TWI839415B - 偏光板 - Google Patents

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TWI839415B TW108142333A TW108142333A TWI839415B TW I839415 B TWI839415 B TW I839415B TW 108142333 A TW108142333 A TW 108142333A TW 108142333 A TW108142333 A TW 108142333A TW I839415 B TWI839415 B TW I839415B
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Abstract

本發明提供一種即便在高溫環境下於貫通孔部分的偏移仍小之偏光板。本發明偏光板具有偏光件、配置於偏光件之至少一側的保護層及黏著劑層。該偏光板於端部或其附近形成有貫通孔，且在透過黏著劑層將偏光板貼合於玻璃板之狀態下供於85℃及120小時之加熱試驗後，偏光板在貫通孔部分的偏移量為300μm以下。

Description

偏光板
本發明涉及偏光板。更詳而言之，本發明涉及具有黏著劑層且形成有貫通孔之偏光板。
手機、筆記型個人電腦等影像顯示裝置中，為了實現影像顯示及/或提高該影像顯示性能而廣泛使用偏光板。近年來由於智慧型手機、觸控面板式資訊處理裝置急速普及，漸廣泛利用搭載有相機之影像顯示裝置。因應此情事，亦漸廣泛利用在對應於相機部之位置具有貫通孔的偏光板。關於具有這種貫通孔之偏光板，針對貫通孔或其附近有各種檢討事項。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：國際公開2017/047510號
發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述習知課題而成者，其主要目的在於提供一種即便在高溫環境下於貫通孔部分的偏移仍小之偏光板。
用以解決課題之手段 本發明偏光板具有偏光件、配置於該偏光件之至少一側的保護層及黏著劑層。該偏光板係於端部或其附近形成有貫通孔，且在透過該黏著劑層將該偏光板貼合於玻璃板之狀態下供於85℃及120小時之加熱試驗後，該偏光板在該貫通孔部分的偏移量為300μm以下。 在一實施形態中，自上述黏著劑層之厚度方向最外部至上述偏光件之厚度方向中心部為止之距離A(μm)、該偏光件之厚度Tpol (μm)、該黏著劑層之潛變值Cpsa (μm/hr)、該黏著劑層之厚度Tpsa (μm)及上述保護層之厚度Tpro (μm)滿足下述關係： (A×Tpol )×(Cpsa ×Tpsa )/Tpro ＝K≦350×102 (μm3 /hr)。 本發明之另一偏光板具有偏光件、配置於該偏光件之至少一側的保護層及黏著劑層。該偏光板於端部或其附近形成有貫通孔，且自該黏著劑層之厚度方向最外部至該偏光件之厚度方向中心部為止之距離A(μm)、該偏光件之厚度Tpol (μm)、該黏著劑層之潛變值Cpsa (μm/hr)、該黏著劑層之厚度Tpsa (μm)及上述保護層之厚度Tpro (μm)滿足下述關係： (A×Tpol )×(Cpsa ×Tpsa )/Tpro ＝K≦350×102 (μm3 /hr)。 在一實施形態中，上述偏光件之厚度Tpol 為20μm以下。在一實施形態中，上述偏光件之厚度Tpol 為10μm以下。在一實施形態中，上述偏光板於上述貫通孔部分之偏移量為120μm以下。 在一實施形態中，上述黏著劑層的厚度Tpsa 為10μm～22μm。 在一實施形態中，上述偏光板之偏移量實質上為上述黏著劑層之偏移量。 在一實施形態中，上述貫通孔形成於隅部。在一實施形態中，在俯視上述偏光件時令自長邊方向中央至長邊方向端部為止的距離為L1 、令自該偏光件之長邊方向中央至該貫通孔中心為止的長邊方向距離為L2 、令自該偏光件之短邊方向中央至短邊方向端部為止的距離為W1 、且令自該偏光件之短邊方向中央至該貫通孔中心為止的短邊方向距離為W2 時，上述貫通孔係形成於滿足0.85≦L2 /L1 ≦0.99及0.50≦W2 /W1 ≦0.99之位置。 在一實施形態中，上述偏光板具有矩形形狀，且上述偏光件之吸收軸方向實質上平行於長邊方向。 在一實施形態中，上述保護薄膜僅配置於上述偏光件之一側。 在一實施形態中，上述貫通孔的直徑在10mm以下。 在一實施形態中，上述偏光板之高寬比為1.3~2.5。 根據本發明之另一面向提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置包含影像顯示單元與上述偏光板，且該偏光板係透過上述黏著劑層貼合於該影像顯示單元。
發明效果 依據本發明實施形態可實現一種偏光板，該偏光板具有貫通孔，且該偏光板即便在高溫環境下於貫通孔部分的偏移仍小。
以下參照圖式針對本發明具體實施形態進行說明，惟本發明不受該等實施形態限定。此外，為了便於觀看而示意顯示圖式，並且圖式中之長度、寬度、厚度等比率、以及角度等與實際有所差異。
A.偏光板之整體構成 圖1係說明本發明實施形態之偏光板中貫通孔之形成位置的概略俯視圖；圖2係圖1左側所示偏光板的II-II線的概略截面圖。圖式例之偏光板100具有：偏光件11、配置於偏光件11之一側的保護層(以下有時亦稱外側保護層)12、配置於偏光件11之另一側的保護層(以下有時亦稱內側保護層)13及黏著劑層20。黏著劑層20可用以將偏光板100貼合於影像顯示單元。亦可因應目的及所期望之構成等，省略外側保護層12或內側保護層13中之其中一者。
