TW202214429A - 光學積層體及包含此之橢圓偏光板 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種彎曲時不易產生變形、彎曲性較高及斜向反射率優異之光學積層體、尤其是適合可撓性顯示器之光學積層體。 本發明之光學積層體依序包含相位差膜、偏光元件、及透明保護膜， 上述相位差膜包含如下者而成：基材膜，其具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度；及液晶硬化膜，其形成於該基材膜上，厚度為0.5 μm以上且3 μm以下，且以單層滿足下述式(1)及(2)： Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]； 上述偏光元件由包含二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜構成， 上述透明保護膜具有90%以上之全光線透過率、及30%以下之380 nm透過率， 上述相位差膜、上述偏光元件及上述透明保護膜隔著接著劑層鄰接。

Description

光學積層體及包含此之橢圓偏光板
本發明係關於一種光學積層體、上述光學積層體之捲筒、以及包含上述光學積層體之橢圓偏光板及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置。
橢圓偏光板係將偏光板與相位差板積層而成之光學構件，例如於有機EL圖像顯示裝置等以平面狀態顯示圖像之裝置中，該橢圓偏光板用於防止於構成該裝置之電極處之光反射。作為構成該橢圓偏光板之相位差板，通常使用所謂之λ/4板。作為此種相位差板，已知有使用藉由於基材上塗佈聚合性液晶化合物並使其硬化而製作之液晶硬化膜之相位差板(專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-207765號公報
[發明所欲解決之問題]
近年來，業界要求顯示器具有可撓性，且需要一種薄型化並且具有較高之彎曲性之橢圓偏光板。如引用文獻1所記載之使聚合性液晶化合物硬化而獲得之相位差膜實現薄型化，就該觀點而言適合可撓性顯示器，藉由經由感壓式黏著劑將此種由液晶硬化膜形成之相位差板(膜)轉印至偏光板，可製作橢圓偏光板(膜)。 然而，本發明者等發現，若使用感壓式黏著劑轉印由液晶硬化膜形成之相位差板，則於使藉此形成之橢圓偏光板彎曲時，彎曲點處容易產生變形，可能會因其而產生條紋狀之缺陷或來自傾斜方向之光反射率(斜向反射率)之上升。
本發明之目的在於提供一種彎曲時不易產生變形、彎曲性較高及斜向反射率優異之光學積層體、尤其是適合可撓性顯示器之光學積層體。 [解決問題之技術手段]
本發明者等為了解決上述課題進行了努力研究，結果完成了本發明。即，本發明包含以下態樣。 [1]一種光學積層體，其係依序包含相位差膜、偏光元件、及透明保護膜者， 上述相位差膜包含如下者而成：基材膜，其具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度；及液晶硬化膜，其形成於該基材膜上，厚度為0.5 μm以上且3 μm以下，且以單層滿足下述式(1)及(2)： Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]； 上述偏光元件由包含二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜構成， 上述透明保護膜具有90%以上之全光線透過率、及30%以下之380 nm透過率， 上述相位差膜、上述偏光元件及上述透明保護膜隔著接著劑層鄰接。 [2]如上述[1]之光學積層體，其中上述基材膜之全光線透過率為90%以上，且對於550 nm之光之厚度方向之相位差值Rth(550)之絕對值為5 nm以下。 [3]如上述[1]或[2]之光學積層體，其中上述相位差膜於基材膜與液晶硬化膜之間具有厚度10 nm以上且1000 nm以下之光配向膜。 [4]如上述[1]至[3]中任一項之光學積層體，其中上述液晶硬化膜係使於波長300～400 nm之間具有至少1個極大吸收之至少1種化合物硬化而成之膜。 [5]如上述[1]至[4]中任一項之光學積層體，其中上述液晶硬化膜滿足下述式(3)： 100 nm≦Re(550)≦170 nm (3) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]。 [6]如上述[1]至[5]中任一項之光學積層體，其中上述透明保護膜具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度。 [7]如上述[1]至[6]中任一項之光學積層體，其中上述接著劑層係由乾燥固化型接著劑形成之層。 [8]如上述[7]之光學積層體，其中上述乾燥固化型接著劑包含聚乙烯醇。 [9]如上述[1]至[8]中任一項之光學積層體，其中相位差膜與將相位差膜和偏光元件貼合之接著劑層於上述液晶硬化膜側相接。 [10]一種光學積層體捲筒，其係將如上述[1]至[9]中任一項之光學積層體捲取而成。 [11]一種橢圓偏光板，其包含如上述[1]至[9]中任一項之光學積層體。 [12]一種有機EL顯示裝置，其包含如上述[11]之橢圓偏光板。 [13]一種可撓性圖像顯示裝置，其包含如上述[11]之橢圓偏光板。 [14]如上述[13]之可撓性圖像顯示裝置，其進而包含視窗與觸控感測器。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種彎曲時不易產生變形、彎曲性較高及斜向反射率優異之光學積層體、尤其是適合可撓性顯示器之光學積層體。
以下，對本發明之實施方式詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處說明之實施方式，可於無損本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
本發明之光學積層體依序包含相位差膜、偏光元件及透明保護膜，且相位差膜、偏光元件及透明保護膜分別隔著接著劑層鄰接。
(接著劑層) 於本發明之光學積層體中，相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜分別係經由接著劑層積層。藉由接著劑層分別將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜貼合，藉此，於使所獲得之光學積層體反覆彎曲之情形時，認為構成相位差膜之液晶硬化膜中之變形與作為光學積層體整體之變形容易相互追隨，不易於彎曲點產生變形，可抑制因上述變形而導致產生之條紋狀之缺陷或斜向反射率之上升。
將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜接著之接著劑層可藉由接著劑形成。作為可形成該接著劑層之接著劑，例如可例舉水系接著劑等乾燥固化型接著劑、及活性能量線硬化型接著劑等化學反應型接著劑。將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜接著之接著劑層亦可由互不相同之接著劑形成，但較佳為由相同接著劑形成。
作為乾燥固化型接著劑，例如可例舉：具有羥基、羧基或胺基等質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體之聚合物；或者含有胺基甲酸酯樹脂作為主成分，進而含有多元醛、環氧化合物、環氧樹脂、三聚氰胺化合物、氧化鋯化合物、及鋅化合物等交聯劑或硬化性化合物之組合物等。作為具有羥基、羧基或胺基等質子性官能基與乙烯性不飽和基之單體之聚合物，可例舉：乙烯-順丁烯二酸共聚物、伊康酸共聚物、丙烯酸共聚物、丙烯醯胺共聚物、聚乙酸乙烯酯之皂化物、及聚乙烯醇系樹脂等。
作為聚乙烯醇系樹脂，可例舉：聚乙烯醇、局部皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、及胺基改性聚乙烯醇等。水系乾燥固化型接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之含量相對於水100質量份，通常為1～10質量份，較佳為1～5質量份。
