と 湿式混合分散し、真空脱泡した後、 铸込み成形して乾燥させて未焼結のセラミッ クス成形体を得て、次いでこれの仮焼を行う。
尚、 铸込み成形の代りに図に示すように押出し成形或いは射出ブロー成形を行 うようにしてもよい。 また、射出ブロー成形を行う場合には純水を添加せずに行 うので乾燥は不要でその代わり 旨を行う。
そして仮焼を行った後、成形体にキレート剤処理を行って 体中の不純物金 属イオン、例えば C aや Mgをキレート剤に結合せしめ、 次いで仮焼体中に含浸 しているキレート剤即ち不純物金属イオンを取り込んだキレート剤を純水を用い た超音波洗浄等によって仮焼体外に除去した後、 仮焼体を一次焼成し更に H I P 処理して透光性セラミックスからなる発光管を得る。
ここで、 上記 A 1203の出発原料としては、 AACH (アンモニゥム 'アルミ ニゥム ·カーボネィト ·ハイドロォキサイド) を母塩とする 4 N (4ナイン) 以 上の «で、 0. 05〜1. 0 mの粒径分布の原料を用い、 S c 203の出発原 料としては、 3N以上の Sで、 0. 5〜: L の粒径分布の原料を用い、 ま た、 L a 203の出発原料としては、 3N以上の で、 0. 1〜2. 0 mの粒 径分布の原料を用いる。
また、 バインダーとしてはメチルセルロース、 ポリビニルアルコール、 ァクリ ルェマルジヨン、糖アルコーノレ等が挙げられ、 分散剤としてはポリカルボン酸や ポリアクリル酸のアンモニゥム塩等力《挙げられる。
そして、石膏型、 多孔質樹脂型或いは多孔質セラミックス型等を用いて铸込み 成形を行う場合には、上記の S c 203原料を 0. 005〜15wt%、 La203 原料を 0. 01〜; L 8wt%の範囲で添加し、 この混合体 (粉体) に対して上記 バインダー及び分散剤を 0. 2〜1%、純水を 20〜; L 00%の範囲で加え、 ボ ールミル中で 10時間以上湿式混合してスラリ一を得る。
仮焼の条件は 600〜 1200 °Cとし、気孔率が 20〜 50 %程度になるよう にする。 本実施例にあっては気孔率力《重要な要素となり、 気孔率が大きすぎると 仮焼体の 不足となりハンドリングが困難となり、気孔率が小さすぎると後ェ 程でキレート剤が仮焼体内に含浸せず、 キレート剤による処理ができなくなる。 キレート剤を仮焼体に含浸せしめるには、仮焼体をキレ一ト剤の水溶液中に浸 漬させ、仮焼体内の気泡を真空ポンブにより 1時間以上除去することで行う。 また、 キレート剤としては EDTA、 DPTA、 EDDA、 EDDPを用い、 キレート剤の濃度は除去しょうとする不純物の全モル数の 2倍以上のモル数を含 む溶液とすること力好ましい。
更に、 キレ一ト剤 (EDTA)水溶液の pHについては 8〜10とすることが 好ましい。 このような pH値で処理することで、金属イオンとの結合に選択性が 生じ、 C aや Mg等がキレート剤と結合して除去され、 出発原料として添加した L a及び S cは残る。 その結果、 発光管の構造が、 L a 203の粒子が A 1203の A 1の一部を S cに て置換した (A l, S c) 203粒子間に介在する複合体となり、 La 203が異常 粒成長を抑制して粒子の大きさ力《揃ったセラミックス焼結体力《得られ、 更にセラ ミックス焼結体を構成する粒子力沘較的小さいので、耐熱衝撃性と機械的嫩を 高めることがでる。 また S c 203を導入することにより、 S c等の発光物質と A 1203との反応は進行せず、更に L a 203の標準生成ギプスエネルギ (厶 G f ° ) は一 1706. 0 K J Zm 01で A 1203の標準生成ギプスエネルギ (一 158 1. 9K J/mo 1) よりも大きな負の値をもつので、 熱力学的に安定であり、 S c等の 物質との反応性力低いため耐食性を高めることができる。
