TWI824653B - 一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用 - Google Patents
一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI824653B TWI824653B TW111129602A TW111129602A TWI824653B TW I824653 B TWI824653 B TW I824653B TW 111129602 A TW111129602 A TW 111129602A TW 111129602 A TW111129602 A TW 111129602A TW I824653 B TWI824653 B TW I824653B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- fluorine
- parts
- resin composition
- based resin
- containing resin
- Prior art date
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 120
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 51
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 171
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims abstract description 57
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims abstract description 57
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims description 12
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 7
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 5
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 claims description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 claims description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 24
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 18
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 7
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical group F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/085—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
- B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/322—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising halogenated polyolefins, e.g. PTFE
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B33/00—Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/206—Insulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2327/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
本說明書公布一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用,所述含氟樹脂基樹脂組成物以重量份計包含20~70份聚四氟乙烯乳液及30~70份二氧化矽;所述二氧化矽係藉由有機矽水解法製備得到,所述二氧化矽的純度>99.99%。所述含氟樹脂基樹脂組成物及包含其的板材具有優異的絕緣性能及介電性能,介電常數及介電損耗更低,擊穿電壓高,使覆銅板具有優異的介電性能及耐電壓性能,充分滿足了高頻通訊設備對覆銅板材料的各項性能要求。
Description
本發明實施例係關於通訊材料技術領域,例如一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用。
覆銅板廣泛應用於手機、電腦、自動販賣機、通訊基地台、衛星、可穿戴設備、無人駕駛汽車、無人機或智慧型機器人等領域,係電子通訊及訊息行業的關鍵基礎材料之一。以聚四氟乙烯(PTFE)為代表的含氟樹脂擁有其他聚合物樹脂難以比擬的低介電常數、低介電損耗、高熱穩定性及化學穩定性等多種優異性能,係一種理想的覆銅板基體材料。