本發明實施形態中，於偏光板100之端部或其附近形成有貫通孔30。藉由形成貫通孔，例如可防止在影像顯示裝置內嵌相機時對該相機性能造成不良影響。並且，藉由將貫通孔形成於偏光板之端部或其附近，可在偏光板應用於影像顯示裝置時，將其對影像顯示造成之影響降至最小限度。貫通孔可藉由例如雷射加工、利用端銑刀進行之切削加工、利用湯姆遜刀或尖頭刀進行之沖裁加工等各種方法來形成。偏光板代表上具有如圖1所示之矩形形狀。本說明書中提及「矩形形狀」時，亦含包含如圖1所示將各頂點去角而得之如R形狀之異形加工部分的形狀。貫通孔30可設於偏光板之長邊方向端部的大致中央部，可設於長邊方向端部之預定位置，亦可設於偏光板之隅部。在將貫通孔設於長邊方向端部之預定位置(包含大致中央部)時，該貫通孔係設於使孔中心距離短邊(長邊方向之端)例如10mm以內之位置。在一實施形態中，在令圖1之自偏光件的長邊方向中央至長邊方向端部為止的距離為L1 、令自該偏光件之長邊方向中央至該貫通孔中心為止的長邊方向距離為L2 時，貫通孔宜形成於滿足0.85≦L2 /L1 ≦0.99之位置。L2 /L1 更宜為0.90~0.97，且0.92~0.96更佳。在將貫通孔設於隅部時，該貫通孔係設於例如使孔中心距離短邊(長邊方向之端)10mm以內且距離長邊(短邊方向之端)10mm以內之位置。在一實施形態中，貫通孔宜形成於滿足0.85≦L2 /L1 ≦0.99之位置，且在令自該偏光件之短邊方向中央至短邊方向端部為止的距離為W1 、令自該偏光件之短邊方向中央至該貫通孔中心為止的短邊方向距離為W2 時，形成於滿足0.50≦W2 /W1 ≦0.99之位置。L2 /L1 更宜為0.90~0.97，且0.92~0.96更佳。W2 /W1 更宜為0.75~0.95。圖式例中係顯示貫通孔設於長邊方向端部之情形，但貫通孔亦可設於短邊方向端部。雖未圖示，但貫通孔可設置多個。又，貫通孔之俯視形狀可因應目的採用任意適當之形狀。俯視形狀之具體例可舉如圖式例之圓形、楕圓形、正方形、矩形及該等組合(例如矩形之端部形成圓弧狀者)。並且，設置貫通孔之同時還可設置異形加工部(例如U字缺口、V字缺口)。本發明人等發現在偏光板上形成貫通孔時，在高溫環境下於貫通孔部分會發生偏光板偏移(實質上為黏著劑層偏移)，結果有於貫通孔部分發生漏光之虞此一新課題，而藉由採用本發明實施形態之預定構成解決了該課題。亦即，本發明係解決至今未知之新課題者，藉此所得之效果無法預期且很優異。
本發明之實施形態中，係如圖3所示，偏光板100在透過黏著劑層20將偏光板100貼合於玻璃板(可對應於影像顯示單元之基板)120之狀態下供於85℃及120小時之加熱試驗後，在貫通孔30部分的偏移量D為300μm以下。偏移量D宜為250μm以下，且宜為200μm以下，更宜為150μm以下，尤宜為120μm以下，特別宜為100μm以下，最宜為80μm以下。偏移量D愈小愈好，而偏移量D之下限於一實施形態中為10μm，於另一實施形態中為20μm。另，偏移量D係指以截面觀看時偏光板之遠離貫通孔部分的最大部分。貫通孔部分之基準代表上可為黏著劑層之下端部。亦即，在偏光板主要因偏光件11收縮而(在圖式例中為往右側)偏移時會止於黏著劑層20所黏著之玻璃板120，因而會在貫通孔部分辨識到偏移。另外，如圖3所示，偏光板代表上在貫通孔部分係往遠離貫通孔之側偏移(圖3右側)，同時，與其相對向之部分則會以往貫通孔突出之方式偏移(圖3左側)。如同上述，根據本發明之實施形態，可解決在高溫環境下偏光板在貫通孔部分之偏移(實質上為黏著劑層偏移)此一新發現之課題，具體而言係可使預定加熱試驗後的偏移量D落在如上述之範圍內。
本發明實施形態中，偏光板在上述加熱試驗後之尺寸收縮率宜為1.0%以下，且宜為0.6%以下，更宜為0.3%以下。尺寸收縮率越小越好，而尺寸收縮率之下限例如可為0.01%。另，尺寸收縮率可以下式求得。此外，尺寸收縮率係貼附於玻璃板的偏光板整體之尺寸收縮率，而在如後述般偏光板更具有光學機能層(例如相位差層、反射型偏光件)時，意指包含光學機能層的偏光板整體之尺寸收縮率。此外，下述式中「尺寸」係偏光板(實質上為偏光件)之吸收軸方向的尺寸。 尺寸收縮率(%)＝{(加熱試驗前之尺寸-加熱試驗後之尺寸)/加熱試驗前之尺寸}×100
貫通孔30半的直徑R宜為10mm以下，且宜為8mm以下，更宜為5mm以下。貫通孔直徑之下限例如可為2mm，且例如可為1.5mm。偏移量D相對於貫通孔之直徑R的比率D/R宜為15%以下，且宜為10%以下，更宜為6%以下，特別宜為5%以下。另一方面，D/R之下限愈小愈佳。根據本發明實施形態，偏移量D如上述非常小，故即便縮小貫通孔之直徑，亦可使D/R落在所述範圍內。因此，即便縮小貫通孔之直徑，仍可實質上防止對相機性能不好的影響。結果本發明實施形態之偏光板可應用於僅將相機部製成非顯示區域的影像顯示裝置及/或無邊框之影像顯示裝置。
本發明實施形態中，偏光板代表上滿足下述關係： (A×Tpol )×(Cpsa ×Tpsa )/Tpro ＝K≦350×102 (μm3 /hr) 於此，A為自黏著劑層20之厚度方向最外部至偏光件11之厚度方向中心部為止之距離(μm)；Tpol 為偏光件之厚度(μm)；Cpsa 為黏著劑層之潛變值(μm/hr)；Tpsa 為黏著劑層之厚度(μm)；Tpro 為 保護層之厚度(μm)。本說明書中「潛變值」係指在85℃下之潛變值。潛變值例如可依以下程序測定：將構成黏著劑層之黏著劑貼附於支持板。固定貼附有黏著劑之支持板並在該狀態下於其鉛直下方加上500g荷重。測定加上荷重1小時後黏著劑從支持板偏移之偏移量，並以該偏移量作為潛變值(μm/hr)。又，上述關係式中保護層之厚度Tpro 可從式：「偏光板之總厚度-黏著劑層厚度-偏光件厚度」求得。亦即Tpro 係保護層12及保護層13之總厚度與用以貼附保護層的接著劑層厚度(包含在要將偏光件或保護薄膜與反射型偏光件透過黏著劑層接著時的該黏著劑層)以及視需求形成於保護層12上的表面處理層之厚度的合計厚度。K值更宜為250×102 (μm3 /hr)以下，且宜為200×102 (μm3 /hr)以下，尤宜為150×102 (μm3 /hr)以下。K值之下限例可為15×102 (μm3 /hr)。只要K值為所述範圍，便可顯著抑制貫通孔部分之偏移(實質上為黏著劑層之偏移)。將K值設於預定值以下的技術性意義如下：當加諸於黏著劑層之力矩及黏著劑層本身的可動性大，則黏著劑層之偏移會變大，而當對黏著劑層之移動的抑止力大，黏著劑層之偏移便會較小。