TWI781214B - 附光學補償功能之相位差板 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種附光學補償功能之相位差板，係用於附光學補償功能之橢圓偏光板，該附光學補償功能之橢圓偏光板係即使應用於可撓性顯示器，而在顯示影像的狀態下摺疊時，也不產生皺摺等瑕疵等。
本發明之附光學補償功能之相位差板係包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(1)至(4)；水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為5μm以下…(1)
於水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間包含水平定向膜或垂直定向膜…(2)
ReA(450)/ReA(550)<1.00…(3)
RthC(450)/RthC(550)<1.00…(4)。

Description

附光學補償功能之相位差板
本發明係有關一種附光學補償功能之相位差板。
橢圓偏光板係積層有偏光板及相位差板之光學構件，例如在以平面狀態顯示影像之有機EL影像顯示裝置中，係被使用來防止在構成裝置之電極的光反射。在該橢圓偏光板中，使用所謂的λ/4板作為相位差板。
就用於如此之橢圓偏光板之相位差板而言，顯示反向波長分散性者因為其在可見光的寬廣波長範圍表現出同等的相位差性能之點，而適合使用。就顯示反向波長分散性之相位差板而言，已知一種相位差板，係只含有使顯示反向波長分散性之聚合性液晶化合物在水平方向定向之狀態下聚合硬化而成的水平定向液晶硬化膜。
而且，亦需要一種附光學補償功能之橢圓偏光板，其所具有的補償功能係「即使在從傾斜方向觀察時，亦能發揮與從正面方向觀察時相同的光學性能」。就用在此種附光學補償功能之橢圓偏光板的附光學補償功能之 相位差板而言，在專利文獻1[日本特開2015-163935號公報]中提案一種除了具備逆波長分散性之水平定向液晶硬化膜，還具備使垂直定向狀態下之聚合性液晶化合物聚合硬化而得的垂直定向液晶硬化膜者。在同一文獻中所具體揭示之垂直定向液晶硬化膜，係不顯示反向波長分散性而顯示通常的正向波長分散性者，且在以通常的平面狀態顯示影像之影像顯示裝置中發揮充分的補償功能。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2015-163935號公報
然而，已知如此之傳統的附光學補償功能之橢圓偏光板，在應用於可摺疊的所謂可撓性顯示器的情況下，在顯示影像的狀態下摺疊時，由於摺疊部分的仰角(膜平面與觀察者觀看畫面之方向所成的角)基本上變得極小，因此無法充分地補償光學性能，且在著色狀態下反射外部光；以及在摺疊時產生皺摺等瑕疵。
因此，本發明之目的係開發一種附光學補償功能的相位差板，係用於附光學補償功能之橢圓偏光板，該附光學補償功能之橢圓偏光板即使應用於可撓性顯示器而在顯示影像的狀態下摺疊時，也不產生皺摺等瑕疵，充分地補償光學性能，且在著色狀態下不反射外部光。
本發明者等為了解決上述問題而專心致志進行檢討之結果，遂而完成本發明。
亦即，本發明係包含以下所述者。
[1]一種附光學補償功能之相位差板，係包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(1)至(4)，其中，該水平定向液晶硬化膜係由含有聚合性液晶化合物的組成物在對膜平面內而言定向於水平方向之狀態下硬化而成者，該垂直定向液晶硬化膜係由含有聚合性液晶化合物的組成物在已於對膜平面內而言定向於垂直方向之狀態下硬化而成者；水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為5μm以下…(1)
於水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間包含水平定向膜或垂直定向膜…(2)
ReA(450)/ReA(550)<1.00…(3)
式(3)中，ReA(λ)表示水平定向液晶硬化膜之於波長λnm的面內相位差值；面內相位差值ReA(λ)之定義係如下述，ReA(λ)=(nxA(λ)-nyA(λ))×dA
式中，nxA(λ)係表示水平定向液晶硬化膜之於膜平面內的主折射率，且為對波長λ(nm)的光之主折射率； nyA(λ)係表示與nxA(λ)在同一平面內正交之方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率；dA表示水平定向液晶硬化膜之膜厚；RthC(450)/RthC(550)<1.00…(4)
式(4)中，RthC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之於波長λnm的厚度方向之相位差值；相位差值RthC(λ)之定義係如下述，RthC(λ)={[nxC(λ)+nyC(λ)]/2-nzC(λ)}×dC
式中，nxC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之於膜平面內的主折射率，且為對波長λ(nm)的光之主折射率；nyC(λ)係表示與nxC(λ)在同一平面內正交之方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率；nzC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之厚度方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率；dC表示垂直定向液晶硬化膜之膜厚；而且，式(4)中，nxC=nyC時，nxC可在膜平面內的任一方向具有折射率。
[2]如上述[1]所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(5)，|R0(550)-R40(550)|<10nm…(5)
式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值； 而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為對波長λ(nm)的光之相位差值。
[3]如上述[1]或上述[2]所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(6)，|R0(450)-R40(450)|<10nm…(6)
式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值；而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為對波長λ(nm)的光之相位差值。
[4]如上述[1]至上述[3]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(7)。
|{R0(450)-R40(450)}-{R0(550)-R40(550)}|<3nm…(7)
式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差 值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值；而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為對波長λ(nm)的光之相位差值。
[5]如上述[1]至上述[4]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，其中，水平定向液晶硬化膜、垂直定向液晶硬化膜以及水平定向膜或垂直定向膜之在波長550nm中之平均折射率差係0.20以下。
[6]如上述[1]至上述[5]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含水平定向膜，該水平定向膜係光定向膜。
[7]如上述[1]至上述[6]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含水平定向膜，該水平定向膜含有桂皮醯基。
[8]如上述[1]至上述[7]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含垂直定向膜，該垂直定向膜之膜厚係30nm以上1μm以下。
[9]如上述[1]至[8]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定 向液晶硬化膜之間包含垂直定向膜，該垂直定向膜係由構成元素包含Si元素、C元素及O元素之化合物所構成的膜。
[10]一種橢圓偏光板，係積層有上述[1]至上述[9]中任一項所述之附光學補償功能之相位差板、及偏光板。
[11]一種有機EL顯示裝置，係包含上述[10]所述之橢圓偏光板。
使用了本發明之附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板，在應用於可撓性顯示器並彎折時，反射色相變化變少。
[水平定向液晶硬化膜]
水平定向液晶硬化膜係在膜平面內具有折射率各向異性之膜，且由包含聚合性液晶化合物之聚合物所構成。以將聚合性液晶組成物塗佈在水平定向膜上並藉由加熱及/或光照射而使包含定向狀態之聚合性液晶化合物的組成物進行聚合之方法進行水平定向液晶硬化膜之形成時，由於可達成水平定向液晶硬化膜之薄膜化及可任意地設計波長分散性因而為較佳。
水平定向液晶硬化膜形成的3維折射率橢 圓體係可具有雙軸性，惟以具有單軸性者為較佳。水平定向液晶硬化膜可為由包含對於水平定向液晶硬化膜之平面呈水平方向定向之狀態的聚合性液晶化合物之聚合性液晶組成物的聚合物所構成的水平定向液晶硬化膜，亦可為混合定向(hybrid orientation)液晶硬化膜或傾斜定向液晶硬化膜。經由聚合性液晶之定向所形成的折射率橢圓體於3個方向之折射率nx、ny及nz可具有nx>ny≒nz(稱為正極A板)或nx<ny≒nz(稱為負極A板)之關係。nx表示在水平定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對水平定向液晶硬化膜的平面呈平行方向的主折射率。ny表示在水平定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對水平定向液晶硬化膜的平面呈平行，且對該nx方向呈正交之方向的折射率。nz表示在水平定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對水平定向液晶硬化膜的平面呈垂直方向的折射率。
水平定向液晶硬化膜可使用棒狀聚合性液晶與圓盤狀聚合性液晶之任一者，惟以棒狀聚合性液晶為較佳。棒狀聚合性液晶在形成水平定向液晶硬化膜時，水平定向液晶硬化膜成為正極A板。
水平定向液晶硬化膜在膜平面內具有光學各向異性時，對波長550nm之光的面內相位差值的Rel(550)係以滿足下述式(21)所示之光學特性者為佳。而且，水平定向液晶硬化膜對波長450nm之光的面內相位差值的Rel(450)、對波長550nm之光的面內相位差值的Rel(550)及對波長650nm之光的面內相位差值的Rel(650)，亦 以滿足下述式(22)及式(23)所示之光學特性為佳。水平定向液晶硬化膜係以滿足下述式(21)、下述式(22)及下述式(23)所示之光學特性為更佳。
120nm≦ReA(550)≦170nm…(21)[式中，ReA(550)表示水平定向液晶硬化膜對波長550nm之光的面內相位差值(面內延遲)]
ReA(450)/ReA(550)≦1.0…(22)
1.00≦ReA(650)/ReA(550)…(23)[式中，ReA(450)表示水平定向液晶硬化膜對波長450nm之光的面內相位差值，ReA(550)表示水平定向液晶硬化膜對波長550nm之光的面內相位差值，ReA(650)表示水平定向液晶硬化膜對波長650nm之光的面內相位差值]。
水平定向液晶硬化膜的面內相位差值ReA(550)超出式(21)之範圍時，應用包含附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板的顯示器會產生正面之色相變紅、變藍之問題。面內相位差值之更佳範圍係130nm≦ReA(550)≦160nm。水平定向液晶硬化膜之「ReA(450)/ReA(550)」超過1.0時，在具備該水平定向液晶硬化膜的橢圓偏光板的短波長側之橢圓率會變差。在短波長側的橢圓偏光板之橢圓率變差並脫離1.0而變小時，在短波長側從正面觀察時，會有橢圓偏光板的功能受損之傾向。該「ReA(450)/ReA(550)」係以0.75至0.92為佳，以0.77至0.87為更佳，以0.79至0.85為又更佳。
水平定向液晶硬化膜之面內相位差值可藉 由水平定向液晶硬化膜之厚度而調整。由於面內相位差值係依下述式(24)而決定，因此為了得到所期望的面內相位差值(ReA(λ)：波長λ(nm)中的水平定向液晶硬化膜之面內相位差值)，可調整3維折射率與膜厚dA。而且，3維折射率係取決於後述聚合性液晶化合物之分子結構以及定向狀態。