自上世紀50年代PTFE基覆銅板發明以來,研究人員經過配方及參數的不斷優化,逐步完善其製造工藝。含氟樹脂的高分子鏈柔性較大,通常必須引入無機填料以提高含氟樹脂基覆銅板的機械強度;球形二氧化矽具有良好的填充性能,係目前氟樹脂基覆銅板中最常見的無機填料。例如CN104175686A揭示了一種微波用電路PTFE複合介質基板的製備方法,所述方法包含:首先將氟樹脂乳液、無機填料及增稠劑進行混合,製得穩定均勻的分散液,接著將分散液塗覆在可離型的基材上,烘烤後將樹脂層及基材分離,將分離得到的樹脂層與銅箔進行疊合,高溫層壓燒結,得到雙面覆銅箔的PTFE複合介質基板;其中,所述無機填料以二氧化矽及/或二氧化鈦為佳。CN101838431A揭示了一種氟樹脂混合物、使用其製作的覆銅板,該氟樹脂混合物包含聚四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚乳液、聚四氟乙烯乳液、無機填料及稀釋劑,所述無機填料為矽微粉、高嶺土或鈦白粉。US4849284A揭示了以矽微粉為主要填料的PTFE乳液來製作低介電常數及低熱膨脹係數的高頻覆銅板。但是,大量無機填料的引入通常會伴隨著介電性能、耐電壓性能的下降,而隨著通訊技術的革新及高頻高速化發展,上述包含了二氧化矽等無機填料的覆銅板,在介電性能、可靠性、穩定性等方面難以滿足電子產品的性能要求。
而且,目前作為填料的二氧化矽通常為火焰法製備的球形二氧化矽,其採用天然礦物石英為原料,採用可燃氣體燃燒生成熔融球矽,因可燃氣體燃燒過程難以實現100%的充分燃燒,會不可避免地產生積碳,從而降低二氧化矽的純度,造成含氟樹脂覆銅板絕緣性下降、介電損耗增大的問題。
因此,本領域亟待開發一種介電性能優異、介電損耗低的覆銅板,以滿足高頻通訊設備中對覆銅板材料的性能要求。
本發明提供一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用,藉由採用有機矽水解法製備得到的高純度二氧化矽,使所述含氟樹脂基樹脂組成物具有優異的絕緣性能及介電性能,介電損耗低,藉由所述含氟樹脂基樹脂組成物製備的覆銅板,充分滿足了高頻通訊設備對覆銅板材料的各項性能要求。
第一態樣,本發明實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,所述含氟樹脂基樹脂組成物以重量份計包含20~70份聚四氟乙烯(PTFE)乳液及30~70份二氧化矽;所述二氧化矽係藉由有機矽水解法製備得到,所述二氧化矽的純度>99.99%。
本發明提供的含氟樹脂基樹脂組成物中,採用PTFE樹脂與有機矽水解法(化學法)製備得到的高純度二氧化矽進行複配,使所述含氟樹脂基樹脂組成物具有優異的絕緣性能及介電性能,10 GHz下的介電常數(Dk)低、介電損耗(Df)低,擊穿電壓高,使包含其的覆銅板具有優異的介電性能及耐電壓性能,能夠滿足高頻高速下的使用需求。
本發明中,所述聚四氟乙烯(PTFE)乳液為20~70份,例如可以為22份、25份、28份、30份、32份、35份、38份、40份、42份、45份、48份、50份、52份、55份、58份、60份、62份、65份或68份等。
本發明中的PTFE乳液可藉由市場途徑購買得到,例如日本大金公司的D210C。
理想地,所述聚四氟乙烯(PTFE)乳液的固含量為50~60%,例如可以為51%、52%、53%、54%、55%、56%、57%、58%或59%等。
所述二氧化矽為30~70份,例如為32份、35份、38份、40份、42份、45份、48份、50份、52份、55份、58份、60份、62份、65份或68份等。
所述二氧化矽的純度>99.99%,例如純度可以為99.991%、99.992%、99.993%、99.994%、99.995%、99.996%、99.997%、99.998%或99.999%等。
本發明中,所述二氧化矽的純度採用電感耦合原子發射光譜儀ICP-AES測定。
本發明中,所述二氧化矽為球形二氧化矽。
理想地,所述二氧化矽的平均粒徑(D
50)為0.5~5 μm,例如可以為0.6 μm、0.8 μm、1 μm、1.2 μm、1.5 μm、1.8 μm、2 μm、2.2 μm、2.5 μm、2.8 μm、3 μm、3.2 μm、3.5 μm、3.8 μm、4 μm、4.2 μm、4.5 μm或4.8 μm等,進一步理想為1~3 μm。
本發明中,所述二氧化矽的平均粒徑藉由馬爾文3000雷射粒度分析儀測試得到。
理想地,所述二氧化矽的比表面積<8 m
2/g,例如可以為1.2 m
2/g、1.5 m
2/g、1.8 m
2/g、2 m
2/g、2.2 m
2/g、2.5 m
2/g、2.8 m
2/g、3 m
2/g、3.5 m
2/g、4 m
2/g、4.5 m
2/g、5 m
2/g、5.5 m
2/g、6 m
2/g、6.5 m
2/g、7 m
2/g、7.2 m
2/g、7.5 m
2/g或7.8 m
2/g等。
本發明中,所述二氧化矽的比表面積採用BET法(氣體吸附法)測試得到,測試儀器選用美國麥克、型號GEMINI VII2390(A)比表面積分析儀。
作為本發明的理想技術手段,所述二氧化矽的比表面積<8 m
2/g,有助於提升含氟樹脂基樹脂組成物及包含其的覆銅板的介電性能及耐電壓性能;如果二氧化矽的比表面積過高,則會使二氧化矽與聚四氟乙烯之間具有過多的界面,從而影響覆銅板的介電性能。
理想地,所述二氧化矽中磁性物質的質量百分含量<10 ppm,例如可以為9 ppm、8 ppm、7 ppm、6 ppm、5 ppm、4 ppm、3 ppm、2 ppm或1 ppm等。
本發明中,所述二氧化矽中磁性物質的質量百分含量測試方法如下:稱取300 g待測樣品,倒入乾淨燒杯中,接著加入一定量水,攪拌使粉體分散均勻,4000高斯磁鐵在燒杯外底部移動,稱量吸附的磁性物質重量,計算可得磁性物質含量。
理想地,所述二氧化矽採用如下方法進行製備,所述方法包含:有機矽進行水解反應,得到初產物;所述初產物經過燒製,得到所述二氧化矽。