加諸於黏著劑層之力矩係與從可貼附偏光板之影像顯示單元至偏光件為止的距離及偏光件之厚度相關聯；黏著劑層本身的可動性係與黏著劑層之柔軟度及厚度相關聯；而對黏著劑層之移動的抑止力係與保護層之厚度相關聯。藉由縮小從影像顯示單元至偏光件為止的距離及偏光件之厚度，可縮小力矩；藉由設黏著劑層之潛變值在預定值以下(將黏著劑層構成得較硬)及使黏著劑層之厚度薄，可使黏著劑層本身不易移動；藉由將保護層之厚度Tpro 設在預定範圍內，可使對黏著劑層之移動的抑止力落在適當範圍內。因此，藉由調整上述各要件來將K值控制在預定值以下，可顯著抑制黏著劑層之偏移。具體而言，上述距離A宜為80μm以下，更宜為50μm以下。距離A之下限例如可為10μm。潛變值Cpsa 宜為140μm/hr以下，且宜為130μm/hr以下，更宜為120μm/hr以下，尤宜為100μm/hr以下。潛變值之下限例如可為50μm/hr。保護層的厚度Tpro 宜為15μm~65μm，較宜為15μm~55μm。黏著劑層的厚度Tpsa 宜為22μm以下，更宜為10μm~22μm。潛變值Cpsa 過小時及/或黏著劑層之厚度Tpsa 過小時，應力緩和會變得困難，而有破裂或剝落之風險提高的情形。保護層之厚度Tpro 若過小，則有難以調整捲曲之情形。
本發明實施形態中，偏光件11之厚度Tpol 宜為20μm以下，且宜為15μm以下，更宜為12μm以下，尤宜為10μm以下，且尤宜為8μm以下，特別宜為6μm以下，最宜為5μm以下。偏光件11之厚度下限宜為2μm，更宜為1μm。藉由將偏光件之厚度設為所述範圍，可抑制偏光件本身之熱收縮。結果可抑制會追隨偏光件之熱收縮的黏著劑層之變形(就結果而言為偏移)。
如上述偏光板具有矩形形狀時，偏光件之吸收軸方向實質上平行於長邊方向，亦可實質上垂直於長邊方向。根據本發明實施形態，即便在偏光件之吸收軸方向實質上平行於長邊方向之情況下，亦可如上述縮小偏光板之偏移量。換言之，根據本發明實施形態，即便在偏光板(實質上為偏光件)之熱收縮大的方向上仍可縮小偏移量。並且如上述，貫通孔亦可設於偏光板之隅部。隅部為偏光板(實質上為偏光件)之熱收縮較大的部分，但根據本發明實施形態，即可同於上述，即便在所述部分仍可縮小偏光板之偏移量。另，本說明書中，「實質上平行」及「大致平行」表示2個方向構成之角度為0°±7°之情況，宜為0°±5°，更宜為0°±3°。「實質上正交」及「大致正交」的表現包含2個方向構成之角度為90°±7°之情況，宜為90°±5°，更宜為90°±3°。並且，本說明書中單純提到「正交」或「平行」時，係包含實質上正交或實質上平行的狀態。又，本說明書中提及角度時，係包含相對於基準方向之順時針及逆時針兩者。
本發明實施形態之偏光板可作為視辨側偏光板來使用，亦可作為背面側偏光板來使用。並且，本發明實施形態之偏光板可因應目的更具有任意適當之光學機能層。光學機能層可舉例如相位差層、觸控面板用導電層、反射型偏光件。
在一實施形態中，可於內側保護層13與黏著劑層20之間設置相位差層。相位差層可為單一層亦可具有積層結構。相位差層以單一層構成時，該相位差層代表上可以λ/4板發揮功能。此時，相位差層之面內相位差Re(550)宜為100nm~200nm，較宜為120nm~170nm，更宜為130nm~150nm。偏光件之吸收軸與相位差層之慢軸構成的角度宜為40°~50°，42°~48°較佳，44°~46°更佳。相位差層宜展現逆色散波長特性，即相位差值會因應測定光的波長而變大。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，更宜為0.8以上且0.95以下。相位差層可為樹脂薄膜之延伸薄膜，亦可為液晶化合物之定向固化層。相位差層以樹脂薄膜構成時，相位差層亦可兼作內側保護層。關於以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之相位差層，例如記載於日本特開2017-54093號公報、日本特開2018-60014號公報。液晶化合物之具體例及定向固化層的形成方法的詳細內容記載於例如日本特開2006-163343號公報。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。此外，本說明書中「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx-ny)×d求得。nx為面內之折射率成為最大方向(亦即慢軸方向)的折射率，ny為於面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率。
相位差層具有積層結構時，相位差層代表上從偏光板側起依序具有H層與Q層。H層代表上可作為λ/2板發揮功能，而Q層代表上可作為λ/4板發揮功能。H層之Re(550)宜為200nm~300nm，且宜為230nm~290nm，更宜為260nm~280nm。偏光件之吸收軸與H層之慢軸構成的角度宜為10°~20°，12°~18°較佳，14°~16°更佳。Q層的Re(550)宜為100nm~200nm，120nm~170nm較佳，130nm~150nm更佳。偏光件之吸收軸與Q層之慢軸構成的角度宜為70°~80°，72°~78°較佳，74°~76°更佳。H層及Q層之配置順序可相反，H層之慢軸與偏光件之吸收軸構成之角度及Q層之慢軸與偏光件之吸收軸構成之角度亦可相反。H層及Q層分別可為樹脂薄膜之延伸薄膜，亦可為液晶化合物之定向固化層。
在一實施形態中，可於內側保護層13(有存在時則為相位差層)之與偏光件相反之側設置觸控面板用導電層。只要為所述構成，偏光板便可應用於影像顯示單元與偏光板間組入有觸控感測器之所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。該實施形態之偏光板代表上為視辨側偏光板。
在一實施形態中，可於外側保護層12之與偏光件相反之側設置反射型偏光件。反射型偏光件亦可兼作外側保護層。該實施形態之偏光板代表上為背面側偏光板。關於反射型偏光件之詳細內容例如記載於日本特表平9-507308號公報、日本特開2013-235259號公報。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