ReA(λ)=(nxA(λ)-nyA(λ))×dA…(24)[式中，水平定向液晶硬化膜形成之折射率橢圓體中，係有nxA(λ)>nyA(λ)≒nzA(λ)之關係，nxA(λ)表示對於波長λ(nm)之光之水平定向液晶硬化膜平面呈平行之方向之主折射率。nyA(λ)表示在水平定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對於波長λ(nm)之光之與水平定向液晶硬化膜平面呈平行、且相對於該nxA(λ)之方向呈正交之方向的折射率。dA表示水平定向液晶硬化膜之厚度。]
水平定向液晶硬化膜係以包含如上所述之定向狀態之聚合性液晶化合物的組成物之聚合物為佳。形成水平定向液晶硬化膜之聚合性液晶化合物係具有聚合性官能基，尤其是具有光聚合性官能基之液晶化合物。光聚合性官能基係指能夠藉由從光聚合起始劑所產生之活性自由基和酸等參與聚合反應之基。光聚合性官能基可列舉如：乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，以丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基為佳，以 丙烯醯基氧基更佳。液晶性可為熱致型液晶(thermotropic liquid crystal)或溶致型液晶(lyotropic liquid crystal)。相序結構可為向列型液晶或層列型液晶。
本發明中，聚合性液晶化合物係從表現反向波長分散性，滿足上述式(21)及(22)、或下述(31)及(32)之關係的觀點來看，係以下述式(I)所示之化合物為佳。
Figure 107128614-A0202-12-0011-1
式(I)中，Ar表示可具有取代基之二價芳香族基。於此所謂的芳香族基係指具有平面性的環狀結構之基，該環結構所具有之π電子數係根據休克耳定則(Hückel's rule)為[4n+2]個者。此處，n表示整數。在包含-N=或-S-等雜原子而形成環結構時，亦包括包含在該等雜原子上之非共價鍵電子對且滿足休克耳(Hückel)法則之情況。該二價之芳香族基中係以包含氮原子、氧原子、硫原子中之至少1個以上者為佳。
G1及G2各自獨立地表示二價芳香族基或二價脂環式烴基。在此，該二價芳香族基或二價脂環式烴基中所含的氫原子可經鹵原子、碳數1至4之烷基、碳數1至4之氟烷基、碳數1至4之烷氧基、氰基或硝基所取代，構成該二價芳香族基或二價脂環式烴基之碳原子可經氧原子、硫原子或氮原子取代。
L1、L2、B1及B2各自獨立地為單鍵或二價 連結基。
k、l各自獨立地表示0至3之整數，滿足1≦k+l之關係。此處，2≦k+l時，B1及B2、G1及G2各自可互為相同或不同。
E1及E2各自獨立地表示碳數1至17之烷二基，此處，烷二基所含的氫原子可經鹵原子取代，該烷二基所含的-CH2-可經-O-、-S-、-Si-取代。P1及P2各自獨立地表示聚合性基或氫原子，至少1者為聚合性基。
G1及G2各自獨立地以可經選自鹵原子及碳數1至4之烷基所成群組中的至少1個取代基所取代之1,4-伸苯二基、可經選自鹵原子及碳數1至4之烷基所成群組中的至少1個取代基所取代之1,4-環己二基為較佳，更佳為經甲基取代之1,4-伸苯二基、無取代之1,4-伸苯二基、或無取代之1,4-反式-環己二基，特佳為無取代之1,4-伸苯二基、或無取代之1,4-反式-環己二基。而且，以複數存在之G1及G2中之至少1者係二價脂環式烴基為較佳，而且，以與L1及L2鍵結之G1及G2中的至少1者係二價脂環式烴基為更佳。
L1及L2各自獨立地以單鍵、碳數1至4之伸烷基、-O-、-S-、-Ra1ORa2-、-Ra3COORa4-、-Ra5OCORa6-、-Ra7OC=OORa8-、-N=N-、CRc=CRd-或C≡C-為較佳。此處，Ra1至Ra8各自獨立地表示單鍵或碳數1至4之伸烷基，Rc及Rd表示碳數1至4之烷基或氫原子。L1及L2各自獨立地表示單鍵、-ORa2-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa4-1-或 OCORa6-1-為更佳。此處，Ra2-1、Ra4-1、Ra6-1各自獨立地表示單鍵、-CH2-、-CH2CH2-之任一者。L1及L2係各自獨立地以單鍵、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-或OCO-為又更佳。
B1及B2各自獨立地以單鍵、碳數1至4之伸烷基、-O-、-S-、-Ra9ORa10-、-Ra11COORa12-、-Ra13OCORa14-或Ra15OC=OORa16-為較佳。此處，Ra9至Ra16各自獨立地表示單鍵或碳數1至4之伸烷基。B1及B2各自獨立地以單鍵、-ORa10-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa12-1-或OCORa14-1-為更佳。此處，Ra10-1-、Ra12-1-、Ra14-1-各自獨立地表示單鍵、-CH2-、-CH2CH2-之任一者。B1及B2各自獨立地以單鍵、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-、-OCO-或OCOCH2CH2-為更佳。
由表現反向波長分散性之觀點來看，k及l係以2≦k+l≦6之範圍為佳，又以k+l=4為較佳，以k=2且l=2為更佳。為k=2且l=2時，由於具有對稱結構而為更佳。
E1及E2各自獨立地以碳數1至17之烷二基為佳，以碳數4至12之烷二基為更佳。
P1或P2所示之聚合性基可列舉例如：環氧基、乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基等。其中，以丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基為佳， 以丙烯醯基氧基為更佳。
Ar係以具有選自：可具有取代基之芳香族烴環、可具有取代基之芳香族雜環及吸電子基之至少1者為佳。該芳香族烴環可列舉例如：苯環、萘環、蒽環等，以苯環、萘環為佳。該芳香族雜環可列舉：呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、吲哚環、噻吩環、苯并噻吩環、吡啶環、吡
Figure 107128614-A0202-12-0014-15
環、嘧啶環、三唑環、三
Figure 107128614-A0202-12-0014-16
環、吡咯啉環、咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、噻吩并噻唑環、
Figure 107128614-A0202-12-0014-17
唑環、苯并
Figure 107128614-A0202-12-0014-18
唑環及啡啉環等。該等之中，以具有噻唑環、苯并噻唑環或苯并呋喃環者為佳，以具有苯并噻唑基者更佳。而且，Ar中含有氮原子時，該氮原子以具有π電子者為佳。
式(I)中，Ar所示之2價芳香族基中所含的π電子之合計數Nπ係以8以上為佳，以10以上為更佳，以14以上為又更佳，以16以上為特佳。而且，以30以下為佳，以26以下為更佳，以24以下為又更佳。
Ar所示之芳香族基方面，可列舉以下之基。
Figure 107128614-A0202-12-0015-2
式(Ar-1)至式(Ar-22)中，*記號表示連結部，Z0、Z1及Z2各自獨立地表示氫原子、鹵原子、碳數1至12之烷基、氰基、硝基、碳數1至12之烷基亞磺醯基、碳數1至12之烷基磺醯基、羧基、碳數1至12之氟烷基、碳數1至6之烷氧基、碳數1至12之烷基硫基、碳數1至12之N-烷基胺基、碳數2至12之N,N-二烷基胺基、碳數1至12之N-烷基胺磺醯基或碳數2至12之N,N-二 烷基胺磺醯基。
Q1及Q2各自獨立地表示-CR2'R3'-、-S-、-NH-、NR2'-、-CO-或O-。R2'及R3'各自獨立地表示氫原子或碳數1至4之烷基。
J1及J2各自獨立地表示碳原子或氮原子。
Y1、Y2及Y3各自獨立地表示可經取代之芳香族烴基或芳香族雜環基。
W1及W2各自獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵原子，m表示0至6之整數。
Y1、Y2及Y3中之芳香族烴基可列舉如：苯基、萘基、蒽基、菲基、聯苯基等碳數6至20之芳香族烴基，以苯基、萘基為佳，以苯基為更佳。芳香族雜環基可列舉如：呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等至少包含1個氮原子、氧原子、硫原子等雜原子之碳數4至20之芳香族雜環基，以呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基為佳。
Y1及Y2可各自獨立地為可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基係指縮合多環系芳香族烴基或源自芳香環聚集體(aromatic ring assemblies)之基。多環系芳香族雜環基係指縮合多環系芳香族雜環基或源自芳香環聚集體之基。
Z0、Z1及Z2係以各自獨立地為氫原子、鹵原子、碳數1至12之烷基、氰基、硝基、碳數1至12之烷氧基為佳，Z0係以氫原子、碳數1至12之烷基、氰基 為更佳，Z1及Z2係以氫原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基為更佳。
Q1及Q2係以-NH-、-S-、-NR2'-、-O-為佳，R2'係以氫原子為佳。其中，以-S-、-O-、-NH-為特佳。
式(Ar-1)至(Ar-22)之中，由分子安定性之觀點來看，以式(Ar-6)及式(Ar-7)為佳。
式(Ar-16)至(Ar-22)之中，Y1可與其所鍵結之氮原子及Z0一起形成芳香族雜環基。芳香族雜環基，可列舉作為可具有Ar之芳香族雜環的上述者，可列舉例如：吡咯環、咪唑環、吡咯啉環、吡啶環、吡
Figure 107128614-A0202-12-0017-13
環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環等。該芳香族雜環基可具有取代基。而且，Y1可與其所鍵結之氮原子及Z0一起為前述可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。可列舉例如：苯并呋喃環、苯并噻唑環、苯并
Figure 107128614-A0202-12-0017-14
唑環等。而且，前述式(I)所示之化合物係可根據例如日本特開2010-31223號公報所記載之方法製造。
聚合性液晶化合物可單獨使用或組合2種以上使用。在併用2種以上時，相對於聚合性液晶化合物100質量份，上述式(I)所示之化合物的含量係以50質量份以上為佳，以70質量份以上為更佳，以80質量份以上為又更佳。
水平定向液晶硬化膜之形成所使用的水平定向液晶硬化膜形成用組成物(以下亦稱為聚合性液晶組成物)可進一步包含溶媒、光聚合起始劑、聚合抑制劑、光 敏劑、調平劑、密合促進劑。該等添加劑可單獨使用或組合2種以上使用。
相對於聚合性液晶組成物之固形分100質量份，聚合性液晶化合物之含量例如為70至99.5質量份，以80至99質量份為佳，以90至98質量份為更佳。含量在上述範圍內時，水平定向液晶硬化膜之定向性會有變高之傾向。此處，固形分係指從組成物去除溶媒後之成分的合計量。
就溶媒而言，以能夠溶解聚合性液晶化合物之溶媒為佳，以對聚合性液晶化合物之聚合反應呈惰性的溶媒為佳。溶媒可列舉例如：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇及丙二醇單甲基醚等醇溶媒；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶媒；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶媒；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶媒；乙基環己烷等脂環式烴溶媒；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶媒；乙腈等腈溶媒；四氫呋喃、苯甲醚及二甲氧基乙烷等醚溶媒；氯仿及氯苯等含氯溶媒；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮等醯胺系溶媒等。該等溶媒可單獨使用或組合2種以上使用。但是，由於上述式(I)所示的化合物通常具有較大的共軛系，因此對於溶媒的溶解性低，而在上述所例示之溶媒中，以使用醇溶媒、 酯溶媒、酮溶媒、含氯溶媒、醚系溶媒、醯胺系溶媒及芳香族烴溶媒為佳，以使用酯溶媒、酮溶媒、含氯溶媒、醚系溶媒、醯胺系溶媒為更佳。
相對於聚合性液晶組成物100質量份，溶媒含量係以50至98質量份為佳，以70至95質量份為更佳。因此，組成物100質量份中固形分係以佔2至50質量份為佳。組成物之固形分在50質量份以下時，因為組成物的黏度會降低，故水平定向液晶硬化膜的厚度變得大致均勻，有水平定向液晶硬化膜變得不易產生不均勻之傾向。上述固形分可考量所欲製造之水平定向液晶硬化膜之厚度而適當地決定。