理想地,所述有機矽為烷氧基矽烷。
理想地,所述烷氧基矽烷包含四乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四異丁基氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷或二甲基二乙氧基矽烷中的任意一種或至少兩種的組合,進一步理想為四乙氧基矽烷。
理想地,所述燒製的溫度為800~1300℃,例如可以為850℃、900℃、950℃、1000℃、1050℃、1100℃、1150℃、1200℃或1250℃等。
理想地,所述二氧化矽包含經過表面處理的二氧化矽。
理想地,所述表面處理的試劑包含矽烷偶聯劑、硼酸酯偶聯劑、鋯酸酯偶聯劑或磷酸酯偶聯劑中的任意一種或至少兩種的組合,進一步理想為矽烷偶聯劑。
理想地,所述矽烷偶聯劑包含含氟矽烷偶聯劑、胺基矽烷偶聯劑或環氧基矽烷偶聯劑中的任意一種或至少兩種的組合。
作為本發明的理想技術手段,所述二氧化矽採用表面處理的試劑進行表面改性,能夠進一步提高二氧化矽填料在聚四氟乙烯樹脂體系中的分散性及相容性,從而改善含氟樹脂基樹脂組成物及包含其的覆銅板的介電性能及耐電壓性能。
理想地,以待表面處理的二氧化矽的質量為100%計,所述表面處理的試劑的質量為0.05~1%,例如可以為0.06%、0.08%、0.1%、0.15%、0.2%、0.25%、0.3%、0.35%、0.4%、0.45%、0.5%、0.55%、0.6%、0.65%、0.7%、0.75%、0.8%、0.85%、0.9%或0.95%等。
理想地,所述含氟樹脂基樹脂組成物中以重量份計亦包含1~10份其它含氟樹脂乳液,例如其它含氟樹脂乳液可以為1.5份、2份、2.5份、3份、3.5份、4份、5份、6份、7份、8份、9份或9.5份等。
所述其它含氟樹脂乳液為除所述聚四氟乙烯乳液之外的含氟樹脂乳液。
理想地,所述其它含氟樹脂乳液包含聚全氟乙丙烯乳液、聚偏氟乙烯(PVDF)乳液、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)乳液、乙烯-四氟乙烯共聚物乳液、聚三氟氯乙烯乳液或乙烯-三氟氯乙烯共聚物乳液中的任意一種或至少兩種的組合。
理想地,所述含氟樹脂基樹脂組成物中以重量份計亦包含1~10份其它填料,例如其它填料可以為1.5份、2份、2.5份、3份、3.5份、4份、5份、6份、7份、8份、9份或9.5份等。
所述其他填料為除了所述二氧化矽之外的填料。
理想地,所述其它填料包含二氧化鈦、鈦酸鋇、鈦酸鍶、短切玻纖、氧化鋁、氮化硼、氮化矽、空心玻璃微珠或空心二氧化矽中的任意一種或至少兩種的組合。
示例性地,所述含氟樹脂基樹脂組成物採用如下方法進行製備,所述方法包含:將聚四氟乙烯乳液及二氧化矽混合後分散均勻,得到所述含氟樹脂基樹脂組成物。
在製備的過程中,所述含氟樹脂基樹脂組成物中亦可加入增稠劑、分散劑或溶劑等,添加量由所屬技術領域中具有通常知識者根據經驗以及工藝需求來選擇,為了獲得適宜的黏度,以便於含氟樹脂基樹脂組成物的浸漬、塗覆、使用即可。在後續的乾燥、燒結等環節,增稠劑等助劑會部分或完全揮發。
理想地,所述增稠劑包含聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚。
第二態樣,本發明實施例提供一種樹脂膜,所述樹脂膜的材料包含如第一態樣所述的含氟樹脂基樹脂組成物。
理想地,所述樹脂膜藉由將所述含氟樹脂基樹脂組成物塗覆於離型材料上經乾燥及/或燒結製得。
理想地,所述乾燥的溫度為100~260℃,例如可以為110℃、130℃、150℃、170℃、190℃、200℃、210℃、230℃或250℃等。
理想地,所述乾燥的時間為10~120 分鐘,例如可以為20 分鐘、30 分鐘、40 分鐘、50 分鐘、60 分鐘、70 分鐘、80 分鐘、90 分鐘、100 分鐘或110 分鐘等。
理想地,所述燒結的溫度為200~400℃,例如可以為210℃、230℃、250℃、270℃、290℃、300℃、310℃、330℃、350℃、370℃或390℃等。
理想地,所述燒結的時間為0.1~12 小時,例如可以為0.2 小時、0.25 小時、0.5 小時、0.75 小時、1 小時、1.5 小時、2 小時、2.5 小時、3 小時、4 小時、5 小時、6 小時、7 小時、8 小時、9 小時、10 小時或11 小時等。
理想地,所述燒結在惰性氣體環境中進行。
理想地,所述惰性氣體環境包含氮氣體環境及/或氬氣體環境。
第三態樣,本發明實施例提供一種預浸料,所述預浸料包含增強材料,以及藉由浸漬附著於所述增強材料上的如第一態樣所述之含氟樹脂基樹脂組成物。
理想地,所述增強材料包含玻璃纖維布、有機纖維布或玻璃纖維紙中的任意一種,進一步理想為玻璃纖維布。
第四態樣,本發明實施例提供一種覆銅板,所述覆銅板包含銅箔,以及如第二態樣所述之樹脂膜、如第三態樣所述之預浸料中的至少一種。
示例性地,所述覆銅板採用如下方法進行製備,所述方法包含:將銅箔以及樹脂膜、預浸料中的至少一種按照順序疊合,層壓,得到所述覆銅板。
理想地,所述層壓的溫度為200~400℃,例如可以為210℃、230℃、250℃、270℃、290℃、300℃、310℃、330℃、350℃、370℃或390℃等。
理想地,所述層壓的壓力為300~500 PSI,例如可以為310 PSI、330 PSI、350 PSI、370 PSI、390 PSI、400 PSI、410 PSI、430 PSI、450 PSI、470 PSI或490 PSI等。
理想地,所述層壓的時間為2~12 小時,例如可以為3 小時、4 小時、5 小時、6 小時、7 小時、8 小時、9 小時、10 小時或11 小時等。