本發明實施形態之偏光板之高寬比宜為1.3~2.5。此時，偏光板之尺寸例如為長145mm~155mm及寬65mm~75mm，或為長230mm~240mm及寬140mm~150mm。即，本發明實施形態之偏光板可適宜用於智慧型手機或平板型PC。智慧型手機尺寸例如長可為120mm~200mm，寬可為30mm~120mm。
上述實施形態亦可適當組合。例如，本發明實施形態之偏光板中，可僅上述偏移量D滿足上述所期望之值，可僅上述K值滿足上述所期望之值，亦可偏移量D及K值兩者滿足上述所期望之值。
以下針對構成偏光板的偏光件、保護層及黏著劑層進行具體說明。
B.偏光板 B-1.偏光件 偏光件代表上係以含有二色性物質之樹脂薄膜構成。就樹脂薄膜而言，可採用能作為偏光件使用之任意適當的樹脂薄膜。樹脂薄膜代表上為聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA系樹脂」)薄膜。樹脂薄膜可為單層樹脂薄膜亦可為二層以上之積層體。
由單層樹脂薄膜構成之偏光件的具體例，可舉PVA系樹脂薄膜業已施行利用碘進行之染色處理及延伸處理(代表上為單軸延伸)者。上述利用碘進行之染色例如可將PVA系樹脂薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可延伸後再染色。可因應需求對PVA系樹脂薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，在染色前將PVA系樹脂薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系樹脂薄膜表面的污垢或抗黏結劑，還可使PVA系樹脂薄膜膨潤，從而防止染色不均等情況。
使用積層體而獲得之偏光件的具體例，可舉出使用樹脂基材與積層在該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體、或者是使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件，例如可透過以下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及，將該積層體延伸並染色以將PVA系樹脂層製成偏光件。在本實施形態中，延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且，視需要，延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。可以直接使用所得樹脂基材/偏光件之積層體(即，可將樹脂基材作為偏光件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面視目的積層任意適當的保護層後來使用。所述偏光件之製造方法的詳細內容記載於例如日本特開2012-73580號公報、日本特許第6470455號。本說明書即援用該等專利文獻之記載作為參考。
偏光件之厚度如上述A項所記載。
偏光件宜在波長380nm~780nm的任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率例如為41.5%~46.0%，且宜為43.0%~46.0%，較宜為44.5%~46.0%。偏光件的偏光度以97.0%以上為佳，99.0%以上較佳，99.9%以上更佳。
B-2.保護層 保護層係以可作為偏光件之保護層使用的任意適當的薄膜形成。成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉出三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，還可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂之樹脂組成物，例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
外側保護層12(尤其在偏光板為視辨側偏光板時)亦可視需要施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。並且/或者，外側保護層12亦可視需求施行有用以改善透過偏光太陽眼鏡視辨時之視辨性的處理(代表上為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由施行所述處理，即使透過偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時，仍可實現優異的視辨性。因此，偏光板亦可適宜用於可用於戶外之影像顯示裝置。
內側保護層宜在光學上為各向同性。本說明書中，「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。於此，「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之厚度方向的相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。nz為厚度方向之折射率。
保護層之厚度可採用任意適當之厚度。保護層之厚度例如為10μm~50μm，且宜為20μm~40μm。另外，在施有表面處理時，保護層之厚度係包含表面處理層之厚度。此外，於此所述「保護層之厚度」係外側保護層及內側保護層各自之厚度，與在上述式中之Tpro 不同。
