WO1994011092A1 - Air treating method using photocatalyst under interior illumination - Google Patents

Air treating method using photocatalyst under interior illumination Download PDF

Info

Publication number
WO1994011092A1
WO1994011092A1 PCT/JP1993/001598 JP9301598W WO9411092A1 WO 1994011092 A1 WO1994011092 A1 WO 1994011092A1 JP 9301598 W JP9301598 W JP 9301598W WO 9411092 A1 WO9411092 A1 WO 9411092A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
lamp
thin film
light
photocatalyst
ultraviolet light
Prior art date
Application number
PCT/JP1993/001598
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Toshiya Watanabe
Atushi Kitamura
Eiichi Kojima
Kazuhito Hashimoto
Akira Fujishima
Original Assignee
Toto Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd. filed Critical Toto Ltd.
Priority to EP93924176A priority Critical patent/EP0630679B1/en
Priority to DE1993624574 priority patent/DE69324574T2/de
Priority to AU53766/94A priority patent/AU5376694A/en
Priority to KR1019940702335A priority patent/KR100293040B1/ko
Priority to CA 2127552 priority patent/CA2127552C/en
Publication of WO1994011092A1 publication Critical patent/WO1994011092A1/ja
Priority to HK98113818A priority patent/HK1017809A1/xx

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/38—Removing components of undefined structure
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • A61L9/18—Radiation
    • A61L9/20—Ultraviolet radiation
    • A61L9/205—Ultraviolet radiation using a photocatalyst or photosensitiser
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8603—Removing sulfur compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8603—Removing sulfur compounds
    • B01D53/8606—Removing sulfur compounds only one sulfur compound other than sulfur oxides or hydrogen sulfide
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
    • B01D53/8634—Ammonia
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/88—Handling or mounting catalysts
    • B01D53/885—Devices in general for catalytic purification of waste gases
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/80—Type of catalytic reaction
    • B01D2255/802—Photocatalytic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2259/00—Type of treatment
    • B01D2259/80—Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/804—UV light
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/8305—Miscellaneous [e.g., treated surfaces, etc.]