第五態樣,本發明提供一種印刷電路板,所述印刷電路板包含如第二態樣所述之樹脂膜、如第三態樣所述之預浸料或如第四態樣所述之覆銅板中的至少一種。
相對於相關技術,本發明具有下述功效:
本發明實施例提供的含氟樹脂基樹脂組成物中,採用PTFE樹脂與有機矽水解法製備得到的高純度二氧化矽進行複配,使所述含氟樹脂基樹脂組成物及包含其的板材具有優異的絕緣性能及介電性能,介電常數及介電損耗更低,10 GHz下的介電常數Dk為2.85~3.20,介電損耗Df≤0.0009,擊穿電壓高,為50~65 kV,使覆銅板具有優異的介電性能及耐電壓性能,充分滿足了高頻通訊設備對覆銅板材料的各項性能要求。
下面藉由具體實施方式來進一步說明本發明的技術手段。所屬技術領域中具有通常知識者應該理解,所述實施例僅僅係幫助理解本發明,不應視為對本發明的具體限制。
實施例1
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為0.5 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.996%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為220 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜(聚醯亞胺膜)的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為400 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
實施例2
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為1.0 μm,比表面積為3.3 m
2/g,純度為99.998%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為300 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為300 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
實施例3
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份經過表面處理的二氧化矽;其中,二氧化矽藉由有機矽水解法製備得到,平均粒徑為0.5 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.995%,來自江蘇輝邁;表面處理的試劑為環氧基矽烷偶聯劑(信越化學的KBM403),試劑的用量為二氧化矽用量的0.5%。
本實施例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份經過表面處理的二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為220 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為500 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
實施例4
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份經過表面處理的二氧化矽;其中,二氧化矽藉由有機矽水解法製備得到,平均粒徑為0.5 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.996%,來自江蘇輝邁;表面處理的試劑為全氟矽烷偶聯劑(山東矽科的F823),試劑的用量為二氧化矽用量的0.5%。
本實施例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(中間介質層厚度為0.254 mm),具體製備方法與實施例3相同。
實施例5
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為2.0 μm,比表面積為1.5 m
2/g,純度為99.992%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為350 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為400 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
實施例6
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含70份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為1.0 μm,比表面積為3.3 m
2/g,純度為99.996%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(中間介質層厚度為0.254 mm),具體製備方法與實施例2相同。
實施例7
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含30份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及50份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為1.0 μm,比表面積為3.3 m
2/g,純度為99.995%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(中間介質層厚度為0.254 mm),具體製備方法與實施例2相同。