C.黏著劑層 黏著劑層20如上述，可用以將偏光板貼合於影像顯示單元。黏著劑層代表上可以丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組成物)構成。丙烯酸系黏著劑組成物代表上含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為主成分。(甲基)丙烯酸系聚合物可以在黏著劑組成物之固體成分中例如為50重量%以上、較佳為70重量%以上、更佳為90重量%以上之比率含於黏著劑組成物中。(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。此外，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯在形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中宜以80重量%以上之比率來含有，更宜以90重量%以上之比率來含有。(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基可舉例如具有1個~18個碳原子之直鏈狀或支鏈狀烷基。該烷基的平均碳數宜為3個~9個，更宜為3個~6個。較佳之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸丁酯。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體(共聚單體)除了(甲基)丙烯酸烷基酯之外還可舉含羧基單體、含羥基單體、含醯胺基單體、含芳香環(甲基)丙烯酸酯、含雜環乙烯基系單體等。共聚單體之代表例可舉丙烯酸、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸苯氧乙酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮。丙烯酸系黏著劑組成物宜含有矽烷耦合劑及/或交聯劑。矽烷耦合劑可舉例如含環氧基之矽烷耦合劑。交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。並且，丙烯酸系黏著劑組成物亦可含有抗氧化劑及/或導電劑。黏著劑層的厚度Tpsa 例如為50μm以下，並且如上述宜為22μm以下，更宜為10μm~22μm。黏著劑層或丙烯酸系黏著劑組成物之詳細內容例如已記載於日本特開2006-183022號公報、日本特開2015-199942號公報、日本特開2018-053114號公報、日本特開2016-190996號公報、國際公開第2018/008712號中，本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數G2 ’宜為1.0×105 (Pa)以上，且宜為1.0×106 (Pa)以上，更宜為1.0×107 (Pa)以上，尤宜為1.0×108 (Pa)以上。儲存彈性模數G2 ’可為例如1.0×109 (Pa)以下。
D.影像顯示裝置 本發明實施形態之偏光板可應用在影像顯示裝置。因此，影像顯示裝置亦包含於本發明之實施形態中。影像顯示裝置包含影像顯示單元與偏光板。偏光板係上述A項~C項記載之本發明實施形態之偏光板。偏光板係透過黏著劑層貼合於影像顯示單元上。影像顯示裝置可舉如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。實施例之評估項目如下。又，只要無特別註記，實施例中之「份」及「%」即為重量基準。
(1)偏移量 將實施例及比較例所得偏光板透過黏著劑層貼附於玻璃板(Matsunami Glass Ind.,Ltd.製，長350mm×寬250mm×厚1.1mm)做成試驗試樣。針對該試驗試樣，供於85℃及120小時之加熱試驗。試驗後，以OLYMPUS公司製光學顯微鏡(MX61L)測定偏光板在貫通孔部分(實質上為黏著劑層)之偏移量。此外，測定係針對3個試驗試樣進行，並將3個測定值中之最大值作為偏移量。
>製造例1> 將含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物饋入具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中。並相對於單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100重量份一起饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)156萬之丙烯酸系聚合物之溶液(a)。相對於所得丙烯酸系聚合物(a)溶液之固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(商品名：TAKENATE D160N，三羥甲丙烷六亞甲基二異氰酸酯，三井化學(股)製)0.1份、過氧化苯甲醯(商品名：NYPER BMT 40SV，日本油脂(股)製)0.3份、含硫醇基之矽烷耦合劑(商品名：X-41-1810，信越化學工業(股)製，烷氧基量：30%，硫醇當量：450g/mol)0.3份及抗氧化劑(商品名：Irganox 1010，受阻酚系，BASF Japan公司製)0.2份，而獲得黏著劑組成物A。
>製造例2> 使用含有丙烯酸丁酯81.8份、丙烯酸苯氧乙酯16份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮1.5份、丙烯酸0.3份及丙烯酸4-羥丁酯0.4份之單體混合物，除此之外依與製造例1相同方式而調製出重量平均分子量(Mw)157萬之丙烯酸系聚合物(b)之溶液。使用丙烯酸系聚合物(b)，矽烷耦合劑使用含硫醇基之矽烷耦合劑(商品名：X-41-1056，信越化學工業(股)製，烷氧基量：30%，硫醇當量：450g/mol)0.2份，未使用抗氧化劑，且進一步加入雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(Mitsubishi Materials Corporation製)0.5份，除上述之外依與製造例1相同方式而獲得黏著劑組成物B。