聚合起始劑係可藉由賦予熱或光而生成反應活性物種並引發聚合性液晶等之聚合反應的化合物。反應活性物種係可列舉如：自由基、陽離子或陰離子等活性物種。其中，從易於控制反應之觀點來看，以藉由光的照射進行反應之光聚合起始劑為佳。
光聚合起始劑可列舉如光自由基聚合起始劑、光陽離子聚合起始劑等。光自由基聚合起始劑可列舉如：苯偶姻化合物、二苯基酮化合物、苯甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、三
Figure 107128614-A0202-12-0019-12
化合物等，光陽離子聚合起始劑可列舉如：芳香族重氮鹽、芳香族碘鎓鹽及芳香族鋶鹽等鎓鹽；鐵-芳烴錯合物等。具體上可列舉如：Irgacure(註冊商標)907、Irgacure 184、Irgacure 651、Irgacure 819、Irgacure 250、Irgacure 369、Irgacure 379、 Irgacure 127、Irgacure 2959、Irgacure 754、Irgacure 379EG(以上由BASF日本股份有限公司製造)；Seikuol BZ、Seikuol Z、Seikuol BEE(以上由精工化學股份有限公司製造)；Kayacure BP100(日本化藥股份有限公司製造)；Kayacure-UV1-6992(Dow公司製造)；ADEKA OPTOMER SP-152、ADEKA OPTOMER SP-170、ADEKA OPTOMER N-1717、ADEKA OPTOMER N-1919、ADEKA ARKLES NCI-831、ADEKA ARKLES NCI-930(以上由ADEKA股份有限公司製造)；TAZ-A、TAZ-PP(以上由日本Siber Hegner股份有限公司製造)以及TAZ-104(三和化學公司製造)；KAYARAD(註冊商標)系列(日本化藥股份有限公司製造)；CYRACURE UVI系列(Dow Chemical公司製造)；CPI系列(San Apro股份有限公司製造)、TAZ、BBI及DTS(以上由綠化學股份有限公司製造)；RHODORSIL(註冊商標)(RHODIA股份有限公司製造)等。光聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上使用。該等之中，從易於控制反應之觀點來看，以藉由光的照射產生自由基之光自由基聚合起始劑為佳。
從可充分利用由光源發出的能量且生產性優異之觀點來看，係以光聚合起始劑的最大吸收波長在300nm至400nm的範圍內者為佳，以在300nm至380nm的範圍內者更佳。而且，從相同的觀點來看，以α-苯乙酮系聚合起始劑、肟系光聚合起始劑為佳。
α-苯乙酮系聚合起始劑方面，可列舉例如： 2-甲基-2-N-嗎啉基-1-(4-甲基氫硫基苯基)丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苯甲基丁烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-(4-甲基苯基甲基)丁烷-1-酮等，以2-甲基-2-N-嗎啉基-1-(4-甲基氫硫基苯基)丙烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苯甲基丁烷-1-酮為更佳。α-苯乙酮化合物之市售品方面，可列舉如：Irgacure 369、379EG、907(以上由BASF日本股份有限公司製造)及Seikuol BEE(精工化學股份有限公司製造)等。
肟系光聚合起始劑係藉由光照射而產生自由基。藉由該自由基，於水平定向液晶硬化膜之深部的聚合性液晶化合物之聚合可良好地進行。而且，從更有效地進行於水平定向液晶硬化膜之深部的聚合反應之觀點來看，以使用可有效地利用波長350nm以上之紫外線的光聚合起始劑為佳。就可有效地利用波長350nm以上之紫外線的光聚合起始劑而言，以三
Figure 107128614-A0202-12-0021-11
化合物及肟酯型咔唑化合物為佳，從靈敏度之觀點來看，以肟酯型咔唑化合物為更佳。肟酯型咔唑化合物可列舉例如：1,2-辛二酮、1-[4-(苯基硫基)-2-(O-苯甲醯基肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)等。肟酯型咔唑化合物之市售品可列舉如：Irgacure OXE-01、Irgacure OXE-02、Irgacure OXE-03(以上由BASF日本股份有限公司製造)；ADEKA OPTOMER N-1919、ADEKA ARKLES NCI-831(以上由ADEKA股份有限公司製造)等。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，光 聚合起始劑之添加量一般為0.1至30質量份，以1至20質量份為佳，以1至15質量份為更佳。若在上述範圍內，則聚合性基之反應會充分地進行，且聚合性液晶化合物之定向不易紊亂。
藉由調配聚合抑制劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應。就聚合抑制劑而言，可列舉如：氫醌及具有烷基醚等取代基之氫醌類；丁基兒茶酚等具有烷基醚等取代基之兒茶酚類；五倍子酚(pyrogallol)類；2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等自由基捕捉劑(radical scavenger)；硫酚(thiophenol)類；β-萘基胺類及β-萘酚類。為了不干擾聚合性液晶化合物之定向而將液晶化合物聚合，相對於聚合性液晶化合物100質量份，聚合抑制劑之含量一般為0.01至10質量份，以0.1至5質量份為佳，以0.1至3質量份為更佳。聚合抑制劑可單獨使用或組合2種以上使用。
更且，藉由使用光敏劑，可使光聚合起始劑高靈敏度化。光敏劑可列舉例如：氧蒽酮(xanthone)、硫雜蒽酮等氧蒽酮類；蒽及具有烷基醚等取代基之蒽類；啡噻
Figure 107128614-A0202-12-0022-10
；紅螢烯。光敏劑可單獨使用或組合2種以上使用。相對於聚合性液晶化合物100質量份，光敏劑之含量一般為0.01至10質量份，以0.05至5質量份為佳，以0.1至3質量份為更佳。
調平劑係具有調整聚合性液晶組成物之流動性，而使塗佈組成物所得之層更為平坦之功能的添加 劑，可列舉例如：矽烷偶合劑等聚矽氧系及聚丙烯酸酯系及全氟烷基系的調平劑。具體上可列舉如：DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上均為Toray‧Dow Corning股份有限公司製造)；KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBE-585、KBM-802、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007(以上均由信越化學工業股份有限公司製造)；TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上均由Momentive Performance Materials Japan公司製造)；Fluorinert(註冊商標)FC-72、Fluorinert FC-40、Fluorinert FC-43、Fluorinert FC-3283(以上均由住友3M股份有限公司製造)；MEGAFAC(註冊商標)R-08、MEGAFAC R-30、MEGAFAC R-90、MEGAFAC F-410、MEGAFAC F-411、MEGAFAC F-443、MEGAFAC F-445、MEGAFAC F-470、MEGAFAC F-477、MEGAFAC F-479、MEGAFAC F-482、MEGAFAC F-483(以上均由DIC股份有限公司製造)；EFTOP(商品名)EF301、EFTOP EF303、EFTOP EF351、EFTOP EF352(以上均由三菱材料電子化成股份有限公司製造)；SURFLON(註冊商標) S-381、SURFLON S-382、SURFLON S-383、SURFLON S-393、SURFLON SC-101、SURFLON SC-105、KH-40、SA-100(以上均由AGC Seimi Chemical股份有限公司製造)；商品名E1830、E5800(以上均由大金精細化學研究所股份有限公司製造)；BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353及BYK-361N(以上均為商品名：BM Chemie公司製造)等。調平劑可單獨使用或組合2種以上使用。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，調平劑之含量以0.01至5質量份為佳，以0.05至3質量份為更佳。調平劑之含量在上述範圍內時，所得水平定向液晶硬化膜有變得更平滑之傾向，故為較佳。
聚合性液晶組成物係可藉由將聚合性液晶化合物與添加劑等聚合性液晶化合物以外的成分在預定的溫度下進行攪拌等而得到。
水平定向液晶硬化膜係可藉由將上述聚合性液晶組成物塗佈在後述水平定向膜上，接著去除溶媒，將包含定向狀態之聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物進行加熱及/或經由活性能量射線使之硬化而得。
就將聚合性液晶組成物塗佈在水平定向膜上之方法(以下亦有稱為塗佈方法A之情形)而言，可列舉例如：擠出塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、CAP塗佈法、狹縫塗佈法、微凹版法、模塗法、噴墨法等。而且，亦可列舉使用浸塗機、棒塗機、旋塗機等塗佈機進行塗佈之方法等。其中，以卷對卷形式連續塗佈時，係以 微凹版法、噴墨法、狹縫塗佈法、模塗法進行塗佈之方法為佳。
就去除溶媒之方法(以下亦有稱為溶媒去除方法的情形)而言，可列舉例如：自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥以及該等經組合之方法。其中，以自然乾燥或加熱乾燥為佳。乾燥溫度係以0至200℃之範圍為佳，以20至150℃之範圍為更佳，以50至130℃之範圍為又更佳。乾燥溫度係以10秒鐘至20分鐘為佳，以30秒鐘至10分鐘為更佳。
就照射的活性能量射線而言，係依照聚合性液晶化合物之種類(尤其是聚合性液晶化合物所具有的光聚合性官能基之種類)、包含光聚合起始劑時之光聚合起始劑的種類以及該等之量而適當地選擇。具體上可列舉如：由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α射線、β射線及γ射線所成群組中選出之1種以上的光。其中，就容易控制聚合反應之進行之點、以及在該技術領域中可廣泛地使用作為光聚合裝置之點而言，係以紫外光為佳，而以能夠藉由紫外光進行光聚合之方式選擇聚合性液晶化合物之種類為佳。
上述活性能量射線之光源可列舉例如：低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm之光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵素燈等。
紫外線照射強度一般為10至3,000mW/cm2。較佳之紫外線照射強度係於對光陽離子聚合起始劑或光自由基聚合起始劑的活化為有效的波長區域之強度。光的照射時間一般為0.1秒鐘至10分鐘，以0.1秒鐘至5分鐘為佳，以0.1秒鐘至3分鐘為更佳，以0.1秒鐘至1分鐘為又更佳。以如此之紫外線照射強度進行1次或複數次照射時，該累積光量為10至3,000mJ/cm2，以50至2,000mJ/cm2為佳，以100至1,000mJ/cm2為更佳。累積光量在上述的下限以下時，聚合性液晶化合物之硬化不充分，會有無法得到良好的轉印性之情形。反之，累積光量在上述的上限以上時，包含水平定向液晶硬化膜之附光學補償功能的相位差板會有著色之情形。
從功能性膜的薄膜化之觀點來看，水平定向液晶硬化膜之膜厚係以5μm以下為佳，以3μm以下為更佳，以2.5μm以下為又更佳。而且，水平定向液晶硬化膜之膜厚的下限係以0.1μm以上為佳，以0.5μm以上為更佳，以1.0μm以上為又更佳。水平定向液晶硬化膜之膜厚可使用橢圓偏光儀(ellipsometer)或接觸式膜厚計進行測定。
[水平定向膜]
定向膜係具有使液晶硬化膜之聚合性液晶化合物在預定方向定向的定向約束力之膜。而且，可依定向膜之種類、摩擦條件及光照射條件而控制垂直定向、水平定向、混合定向及傾斜定向等各種定向。其中，水平定向膜係具有使液晶硬化膜之聚合性液晶化合物在水平方向定向的定向約 束力之定向膜。因此，可藉由使用水平定向膜來形成水平定向液晶膜。
定向膜方面，係以具有不因聚合性液晶組成物之塗佈等而溶解的耐溶媒性，且在用以去除溶媒及使聚合性液晶化合物定向之加熱處理中具有耐熱性者為佳。
就呈現使水平定向液晶硬化膜在水平方向定向的定向約束力的水平定向膜而言，可列舉如：摩擦定向膜、光定向膜及表面具有凹凸圖案或複數個溝槽之凹槽(groove)定向膜等。例如在應用於長條卷軸狀膜時，從可易於控制定向方向之觀點來看，以光定向膜為佳。