實施例8
本實施例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含30份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及50份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為0.3 μm,比表面積為10.5 m
2/g,純度為99.998%,來自江蘇輝邁)。
本實施例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(中間介質層厚度為0.254 mm),具體製備方法與實施例2相同。
比較例1
本比較例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(火焰法製備得到,平均粒徑為0.5 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.98%,來自日本Admatechs公司)。
本比較例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為460 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為300 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
比較例2
本比較例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(火焰法製備得到,平均粒徑為1 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.8%,來自日本Denka公司)。
本比較例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為250 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為300 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
比較例3
本比較例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(火焰法製備得到,平均粒徑為2 μm,比表面積為6 m
2/g,純度為99.3%,來自浙江威鵬公司)。
本比較例亦提供一種樹脂膜及覆銅板,具體製備方法如下:
(1)將45份的PTFE乳液及30份二氧化矽混合,加入增稠劑(聚氧乙烯基聯苯乙烯化苯基醚,花王股份有限公司的EMULGEN A-60)0.4份,高速攪拌混合2 小時,測得膠液的黏度為460 mPa·s;將上述膠液用塗覆機塗覆在PI膜的表面上,得到塗膠的PI膜;將塗膠的PI膜置於100℃的真空烘箱中,烘烤1 小時,去除水分,在260℃下烘烤1 小時去除助劑(增稠劑),在350℃下烘烤10 分鐘,冷卻後將樹脂層與PI膜進行剝離,得到厚度均一表觀良好的129 μm的樹脂膜;
(2)將步驟(1)得到的2張129 μm厚的樹脂膜進行疊合,尺寸大小為250 mm × 250 mm,在疊合好的樹脂膜的上下兩面覆蓋1OZ厚的銅箔,進行層壓,施加壓力為300 PSI,最高溫度為380℃,保留時間為60 分鐘,層壓得到中間介質層厚度為0.254 mm的覆銅板。
比較例4
本比較例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(有機矽水解法製備得到,平均粒徑為1.0 μm,比表面積為3.3 m
2/g,純度為99.98%,來自山東百特新材料)。
本比較例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(中間介質層厚度為0.254 mm),具體製備方法與實施例2相同。
比較例5
本比較例提供一種含氟樹脂基樹脂組成物,以重量份計包含45份聚四氟乙烯乳液(PTFE乳液,粒徑為0.25 μm,樹脂固含量為55%,日本大金公司的D210C)及30份二氧化矽(水玻璃沉澱法製備得到,平均粒徑為1.0 μm,比表面積為3.3 m
2/g,純度為99.98%,來自山東百特新材料)。
本比較例亦提供一種樹脂膜(厚度為129 μm)及覆銅板(厚度為中間介質層0.254 mm),具體製備方法與實施例2相同。
對實施例1~8、比較例1~5提供的覆銅板進行性能測試,具體方法如下:
(1)介電常數Dk及介電損耗Df:採用SPDR(Splite Post Dielectric Resonator)法進行測試,測試條件為A態,頻率為10 GHz;
(2)擊穿電壓:採用IPC-TM-650 2.5.6方法進行測試;
性能測試數據如表1所示:
表1
Dk(10 GHz) | Df(10 GHz) | 擊穿電壓(kV) | |
實施例1 | 2.97 | 0.0009 | 50 |
實施例2 | 3.02 | 0.0008 | 55 |
實施例3 | 3.01 | 0.0007 | 60 |
實施例4 | 3.01 | 0.0006 | 65 |
實施例5 | 3.00 | 0.0008 | 55 |
實施例6 | 2.85 | 0.0006 | 60 |
實施例7 | 3.20 | 0.0009 | 55 |
實施例8 | 3.22 | 0.0011 | 55 |
比較例1 | 3.20 | 0.0015 | 35 |
比較例2 | 3.23 | 0.0013 | 25 |
比較例3 | 3.24 | 0.0020 | 30 |