>製造例3> 使用含有丙烯酸丁酯80.3份、丙烯酸苯氧乙酯16份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮3份、丙烯酸0.3份及丙烯酸4-羥丁酯0.4份之單體混合物，除此之外依與製造例1相同方式而調製出重量平均分子量(Mw)150萬之丙烯酸系聚合物(c)之溶液。使用丙烯酸系聚合物(c)，將矽烷耦合劑之摻混量設為0.1份，且加入導電劑(1-乙基-3-甲基咪唑雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，第一工業製藥公司製之離子性液體)5份，除上述之外依與製造例1相同方式而獲得黏著劑組成物C。
>製造例4> 依與製造例1相同方式而調製出重量平均分子量(Mw)165萬之丙烯酸系聚合物(d)之溶液。相對於所得丙烯酸系聚合物(d)溶液之固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(商品名：TAKENATE D110N，三羥甲丙烷六亞甲基二異氰酸酯，三井化學(股)製)0.1份、過氧化苯甲醯(商品名：NYPER BMT 40SV，日本油脂(股)製)0.3份及含乙醯乙醯基之矽烷耦合劑(商品名：A-100，綜研化學股份公司製)0.2份，而獲得黏著劑組成物D。
>製造例5> 矽烷耦合劑使用含硫醇基之矽烷耦合劑(商品名：X-41-1810，信越化學工業(股)製，烷氧基量：30%，硫醇當量：450g/mol)0.2份，除此之外依與製造例1相同方式而獲得黏著劑組成物E。
>實施例1> 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100μm)，並對樹脂基材單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER」)而成之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，並將所得者溶於水中而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 接著，調整液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)之濃度以使最後所得偏光件的單體透射率(Ts)成為所期望之值並同時浸漬於其中60秒(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)中，一邊在周速相異的輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在保持於約90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持在約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。 依上述方式，而獲得於樹脂基材上形成有厚度約5μm之偏光件之具有樹脂基材/偏光件之構成的積層體。 於所得積層體之偏光件表面(與樹脂基材相反之側的面)貼合HC-TAC薄膜作為外側保護層。此外，HC-TAC薄膜係三醋酸纖維素(TAC)薄膜(厚度25μm)上形成有硬塗(HC)層(厚度7μm)之薄膜，而TAC薄膜係貼合成為偏光件側。接著，剝離樹脂基材，並於該剝離面使用黏著劑組成物A形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板1。 將該偏光板沖裁成長148mm及寬70mm之尺寸，並於隅部形成直徑3.9mm之貫通孔。此時係以偏光件之吸收軸方向為長邊方向之方式進行沖裁。將所得偏光板供於上述(1)之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。此外，表1中「0°」指長邊方向，「90°」指短邊方向。
>實施例2> 依與實施例1相同方式而獲得偏光板1。除了將該偏光板設成偏光件之吸收軸方向成為短邊方向外，依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所得偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例3> 除了將黏著劑層之厚度設為15μm外，依與實施例1相同方式而獲得了偏光板2。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例4> 依與實施例3相同方式而獲得偏光板2。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例5> 依與實施例1相同方式而獲得具有樹脂基材/偏光件之構成的積層體。於所得積層體之偏光件表面(與樹脂基材相反之側的面)貼合HC-環烯烴系樹脂薄膜(HC厚度2μm，樹脂薄膜厚度25μm)作為外側保護層。接著，剝離樹脂基材，於該剝離面貼合環烯烴系樹脂薄膜(厚度13μm)作為內側保護層。並於內側保護層表面使用黏著劑組成物A形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板3。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例6> 依與實施例5相同方式而獲得偏光板3。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例7> 偏光件係使用使長條狀聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜含碘並沿長邊方向(MD方向)單軸延伸而得之薄膜(厚度12μm)。於該偏光件之兩側，將要作為外側保護層之長條狀HC-TAC薄膜及要作為內側保護層之長條狀丙烯酸系樹脂薄膜(厚度20μm)分別以使雙方長邊方向對齊之方式貼合。於內側保護層表面使用黏著劑組成物B形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板4。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例8> 依與實施例7相同方式而獲得偏光板4。