摩擦定向膜一般係將包含定向性聚合物與溶媒之組成物(以下亦稱為摩擦定向膜形成用組成物)塗佈在基板等之上，去除溶媒而形成塗佈膜，並將該塗佈膜進行摩擦，藉此可賦予定向約束力。
就定向性聚合物而言，可列舉例如：具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及其水解物的聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改質聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚
Figure 107128614-A0202-12-0027-9
唑、聚伸乙亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。該等定向性聚合物可為單獨使用或組合2種以上使用。
摩擦定向膜形成用組成物中之定向性聚合物的濃度，如為使定向性聚合物完全溶解於溶媒之範圍即可。相對於該組成物100質量份，定向性聚合物之含量係以0.1至20質量份為佳，以0.1至10質量份為更佳。
摩擦定向膜形成用組成物可自市面上購得。市售品可列舉如：Sun Ever(註冊商標；日產化學工業股份有限公司製造)、Optomer(註冊商標；JSR股份有限公司製造)等。
溶媒可使用例如在水平定向液晶硬化膜之段落處所例示之溶媒。將摩擦定向膜形成用組成物塗佈在基材等之方法可列舉上述塗佈方法A，去除溶媒之方法可列舉上述溶媒去除方法A。
摩擦處理之方法可列舉例如：使纏繞有摩擦布之旋轉的摩擦輥與上述塗佈膜接觸之方法。若在進行摩擦處理時進行遮掩，亦可在定向膜上形成定向之方向不同的複數個區域(圖案)。
光定向膜一般係藉由將包含具有光反應性基之聚合物或單體與溶媒的組成物(亦稱為光定向膜形成用組成物)塗佈在基材等之上，並在去除溶媒之後照射偏光(以偏光UV為佳)而可獲得。光定向膜可藉由選擇所照射之偏光的偏光方向而任意地調節定向約束力的方向。
光反應性基係指藉由光照射而產生定向能力之基。具體上可列舉如：藉由光照射而產生分子之定向誘導反應、異構化反應、光二聚反應、光交聯反應或光分解反應等成為定向能力的起源之參與光反應的基。光反應性基係以具有不飽和鍵之基，尤其是具有雙鍵之基為佳，以具有由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)以及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所成群組中選出之至 少1個基為特佳。
具有C=C鍵之光反應性基可列舉例如：乙烯基、多烯基、茋(stilbene)基、茋唑(stilbazole)基、茋鎓(stilbazolium)基、查耳酮(chalcone)基及桂皮醯基。具有C=N鍵之光反應性基可列舉例如：芳香族希夫鹼基、具有芳香族腙等結構的基。具有N=N鍵之光反應性基可列舉例如：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲
Figure 107128614-A0202-12-0029-8
(formazan)基以及具有氧偶氮苯(azoxybenzene)結構之基。具有C=O鍵之光反應性基可列舉例如：二苯基酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來醯亞胺基。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵化烷基等取代基。
就定向性優異之點而言，係以參與光二聚反應或光交聯反應之基為佳。其中，以參與光二聚反應的光反應性基為佳；就可容易地得到定向所需的偏光照射量較少且熱安定性及經時安定性優異之光定向膜之點而言，係以桂皮醯基及查耳酮基為佳。就具有光反應性基之聚合物而言，係以使該聚合物側鏈之末端部成為桂皮酸結構或桂皮酸酯結構之方式具有桂皮醯基者為特佳。
具有光反應性基之聚合物或單體之含量係可藉由聚合物或單體的種類或目的之光定向膜的厚度進行調控，相對於光定向膜形成用組成物100質量份，以至少在0.2質量份以上為佳，以0.3至10質量份之範圍為更佳。
溶媒係可使用例如水平定向液晶硬化膜之 段落處所例示的溶媒。就將光定向膜形成用組成物塗佈在基材等之上的方法而言，可列舉上述塗佈方法A，就去除溶媒之方法而言，可列舉上述溶媒去除方法A。
在照射偏光時，可為例如對從塗佈在基材等之上的光定向膜形成用組成物去除溶媒者直接照射偏光之形式。而且，該偏光係以基本上為平行光者為佳。照射之偏光的波長宜為於具有光反應性基之聚合物或單體的光反應性基能吸收光能量之波長區域者。具體而言，以波長250至400nm之範圍的UV(紫外線)為特佳。照射該偏光之光源可列舉如：氙燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵素燈、KrF、ArF等紫外光雷射等。其中，由於高壓汞燈、超高壓汞燈及金屬鹵素燈之波長313nm之紫外線的發光強度較大，故為較佳。藉由將來自上述光源之光通過適當的偏光元件而進行照射，可照射偏光UV。偏光元件可列舉如：偏光濾光片、格蘭-湯姆森(Glan-Thompson)及格蘭-泰勒(Glan-Taylor)等之偏光稜鏡、以及線柵(wire grid)。其中，從大面積化及耐熱性之觀點來看，係以線柵型之偏光元件為佳。
另外，在進行摩擦或偏光照射時，若進行遮掩，則亦可形成液晶定向之方向不同的複數個區域(圖案)。
凹槽(groove)定向膜係在膜表面具有凹凸圖案或複數個凹槽之膜。當在具有以等間隔排列之複數個直線狀凹槽之膜上塗佈有聚合性液晶化合物時，液晶分子 係沿著該凹槽之方向定向。
得到凹槽定向膜之方法可列舉如：於感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀之狹縫的曝光用掩膜進行曝光後，進行顯影及淋洗處理，形成凹凸圖案之方法；在表面具有凹槽之板狀母版上形成硬化前之UV硬化樹脂之層，並將所形成之樹脂層移至基材等後進行硬化之方法；以及，將具有複數個凹槽之輥狀母版壓接於形成在基材等之上的硬化前之UV硬化樹脂之膜而形成凹凸，然後進行硬化之方法等。
上述摩擦定向膜形成用組成物、上述光定向膜形成用組成物等水平定向膜形成用組成物，除了溶媒以外，可包含水平定向液晶硬化膜之段落處所例示的添加劑等。
從附光學補償功能之相位差板的薄膜化之觀點來看，水平定向膜之膜厚係以1μm以下為佳，以0.5μm以下為更佳，以0.3μm以下為又更佳。而且，水平定向膜之膜厚係以1nm以上為佳，以5nm以上為更佳，以10nm以上為又更佳，以30nm以上為特佳。水平定向膜之膜厚係可使用橢圓偏光儀或接觸式膜厚計進行測定。
[垂直定向液晶硬化膜]
水平定向液晶硬化膜係對膜平面為垂直之方向具有折射率各向異性之膜，係由包含聚合性液晶化合物之聚合物所構成。以將聚合性液晶組成物塗佈在垂直定向膜上並藉由加熱及/或光照射而使包含定向狀態之聚合性液晶化合 物的聚合性液晶組成物聚合之方法來進行垂直定向液晶硬化膜之形成時，由於可達成垂直定向液晶硬化膜之薄膜化及可任意地設計波長分散特性，因而為佳。
垂直定向液晶硬化膜形成的3維折射率橢圓體可具有雙軸性，惟以具有單軸性者為佳。垂直定向液晶硬化膜可為垂直定向液晶硬化膜，其係由包含在對液晶硬化膜平面為垂直的方向定向之狀態的聚合性液晶化合物之聚合性液晶組成物的聚合物所構成者，亦可為混合定向液晶硬化膜或傾斜定向液晶硬化膜。藉由聚合性液晶之定向所形成的折射率橢圓體的3個方向之折射率nx、ny及nz可具有nz>nx≒ny(稱為正極C板)或nz<nx≒ny(稱為負極C板)之關係。nx表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對垂直定向液晶硬化膜的平面呈平行之方向的主折射率。ny表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對垂直定向液晶硬化膜的平面呈平行，且對該nx方向呈正交之方向的折射率。而且，當nx=ny時，nx可在垂直定向液晶硬化膜的平面內設為任意方向。nz表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對垂直定向液晶硬化膜的平面呈垂直之方向的折射率。
垂直定向液晶硬化膜可使用棒狀聚合性液晶與圓盤狀聚合性液晶中之任一者，惟以棒狀聚合性液晶為佳。棒狀聚合性液晶形成垂直定向液晶硬化膜時，垂直定向液晶硬化膜成為正極C板。
垂直定向液晶硬化膜為正極C板時，垂直 定向液晶硬化膜對波長λnm之光在厚度方向的相位差值RthC(λ)係以滿足下述式(31)所示之光學特性為佳。而且，滿足下述式(32)及式(33)所示之光學特性亦為佳。垂直定向液晶硬化膜以滿足下述式(31)、下述式(32)及下述式(33)所示之光學特性為更佳。
-100nm≦RthC(550)≦-50nm…(31)(式中，RthC(550)表示對波長550nm之光在厚度方向的相位差值。)
RthC(450)/RthC(550)≦1.0…(32)
1.00≦RthC(650)/RthC(550)…(33)(式中，RthC(450)表示對波長450nm之光在厚度方向的相位差值、RthC(550)表示對波長550nm之光在厚度方向的相位差值、RthC(650)表示對波長650nm之光在厚度方向的相位差值。)
垂直定向液晶硬化膜在厚度方向的相位差值RthC(550)超出式(31)之範圍時，在應用包含附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板的顯示器會產生傾向之色相變紅或變藍之問題。厚度方向之相位差值的更佳之範圍係-95nm≦RthC(550)≦-55nm，又更佳之範圍係-90nm≦RthC(550)≦-60nm。垂直定向液晶硬化膜之「RthC(450)/RthC(550)」超出1.0時，從具備該垂直定向液晶硬化膜之橢圓偏光板之短波長側的傾向進行觀察時，係橢圓率變差。在短波長側的橢圓偏光板之橢圓率變差並且偏離1.0而減少時，在短波長側的作為橢圓偏光板之功 能有受損之傾向。「RthC(450)/RthC(550)」係以0.75至0.92為佳，以0.77至0.87為更佳，以0.79至0.85為又更佳。
垂直定向液晶硬化膜之厚度方向的相位差值係可藉由垂直定向液晶硬化膜之厚度進行調整。由於厚度方向之相位差值係依下述式(34)而決定，因此，為了得到所期望的厚度方向之相位差值(RthC(λ)：於波長λ(nm)之垂直定向液晶硬化膜之厚度方向的相位差值)，可調整3維折射率與膜厚dC。而且，3維折射率係取決於後述聚合性液晶化合物之分子結構以及定向性。
RthC(λ)=[(nxC(λ)+nyC(λ))/2-nzC(λ)]×dC…(34)(式中，垂直定向液晶硬化膜所形成之折射率橢圓體中，具有nzC(λ)>nxC(λ)≒nyC(λ)之關係，式中，nzC(λ)表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對於波長λ(nm)之光之與垂直定向液晶硬化膜平面呈垂直之方向的折射率。nxC(λ)表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對於波長λ(nm)之光之與垂直定向液晶硬化膜平面呈平行之方向的最大折射率。nyC(λ)表示在垂直定向液晶硬化膜形成的折射率橢圓體中，對垂直定向液晶硬化膜的平面呈平行、且對該nxC方向呈正交之對於波長λ(nm)的光之折射率。惟在nzC(λ)=nyC(λ)時，nxC(λ)表示對垂直定向液晶硬化膜平面呈平行之任意方向的折射率。此處，dC表示垂直定向液晶硬化膜之厚度。)
垂直定向液晶硬化膜係以包含如上所述之垂直定向狀態之聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物之 聚合物為佳。形成垂直定向液晶硬化膜之聚合性液晶化合物係具有聚合性官能基，尤其是光聚合性官能基之液晶化合物。光聚合性官能基係指可藉由從光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等來參與聚合反應之基。光聚合性官能基可列舉如：乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，以丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯基氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基為佳，以丙烯醯基氧基更佳。液晶性可為熱致型液晶，亦可為溶致型液晶，相序結構可為向列型液晶，亦可為層列型液晶。
就垂直定向液晶硬化膜之形成所能使用的聚合性液晶化合物而言，係以使用上述式(I)所示之化合物為佳。藉由使用上述式(I)所示之化合物，可表現反向波長分散性，並充分地滿足上述式(31)及(32)之關係。
垂直定向液晶硬化膜所能使用的聚合性液晶化合物可單獨使用或組合2種以上使用。在併用二種以上時，相對於聚合性液晶化合物100質量份，上述式(I)所示之化合物的含量係以50質量份以上為佳，以70質量份以上為更佳，以80質量份以上為又更佳。