比較例4 | 3.22 | 0.0025 | 30 |
比較例5 | 3.22 | 0.0035 | 25 |
從表1可以看出,相較於比較例1~3中火焰法製備的二氧化矽,本發明實施例1~8將有機矽水解法製備的高純二氧化矽與PTFE樹脂複配,使得到的覆銅板的介電性能及擊穿電壓明顯提升,10 GHz下的介電損耗Df為0.0006~0.0009,擊穿電壓達到50~65 kV;其中,實施例3及4中二氧化矽採用矽烷偶聯劑進行表面處理,覆銅板中的界面最小,從而板材的損耗性能最優;實施例8採用粒徑0.3微米的化學法球形二氧化矽,覆銅板界面增大,造成板材的損耗性能略大。比較例1~3採用的火焰法二氧化矽純度低,造成板材的擊穿電壓性能惡化,介電損耗大。比較例4~5中採用的化學法二氧化矽純度低,造成板材的擊穿電壓性能惡化,介電損耗大。
申請人聲明,本發明藉由上述實施例來說明本發明的一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用,但本發明並不侷限於上述實施例,即不意味著本發明必須依賴上述實施例才能實施。所屬技術領域中具有通常知識者應該理解,對本發明的任何改進,對本發明產品各原料的均等替換及輔助成分的添加、具體方式的選擇等,均落在本發明的保護範圍及公開範圍之内。
Claims (10)
- 一種含氟樹脂基樹脂組成物,其特徵係該含氟樹脂基樹脂以重量份計包含20~70份聚四氟乙烯乳液及30~70份二氧化矽;該二氧化矽係藉由有機矽水解法製備得到,該二氧化矽的純度>99.99%;該二氧化矽的平均粒徑為0.5~5μm;該二氧化矽的比表面積<8m2/g;該二氧化矽的純度採用電感耦合原子發射光譜儀ICP-AES測定。
- 如請求項1所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該二氧化矽中磁性物質的質量百分含量<10ppm。
- 如請求項1所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該二氧化矽採用如下方法進行製備,該方法包含:有機矽進行水解反應,得到初產物;該初產物經過燒製,得到該二氧化矽。
- 如請求項3所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該有機矽為烷氧基矽烷;該烷氧基矽烷包含四乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四異丁基氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷或二甲基二乙氧基矽烷中的任意一種或至少兩種的組合;該燒製的溫度為800~1300℃。
- 如請求項1所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該二氧化矽包含經過表面處理的二氧化矽;該表面處理的試劑包含矽烷偶聯劑、硼酸酯偶聯劑、鋯酸酯偶聯劑或磷酸酯偶聯劑中的任意一種或至少兩種的組合。
- 如請求項1所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該含氟樹脂基樹 脂組成物中以重量份計亦包含1~10份其它含氟樹脂乳液;該其它含氟樹脂乳液包含聚全氟乙丙烯乳液、聚偏氟乙烯乳液、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物乳液、乙烯-四氟乙烯共聚物乳液、聚三氟氯乙烯乳液或乙烯-三氟氯乙烯共聚物乳液中的任意一種或至少兩種的組合。
- 如請求項1所述之含氟樹脂基樹脂組成物,其中,該含氟樹脂基樹脂組成物中以重量份計亦包含1~10份其它填料;該其它填料包含二氧化鈦、鈦酸鋇、鈦酸鍶、短切玻纖、氧化鋁、氮化硼、氮化矽、空心玻璃微珠或空心二氧化矽中的任意一種或至少兩種的組合。
- 一種樹脂膜,其特徵係該樹脂膜的材料包含如請求項1至7中任一項所述之含氟樹脂基樹脂組成物。
- 一種預浸料,其特徵係該預浸料包含增強材料,以及藉由浸漬附著於該增強材料上的如請求項1至7中任一項所述之含氟樹脂基樹脂組成物。
- 一種覆銅板,其特徵係該覆銅板包含銅箔,以及如請求項8所述之樹脂膜、如請求項9所述之預浸料中的至少一種。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110923216.5 | 2021-08-12 | ||
CN202110923216.5A CN113652042B (zh) | 2021-08-12 | 2021-08-12 | 一种含氟树脂基树脂组合物及其应用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202307023A TW202307023A (zh) | 2023-02-16 |
TWI824653B true TWI824653B (zh) | 2023-12-01 |
Family
ID=78491494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111129602A TWI824653B (zh) | 2021-08-12 | 2022-08-05 | 一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113652042B (zh) |
TW (1) | TWI824653B (zh) |
WO (1) | WO2023016242A1 (zh) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113652042B (zh) * | 2021-08-12 | 2023-04-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种含氟树脂基树脂组合物及其应用 |