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例9> 使用環烯烴系樹脂薄膜(厚度13μm)取代丙烯酸系樹脂薄膜來作為內側保護層，並且使用黏著劑組成物C取代黏著劑組成物B來形成黏著劑層(厚度20μm)，除此之外依與實施例7相同方式而獲得了偏光板5。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例10> 依與實施例9相同方式而獲得偏光板5。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例11> 除了使用TAC薄膜(厚度25μm)取代丙烯酸系樹脂薄膜來作為內側保護層外，依與實施例7相同方式而獲得了偏光板。於該偏光板之內側保護層側依序轉印液晶定向固化層H及液晶定向固化層Q。此外，液晶定向固化層H及液晶定向固化層Q係依下述方式製作。於液晶定向固化層Q之表面使用黏著劑組成物D形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板(附相位差層之偏光板)6。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
將顯示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司製：商品名「Paliocolor LC242」，以下述式表示)10g與對該聚合性液晶化合物的光聚合引發劑(BASF公司製：商品名「IRGACURE 907」)3g溶解至甲苯40g中，而調製出液晶組成物(塗敷液)。 [化學式1] 使用擦拭布擦拭聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面，施行定向處理。定向處理之方向係設為貼合至偏光板時由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈15°方向。利用棒塗機將上述液晶塗敷液塗敷至該定向處理表面，並於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，藉此使液晶化合物定向。使用金屬鹵素燈以1mJ/cm2 的光照射依上述方式形成的液晶層，使該液晶層硬化，藉此於PET薄膜上形成液晶定向固化層H。液晶定向固化層H的厚度為2.5μm，面內相位差Re(550)為270nm。並且，液晶定向固化層H具有nx＞ny＝nz之折射率分布。 變更塗敷厚度，並將定向處理方向設為由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈75°方向，除此之外依與上述相同方式於PET薄膜上形成液晶定向固化層Q。液晶定向固化層Q的厚度為1.5μm，面內相位差Re(550)為140nm。並且，液晶定向固化層Q具有nx＞ny＝nz之折射率分布。
>實施例12> 除了使用TAC薄膜(厚度25μm)取代HC-TAC薄膜來作為外側保護層外，依與實施例7相同方式而獲得了偏光板。並於外側保護層表面透過一般黏著劑層貼合反射型偏光件(厚度26μm)後，於反射型偏光件表面使用黏著劑組成物E形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板7。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例13> 依與實施例12相同方式而獲得偏光板7。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例14> 依與實施例1相同方式而獲得具有樹脂基材/偏光件之構成的積層體。於所得積層體之偏光件表面(與樹脂基材相反之側的面)貼合TAC薄膜(厚度20μm)作為內側保護層。接著，剝離樹脂基材，於該剝離面貼合反射型偏光件(厚度26μm)。於內側保護層表面使用黏著劑組成物D形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板8。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例15> 依與實施例14相同方式而獲得偏光板8。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>比較例1> 偏光件係使用使長條狀聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜含碘並沿長邊方向(MD方向)單軸延伸而得之薄膜(厚度22μm)。於該偏光件之兩側，將要作為外側保護層之長條狀TAC薄膜(厚度40μm)及要作為內側保護層之長條狀丙烯酸系樹脂薄膜(厚度30μm)分別以使雙方長邊方向對齊之方式貼合。於內側保護層表面使用黏著劑組成物D形成黏著劑層(厚度20μm)，而獲得偏光板9。將該偏光板依與實施例1相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>比較例2> 依與比較例1相同方式而獲得偏光板9。將該偏光板依與實施例2相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例16> 依與實施例1相同方式而獲得偏光板1。將該偏光板沖裁成長152mm及寬73mm之尺寸，並於長邊方向端部之中央部形成直徑4.7mm之貫通孔。此時係以偏光件之吸收軸方向為長邊方向之方式進行沖裁。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例17> 依與實施例5相同方式而獲得偏光板3。將該偏光板依與實施例16相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例18> 依與實施例5相同方式而獲得偏光板3。