JPS6218970B2 - - Google Patents
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- JPS6218970B2 JPS6218970B2 JP56077539A JP7753981A JPS6218970B2 JP S6218970 B2 JPS6218970 B2 JP S6218970B2 JP 56077539 A JP56077539 A JP 56077539A JP 7753981 A JP7753981 A JP 7753981A JP S6218970 B2 JPS6218970 B2 JP S6218970B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体特に非磁性基体上に磁
性金属層を被着形成してなる所謂薄膜磁気記録媒
体に関し、特にその磁性金属層の付着力及び耐摩
耗性などの耐久性を向上せんとするものである。
性金属層を被着形成してなる所謂薄膜磁気記録媒
体に関し、特にその磁性金属層の付着力及び耐摩
耗性などの耐久性を向上せんとするものである。
従来、この種の薄膜磁気記録媒体においては、
非磁性基体と磁性金属層との間にAl，Tiなどの
異種金属又は有機物による連続膜を介在させて磁
性金属層の付着力を上げるようにしていたが、十
分満足すべきものではなかつた。
非磁性基体と磁性金属層との間にAl，Tiなどの
異種金属又は有機物による連続膜を介在させて磁
性金属層の付着力を上げるようにしていたが、十
分満足すべきものではなかつた。
本発明は、この点を改善し、より耐久性に優れ
た磁気記録媒体を提供するものである。
た磁気記録媒体を提供するものである。
以下、図面を用いて本発明による磁気記録媒体
をその製法と共に詳述する。
をその製法と共に詳述する。
本発明においては、先ず第１図に示すように非
磁性基体例えばポリエチレンテレフタレート・ベ
ース１を用意し、このベース１の一主面１Ａを活
性化処理する。この活性化処理は、例えば酸素ガ
スを含む低圧雰囲気中（真空度10-1〜10torr）で
コロナ放電を利用してプラズマ処理して行う。雰
囲気の一例としてはAr70％とO230％の混合ガス
で、O2ガス圧が10-3torrの雰囲気（以下雰囲気イ
と称する）を用い得る。但し、この活性化処理に
用いる雰囲気ガスとしては酸素含有ガスに限らず
いずれのガス例えばアルゴンガスのみでも可能で
ある。
磁性基体例えばポリエチレンテレフタレート・ベ
ース１を用意し、このベース１の一主面１Ａを活
性化処理する。この活性化処理は、例えば酸素ガ
スを含む低圧雰囲気中（真空度10-1〜10torr）で
コロナ放電を利用してプラズマ処理して行う。雰
囲気の一例としてはAr70％とO230％の混合ガス
で、O2ガス圧が10-3torrの雰囲気（以下雰囲気イ
と称する）を用い得る。但し、この活性化処理に
用いる雰囲気ガスとしては酸素含有ガスに限らず
いずれのガス例えばアルゴンガスのみでも可能で
ある。
次に、第２図に示すように活性化されたベース
１の主面１Ａ上に金属本例ではコバルトCoの不
連続膜即ち島状部分２を蒸着、スパツタリング等
の方法によつて形成する。島状部分２の水晶振動
膜厚計により測定される平均膜厚は10〜1000Å程
度、本例では300Å程度である。又島状部分２に
使用する金属は爾後形成する磁性金属層の成分と
同じであるために、１つの蒸発源ですみ生産性が
よくなる。又、蒸着の仕方としては垂直蒸着、斜
め蒸着のいずれでもよいが、斜め蒸着の方が不連
続の島状に作り易い。この斜め蒸着による場合
は、蒸着初期に支持体表面にまず形成される多数
の析出核が成長して蒸着層を形成する過程で、析
出核自身によるセルフシヤドウイング効果によつ
て、析出核の成長した島状部分よりなる下地層を
容易に形成することができる。この個々の島は表
面から観察して、たとえば50〜300Å程度の径に
形成され、密度は、1010〜1011個／cm2程度に形成
される。
１の主面１Ａ上に金属本例ではコバルトCoの不
連続膜即ち島状部分２を蒸着、スパツタリング等
の方法によつて形成する。島状部分２の水晶振動
膜厚計により測定される平均膜厚は10〜1000Å程
度、本例では300Å程度である。又島状部分２に
使用する金属は爾後形成する磁性金属層の成分と
同じであるために、１つの蒸発源ですみ生産性が
よくなる。又、蒸着の仕方としては垂直蒸着、斜
め蒸着のいずれでもよいが、斜め蒸着の方が不連
続の島状に作り易い。この斜め蒸着による場合
は、蒸着初期に支持体表面にまず形成される多数
の析出核が成長して蒸着層を形成する過程で、析
出核自身によるセルフシヤドウイング効果によつ
て、析出核の成長した島状部分よりなる下地層を
容易に形成することができる。この個々の島は表
面から観察して、たとえば50〜300Å程度の径に
形成され、密度は、1010〜1011個／cm2程度に形成
される。
次に、第３図に示すように、酸化雰囲気（O2
含有ガス、例えば純粋O2ガス〜O2ガス20％位含
有（残りは不活性ガス）までのガス）、窒化雰囲
気（N2含有ガス）又は炭化雰囲気（アセチレン
ガス、エチレンガス等）中でプラズマ処理し、島
状部分２の表面もしくは内部全体を酸化物、窒化
物又は炭化物３とする。プラズマ条件としては、
ガス圧10-1〜Y104torrの雰囲気ガスを導入し、印
加電圧を数100V〜数1000Vとする。本例では上記
酸素含有の雰囲気イ中でプラズマ処理し、コバル
トの島状部分２の表面にコバルトの酸化物３を形
成する。
含有ガス、例えば純粋O2ガス〜O2ガス20％位含
有（残りは不活性ガス）までのガス）、窒化雰囲
気（N2含有ガス）又は炭化雰囲気（アセチレン
ガス、エチレンガス等）中でプラズマ処理し、島
状部分２の表面もしくは内部全体を酸化物、窒化
物又は炭化物３とする。プラズマ条件としては、
ガス圧10-1〜Y104torrの雰囲気ガスを導入し、印
加電圧を数100V〜数1000Vとする。本例では上記
酸素含有の雰囲気イ中でプラズマ処理し、コバル
トの島状部分２の表面にコバルトの酸化物３を形
成する。
尚、第２図の工程で酸化雰囲気、窒化雰囲気又
は炭化雰囲気中で反応性イオンプレーテイング方
あるいは活性化反応蒸着法によつて、金属の酸化
物、窒化物又は炭化物を島状部分２として形成す
ることもできる。
