TWI825204B - 高架行走車、高架行走車系統及障礙物的檢出方法 - Google Patents

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Abstract

[課題]將成為行走的障礙的障礙物確實地檢出,且抑制將其他的高架行走車作為障礙物誤檢出。 [技術內容]高架行走車(100),是具備:沿著格子狀軌道(R)行走的行走部(20);及與行走部(20)連結且被配置於比軌道更下方的本體部(10);及在行走部(20)的行走方向被配置於比本體部(10)的中央更後方側且比本體部(10)更下方,朝向行走方向的前方且下方將檢出光(L)照射,藉由將檢出光(L)的反射光受光來檢出障礙物的檢出部(40)。

Description

高架行走車、高架行走車系統及障礙物的檢出方法
本發明,是有關於高架行走車、高架行走車系統、及障礙物的檢出方法。
在半導體製造工場等中,使用例如,收容半導體晶圓的FOUP(前開口式通用容器),或是將收容光柵的光柵Pod等的物品藉由高架行走車搬運的高架行走車系統。在此高架行走車系統中,例如光學式的障礙物感測器是被設於高架行走車,障礙物被檢出的情況時將高架行走車的行走停止(專利文獻1參照)。在專利文獻1的高架行走車中,障礙物感測器(檢出部)是被配置於高架行走車的行走方向的前側,從障礙物感測器對於水平方向朝下方側傾斜地將雷射光等的檢出光照射,藉由將由障礙物反射的反射光受光,來檢出行走方向的前方的障礙物,且使此檢出光不會被入射至並走或是錯身而過的高架行走車的障礙物感測器。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利5707833號公報
專利文獻1的高架行走車,是在行走方向的前方若其他的高架行走車存在的情況時也會藉由障礙物感測器檢出該前方的高架行走車。即,在專利文獻1的包含高架行走車的高架行走車系統中,是適用使用由障礙物感測器所產生的檢出結果來防止與前方的高架行走車的干涉的手法。對於這種手法期望,高架行走車彼此的干涉是由障礙物感測器以外的手段防止,且將高架行走車以外的障礙物由障礙物感測器檢出。適用此手法時,使用上述的專利文獻1的高架行走車中的障礙物感測器的話,具有檢出光照到存在於行走方向的前方的高架行走車而反射的情況,其結果,具有將前方的其他的高架行走車作為障礙物誤檢出的課題。
本發明的目的是提供一種高架行走車、高架行走車系統、及障礙物的檢出方法,可將成為行走的障礙的障礙物確實地檢出,且可抑制將其他的高架行走車作為障礙物誤檢出。
本發明的態樣的高架行走車,是具備:沿著軌道行走的行走部;及與行走部連結且被配置於比軌道更下方的本體部;及在行走部的行走方向被配置於比本體部的中央更後方側且比本體部更下方,朝向行走方向的前方且下方將檢出光照射,藉由將檢出光的反射光受光來檢出障礙物的檢出部。
且本體部,是具備:被固定於行走部的上部單元、及被配置於上部單元的下方可繞垂直方向的旋轉軸周圍旋轉的移載裝置,檢出部,是從俯視看以成為比移載裝置的旋轉範圍更外側的方式被安裝於被設於上部單元的支撐構件也可以。且,檢出部,是在從俯視看對於行走方向傾斜45度或是幾乎45度的虛線上各別被配置在隔著移載裝置的2處,具備切換至2個檢出部之中成為行走方向的後方側的檢出部的切換部也可以。且,2個檢出部的各個,是使檢出光從行走方向的前方,由從俯視看朝順時針或是逆時針90度或是幾乎90度的範圍掃描也可以。
本發明的態樣的高架行走車系統,是具備軌道、及沿著軌道行走的複數高架行走車,的高架行走車系統,高架行走車,是上述的態樣的高架行走車。
且軌道,是具備沿著第1方向設置的複數第1軌道、及沿著與第1方向垂直交叉的第2方向設置的複數第2軌道,的格子狀軌道,高架行走車,是可從第1軌道移動至第2軌道,或是可從第2軌道朝第1軌道移動地行走,檢出部,是以可對應格子狀軌道中的行走方向將檢出範圍切換也可以。且,高架行走車,是具備2個檢出部,2個檢出部的一方,是檢出範圍是第1方向的雙方向中的一方、及 第2方向的雙方向中的一方的範圍,2個檢出部的另一方,是檢出範圍是第1方向的雙方向中的另一方、及第2方向的雙方向中的另一方的範圍也可以。且,檢出部,是藉由使檢出光掃描而朝檢出範圍將檢出光照射也可以。
本發明的態樣的障礙物的檢出方法,是在高架行走車中檢出障礙物的方法,高架行走車,是具備:沿著軌道行走的行走部、及與行走部連結且被配置於比軌道更下方的本體部,該方法,包含:從在行走部的行走方向比本體部的中央更後方側且比本體部更下方,朝向行走方向的前方且下方將檢出光照射;及藉由將檢出光的反射光受光而檢出障礙物。
在本發明的態樣的高架行走車及障礙物的檢出方法中,因為將檢出光從比本體部的中央更後方側朝向行走方向的前方且下方照射,所以可確實地將成為行走的障礙的障礙物檢出,且可防止例如,將存在於軌道的前方的其他的高架行走車誤(意外地)作為障礙物檢出。且,因為將檢出光朝向下方,所以可以早期檢出成為障礙物的可能性高的上昇來的物體。
且在本體部,是具備:被固定於行走部的上部單元、及被配置於上部單元的下方可繞垂直方向的旋轉軸周圍旋轉的移載裝置,檢出部,是從俯視看以成為比移載裝置的旋轉範圍更外側的方式被安裝於被設於上部單元 的支撐構件的構成中,因為支撐構件是被安裝於比移載裝置的旋轉範圍更外側,所以可以迴避支撐構件及移載裝置的干涉,且可以將檢出部配置於適切的位置。且,在檢出部,是從俯視看對於行走方向傾斜45度或是幾乎45度的虛線上各別被配置在隔著移載裝置的2處,具備切換至2個檢出部之中成為行走方向的後方側的檢出部的切換部的構成中,例如在垂直交叉的第1方向及第2方向中,即使朝第1方向的雙方向,第2方向的雙方向的其中任一行走的情況,藉由使用2個感測器的其中任一,仍可以將檢出部配置在行走方向的後方側。且,在2個檢出部的各個,是使檢出光從行走方向的前方,朝由從俯視看朝順時針或是逆時針90度或是幾乎90度的範圍掃描的構成中,因為2個檢出部是各別使檢出光由90度或是幾乎90度的範圍掃描,所以可以確實地對於行走方向的前方及與行走方向垂直交叉的方向的雙方照射檢出光。
在本發明的態樣的高架行走車系統中,在複數高架行走車沿著軌道行走的系統中,因為使用上述的高架行走車,所以可防止複數高架行走車的任一誤(意外地)檢出障礙物,藉由迴避高架行走車不必要的停止,就可以提高系統的運轉效率。進一步,複數台的高架行走車是在軌道錯身而過地行走的情況,或是並行行走的情況等,在複數高架行走車彼此接近的情況,可迴避來自一方的高架行走車的檢出光誤(意外地)入射至另一方的高架行走車的檢出部,可防止高架搬運車將來自其他的高架行走車的檢 出光受光而誤認障礙物存在。