CN114045072A (zh) * | 2021-12-06 | 2022-02-15 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种适用于ptfe复合浆料粘度调节的方法 |
WO2023190894A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 株式会社アドマテックス | 改質シリカ粒子材料及びその製造方法、樹脂組成物、並びにスラリー組成物 |
CN115075057B (zh) * | 2022-07-05 | 2023-11-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种低介电损耗无纺布及其制备方法和应用 |
CN114957893B (zh) * | 2022-07-05 | 2023-11-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种无纺布预浸料、覆铜板及其应用 |
CN115198564B (zh) * | 2022-07-05 | 2023-12-22 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种低介电损耗无纺布及其制备方法和应用 |
CN115198563B (zh) * | 2022-07-05 | 2024-03-08 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种无纺布及其制备方法和应用 |
CN115073865B (zh) * | 2022-07-05 | 2023-11-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种无纺布预浸料、覆金属箔板和印制电路板 |
CN115071226B (zh) * | 2022-07-05 | 2024-06-14 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种含氟树脂覆铜板以及多层电路板 |
CN115820154B (zh) * | 2022-12-07 | 2024-08-30 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种埋容用涂胶层铜箔及其制备方法和应用 |
CN116039186A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-05-02 | 上海普利特化工新材料有限公司 | 一种液晶聚合物纤维织布基低介电复合板材的制备方法 |
CN117165215B (zh) * | 2023-10-25 | 2024-02-20 | 山东东岳高分子材料有限公司 | 一种覆铜板用氟树脂粘结片芯层、粘结片及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106009428A (zh) * | 2016-05-13 | 2016-10-12 | 电子科技大学 | 一种二氧化硅填充ptfe复合材料及其制备方法 |
CN111154206A (zh) * | 2020-02-17 | 2020-05-15 | 武汉理工大学 | 改性ptfe复合介质材料、制备方法及其用途 |
CN112574521A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-03-30 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种含氟树脂组合物及包含其的树脂胶液、含氟介质片、层压板、覆铜板和印刷电路板 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4849284A (en) * | 1987-02-17 | 1989-07-18 | Rogers Corporation | Electrical substrate material |
JP3060297B2 (ja) * | 1998-02-10 | 2000-07-10 | 株式会社コスモ総合研究所 | 樹脂組成物、成形物及び樹脂組成物の製造方法 |
CN105801814B (zh) * | 2014-12-29 | 2018-05-04 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种无卤热固性树脂组合物及使用它的预浸料和印制电路用层压板 |
CN106854330B (zh) * | 2016-11-25 | 2018-03-23 | 常州中英科技股份有限公司 | 一种含氟树脂混合物及其制备的半固化片和覆铜板 |
WO2020145133A1 (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-16 | ダイキン工業株式会社 | フッ素樹脂組成物、フッ素樹脂シート、積層体及び回路用基板 |
CN112500608B (zh) * | 2020-11-20 | 2022-03-15 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 高频高速覆铜板用熔融硅微粉的制备方法 |
CN112694093A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-04-23 | 山东瑞利泰阳新材料科技有限公司 | 一种低介电损耗二氧化硅微球及制备方法 |