は炭化雰囲気中で反応性イオンプレーテイング方
あるいは活性化反応蒸着法によつて、金属の酸化
物、窒化物又は炭化物を島状部分２として形成す
ることもできる。
次に、第４図に示すように島状部分２を含むベ
ース１の主面１Ａに磁性金属層４を蒸着、スパツ
タリング等の手段によつて形成する。磁性金属層
４としては、コバルト、コバルト−ニツケル、あ
るいはコバルト−ニツケルに少量の鉄を含んだも
の等を使用できる。磁性金属層４の膜厚は700Å
〜2000Å、本例では1500Å程度であり、斜め蒸着
で形成する。
ース１の主面１Ａに磁性金属層４を蒸着、スパツ
タリング等の手段によつて形成する。磁性金属層
４としては、コバルト、コバルト−ニツケル、あ
るいはコバルト−ニツケルに少量の鉄を含んだも
の等を使用できる。磁性金属層４の膜厚は700Å
〜2000Å、本例では1500Å程度であり、斜め蒸着
で形成する。
さらに、第５図に示すように磁性金属層４の最
表面をプラズマ処理して酸化物、窒化物又は炭化
物等の層５を形成する。本例では前記酸素含有の
雰囲気イ中でプラズマ処理して磁性金属層４の表
面に酸化物層５を形成する。
表面をプラズマ処理して酸化物、窒化物又は炭化
物等の層５を形成する。本例では前記酸素含有の
雰囲気イ中でプラズマ処理して磁性金属層４の表
面に酸化物層５を形成する。
斯くすることによつて目的の磁気記録媒体６を
得る。
得る。
このような磁気記録媒体によれば、非磁性のベ
ース１の一主面１Ａに少なくとも表面が酸化、窒
化又は炭化された不連続の島状部分２を形成し、
これを介してベース１上に磁性金属層４を形成し
たことにより、磁性金属層４がベース１に対して
強固に付着されるものである。これは、島状部分
２はプラズマ処理により、表面から酸化、窒化、
又は炭化されてかなりの部分あるいは全部が酸化
物、窒化物、又は炭化物とされており、この酸化
物、窒化物又は炭化物３とベース１との付着力が
強固なことから、その上に被着された磁性金属層
４とベース１との界面の付着力が向上するものと
考えられる。又、同時に磁性金属層４の最表面に
プラズマ処理によつて酸化物、窒化物又は炭化物
による層５を形成するときは磁性金属層４の耐摩
耗性が向上する。
ース１の一主面１Ａに少なくとも表面が酸化、窒
化又は炭化された不連続の島状部分２を形成し、
これを介してベース１上に磁性金属層４を形成し
たことにより、磁性金属層４がベース１に対して
強固に付着されるものである。これは、島状部分
２はプラズマ処理により、表面から酸化、窒化、
又は炭化されてかなりの部分あるいは全部が酸化
物、窒化物、又は炭化物とされており、この酸化
物、窒化物又は炭化物３とベース１との付着力が
強固なことから、その上に被着された磁性金属層
４とベース１との界面の付着力が向上するものと
考えられる。又、同時に磁性金属層４の最表面に
プラズマ処理によつて酸化物、窒化物又は炭化物
による層５を形成するときは磁性金属層４の耐摩
耗性が向上する。
尚、磁性金属層４を斜め蒸着にて形成する場合
には、その蒸着範囲の各部において蒸気流（蒸着
粒子の流）のベース（この場合テープ状）１への
入射角θが一定となるように、所要の曲線上に沿
つてベース１を移動して蒸着するを可とする。こ
のように入射角θを一定とすれば、予め設定した
高保磁力Hc及び角形性が得られ、且つ蒸着効率
も向上するものである。
には、その蒸着範囲の各部において蒸気流（蒸着
粒子の流）のベース（この場合テープ状）１への
入射角θが一定となるように、所要の曲線上に沿
つてベース１を移動して蒸着するを可とする。こ
のように入射角θを一定とすれば、予め設定した
高保磁力Hc及び角形性が得られ、且つ蒸着効率
も向上するものである。
上述せるように本発明によれば、薄膜磁気記録
媒体における磁性金属層の耐久性が向上（従来の
数倍〜10数倍向上）するものであり、信頼性の高
いこの種の磁気記録媒体が提供できる。
媒体における磁性金属層の耐久性が向上（従来の
数倍〜10数倍向上）するものであり、信頼性の高
いこの種の磁気記録媒体が提供できる。
第１図乃至第５図は本発明による磁気記録媒体
の一例を示す工程順の断面図である。 １は非磁性基体、２は金属の島状部分、３は酸
化物、窒化物又は炭化物、４は磁性金属層、５は
酸化物、窒化物又は炭化物による層である。
の一例を示す工程順の断面図である。 １は非磁性基体、２は金属の島状部分、３は酸
化物、窒化物又は炭化物、４は磁性金属層、５は
酸化物、窒化物又は炭化物による層である。
Claims (1)
- １ 非磁性支持体上にCo，Co−Ni、又はCo−Ni
−Feよりなる磁性金属の薄膜磁性層を有する磁
気記録媒体において、上記非磁性支持体の一主面
上に不連続に形成され、上記磁性金属が酸化、窒
化又は炭化された島状下地層を有し、該島状下地
層と上記非磁性支持体の表面を覆つて形成された
上記磁性金属の薄膜磁性層よりなる磁気記録媒
体。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56077539A JPS57191830A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Magnetic recording medium |
| GB08301832A GB2113898B (en) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetic recording medium |
| EP82901533A EP0079391B1 (en) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetic recording medium |
| PCT/JP1982/000185 WO1982004158A1 (en) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetic recording medium |
| US06/459,602 US4696862A (en) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetic recording medium |
| NL8220164A NL8220164A (nl) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetisch registreermedium. |