且在軌道,是具備:沿著第1方向設置的複數第1軌道、及沿著與第1方向垂直交叉的第2方向設置的複數第2軌道,的格子狀軌道,高架行走車,是可從第1軌道移動至第2軌道,或是可從第2軌道朝第1軌道移動地行走,檢出部,是以可對應格子狀軌道中的行走方向的方式將檢出範圍切換的構成中,行走於第1軌道或是第2軌道的情況時,因為可對應行走方向將檢出部的檢出範圍切換,所以各高架行走車,可以配合行走方向適切地檢出障礙物。且,在高架行走車,是具備2個檢出部,2個檢出部的一方,其檢出範圍是第1方向的雙方向中的一方、及第2方向的雙方向中的一方的範圍,2個檢出部的另一方,其檢出範圍是第1方向的雙方向中的另一方、及第2方向的雙方向中的另一方的範圍的構成中,將第1方向的雙方向或是第2方向的雙方向的其中任一作為行走方向的情況,藉由使用2個檢出部的其中任一,就可以確實地進行障礙物的檢出。且,檢出部,是在藉由使檢出光掃描而朝檢出範圍將檢出光照射的構成中,藉由使檢出光掃描,檢出光就可以容易且確實地朝檢出範圍照射。
以下,對於本發明的實施例一邊參照圖面一邊說明。但是,本發明不限定於以下說明的形態。且,在圖面中為了說明實施例,會加大一部分或是強調記載等適宜地將縮尺變更表現。在以下的各圖中,使用XYZ座標系說明圖中的方向。在此XYZ座標系中,將與水平面平行的平面設成XY平面。在此XY平面中將高架行走車100的行走方向且一的直線方向表記為X方向,將與X方向垂直交叉的方向表記為Y方向。又,高架行走車100的行走方向,可從如以下的圖所示的狀態朝其他的方向變化,也有例如朝曲線方向行走的情況。且,與XY平面垂直的方向是表記為Z方向。X方向、Y方向及Z方向的各個,其圖中的箭頭所指的方向是+方向,與箭頭所指的方向相反的方向是-方向。且,將Z軸周圍的旋轉方向表記為θZ方向。
第1圖,是顯示本實施例的高架行走車100的一例的側面圖。第2圖,是第1圖所示的高架行走車100的立體圖。第3圖,是顯示本實施例的高架行走車系統SYS的一例的立體圖。如第1圖~第3圖所示,高架行走車100,是沿著高架行走車系統SYS的格子狀軌道(軌道)R移動,將收容半導體晶圓的FOUP(前開口式通用容器),或是收容光柵的光柵Pod(莢)等的物品M搬運。高架行走車100,因為是將物品M搬運,而具有稱為高架搬運車的情況。
高架行走車系統SYS,是例如在半導體製造工場的清淨室中,將物品M藉由高架行走車100搬運用的系統。在高架行走車系統SYS中,高架行走車100,是例如使用複數台也可以。藉由複數高架行走車100而將物品M搬運,高密度的搬運是成為可能,成為可提高物品M的搬運效率。
格子狀軌道R,是軌道的一形態。格子狀軌道R,是被舖設在清淨室等的建築的頂棚或是頂棚附近。格子狀軌道R,是具有第1軌道R1、及第2軌道R2、及部分軌道R3(第3圖參照)。第1軌道R1,是沿著X方向(第1方向D1)設置。第2軌道R2,是沿著Y方向(第2方向D2)設置。在本實施例中,複數第1軌道R1及複數第2軌道R2,雖是彼此沿著垂直交叉的方向設置,但是彼此不直接交叉地設置。部分軌道R3,是被配置於第1軌道R1及第2軌道R2的交叉部分。格子狀軌道R,是藉由使第1軌道R1及第2軌道R2沿著垂直交叉的方向設置,從俯視看成為複數格C(區劃)相鄰接的狀態。
第1軌道R1、第2軌道R2、及部分軌道R3,是藉由吊下構件H(第3圖參照)而被未圖示的頂棚吊下。吊下構件H,是具有:將第1軌道R1吊下用的第1部分H1、及將第2軌道R2吊下用的第2部分H2、及將部分軌道R3吊下用的第3部分H3。第1部分H1及第2部分H2,是各別被設置在隔著第3部分H3的二處。
第1軌道R1、第2軌道R2、及部分軌道R3,是各別具有高架行走車100的後述的行走車輪21所行走的行走面R1a、R2a、R3a。第1軌道R1及部分軌道R3之間,在第2軌道R2及部分軌道R3之間,各別形成有間隙D。間隙D,是高架行走車100行走於第1軌道R1將第2軌道R2橫切時,或是行走於第2軌道R2將第1軌道R1橫切時,高架 行走車100的一部分也就是後述的連結部30通過的部分。因此,間隙D,是設成連結部30可通過的寬度。第1軌道R1、第2軌道R2、及部分軌道R3,是沿著相同或是幾乎相同的水平面設置。在本實施例中,第1軌道R1、第2軌道R2、及部分軌道R3,其行走面R1a、R2a、R3a是被配置於相同或是幾乎相同的水平面上。
如第1圖及第2圖所示,高架行走車100,是具有:本體部10、及行走部20、及連結部30、及檢出部40、及控制部50。控制部50,是將高架行走車100的各部的動作總括地控制。控制部50,雖是被設於本體部10,但是被設於本體部10的外部也可以。本體部10,是被配置於格子狀軌道R的下方(-Z側)。本體部10,是由從俯視看形成例如矩形狀。本體部10,是形成從俯視看可被收納於格子狀軌道R中的1個格C的尺寸。因此,與行走於相鄰接的第1軌道R1或是第2軌道R2的其他的高架行走車100錯身而過的空間被確保。本體部10,是具備上部單元17、及移載裝置18。上部單元17,是透過連結部30從行走部20被吊下。上部單元17,是例如從俯視看為矩形狀,在上面17a具有4個角落部。
移載裝置18,是被設於上部單元17的下方。移載裝置18,是可繞垂直方向的旋轉軸AX1周圍旋轉。移載裝置18,是具有:將物品M保持的物品保持部13、及將物品保持部13朝垂直方向昇降的昇降驅動部14、及將昇降驅動部14移動的橫出機構11、及將橫出機構11保持的轉動12。物品保持部13,是藉由將物品M的凸緣部Ma把持,而將物品M吊下地保持。物品保持部13,是例如,具有可朝水平方向移動的爪部13a的挾盤,藉由將爪部13a進入物品M的凸緣部Ma的下方,將物品保持部13上昇,而將物品M保持。物品保持部13,是與金屬線或是皮帶等的吊下構件13b連接。
昇降驅動部14,是例如吊車,藉由將吊下構件13b吐出而將物品保持部13下降,藉由將吊下構件13b捲取而將物品保持部13上昇。昇降驅動部14,是被控制部50控制,由規定的速度將物品保持部13下降或是上昇。且,昇降驅動部14,是被控制部50控制,將物品保持部13保持於目標的高度。橫出機構11,是例如具有在Z方向被重疊配置的複數可動板。可動板,可朝Y方向移動。在最下層的可動板中,安裝有昇降驅動部14。橫出機構11,是藉由未圖示的驅動裝置將可動板移動,可以將被安裝於最下層的可動板的昇降驅動部14及物品保持部13對於行走方向橫出。橫出機構11,是藉由未圖示的驅動裝置將可動板移動,而可以將被安裝於最下層的可動板的昇降驅動部14及物品保持部13對於行走方向朝一方向,即一直線方向之中的一方向橫出滑動移動。轉動部12,是在橫出機構11及上部單元17之間被安裝於旋轉驅動部12b,將橫出機構11保持。