作為胺基甲酸酯樹脂，可例舉聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂等。所謂此處所言之聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂，係具有聚酯骨架並於其中導入有少量離子性成分(親水成分)之胺基甲酸酯樹脂。該離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂不使用乳化劑，而是於水中乳化而成為乳膠，故而可設為水系乾燥固化型接著劑。於使用聚酯系離子聚合物型胺基甲酸酯樹脂之情形時，調配水溶性環氧化合物作為交聯劑有效。
作為環氧樹脂，可例舉藉由使表氯醇與利用二伸乙基三胺或三伸乙基四胺等聚伸烷基多胺與己二酸等二羧酸之反應而獲得之聚醯胺聚胺反應而獲得之聚醯胺環氧樹脂等。作為該聚醯胺環氧樹脂之市售品，可例舉：「Sumirez Resin(註冊商標)650」及「Sumirez Resin(註冊商標)675」(以上均為Sumika Chemtex股份有限公司製造)、「WS-525」(日本PMC股份有限公司製造)等。於調配環氧樹脂之情形時，其添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100質量份，通常為1～100質量份，較佳為1～50質量份。
其中，乾燥固化型接著劑較佳為包含聚乙烯醇系樹脂之水系乾燥固化型接著劑。
乾燥固化型接著劑可包含溶劑。作為溶劑，可例舉：水、水與親水性有機溶劑(例如醇溶劑、醚溶劑、酯溶劑等)之混合溶劑、有機溶劑等。
作為化學反應型接著劑之活性能量線硬化型接著劑係受到活性能量線之照射而硬化之接著劑。活性能量線硬化型接著劑亦可包含溶劑。 作為活性能量線硬化型接著劑，可例舉：含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性之接著劑、含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性之接著劑、含有環氧化合物等陽離子聚合性之硬化成分及丙烯酸系化合物等自由基聚合性之硬化成分之兩者，進而含有陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑之接著劑、以及不含該等聚合起始劑且藉由照射電子束而硬化之接著劑等。
其中，作為活性能量線硬化型接著劑，較佳為含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性之活性能量線硬化型接著劑、含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性之活性能量線硬化型接著劑。作為丙烯酸系硬化成分，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯等(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸等。含有環氧化合物之活性能量線硬化型接著劑亦可進而含有環氧化合物以外之化合物。作為環氧化合物以外之化合物，可例舉氧雜環丁烷化合物或丙烯酸系化合物等。
作為自由基聚合起始劑，可例舉下文中作為可調配於形成液晶硬化膜之聚合性液晶組合物中者而說明之光聚合起始劑。作為陽離子聚合起始劑之市售品，可例舉：「Kayarad」(註冊商標)系列(日本化藥股份有限公司製造)、「Cyracure UVI」系列(陶氏化學公司製造)、「CPI」系列(SAN-APRO股份有限公司製造)、「TAZ」、「BBI」及「DTS」(以上均為日本綠化學股份有限公司製造)、「Adeka Optomer」系列(ADEKA股份有限公司製造)、「RHODORSIL」(註冊商標)(Rhodia股份有限公司製造)等。相對於活性能量線硬化型接著劑100質量份，自由基聚合起始劑以及陽離子聚合起始劑之含量通常為0.5～20質量份，較佳為1～15質量份。