| DE19823246007 DE3246007A1 (de) | 1981-05-22 | 1982-05-21 | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56077539A JPS57191830A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57191830A JPS57191830A (en) | 1982-11-25 |
| JPS6218970B2 true JPS6218970B2 (ja) | 1987-04-25 |
Family
ID=13636796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56077539A Granted JPS57191830A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Magnetic recording medium |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4696862A (ja) |
| EP (1) | EP0079391B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57191830A (ja) |
| GB (1) | GB2113898B (ja) |
| NL (1) | NL8220164A (ja) |
| WO (1) | WO1982004158A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5930230A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-17 | Sony Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS6085417A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
| JPH0827927B2 (ja) * | 1987-07-09 | 1996-03-21 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE3803000A1 (de) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Basf Ag | Flaechenfoermiges, mehrschichtiges magneto-optisches aufzeichnungsmaterial |
| ES2074538T3 (es) * | 1989-05-22 | 1995-09-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Sustrato utilizado para un disco magnetico y medio de gabracion magnetico que utiliza el sustrato. |
| JP2547651B2 (ja) * | 1989-05-22 | 1996-10-23 | 日本板硝子株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE69029024T2 (de) * | 1989-10-05 | 1997-04-30 | Ibm | Magnetischer Dünnfilmspeicher und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US5958543A (en) * | 1995-07-07 | 1999-09-28 | Stor Media,Inc. | Micro-texturing for sputtered, thin film magnetic media disks utilizing titanium sputtered in the presence of hydrogen to form micro-texturing |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3460968A (en) * | 1964-11-04 | 1969-08-12 | Ibm | Wear resistant magnetic recording member |
| US3691032A (en) * | 1970-05-01 | 1972-09-12 | Gen Electric | Permalloy film plated wires having superior nondestructive read-out characteristics and method of forming |
| US3674554A (en) * | 1970-07-23 | 1972-07-04 | Ncr Co | Formation of oxide coating on surface of a magnetic cobalt nickel alloy |
| DE2250480C3 (de) * | 1972-10-14 | 1975-07-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Monovinylacetylen |
| DE2250481C3 (de) * | 1972-10-14 | 1981-08-27 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| JPS56851B2 (ja) * | 1973-07-24 | 1981-01-09 | ||
| GB1599161A (en) * | 1976-07-15 | 1981-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium and method of making the same |
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