轉動部12,是被設於橫出機構11及上部單元17之間。轉動部12,是具有轉動構件12a、及旋轉驅動部12b。轉動構件12a,是朝Z軸的軸周圍方向可轉動地設置。轉動構件12a,是將橫出機構11支撐。旋轉驅動部12b,是使用電動馬達等,將轉動構件12a繞垂直軸也就是旋轉軸AX1的軸周圍方向轉動。轉動部12,是藉由來自旋轉驅動部12b的驅動力而將轉動構件12a轉動,而可以將橫出機構11(昇降驅動部14及物品保持部13)繞旋轉軸AX1的軸周圍方向旋轉。
旋轉驅動部12b,是使用電動馬達等,將轉動部12繞旋轉軸AX1周圍旋轉。旋轉驅動部12b,可以與轉動部12的旋轉一起,將橫出機構11繞旋轉軸AX1周圍旋轉。橫出機構11是藉由旋轉驅動部12b而繞旋轉軸AX1周圍旋轉的情況,被安裝於橫出機構11的下側的昇降驅動部14及物品保持部13是一體地繞旋轉軸AX1周圍旋轉。
第6圖,是顯示橫出機構11及昇降驅動部14的旋轉移動的一例。如第6圖所示,旋轉驅動部12b,可以從配合朝X方向或是Y方向將橫出機構11的橫出滑動移動的方向的狀態,由繞旋轉軸AX1周圍270度的範圍將橫出機構11旋轉。此情況,成為從在格子狀軌道R停止的本體部10對於X方向及Y方向的其中任一的方向皆可將物品保持部13橫出滑動移動。
又,橫出機構11,是可將昇降驅動部14及物品保持部13朝一直線方向的內的雙方向滑動移動的構成也可以。在此構成中,旋轉驅動部12b,是從配合朝X方向或是Y方向將橫出機構11的滑動移動的方向的狀態,由繞旋轉軸AX1周圍90度的範圍將橫出機構11旋轉也可以。此情況,成為從在格子狀軌道R停止的本體部10對於X方向及Y方向的其中任一的方向皆可將物品保持部13滑動移動。
進一步具備,對於橫出機構11將昇降驅動部14繞垂直軸周圍旋轉驅動的第2旋轉驅動部(未圖示)也可以。此第2旋轉驅動部,是例如,被安裝於橫出機構11中的最下層的可動板。此第2旋轉驅動部,是使用電動馬達等,以藉由橫出機構11橫出滑動移動的一直線方向為基準,由繞垂直軸周圍至少180度的範圍將昇降驅動部14(物品保持部13)旋轉。例如,藉由將第2旋轉驅動部驅動,將物品M的正面側從朝向+X方向的狀態繞垂直軸周圍180度旋轉,就可以將物品M的正面側朝向-X方向(即相反方向)。又,藉由第2旋轉驅動部將昇降驅動部14(物品保持部13)旋轉90度,可以將物品M的正面側從朝向+X方向的狀態,成為朝向+Y方向或是-Y方向的狀態。
行走部20,是具有行走車輪21、及輔助車輪22。行走車輪21,是各別被配置在上部單元17(本體部10)的上面17a的4個角落部。行走車輪21是各別被安裝於被設於連結部30的旋轉軸。旋轉軸,是沿著XY平面平行或是幾乎平行地設置。行走車輪21是各別藉由後述的行走驅動部33的驅動力而旋轉驅動,行走車輪21的各個,是在格子狀軌道R中,在第1軌道R1、第2軌道R2、及部分軌道R3的行走面R1a、R2a、R3a轉動,使高架行走車100行走。又,4個行走車輪21的全部不限定於藉由行走驅動部33的驅動力旋轉驅動,只對於4個行走車輪21之中的一部分旋轉驅動的構成也可以。
行走車輪21,是以繞轉軸AX2為中心朝θZ方向可繞轉地設置。行走車輪21,是藉由後述的轉向機構34而朝θZ方向繞轉,其結果,可以將高架行走車100的行走方向變更。輔助車輪22,是在行走車輪21的行走方向的前後各配置1個。輔助車輪22的各個,是與行走車輪21同樣地,成為可繞沿著XY平面平行或是幾乎平行的旋轉軸的軸周圍旋轉。輔助車輪22的下端,是設定成比行走車輪21的下端更高。因此,行走車輪21是行走於行走面R1a、R2a、R3a時,輔助車輪22,是不與行走面R1a、R2a、R3接觸。且,行走車輪21通過間隙D時,輔助車輪22是與行走面R1a、R2a、R3接觸,抑制行走車輪21的陷入。又,不限定於在1個行走車輪21設置2個輔助車輪22,例如,在1個行走車輪21設置1個輔助車輪22也可以,不設置輔助車輪22也可以。
且如第1圖及第2圖所示,以將移載裝置18及保持在移載裝置18的物品M包圍的方式設有蓋W也可以。蓋W,是下端開放的筒狀,且,具有將橫出機構11的可動板突出的部分切除的形狀。蓋W,其上端是被安裝於轉動部12的轉動構件12a,伴隨轉動構件12a的轉動繞旋轉軸AX1的軸周圍轉動。
連結部30,是將本體部10的上部單元17及行走部20連結。連結部30,是各別被設置在上部單元17(本體部10)的上面17a的4個角落部。本體部10,是藉由此連結部30而成為被吊下的狀態,被配置於比格子狀軌道R更下方。連結部30,是具有支撐構件31、及連接構件32。支撐構件31,是將行走車輪21的旋轉軸及輔助車輪22的旋轉軸可旋轉地支撐。藉由支撐構件31,將行走車輪21及輔助車輪22的相對位置保持。
連接構件32,是從支撐構件31朝下方延伸並與上部單元17的上面17a連結,將上部單元17保持。連接構件32,是在內部具備將後述的行走驅動部33的驅動力傳達至行走車輪21的傳達機構。此傳達機構,是使用鏈條或是皮帶的構成也可以,使用齒輪列的構成也可以。連接構件32,是以繞轉軸AX2為中心繞θZ方向可旋轉地設置。此連接構件32是藉由以繞轉軸AX2為中心旋轉,而可以將行走車輪21朝θZ方向繞轉。
在連結部30中,設有行走驅動部33、及轉向機構34。行走驅動部33,是被裝設於連接構件32。行走驅動部33,是將行走車輪21驅動的驅動源,例如使用電動馬達等。4個行走車輪21,是各別藉由行走驅動部33被驅動而成為驅動輪。4個行走車輪21,是以成為相同或是幾乎相同的旋轉數的方式被控制部50控制。
轉向機構34,是藉由將連結部30的連接構件32,以繞轉軸AX2為中心旋轉,而將行走車輪21朝θZ方向繞轉。藉由將行走車輪21朝θZ方向繞轉,而將高架行走車100的行走方向從第1方向D1朝第2方向D2,或是從第2方向D2朝第1方向D1可變更。
轉向機構34,是具有驅動源35、及小齒輪36、及齒條37。驅動源35,是在行走驅動部33被安裝於遠離繞轉軸AX2的側面。驅動源35,是例如使用電動馬達等。小齒輪36,是被安裝於驅動源35的下面側,藉由由驅動源35發生的驅動力繞θZ方向旋轉驅動。小齒輪36,是從俯視看為圓形狀,在外周的圓周方向具有複數齒。齒條37,是被固定於上部單元17的上面17a。齒條37,是各別被設置在上部單元17的上面17a的4個角落部,被設成以行走車輪21的繞轉軸AX2為中心的扇形狀。齒條37,是在外周的圓周方向,具有與小齒輪36的齒嚙合的複數齒。
小齒輪36及齒條37,是在彼此的齒嚙合的狀態下被配置。藉由小齒輪36朝θZ方向旋轉,使小齒輪36沿著齒條37的外周朝以繞轉軸AX2為中心的圓周方向移動。藉由此小齒輪36的移動,行走驅動部33及轉向機構34是與小齒輪36一起朝以繞轉軸AX2為中心的圓周方向繞轉。