Definitions

  • the present invention relates to a method for treating an indoor environment contaminated with bacteria and substances with a photocatalyst.
  • Living spaces such as homes and offices contain sulfur compounds such as hydrogen sulfide-methylmercatan, nitrogen compounds such as ammonia, fat glare, and other odorous substances. To achieve a comfortable living space, it is desirable to treat polluted air to remove these odorous substances. Also, in the medical setting, antibiotics are used to produce antibiotic-resistant bacteria, such as nosocomial infections caused by methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MRS A), causing serious problems. . Attention has been focused on using semiconductor photocatalysts to treat environments contaminated with bacteria and substances.
  • the semiconductor photocatalyst is irradiated with light, and the semiconductor emits a light energy higher than its band gap energy (E s ).
  • E s band gap energy
  • electrons in the valence band are photoexcited into the conduction band, and electron-hole pairs (e-—h +) are generated in the surface layer of the semiconductor.
  • charge separation is performed as follows. That is, when the semiconductor and the electrolyte are brought into contact, the charge moves until the Fermi ⁇ levels of both phases become equal. Result of charge transfer in the case of You 11-type semiconductive material Ding 1_Rei 2 semiconductor surface is positively charged, the spatial charge layer near the surface of the semiconductor by the electric field shown in Figure 1 As described above, bending of the band occurs. The conduction electron and the valence band hole separate the charge by the bending of the band, the electron e- moves to the bulk, and the hole h 'moves to the semiconductor surface. The holes h + transferred to the surface oxidize water to generate oxygen,
  • the electron e- which has moved to the metal counter electrode via the conductor, reduces water to generate hydrogen.
  • AJ Bard is not only a photoelectrochemical cell comprising a single crystal semiconductor electrode, T i 0 2 powder powder also photoelectrochemical cell which is metallized with platinum (Journal of Photochem istry. 10 (1979). 59-75). AJ Bard is T i ⁇ 2 powders metallized is believed to ⁇ the photoelectrochemical cell has been short-circuited.
  • T i 0 2 powder solid also known to exhibit a photocatalytic action, ammonia in the T i 0 2 powder system, a carboxylic acid, Fuwenoru, many studies of the photolysis One had to the other compounds were made ( For example, H. awaguchi. Environmental Technology Letters. Vol. 5, PP 471-474).
  • Photodecomposition of a compound by a photocatalyst is based on the fact that holes h * and electrons e-generated by photoexcitation redox redox surface hydroxyl groups and surface oxygen, respectively, to form ⁇ H radicals ( ⁇ ⁇ ) and superoxide ions ( ⁇ 2 — ), And
  • Photodecomposition of compounds is a multi-electron process in which the compound species undergoes several intermediate products to become final products.
  • JP-A-2 - The 2808 1 8 No. when exciting the photocatalyst to deodorizing the air, ultraviolet intensity at wavelength 2 5 0 nm is to be irradiated with 2 m W / cm 2 or more ultraviolet light catalyst Proposed. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • 63-267876 discloses a deodorizing apparatus in which ultraviolet rays having a wavelength of 250 nm emitted from a sterilizing runner are irradiated to a photocatalyst.
  • ultraviolet rays having a wavelength of 250 nm emitted from a sterilizing runner are irradiated to a photocatalyst.
  • Such an irradiation method cannot be applied to living spaces as it is because ultraviolet light having a wavelength of 250 nm is harmful to the human body and it is necessary to wear protective glasses under irradiation. Therefore, the light source must be shielded from the living space. Also, in order to increase the intensity of ultraviolet light, the light source must be sufficiently close to the photocatalyst, so that the irradiation area is limited.
  • expensive germicidal lamps made of quartz glass that can transmit ultraviolet light with a wavelength of 250 nm are required.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-307066 discloses a deodorizing apparatus in which a panel provided with a photocatalyst is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 410 nm or less.
  • This device is also designed to shield the light source from the room because of its high ultraviolet intensity. For this reason, it cannot be applied to sterilization of places where people may come into contact, such as the inner walls of hospital rooms.
  • a special light source for irradiating the photocatalyst must be installed separately. Disclosure of the invention
  • Yet another object of the present invention is to provide a photocatalytic treatment method that does not require a dedicated light source for exciting the photocatalyst.
  • Another object of the present invention is to provide a photocatalytic treatment method capable of exhibiting a desired photocatalytic action with minimum power consumption.
  • Another object of the present invention is to provide a photocatalytic treatment method that does not affect the daily use, appearance and decoration of the room.
  • the present invention provides a method for treating the indoor environment and air contaminated with bacteria, particulate matter, and volatile substances by photocatalysis.
  • a first feature of the photocatalytic treatment method of the present invention is that a photocatalyst in the form of a thin film made of a solid semiconductor material is provided on at least a part of an inner wall of an indoor space, and the inner wall itself is used as a reaction surface for photocatalysis. is there. When bacteria or suspended solids come into contact with the photoexcited photocatalytic film, they are decomposed in situ (insitu).
  • the inner wall of the indoor space is lined with a photocatalyst thin film, and the wall itself acts as a reaction surface, so that the photocatalyst thin film is exposed inside the room.
  • This is particularly advantageous when the treatment method of the present invention is applied for the purpose of sterilization. That is, the bacteria attached to the wall surface lined with the thin film of the photocatalyst are killed on the spot by the photocatalysis, so that the bacterial infection due to the contact with the wall surface is prevented.
  • the room lined with a thin film of photocatalyst itself acts as a kind of photocatalytic reactor. Therefore, it is possible to secure a photocatalytic reaction surface having a large area as required for photocatalytic decomposition, and it is possible to generate a sufficient photocatalytic reaction. Furthermore, the thin-film system does not require a separate reaction vessel equipped with a circulation device and a stirring device as in the case of the suspended particle system, so the thin film of the photocatalyst can be easily installed on the inner wall of the indoor space. it can.
  • a second feature of the treatment method of the present invention is that a photocatalyst is excited using an electric lamp for general illumination such as a fluorescent lamp installed indoors. Therefore, the photocatalyst thin film It is arranged in the irradiation area of the general lighting electric lamp.
  • Commercially available general lighting lights are safe and harmless because they are originally designed to pump out harmful ultraviolet light with a wavelength of less than 300 nm.
  • low-pressure mercury lamps for general lighting such as fluorescent lamps, convert harmful ultraviolet light of a wavelength of about 254 nm emitted by mercury excited by discharge into visible light by photoluminescence of fluorescent substances. ing.
  • the light emitted from general lighting lamps such as fluorescent lamps contains at least a trace amount of ultraviolet light in the wavelength band of the semiconductor photocatalyst's band gap-energy.
  • it can be used for the purpose of photoexciting a photocatalyst.
  • the photocatalyst is photoexcited by the light source including the general lighting electric lamp, it is not necessary to separately provide a dedicated ultraviolet light source for exciting the photocatalyst.
  • This light source is effectively used for both room illumination and photocatalytic excitation.
  • the light of the general lighting lamp does not contain harmful ultraviolet rays, it is not necessary to shield the living area from the light source as in the conventional technology. Therefore, as described above, the thin film of the photocatalyst can be exposed to the inside of the room for the purpose of sterilization, and the thin film of the photocatalyst can be disposed on the wall surface of any place where people may come into contact.
  • a third feature of the present invention relates to the quantum yield of light energy absorbed by the semiconductor photocatalyst (the ratio between the number of photons absorbed by the photocatalyst and the number of molecules that have undergone a photochemical reaction).
  • the wattage of the general lighting lamp and the distance between the thin film and the lamp are determined by the band gap incident on the semiconductor photocatalyst. 1 mW / cm, preferably set to 0.01 to 0.1 mW, / cm 2 .
  • This feature is based on the finding that, in a solid-phase / gas-phase contact reaction system using a thin-film photocatalyst, the lower the illuminance of ultraviolet light, the higher the yield of light energy. That is, as will be described in more detail later with reference to the drawings, the present inventor has found that in a thin film system, the quantum efficiency of the light energy absorbed by the photocatalyst increases as the UV illuminance decreases. Was. The reason is always one woo Although it is not clear, it can probably be explained as follows. That is, the decomposition of a substance by a photocatalyst is a multi-electron process, and the decomposition rate is governed by the rate-limiting step.
  • the photocatalyst in the form of a thin film is used in the method of the present invention, and the photocatalyst in the form of a thin film exhibits a higher quantum yield as the UV intensity is lower. Small general lighting lights can be used advantageously.
  • the irradiated room in which the thin film of the photocatalyst is lined can be considered to be a photocatalyst reaction vessel of the type having an inner wall serving as a photocatalytic reaction surface.
  • a photocatalyst reaction vessel of the type having an inner wall serving as a photocatalytic reaction surface To examine the relationship between the size of the reaction vessel, the total area of the reaction surface, and the illuminance for a light source with a given output, if the distance between the light source and the photocatalytic reaction surface becomes large by increasing the While the total area of the wall available for thin film installation increases in proportion to distance, the illuminance per unit area of thin film can be considered to decrease in inverse proportion to the square of distance.
  • the area of the reaction surface will decrease, but the illuminance will increase in inverse proportion to the square of the distance.
  • the number of photons that effectively contribute to the photocatalytic process without inducing electron-hole recombination is proportional to the product of ft-particle yield, illuminance (photon density), and thin-film area.
  • the output and distance of the light source are set so that the UV illuminance is 1 mW / cm 2 or more, the probability of recombination of electrons and holes increases, so that power is wasted from the viewpoint of photocatalytic excitation efficiency. In addition, the illuminance of visible light and heat generation become excessive. Illuminance.
  • the photocatalyst is effectively photoexcited by the weak ultraviolet energy radiated by the general lighting lamp such as a fluorescent lamp, and the photocatalytic reaction is efficiently induced with the minimum power.
  • T i 0 2 Thin film of photocatalyst preferably formed using a powder of titanium dioxide (T i 0 2).
  • T i 0 2 are chemically stable material harmless non-toxic to the human body, yet having suitable band characteristics and high photocatalytic activity redox substances.
  • T i 0 2 is preferably from Anata peptidase type, copper, silver, platinum, may be used Ruchi Le type T I_ ⁇ 2 that is metallized with other metals. It is also possible to form a photocatalytic film in WO ⁇ C d S, S rT i 0 3, a semiconductor such as Mo S 2.
  • T i 0 The thin film of the photocatalyst can be supported on a ceramic substrate such as a tile.
  • the T i 0 2 sol was applied to the glaze with a tile, if calcined at a temperature above the softening point of the glaze, Ding i 0 2 powder is bonded to the glaze as well as sintering, wear resistance An excellent and strong T i ⁇ 2 sintered thin film can be obtained.
  • the tile bearing the T i 0 2 thin in this way, can be easily attached to the inner wall of the room.
  • the thickness of the thin film is preferably between 0.3 and 1 Om. If the film thickness is larger than this, the film strength is reduced due to shrinkage during firing, and the film is easily peeled.
  • Thin film of photocatalyst may also be fixed to T i 0 2 powder ceramic with an organic binder such as an inorganic binder and a fluorine resin such as water glass or Arukokisai de, wood, metal, on a substrate made of plastic or other material .