以上の如くして不純物金属イオンを取り込んだキレート剤を純水を用いた超音 波洗浄等によって仮焼体の外に ίυκ差を利用して除去した後に乾燥させ、 この後 に—次 する。一次焼結の条件としては、真空、空気、 N2、 Ar、 H2または 水蒸気の雰囲気中で、 1350〜: L 800°C、 0. 5時間以上とし、 98%以上 の嵩密度を有するようにする。
この後、一次 体を H I P処理する。 H I f>処理の条件としては、温度は 1 300。C以上 1800。C以下、圧力は 500 a t m以上 1200 a t m以下であ ることカ好ましい。 具体的には室温から 158 (TCまでは 200eO hの昇温速 度で行い、 158(TCで 6時間保持し、一方昇温と並行して内部圧を高め 1, 0 OOMffで 6時間 ^保持する。 尚、雰囲気ガスとしては A r、 N2、 H2、 02 のうちの一種以上を用いる。
図 14は上述の第 2実施例に係る透光性セラミックスの製造方法に一部変更を 加えた本発明の第 3¾ϋ例に係る透光性セラミックスの製造方法を示すプロック 図であり、 この 例にあってはキレート剤処理の洗浄工程の後、或いは H I Ρ 処理の後にフッ酸 (HF)処理を行うようにしている。
即ち、上記したキレート剤処理により、 Caや Mgは当初の 1 10以下まで 減少させること力《できるが、 S iについてはキレート処理はそれほど有効ではな い。 そして、 S i (S i 02) の場合には次のような反応力《起こり発光物質 (S c I 3) 力消失してしまう。
3S i 02+4S c I3→2S c203+3S i 14 したがって、 洗浄工程の後、 または H I P処理の後にフッ酸 (HF) 処理を行 つて S iの除去を行うようにしている。 尚、 フッ酸 (HF) 処理をキレート剤処 理の前に行うことも考えられるが、 この場合にはフッ酸とカルシウムやマグネシ ゥムと力反応してキレ一ト剤処理の際に、 除去しにくい反応物を生成することが 考えられるので、 キレート剤処理の後にフッ酸 (HF) 処理を行うのが好ましい c 以下の表 1は上記の方法 (但し、 フッ酸処理は行わない) で作成した本発明品 と、 従来品との特性を比較したものであり、 また図 15は上記の本発明品と従来 品 (組成: MgO— A 1203) の直線透過率を比較したグラフである。
Figure imgf000019_0001
これらの表 1及び図 15のグラフから、本発明品は厚さ lmm当りに換算した 波長 600 nmの光線の直線透過率が 40%以上、 強度が 235 (MP a) 以上、 耐熱衝撃が 150 (ΔΤ°0以上、 熱伝導率が 0. 08 (c a 1/cm · s e c •。C)以上、 軟化点が 1200 (°C)以上の特性を有し、 S i 02組成からなる 従来品に対し、 直線透過率において劣るもののたの全ての特性において大幅に優 れており、 また MgO— A 1203組成からなる従来品に対しては、 直線透過率を 含め全ての特性において優れていること力分る。
以上に説明した如く本発明によれば、仮焼体にキレート剤を含浸せしめて仮焼 体中の不純金属イオンをキレート剤に結合せしめ、 このキレート剤を洗浄によつ て除去するようにしたので、製品に近づいた工程で不純物を除去でき、 この後不 純物が^:管に混入する可能性が小さく、高輝度放電灯の寿命を延すことができ る。
ここで、上記の洗浄を超音波洗浄とすることで、仮焼体内部にまで含浸したキ レート剤を不純物金属とともに有効に除去でき、 また、 キレート剤による処理の 後に、或いは 後にフッ酸処理を行うことで S iが鶴に除去でき、 また、 キ レート剤は例えば EDT Aとし、 pHは 8〜10とすることで C a及び Mgの除 去を主として行うとともに粒成長抑制に優れ強虔向上に有効な L aを残すことが できる。
