JPS6085417A - 薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
薄膜型磁気記録媒体Info
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- JPS6085417A JPS6085417A JP19275683A JP19275683A JPS6085417A JP S6085417 A JPS6085417 A JP S6085417A JP 19275683 A JP19275683 A JP 19275683A JP 19275683 A JP19275683 A JP 19275683A JP S6085417 A JPS6085417 A JP S6085417A
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- film layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は薄膜型磁気記録媒体の耐久性向上に関するもの
である。
である。
従来例の構成とその問題点
近年、磁気記録業界においては高密度化技術が急速な進
歩をとげている。磁気記録の高密度化には、システムと
しての設計、目的が重要な問題となるが、それを支える
要素技術として最も重要な要素は高密度磁気記録が可能
な磁気記録媒体の開発である。磁気記録媒体は大別する
と塗布型と薄膜型の二種類に分かれるが、従来多用され
てきた２ページ のは塗布型であり、γ−Ｆｅ２Ｏ３からＣＴ２Ｏ３゜Ｃ
ｏ−γ−Ｆｅ２Ｏ３、メタルと磁性粉を変え、高密度磁
気記録に適した磁気記録媒体が開発されてきた。
歩をとげている。磁気記録の高密度化には、システムと
しての設計、目的が重要な問題となるが、それを支える
要素技術として最も重要な要素は高密度磁気記録が可能
な磁気記録媒体の開発である。磁気記録媒体は大別する
と塗布型と薄膜型の二種類に分かれるが、従来多用され
てきた２ページ のは塗布型であり、γ−Ｆｅ２Ｏ３からＣＴ２Ｏ３゜Ｃ
ｏ−γ−Ｆｅ２Ｏ３、メタルと磁性粉を変え、高密度磁
気記録に適した磁気記録媒体が開発されてきた。
しかし、さらに高密度な磁気記録の実現がめられる現在
においては塗布型よりも各種の記録、再生損失の少ない
薄膜型磁気記録媒体が注目されており、一部では既に実
用化されている。
においては塗布型よりも各種の記録、再生損失の少ない
薄膜型磁気記録媒体が注目されており、一部では既に実
用化されている。
従来の塗布型においては磁性物をバインダー中に混合す
るが、バインダー中に磁性粉だけでなく研摩剤、潤滑剤
等を混合することにより、磁気記録媒体として要求され
る様々な実用特性を満たしていた０しかし、薄膜型にお
いては塗布型のように研摩剤、潤滑剤を用いることは困
難であり、他の方法により実用特性の向上が必要とされ
る。薄膜型磁気記録媒体の実用特性向上の為の有効な方
法として、薄膜表面層の形状制御が考えられる。
るが、バインダー中に磁性粉だけでなく研摩剤、潤滑剤
等を混合することにより、磁気記録媒体として要求され
る様々な実用特性を満たしていた０しかし、薄膜型にお
いては塗布型のように研摩剤、潤滑剤を用いることは困
難であり、他の方法により実用特性の向上が必要とされ
る。薄膜型磁気記録媒体の実用特性向上の為の有効な方
法として、薄膜表面層の形状制御が考えられる。
一般に磁気記録媒体の表面形状は平滑度が高い程、記録
・再生時の損失が少なく電磁変換特性上は有利であるが
、一方で平滑度が高い程、走行特性は悪化する。
・再生時の損失が少なく電磁変換特性上は有利であるが
、一方で平滑度が高い程、走行特性は悪化する。
３ページ
そこで、表面形状を制御して、電磁変換特性と走行特性
を両立させるべく考案された従来の薄膜型磁気記録媒体
の断面図を第１図に示す。第１図において１は基板、２
は表面形状を制御する為の形状賦与物、３は磁性層であ
る。磁性層３の表面形状は形状賦与物２の効果により様
々に制御され、このように表面形状を制御することによ
って電磁変換特性と走行性は両立されるようになった。
を両立させるべく考案された従来の薄膜型磁気記録媒体
の断面図を第１図に示す。第１図において１は基板、２
は表面形状を制御する為の形状賦与物、３は磁性層であ