  • the light source for photo-exciting the photocatalytic thin film can be selected from various commercially available general lighting lamps according to the desired visible light intensity and ultraviolet light intensity.
  • white fluorescent lamps, pink fluorescent lamps, and mature white lamps are suitable.
  • blue fluorescent lamps can produce stronger ultraviolet light.
  • a blacklight fluorescent lamp or a blacklight blue fluorescent lamp having a dominant wavelength of 350 to 360 nm can be used.
  • you want to increase the visible light intensity you can use a high-intensity lamp (HID) such as a metal halide lamp.
  • HID high-intensity lamp
  • the treatment method using a photocatalyst of the present invention includes sterilization and antibacterial treatment for medical facilities such as hospital rooms and operating rooms, antibacterial treatment and deodorization for living spaces such as houses and offices, and food processing factories and cooking catering factories. It can be applied to sterilization, antibacterial treatment, and prevention of soiling of toilet floors and kitchens.
  • Figure 1 is a schematic diagram showing the principle of the semiconductor photocatalyst
  • Figures 2 to 5 show various layouts of the illumination light source and the photocatalyst;
  • Figure 6 shows a cross-sectional view on a microscopic scale of a part of a tile with a thin film of photocatalyst:
  • FIG. 8 is a schematic sectional view of the apparatus used in the experimental example.
  • FIG. 9 is a graph showing the change in the concentration of methyl mercatan due to photolysis
  • FIG. 10 is a graph showing the decomposition rate of methyl mercatan at different ultraviolet intensities. Rough, horizontal axis shown on logarithmic scale;
  • the first 111 is a graph showing the photon quantum efficiency at different ultraviolet intensities, likewise the horizontal axis is shown on a logarithmic scale;
  • Fig. 12 is a graph similar to Fig. 11, showing the UV intensity on the horizontal axis in Fig. 11 converted to photon density;
  • Fig. 13 is a graph showing the effective photon density at different UV intensities, also on the horizontal axis on a logarithmic scale;
  • Fig. 14 is a schematic diagram showing a model of the reactor
  • Fig. 15 is a graph showing the change of the effective photon number when the radius of the reactor is changed in the model of Fig. 14:
  • Fig. 16 is a graph showing the change in lighting efficiency and effective photon number when the number of light sources is changed in the model of Fig. 14;
  • Fig. 17 is a graph showing the change of the product of the illumination efficiency and the effective photon number shown in the graph of Fig. 16;
  • FIG. 18 is a graph showing the viability of E. coli by photolysis
  • Fig. 19 is a graph showing the killing rate of Escherichia coli at different UV intensities, the horizontal axis being shown on a logarithmic scale;
  • FIG. 20 is a graph showing the bactericidal efficiency of E. coli at different UV intensities, with the horizontal axis also shown on a logarithmic scale:
  • FIG. 21 is a graph showing the change in sterilization ability when the radius of the reactor is changed in the model of FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIGS. 2 to 5 illustrate various layouts of the illumination light source and the photocatalyst.
  • a panel 12 carrying a thin film of photocatalyst is arranged on the side wall 10 of the room, and a commercially available fluorescent lamp 16 for interior lighting is installed on the ceiling 14.
  • a commercially available fluorescent lamp 16 for interior lighting is installed on the ceiling 14.
  • To irradiate the photocatalyst panel 12 to excite the photocatalyst The air is deodorized and the side walls are treated with antibacterial treatment.
  • FIG. 3 shows a layout in which the photocatalyst is irradiated with uniform illuminance.
  • three sets of lighting fixtures 2 ⁇ A— 20 C containing a fluorescent lamp (not shown) are fitted into one side wall 18 of the room, and the opposite side wall 22 is A photocatalyst panel (not shown) is installed: the central lighting fixture 20A is almost horizontal, the upper lighting fixture 20B is along the ceiling, and the lower lighting fixture 20C is on the floor.
  • No. 311 also shows that the illuminance distribution obtained by each lighting fixture is plotted with points ⁇ , ⁇ , and mu. As can be seen from the curve plotted with black points, According to the layout, the total illuminance of the three sets of lighting fixtures 2OA-20C varies along the wall.
  • FIG. 4 shows a layout for sterilizing the side walls and room air of a hospital room by the method of the present invention.
  • the side wall of the hospital room is covered with a tile 24 carrying a thin film of a photocatalyst, and a conventional lighting device 26 comprising a fluorescent lamp is arranged on the ceiling of the patient room.
  • Fig. 5 shows a layout for purifying the environment by decomposing malodorous substances and scattered pollutants in an easily polluted environment such as a toilet.
  • the tile 30 attached to the side wall and floor near the urinal 28 is covered with a thin film of photocatalyst, and is irradiated with ultraviolet light from a conventional lighting device (not shown).
  • Sanitary ware itself, such as urinals 28, Western style toilets and washbasins, can be coated with a thin film of photocatalyst to sterilize them and prevent dirt.
  • T I_ ⁇ 2 powder has a Bandogiya'a. Energy of about 3. 2 e V, which can be photoexcited by UV light of wavelengths shorter than about 3 8 7 nm, using Anata peptidase type T i ⁇ 2 powder Is preferred. Suitable anatase T i 0 2 powder, the use of Taki Chemical Co., Ltd. T i 0 2 sol, commercially available from (Kakogawa, Hyogo) (4% aqueous ammonia solution, the average particle diameter of 1 0 nm) Can be.
  • T i ⁇ 2 Films, Ding I_ ⁇ the conventional tiles with glaze prefabricated:
  • the sol was spray coated cloth, and from Burukkai preparative (or rutile) transformation point of T i 0 2, at a temperature of less about 7 8 CTC It can be formed by firing.
  • the anatase T i ⁇ particles 32 sinter together and join to the molten glaze 36 on the surface of the tile substrate 34, and after cooling Forms a strong thin film 38.
  • the light source used for photoexcitation of the photocatalyst and for indoor lighting can be selected from various commercially available general lighting lamps depending on the required visible light intensity and ultraviolet light intensity.
  • FIGS. 7A to 7D show the spectrum distributions of conventional black light blue (BLB) fluorescent light, blue fluorescent light, pink fluorescent light, and white fluorescent light which can be used in the present invention. Both types of fluorescent light have mercury emission line spectra at wavelengths of 3 1 3 nm and 3
  • UV light contains a very small amount of UV light of 65 rim. However, there is no or almost no ultraviolet light below 300 nm which is harmful to the human body.
  • Ultraviolet light with wavelengths of 3 13 nm and 365 nm is anatase band gap energy (wavelength of about 38
  • BLB fluorescent lamps emit a large amount of ultraviolet light having a main wavelength of 352 nm, they can be suitably used when it is desired to increase the ultraviolet light intensity.
  • Pink fluorescent lamps and white fluorescent lamps have low UV intensity, so they are suitable for indoor lighting when you want to increase the visible light intensity.
  • Blue fluorescent lamps contain significant amounts of anatase bandgear's high energy ultraviolet light. Each type of fluorescent lamp may be used alone or in combination with another type of fluorescent lamp or electric lamp.
  • the distance between the illuminating device and the photocatalytic thin film and the number of pits of the illuminating device are such that the bandgear of the photocatalyst is less than the illuminance of ultra-high energy ultraviolet light.
  • ⁇ 0 1 to 1 mWZ cm preferably 0. 0 1 to 0.1 mWZc m : Set to be : Considering the ultraviolet energy of sunlight entering the room during the day, the intensity of the indoor lighting lamp for photocatalyst excitation can be set.
  • the surface hydroxyl ions are oxidized by the red-sox effect of the generated electrons and holes to form OH radicals ( Is reduced to a superoxide 'ion (0 2 —).
  • OH radicals Is reduced to a superoxide 'ion (0 2 —).
  • Bacteria such as Escherichia coli and Pseudomonas aeruginosa staphylococci are thought to die when proteins that form cell membranes are chemically degraded by these active species and the cell membrane is physically destroyed. .
  • Ti0 sol from Taki Chemical Co., Ltd. is spray-coated on an alumina substrate (about lOXlOcra) with a purity of about 96% made by Nippon Carbide Co., Ltd., and baked at a temperature of 780 ° C to a thickness of about 1 m.
  • alumina substrate about lOXlOcra
  • a tile on which an anatase-type Ti 2 thin film was formed was fabricated.
  • T i 0 2 thin film porosity is about 40%, the specific surface area was 17.5 m 2 / a.
  • this tile 40 is placed in a desiccator 42 made of quartz glass capable of transmitting ultraviolet light and having a capacity of 11 and is excited by various light sources with ultraviolet light having different illuminances, thereby producing odorous substances.
  • CH 3 SH methyl mercatan
  • the ability to degrade methyl mercatan (CH 3 SH) was tested. Approximately 0.5 or 2 of nitrogen gas containing 100 ppm of methyl mercaptan was injected into the desiccator for each run. The methylmer solution concentration in the desiccator was about 3-5 Ppm or about 20 Ppm.
  • 2 OW pink fluorescent light (Toshiba, FL20SPK)
  • 2 OW white fluorescent light (Toshiba, FL20S (0, 20 W, blue fluorescent light (Toshiba, FL20SB), 4 W BLB fluorescent light) (Manufactured by Sankyo Electric Co., Ltd., FL4BLB)
  • the UV illuminance in the wavelength band of 300 to 390 nm was 8 W / cm : , 1 l WZcm :, 48 / WZcm 2 , and 295 ⁇ WZ cm 2 , respectively.
  • mercury xenon at the UV intensity of 2 ⁇ 20mWZc m 2 is 200W ⁇
  • a lamp (SUNCURE 202, manufactured by Yamashita Denso) was used while changing the illuminance.
  • the gas in the desiccator was sampled periodically, and the methylmercatan concentration was measured by gas chromatography.
  • the inventor calculated the quantum efficiency of the photon absorbed in the photocatalyst. It is not known exactly how many electrons are involved in the decomposition of methyl mercatan, but assuming a 6-electron process,
  • the effective photon density in the powder system is on the order of 10 ", which is an order of magnitude higher than that in the thin film system. This indicates that it is preferable to proceed with the reaction.
  • the optimal UV illumination range is examined. Since a room lined with a thin film of photocatalyst can be considered as a photocatalytic reactor, a model of a cylindrical reactor as shown in Fig. 14 is assumed.
  • H lm
  • the change in the effective photon number based on the change in the radius r of the reactor was calculated based on the effective photon density in the graph of Fig. 13.
  • the results are shown in the graph of FIG. As can be seen from this graph, the number of effective photons (which represents the reaction yield S of the entire reactor) decreases as the illuminance becomes excessive.
  • Graph of Figure 15 is the most efficient ultraviolet intensity range for obtaining a high reactor reaction yields 0.001 ⁇ l mWZcm 2, preferably, it indicates that it is 0.01 ⁇ 0.1 mW Zc m 2.
  • Experimental example 2 The bactericidal effect against Escherichia coli (strain # 110) was tested using a tile on which an anatase-type T i ⁇ thin film was formed in the same manner as in Experimental Example 1. The culture was shake-cultured overnight and centrifugally washed. The bacterial solution was diluted 10,000-fold with sterile distilled water to obtain a bacterial solution, and 0.15 m (1 to 5 ⁇ 10 4 CFU) of bacterial solution was dropped on a photocatalytic tile previously sterilized with 70% ethanol.
  • the bacterial solution of the irradiated sample and the sample maintained under light-shielding conditions were wiped off with sterile gauze and recovered in 10 m of physiological saline.
  • the collected bacterial solution was applied to a normal agar medium (Nissui Pharmaceutical) or a desoxycholate medium (Nissui Pharmaceutical), and cultured at 37 for 1 day.
  • the number of Escherichia coli colonies on the medium was measured, and the bacterial count (CFU) was determined.
  • the viability of E. coli was determined from the ratio of the number of bacteria in the irradiated sample to the number of bacteria in the sample maintained under light-shielded conditions.
  • the results are shown in the graph of FIG.
  • the graph 0 .8 ⁇ WZc m coli for 4 hours at a weak UV intensity of 2 has been shown to be reduced by a factor of about 1 0 minutes, that the photocatalyst has a practically sufficient sterilizing effect Is shown.
  • the sterilization rate per tile was calculated for each different illuminance.
  • the results are shown in the graph of FIG. From this graph, it can be seen that the sterilization rate reaches a steady state as the UV illuminance increases.
  • the sterilization efficiency per photon was calculated for different illuminances according to the following equation.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

