WO1982004158A1 - Magnetic recording medium - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a magnetic recording medium, in particular, a so-called thin-film magnetic recording medium in which a metal magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate, and particularly to the durability of the metal magnetic layer such as adhesion and abrasion resistance. It will be improved.
- a discontinuous film made of a dissimilar metal such as A.sub.1 and T.sub.i or an organic material is interposed between the nonmagnetic substrate and the metal magnetic layer. Attempts were made to increase the adhesion of the metal magnetic layer, but this was not satisfactory enough.
- At least one surface of the nonmagnetic substrate has a metal layer whose surface has been changed, nitrided or carbonized, and a metal magnetic layer has been formed thereon.
- the durability of the metal magnetic layer in the magnetic recording medium is improved (increased by a factor of 10 to 10 times), and this type of highly reliable magnetic recording; Can be provided.
- 1 to 5 are new front views showing an example of a magnetic recording medium according to the present invention.
- a non-magnetic base material i.e., a polyethylene terephthalate base (1) is first prepared and the base (1) is used.
- Activation of this for example a low pressure atmosphere containing oxygen gas (to generate plasma of O Ri ambient gas co ⁇ na discharge vacuum 1 0- 1 ⁇ 1 0 torr :) , in this flop plasma Go.
- a mixed gas of Ar70 and 0230%, and an atmosphere of 02 gas pressure of 10 torr (hereinafter referred to as atmosphere (a)
- atmosphere (a) the atmosphere gas used in the activation treatment is not limited to the gas containing the iodine, but may be any gas such as argon gas.
- a cobalt discontinuous discontinuous film or island ⁇ : minute (2) Is formed by a method such as vapor deposition or sputtering.
- the average film thickness of the island-shaped portion (2) is 10 to about LO 0 A, and in this example, about 300.
- a £, Ti, etc. can be used in addition to Co, but Co is the most preferable. This is because the composition is the same as the composition of the metal magnetic layer formed after II, so that only one evaporation source is required and the productivity is improved.
- Either vertical vapor deposition or oblique vapor deposition may be used as the vapor deposition method, but oblique vapor deposition is easier to form into an island shape.
- an oxidizing atmosphere a gas containing 02 gas, for example, a gas containing from pure 02 gas to about 20 gas containing 02 gas (the remainder is an inert gas)
- a nitriding atmosphere a gas containing the inert gas.
- a plasma is generated by applying a DC voltage to this atmosphere gas.
- the surface or the entire interior of the island-shaped portion (2) is converted into nitride, nitride or carbide (3).
- the plasma conditions introducing a gas pressure of 1 0 one 1 to 0 one 4 torr of the atmosphere gas, the applied voltage and the number 1 0 0 V to several 1 0 0 0 V.
- the plasma generated in the oxygen-containing atmosphere (a) is used to form a cobalt oxide (3) on the surface of the island (2) of the cobalt. .
- a metal beat, nitride or carbide is deposited in a beating atmosphere, a nitriding atmosphere or a carbonizing atmosphere by a reactive ion plating method or an activated reactive deposition method. It can also be formed as an island (2).
- a metal magnetic layer (4) is deposited on the main surface (1A) of the base (1) including the island-shaped portion (2) by means such as vapor deposition and sputtering.
- the metal layer (4) there may be used, for example,
- Nickel containing a small amount of iron can be used.
- the thickness of the metal magnetic layer (4) is from 700 to 200, and in this example, 150 O'A And formed by oblique evaporation.
- the outermost surface of the metallic conductive layer (4) is subjected to plasma treatment to form a layer (5) of nitride, nitride or carbide.
- the oxide layer (5) is formed on the surface of the metal magnetic layer (4) by treatment with the plasma generated in the atmosphere (i) containing i.
- the base in this case, a tabular shape
- the vapor deposition element is used for each of the deposition limits. Move the base (1) over the required angle so that the angle of incidence ⁇ on the angle ⁇ is constant.