垂直定向液晶硬化膜所使用的垂直定向液晶硬化膜形成用組成物(以下亦稱為聚合性液晶組成物)可進一步包含溶媒、光聚合起始劑、聚合抑制劑、光敏劑、調平劑、密合促進劑。該等添加劑可單獨使用或組合2種 以上使用。
相對於聚合性液晶組成物之固形分100質量份，聚合性液晶化合物之含量例如為70至99.5質量份，以80至99質量份為佳，以90至98質量份為更佳。含量在上述範圍內時，垂直定向液晶硬化膜之定向性會有變高之傾向。此處，固形分係指從組成物去除溶媒後之成分的合計量。
溶媒係以能夠溶解聚合性液晶化合物之溶媒為佳，而且，以對聚合性液晶化合物之聚合反應呈惰性的溶媒為佳。溶媒可使用與水平定向液晶硬化膜形成用組成物所使用者相同的溶媒。
相對於聚合性液晶組成物100質量份，溶媒含量係以50至98質量份為佳，以70至95質量份為更佳。因此，組成物100質量份中所佔的固形分係以2至50質量份為佳。組成物之固形分在50質量份以下時，因為組成物的黏度會降低，故垂直定向液晶硬化膜的厚度變得大致均勻，有垂直定向液晶硬化膜變得不易產生不勻均之傾向。上述固形分可考量所欲製造之垂直定向液晶硬化膜之厚度而適當地決定。
聚合起始劑係可藉由賦予熱或光而生成反應活性物種並引發聚合性液晶等之聚合反應的化合物。反應活性物種可列舉如：自由基、陽離子或陰離子等活性物種。其中，從易於控制反應之觀點來看，以藉由光的照射進行反應之光聚合起始劑為佳。光聚合起始劑係可使用與 水平定向液晶硬化膜形成用組成物所使用者相同的起始劑。
相對於聚合性液晶組成物100質量份，光聚合起始劑之添加量一般為0.1至30質量份，以1至20質量份為佳，以1至15質量份更佳。如在上述範圍內，聚合性基之反應可充分地進行，且聚合性液晶化合物之定向不易紊亂。
藉由調配聚合抑制劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應。聚合抑制劑係可使用與水平定向液晶硬化膜形成用組成物所使用者相同之物。為了不干擾聚合性液晶化合物之定向而聚合液晶化合物，相對於聚合性液晶化合物100質量份，聚合抑制劑之含量一般為0.01至10質量份，以0.1至5質量份為佳，以0.1至3質量份更佳。聚合抑制劑可單獨使用或組合2種以上使用。
更且，藉由使用光敏劑，可提高光聚合起始劑之靈敏度。光敏劑可使用與水平定向液晶硬化膜形成用組成物所使用者相同之物。相對於聚合性液晶化合物100質量份，光敏劑之含量一般為0.01至10質量份，以0.05至5質量份為佳，以0.1至3質量份為更佳。
調平劑係具有調整聚合性液晶組成物之流動性，使塗佈組成物所得之層更為平坦之功能的添加劑，可使用與水平定向液晶硬化膜形成用組成物所使用者相同之物。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，調 平劑之含量以0.01至5質量份為佳，以0.05至3質量份為更佳。調平劑之含量在上述範圍內時，所得垂直定向液晶硬化膜有變得更為平滑之傾向，故為佳。
垂直定向液晶硬化膜之形成所使用的聚合性液晶組成物可藉由將聚合性液晶化合物與添加劑等聚合性液晶化合物以外的成分在預定的溫度下進行攪拌等而得。
垂直定向液晶硬化膜係可藉由將上述聚合性液晶組成物塗佈在後述垂直定向膜上，接著去除溶媒，並將包含定向狀態之聚合性液晶化合物的聚合性液晶組成物進行加熱及/或經由活性能量射線使之硬化而得。
將聚合性液晶組成物塗佈在垂直定向膜上之方法係可使用與形成水平定向液晶硬化膜時相同之方法。
去除溶媒之方法係可使用與形成水平定向液晶硬化膜時相同之方法。
就照射的活性能量射線而言，係依照聚合性液晶化合物之種類(尤其是聚合性液晶化合物所具有的光聚合性官能基之種類)、包含光聚合起始劑時之光聚合起始劑的種類以及該等之量而適當地選擇。具體而言可列舉如：由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α射線、β射線及γ射線所成群組中選出之1種以上的光。其中，就容易控制聚合反應之進行之點以及在該技術領域中可廣泛地使用作為光聚合裝置之點而言，係以紫外光為佳，而以使可 藉由紫外光進行光聚合之方式選擇聚合性液晶化合物之種類為佳。
上述活性能量射線之光源可使用與形成水平定向液晶硬化膜時所使用者相同之物。
紫外線照射強度一般為10至3,000mW/cm2。紫外線照射強度之較佳係對光陽離子聚合起始劑或光自由基聚合起始劑之活化為有效的波長區域之強度。光的照射時間一般為0.1秒鐘至10分鐘，以0.1秒鐘至5分鐘為佳，以0.1秒鐘至3分鐘為更佳，以0.1秒鐘至1分鐘為又更佳。以如此之紫外線照射強度進行1次或複數次照射時，該累積光量為10至3,000mJ/cm2，以50至2,000mJ/cm2為佳，以100至1,000mJ/cm2為更佳。累積光量在上述的下限以下時，聚合性液晶化合物之硬化變得不充分，會有無法得到良好的轉印性之情形。反之，累積光量在上述的上限以上時，包含垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能的相位差板會有著色之情形。
從功能性膜薄膜化之觀點來看，垂直定向液晶硬化膜之膜厚係以3μm以下為佳，以2μm以下為更佳，以1.5μm以下又更佳。而且，垂直定向液晶硬化膜之膜厚的下限係以0.1μm以上為佳，以0.3μm以上為更佳，以0.5μm以上為又更佳。垂直定向液晶硬化膜之膜厚可使用橢圓偏光儀或接觸式膜厚計進行測定。
[垂直定向膜]
定向膜係具有使液晶硬化膜之聚合性液晶化合物在預 定方向定向的定向約束力之膜。而且，可藉由定向膜之種類、摩擦條件及光照射條件來控制垂直定向、水平定向、混合定向及傾斜定向等各種定向。其中，垂直定向膜係具有使液晶硬化膜之聚合性液晶化合物在垂直方向定向的定向約束力之定向膜。因此，藉由使用垂直定向膜，可形成垂直定向液晶膜。
垂直定向膜係以應用降低基材等的表面之表面張力的材料者為佳。如此之材料可列舉上述之定向性聚合物，例如：聚醯亞胺、聚醯胺、其水解物之聚醯胺酸、全氟烷基等氟系聚合物及矽烷化合物以及該等經由縮合反應而得的聚矽氧烷化合物。垂直定向膜係可藉由將包含如此之材料與溶媒(例如垂直定向液晶膜之段落處例示的溶媒)之組成物(以下亦稱為垂直定向膜形成用組成物)塗佈在基材等之上，去除溶媒後，藉由對塗佈膜施行加熱等而獲得。
於垂直定向膜使用矽烷化合物時，從容易使表面張力降低、容易提高與鄰接垂直定向膜之層的密著性之觀點來看，垂直定向膜係以由構成元素包含Si元素與C元素之化合物所構成的膜為佳，可適合使用矽烷化合物。本發明中，在水平定向液晶膜與垂直定向液晶膜之間配置垂直定向膜時，在表現出垂直定向膜與水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之間的高密著性之附光學補償功能之相位差板中，可有效地抑制或防止於各層間之界面的剝離。
矽烷化合物可適合應用上述矽烷偶合劑等聚矽氧系者，可列舉例如：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙基胺、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基二甲氧基甲基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷等。
矽烷化合物可為聚矽氧單體型者，亦可為聚矽氧寡聚物(聚合物)型者。將聚矽氧寡聚物以(單體)-(單體)共聚物之形式表示時，可列舉如：如3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以及3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有巰基丙基之共聚物；如巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以及巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有巰基甲基之共聚物；如3-甲基丙烯醯基氧基丙基三甲氧 基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以及3-甲基丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有甲基丙烯醯基氧基丙基之共聚物；如3-丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以及3-丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有丙烯醯基氧基丙基之共聚物；如乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以 及乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有乙烯基之共聚物；如3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物以及3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物之含有胺基之共聚物等。矽烷化合物可單獨使用或組合2種以上使用。而且，亦有使用作為調平劑之情形，亦可使用作為矽烷偶合劑。
該等之中，以於分子末端具有烷基之矽烷化合物為佳，以具有碳數3至30之烷基的矽烷化合物為更佳。
從易於進一步提高密著性之觀點及垂直定向液晶硬化膜形成用組成物之塗佈性之觀點、以及在後述附光學補償功能之相位差板的製造方法中配置在下層之層不易溶解之觀點來看，垂直定向膜係以由構成元素包含Si元素、C元素及O元素之化合物所構成的膜為佳。而且，包含鍵結於形成垂直定向膜之矽烷化合物之Si原子的C原子之取代基，就較佳的烷基或烷氧基之碳原子數而言，係以1至30為佳，以2至25為更佳，以3至20為又更佳。亦即，Si元素與C元素之比率(Si/C：莫耳比)係以0.03至1.00為佳，以0.04至0.50為更佳，以0.05至0.33為又更 佳。Si/C比在上述之下限以上時，可提高垂直定向液晶硬化膜形成用組成物之塗佈性，Si/C比在上述之上限以下時，可提高與鄰接之層的密著性。
溶媒係可使用例如水平定向液晶硬化膜之段落處所例示的溶媒。垂直定向膜形成用組成物之塗佈方法可列舉如上述塗佈方法A，溶媒之去除方法可列舉如上述溶媒去除方法A。
垂直定向膜形成用組成物除了可包含溶媒以外，還可包含水平定向液晶硬化膜之段落處所例示的添加劑等。
從附光學補償功能之相位差板的薄膜化及定向約束力的呈現之觀點來看，垂直定向膜之膜厚係以1μm以下為佳，以0.3μm以下為更佳，以0.1μm以下為又更佳。而且，垂直定向膜之膜厚係以1nm以上為佳，以5nm以上為更佳，以10nm以上為又更佳，以30nm以上為特佳。垂直定向膜之膜厚係可使用橢圓偏光儀或接觸式膜厚計進行測定。
[基材]
基材係在塗佈定向膜形成用組成物或液晶硬化膜形成用組成物時所使用者，可為將基材剝離而可將塗佈在基材上之膜轉印之設計，亦可為被賦予與基材之密著性而無法轉印之設計，惟從薄膜化之觀點來看，以轉印至被轉印物而可剝離基材之設計為佳。如上述之基材可列舉如：玻璃基材及膜基材，從加工性之觀點來看，係以膜基材為佳， 就可連續地製造之點而言，以長條之卷軸狀膜為更佳。構成膜基材之樹脂可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯、降莰烯系聚合物等聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚伸苯硫醚及聚伸苯醚等塑膠。可為對該基材表面施行過如聚矽氧處理之脫模處理者。市售之纖維素酯基材可列舉如：「FUJITAC FILM」(富士底片(Fuji Photo Film)股份有限公司製造)；「KC8UX2M」、「KC8UY」及「KC4UY」(以上均由柯尼卡美能達光學(Konica Minolta Opto)股份有限公司製造)等。如此之樹脂可藉由溶媒澆鑄法、熔融擠出法等習知方式製膜而作為基材。
市售之環狀烯烴系樹脂可列舉如：「Topas」(註冊商標)(Ticona公司(德國)製造)、「ARTON」(註冊商標)(JSR股份有限公司製造)、「ZEONOR」(註冊商標)、「ZEONEX」(註冊商標)(以上由日本ZEON股份有限公司製造)以及「APEL」(註冊商標)(三井化學股份有限公司製造)。亦可使用市售之環狀烯烴系樹脂基材。市售之環狀烯烴系樹脂基材可列舉如：「ESUSHINA」(註冊商標)、「SCA40」(註冊商標)(以上由積水化學工業股份有限公司製造)、「ZEONOR FILM」(註冊商標)(OPTES股份有限公司製造)以及「ARTON FILM」(註冊商標)(JSR股份有限公司製造)。
基材係以容易層積水平定向液晶硬化膜、水平定向膜、垂直定向液晶硬化膜及垂直定向膜，且具有容易剝離之厚度者為佳。如此之基材的厚度一般為5至300μm，以20至200μm為佳。
[附光學補償功能之相位差板]
本發明之附光學補償功能之相位差板係依序含有水平定向液晶硬化膜、水平定向膜或垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜，且滿足以下記載之(1)至(4)的要件。
水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為5μm以下。…(1)