藉由轉向機構34的繞轉,被配置於上面17a的4個角落部的行走車輪21及輔助車輪22的各個是由以繞轉軸AX2為中心朝θZ方向90度的範圍繞轉。轉向機構34的驅動,是藉由控制部50而被控制。控制部50,是將4個行走車輪21的繞轉動作由同一的時間點進行地指示也可以,由不同的時間點進行地指示也可以。藉由將行走車輪21及輔助車輪22繞轉,使行走車輪21從與第1軌道R1及第2軌道R2的一方接觸的狀態移動至與另一方接觸的狀態。因此,可以將高架行走車100的行走方向在第1方向D1(X方向)及第2方向D2(Y方向)之間切換。
檢出部40,是障礙物感測器。檢出部40,是具有第1檢出部41及第2檢出部42。第1檢出部41及第2檢出部42,是各別朝向行走方向的前方且下方將檢出光L照射,藉由將檢出光L的反射光受光而檢出障礙物。第1檢出部41及第2檢出部42,是各別具備:將檢出光L射出的未圖示的照射部、及將檢出光L的反射光受光的未圖示的受光部。
第1檢出部41及第2檢出部42,是各別在行走部20的行走方向被配置於比本體部10的中央更後方側且比本體部10更下方。又,具備將移載裝置18包圍的蓋W的情況時,第1檢出部41及第2檢出部42,是被配置於比此蓋W更下方。在本實施例中,本體部10的中央,是與移載裝置18的旋轉軸AX1的位置一致或是幾乎一致。因此,行走部20的行走方向是-X方向(第1圖的紙面左方向)時,在行走方向被配置於比本體部10的中央(旋轉軸AX1)更後方側(+X側)的第1檢出部41,是作為檢出部40的功能。此情況,在行走方向被配置於比本體部10的中央(旋轉軸AX1)更前方側(-X側)的第2檢出部42,是不作為檢出部40的功能。且,行走部20的行走方向是+X方向(第1圖的紙面右方向)時,在行走方向被配置於比本體部10的中央(旋轉軸AX1)更後方側(-X側)的第2檢出部42,是作為檢出部40的功能。此情況,在行走方向被配置於比本體部10的中央(旋轉軸AX1)更前方側(+X側)的第1檢出部41,是不作為檢出部40的功能。對於第1檢出部41及第2檢出部42的詳細,是如後述。
第1檢出部41及第2檢出部42,是各別被安裝於支撐構件43、44的下端。支撐構件43、44,是設成棒狀,從俯視看被配置於上部單元17中的相互相面對的角部。支撐構件43、44的各個,是被安裝於上部單元17的下面,朝下方延伸。支撐構件43、44,是與上下方向(Z方向)平行,進一步對於旋轉軸AX1以成為平行的方式被設置。
第4圖,是將本體部10從上方所見的狀態的示意圖。如第4圖所示,第1檢出部41及第2檢出部42,是從俯視看以成為比移載裝置18的旋轉範圍K1更外側的方式被安裝於支撐構件43、44。旋轉範圍K1,是在移載裝置18中在不進行橫出機構11的橫出的狀態下繞旋轉軸AX1的軸周圍旋轉的範圍。支撐構件43、44,是以成為比旋轉範圍K1更外側的方式被配置於上部單元17(第1圖及第2圖參照)。支撐構件43、44是藉由被配置於比旋轉範圍K1更外側,而可迴避支撐構件43、44及移載裝置18之間的干涉,且成為可將第1檢出部41及第2檢出部42配置於適切的位置。又,在第4圖中,省略蓋W(第1圖等參照)的記載。在移載裝置18的周圍有蓋W的情況,是包含此蓋W地成為旋轉範圍K1,支撐構件43、44,是以成為比包含蓋W的旋轉範圍K1更外側的方式被安裝於上部單元17。
第5圖,是顯示高架行走車100中的移載裝置18的動作的一例的側面圖。如第5圖所示,移載裝置18,是藉由將橫出機構11橫出,就可以將昇降驅動部14及物品保持部13從上部單元17的下方突出。突出的方向,是藉由轉動部12中的轉動構件12a的轉動位置而被設定。在本實施例中,棒狀的支撐構件43、44因為是被配置於上部單元17的相面對的角部,所以將橫出機構11橫出時,以避免這些支撐構件43、44之間的干涉的方式設定轉動構件12a的轉動位置。
第6圖,是藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13橫出的狀態的示意圖。如第6圖所示,移載裝置18,是藉由將橫出機構11驅動,而可將昇降驅動部14及物品保持部13從上部單元17的下方的收容位置P1朝突出位置P2a、P2b、P2c、P2d突出。突出位置P2a,是將轉動部12驅動,藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13朝+Y方向橫出時的突出位置。同樣地,突出位置P2b,是藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13朝-X方向橫出時的突出位置。突出位置P2c,是藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13朝-Y方向橫出時的突出位置。突出位置P2d,是藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13朝-X方向橫出時的突出位置。如此,橫出機構11,雖是將昇降驅動部14及物品保持部13朝1方向橫出的構成,但是藉由將轉動部12驅動使轉動構件12a的轉動位置由90度間隔地設定,就可朝+X方向(第1方向 D1)、+Y方向(第2方向D2)、-X方向(第1方向D1)、-Y方向(第2方向D2)的4方向將昇降驅動部14及物品保持部13橫出。
如第6圖所示,藉由橫出機構11將昇降驅動部14及物品保持部13從收容位置P1朝突出位置P2a、P2b、P2c、P2d突出的領域是由移動範圍K2顯示。第1檢出部41及第2檢出部42,是從俯視看被配置於不會與移動範圍K2重疊的位置。藉由此配置,成為可迴避支撐構件43、44及橫出機構11(昇降驅動部14及物品保持部13)的干涉,且成為可將第1檢出部41及第2檢出部42配置於適切的位置。
第7圖,是顯示第1檢出部41及第2檢出部42中的檢出範圍的圖,顯示檢出光L掃描的樣子。在第7圖中舉例說明,第1檢出部41是被配置於本體部10的中央部(旋轉軸AX1)的+X側且+Y側的角部,第2檢出部42是被配置於-X側且-Y側的角部的情況的例。第1檢出部41及第2檢出部42,是被配置於上部單元17中相互相面對的角部。即,第1檢出部41及第2檢出部42,是在從俯視看對於行走方向傾斜45度或是幾乎45度的虛線Q上各別被配置在隔著移載裝置18的2處。
第1檢出部41及第2檢出部42,是各別使檢出光L從行走方向的前方,朝由從俯視看朝順時針或是逆時針90度或是幾乎90度的範圍掃描。如第7圖所示,第1檢出部41,是使檢出光L在-X方向至-Y方向的範圍朝順時針或是逆時針掃描。且,第2檢出部42,是使檢出光L在+X方向至+Y方向的範圍朝順時針或是逆時針掃描。第1檢出部41及第2檢出部42,是將被配置於行走部20的行走方向的後方側的一方檢出光L照射,且掃描。即,行走部20的行走方向是-X方向或是-Y方向的情況時,第1檢出部41皆對於本體部10的中央部成為行走方向的後方側的檢出部40。行走部20的行走方向是+X方向或是+Y方向的情況時,第2檢出部42皆對於本體部10的中央部成為行走方向的後方側的檢出部40。