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Description
明 細 書
発明の名称 磁気記録媒体
技術分野
本発明は、 磁気記録媒体特に非磁性基体上に金属磁. 性層を被着形成してな る所謂薄膜磁気記録媒体に関し、 特にその金属磁性層の付着力及び耐摩耗性な どの耐久 性を向上せんとする ものであ る。
背景技術
従来、 この種の薄膜磁気記録媒 ^に おいては、 非磁 性基体と金属磁性層 と の間に A£ ， T i な どの異種金属 又は有檨物に よ る違続膜を介在させて金属磁性層の付 着力を上げる よ う に していたが、 十分満足すべき も の ではなかった。
発明の開示
この癸明では、 非磁性基体の一主面上に少な く と も 表面が漦化、 窒化又は炭化された金属層を形成し、 さ らに こ の上に金属磁性層を形成し ている。 この発明に よれば、 磁気記録媒体における金属磁性層の耐久性が 向上 （ 従来の数信〜 1 0 数倍向上 ） する ものであ り 、 + 信頼性の高いこの種の磁気記録; ¾体が提供でき る。
図面の簡単な説
第 1 図乃至第 5 図は本発明に よ る磁気記録媒体の一 例を示す工 頓の新面図である。
発明を実旅するための最良の形態
OMPI
WIPO
以下、 図面を用いて本発明に よ る 気記録媒体をそ の製法と共に詳述する。
本発明においては、 先づ第 1 図に示すよ う に非磁性 基体例え^ iボ リ エ チ レ ンテレ フ タ レ一 ト · ベ ース（1)を 用意し、 こ の べ 一 ス（1)の一主面 （1A) を活性化処理す る。 こ の活性化処理は、 例えば酸素ガスを含む低圧雰 囲気中 （ 真空度 1 0―1〜 1 0 torr ：) でコ π ナ放電に よ り 雰囲気ガスのプラズマを生成し、 このプ ラズマ中で行 う 。 雰囲気の一例と しては Ar 7 0 と 02 3 0 %の混合 ガス で、 02 ガス圧力 1 0 torr の雰囲気 （ 以下雰囲気 (ィ） と称する ） を用い得る。 但し、 こ の活性化処理 に用いる雰囲気ガス と しては鼓素含有ガス に限らずい ずれのガス例えばア ル ゴ ン ガ ス のみでも可能である。
次に、 第 2 図に示すよ う に活性化されたベー ス （1)の 主面 （ 1A) 上に金属本例ではコ バル ト Co の不違続膜即 ち島^: 分（2)を蒸着、 ス パ ッ タ リ ン グ等の方法によつ て形成する。 島状部分（2)の平均膜厚は 1 0 〜 ； L O 0 0 A程 度、 本例では 3 0 0 程度である。 又島状部分（2)に使用 する金属と しては Co の他 A£ , T i 等を使用し得るが、 Co が最も好ま しい。 これは II後形成する金属磁性層 の成分と 冋 じであるために、 1 つの蒸着源ですみ生産 性がよ く なるからである。 又、 蒸鬵の仕方と しては垂 直蒸着、 斜め蒸着のいずれでも よ いが、 斜 蒸着の方 が不 ¾ ^の島状に作 り 易い。
次に、 第 3 図に示すよ う に、 酸化雰囲気 （ 02 含有 ガス 、 例えば純粋 02 ガス 〜 02 ガス 2 0 位含有 （ 残 り は不活性ガス ） ま でのガス ） 、 窒化雰囲気 （ 含 有ガス ） 又は炭化雰囲気 （ ア セ チ レ ン ガス、 エ チ レ ン ガス等 ） 中で、 こ の雰囲気ガス に直流電圧を印加する こ と に よ り プラ ズマを生成せしめ、 このプラ ズマに'島 状に金属層が形成されたベ ー ス フ ィ ル ムを さ らすこ と に よ り 、 島状部分（2)の表面も し く は内部全体を ¾化物、 窒化物又は炭化物（3)と する。 プラズマ条件と し ては、 ガス圧 1 0一1〜 1 0一4 torr の雰囲気ガス を導入し、 印加 電圧を数 1 0 0 V〜数 1 0 0 0 V とする。 本例では前記漦 素含有の雰囲気 （ィ） 中に生成したプ ラ ズマで 理し、 コ バ ル ト の島状部分（2)の表面に コ バ ル ト の酸化物（3)を 形成する。