於水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間包含水平定向膜或垂直定向膜。…(2)
滿足以下之關係式：ReA(450)/ReA(550)<1.00…(3)其中，ReA(λ)表示水平定向液晶硬化膜於波長λnm的面內相位差值。
相位差值定義係如下所述：ReA(λ)=(nxA-nyA)×dA
惟nxA表示水平定向液晶硬化膜之於膜平面內中的主折射率、nyA表示與nxA在同一平面內正交之方向的折射率、dA表示水平定向液晶硬化膜之膜厚。
滿足以下之關係式：RthC(450)/RthC(550)<1.00…(4)
其中，RthC(λ)表示垂直定向液晶硬化膜在波長λnm 中之厚度方向的相位差值。相位差值定義如下所述：RthC(λ)=((nxC+nyC)/2-nzC)×dC
惟nxC表示垂直定向液晶硬化膜之於膜平面內的主折射率、nyC表示與nxC在同一平面內正交之方向的折射率、nzC表示垂直定向液晶硬化膜之厚度方向的折射率、dC表示垂直定向液晶硬化膜之膜厚。
另外，當nxC=nyC時，nxC可為在膜平面內之任意方向的折射率。
而且，水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離如式(1)所示，係5μm以下，以1μm以下為佳，以0.5μm以下為更佳，以0.3μm以下為又更佳。而且，水平定向膜之膜厚係以1nm以上為佳，以5nm以上為更佳，以10nm以上為又更佳，以30nm以上為特佳。
附光學補償功能之相位差板係以滿足以下關係式(5)所示者為佳。就|R0(550)-R40(550)|之值而言，當將使用附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板應用在顯示器時，為了使在傾斜的波長550nm附近之漏光量變少而以較小者為宜。|R0(550)-R40(550)|之值以未達10nm為佳，以5nm以下為更佳，以3nm以下為又更佳，以2nm以下為特佳。
|R0(550)-R40(550)|<10nm…(5)
其中，R0(λ)表示包含水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值。而且，R40表示在包含水平定向液晶硬化膜與垂直定 向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著於與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值。
附光學補償功能之相位差板係以滿足以下之關係式(6)者為佳。就|R0(450)-R40(450)|之值而言，當將使用附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板應用在顯示器時，為了使在傾斜之波長450nm附近的漏光量減少而以較小者為宜。|R0(450)-R40(450)|之值以未達10nm為佳，以5nm以下為更佳，以3nm以下為又更佳，以2nm以下為特佳
|R0(450)-R40(450)|<10nm…(6)
惟R0(λ)表示包含水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值。而且，R40表示在包含水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜的附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交(快軸方向)的方向旋轉40°後的表觀相位差值。
更且，關係式(5)及(6)所示值之差係以滿足以下關係式(7)者為佳。
|{R0(450)-R40(450)}-{R0(550)-R40(550)}|<3nm…(7)
在滿足關係式(7)時，當將使用附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板應用在顯示器時，為了使正面及傾斜的反射色相接近黑色，(7)之值以3nm以下 為佳，以2nm以下為更佳，以1nm以下為又更佳。
而且，當各層之平均折射率差，亦即，構成本發明之附光學補償功能之相位差板的各層之平均折射率、與鄰接該層之其它層的平均折射率之差較大時，會由於層間產生的界面反射之影響而有產生漏光的情形。各層在波長550nm中之平均折射率差以0.20以下為佳，以0.15以下為更佳，以0.10以下為又更佳，以0.05以下為特佳。如在該範圍內，可抑制界面反射所致之漏光的產生。
各層的平均折射率差，具體上可列舉下述者：(1)水平定向液晶硬化膜之平均折射率與垂直定向液晶硬化膜之平均折射率的差；(2)在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含水平定向膜時，(2-a)水平定向液晶硬化膜之平均折射率與水平定向膜之平均折射率的差、(2-b)水平定向膜之平均折射率與垂直定向液晶硬化膜之平均折射率的差；(3)在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含垂直定向膜時，(3-a)水平定向液晶硬化膜之平均折射率與垂直定向膜之平均折射率的差、(3-b)垂直定向膜之平均折射率與垂直定向液晶硬化膜之平均折射率的差； 等。
本發明之附光學補償功能之相位差板係可包含水平定向液晶硬化膜、水平定向膜、垂直定向液晶硬化膜及垂直定向膜以外之層，其具體例可列舉如：其它定向液晶硬化膜、其它定向膜、保護層等。其它定向液晶硬化膜可列舉如：上述所例示之垂直定向液晶硬化膜、水平定向液晶硬化膜等，其它定向膜可列舉如：上述所例示之定向膜等。
保護層一般係以由保護層形成用組成物所形成者為佳，該保護層形成用組成物含有：由多官能丙烯酸酯(甲基丙烯酸酯)、胺甲酸乙酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等所構成之丙烯酸系寡聚物或聚合物；聚乙烯醇、乙烯-乙烯基醇共聚物、聚乙烯基吡咯啶酮、澱粉類、甲基纖維素、羧基甲基纖維素、藻酸鈉等水溶性聚合物，與溶媒。
保護層形成用組成物中所含有的溶媒係可列舉與上述所例示之溶媒為相同者，其中，就不使形成保護層之層溶解的之點而言，較佳為由水、醇溶媒及醚溶媒所成群組中選出之至少1種溶媒。醇溶媒可列舉如：甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚及丙二醇單甲基醚。醚溶媒可列舉如：乙二醇單甲基醚乙酸酯及丙二醇單甲基醚乙酸酯。其中，以乙醇、異丙醇、丙二醇單甲基醚及丙二醇單甲基醚乙酸酯為佳。
保護層之膜厚為0.1μm至10μm，以0.1μm至3μm為佳。
[附光學補償功能之相位差板的製造方法]
本發明之附光學補償功能之相位差板的製造方法如為可依所述順序積層水平定向液晶硬化膜、水平定向膜或垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜的方法，則無特別限定，較佳為：在基材上積層水平定向膜，接著積層水平定向液晶硬化膜，並進一步積層垂直定向膜之後，再積層垂直定向液晶硬化膜的方法(以下稱為製造方法A)；或者在基材上積層垂直定向膜，接著積層垂直定向液晶硬化膜，進一步積層水平定向膜之後，再積層水平定向液晶硬化膜的方法(以下稱為製造方法B)。水平定向液晶硬化膜、水平定向膜、垂直定向液晶硬化膜、垂直定向膜之積層方法係可使用上述各層之形成方法。
在以製造方法A或製造方法B製造附光學補償功能之相位差板時，可能會由於配置在下層之液晶硬化膜的定向，導致產生定向不佳或定向缺陷。亦即，在製造方法A的情況下，係於下層積層水平定向液晶硬化膜之後進行積層垂直定向液晶硬化膜，因此在形成垂直定向液晶硬化膜時，會有受到下層之水平定向液晶硬化膜的影響而產生定向不佳或定向缺陷之情形，在製造方法B的情況下，同樣地係在下層積層垂直定向液晶硬化膜之後進行積層水平定向液晶硬化膜，因此在形成水平定向液晶硬化膜時，會有受到下層之垂直定向液晶硬化膜的影響而產生定 向不佳或定向缺陷之情形。因此，根據用以形成積層的各層之組成物(水平定向膜形成用組成物、水平定向液晶硬化膜形成用組成物、垂直定向膜形成用組成物、垂直定向液晶硬化膜形成用組成物)之溶劑種類，也會有使下層溶解而發生光學特性的變化和定向不佳、定向缺陷等之情形。因此，必須適當地選擇用以形成積層的各層所使用之組成物中所含的材料/溶劑/固形分濃度/塗佈方法/膜厚等。
[附光學補償功能之橢圓偏光板]
本發明之附光學補償功能之相位差板係藉由與被轉印物貼合後剝離基材而轉印、或在附有基材的狀態下經由黏著劑等積層，可將附光學補償功能之相位差板所具有的功能，亦即，將其光學特性賦予被轉印物，而可製造經賦予附光學補償功能之相位差板之光學特性的光學積層體。其中，在與偏光板積層時，能夠製作附光學補償功能之橢圓偏光板。本發明之實施態樣中，水平定向液晶硬化膜之慢軸(光軸)與偏光板之吸收軸以基本上成為45°之方式積層者為佳。藉由使本發明之光學膜的慢軸(光軸)與偏光板之吸收軸基本上成為45°之方式積層，可得到作為圓偏光板之功能。另外，基本上45°一般為45±5°之範圍。
[被轉印物]
被轉印物可列舉：單層結構之光學膜，例如偏光板、相位差板、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等；多層結構之光學膜，例如相位差板、橢圓偏光板，該等之中，可適合使用相位差板、相位差板、偏光板、橢圓 偏光板。本發明之光學積層體係可利用在影像顯示裝置，例如：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控板顯示裝置、電子發射顯示裝置(電場發射顯示裝置(FED等))、表面傳導電子發射顯示裝置(SED，surface-conduction electron-emitter display))、電子紙(使用電子印墨、電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投影型顯示裝置(柵狀光閥(GLV，grating light valve)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置等)以及壓電陶瓷顯示裝置等，尤其適合使用有機EL顯示裝置以及觸控板顯示裝置等。
[偏光板]
偏光板係由具有偏光功能之偏光元件所構成。偏光元件可列舉如：經吸附具有吸收各向異性之色素的延伸膜，或經塗佈定向具有吸收各向異性之色素的膜。具有吸收各向異性之色素可列舉二色性色素。
經吸附具有吸收各向異性之色素的延伸膜一般係經由下述步驟製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色，使吸附該二色性色素之步驟；將經吸附二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液進行處理之步驟；以及藉由硼酸水溶液進行處理之後進行水洗之步驟。將以如此操作所得的偏光元件與透明保護膜貼合，可得到偏光板。二色性色素可列舉如：碘和二色性之有機染料。二色性之有機染料可列舉如：C.I.直接紅39等包含雙偶氮化合物之 二色性直接染料，以及包含參偶氮、肆偶氮等化合物之二色性直接染料等。如上所述，對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸、藉由二色性色素之染色、硼酸處理、水洗及乾燥而得的偏光元件之厚度係以5μm至40μm為佳。
[黏接著劑]
黏接著劑可列舉如：壓敏式黏著劑、乾燥固化型接著劑以及化學反應型接著劑。化學反應型接著劑可列舉例如活性能量射線硬化型接著劑。
壓敏式黏著劑通常包含聚合物，亦可含有溶媒。聚合物可列舉如：丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯或聚醚等。其中，包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系的黏著劑因為光學透明性優異，具有適當的潤濕性及凝聚力，接著性優異，而且耐候性和耐熱性等高，在加熱、加濕條件下不易產生浮起和剝離等，故為較佳。
丙烯酸系聚合物係以酯部分之烷基為甲基、乙基或丁基等碳數1至20之烷基的(甲基)丙烯酸酯、與(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸羥基乙酯等具有官能基的(甲基)丙烯酸系單體之共聚物為佳。
包含如此之共聚物之壓敏式黏著劑係由於黏著性優異，即使貼合在被轉印物後再去除該黏著劑時，亦不會在被轉印物產生殘膠等，而較容易去除，故為較佳。丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度係以25℃以下為佳，以0℃以下為更佳。如此之丙烯酸系聚合物之質量平均分子量 係以10萬以上為佳。