る。磁性層３の表面形状は形状賦与物２の効果により様
々に制御され、このように表面形状を制御することによ
って電磁変換特性と走行性は両立されるようになった。
しかし従来例における走行性の改善は初期的には大きな
効果が得られるが、繰り返し走行により走行改善効果は
次第に薄れてくる傾向があり、繰り返し走行時の耐久性
に欠点を有していた。
効果が得られるが、繰り返し走行により走行改善効果は
次第に薄れてくる傾向があり、繰り返し走行時の耐久性
に欠点を有していた。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、表面形状制御によって電磁変
換特性と走行性を両立し、更に走行耐久性を向上した薄
膜型磁気記録媒体を提供するものである。
換特性と走行性を両立し、更に走行耐久性を向上した薄
膜型磁気記録媒体を提供するものである。
発明の構成
この目的を達成するために本発明の薄膜型磁気記録媒体
は、基板上に下部薄膜層と、その下部薄膜層上に配され
た形状賦与物と、その形状付与物上の上部薄膜層から構
成されており、この構成によって基板及び形状賦与物へ
の応力集中を防ぎ、繰り返し走行による基板及び形状賦
与物の変形による表面形状の変化を防ぐものと思われ、
繰り返し走行による耐久性が改善される。
は、基板上に下部薄膜層と、その下部薄膜層上に配され
た形状賦与物と、その形状付与物上の上部薄膜層から構
成されており、この構成によって基板及び形状賦与物へ
の応力集中を防ぎ、繰り返し走行による基板及び形状賦
与物の変形による表面形状の変化を防ぐものと思われ、
繰り返し走行による耐久性が改善される。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。第２図は本発明の薄膜型磁気記録媒体の基本構
成を示す断面図である。第２図において４は基板、５は
下部薄膜層、６は形状賦与物、７は上部薄膜層である。
明する。第２図は本発明の薄膜型磁気記録媒体の基本構
成を示す断面図である。第２図において４は基板、５は
下部薄膜層、６は形状賦与物、７は上部薄膜層である。
磁性層となる薄膜層は上部薄膜層７及び下部薄膜層６の
一部又は全部である。第１図の構成と異なるのは下部薄
膜層６を有することである。下部薄膜層６の膜厚は材料
及び製法に依存するが１００〜２００人程度以上が好捷
しく、１μｍまでの範囲では下部薄膜層６の膜厚に上限
はなかった。下部薄膜層６及び上部薄膜層７の材料とし
てはＴｔ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ 。
一部又は全部である。第１図の構成と異なるのは下部薄
膜層６を有することである。下部薄膜層６の膜厚は材料
及び製法に依存するが１００〜２００人程度以上が好捷
しく、１μｍまでの範囲では下部薄膜層６の膜厚に上限
はなかった。下部薄膜層６及び上部薄膜層７の材料とし
てはＴｔ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ 。
Ａ７ 、Ａｕ 、Ｒｈ等の各種金属や、Ｆｅ−Ｎｉ 、
Ｃｏ−Ｃｒ 。
Ｃｏ−Ｃｒ 。
５ページ
Ｃｏ−Ｎｉ等の各種合金や、Ｓｉｏ２．Ｓｉ２Ｎ３．Ｆ
ｅ２Ｏ３，Ｃｏ。
ｅ２Ｏ３，Ｃｏ。
等各種金属チッ化物及び金属酸化物といった磁性材料及
び非磁性材料が適している。さらに、下部薄膜層６の下
側の基板４０表面形状に本発明は影響を受けるものでは
ない〇 本発明による走行耐久性の向上の効果は基板４が高分子
材料の時に最も効果が大きいが必ずしも高分子材料に限
るものではない０形状賦与物は高分子材料と同程度かそ
れ以上の強度を持つ材料であれば何でもよい。又、形状
賦与物６の形状によらず本発明による走行耐久性の向上
の効果はあるが、薄膜型磁気記録媒体の電磁変換特性の
立場から、平均粗さは１０００Å以下であることが望ま
しい。また、形状賦与物６は不連続であっても、連続的
に構成されていても良い。また、上部薄膜層７上に滑剤
等を含有する保護層を形成することにより、さらに耐久
性の向上が図れるものである０以下に、さらに具体的な
構成を第１の実施例として説明する。
び非磁性材料が適している。さらに、下部薄膜層６の下
側の基板４０表面形状に本発明は影響を受けるものでは
ない〇 本発明による走行耐久性の向上の効果は基板４が高分子