明 細 書 室内照明下における光触媒による空気処理方法 技術分野
本発明は、 細菌や物質で汚染された屋内環境を光触媒によって処理する方法に 関する。
背景技術
住宅やオフィスのような居住空間には、 硫化水素ゃメチルメルカァタンのよう な硫黄化合物、 アンモニアのような窒素化合物、 脂肪眩、 その他の悪臭物質が浮 遊している。 快適な居住空間を実現するため、 汚染された空気を処理してこれら の悪臭物質を除去することが望ましい。 また、 医療環境においては、 抗生物質の 使用に伴い抗生物質に対する対抗性を持った細菌が発生し、 例えば、 メチシリン 耐性黄色ブドウ球菌 （MRS A ) による院内感染は深刻な問題を惹き起している。 細菌や物質で汚染された環境を処理するため、 半導体光触媒を利用することが 注目されている。
本発明の発明者の一人とその共同研究者によって、 二酸化チタン （T i 0 2 ) のルチル型単結晶からなる半導体の電極と白金の対極とを用いた光電気化学セル における水の光電解プロセス （本多 ·藤嶋効果として知られている） についての 研究 （Nature vo l . 238 ( 1 972 ) . 37 - 38 ) が発表されて以来、 半導体光触媒によ る各種媒体の処理について多くの研究がなされて来た。
光電気化学セルにおける光触媒プロセスの原理を第 1 IIに基づいて簡単に説明 するに、 半導体光触媒に光が照射され、 半導体がそのバンドギャップ .ェネルギ ( E s ) より高い光エネルギ （ h レ 〉 を吸収すると、 価電子帯の電子は伝導帯に 光励起され、 半導体の表面層には電子 · 正孔対 （ e -— h + ) が生成する。
レ ― e— + h '
生成した電子と正孔が水の光電解プロセスに寄与するためには、 夫々が互いに 離れた酸化サイ トおよび還元サイ トに導かれなければならない （電荷分離） 。 さ もないと、 電子と正孔は再結合し、 酸化還元反応に貢献することなく熟エネルギ に変わる。
半導体と電解液とが接触する光電気化学セルにおいては、 電荷分離は次のよう に行われる。 即ち、 半導体と電解液とを接触させると、 両相のフェルミ ■ レベル が等しくなるまで電荷が移動する。 電荷移動の結果、 丁 1〇2のょぅな11型半導 体の場合には半導体の表面は正に帯電し、 その電界により半導体の表面近傍の空 間電荷層には第 1図に示したようにバンドの曲がりが生じる。 伝導蒂の電子と価 電子帯の正孔はバンドの曲がりにより電荷分離し、 電子 e—はバルクに移動し、 正孔 h 'は半導体表面に移動する。 表面に移動した正孔 h+は水を酸化して酸素を 発生し、
2 h * + H 2〇 一 ½ 0： ÷ 2 H +
導線を介して金属対極に移動した電子 e-は水を還元して水素を発生する。
2 e - + 2 H + ― H:
光電気化学セルにおける水の光電解の発表の後、 A. J. Bardは、 単結晶半導体 の電極からなる光電気化学セルでけでなく、 白金でメタライズされた T i 02粉 末も光電気化学セルとして作用することを報告している （Journal of Photochem istry. 10 ( 1979). 59-75 ) 。 A. J. Bardはメタライズされた T i 〇2粉末は短絡 された光電気化学セルを楕成すると考えている。
その後、 無垢の T i 02粉末も光触媒作用を呈することが知られ、 T i 02粉末 系におけるアンモニア、 カルボン酸、 フヱノール、 その他の化合物の光分解につ いての多くの研究がなされた （例えば、 H. awaguchi . Environmental Technolo gy Letters. Vol . 5、 PP 471-474) 。
光触媒による化合物の光分解は、 光励起により生成した正孔 h *と電子 e -が表 面水酸基および表面酸素を夫々酸化還元して〇Hラジカル （ ·ΟΗ ) およびスー パーォキサイ ド · イオン （〇2—) を生成し、
OH' + h' — ·〇Η 0 2 + e— — 〇Γ
高い活性をもったこれらの活性種が化合物のレドックス反応をもたらすものと考 えられている。 化合物の光分解は多電子プロセスであり、 化合物種は複数の中間 生成物を経て最終生成物になる。
従来技術においては、 光触媒を光励起して光触媒プロセスを誘起するには、 高 い光エネルギの紫外線を、 しかも、 出来るだけ強い強度で照射するのが好ましい、 と考えられていた。 例えば、 特開平 2 - 2808 1 8号には、 光触媒を励起して空気を脱 臭するにあたり、 波長 2 5 0 n mで紫外線強度が 2 m W / c m 2以上の紫外線を 光触媒に照射することが提案されている。 また、 特開昭 63 - 267876号には、 殺菌 ランァから放射される波長 2 5 0 n mの紫外線を光触媒に照射するようになった 脱臭装置が開示されている。 波長 2 5 0 n mの紫外線は人体に有害であり、 照射 下では防護眼鏡を着用する必要があるので、 このような照射方法は居住空間には そのま 、適用することはできない。 従って、 光源を居住空間から遮蔽しなければ ならない。 また、 紫外線強度を強くするためには、 光源を十分に光触媒に接近さ せねばならないので、 照射面積が制限される。 さらに、 波長 2 5 0 n mの紫外線 を透過可能な石英ガラスで形成された高価な殺菌ランプが必要となる。
特開平 4- 307066号には、 光触媒を備えたパネルに波長 4 1 0 n m以下の紫外線 を照射するようになった脱臭装置が開示されている。 この装置においても、 紫外 線強度が高いので、 室内から光源を遮蔽するように設計されている。 このため、 病室の内壁のように人々が接触するおそれのある場所の殺菌に適用することがで きない。 また、 光触媒を照射するための専用の光源を別途設置しなければならな い。 発明の開示
本発明の目的は、 細菌や粒子状或いは揮発性の浮遊物質で汚染された室内環境 を処理することが可能で、 人体に有害な光源を用いることなく実施することの可 能な光触媒式処理方法を提供することである。 本発明の他の目的は、 病室のような居住空間の内壁を効果的に殺菌するに適し た光触媒式処理方法を提供することである。
本発明の更に他の目的は、 光触媒を励起するための専用の光源を必要としない 光触媒式処理方法を提供することである。
本発明の他の目的は、 最小限の消費電力で所望の光触媒作用を発揮させること の可能な光触媒式処理方法を提供することである。
本発明の他の目的は、 部屋の日常の使用や外観や装飾に支降を来すことのない 光触媒式処理方法を提供することである。
本発明は、 細菌や粒子状物質や揮発物質で汚染された屋内環境や空気を光触媒 作用により処理する方法を提供するものである。
本発明の光触媒式処理方法の第 1の特徴は、 固体半導体材料からなる薄膜の形 の光触媒を屋内空間の内壁の少なくとも一部に設け、 内壁自体を光触媒作用の反 応面として利用したことである。 光励起された光触媒の薄膜に細菌や浮遊物質が 接触すると、 それらはその場 （ i n s i tu ) で光分解される。
このように屋内空間の内壁を光触媒の薄膜で内張りし、 內壁面自体を反応面と して作用させるようにしたので、 光触媒の薄膜は室内に露出することになる。 こ れは、 本発明の処理方法を殺菌の目的に応用する場合には特に有利である。 即ち、 光触媒の薄膜で内張りされた壁面に付着した細菌は光触媒作用によりその場で死 滅するので、 壁面接触による細菌感染が防止される。
また、 光触媒の薄膜で内張りされた部屋は、 それ自体、 一種の光触媒リアクタ として作用する。 従って、 光触媒分解に必要な限りの広い面積の光触媒反応面を 確保することができ、 十分な置の光触媒反応を生起させることができる。 さらに、 薄膜系では、 懸濁粒子系の場合のように流通装置や撹拌装置を備えた反応容器を 別途設置することを要しないので、 光触媒の薄膜を屋内空間の内壁に容易に設置 することができる。
本発明の処理方法の第 2の特徴は、 室内に設置された蛍光灯のような一般照明 用の電灯を利用して光触媒を励起することである。 このため、 光触媒の薄膜は一 般照明用電灯の照射領域内に配置される。 市販の一般照明用電灯は、 本来、 3 0 0 n m以下の波長の有害な紫外線を力ッ卜するべく設計されているので、 安全か つ無害である。 例えば、 蛍光灯のような一般照明用の低圧水銀灯は、 放電により 励起された水銀が放射する波長約 2 5 4 n mの有害な紫外線を蛍光物質のフォト ルミネセンスにより可視光に変換するようになっている。 しかしながら、 蛍光灯 のような一般照明用電灯から放射される光には、 半導体光触媒のバンドギャップ - エネルギょり高いエネルギの波長帯域の少なくとも微量の紫外線が含まれている ので、 室内照明の目的に加えて、 光触媒を光励起するという目的に利用すること ができる。
このように、 光触媒は一般照明用電灯からなる光源によって光励起されるので、 光触媒を励起するための専用の紫外線光源を別途設ける必要がない。 この光源は 室內照明と光触媒励起の双方のために有効に利用される。 また、 一般照明用電灯 の光は有害な紫外線を含まないので、 従来技術のように居住領域を光源から遮蔽 する必要がない。 従って、 前述したように殺菌の目的のために光触媒の薄膜を室 内に露出させることができ、 人々が接触するおそれのある如何なる場所の壁面に も光触媒薄膜を配置することができる。
本発明の第 3の特徴は、 半導体光触媒に吸収される光エネルギの量子収量 （光 触媒に吸収されたフォトン数と光電化学反応を起した分子数との比） に閲連する ものである。 本発明によれば、 一般照明用電灯のワット数、 ならびに、 薄膜と電 灯との間の距離は、 半導体光触媒に入射するバンドギャップ .エネルギ以上の紫 外線の合計照度が 0 . 0 0 1〜 1 m W/ c m 好ましくは、 0 . 0 1〜0 . 1 m W ,/ c m 2になるように設定される。
この特徴は、 薄膜の形の光触媒を用いた固相/気相接触の反応系においては、 紫外線照度が小さくなるほど光エネルギの置子収量が高くなるという発見に基づ くものである。 即ち、 より詳しくは図面に基づいて後述するように、 本発明者が 試験したところ、 薄膜系においては、 光触媒に吸収された光エネルギの量子効率 は紫外線照度が小さくなるにつれて増加することが発見された。 その理由は必ず 一ウー しも明らかではないが、 おそらくは次のように説明することができよう。 即ち、 光触媒による物質の分解は多電子プロセスであり、 分解速度は律速段階によって 支配される。 表面積の大きい粉末系とは異なり、 薄膜系は表面積が小さいので、 光励起により生成した電子と正孔がその寿命内に薄膜表面の反応サイ トに到達す る確率が小さい。 このため、 薄膜系における光分解プロセスは律速段階による制 限を非常に受けやすい。 光電気化学反応の律速段階が定常状態に達すると、 光触 媒の励起により生成された過剰な電子と正孔とは半導体表面の反応サイ トにおい て酸化還元反応を誘起する前に再結合し、 熱に変換されるであろう。 このような 理由から、 紫外線照度 （フォトン密度） が小さい程、 各フォトンの量子効率が良 くなるものと考えられる。
このように、 本発明の方法では薄膜の形の光触媒が使用され、 薄膜状の光触媒 は紫外線強度が小さいほど高い量子収量を呈するので、 光触媒薄膜を光励起する ために蛍光灯のような紫外線強度の小さな一般照明用電灯を有利に使用すること ができる。