そして、上記のような方法によって発光管を製造することによって発光管とし ての優れた特性、即ち波長 6 OOn mの光線の厚さ 1 mm当りに換算した直線透 過率が 40%以上、 強度が 235 (MP a)以上、耐熱衝撃が 150 (ΔΤ°0 以上、 熱伝導率が 0. 08 (c a l/cm- s e c · °C) 以上、軟化点が 120 0 (°C)以上のものが得られる。
産業上の利用可能性
本発明に従う透光性セラミックスは機械的強度、 直線透過性、 耐食性、並びに 耐熱衝撃性に優れるために、 その特性を活かして高輝度放電灯における発光管等 の様々な用途に利用可能である。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 透光性セラミックスであって、 それぞれが標準生成ギプスエネルギー (△G f ° ) が負で且つその絶対値が 1581. 9KJZmo lよりも大である 複数種の酸化物から構成され、高温、高ガス圧下で熱間水圧処理することによつ て得られる透光性セラミックス。
2. 前記透光性セラミックスは、 前記酸化物の一種である A 1203の粒子 間に該 A 1203と異なる少なくとも 1種以上の前記酸化物の粒子が介在する複合 体であり、 前記 A 1203の最大粒子の長軸は 30 //m以下、 短軸は 20 m以下 で、前記介在する酸化物の最大粒子の長軸は 10 m以下、 短軸は 5 m以下で あることから成る請求項 1に記載の透光性セラミックス。
3. 前記透光性セラミックスは、主成分として A 1203を含むと共に、副 成分として、 L a203、 Ta 203、 Ho 203、 Y203、 Yb 203、 Dy 203、 S c 203、 C e 203、 E r 203、 Lu 203、 Sm203、 Tm203から成る部類中か ら選択された酸化物を含むことから成る請求項 iに記載の透光性セラミックス。
4. 透光性セラミックスの製造方法において、
高純度アルミナ粉末に対し、酸化物粒子を塩及び酸化物の内の少なくとも一方 の形態で 0. 01〜18wt%添加してセラミックス成形体を形成し、 該セラミ ックス成形体に対して真空、空気、 N2、 A r、 H 2及び水蒸気の内の少なくとも 1つの雰囲気中で 1350〜 1800 °Cの範囲の一次焼結温度で 0. 5時間以上 保持して一次 処理を施し、 次いでこの一次焼結体に対して高温、 高ガス圧下 で熱間静水圧処理を施すことから成る透光性セラミックスの製造方法。
5. 前記熱間水ブレス処理は、所定処理 として 1300〜 1800 °C の温度範囲で、 A r、 N2、 H2、並びに 02の内の少なくとも一種以上のガスに より所定処理圧力として 500〜1200 a t mの圧力範囲で行われることから 成る請求項 4に記載の透光性セラミックスの製造方法。
6. 前記高純度アルミナの出発原料は、 AACHを母塩とする 4N以上の ^^で 0. 05〜: L · 0 μ mの粒径分布を有し、 前記酸化物粒子の出発原料は 3 N以上の で 0. 1〜2. 0 mの粒径分布を有する L a 203であることから 成る請求項 4に記載の透光性セラミックスの製造方法。
7. 前記アルミナ出発原料と前記 L a 203出発原料との混合体に対して、 少なくともバインダー及び分散剤を 0. 2〜1 %の範囲で加えてボールミル中で 1 0時間以上湿式混合分散してスラリ一を調製し、 該スラリ一から成形体を形成 する工程を含むことから成る請求項 6に記載の透光性セラミックスの製造方法。
8. 前記スラリーは前記混合物に対して純水を 2 0〜: L 0 0 %の範囲で更 に加えて前記湿式混合分散されて調製されることから成る請求項 7に記載の透光 性セラミックスの製造方法。
9. 前記スラリーに消泡剤を加えて脱泡する工程を含むことから成る請求 項 7に記載の透光性セラミックスの製造方法。