材料の時に最も効果が大きいが必ずしも高分子材料に限
るものではない０形状賦与物は高分子材料と同程度かそ
れ以上の強度を持つ材料であれば何でもよい。又、形状
賦与物６の形状によらず本発明による走行耐久性の向上
の効果はあるが、薄膜型磁気記録媒体の電磁変換特性の
立場から、平均粗さは１０００Å以下であることが望ま
しい。また、形状賦与物６は不連続であっても、連続的
に構成されていても良い。また、上部薄膜層７上に滑剤
等を含有する保護層を形成することにより、さらに耐久
性の向上が図れるものである０以下に、さらに具体的な
構成を第１の実施例として説明する。
厚み１０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ６ページ
レート）基板上にＩ Ｘ １ ｏ−５Ｔｏτｒの真空度
で下部薄膜層として５００への厚みのチタン層を形成し
、その上に形状賦与物として直径１６０〜３００へのＳ
ｉｏ２粒子を塗布法により６ｏ個／μ扉の密度で分散さ
せ配置した。さらに上層部に円筒キャンを用いて接線方
向から最低入射角４０°まで２ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ
の酸素雰囲気中で上部薄膜層としテＣｏ（８０ｗｔ％
）Ｎｉ合金を膜厚１５ｏＯ人、基板走行速度３０ ｍ
／ ｍ ｉ ｎ で磁性層を蒸着し試料Ａを得た。同様
の蒸着方法、蒸着条件、形状付与物形成法を用い、チタ
ン層がなく形状賦与物と磁性層を形成し試料Ｂを、又チ
タン層と形状賦与物がなく磁性層だけの試料Ｃを得た。
で下部薄膜層として５００への厚みのチタン層を形成し
、その上に形状賦与物として直径１６０〜３００へのＳ
ｉｏ２粒子を塗布法により６ｏ個／μ扉の密度で分散さ
せ配置した。さらに上層部に円筒キャンを用いて接線方
向から最低入射角４０°まで２ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ
の酸素雰囲気中で上部薄膜層としテＣｏ（８０ｗｔ％
）Ｎｉ合金を膜厚１５ｏＯ人、基板走行速度３０ ｍ
／ ｍ ｉ ｎ で磁性層を蒸着し試料Ａを得た。同様
の蒸着方法、蒸着条件、形状付与物形成法を用い、チタ
ン層がなく形状賦与物と磁性層を形成し試料Ｂを、又チ
タン層と形状賦与物がなく磁性層だけの試料Ｃを得た。
試料Ａ、Ｂ、Ｃの磁性層表面形状を走査型電子顕微鏡（
Ｓ Ｅ Ｍ ） Ｋ Ｌ ッテ５０００倍から２０００
倍の倍率で観察したところ、試料Ａ、Ｂは共に５０個／
μ扉の密度で同様な表面突起形状が観察され、試料Ｃは
突起のない平担な表面形状をしていた。
Ｓ Ｅ Ｍ ） Ｋ Ｌ ッテ５０００倍から２０００
倍の倍率で観察したところ、試料Ａ、Ｂは共に５０個／
μ扉の密度で同様な表面突起形状が観察され、試料Ｃは
突起のない平担な表面形状をしていた。
次に試料Ａ、Ｂ、Ｃを用い、電磁変換特性、動摩擦係数
μｋを４０″Ｃｓｏ％環境における繰り返し７・々−ミ
丁 走行によって測定した。電磁変換特性は記録波長０．８
μｍの再生出力であり、試料Ｃの初期値を基準とした。
μｋを４０″Ｃｓｏ％環境における繰り返し７・々−ミ
丁 走行によって測定した。電磁変換特性は記録波長０．８
μｍの再生出力であり、試料Ｃの初期値を基準とした。
測定結果を第１表に示す。
〔第 １ 表〕
繰り返し走行は２００ ｐａｓｓまで行ったが、試料Ｂ
では３２ ｐ８８８目から、試料Ｃでは２ ｐａｓｓ目
から鳴きが発生した。又、試料Ｂでは１２７ｐａｓｓ目
から、試料Ｃでは１１ ｐａｓｓから走行しなくなった
が、試料Ａは２００ ｐａｓｓ ｌ１で鳴きを発生する
ことなく走行した。以上のように本実施例によれば下部
薄膜層を設けることにより、繰り返し走行による耐久性
を向上させることができる。
では３２ ｐ８８８目から、試料Ｃでは２ ｐａｓｓ目
から鳴きが発生した。又、試料Ｂでは１２７ｐａｓｓ目
から、試料Ｃでは１１ ｐａｓｓから走行しなくなった
が、試料Ａは２００ ｐａｓｓ ｌ１で鳴きを発生する
ことなく走行した。以上のように本実施例によれば下部
薄膜層を設けることにより、繰り返し走行による耐久性
を向上させることができる。
以下第２の実施例について説明する。
厚み１０μｍのＰＥＴ基板上に円筒キャンを用いて接線
方向から最低入射角３０°まで２Ｘ１０＝Ｔｏｒ ｒの