於將相位差膜、偏光元件及透明保護膜依序積層而成之光學積層體中，就積層體之薄型化及彎曲性之提高等觀點而言，認為與由高黏性材料形成之感壓式黏著劑相比，使用乾燥固化型接著劑或化學反應型接著劑等接著劑更有利。另一方面，本發明之光學積層體包含以單層展現式(1)及(2)所表示之光學特性之液晶硬化膜，形成此種液晶硬化膜之聚合性液晶化合物如下所述，通常於波長300～400 nm之間具有極大吸收波長之情況較多。又，於組入至圖像顯示裝置中時位於視認側之透明保護膜具有紫外線吸收功能以保護光學積層體之內部構造免受紫外線傷害，因此於該構成之光學積層體之製造中，存在所照射之紫外線被液晶硬化膜及透明保護膜吸收，導致使接著劑硬化之充足量之紫外線難以到達積層體內部之情形。因此，就薄型化及彎曲性之提高之觀點、以及獲得各層間之密接性更優異之光學積層體之觀點而言，於有可能成為夾於具有紫外線吸收功能之層(液晶硬化膜及透明保護膜)之間之構成的本發明之光學積層體中，使用乾燥固化型接著劑作為用以將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜貼合之接著劑較為有利。
將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜貼合之接著劑層之厚度分別較佳為10 nm以上，更佳為30 nm以上，進而較佳為50 nm以上，較佳為5 μm以下，更佳為3 μm以下，進而較佳為2 μm以下。若接著劑層之厚度為上述範圍內，則於反覆彎曲之情形時，不易於彎曲點產生變形，容易抑制因其而產生之條紋狀缺陷及斜向反射率之上升。將相位差膜與偏光元件、及偏光元件與透明保護膜貼合之接著劑層之厚度可相同，亦可互不相同。 接著劑層之厚度例如可使用干渉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計等進行測定。
(相位差膜) 構成本發明之光學積層體之相位差膜包含如下者而成：基材膜，其具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度；及液晶硬化膜，其形成於該基材膜上。基材膜之透濕度較佳為150 g/m 2/24小時以上，更佳為200 g/m 2/24小時以上。若構成相位差膜之基材膜之透濕度為上述下限以上，則成為容易控制將相位差膜與偏光元件積層而形成之光學積層體中之水分之構成，尤其是於將乾燥固化型接著劑用作形成接著劑層之接著劑之情形時，容易將接著劑中之溶劑去除，而容易製備具有接近形成於基材膜上之液晶硬化膜所具有之彈性及彎曲性之物理特性之接著劑層。因此，於使光學積層體彎曲時，將各層接著之接著劑層不易對液晶硬化膜中之變形造成影響，而光學積層體整體之變形與各層中之變形容易相互追隨。藉此，於反覆彎曲之情形時，亦不易產生彎曲點之變形，從而可抑制因其而產生之條紋狀之缺陷及斜向反射率之上升。基材膜之透濕度之上限並無特別限定，通常為1000 g/m 2/24小時以下，較佳為500 g/m 2/24小時以下。 再者，基材膜之透濕度例如可藉由JIS Z 0208(杯突法)進行測定。詳細而言，可依據下述實施例所記載之方法進行測定。
基材膜之透濕度可藉由構成膜之樹脂之種類、膜之厚度、表面處理等進行控制。
作為構成具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度之基材膜之樹脂，例如可例舉：三乙醯纖維素、聚乙烯基吡咯啶酮系聚合物、(甲基)丙烯醯胺系聚合物等；就獲取容易性等觀點而言，較佳為三乙醯纖維素。可藉由溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知之方法將此種樹脂製膜而製成基材膜。又，亦可利用市售品。
基材膜之厚度可根據所需光學積層體之構成適當決定，就光學積層體之薄型化、加工性、彎曲性及強度等觀點而言，通常為5 μm～300 μm，較佳為15 μm～200 μm，更佳為20 μm～150 μm。
基材膜具有較佳為90%以上、更佳為92%以上之全光線透過率。若全光線透過率為上述下限值以上，則可構成透明性較高、光學特性優異之光學積層體。基材膜中之全光線透過率之上限值並無特別限定，只要為100%以下即可。全光線透過率例如可依據JIS K 7361進行測定。