尚、 第 2 図の工程で鼓化雰囲気、 窒化雰囲気又は炭 化雰囲気中で反応性ィ オ ン ブ レーティ ン グ法あるいは 活性化反応蒸着法に よって、 金属の鼓化物、 窒化物又 は炭化物を島状部分（2)と して形成する こ と も でき る。
次に、 第 4 図に示すよ う に島状部分（2)を含むベース (1)の主面 （ 1A) に金属磁性層（4)を蒸着、 スパ ッ タ リ ン グ等の手段に よって形成する。 金属 性層（4)と しては、 ノレ ト 、 ノレ ト ー - ッ ケ ノレ 、 ある 、 ま ノレ
ニ ッ ケ ルに少量の鉄を含んだもの等を使用でき る。 金 属磁性層（4)の膜厚は 7 0 0 〜 2 0 0 0 、 本例では 1 5 0 O'A
程度であ り 、 斜め蒸着で形成する。
さらに、 第 5 図に示すよ う に金属 ¾性層（4)の最表面 を プラズマ処理して漦化物、 窒化 又は炭化物等の層 (5)を形成する。 本例では前記^素含有の雰 気 （ィ） 中に生成したプラ ズマで処理して金属磁性層（4)の表面 に酸化物層（5)を形成する。
斯く する こ と に よって目的の ^気記録籙^ (6)を得る c この よ う な磁気記録媒体に よれば、 非 佳のベ ー ス (1)の一主面 （1A) に少 く と も表面が鼓化、 窒化又は炭 化された不連続の島 ^:部分（2)を形成し、 これを介して ベー ス （1 )上に金属磁性層（4)を形成したこ と に よ り、 金 属^性層（4)がべ一ス （1)に対して ϋ g；て付着される もの である。 これは、 島状部分（2)のプラズマ ϋ理に よって 形成された鼓化物、 窒化物又は炭化 ¾ (3)とベ ー ス （1)と の付着力が強固な こ とから、 その上 ¾着さ.れた金属 性層（4)と ベ ー ス （l iと の界面の ^着力が向上する もの と考えられる。 又、 同時に金属 ¾性； 1 )の最表面に ブ ラ ズマ処理に よって ¾化物、 窒化 ¾又は炭化物に よ る 層 ）を形成する と きは金属磁牲署 (4)の 摩耗性が向上 する。
尚、 金属磁性層（4)を斜め蒸着：こて形成する場合には， その蒸着範固の各^に いて蒸気^ ( 蒸着 子の ^ ) のベ ー ス ( この場合テ一ブ状 ） （υへの入射角 ø が一定 と なる よ う に、 所要の 籙上に ¾つてベ ー ス （1)を移動
Ο Π
して蒸着するを可とする。 こ の よ う に入射角 を一定 とすれば、 予め設定した高保 ¾力 He 及び角形性が得 られ、 且つ蒸着効率も 向上する ものであ る。
OMPI
^ W3PO %Λ
、
Claims
1. 非磁性支持体と、 その一主面に形成され少 く もそ
の表面が酸化、 窒化又は炭化された金属層 と、 該金 属層の上に形成された金属 性層 よ り なる磁気記録 媒体。
2. 非磁性支持体と、 その一主面に島状に形成され少
く もその表面が酸化、 窒化又は炭化された金属の不 連続層 と、 該不連続層 よび上記非磁性支持体を覆 つて形成された金属 性層 よ り なる磁気記録媒^。
3. 上記不達読層を形成する金属を コ バ ル ト と した請
求の範囲第 2項記載の ¾気記録媒体。
4. 上記不連統層の表面をコ バ ル ト の酸化物と した請
求の範囲第 3 項記載の磁気記録媒体。
5. 上記金属 ¾性層をコ パル ト 又は コ バ ル ト を主体と
する合金と した請求の範圏第 2 項記載の磁気記録 ¾ ^。
6. 上記金属 性層の表面に該金羼磁性層を構成する
金属の酸化 ¾、 窒化物又は炭化 ¾の層を形成した請 求の範囲第 2項記載の ¾気記錄媒体。
7. 上記不¾読層の平均膜厚を 1 0 〜 1 0 0 0 と した請
求の範囲第 2 項記載の^気記録媒体。
IPO ι .
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Patent Citations (3)
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