ところで、 前述したように、 光触媒の薄膜が内張りされた照射された部屋は、 内壁が光触媒反応面となったバ、'/チ式の光触媒反応容器であると考えることがで きる。 所与の出力の光源について反応容器のサイズと反応面の総面積と照度の鬨 係を検討するに、 容器サイズを大きくすることにより光源と光触媒反応面との間 の距離が大きくなれば、 光触媒薄膜の設置に利用できる壁面の総面積は距離に比 例して増加するが、 薄膜の単位面積当たりの照度は距離の二乗に反比例して減少 すると考えることができる。 反対に、 反応容器のサイズを小さくすれば、 反応面 の面積は減少するが、 照度は距離の二乗に反比例して増加すると考えられる。 電 子と正孔との再結合を誘起することなく光触媒プロセスに有効に寄与するフォト ンの数は、 ft子収量と照度 （フォトン密度） と薄膜面積との積に比例する。 光触 媒薄膜に吸収された光エネルギの量子効率は照度の低下に伴い増加するという本 発明者の発見に従えば、 狭い面積の光触媒薄膜に強い紫外線エネルギを照射する よりも、 むしろ広い面積の薄膜に微弱な紫外線を照射する方が反応容器全体の反 応収 ftが高くなる。 しかしながら、 照度は距離の二乗に反比例して減少するので、 光源と光触媒との間の距離を余りに大きくすれば、 反応容器全体の反応収量は減 少する。 紫外線照度が 0.001〜 1 mW/c m2になるように光源のヮット数お よび薄膜と光源との間の距離を設定することにより、 光触媒反応容器としての部 屋全体の光触媒反応収量を最大にすることができる。
紫外線照度が 1 mW/c m2以上になるように光源の出力および距離を設定し た場合には、 電子と正孔の再結合の確率が増加するので、 光触媒励起効率から見 れば電力が無駄となり、 また、 可視光線の照度と発熱が過剰となる。 照度を〇 .
〇 0 1 mWZc m2以下にすれば、 部屋全体の分解収量が不足するであろう。
このように、 薄膜系においては、 紫外線強度のむしろ小さな光源を使用する方 が高い効率が実現される。 従って、 本発明によれば、 蛍光灯のような一般照明用 電灯が放射する微弱な紫外線エネルギによって光触媒が効果的に光励起され、 最 小限の電力で効率良く光触媒反応が誘起される。
光触媒の薄膜は好ましくは二酸化チタン （T i 02) の粉末を用いて形成する。 T i 02は、 人体にとって無害無毒で化学的に安定した材料であり、 しかも物質 の酸化還元に好適なバンド特性と高い光触媒活性を有する。 T i 02はアナター ゼ型のものが好ましいが、 銅、 銀、 白金、 その他の金属でメタライズされたルチ ル型 T i〇 2を使用しても良い。 また、 WO^ C d S、 S rT i 03、 Mo S2の ような半導体で光触媒薄膜を形成することも可能である。
T i 0:光触媒の薄膜はタイルのようなセラミック基板に担持させることがで きる。 この場合には、 釉薬付きのタイルに T i 02ゾルを塗布し、 釉薬の軟化点 以上の温度で焼成すれば、 丁 i 02粉末は焼結すると共に釉薬に接合し、 耐摩耗 性に優れた強固な T i〇2の焼結薄膜が得られる。 このように T i 02薄膜を担持 したタイルは、 容易に部屋の内壁に取付けることができる。 薄膜の厚さは 0.3 〜1 O mにするのが好ましい。 膜厚をこれより厚くすれば、 焼成時の収縮によ り膜強度が低下し、 剥離しやすくなる。 膜厚を 0.3 mより薄くすれは'、 光触 媒活性が不十分となる。 光触媒の薄膜は、 また、 T i 0 2粉末を水ガラスやアルコキサイ ドなどの無機 バインダーや弗素樹脂などの有機バインダーによってセラミック、 木材、 金属、 プラスチック、 その他の素材からなる基板に固定することもできる。
光触媒薄膜を光励起するための光源は、 所望の可視光線強度と紫外線強度に応 じて市販の各種の一般照明用電灯の中から選択することができる。 低照度の紫外 線で光触媒薄膜を光励起するには、 白色蛍光灯や桃色蛍光灯や白熟ランプが適し ている。 青色蛍光灯を利用すれば、 より強い紫外線が得られる。 紫外線強度をさ らに増強したい場合には、 3 5 0〜3 6 0 n mの主波長を有するブラックライ ト 蛍光灯やブラックライ ト · ブルー蛍光灯を使用することができる。 可視光線強度 を増強したい場合には、 メタルハラィ ド · ランプなどの高輝度ランプ （ H I D ) を使用することができる。
本発明の光触媒による処理方法は、 病院の病室や手術室のような医療施設の殺 菌および抗菌処理、 住宅やオフィスのような生活空間の抗菌処理や脱臭、 食品処 理工場や料理仕出し工場の殺菌や抗菌処理、 トイレツ卜の床や台所の汚損防止に 適用することができる。
本発明の上記原理や特徴並びに他の特徴は添付図面を参照にした以下の記載に 従いさらに明らかになろう。 図面の簡単な説明
第 1図は半導体光触媒の原理を示す模式図；
第 2図から第 5図は照明用光源と光触媒の種々のレイアウトを示す； 第 6図は光触媒の薄膜が形成されたタィルの一部を顕微鏡的スケールで拡大し た断面図：
第 7 A図から第 7 D図は市販の種々の蛍光灯のスぺクトル分布を示す； 第 8図は実験例で用いた装置の模式的断面図；
第 9図は光分解によるメチルメルカァタンの潢度変化を示すグラフ ； 第 1 0図は異なる紫外線強度におけるメチルメルカァタンの分解速度を示すグ ラフで、 横軸は対数目盛りで示してある ；
第 1 1 11は異なる紫外線強度におけるフオ トンの量子効率を示すグラフで、 同 様に横軸は対数目盛りで示してある ；
第 1 2図は第 1 1図同様のグラフで、 第 1 1図の横軸の紫外線強度をフォトン 密度に換算して示したもの；
第 1 3図は異なる紫外線強度における有効フォ トン密度を示すグラフで、 同様 に横軸は対数目盛りで示してある ；
第 1 4図はリアクタのモデルを示す模式図；
第 1 5図は第 1 4図のモデルにおいてリアクタの半径を変えた場合の有効フォ トン数の変化を示すグラフ ：
第 1 6図は第 1 4図のモデルにおいて光源のヮット数を変えた場合の照明効率 と有効フォトン数の変化を示すグラフ ；
第 1 7図は第1 6図のグラフに示した照明効率と有効フォトン数の積の変化を 示すグラフ ；
第 1 8図は光分解による大腸菌の生存率を示すグラフ ；
第 1 9図は異なる紫外線強度における大腸菌の殺菌速度を示すグラフで、 横軸 は対数目盛りで示してある ；
第 2 0図は異なる紫外線強度における大腸菌の殺菌効率を示すグラフで、 横軸 は同様に対数目盛りで示してある ：
第 2 1図は第 1 4図のモデルにおいてリアクタの半径を変えた場合の殺菌能力 の変ヒを示すグラフである。 発明を実施するための最良の形態
第 2図から第 5図には、 照明用光源および光触媒の種々のレイアウトが例示し てある。 第 2図のレイアウトにおいては、 部屋の側壁 1 0には光触媒の薄膜を担 持したパネル 1 2が配置してあり、 天井 1 4には市販の室内照明用蛍光灯 1 6が 設置してあって、 光触媒パネル 1 2を照射して光触媒を励起することにより室内 の空気を脱臭したり側壁を抗菌処理するようになっている。
第 3図は、 光触媒を一様な照度で照射するようになったレイアウトを示す。 こ のレイアウトでは、 部屋の一方の側壁 1 8には蛍光灯 （図示せず） を内葳した 3 セッ 卜の照明具 2◦ A— 2 0 Cが嵌め込んであり、 対向側壁 2 2には光触媒パネ ル （図示せず〉 が設置されている。 中央の照明具 2 0 Aはほぼ水平に、 上方の照 明具 2 0 Bは天井に沿って、 下方の照明具 2◦ Cは床に沿って夫々指向させてあ る。 第 3 11には、 また、 夫々の照明具により得られる照度分布が点〇、 □、 厶で ァロットしてある。 黒点でァロットしたカーブから分かるように、 このレイァゥ トによれば、 3セットの照明具 2 O A— 2 0 Cによる照度の総和は厠壁に沿って ー樣となる。
第 4図は、 本発明の方法によって病室の側壁および室内空気を殺菌するための レイアウトを示す。 病室の側壁は光触媒の薄膜を担持したタイル 2 4によって被 覆されており、 病室の天井には蛍光灯からなる従来型の照明装置 2 6が配置して ある。
第 5図は、 例えばトイレツトのような汚れやすい環境において悪臭物質や飛散 した汚染物質を分解して環境を清浄化するためのレイアウトを示す。 小便器 2 8 の近傍の側壁および床に張り付けたタイル 3 0は光触媒の薄膜で被覆されており、 従来型の照明具 （図示せず） から紫外線が照射されるようになっている。 小便器 2 8や洋式便器や洗面器などの衛生陶器自体を光触媒の薄膜で被覆し、 それらを 殺菌したり汚れを防止したりすることもできる。
半導体光触媒の薄膜を担持したパネル 1 2および 2 4並びにタイル 3◦は、 従 来型の釉薬付きのタイルに T i 0 2粉末を固定することにより製造することがで きる。 T i〇2粉末としては、 約 3 . 2 e Vのバンドギヤッァ .エネルギを有し、 約 3 8 7 n mより短い波長の紫外線によって光励起することが可能な、 アナター ゼ型 T i 〇2粉末を用いるのが好ましい。 好適なアナターゼ型 T i 02粉末として は、 株式会社多木化学 （兵庫県加古川市） から市販されている T i 0 2ゾル （ 4 %アンモニア水溶液、 平均粒径 1 0 n m ) を使用することができる。 T i〇2の 薄膜は、 予め製作された釉薬付きの従来型のタイルに丁 i〇：ゾルをスプレー塗 布し、 T i 0 2のブルッカイ ト （又はルチル） 変態点よりや、低い約 7 8 CTCの 温度で焼成することにより形成することができる。 この温度で焼成すると、 第 6 図に示したように、 アナターゼ T i 〇：粒子 3 2は互いに焼結すると共に、 タイ ル基材 3 4の表面の熔融した釉薬 3 6に接合し、 冷却後は強固な薄膜 3 8を形成 する。 小便器 2 8などの衛生陶器自体を光触媒の薄膜で被覆する場合も、 同様に、 予め製作された釉薬付きの衛生陶器に丁 i 0 2ゾルをスプレー塗布して焼成する ことができる。
光触媒の光励起および室内照明に使用される光源は、 必要とする可視光光度と 紫外線光度とに応じて市販の種々の一般照明用電灯から選定することができる。 第 7 A図〜第 7 D図に、 本発明に利用可能な従来型のブラックライ ト · ブルー （ B L B ) 蛍光灯、 青色蛍光灯、 桃色蛍光灯、 白色蛍光灯のスペクトル分布を夫々示 す。 いづれの蛍光の光も、 水銀の輝線スペクトルである波長 3 1 3 n mおよび 3
6 5 ri mの微量の紫外線を含んでいることがわかる。 しかしながら、 人体に有害 な 3 0 0 n m以下の紫外線は全く或いは殆ど含まれていない。 波長 3 1 3 n mお よび 3 6 5 n mの紫外線はアナターゼのバンドギヤップ ·エネルギ （波長約 3 8
7 n m ) より高い光エネルギを有するので、 アナタ一ゼ型 T i〇2からなる光触 媒の光励起に利用することができる。 B L B蛍光灯は主波長 3 5 2 n mの紫外線 を多量に放射するので、 紫外線強度を増強したい場合に好適に使用することがで きる。 桃色蛍光灯および白色蛍光灯は、 紫外線強度が小さいので、 室内照明用に 可視光強度を増強したい場合に適している。 青色蛍光灯には、 アナターゼのバン ドギヤッァ 'エネルギょり高いエネルギの紫外線がかなり含まれている。 夫々の 種類の蛍光灯は、 単独で用いてもよいし、 他の種類の蛍光灯や電灯と組み合わせ て用いてもよい。
第 2 1 から第 5図に示した種々のレイアウトを通じて、 照明装置と光触媒薄膜 との間の距離ならびに照明装置のヮット数は、 光触媒のバンドギヤッァ .ェネル ギょり高いエネルギの紫外線の照度が 0 .◦ 0 1〜1 m WZ c m :、 好ましくは 0 . 0 1〜0.1 mWZc m:になるように設定される。 日中に室内に入射する太陽光 線の紫外線エネルギを考慮して光触媒励起用の室内照明電灯の強度を設定するこ ともできる。