CN113652042B (zh) * | 2021-08-12 | 2023-04-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种含氟树脂基树脂组合物及其应用 |
-
2021
- 2021-08-12 CN CN202110923216.5A patent/CN113652042B/zh active Active
-
2022
- 2022-07-26 WO PCT/CN2022/107862 patent/WO2023016242A1/zh active Application Filing
- 2022-08-05 TW TW111129602A patent/TWI824653B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106009428A (zh) * | 2016-05-13 | 2016-10-12 | 电子科技大学 | 一种二氧化硅填充ptfe复合材料及其制备方法 |
CN111154206A (zh) * | 2020-02-17 | 2020-05-15 | 武汉理工大学 | 改性ptfe复合介质材料、制备方法及其用途 |
CN112574521A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-03-30 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种含氟树脂组合物及包含其的树脂胶液、含氟介质片、层压板、覆铜板和印刷电路板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202307023A (zh) | 2023-02-16 |
CN113652042A (zh) | 2021-11-16 |
CN113652042B (zh) | 2023-04-07 |
WO2023016242A1 (zh) | 2023-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI824653B (zh) | 一種含氟樹脂基樹脂組成物及其應用 | |
US11945924B2 (en) | Fluorine-containing resin composition, and resin vanish, fluorine-containing dielectric sheet, laminate, copper clad laminate and printed circuit board containing the same | |
WO2020155291A1 (zh) | 一种热固性树脂组合物、包含其的预浸料以及覆金属箔层压板和印制电路板 | |
WO2012151820A1 (zh) | 复合材料、用其制作的高频电路基板及其制作方法 | |
JP5665846B2 (ja) | 熱伝導性ポリイミドフィルム及びそれを用いた熱伝導性積層体 | |
TWI756679B (zh) | 一種改性馬來醯亞胺化合物及其製備方法及應用 | |
CN114181652B (zh) | 一种低介电损耗的绝缘胶膜及其制备方法和应用 | |
CN110591255B (zh) | 基板材料、基板材料制备方法及相关基板 | |
TW201623454A (zh) | 無鹵無磷矽樹脂組合物以及使用它的預浸料、層壓板和印製電路板 | |
TW201319137A (zh) | 無機填充物及含該無機填充物的電學材料 | |
KR20170084036A (ko) | 수지 조성물, 그것을 사용한 절연 필름 및 반도체 장치 | |
TW201430012A (zh) | 聚醯亞胺膜及其聚醯亞胺積層板 | |
WO2023124484A1 (zh) | 一种树脂组合物及其应用 | |
TW201319136A (zh) | 一種無機填充物、樹脂組合物及其應用 | |
JPH06172618A (ja) | エポキシ樹脂組成物及びプリント基板 | |
CN113263796A (zh) | 一种具有低热膨胀系数的覆铜板及其制备工艺 | |
WO2024007535A1 (zh) | 一种含氟树脂覆铜板以及多层电路板 | |
CN112812559A (zh) | 绝缘pi膜及其制备方法 | |
JP2007077354A (ja) | プリプレグ及びそれを用いた銅張り積層板 | |
CN115433419B (zh) | 树脂胶液、半固化片、电路基板以及印制电路板 | |
TWI830495B (zh) | 樹脂組成物及其用途 | |
JP6670293B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、当該熱硬化性樹脂組成物を含有する絶縁材、封止剤および導電ペースト、当該熱硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物、当該熱硬化性樹脂組成物を有する基板材料、当該熱硬化性樹脂組成物を基材に含浸させたプリプレグ、当該プリプレグの熱硬化性樹脂組成物を硬化させた部材、熱膨張率の調整方法、ならびに当該調整方法を用いて製造された部材 | |
CN115703913B (zh) | 一种含氟树脂组合物及其用途 | |
TW202026355A (zh) | 樹脂組合物、預浸料、層壓板、覆金屬箔層壓板和印刷電路板 | |
TW201946977A (zh) | 樹脂組合物、印刷電路用預浸片及覆金屬層壓板 |