除了將該偏光板設成偏光件之吸收軸方向成為短邊方向外，依與實施例16相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例19> 依與實施例7相同方式而獲得偏光板4。將該偏光板依與實施例16相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例20> 除了使用黏著劑組成物B取代黏著劑組成物C來形成黏著劑層(厚度20μm)外，依與實施例9相同方式而獲得了偏光板10。將該偏光板依與實施例18相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>比較例3> 依與比較例1相同方式而獲得偏光板9。將該偏光板依與實施例16相同方式進行沖裁而形成貫通孔。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。並將結果與偏光板之詳細構成一同示於表1。
>實施例21~28> 以表1所示構成製出具有貫通孔之偏光板。將所獲得之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
由表1可知，本發明實施例之偏光板在加熱試驗後於貫通孔部分之偏移量與比較例相比顯著地小。並且，將分別表示吸收軸為0°方向之偏光板(例如實施例1)及吸收軸為90°方向之偏光板(例如實施例2)的K值與偏移量之關係的圖表列於圖4及圖5。由圖4及圖5可知藉由縮小K值則偏移量會變小，且該關係具有高度相關性。
產業上之可利用性 本發明偏光板可適宜用於影像顯示裝置，尤其可適宜用於以智慧型手機、平板型PC或智慧型手錶為代表之具有相機部之影像顯示裝置。
11:偏光件 12:外側保護層 13:內側保護層 20:黏著劑層 30:貫通孔 100:偏光板 120:玻璃板 A:自黏著劑層之厚度方向最外部至偏光件之厚度方向中心部為止之距離 D:偏移量 L1:自偏光件之長邊方向中央至長邊方向端部為止的距離 L2:自偏光件之長邊方向中央至貫通孔中心為止的長邊方向距離 R:貫通孔之直徑 W1:自偏光件之短邊方向中央至短邊方向端部為止的距離 W2:自偏光件之短邊方向中央至貫通孔中心為止的短邊方向距離 II-II:線
圖1係說明本發明實施形態之偏光板中貫通孔之形成位置的概略俯視圖。 圖2係圖1左側所示偏光板的II-II線的概略截面圖。 圖3係說明本發明實施形態之偏光板中在貫通孔部分之偏移的重點部份放大截面圖。 圖4係表示關於實施例及比較例所得之吸收軸為0°方向之偏光板的K值與偏移量之關係的圖表。 圖5係表示關於實施例及比較例所得之吸收軸為90°方向之偏光板的K值與偏移量之關係的圖表。
11:偏光件
12:外側保護層
13:內側保護層
20:黏著劑層
30:貫通孔
100:偏光板

Claims (13)

  1. 一種偏光板，具有偏光件、配置於該偏光件之至少一側的保護層及黏著劑層，且該偏光板形成有貫通孔；在俯視該偏光件時，令自長邊方向中央至長邊方向端部為止的距離為L1、令自該偏光件之長邊方向中央至前述貫通孔中心為止的長邊方向距離為L2、令自該偏光件之短邊方向中央至短邊方向端部為止的距離為W1、且令自該偏光件之短邊方向中央至該貫通孔中心為止的短邊方向距離為W2時，該貫通孔係形成於滿足0.85≦L2/L1≦0.99及0.50≦W2/W1≦0.99之位置；自該黏著劑層之厚度方向最外部至該偏光件之厚度方向中心部為止之距離A(μm)、該偏光件之厚度Tpol(μm)、該黏著劑層之潛變值Cpsa(μm/hr)、該黏著劑層之厚度Tpsa(μm)及該保護層之厚度Tpro(μm)滿足下述關係：(A×Tpol)×(Cpsa×Tpsa)/Tpro=K≦350×102(μm3/hr)；該黏著劑層在85℃下之潛變值Cpsa為140(μm/hr)以下；在透過該黏著劑層將該偏光板貼合於玻璃板之狀態下供於85℃及120小時之加熱試驗後，該偏光板在該貫通孔部分的偏移量D為10μm以上且300μm以下，且偏移量D相對於該貫通孔之直徑R的比率D/R為15%以下。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述偏光件之厚度Tpol為20μm以下。
  3. 如請求項2之偏光板，其中前述偏光件之厚度Tpol為10μm以下。
  4. 如請求項3之偏光板，其中前述偏光板在前述貫通孔部分之偏移量為120μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述黏著劑層之厚度 Tpsa為10μm~22μm。
  6. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述黏著劑層在85℃下之潛變值Cpsa為50(μm/hr)以上。
  7. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述偏光板之偏移量為前述黏著劑層之偏移量。
  8. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述貫通孔形成於隅部。
  9. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其具有矩形形狀，且前述偏光件之吸收軸方向實質上平行於長邊方向。
  10. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述保護層僅配置於前述偏光件之一側。
  11. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述貫通孔之直徑為10mm以下。
  12. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其高寬比為1.3~2.5。
  13. 一種影像顯示裝置，包含影像顯示單元與如請求項1至12中任一項之偏光板，且該偏光板係透過前述黏著劑層貼合於該影像顯示單元。
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