基材膜對於550 nm之光之厚度方向之相位差值Rth(550)之絕對值較佳為5 nm以下，更佳為3 nm以下。藉由控制基材膜之厚度方向之相位差值，不易對藉由液晶硬化膜而期待之光學特性造成影響，從而可將所獲得之光學積層體之斜向反射率抑制為較低。此種光學積層體於組入至顯示裝置等時黑顯示時之光漏及色相變化之抑制優異，故而於光學特性方面成為有利之光學積層體。基材膜之上述相位差值Rth(550)越小越佳，亦可為0 nm。基材膜之相位差值Rth(550)可藉由調配添加劑進行控制，此外，亦可藉由流延方法等進行控制。
亦可對應於構成要形成之液晶硬化膜及配向膜之成分、可與基材膜相接之接著劑之成分等對基材膜之表面實施電暈處理或電漿處理等表面處理以提高與該等之密接性等。
於本發明中，構成相位差膜之液晶硬化膜係以單層滿足下述式(1)及(2)： Re(450)/Re(550)≦1.00 (1) 1.00≦Re(650)/Re(550) (2) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]之液晶硬化膜。所謂「以單層滿足」，意指由包含液晶化合物之聚合性液晶化合物獲得之1層硬化膜以單層展現上述式(1)及(2)所表示之光學特性。
於液晶硬化膜滿足式(1)及(2)之情形時，該液晶硬化膜顯示出短波長下之面內相位差值小於長波長下之面內相位差值之所謂之逆波長分散性。於顯示出逆波長分散性之情形時，有容易於可見光之較寬之波長範圍內發揮均勻之相位差性能之傾向，光學積層體之光學特性容易提高。藉由使用具有以單層滿足上述式(1)及(2)之光學特性之液晶硬化膜(以下，亦稱為「液晶硬化膜(x)」)，可獲得光學特性優異並且更薄之相位差膜。
為了使逆波長分散性提高，從而可進一步提高液晶硬化膜之正面方向之反射色相之提高效果，Re(450)/Re(550)較佳為0.70以上，更佳為0.78以上，又，較佳為0.95以下，更佳為0.92以下。又，Re(650)/Re(550)較佳為1.0以上，更佳為1.01以上，進而較佳為1.02以上。
上述面內相位差值可藉由液晶硬化膜之厚度d1進行調整。液晶硬化膜之面內相位差值取決於Re＝(nx(λ)－ny(λ))×d(式中，d表示液晶硬化膜之厚度，nx表示於液晶硬化膜所形成之折射率橢圓體中與液晶硬化膜之平面平行之方向之波長λ nm下之主折射率，ny表示於液晶硬化膜所形成之折射率橢圓體中相對於液晶硬化膜之平面平行且相對於上述nx之方向正交之方向之波長λ nm下之折射率)，因此，為了獲得所需面內相位差值，只要調整三維折射率與膜厚d即可。
進而，液晶硬化膜(x)較佳為滿足下述式(3)： 100 nm≦Re(550)≦170 nm (3) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]。若液晶硬化膜(x)滿足式(3)，則容易提高將包含該液晶硬化膜(x)之光學積層體(橢圓偏光板)應用於有機EL顯示裝置之情形時之黑顯示時之正面反射色相。面內相位差值之進而較佳為之範圍為130 nm≦ReA(550)≦150 nm。
於本發明中，液晶硬化膜(x)可由包含至少1種聚合性液晶化合物之聚合性液晶組合物之硬化物形成。作為聚合性液晶化合物，只要為可形成具有所需光學特性之液晶硬化膜者，則並無特別限定，可使用於相位差膜之領域中先前公知之聚合性液晶化合物。
聚合性液晶化合物係具有聚合性基之液晶化合物。作為聚合性液晶化合物，一般可例舉藉由使該聚合性液晶化合物以單獨沿特定方向配向之狀態聚合而獲得之聚合物(硬化物)顯示出正波長分散性之聚合性液晶化合物與顯示出逆波長分散性之聚合性液晶化合物。就容易獲得單獨滿足上述式(1)及(2)所表示之光學特性之液晶硬化膜之觀點而言，於本發明中，構成相位差膜之液晶硬化膜(x)較佳為包含藉由以單獨沿特定方向配向之狀態聚合而獲得之聚合物(硬化物)顯示出逆波長分散性之聚合性液晶化合物之聚合性液晶組合物之硬化物。
所謂聚合性基，係指可參與聚合反應之基。於本發明中，形成液晶硬化膜之聚合性液晶化合物所具有之聚合性基較佳為光聚合性基。所謂光聚合性基，係指可藉由由光聚合起始劑產生之反應活性種、例如活性自由基或酸等參與聚合反應之聚合性基。作為光聚合性基，例如可例舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。