第1檢出部41的檢出範圍,是包含:第1方向D1的雙方向中的一方也就是-X方向、及第2方向D2的雙方向中的一方也就是-Y方向,的檢出範圍A1。第2檢出部42的檢出範圍,是包含:第1方向D1的雙方向中的另一方也就是+X方向、及第2方向D2的雙方向中的另一方也就是+Y方向,的檢出範圍A2。如此,因為可以由2個第1檢出部41及第2檢出部42覆蓋行走部20可行走的4方向的檢出範圍,所以對於檢出的4方向用的檢出部40的數量變少,可以抑制裝置成本的增加。
本體部10的上部單元17,是具備將作為檢出部40的功能的第1檢出部41及第2檢出部42切換的切換部16。切換部16,是藉由控制部50的控制,將第1檢出部41及第2檢出部42切換。控制部50,是將行走部20的行走方向取得,將取得的行走方向朝切換部16適宜輸出。切換部16,是依據從控制部50被輸入的行走方向,選擇第1檢出部41及第2檢出部42之中成為行走方向的後方側的第1檢出部41或是第2檢出部42。
切換部16,是行走部20的行走方向是-X方向的情況,切換至藉由成為行走方向的後方側的第1檢出部41進行檢出光L的照射及掃描。第1檢出部41,因為是使檢出光L在檢出範圍A1掃描,所以可將行走方向也就是-X方向的障礙物檢出。又,行走方向是-X方向的情況,因為使檢出光L由檢出範圍A1掃描,所以檢出光L也朝-Y方向被照射。此情況,控制部50,是將檢出光L朝-Y方向照射時的反射光從檢出結果除外地控制也可以。其結果,可以迴避將與行走方向(-X方向)相異的方向(-Y方向)中的物體作為障礙物誤認。
行走部20的行走方向是-Y方向的情況,與行走方向是-X方向的情況同樣地,切換部16,是切換至藉由成為行走方向的後方側的第1檢出部41進行檢出光L的照射及掃描。在行走方向是-Y方向的情況,因為將檢出光L由檢出範圍A1掃描,所以檢出光L朝-X方向也被照射。此情況,控制部50,是將檢出光L朝-X方向被照射時的反射光從檢出結果除外地控制也可以。其結果,可以迴避將與行走方向(-Y方向)相異的方向(-X方向)中的物體作為障礙物誤認。
切換部16,是行走部20的行走方向是+X方向的情況,切換至藉由成為行走方向的後方側的第2檢出部42進行檢出光L的照射及掃描。第2檢出部42,因為是使檢出光L在檢出範圍A2掃描,所以可將行走方向也就是+X方向的障礙物檢出。又,在行走方向是+X方向的情況,因為將檢出光L由檢出範圍A2掃描,所以檢出光L也朝+Y方向被照射。此情況,控制部50,是將檢出光L朝+Y方向照射時的反射光從檢出結果除外地控制也可以。其結果,可以迴避將與行走方向(+X方向)相異的方向(+Y方向)中的物體作為障礙物誤認。
行走部20的行走方向是+Y方向的情況,與行走方向是+X方向的情況同樣地,切換部16,是切換至藉由成為行走方向的後方側的第2檢出部42進行檢出光L的照射及掃描。在行走方向是+Y方向的情況,因為將檢出光L由檢出範圍A2掃描,所以檢出光L也朝+X方向被照射。此情況,控制部50,是將檢出光L朝+X方向照射時的反射光從檢出結果除外地控制也可以。其結果,可以迴避將與行走方向(+Y方向)相異的方向(+X方向)中的物體作為障礙物誤認。
第8圖,是顯示藉由第1檢出部41及第2檢出部42將檢出光L掃描的一例,(A)是將檢出光L從側方所見的圖,(B)是從檢出光L的照射側所見的圖。第1檢出部41及第2檢出部42,是例如具有未圖示的雷射光源等,作為檢出光L將紅外領域的雷射光射出。如第8圖(A)所示,第1檢出部41及第2檢出部42,是將檢出光L對於水平方向V只有規定角度α1朝下方傾斜射出。且,第1檢出部41及第2檢出部42,是具有將照射的檢出光L照射到物體時反射的反射光受光的未圖示的受光部。
第1檢出部41及第2檢出部42,是藉由將檢出光L繞掃描軸AX3的軸周圍方向旋轉來進行掃描。掃描軸AX3,是對於垂直軸V1(Z方向)傾斜規定角度α1。將掃描軸AX3的傾斜方向從俯視看的話,對於行走方向(第1方向D1或是第2方向D2)傾斜45度或是幾乎45度。掃描軸AX3的傾斜方向,是從俯視看與第7圖的虛線Q的方向一致。又,檢出光L掃描的情況,例如藉由使未圖示的光源繞掃描軸AX3的軸周圍方向旋轉來進行也可以。又,對於檢出光L掃描的構成,不限定於上述,可適用任意的構成。第1檢出部41及第2檢出部42,是將未圖示的受光部的值(檢出結果)朝控制部50發訊。控制部50,是依據受光部的輸出值來進行障礙物是否存在的判別。
且如第8圖(B)所示,檢出光L,是以將掃描軸AX3傾斜的方向為中心左右各別45度為止的範圍,由合計90度的範圍繞掃描軸AX3的軸周圍進行掃描。其結果,防止檢出光L朝水平方向V照射。藉由此構成,因為維持檢出光L向下的狀態進行掃描,所以可以迴避例如檢出光L朝水平方向V照射,而使其他的高架行走車100的檢出部40將此檢出光L受光而誤認具有障礙物。
接著,說明上述的高架行走車100中的檢出部40的動作。第9圖,是顯示第1檢出部41及第2檢出部42的動作的一例,(A)是顯示由第2檢出部42所產生的檢出動作的圖,(B)是顯示由第1檢出部41所進行的檢出動作的圖。如第9圖(A)所示,藉由行走部20將格子狀軌道R朝箭頭方向行走的狀態下,是從行走方向的後方側的第2檢出部42將檢出光L照射。從此狀態,如第9圖(B)所示,將行走部20的行走方向朝相反方向(第9圖(B)的箭頭方向)變更的話,藉由切換部16從第2檢出部42切換至第1檢出部41,從第1檢出部41將檢出光L照射。從第9圖(B)所示的狀態朝第9圖(A)所示的狀態將行走方向改變時,是藉由切換部16從第1檢出部41切換至第2檢出部42。
如此,可以對應行走部20的行走方向,自動地切換將檢出光L照射的檢出部40。且,第9圖(A)所示的狀態、第9圖(B)所示的狀態的其中任一,皆從成為行走方向的後方側的檢出部40將檢出光L朝向行走方向的前方且下方照射,在行走方向的前方且下方有障礙物的情況,是藉由第1檢出部41及第2檢出部42的任一將檢出光L的反射光受光就可將障礙物檢出。控制部50,是藉由檢出部40檢出障礙物的話,將行走部20的行走停止,將障礙物的存在朝操作者等報知。
接著說明,複數高架行走車100行走於格子狀軌道R的高架行走車系統SYS中的檢出部40的動作。第10圖,是顯示行走於同一的軌道(第1軌道R1或是第2軌道R2)的2台的高架行走車100A、100B中的檢出動作的一例,(A)是高架行走車100A、100B是分離的狀態的圖,(B)是高架行走車100A、100B彼此接近的狀態的圖。在第10圖中舉例說明,高架行走車100A是朝箭頭方向行走,且接近高架行走車100B的情況的例。又,高架行走車100B,是停止的情況、由比高架行走車100A更慢的速度朝與高架行走車100A相同方向行走的情況、及朝與高架行走車100A相反方向行走的情況的其中任一。且,高架行走車100A、100B,是各別具有與上述的高架行走車100同樣的構成。