1 0. 前記スラリ一を多孔質型を用いて铸込み成形して前記成形体を得るェ 程を含むことから成る請求項 8に記載の透光性セラミックスの製造方法。
1 1. 前記一次焼結体に対する前記熱間静水圧処理は、室温から前言 2 定処 理温度までを 2 0 CTCZ hの割合で昇温すると共にこれと並行して前記所定処理 圧力まで昇圧した後にこの状態を約 6時間保持する工程を含むことから成る請求 項 5に記載の透光性セラミックスの製造方法。
1 2. 前記熱間静水圧処理は、圧力容器と、 該圧力容器内に配置されたヒー タ及び前記一次焼結体がセットされる坩堝とを少なくとも備えた装置を用いて行 なわれ、前記熱間静水圧処理は、前記坩堝には前記一次焼結体と共に該一次焼結 体と同一材料、若しくはその主成分材料、若しくは粒成長抑制剤から成るビーズ 力充填されている状態で行なわれることから成る請求項 1 1に記載の透光性セラ ミックスの製造方法。
1 3. 前記坩堝は、 一次焼結体と同一材料、若しくはその主成分材料、 若し くは粒成長抑制剤から成る請求項 1 2に記載の透光性セラミックスの製造方法。
1 4. 前記酸化物は、 L a 203、 T a 203、 H o 203、 Y 203、 Y b 203、 D y 203 S c 203、 C e 203、 E r 203、 L u 203 S m203、 T 1112 O 3力、ら 成る部類中から選択されたものであることから成る請求項 4に記載の透光性セラ ミックスの製造方法。
1 5. 前記一次焼結処理に際して、前記セラミックス成形体を所定の前記一 次焼結温度以上まで昇温して該セラミックス成形体の表面の焼結を達成した後に、 該ー次焼結温度まで下げて更に焼結を続ける工程を更に含むことから成る請求項 4に記載の透光性セラミックスの製造方法。
1 6. 透光性セラミックスであって、 それぞれが標準生成ギプスエネルギ— (AG f ° ) 力負で且つのその絶対値が 1 5 8 1 . 9 K J //m o lよりも大であ る複数種の酸化物から構成され、 焼結処理に先立ってのキレート剤処理と、 高温 且つ高ガス圧下での熱間水圧処理と力《少なくとも施されることによって得られた 透光性セラミックス。
1 7. 前記透光性セラミックスは、 A 1 203を主体とする共に、 該 A 1 203 の A 1の一部を S cにて置換した (A l , S c ) 203粒子間に L a 203の粒子が 介在する複合体から構成されたことから成る請求項 1 6に記載の透光性セラミッ クス。
1 8. 粉末セラミックス原料をバインダ一、解膠剤等とともに混合して所定 形状の成形体を形成する成形工程と、次いで該成形体を仮焼した後、 該仮焼体に キレート剤を含浸せしめて前記仮焼体中の不純物金属イオンを前記キレート剤に 結合せしめ、 次いで前記仮焼体中に含浸している前記キレート剤を洗浄によって 除去するキレート剤処理工程と、該仮焼体を焼結して焼結体となす焼結工程とを 少なくとも含むことから成る透光性セラミックスの製造方法。
1 9. 前記仮焼体中に含浸している前記キレ一ト剤の除去は超音波洗浄にて 行うようにしたことから成る請求項 1 8に記載の透光性セラミックスの製造方法。
2 0. 前記キレート剤は E D T Aとし、 p Hは 8〜: L 0とすることで Ca及 び Mgの除去を主として行うようにしたことから成る請求項 1 8に記載の透光性 セラミックスの製造方法。
2 1. 前記キレート剤処理工程の後に、前記仮焼体をフッ酸処理するフッ酸 処理工程を含むことから成る請求項 1 8に記載の透光性セラミックスの製造方法。
2 2. 前記焼結工程の後に、前記焼結体をフッ酸処理するフッ酸処理するフ ッ酸処理工程を含むことから成る請求項 1 8に記載の透光性セラミックスの製造 方法。
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