光源が点灯され、 光触媒の薄膜 38が紫外線によって光励起されると、 生成し た電子と正孔のレド 'ソクス作用により表面水酸イオンは酸化されて OHラジカル ( ·〇Η ) になり、 表面酸素は還元されてスーパーォキサイ ド ' イオン （ 02—) になる。 これらの種は非常に活性が高いので、 薄膜 38の表面に接触した物質を 分解し、 或いは細菌を死滅させる。 大腸菌や緑膿菌ゃブドウ球菌のような細菌は、 細胞膜を形成するタンパク質がこれらの活性種によって化学的に分解され、 細胞 膜が物理的に破壊されることにより死滅するものと考えられている。
実験例 1
日本カーバイ ド社製の純度約 96%のアルミナ基板 （約 lOXlOcra) に前述した多 木化学社製の T i 0：ゾルをスプレー塗布して 780°Cの温度で焼成し、 約 1 mの 厚さのアナターゼ型 T i〇2薄膜が形成されたタイルを製作した。 T i 02薄膜の 気孔率は約 40%であり、 比表面積は 17.5m2/ であった。
このタイル 40を、 第 8図に示すように、 紫外線透過可能な石英ガラス製の容 積 11 のデシケータ 42内に配置し、 種々の光源により異なる照度の紫外線で光 励起しながら、 悪臭物質であるメチルメルカァタン （CH3SH ) の分解能力を 試験した。 夫々のラン（run)毎に 100 p pmのメチルメルカプタンを含有する窒素 ガス約 0.5 又は 2 をデシケータに注入した。 デシケータ中のメチルメル力 ァタン瑭度は約 3〜5 P p m又は約 20 P p mであった。 デシケータの内又は外 に、 2 OW桃色蛍光灯 （東芝製、 FL20SPK) 、 2 OW白色蛍光灯 （東芝製、 FL20S (0 、 20 W青色蛍光灯 （東芝製、 FL20SB ) 、 4 Wの B L B蛍光灯 （三共電気製、 FL4BLB) を 300〜390 n mの波長帯域の紫外線照度が夫々 8 W/ c m :、 1 l WZcm:、 48/ WZcm2、 295〃 WZ c m 2になるように配置した。 また、 2〜20mWZc m 2の紫外線照度については 200Wの水銀キセノン · ランプ （山下電装製、 SUNCURE 202 ) を照度を変えながら使用した。 定期的にデ シケータ内のガスを採取し、 ガスクロマトグラフでメチルメルカァタン潢度を測 定した。
第 9図のグラフには、 桃色蛍光灯 （紫外線照度 8,"W./c m:) . 青色蛍光灯 ( 4 δ W c m2 ) 、 B LB蛍光灯 （ 295〃 W.Z c m2 ) によって照射した場 合、 および、 紫外線を照射しない場合のメチルメルカァタンの濃度変化を示す。 照射しない場合でも ¾度が減少するのは、 T i〇 2薄膜に物理的に吸着されるこ とによるものであると考えられる。 第 9図のグラフから、 波長 300〜39〇 n mの帯域の紫外線強度が高い程メチルメルカァタンの光分解収量が高いことがわ かる。
夫々のランで測定されたメチルメルカァタンの ¾度変化に基づいて、 メチルメ ルカァタンの分解速度を計算した。 第 10図のグラフにその結果を示す。 このグ ラフから、 紫外線照度が増加するにつれてメチルメル力プタンの分解速度が増加 することがわかる。 しかしながら、 照度が 2 mWZ c m2を超えても、 分解速度 がそれ程増加しないように思われた。 これは照度を増す程反応収量が増加すると いう従来の常識に反することである。
その原因を解析するため、 本発明者は、 光触媒に吸収されたフオ トンの量子効 率を計算した。 メチルメルカァタンの分解に何個の電子が関与しているのかは明 確には知られていないが、 6電子プロセスであると仮定し、 次式により i子効率
(%) を求めた。
分解したメチルメルカプタンの総分子数 ， ， ハ ハ ， n/、 量チ効率 = 光讓が吸収したフオ トン数 ~ X 6 X 1 0 ° ( % ) 計算結果を第 1 1図のグラフにァロッ卜する。 このグラフからわかるように、 紫 外線照度が減少するにつれて量子効率が増加することが発見された。 紫外線照度
8 WZcm2では、 約 36%という非常に高い量子効率が実現されている。 光触媒に吸収されたフォトンのうち、 どの程度が実際にメチルメルカァタンの 分解に有効に利用されたのかを知るため、 先ず毎秒フォ トン密度を計算し、 次に これに基づいて有効フォトン密度 （置子効率と毎秒フォトン密度との積であり、 実際に光分解に寄与した単位面積当たりのフォ トン数を表す） を計算した。 第 1 2図のグラフは、 第 1 1図のグラフの横軸の紫外線照度を毎秒フォ トン密度に換 算してプロッ トしたものであり、 第 1 3図のグラフは、 有効フォトン密度を照度 に応じてプロッ 卜したものである。 第 1 3図のグラフは、 アナターゼ型 T i 02 の薄膜からなる光触媒においては、 照度が 2 mWZc m2になると有効フオ トン 密度は最大値 4 X 1 013 (フオ トン Zc m2 ·秒） に達し、 それ以上照度を増強 しても生成した過剰な電子と正孔はメチルメルカァタンの分解に寄与することな く再結合することを示している。
粉末系と比較するため、 アナターゼ型 T i〇2粉末を堆積させたセラミック基 板をデシケータ 4 2内に配置し、 3〜5 P p mのメチルメルカァタンを含有する 窒素ガスを流通させながらメチルメルカァタンの光分解を試験したところ、 次表 に示すような結果が得られた。 光 源 紫外線強度 量子効率 有効フォ トン密度
( uW / c m2 ) { % ) (個 Z秒 · c m2 ) 白色蛍光灯 5 1 .4 24 .4 2.3 X 1 01 4
B L B蛍光灯 1 6 9 0 1 .7 5.3 x 1 01 4
この表から分かるように、 粉末系においては有効フォトン密度は 1 0 "のォ一 ダーであり、 薄膜系に較べて 1桁高い数値を示す。 これは、 粉末系においては高 い紫外線強度で光触媒反応を進めるのが好ましいことを示している。
次に、 第 1 3図のグラフに示した有効フォ トン密度に基づいて最適の紫外線照 度範囲を検討する。 光触媒の薄膜で内張りされた部屋は光触媒リアクタであると 考えることができるので、 第 1 4図に示したような円筒形のリアクタのモデルを 想定する。 リアクタは半径 rおよび高さ H ( H = l m ) を有し、 中央には光源が 配置され、 円筒形内壁に光触媒が配置されるものとする。 光源の出力を一定とし、 リアクタの半径 rを変えれば、 光触媒薄膜の表面積は半径に比例して増加するが、 紫外線照度はほぼ距離の二乗に反比例して減少するであろう。 リアクタ全体の光 触媒反応に実際に寄与する有効フォトン数は有効フォトン密度と薄膜表面積との 積であり （有効フオ トン数 =有効フォ トン密度 X薄膜表面積） 、 有効フォ トン密 度は第 13図のグラフに示したように照度に応じて変化する。 光源として 40W の B L B蛍光灯 2本を使用すると仮定し、 リアクタの半径 rの変化に基づく有効 フォトン数の変動を第 1 3図のグラフの有効フォトン密度に基づいて計算した。 その結果を第 1 5図のグラフに示す。 このグラフから分かるように、 照度が過剰 になれば有効フォトン数 （これはリアクタ全体としての反応収 Sを表す） は減少 する。 これは、 照度の増加に応じてフオ トンの置子効率が低下することに起因し ている。 第 15図のグラフは、 高いリアクタ反応収量を得る上で最も効率の高い 紫外線強度範囲は 0.001〜l mWZcm2、 好ましくは、 0.01〜0.1 mW Zc m2であることを示している。
次に、 第 14図のモデルにおける反応収量と消費電力との閬係を検討する。 第 14図のモデルにおいて半径 rを 1 mとし、 光源蛍光灯のヮット数を変えるもの と仮定し、 蛍光灯の照明効率を次式により計算した。 昭明効率 = 有 n効rwフノォ卜 ' ンノ数
蛍光灯の消費電力
その結果を第 16図のグラフにカーブ Aで示す。 このカーブから分かるように、 蛍光灯 1ヮット当たりの有効フォ卜ン数は照度の増大に伴い低下する。 また、 第 16図には、 有効フォトン数をカーブ Bで示してある。 照明効率と有効フォ トン 数との積を求め、 第 17図のグラフに示した。 第 17図の特性は第 15図の特性 にほぼ一致するもので、 最小の電力で最大のリアクタ反応収置を得るには、 照度 は 0.001〜： L mWZ cm2、 好ましくは、 0.01〜0.1 mW/c m2に選定 するのがよいことを示している。
実験例 2 実験例 1に用いたのと同様のアナターゼ型 T i 〇 薄膜が形成されたタイルを 用いて大腸菌 （Escherichia coli (Π110株） に対する殺菌効果を試験した。 一夜 振盪培養した培養液を遠心洗浄し、 滅菌蒸留水で 1万倍に希釈して菌液とした。 予め 70%エタノ一/しで殺菌した光触媒タイルに菌液 0.15m （ 1〜5 X 104CFU ) を滴下し、 ガラス板 （ 10 X 10 c m ) を載せてタイルに密着させ、 試料とした。 夫々のランには 2つの試料を用い、 一方の試料には異なる照度で光を照射し、 他方の試料は比較のため遮光条件下に維持した。 照明は 300〜390 n mの紫外線照 度が、 夫々、 0.8 ΛΙ W./ c m:、 1 .7 j W / c m2、 2 .7 WZ c m:、 1 3〃 W./ c m:. 350 iW/ c m: . 1 0 mW /c m:. 2 0 m W./ c m 2になるように 設定した。 1 3 WZ c m2以下の照射には 2 0 W白色蛍光灯 （東芝製、 FL20SW) を、 0 W./ c m:の照射には 2 0Wの B L B蛍光灯 （三共電気製、 FL20BLB〉 を、 1 0 ^/0： ：以上の照射には200 水銀キセノン · ランプ （山下電装製、 SUNCURE 202 ) を使用した。
所定時間照射した後、 照射した試料と遮光条件下に維持した試料の菌液を滅菌 ガーゼで拭い取って生理食塩水 1 0 m に回収した。 回収した菌液を普通寒天培 地 （日水製薬） 又はデソキシコレート培地 （日水製薬） に塗布した後、 3 7 で 1日間培養した。 培地上の大腸菌集落数を計測し、 菌数 （CFU) を求めた。 照射 した試料の菌数と遮光条件下に維持した試料の菌数の比から、 大腸菌の生存率を 求めた。 その結果を第 1 8図のグラフに示す。 このグラフは、 0 .8〃WZc m2 という微弱な紫外線照度でも 4時間で大腸菌が約 1 0分の 1に減少することを示 しており、 光触媒が実用上十分な殺菌能力を有することを示している。
次に、 得られたデータからタイル 1枚当たりの殺菌速度を異なる照度毎に計算 した。 結果を第 1 9図のグラフに示す。 このグラフから、 紫外線照度の増加に伴 い殺菌速度が定常状態に達することがわかる。 さらに、 異なる照度について、 次 式に従いフォトン当たりの殺菌効率を求めた。
光照射により死滅した大腸菌数
殺菌効率 =
光触媒が吸収したフォ トン数 第 2 O i のグラフに結果を示す。 このグラフは、 メチルメルカァタンの光分解の 量子収量を示す第 1 1図のグラフにほぼ一致するもので、 紫外線照度が小さくな るほどフォ トン当たりの死滅菌数が増大することを示している。
次に、 得られた殺菌効率に基づいて、 第 1 4図のモデルにおいて光源の出力を 一定 （ 4 0 W白色蛍光灯 2本） としリアクタの半径 rを変えた場合のリアクタ全 体の毎秒死滅菌数を計算した。 その結果を第 2 1図に示す。 このグラフから、 紫 外線照度◦ . 0 1〜0 . 1 m W / c m 2の領域およびその近傍で、 リアクタの高い 殺菌能力が得られることがわかる。