如第10圖(A)所示,高架行走車100A,是從行走方向的後方側的第2檢出部42將檢出光L照射。檢出光L,是在行走方向的前方且下方照射。因此,如第10圖(B)所示,高架行走車100A是接近高架行走車100B的情況,從高架行走車100A的第2檢出部42被照射的檢出光L,是通過高架行走車100B的下方,不會被照射在高架行走車100B中。其結果可防止,高架行走車100A的第2檢出部42將高架行走車100B作為障礙物誤檢出。
且高架行走車100B是與高架行走車100A反向行走的情況,可以迴避從高架行走車100A的第2檢出部42被照射的檢出光L入射至高架行走車100B的第1檢出部41,進一步,可以迴避從高架行走車100B的第1檢出部41被照射的檢出光L入射至高架行走車100A的第2檢出部42。因此,高架行走車100A及高架行走車100B,是行走於同一的軌道且彼此接近時也可以迴避將對方側作為障礙物誤檢出。
又,高架行走車100A、100B的動作,是藉由將高架行走車系統SYS總括地控制的未圖示的上位控制器被控制。上位控制器,因為是將高架行走車100A、100B的各位置把握,以高架行走車100A、100B不干涉的方式將那些的動作控制,所以高架行走車100A、100B不會接觸。因此,藉由檢出部40使其他的高架行走車100作為障礙物被檢出的情況是屬於誤檢出。
第11圖,是顯示將不同的軌道(例如相鄰接的2個第1軌道R1等)彼此接近地行走的2台的高架行走車100A、100B中的檢出動作的一例的圖。在第11圖中,說明2台的高架行走車100A、100B是在行走方向的側方彼此接近的情況,舉例說明高架行走車100A、100B是錯身而過的情況、朝同一方向並走的情況的例。
如第11圖所示,高架行走車100A,是從行走方向的後方側的第2檢出部42將檢出光L照射。檢出光L,是從行走方向的前方側朝側方側掃描,朝對於水平方向朝下方傾斜的方向照射。且,朝與高架行走車100A相反方向行走的高架行走車100B,是從行走方向的後方側的第1檢出部41將檢出光L照射。檢出光L,是從行走方向的前方側朝側方側掃描,朝對於水平方向朝下方傾斜的方向照射。
如第11圖所示,高架行走車100A及高架行走車100B是在行走方向的側方彼此接近的情況,從高架行走車100A的第2檢出部42被照射的檢出光L,是不是只有行走方向的前方被照射,也具有從俯視看朝向側方的高架行走車100B被照射的情況(第7圖參照)。此情況,檢出光L,因為是朝下方被照射,所以通過高架行走車100B的下方。因此,高架行走車100B的第1檢出部41或是第2檢出部42,是不會將來自高架行走車100A的檢出光L受光,可以迴避將高架行走車100A作為障礙物誤檢出。且,從高架行走車100B的第1檢出部41被照射的檢出光L,即使是從俯視看朝向側方的高架行走車100A被照射的情況,檢出光L因為是朝下方被照射,所以也通過高架行走車100A的下方。因此,高架行走車100A的第1檢出部41或是第2檢出部42,是不會將來自高架行走車100B的檢出光L受光,可以迴避將高架行走車100B作為障礙物誤檢出。
如此,依據本實施例的高架行走車及障礙物的檢出方法的話,因為將檢出光L從比本體部10的中央更後方側朝向行走方向的前方且下方照射,所以可確實地將成為行走的障礙的障礙物檢出,且例如,可防止將存在於前方或是側方的其他的高架行走車誤(意外地)作為障礙物檢出。且,在本實施例的高架行走車系統SYS中,因為使用上述的高架行走車100,所以將高架行走車100彼此的干涉由檢出部40以外的手段防止的情況時,可以防止複數高架行走車100的各個誤(意外地)將其他的高架行走車100作為障礙物檢出,可以藉由迴避各高架行走車100不必要的停止來提高系統的運轉效率。
以上,雖說明了實施例,但是本發明,不限定於上述的說明,在不脫離本發明的實質範圍中可進行各種變更。例如,在上述的實施例中,檢出部40雖舉例說明了具有2個第1檢出部41及第2檢出部42的構成的例,但是不限定於此形態。檢出部40,是1個或是3個以上也可以。使用1個檢出部40的情況,本體部10,是具備將檢出部40沿著水平面(XY平面)移動的移動機構,對應行走方向,使檢出部40被配置於比本體部10的中央更後方側地將移動機構驅動也可以。
且在上述的實施例中雖舉例說明了,從行走方向的前方從俯視看由90度或是幾乎90度的範圍將檢出光L掃描的構成的例,但是不限定於此構成。檢出光L的掃描範圍,是例如,從行走方向的前方從俯視看90度以下或是90度以上的範圍也可以。且,在第1檢出部41等設有限定檢出光L的掃描範圍的窗部,藉由移動此窗部使檢出光L的掃描範圍被設定也可以。
且在上述的實施例中雖舉例說明了,第1檢出部41等是將檢出光L掃描的構成的例,但是不限定於此構成。例如,從檢出部40被照射的檢出光L是線光也可以。此情況,線光的整體是朝向行走方向的前方且下方從檢出部40被照射也可以。且,只要法令容許,援用日本專利申請的日本特願2018-203023、及本說明書所引用的全部的文獻的內容作為本文的記載的一部分。
A1、A2:檢出範圍 AX1:旋轉軸 AX2:繞轉軸 AX3:掃描軸 D1:第1方向 D2:第2方向 K1:旋轉範圍 K2:移動範圍 L:檢出光 Q:虛線 R:格子狀軌道(軌道) R1:第1軌道 R2:第2軌道 SYS:高架行走車系統 V:水平方向 10:本體部 11:橫出機構 12:轉動部 12a:轉動構件 12b:旋轉驅動部 13:物品保持部 13a:爪部 13b:吊下構件 14:昇降驅動部 16:切換部 17:上部單元 17a:上面 18:移載裝置 20:行走部 21:行走車輪 22:輔助車輪 30:連結部 31:支撐構件 32:連接構件 33:行走驅動部 34:轉向機構 35:驅動源 36:小齒輪 37:齒條 40:檢出部 41:第1檢出部 42:第2檢出部 43、44:支撐構件 50:控制部 100、100A、100B:高架行走車
[第1圖]顯示本實施例的高架行走車的一例的側面圖。
[第2圖]第1圖所示的高架行走車的立體圖。
[第3圖]顯示本實施例的高架行走車系統的一例的立體圖。
[第4圖]將高架行走車從上方所見的狀態的示意圖。
[第5圖]顯示高架行走車中的移載裝置的動作的一例的側面圖。
[第6圖]藉由橫出機構橫出的狀態的示意圖。
[第7圖]顯示第1檢出部及第2檢出部中的檢出範圍的圖。
[第8圖]顯示掃描檢出光的一例,(A)是將檢出光從側方所見的圖,(B)是從檢出光的照射側所見的圖。