酸素雰囲気中で下部薄膜層としてＣｏ （８０ｗ ｔ％
）Ｎｉ 合金を膜厚１００ｏ Ａ ％基板走行速度８０
ｍ７ｗｍ で蒸着した。その上に形状賦与物として直
径２００〜４００へのポリウレタンを析出させ塗布し、
６個／μゴの密度で分散させ配置した。さらに上層部に
上部薄膜層として円筒キャンを用いて接線方向から最低
入射角４０°まで２ Ｘ １０−４Ｔｏｒｔ の酸素雰
囲気中でＣｏ （８０ｗ ｔ％）Ｎ１ 合金を膜厚５０
０人、基板走行速度８０ｍ／ｍ ｉ ｎ で蒸着した。
方向から最低入射角３０°まで２Ｘ１０＝Ｔｏｒ ｒの
酸素雰囲気中で下部薄膜層としてＣｏ （８０ｗ ｔ％
）Ｎｉ 合金を膜厚１００ｏ Ａ ％基板走行速度８０
ｍ７ｗｍ で蒸着した。その上に形状賦与物として直
径２００〜４００へのポリウレタンを析出させ塗布し、
６個／μゴの密度で分散させ配置した。さらに上層部に
上部薄膜層として円筒キャンを用いて接線方向から最低
入射角４０°まで２ Ｘ １０−４Ｔｏｒｔ の酸素雰
囲気中でＣｏ （８０ｗ ｔ％）Ｎ１ 合金を膜厚５０
０人、基板走行速度８０ｍ／ｍ ｉ ｎ で蒸着した。
上部薄膜層の上に保護層としてミリスチン酸を平均膜厚
１ｏ人相当分塗布し、試料りを得た。
１ｏ人相当分塗布し、試料りを得た。
９ぺ一〕゛
試料りと同じ蒸着条件、塗布条件を用い、基板上にまず
形状賦与物としてポリウレタン粒子を形成後、上部薄膜
層として２層の蒸着を行ない、その上に保護層としてミ
リスチン酸を塗布することにより試料Ｅを得た。
形状賦与物としてポリウレタン粒子を形成後、上部薄膜
層として２層の蒸着を行ない、その上に保護層としてミ
リスチン酸を塗布することにより試料Ｅを得た。
試料り、Ｅを用い、電磁変換特性、動摩擦係数μｋｉ４
０°Ｃ８ｏ％環境における繰り返し走行によって測定し
た。電磁変換特性は記録波長０．８μｍの再生出力であ
り、試料Ｅの初期値を基準とした。測定結果を第２表に
示す〇 〔第 ２ 表〕 １０ページ 試料り、Ｅ共に鳴きを発生することはなかったが、μに
の耐久性は試料Ｅでは２００ ｐａｓｓ走行により大き
な上昇が見られたが、試料りでは殆んど変化しなかった
。以上のように本実施例によれば下部薄膜層を設けるこ
とにより、繰り返し走行による耐久性を向上させること
ができる。
０°Ｃ８ｏ％環境における繰り返し走行によって測定し
た。電磁変換特性は記録波長０．８μｍの再生出力であ
り、試料Ｅの初期値を基準とした。測定結果を第２表に
示す〇 〔第 ２ 表〕 １０ページ 試料り、Ｅ共に鳴きを発生することはなかったが、μに
の耐久性は試料Ｅでは２００ ｐａｓｓ走行により大き
な上昇が見られたが、試料りでは殆んど変化しなかった
。以上のように本実施例によれば下部薄膜層を設けるこ
とにより、繰り返し走行による耐久性を向上させること
ができる。
以下第３の実施例について説明する。
厚み８μｍの芳香族ポリイミド基板上に１×１Ｏ−６Ｔ
ｏｉｒで下部薄膜層としてパーマロイ膜厚３０００人形
成した。その上に形状賦与物として塗布法により直径３
００〜ｅｏｏパノＡｌ２０−ｆｉ子を２０個／μ扉の密
度で分散させ配置した。さらに上層部に上部薄膜層とし
てＣｏ（８０ｗｔ％）Ｃｒ垂直磁化膜を膜厚６ｏ０〇人
形成した後、保護層として平均膜厚５人相当分のステア
リン酸を塗布し、試料Ｆｉ得た。
ｏｉｒで下部薄膜層としてパーマロイ膜厚３０００人形
成した。その上に形状賦与物として塗布法により直径３
００〜ｅｏｏパノＡｌ２０−ｆｉ子を２０個／μ扉の密
度で分散させ配置した。さらに上層部に上部薄膜層とし
てＣｏ（８０ｗｔ％）Ｃｒ垂直磁化膜を膜厚６ｏ０〇人
形成した後、保護層として平均膜厚５人相当分のステア
リン酸を塗布し、試料Ｆｉ得た。
試料Ｆと同じ蒸着条件、塗布条件を用い、芳香族ポリイ
ミド基板上に形状賦与物としてＡｌ２Ｏ３粒子を設け、
その上にパーマロイ層、Ｃ０Ｃｒ垂直磁化膜層、ステア
リン酸層を形成し、試料Ｇｉ得１１ベ−ミ゛ た０ 試料Ｆ、Ｇを用い、電磁変換特性、動摩擦係数μｋを４
０°Ｃａｏ％環境における繰り返し走行によって測定し
た。電磁変換特性は記録波長０．６μｍの再生出力であ
り、試料Ｇの初期値を基準とした。測定結果を第３表に
示す。
ミド基板上に形状賦与物としてＡｌ２Ｏ３粒子を設け、
その上にパーマロイ層、Ｃ０Ｃｒ垂直磁化膜層、ステア
リン酸層を形成し、試料Ｇｉ得１１ベ−ミ゛ た０ 試料Ｆ、Ｇを用い、電磁変換特性、動摩擦係数μｋを４