Claims

請求の範囲
1 . 屋内空間内の汚染空気を光触媒により処理する方法であって ：
a ) 前記空間を照明するべく少なくとも 1つの電灯を配置すること、
b ) 前記空間の内側表面の少なくとも一部に、 固体半導体材料からなる光触媒 の薄膜を、 前記電灯に対し受光閲係で設けること、
但し、 前記電灯は実質的に 3 0 0 n m以上の波長の光を放射するべく適合され た一般照明用の電灯であり、 前記電灯は 3 0 0 n mと前記半導体材科のバンドギヤ ッァ ·エネルギに対応する波長との間の波長帯域内の少なくとも微量の紫外線を 放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 前記電 灯の点灯時に前記薄膜に入射する前記波長帯域内の紫外線の合計照度が 0 . 0 0 1〜： L m W/ c m 2になるように選定され、
c ) 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起すること、
からなる空気処理方法。
2 . 前記半導体材料ほ二酸化チタンであり、 前記薄膜は二酸化チタンの粉末を焼 結してなる請求項 1に基づく方法。
3 . 前記薄膜は前記空間の内側表面に付着させたセラミック基板に担持されてい る請求項 2に基づく方法。
4 . 前記セラミック基板は釉薬が施されたタイルであり、 二酸化チタンの粉末は 釉薬に接合している請求項 3に基づく方法。
5 . 前記光触媒の薄膜は二酸化チタンの粉末をバインダ一により基板に固定して なる請求項 1に基づく方法。
6 . 前記薄膜の厚さは◦ . 3〜 1 ◦〃mである請求項 1から 5のいづれかに基づ く方法。
7 . 前記半導体材料はアナターゼ型ニ酸化チタンである請求項 1から 6のいづれ かに基づく方法。
8 . 前記半導体材料はメタライズされたルチル型二酸化チタンである請求項 1か ら 6のいづれかに基づく方法。
9 . 前記合計照度は 0 . 1〜0 ·◦ 1 m WZ c m 2である請求項 1から 8のいづれ かに基づく方法。
1 0 . 前記電灯は、 波長約 3 1 3 n mおよび約 3 6 5 n mの紫外線を含む光を放 射する低圧水銀蛍光灯である請求項 1から 9のいづれかに基づく方法。
1 1 . 前記電灯は、 主波長 3 5 0〜3 6 0 n mの紫外線を放射する低圧水銀蛍光 灯である請求項 1から 9のいづれかに基づく方法。
1 2 . 前記電灯は、 高輝度放電ランプである請求項 1から 9のいづれかに基づく 方法。
1 3 . 前記高輝度放電ランァは、 メタル · ハライ ド · ランァである請求項 1 2に 基づく方法。
1 4 . 前記電灯は、 白熟電球である請求項 1から 9のいづれかに基づく方法。
1 5. 細菌が浮遊する壁付きの環境を光触媒により殺菌する方法であって ： 前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、
前記薄膜に対して光照射閲係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 300 nm以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 300〜 390 n mの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 300
〜390 nmの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0.00
1〜 1 mW/c m2になるように選定することを特徴とする方法。
1 6. 細菌で汚染された医療施設内の空気を光触媒で殺菌する方法であって ： 前記医療施設の内厠表面の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる 光触媒薄膜で被覆し、
前記薄膜に対して光照射鬨係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 300 nm以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 300〜390 nmの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 300
〜390 nmの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0.00
1〜1 mWZ cm2になるように選定することを特徴とする方法。
1 7. 壁を備えた居住環境を光触媒により抗菌処理する方法であって ：
前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、 前記薄膜に対して光照射閲係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 3 0 0 n m以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 3 0 0〜3 9 0 n mの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 3 0 0 〜 3 9 0 n mの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0 .〇 0 1〜 1 m WZ c τη 2になるように選定することを特徴とする方法。
1 8 . 壁を備えた食品処理環境を光触媒により抗菌処理する方法であって ： 前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、
前記薄膜に対して光照射閲係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 3 0 0 n m以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 3 0 0〜3 9 0 n mの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記！？膜と前記電灯との間の距離は、 3 0 0
〜3 9 0 n mの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0 . 0 0
1〜 1 m WZ c m 2になるように選定することを特徴とする方法。
1 9 . 壁を備えた居住環境内の汚染された空気を光触媒により脱臭する方法であつ て ：
前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、
前記薄膜に対して光照射鬨係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、 前記電灯は実質的に 300 nm以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 300〜390 nmの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 300 〜390 nmの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0.〇〇 1〜1 mWZcm2になるように選定することを特徴とする方法。
2〇 . 壁を備えた居住環境内の浮遊汚染物質を光触媒により分解する方法であつ 前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、
前記薄膜に対して光照射開係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 300 nm以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 300〜390 nmの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 300
〜390 nmの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が 0.00
1〜 1 mWZc m2になるように選定することを特徴とする方法。
21. 屋内空間の壁を汚損する堆積物を光触媒により分解する方法であって ： 前記壁の少なくとも 1部を二酸化チタン粉末を焼結してなる光触媒薄膜で内張 りし、
前記薄膜に対して光照射閲係で少なくとも 1つの一般照明用電灯を配置し、 前記電灯を点灯して光触媒の前記薄膜を光励起することからなり、
前記電灯は実質的に 300 nm以上の波長の光を放射するべく適合された一般 照明用の電灯であり、 前記電灯は 300〜390 nmの波長帯域内の少なくとも 微量の紫外線を放射可能であり、
前記電灯のワット数、 ならびに、 前記薄膜と前記電灯との間の距離は、 300 〜390 nmの波長帯域内の紫外線の薄膜単位面積当たりの合計照度が◦ .0〇 1〜 1 mW/c m2になるように選定することを特徴とする方法。
22. 衛生陶器の表面の少なくとも 1部に二酸化チタン粉末を焼結してなる光 触媒の薄膜を形成し、 一般照明用電灯により 300〜 390 nmの波長帯域内の 紫外線の合計強度が◦ .00 1〜 1 mWZc になるように前記衛生陶器を照射 することにより、 衛生陶器の表面を殺菌し若しくは表面に付着する物質を分解す る方法。
PCT/JP1993/001598 1992-11-10 1993-11-05 Air treating method using photocatalyst under interior illumination WO1994011092A1 (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP93924176A EP0630679B1 (en) 1992-11-10 1993-11-05 Air treating method using photocatalyst under interior illumination
DE1993624574 DE69324574T2 (de) 1992-11-10 1993-11-05 Luftbehandlungsverfahren mit hilfe von einem photokatalysator und innenbeleuchtung
AU53766/94A AU5376694A (en) 1992-11-10 1993-11-05 Air treating method using photocatalyst under interior illumination
KR1019940702335A KR100293040B1 (ko) 1992-11-10 1993-11-05 실내조명하에서의광촉매에의한공기처리방법
CA 2127552 CA2127552C (en) 1992-11-10 1993-11-05 Photocatalytic air treatment process under room light
HK98113818A HK1017809A1 (en) 1992-11-10 1998-12-17 Air treating method using photocatalyst under interior illumination

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32480092 1992-11-10
JP4/324800 1992-11-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1994011092A1 true WO1994011092A1 (en) 1994-05-26

Family

ID=18169826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1993/001598 WO1994011092A1 (en) 1992-11-10 1993-11-05 Air treating method using photocatalyst under interior illumination

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6139803A (ja)
EP (1) EP0630679B1 (ja)
KR (1) KR100293040B1 (ja)
AT (1) ATE179083T1 (ja)
AU (1) AU5376694A (ja)
CA (1) CA2127552C (ja)
DE (1) DE69324574T2 (ja)
ES (1) ES2132261T3 (ja)
HK (1) HK1017809A1 (ja)
TW (1) TW247276B (ja)
WO (1) WO1994011092A1 (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0770579A1 (en) 1995-10-26 1997-05-02 Asahi Glass Company Ltd. Modified titanium oxide sol, photocatalyst composition and photocatalyst composition-forming agent
JPH09168722A (ja) * 1995-10-17 1997-06-30 Ebara Corp 局所空間の汚染防止方法及び装置
JPH09237511A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Nippon Doro Kodan 道路またはトンネル用照明器具
US5835840A (en) * 1995-09-06 1998-11-10 Universal Air Technology Photocatalytic system for indoor air quality
US5993738A (en) * 1997-05-13 1999-11-30 Universal Air Technology Electrostatic photocatalytic air disinfection
WO2001005441A1 (fr) * 1999-07-19 2001-01-25 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Procede et appareil de purification de gaz contenant de l'oxygene
JP2006182615A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Masao Kaneko 窒素含有化合物の光分解方法
JP2006200358A (ja) * 2006-02-18 2006-08-03 Inax Corp トイレ室
JP2007167734A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Nikken Sekkei Ltd 光ダクトによる室内の抗菌、防かび、防汚、防臭方法および光ダクト装置
US7378371B2 (en) 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7414009B2 (en) 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
EP2314375A1 (en) 2001-12-21 2011-04-27 Showa Denko K.K. Photocatlyst particles comprising a condensed phosphate
JP2011104518A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Toshiba Corp 放電型光触媒およびその製造方法
US8147971B2 (en) 2007-06-14 2012-04-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Self-cleaning system and window-glass
JP2014069098A (ja) * 2012-09-27 2014-04-21 Toto Ltd 光触媒部材

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE29623901U1 (de) 1995-03-20 2000-07-06 Toto Ltd Substrat mit einer superhydrophilen photokatalytischen Oberfläche
DE69629473T2 (de) * 1995-05-23 2004-06-09 United Technologies Corp. (N.D.Ges.D. Staates Delaware), Hartford Verfahren und vorrichtung zur entfernung von organischen verunreinigungen
US5919422A (en) * 1995-07-28 1999-07-06 Toyoda Gosei Co., Ltd. Titanium dioxide photo-catalyzer
KR100523020B1 (ko) * 1998-02-25 2006-02-01 엘지전자 주식회사 탈취제
US6569520B1 (en) † 2000-03-21 2003-05-27 3M Innovative Properties Company Photocatalytic composition and method for preventing algae growth on building materials
EP1322567B1 (en) 2000-09-11 2008-11-12 Cardinal CG Company Temporary protective covers
US7396796B2 (en) * 2000-10-20 2008-07-08 Noritake Co., Limited Treatment agent, method and device for treating hazardous substances
DE10064069A1 (de) 2000-12-21 2002-07-04 Karl F Massholder Wässrige Zusammensetzung enthaltend einen Halbleiter
US6971948B2 (en) 2001-02-08 2005-12-06 Cardinal Cg Company Method and apparatus for removing coatings applied to surfaces of a substrate
KR100465970B1 (ko) * 2002-02-09 2005-01-13 현대건설주식회사 벽면 오탁방지 및 공기정화를 위한 광촉매 패널이 부착된터널 구조
KR20040003360A (ko) * 2002-07-02 2004-01-13 엘지전자 주식회사 식기세척기의 냄새제거장치
US20040013583A1 (en) * 2002-07-19 2004-01-22 Aerus Llc Apparatus and method for a sanitizing air filter
WO2004011382A2 (en) 2002-07-31 2004-02-05 Cardinal Cg Compagny Temperable high shading performance coatings
US6902397B2 (en) * 2002-08-01 2005-06-07 Sunstar Americas, Inc. Enhanced dental hygiene system with direct UVA photoexcitation
US20040149307A1 (en) * 2002-12-18 2004-08-05 Klaus Hartig Reversible self-cleaning window assemblies and methods of use thereof
ATE483040T1 (de) * 2002-12-31 2010-10-15 Cardinal Cg Co Beschichtungsgerät mit einem reinigungsgerät für substrat und beschichtungsverfahren, das ein solches beschichtungsgerät benutzt
DE10311907B4 (de) * 2003-03-17 2006-11-02 Schollglas Holding- und Geschäftsführungsgesellschaft mbH Duschkabine mit gemauerten und/oder transparenten Duschtrennwänden
EP1584368A1 (en) * 2004-04-07 2005-10-12 Global Engineering and Trade S.r.L. An apparatus and process for activating photocatalytic reactions in constructions subject to limited lighting
JP2008505842A (ja) 2004-07-12 2008-02-28 日本板硝子株式会社 低保守コーティング
JP2008518799A (ja) * 2004-11-08 2008-06-05 日本板硝子株式会社 表面処理方法、組成物、および製品
WO2006080968A2 (en) 2004-11-15 2006-08-03 Cardinal Cg Company Methods and equipment for depositing coatings having sequenced structures
US20060120929A1 (en) * 2004-11-23 2006-06-08 Patrick Ward Quartz gas discharge lamp providing photocatalytic oxidation
US8092660B2 (en) 2004-12-03 2012-01-10 Cardinal Cg Company Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
US7923114B2 (en) 2004-12-03 2011-04-12 Cardinal Cg Company Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
US20060124442A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Valpey Richard S Iii Device capable of removing contaminants from a fluid
US7342716B2 (en) 2005-10-11 2008-03-11 Cardinal Cg Company Multiple cavity low-emissivity coatings
WO2007121211A2 (en) 2006-04-11 2007-10-25 Cardinal Cg Company Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties
WO2007124291A2 (en) 2006-04-19 2007-11-01 Cardinal Cg Company Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances
DE102006022083B3 (de) * 2006-05-11 2007-08-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Bauteil zur Schallabsorption und Luftaufbereitung
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
WO2009036263A2 (en) 2007-09-14 2009-03-19 Cardinal Cg Company Low-maintenance coating technology
US20090088393A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Zomanex, Llc Methods and formulations for converting intravenous and injectable drugs into oral dosage forms
WO2009097389A1 (en) * 2008-01-29 2009-08-06 Deal Jeffery L Areasterlizer and method of disinfection
KR100881440B1 (ko) 2008-04-18 2009-02-06 김아정 Ｖｏｃ 제거 기능을 구비한 조명 모듈, 조명 시스템 및이를 이용한 ｖｏｃ 제거 방법
JP5622438B2 (ja) * 2010-05-10 2014-11-12 ボストン・コム株式会社 保冷庫
US8585980B2 (en) 2010-09-07 2013-11-19 Puradigm, Llc Enhanced photo-catalytic cells
US8585979B2 (en) 2010-09-07 2013-11-19 Puradigm, Llc Enhanced photo-catalytic cells
JP2016503342A (ja) 2012-11-13 2016-02-04 バイオレット ディフェンス テクノロジ インク 紫外光を放出するためのデバイス
TWI582358B (zh) * 2014-03-13 2017-05-11 國立中興大學 Composite light response storage system
JP6313527B2 (ja) 2014-11-25 2018-04-18 サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ 表面から放射線を放出するための方法および物品
KR102451711B1 (ko) 2014-11-25 2022-10-06 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. 표면을 가열하기 위한 방법 및 장치
US10960090B2 (en) * 2015-03-18 2021-03-30 Current Lighting Solutions, Llc Light disinfection system and method
US9937274B2 (en) * 2015-03-18 2018-04-10 GE Lighting Solutions, LLC Light disinfection system and method
US11541136B2 (en) 2015-03-18 2023-01-03 Current Lighting Solutions, Llc Light disinfection system and method
US10604442B2 (en) 2016-11-17 2020-03-31 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
CN108079330A (zh) * 2017-12-20 2018-05-29 北京科技大学 一种养殖场所用净化消毒方法
US10960098B2 (en) 2018-07-03 2021-03-30 Apogee Lighting Holdings, Llc Multi-functional lighting fixture