[第9圖]顯示第1檢出部及第2檢出部的動作的一例,(A)是顯示由第2檢出部所進行的檢出動作的圖,(B)是顯示由第1檢出部所產生的檢出動作的圖。
[第10圖]顯示行走於同一軌道的2台的高架行走車中的檢出動作的一例,(A)是高架行走車彼此分離的狀態的圖,(B)是高架行走車彼此接近的狀態的圖。
[第11圖]顯示在不同的軌道彼此接近地行走的2台的高架行走車中的檢出動作的一例的圖。
AX1:旋轉軸
M:物品
Ma:凸緣部
R:格子狀軌道(軌道)
W:蓋
L:檢出光
10:本體部
11:橫出機構
12:轉動部
12a:轉動構件
12b:旋轉驅動部
13:物品保持部
13a:爪部
13b:吊下構件
14:昇降驅動部
16:切換部
17:上部單元
17a:上面
18:移載裝置
20:行走部
21:行走車輪
22:輔助車輪
30:連結部
31:支撐構件
32:連接構件
40:檢出部
41:第1檢出部
42:第2檢出部
43:支撐構件
44:支撐構件
50:控制部
100:高架行走車

Claims (9)

  1. 一種高架行走車,具備:沿著軌道行走的行走部;及與前述行走部連結且被配置於比前述軌道更下方的本體部;及在前述行走部的行走方向被配置於比前述本體部的中央更後方側且比前述本體部更下方,朝向前述行走方向的前方且下方將檢出光照射,藉由將前述檢出光的反射光受光來檢出障礙物的檢出部。
  2. 如申請專利範圍第1項的高架行走車,其中,前述本體部,是具備:被固定於前述行走部的上部單元、及被配置於前述上部單元的下方可繞垂直方向的旋轉軸周圍旋轉的移載裝置,前述檢出部,是從俯視看以成為比前述移載裝置的旋轉範圍更外側的方式被安裝於被設於前述上部單元的支撐構件。
  3. 如申請專利範圍第2項的高架行走車,其中,前述檢出部,是在從俯視看對於前述行走方向傾斜45度或是幾乎45度的虛線上各別被配置在隔著前述移載裝置的2處,具備切換至2個前述檢出部之中成為前述行走方向的 後方側的前述檢出部的切換部。
  4. 如申請專利範圍第3項的高架行走車,其中,2個前述檢出部的各個,是使前述檢出光在從前述行走方向的前方,由從俯視看朝順時針或是逆時針90度或是幾乎90度的範圍掃描。
  5. 一種高架行走車系統,具備軌道、及沿著前述軌道行走的複數高架行走車,的高架行走車系統,前述高架行走車,是如申請專利範圍第1至4項中任一項的高架行走車。
  6. 如申請專利範圍第5項的高架行走車系統,其中,前述軌道,是具備:沿著第1方向設置的複數第1軌道、及沿著與前述第1方向垂直交叉的第2方向設置的複數第2軌道,的格子狀軌道,前述高架行走車,是可從前述第1軌道移動至前述第2軌道,或是從前述第2軌道移動至前述第1軌道地行走,前述檢出部,可對應前述格子狀軌道中的行走方向將檢出範圍切換。
  7. 如申請專利範圍第6項的高架行走車系統,其中,前述高架行走車,是具備2個前述檢出部, 2個前述檢出部的一方,是前述檢出範圍是前述第1方向的雙方向中的一方、及前述第2方向的雙方向中的一方的範圍,2個前述檢出部的另一方,是前述檢出範圍是前述第1方向的雙方向中的另一方、及前述第2方向的雙方向中的另一方的範圍。
  8. 如申請專利範圍第6或7項的高架行走車系統,其中,前述檢出部,是藉由使前述檢出光掃描而朝前述檢出範圍將前述檢出光照射。
  9. 一種障礙物的檢出方法,是在高架行走車中檢出障礙物的方法,前述高架行走車,是具備:沿著軌道行走的行走部、及與前述行走部連結且被配置於比前述軌道更下方的本體部,前述方法,包含:從在前述行走部的行走方向比前述本體部的中央更後方側且比前述本體部更下方,朝向前述行走方向的前方且下方將檢出光照射;及藉由將前述檢出光的反射光受光而檢出障礙物。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113371614B (zh) * 2020-03-10 2023-01-31 长鑫存储技术有限公司 自动化天车防撞系统及方法
JP7414153B2 (ja) * 2020-11-13 2024-01-16 村田機械株式会社 走行車システム
KR20240002833A (ko) 2022-06-30 2024-01-08 세메스 주식회사 제조 공장에서 물품을 이송하는 반송 대차 및 이를 포함하는 물품 반송 시스템
WO2024070303A1 (ja) * 2022-09-29 2024-04-04 村田機械株式会社 天井搬送車
WO2024070299A1 (ja) * 2022-09-29 2024-04-04 村田機械株式会社 天井搬送車

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS577833B2 (zh) * 1973-08-10 1982-02-13
US6109568A (en) * 1998-10-23 2000-08-29 Innovative Transportation Systems International, Inc. Control system and method for moving multiple automated vehicles along a monorail
JP2001213588A (ja) * 1998-12-02 2001-08-07 Shinko Electric Co Ltd 天井走行搬送装置
JP2005234625A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Asyst Shinko Inc 無人搬送車のセンサ制御装置及び無人搬送システム
JP2006298536A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Murata Mach Ltd 天井走行車
WO2014017221A1 (ja) * 2012-07-26 2014-01-30 村田機械株式会社 天井走行車システム及び天井走行車システムでの移載制御方法
TW201435531A (zh) * 2013-02-15 2014-09-16 Murata Machinery Ltd 搬運系統
JP5707833B2 (ja) * 2010-10-04 2015-04-30 村田機械株式会社 搬送車及び搬送システム

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61132387U (zh) 1985-02-06 1986-08-18
JPS61254496A (ja) 1985-04-30 1986-11-12 株式会社東芝 クレ−ン安全装置