０°Ｃａｏ％環境における繰り返し走行によって測定し
た。電磁変換特性は記録波長０．６μｍの再生出力であ
り、試料Ｇの初期値を基準とした。測定結果を第３表に
示す。
第３表から明らかな様に、試料Ｆは試料Ｇよりはるかに
すぐれた走行耐久性を持つ。
すぐれた走行耐久性を持つ。
以上のように本実施例によれば下部薄膜層を設けること
によりＣｏ−Ｃｒ薄膜のように走行しにくい特開昭ＧＯ
−８５４１７（４） 材料を使った場合でも、繰り返し走行による耐久性を向
上させることができる。
によりＣｏ−Ｃｒ薄膜のように走行しにくい特開昭ＧＯ
−８５４１７（４） 材料を使った場合でも、繰り返し走行による耐久性を向
上させることができる。
以下本発明の第４の実施例について図面を参照しながら
説明する。第３図は本発明の第４の実施例を示す薄膜型
磁気記録媒体の断面図を示すものである。第３図におい
て４は基板、６は下部薄膜層、８は形状賦与物、７は上
部薄膜層である。前述までの実施例と異なるのは前述ま
での実施例では形状賦与物が不連続体であったのに対し
、本実施例では連続体である点である０以下第４の実施
例の具体的な構成について説明する。
説明する。第３図は本発明の第４の実施例を示す薄膜型
磁気記録媒体の断面図を示すものである。第３図におい
て４は基板、６は下部薄膜層、８は形状賦与物、７は上
部薄膜層である。前述までの実施例と異なるのは前述ま
での実施例では形状賦与物が不連続体であったのに対し
、本実施例では連続体である点である０以下第４の実施
例の具体的な構成について説明する。
厚み１０μｍの芳香族ポリイミド基板上にＩ Ｘ １０
−６Ｔｏｒｒ で下部薄膜層の一層として膜厚６００人
のチタン層を形成する。さらにその上にＩ Ｘ １０−
５Ｔｏｒｒ で下部薄膜層の他の一層として３０００へ
のＣｏ（８０ｗｔ係）Ｃｒ垂直磁化膜を形成する。
−６Ｔｏｒｒ で下部薄膜層の一層として膜厚６００人
のチタン層を形成する。さらにその上にＩ Ｘ １０−
５Ｔｏｒｒ で下部薄膜層の他の一層として３０００へ
のＣｏ（８０ｗｔ係）Ｃｒ垂直磁化膜を形成する。
その後平均粒径２０〇への３１０２粒子とバイロンの希
釈混合液を塗布することにより形状賦与物８を形成する
。さらにＩ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒで上部薄膜層として
膜厚２０ＯＡのロジウム層を形成し試料Ｈ１３ページ を得た。
釈混合液を塗布することにより形状賦与物８を形成する
。さらにＩ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒで上部薄膜層として
膜厚２０ＯＡのロジウム層を形成し試料Ｈ１３ページ を得た。
試料Ｈを用い電磁変換特性、動摩擦係数μｋを４０”Ｃ
ｓ ｏ ％における繰り返し走行によって測定した。
ｓ ｏ ％における繰り返し走行によって測定した。
電磁変換特性は記録波長０．６μｍの再生出力であり、
試料Ｈの初期値を基準とした。測定結果を第４表に示す
。
試料Ｈの初期値を基準とした。測定結果を第４表に示す
。
第４表から明らかな様に、本実施例によれば繰り返し走
行による耐久性に優れた薄膜型磁気記録媒体を得ること
ができる。
行による耐久性に優れた薄膜型磁気記録媒体を得ること
ができる。
なお、前述の４つの実施例中で薄膜の形成法を１４べ一
−ミｊ 蒸着法としているが、これは現時点で最も生産性が高く
工業的に安定した製法である為であり、形状賦与物の効
果のある薄膜製造法であれば、従来知られたいかなる製
法でもかまわない。
−ミｊ 蒸着法としているが、これは現時点で最も生産性が高く
工業的に安定した製法である為であり、形状賦与物の効
果のある薄膜製造法であれば、従来知られたいかなる製
法でもかまわない。
発明の効果
以上のように本発明は、基板上に下部薄膜層とその下部
薄膜層上に配された形状賦与物と、その形状賦与物上に
上部薄膜層を設けることにより、電磁変換特性と走行性
を両立させながら繰り返し走行による耐久性に優れた薄
膜型磁気記録媒体を得ることができ、その実用的効果は
大なるものがある。
薄膜層上に配された形状賦与物と、その形状賦与物上に
上部薄膜層を設けることにより、電磁変換特性と走行性
を両立させながら繰り返し走行による耐久性に優れた薄