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01139139A (ja) * 1987-11-26 1989-05-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 脱臭・殺菌装置
JPH038448A (ja) * 1988-11-14 1991-01-16 Shinshu Ceramics:Kk 光触媒機能体及びこれを用いた多機能材料
JPH04272337A (ja) * 1990-11-30 1992-09-29 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 便器用脱臭装置
JPH04307065A (ja) * 1991-04-02 1992-10-29 Toto Ltd 住居空間用光触媒機構
JPH04307066A (ja) * 1991-04-02 1992-10-29 Toto Ltd 室内空気処理機構

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4113590A (en) * 1977-07-05 1978-09-12 The Regents Of The University Of California Photoreduction of nitrogen
JPS6176160A (ja) * 1984-09-21 1986-04-18 松永　是 殺細胞方法
JPS63267876A (ja) * 1987-04-27 1988-11-04 株式会社日立製作所 脱臭装置
US5032241A (en) * 1987-09-04 1991-07-16 Nutech Energy Systems Inc. Fluid purification
EP0476724A3 (en) * 1988-01-22 1992-06-03 Hitachi, Ltd. Apparatus for removing stink
JP2574840B2 (ja) * 1988-01-22 1997-01-22 株式会社日立製作所 脱臭装置
JPH01288321A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
JPH067906B2 (ja) * 1989-04-20 1994-02-02 松下電器産業株式会社 光触媒による脱臭方法
JPH0644976B2 (ja) * 1989-04-26 1994-06-15 松下電器産業株式会社 光触媒の再生方法及び光触媒による脱臭装置
JPH07114925B2 (ja) * 1989-09-04 1995-12-13 松下電器産業株式会社 光触媒による脱臭方法
JPH03106420A (ja) * 1989-09-20 1991-05-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
US4997576A (en) * 1989-09-25 1991-03-05 Board Of Regents, The University Of Texas System Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water
JPH03157125A (ja) * 1989-11-16 1991-07-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
US5152814A (en) * 1991-02-01 1992-10-06 Component Systems, Inc. Apparatus for isolating contagious respiratory hospital patients
US5225167A (en) * 1991-12-30 1993-07-06 Clestra Cleanroom Technology, Inc. Room air sterilizer
JP2667331B2 (ja) * 1992-03-13 1997-10-27 東陶機器株式会社 光触媒機能を有する部材及びその製造方法
US5595813A (en) * 1992-09-22 1997-01-21 Takenaka Corporation Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01139139A (ja) * 1987-11-26 1989-05-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 脱臭・殺菌装置
JPH038448A (ja) * 1988-11-14 1991-01-16 Shinshu Ceramics:Kk 光触媒機能体及びこれを用いた多機能材料
JPH04272337A (ja) * 1990-11-30 1992-09-29 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 便器用脱臭装置
JPH04307065A (ja) * 1991-04-02 1992-10-29 Toto Ltd 住居空間用光触媒機構
JPH04307066A (ja) * 1991-04-02 1992-10-29 Toto Ltd 室内空気処理機構

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5835840A (en) * 1995-09-06 1998-11-10 Universal Air Technology Photocatalytic system for indoor air quality
JPH09168722A (ja) * 1995-10-17 1997-06-30 Ebara Corp 局所空間の汚染防止方法及び装置
EP0770579A1 (en) 1995-10-26 1997-05-02 Asahi Glass Company Ltd. Modified titanium oxide sol, photocatalyst composition and photocatalyst composition-forming agent
JPH09237511A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Nippon Doro Kodan 道路またはトンネル用照明器具
US5993738A (en) * 1997-05-13 1999-11-30 Universal Air Technology Electrostatic photocatalytic air disinfection
WO2001005441A1 (fr) * 1999-07-19 2001-01-25 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Procede et appareil de purification de gaz contenant de l'oxygene
GB2367495A (en) * 1999-07-19 2002-04-10 Mitsui Shipbuilding Eng Process and apparatus for purification of oxygen-containing gas
GB2367495B (en) * 1999-07-19 2004-06-16 Mitsui Shipbuilding Eng Method and apparatus for purifying oxygen containing gas
US6797127B1 (en) * 1999-07-19 2004-09-28 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd And Eco-Logy Corporation Process and apparatus for purification of oxygen-containing gas
US7799732B2 (en) 2001-12-21 2010-09-21 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7378371B2 (en) 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7414009B2 (en) 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7582156B2 (en) 2001-12-21 2009-09-01 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
EP2314375A1 (en) 2001-12-21 2011-04-27 Showa Denko K.K. Photocatlyst particles comprising a condensed phosphate
EP2316568A1 (en) 2001-12-21 2011-05-04 Showa Denko K.K. Photocatlyst particles comprising a condensed phosphate
JP2006182615A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Masao Kaneko 窒素含有化合物の光分解方法
JP2007167734A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Nikken Sekkei Ltd 光ダクトによる室内の抗菌、防かび、防汚、防臭方法および光ダクト装置
JP2006200358A (ja) * 2006-02-18 2006-08-03 Inax Corp トイレ室
US8147971B2 (en) 2007-06-14 2012-04-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Self-cleaning system and window-glass
JP2011104518A (ja) * 2009-11-17 2011-06-02 Toshiba Corp 放電型光触媒およびその製造方法
JP2014069098A (ja) * 2012-09-27 2014-04-21 Toto Ltd 光触媒部材

Also Published As

Publication number Publication date
EP0630679A1 (en) 1994-12-28
AU5376694A (en) 1994-06-08
DE69324574D1 (de) 1999-05-27
TW247276B (ja) 1995-05-11
ATE179083T1 (de) 1999-05-15
KR940703710A (ko) 1994-12-12
CA2127552C (en) 2004-10-12
KR100293040B1 (ko) 2001-09-17
HK1017809A1 (en) 1999-11-26
EP0630679B1 (en) 1999-04-21
ES2132261T3 (es) 1999-08-16
DE69324574T2 (de) 1999-09-23
CA2127552A1 (en) 1994-05-26
EP0630679A4 (en) 1997-07-16
US6139803A (en) 2000-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1994011092A1 (en) Air treating method using photocatalyst under interior illumination
US5874701A (en) Photocatalytic air treatment process under room light
KR101334970B1 (ko) 광촉매 재료, 유기물 분해 방법, 내장부재, 공기청정 장치, 산화제 제조 장치
JP2545727B2 (ja) 消臭灯及びその製造方法
KR100945599B1 (ko) 하이브리드 광반도체 살균 촉매 램프 및 이를 이용한 광촉매 정화 장치
US20060280660A1 (en) Photocatalytic air purifier
JP2017205758A (ja) 低照度活性光触媒機能材及びその製造方法
WO2001005441A1 (fr) Procede et appareil de purification de gaz contenant de l'oxygene
KR102267166B1 (ko) 블랙라이트블루 램프용 led 어셈블리를 포함하는 환경위생 정화용 램프
KR200314844Y1 (ko) 오존과 광촉매 분해기를 이용한 복합 공기 살균정화장치
JP2003123699A (ja) 光触媒作用を活性化する方法及び光触媒放電管、並びにこの原理を用いた製品
JP3112295U (ja) 両極イオン強化光触媒空気清浄機
JP3647954B2 (ja) 光触媒担持照明用光源
JP4066041B2 (ja) 水浄化装置
KR101046313B1 (ko) 나노금속 담지 금속산화물 촉매 제조방법 및 이에 의해 제조된 나노금속 담지 금속산화물 촉매
JP2001038222A (ja) 光触媒材料、光触媒付き部材及びその製造方法
CN109622021A (zh) 一种铜离子-光触媒杀菌除味薄膜的制备方法及其在灯具上的应用
JPH1190237A (ja) 光触媒体、光触媒体の製造方法、消臭装置および照明器具
KR20040102487A (ko) 광촉매가 코팅된 담체를 이용한 유동층 광화학반응기 및광촉매 필터 및/또는 흡착성 광촉매 필터를 이용한 필름형광화학반응기를 포함하는 공기정화장치 및 이의 용도
JPH07462A (ja) 院内感染防止方法
KR102357755B1 (ko) 공기순환 및 정화 조명기구
CN214307471U (zh) 纳米羟基发生器
KR102356271B1 (ko) 환경위생 정화용 백색 조명 램프
KR200312719Y1 (ko) 광촉매를 구비한 공기정화용 조화
JP2001245960A (ja) 収容体それを用いた無菌室及び無菌化方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AU BB BG BR CA CZ FI HU JP KR LK MG MN MW NO NZ PL RO RU SD SK UA US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2127552

Country of ref document: CA

Ref document number: 1019940702335

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1993924176

Country of ref document: EP

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 1994 256392

Country of ref document: US

Date of ref document: 19940919

Kind code of ref document: A

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1993924176

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 1996 630468

Country of ref document: US

Date of ref document: 19960410

Kind code of ref document: A

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 1993924176

Country of ref document: EP