JP3150637B2 (ja) * 1996-12-06 2001-03-26 三菱重工業株式会社 クレーンの巻き下げ衝突防止装置
KR100729986B1 (ko) * 1999-12-20 2007-06-20 아시스트 신꼬, 인코포레이티드 자동반송시스템
JP4887804B2 (ja) 2006-01-26 2012-02-29 村田機械株式会社 搬送システム
JP2008137738A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Asyst Technologies Japan Inc 天井走行搬送装置
JP4461199B1 (ja) * 2009-09-24 2010-05-12 北陽電機株式会社 距離測定装置
JP2012150588A (ja) 2011-01-18 2012-08-09 Murata Mach Ltd 有軌道台車システム
SG11201407697RA (en) * 2012-07-26 2015-04-29 Murata Machinery Ltd Overhead traveling vehicle system and control method for overhead traveling vehicle system
JP6374695B2 (ja) 2014-04-28 2018-08-15 日立建機株式会社 路肩検出システムおよび鉱山用運搬車両
US9415934B2 (en) * 2014-05-14 2016-08-16 Murata Machinery, Ltd. Transport system and transport method
JP6168476B2 (ja) * 2015-03-19 2017-07-26 村田機械株式会社 搬送台車と搬送台車システム
JP2017120510A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 株式会社ダイフク 物品搬送設備
JP6520797B2 (ja) * 2016-04-11 2019-05-29 株式会社ダイフク 物品搬送設備
KR102162047B1 (ko) 2017-02-17 2020-10-06 호쿠요덴키 가부시키가이샤 물체 포착 장치
JP6495972B2 (ja) 2017-06-02 2019-04-03 本田技研工業株式会社 シートベルト装置
JP6693481B2 (ja) * 2017-06-26 2020-05-13 株式会社ダイフク 物品搬送設備、及び、物品搬送車
JP7006050B2 (ja) * 2017-09-08 2022-01-24 株式会社ダイフク 検査システム
CN113371614B (zh) * 2020-03-10 2023-01-31 长鑫存储技术有限公司 自动化天车防撞系统及方法
KR102670887B1 (ko) * 2020-04-27 2024-05-31 무라다기카이가부시끼가이샤 천장 반송차 및 천장 반송 시스템
CN113734974B (zh) * 2020-05-29 2022-11-11 长鑫存储技术有限公司 顶置缓冲器二重搬入检测系统及方法
US11862494B2 (en) * 2020-07-09 2024-01-02 Changxin Memory Technologies, Inc. Crane monitoring system and method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS577833B2 (zh) * 1973-08-10 1982-02-13
US6109568A (en) * 1998-10-23 2000-08-29 Innovative Transportation Systems International, Inc. Control system and method for moving multiple automated vehicles along a monorail
JP2001213588A (ja) * 1998-12-02 2001-08-07 Shinko Electric Co Ltd 天井走行搬送装置
JP2005234625A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Asyst Shinko Inc 無人搬送車のセンサ制御装置及び無人搬送システム
JP2006298536A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Murata Mach Ltd 天井走行車
JP5707833B2 (ja) * 2010-10-04 2015-04-30 村田機械株式会社 搬送車及び搬送システム
WO2014017221A1 (ja) * 2012-07-26 2014-01-30 村田機械株式会社 天井走行車システム及び天井走行車システムでの移載制御方法
TW201435531A (zh) * 2013-02-15 2014-09-16 Murata Machinery Ltd 搬運系統

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Publication number Publication date
WO2020090254A1 (ja) 2020-05-07
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IL282702B (en) 2022-12-01
EP3875333A1 (en) 2021-09-08
CN113056406B (zh) 2024-03-26
US12119252B2 (en) 2024-10-15
IL282702B2 (en) 2023-04-01
EP3875333B1 (en) 2023-10-25
SG11202104302QA (en) 2021-05-28
US20220013392A1 (en) 2022-01-13
KR102501698B1 (ko) 2023-02-17
CN113056406A (zh) 2021-06-29
TW202018445A (zh) 2020-05-16
IL282702A (en) 2021-06-30
KR20210064364A (ko) 2021-06-02

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