溶媒可列舉如：上述溶媒所列舉之溶媒等。壓敏式黏著劑可含有光擴散劑。光擴散劑係在黏著劑賦予光擴散性之添加劑，如為所具有之折射率與黏著劑所包含之聚合物的折射率不同的微粒子即可。光擴散劑可列舉如：包含無機化合物之微粒子、以及包含有機化合物(聚合物)之微粒子。就包含丙烯酸系聚合物並含有黏著劑作為有效成分之聚合物而言，大多具有1.4至1.6左右的折射率，故以由其折射率為1.2至1.8之光擴散劑適當地選擇為佳。含有黏著劑作為有效成分之聚合物與光擴散劑之折射率差一般為0.01以上，從顯示裝置之亮度與顯示性之觀點來看，以0.01至0.2為佳。作為光擴散劑使用之微粒子係以球形微粒子且接近單分散之微粒子為佳，以平均粒徑為2至6μm之微粒子為更佳。折射率係藉由一般之最小偏差(minimum deviation)法或阿貝折射計進行測定。
包含無機化合物之微粒子可列舉如：氧化鋁(折射率1.76)及氧化矽(折射率1.45)等。包含有機化合物(聚合物)之微粒子可列舉如：三聚氰胺珠粒(折射率1.57)、聚甲基丙烯酸甲酯珠粒(折射率1.49)、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂珠粒(折射率1.50至1.59)、聚碳酸酯珠粒(折射率1.55)、聚乙烯珠粒(折射率1.53)、聚苯乙烯珠粒(折射率1.6)、聚氯乙烯珠粒(折射率1.46)以及聚矽氧樹脂珠粒(折射率1.46)等。相對於聚合物100質量份，光擴散劑之含量一般為3至30質量份。
壓敏式黏著劑之厚度係取決於其密著力等，雖無特別限制，惟一般為1μm至40μm。從加工性及耐久性等觀點來看，其厚度係以3μm至25μm為佳，以5μm至20μm為更佳。藉由將黏著劑所形成之黏接著劑層的厚度設為5μm至20μm，在從正面觀察時或從傾斜方向觀察顯示裝置時，可保持亮度，顯示影像不易產生滲色或模糊。
乾燥固化型接著劑可含有溶媒。乾燥固化型接著劑可列舉如：具有羥基、羧基或胺基等質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體的聚合物、或含有以胺甲酸乙酯聚合物作為主成分並進一步含有多價醛、環氧化合物、環氧樹脂、三聚氰胺化合物、氧化鋯化合物以及鋅化合物等交聯劑或硬化性化合物的組成物等。具有羥基、羧基或胺基等質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體的聚合物可列舉如：乙烯-馬來酸共聚物、伊康酸共聚物、丙烯酸共聚物、丙烯醯胺共聚物、聚乙酸乙烯酯之皂化物以及聚乙烯醇系樹脂等。
聚乙烯醇系樹脂可列舉如：聚乙烯醇、部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、羧基改質聚乙烯醇、乙醯乙醯基改質聚乙烯醇、羥甲基改質聚乙烯醇以及胺基改質聚乙烯醇等。相對於水100質量份，水系黏接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之含量一般為1至10質量份，以1至5質量份為較佳。
胺甲酸乙酯樹脂可列舉如：聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂等。此處所謂的聚酯系離子聚合物 型胺甲酸乙酯樹脂係具有聚酯骨架之胺甲酸乙酯樹脂，係於其中導入有少量的離子性成分(親水成分)之樹脂。該離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂並不使用乳化劑，係在水中乳化而成為乳液，故可作成水系之黏接著劑。在使用聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂時，調配作為交聯劑之水溶性環氧化合物者為有效。
環氧樹脂可列舉如：經由二乙三胺或三乙四胺等聚伸烷多胺與己二酸等二羧酸之反應而得到聚醯胺多胺，並使該聚醯胺多胺與表氯醇反應所得到的聚醯胺環氧樹脂等。該聚醯胺環氧樹脂之市售品可列舉如：「Sumirez Resin(註冊商標)650」及「Sumirez Resin(註冊商標)675」(以上由Sumika Chemtex股份有限公司製造)、「WS-525」(日本PMC股份有限公司製造)等。在調配環氧樹脂時，相對於聚乙烯醇系樹脂100質量份，環氧樹脂之添加量一般為1至100質量份，以1至50質量份為佳。
由乾燥固化型接著劑所形成之黏接著劑層之厚度，一般為0.001至5μm，以0.01至2μm為佳，以0.01至0.5μm為更佳。當由乾燥固化型接著劑所形成的黏接著劑層過厚時，外觀容易變差。
活性能量射線硬化型接著劑可含有溶媒。活性能量射線硬化型接著劑係受到活性能量射線的照射而硬化之接著劑。活性能量射線硬化型接著劑可列舉如：含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的接著劑；含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基 聚合性的接著劑；同時含有環氧化合物等陽離子聚合性之硬化成分以及丙烯酸系化合物等自由基聚合性之硬化成分這兩者，且進一步含有陽離子聚合起始劑與自由基聚合起始劑之接著劑；以及不含該等聚合起始劑而是經由電子束的照射而硬化之接著劑等。
其中，尤以含有丙烯酸系硬化成分與光自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能量射線硬化型接著劑、含有環氧化合物與光陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能量射線硬化型接著劑為佳。丙烯酸系硬化成分可列舉如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸等。含有環氧化合物之活性能量射線硬化型接著劑可進一步含有環氧化合物以外的化合物。環氧化合物以外的化合物可列舉如：氧雜環丁烷化合物、丙烯酸化合物等。
光自由基聚合起始劑及光陽離子聚合起始劑可列舉如：上述光自由基聚合起始劑及光陽離子聚合起始劑。相對於活性能量射線硬化型接著劑100質量份，自由基聚合起始劑及陽離子聚合起始劑之含量一般為0.5至20質量份，以1至15質量份為佳。
活性能量射線硬化型接著劑中可進一步含有離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、賦黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調節劑、塑化劑及消泡劑等。
本說明書中，活性能量射線係定義為可分解能產生活性物種的化合物以使活性物種產生的能量射 線。如此之活性能量射線可列舉如：可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子射線等，以紫外線及電子射線為佳。較佳之紫外線照射條件係與上述聚合性液晶化合物之聚合相同。
[實施例]
以下，以實施例更具體地說明本發明。而且，例中之「%」及「份」如無特別說明，即指質量%及質量份。而且，以下實施例中，膜厚係使用日本分光股份有限公司製造之Ellipsometer M-220或接觸式膜厚計(Nikon公司製造之MH-15M、Counter TC101、MS-5C)測定。而且，厚度方向之相位差值Rth(λ)及面內相位差值Re(λ)、從40°方向測定時的表觀相位差值R40(λ)係使用王子計測機器股份有限公司KOBRA-WPR、或日本分光股份有限公司製造之Ellipsometer M-220測定而計算出。而且，Si/C之比率可由垂直定向膜之元素分析、使用X射線光電子光譜法之表面構成元素的測定而算出，或者在完全瞭解垂直定向膜之形成所使用的化合物之結構式時，可由結構式算出。而且，電暈處理裝置係使用春日電機股份有限公司製造之AGF-B10。對基材塗佈組成物時，可適當地實施電暈處理。使用上述電暈處理裝置，在輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件下進行1次。
[實施例1]
[水平定向膜形成用組成物之調製]
將下述結構之光定向性材料5份(重量平均分子量： 30000)與環戊酮(溶媒)95份作為成分進行混合，並將所得之混合物在80℃下攪拌1小時，以得到水平定向膜形成用組成物。
Figure 107128614-A0202-12-0060-3
[垂直定向膜形成用組成物之調製]
使信越化學工業股份有限公司製造之矽烷偶合劑「KBE-9103」溶解在乙醇與水以9：1(質量比)之比例混合之混合溶媒中，得到固形分0.5%之垂直定向膜形成用組成物。
[水平定向液晶硬化膜形成用組成物及垂直定向液晶硬化膜形成用組成物之調製]
相對於將以下所示之聚合性液晶化合物A及聚合性液晶化合物B以90：10之質量比混合之混合物，係添加調平劑(F-556；DIC公司製造)1.0份及屬於聚合起始劑之2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(「Irgacure369(Irg369)」，BASF日本股份有限公司製造)6份。
更且，以固形分濃度成為13%之方式添加N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)，並在80℃下攪拌1小時，藉此得到水平定向液晶硬化膜形成用組成物及垂直定向液晶硬化膜形成用組成物。
聚合性液晶化合物A係以日本特開2010-31223號公報所記載之方法製造。而且，聚合性液晶化合物B係依據日本特開2009-173893號公報所記載之方法製造。各分子結構如以下所示。
[聚合性液晶化合物A]
Figure 107128614-A0202-12-0061-4
[聚合性液晶化合物B]
Figure 107128614-A0202-12-0061-5
[偏光板之製造]
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上、厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬在30℃之純水後，再於30℃浸漬於碘/碘化鉀/水之質量比為0.02/2/100的水溶液中，進行碘染色(碘染色步驟)。將經碘染色步驟之聚乙烯醇膜於56.5℃浸漬在碘化鉀/硼酸/水之質量比為12/5/100的水溶液中進行硼酸處理(硼酸處理步驟)。再將經硼酸處理步驟之聚乙烯醇膜以8℃之純水清洗後，在65℃下進行乾燥，得到於聚乙烯醇膜吸附定向碘之偏光元件(延伸後之厚度為27μm)。此時，係在碘染色步驟與硼酸處理步驟中進行 延伸。該延伸之總延伸倍率為5.3倍。使所得之偏光元件與經皂化處理之三乙酸纖維素膜(Konica Minolta製造；KC4UYTAC 40μm)經由水系接著劑而以壓料輥(nip roll)貼合。將所得的貼合物之張力保持在430N/m，同時在60℃乾燥2分鐘，得到於單面具有作為保護膜之三乙酸纖維素膜之偏光板。而且，上述水系接著劑係在水100份中添加羧基改質聚乙烯醇(Kuraray製造之「Kuraray Poval KL 318」)3份與水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumika Chemtex製造之「Sumirez Resin 650」，固形分濃度30%之水溶液)1.5份而調製。
對所得之偏光板進行光學特性之測定。測定係將上述所得之偏光板的偏光元件面作為入射面並以分光光度計(「V7100」、日本分光公司製造)實施。偏光板之吸收軸係與聚乙烯醇之延伸方向一致，所得的偏光板之光度校正單體透射率為42.1%、光度校正偏光度為99.996%、單體色相a為-1.1、單體色相b為3.7。
[由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜所構成的積層體之製造]
在日本ZEON股份有限公司製造之COP膜(ZF-14-50)上實施電暈處理後，以棒塗機塗佈水平定向膜形成用組成物，在80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(「SPOT CURE SP-9」、Ushio Electric股份有限公司製造)，以於波長313nm之累積光量為100mJ/cm2，於軸角45°實施偏光UV曝光。以橢圓偏光儀測定所得水平定向膜之膜厚，為 100nm。
接著，在水平定向膜以棒塗機塗佈水平定向液晶硬化膜形成用組成物，並在120℃下乾燥1分鐘後，藉由使用高壓汞燈(「UNICURE VB-15201BY-A」、Ushio Electric股份有限公司製造)照射紫外線(氮氣環境下，於波長365nm之累積光量：500mJ/cm2)，形成水平定向液晶硬化膜，得到由基材、水平定向膜及水平定向液晶硬化膜所構成之積層體。以橢圓偏光儀測定水平定向液晶硬化膜之膜厚，為2.3μm。
[水平定向液晶硬化膜之Re測定]
經由上述方法製造之水平定向液晶硬化膜的面內相位差值ReA(λ)係在經由黏著劑與玻璃貼合後，在將屬於基材之COP剝離之後，藉由測定機(「KOBRA-WPR」、王子計測機器股份有限公司製造)測定。於各波長之相位差值ReA(λ)的測定結果係ReA(450)=121nm、ReA(550)=142nm、ReA(650)=146nm、ReA(450)/ReA(550)=0.85。
[由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成的積層體之製造]
在由以上述方法製造之基材、水平定向膜及水平定向液晶硬化膜所構成之積層體上實施電暈處理後，以棒塗機塗佈垂直定向膜形成用組成物，在80℃下乾燥1分鐘，得到垂直定向膜。以橢圓偏光儀測定所得垂直定向膜之膜厚，為50nm。