膜型磁気記録媒体を得ることができ、その実用的効果は
大なるものがある。
第１図は従来の薄膜型磁気記録媒体の断面図、第２図は
本発明の基本的構成を示す薄膜型磁気記録媒体の断面図
、第３図は本発明の第４の実施例における薄膜型磁気記
録媒体の断面図である。 ４・・・・・・基板、６・・・・・・下部薄膜層、６，
８・・・・・・形状賦与物、７・・・・・・上部薄膜層
。
本発明の基本的構成を示す薄膜型磁気記録媒体の断面図
、第３図は本発明の第４の実施例における薄膜型磁気記
録媒体の断面図である。 ４・・・・・・基板、６・・・・・・下部薄膜層、６，
８・・・・・・形状賦与物、７・・・・・・上部薄膜層
。
Claims (1)
- 基板上に形成された下部薄膜層と、その下部薄膜層上に
配された形状賦与物と、その形状賦与物上に形成された
上部薄膜層とを有する薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275683A JPS6085417A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275683A JPS6085417A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6085417A true JPS6085417A (ja) | 1985-05-14 |
| JPH0547889B2 JPH0547889B2 (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=16296524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19275683A Granted JPS6085417A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6085417A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154218A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用下地基板 |
| JPS62246127A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57191830A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-25 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57198534A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5868223A (ja) * | 1981-09-17 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-10-14 JP JP19275683A patent/JPS6085417A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57191830A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-25 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57198534A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5868223A (ja) * | 1981-09-17 | 1983-04-23 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154218A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用下地基板 |
| JPS62246127A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0547889B2 (ja) | 1993-07-20 |
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