更且，在垂直定向膜以棒塗機塗佈垂直定向液晶硬化膜形成用組成物，在120℃下乾燥1分鐘後，藉由使用高壓汞燈(「UNICURE VB-15201BY-A」、Ushio Electric股份有限公司製造)照射紫外線(氮氣環境下、波長365nm中之累積光量為500mJ/cm2)，形成垂直定向液晶硬化膜，得到由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成的積層體。以橢圓偏光儀測定垂直定向液晶硬化膜之膜厚，為1.2μm。而且，水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為50nm。而且，垂直定向膜之構成元素比為Si/C=0.33。
[垂直定向液晶硬化膜之Rth測定]
為了測定垂直定向液晶硬化膜之Rth，以與上述相同之順序在日本Zeon股份有限公司製造之COP膜(ZF-14-50)上製造垂直定向膜及垂直定向液晶硬化膜，並經由黏著劑(Lintec公司製造之壓敏式黏著劑15μm)將垂直定向液晶硬化膜與玻璃貼合，在經確認於COP無相位差之前提下，藉由橢圓偏光儀測定改變光對試樣的入射角之相位差值。而且，在450nm及550nm之波長λ的平均折射率係使用折射率計(Atago股份有限公司製造、「多波長阿貝折射計DR-M4」)測定。由所得之膜厚、平均折射率以及橢圓偏光儀之測定結果所求出的ReC分別為RthC(450)=-63nm，RthC(550)=-73nm，RthC(450)/RthC(550)=0.85。
[由水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成之積層體(附光學補償功能之相位差板)的R0 及R40之測定]
將以上述方法製造之由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成之積層體經由黏著劑(Lintec公司製造之壓敏式黏著劑15μm)與玻璃貼合，剝離COP而製作測定用試樣之後，在經確認於水平定向膜與垂直定向膜並無相位差之前提下，以KOBRA-WPR測定附光學補償功能之相位差板之正面方向的相位差值R0(λ)以及以水平定向液晶硬化膜之快軸為中心而傾斜40°時的相位差值R40(λ)。從所得的R0(λ)及R40(λ)之值計算|R0(550)-R40(550)|、|R0(450)-R40(450)|以及|{R0(450)-R40(450)}-{R0(550)-R40(550)}|，並將結果呈示於表1。
[各層的面內平均折射率之差]
依照上述方法將各層塗佈在玻璃上，並以折射率計(Atago股份有限公司製造，「多波長阿貝折射計DR-M4」)或橢圓偏光儀算出各層的平均折射率，並確認到各層的面內平均折射率之差為0.2以下。
[彎曲性試驗]
在以上述方法製作之由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成之積層體的塗膜面側載置厚度0.7mm之玻璃板，使積層體以趴伏於玻璃板之方式彎曲180°後，使用10倍放大鏡使螢光燈之光透射，並觀察彎曲部分，確認有無皺摺。結果呈示於表1。
[彎曲部之反射色相確認]
對以上述方法製作之由基材、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜、垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜所構成之積層體的塗膜面側實施電暈處理之後，以使偏光板之吸收軸與水平定向膜之慢軸之間的角度成為45°之方式，經由黏著劑與偏光板貼合，將基材剝離而製成附光學補償功能之橢圓偏光板。然後，經由黏著劑與鋁箔貼合，以偏光板側的半徑成為1cm之方式彎曲180°，並以肉眼觀察彎曲部分之反射色相。結果呈示於表1。再者，本試驗所用之偏光板係如下述方式製作。
(實施例2及3)
除了將垂直定向膜之膜厚變更如表1所記載者以外，以與實施例1相同之操作製作附光學補償功能之相位差板，實施相位差值測定、彎曲性試驗以及彎曲部之反射色相確認。結果呈示於表1。
(實施例4)
將0.5重量%之聚醯亞胺(「Sun Ever SE-610」、日產化學工業股份有限公司製造)、72.3重量%之N-甲基-2-吡咯啶酮、18.1重量%之2-丁氧基乙醇、9.1重量%之乙基環己烷以及0.01重量%之DPHA(新中村化學公司製造)進行混合，製作垂直定向膜形成用組成物B，除了使用該垂直定向膜形成用組成物B以外，係以與實施例1相同之操作製作附光學補償功能之相位差板，實施相位差值測定、彎曲性試驗以及彎曲部之反射色相確認。結果呈示於表1。 另外，以橢圓偏光儀測定垂直定向膜之膜厚，為0.2μm。由此可知，水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為0.2μm。而且，確認到在塗佈垂直定向液晶硬化膜形成用組成物時，垂直定向膜被溶劑侵蝕而有部分產生定向缺陷及定向不佳的情形。
(實施例5)
除了將基材變更為經施行脫模處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(Lintec股份有限公司製造；SP-PLR382050，以下簡稱為「separator」)、以及將積層順序變更為垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜、水平定向膜、水平定向液晶硬化膜之順序以外，係以與實施例1相同之操作製作附光學補償功能之相位差板，實施相位差值測定、彎曲性試驗以及彎曲部之反射色相確認。結果呈示於表1。另外，以橢圓偏光儀測定水平定向膜之膜厚，為0.2μm。由此可知，水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為0.2μm。
(比較例1)
除了將垂直定向液晶硬化膜形成用組成物變更為以下所記載之垂直定向液晶硬化膜形成用組成物(B)、以及將塗佈上述垂直定向液晶硬化膜形成用組成物(B)之後的乾燥溫度由120℃變更為80℃以外，係進行與實施例1相同之操作以製作附光學補償功能之相位差板，並實施相位差值測定、彎曲性試驗以及彎曲部之反射色相確認。結果呈示於表1。
(垂直定向液晶硬化膜形成用組成物(B)之調整)
相對於以下所記載之液晶化合物LC242：Paliocolor LC242(BASF公司之註冊商標)，添加0.1份之調平劑F-556以及3份之聚合起始劑Irg 369，並以固形分濃度成為13%之方式添加環戊酮，得到垂直定向液晶硬化膜形成用組成物(B)。將所得液晶組成物之名稱設為「組成物V」。液晶組成物LC242：Paliocolor LC242(BASF公司之註冊商標)
Figure 107128614-A0202-12-0068-6
(比較例2)
以實施例1所記載之方法製造水平定向膜、水平定向液晶硬化膜之積層體之後，另外在COP上以與實施例相同之方法製備垂直定向膜、垂直定向液晶硬化膜之積層體(Lintec公司製造)。將所得之積層體彼此間以黏著劑(Lintec公司製造之壓敏式黏著劑15μm)貼合，製作附光學補償功能之相位差板。實施相位差值測定、彎曲性試驗以及彎曲部之反射色相確認。結果呈示於表1。
Figure 107128614-A0202-12-0069-7
得知使用了實施例1至5之附光學補償功能之相位差板的附光學補償功能之橢圓偏光板，在應用於可撓性顯示器並彎折時，彎曲部分的反射色相變化係變少。

Claims (11)

  1. 一種附光學補償功能之相位差板，係包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(1)至(4)，其中，該水平定向液晶硬化膜係由含有聚合性液晶化合物的組成物在對膜平面內而言定向於水平方向之狀態下硬化而成者，該垂直定向液晶硬化膜係由含有聚合性液晶化合物的組成物在對膜平面內而言定向於垂直方向之狀態下硬化而成者；前述聚合性液晶化合物為棒狀聚合性液晶；水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間距離為5μm以下…(1)於水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之層間包含水平定向膜或垂直定向膜…(2)ReA(450)/ReA(550)<1.00…(3)式(3)中，ReA(λ)表示水平定向液晶硬化膜之於波長λnm的面內相位差值；面內相位差值ReA(λ)之定義係如下述，ReA(λ)=(nxA(λ)-nyA(λ))×dA式中，nxA(λ)係表示水平定向液晶硬化膜之於膜平面內的主折射率，且為對波長λ(nm)的光之主折射率；nyA(λ)係表示與nxA(λ)在同一平面內正交之方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率； dA表示水平定向液晶硬化膜之膜厚；RthC(450)/RthC(550)<1.00…(4)式(4)中，RthC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之於波長λnm的厚度方向之相位差值；相位差值RthC(λ)之定義係如下述，RthC(λ)={[nxC(λ)+nyC(λ)]/2-nzC(λ)}×dC式中，nxC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之於膜平面內的主折射率，且為對波長λ(nm)的光之主折射率；nyC(λ)係表示與nxC(λ)在同一平面內正交之方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率；nzC(λ)係表示垂直定向液晶硬化膜之厚度方向的折射率，且為對波長λ(nm)的光之折射率；dC表示垂直定向液晶硬化膜之膜厚。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(5)，|R0(550)-R40(550)|<10nm…(5)式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值；而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為 對波長λ(nm)的光之相位差值。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(6)，|R0(450)-R40(450)|<10nm…(6)式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值；而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為對波長λ(nm)的光之相位差值。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，為包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之積層體，且滿足下述關係(7)，|{R0(450)-R40(450)}-{R0(550)-R40(550)}|<3nm…(7)式中，R0(λ)係表示包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板的面內相位差值，且為對波長λ(nm)的光之面內相位差值；而且，R40(λ)係表示在包含水平定向液晶硬化膜及垂直定向液晶硬化膜之附光學補償功能之相位差板內，繞著與膜平面內之主折射率方向在同一平面內正 交的方向(快軸方向)旋轉40°後的表觀相位差值，且為對波長λ(nm)的光之相位差值。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，其中，水平定向液晶硬化膜、垂直定向液晶硬化膜以及水平定向膜或垂直定向膜之在波長550nm中之平均折射率差係0.20以下。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含水平定向膜，該水平定向膜係光定向膜。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含水平定向膜，該水平定向膜含有桂皮醯基。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含垂直定向膜，該垂直定向膜之膜厚係30nm以上1μm以下。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之附光學補償功能之相位差板，係在水平定向液晶硬化膜與垂直定向液晶硬化膜之間包含垂直定向膜，該垂直定向膜係由構成元素包含Si元素、C元素及O元素之化合物所構成的膜。
  10. 一種橢圓偏光板，係積層有申請專利範圍第1項至第9 項中任一項所述之附光學補償功能之相位差板、及偏光板。
  11. 一種有機EL顯示裝置，係包含申請專利範圍第10項所述之橢圓偏光板。
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