聚合性液晶化合物所顯示之液晶性可為向熱性液晶，亦可為向液性液晶，就可緻密地控制膜厚之方面而言，較佳為向熱性液晶。又，作為向熱性液晶中之相序結構，可為向列型液晶，亦可為層列型液晶，亦可為圓盤型液晶。聚合性液晶化合物可單獨使用或將兩種以上組合使用。
具有所謂之T字型或H型分子結構之聚合性液晶化合物容易表現出逆波長分散性，具有T字型分子結構之聚合性液晶化合物具有表現出更強之逆波長分散性之傾向。
作為顯示出逆波長分散性之聚合性液晶化合物，較佳為具有下述(A)～(D)之特徵之化合物。 (A)可形成向列相或層列相之化合物。 (B)該聚合性液晶化合物之長軸方向(a)上具有π電子。 (C)相對於長軸方向(a)交叉之方向[交叉方向(b)]上具有π電子。 (D)將長軸方向(a)上存在之π電子之合計作為N(πa)、將長軸方向上所存在之分子量之合計作為N(Aa)並由下述式(i)定義之聚合性液晶化合物之長軸方向(a)之π電子密度： D(πa)＝N(πa)/N(Aa)    (i) 與將交叉方向(b)上所存在之π電子之合計作為N(πb)、將交叉方向(b)上所存在之分子量之合計作為N(Ab)並由下述式(ii)定義之聚合性液晶化合物之交叉方向(b)之π電子密度： D(πb)＝N(πb)/N(Ab)    (ii) 處於式(iii) 0≦[D(πa)/D(πb)]＜1    (iii) 之關係[即，交叉方向(b)之π電子密度大於長軸方向(a)之π電子密度]。如上述記載所述，長軸及相對於其交叉之方向上具有π電子之聚合性液晶化合物一般容易成為T字結構。
於上述(A)～(D)之特徵中，長軸方向(a)及π電子數N係如下所述般定義。 ・只要為具有例如棒狀結構之化合物，則長軸方向(a)係其棒狀之長軸方向。 ・長軸方向(a)上所存在之π電子數N(πa)中不包含藉由聚合反應而消失之π電子。 ・長軸方向(a)上所存在之π電子數N(πa)係長軸上之π電子及與其共軛之π電子之合計個數，例如包含存在於長軸方向(a)上並且滿足休克而規則之環所存在之π電子之數量。 ・交叉方向(b)上所存在之π電子數N(πb)不包含藉由聚合反應而消失之π電子。 滿足上述之聚合性液晶化合物於長軸方向上具有液晶原結構。藉由該液晶原結構表現出液晶相(向列相、層列相)。
藉由將滿足上述(A)～(D)之聚合性液晶化合物加熱至相轉移溫度以上，可形成向列相或層列相。於該聚合性液晶化合物配向而形成之向列相或層列相中，通常係以聚合性液晶化合物之長軸方向成為相互平行之方式配向，該長軸方向成為向列相或層列相之配向方向。若將此種聚合性液晶化合物製成膜狀，並以向列相或層列相之狀態使之聚合，則可形成由以於長軸方向(a)上配向之狀態聚合而成之聚合物構成之聚合物膜。該聚合物膜藉由長軸方向(a)上之π電子與交叉方向(b)上之π電子吸收紫外線。此處，將由交叉方向(b)上之π電子吸收之紫外線之吸收極大波長設為λbmax。λbmax通常為300 nm～400 nm。π電子之密度滿足上述式(iii)，且交叉方向(b)之π電子密度大於長軸方向(a)之π電子密度，因此成為於交叉方向(b)上具有振動面之直線偏光紫外線(波長為λbmax)之吸收大於在長軸方向(a)上具有振動面之直線偏光紫外線(波長為λbmax)之吸收之聚合物膜。其比(直線偏光紫外線之交叉方向(b)之吸光度/長軸方向(a)之吸光度之比)例如超過1.0，較佳為1.2以上，通常為30以下，例如10以下。
具有上述特徵之聚合性液晶化合物一般於以沿一方向配向之狀態聚合時其聚合物之雙折射率顯示逆波長分散性之情況較多。具體而言，例如可例舉下述式(X)所表示之化合物(以下，亦稱為「聚合性液晶化合物(X)」)。 [化1]
Figure 02_image001
式(X)中，Ar表示具有可具有取代基之芳香族基之二價基。所謂此處所言之芳香族基，例如可例舉下述(Ar-1)～(Ar-23)所例示之基。又，Ar可具有2個以上之芳香族基。該芳香族基中亦可包含氮原子、氧原子、硫原子中之至少1個以上。於Ar中所包含之芳香族基為2個以上之情形時，2個以上之芳香族基可以單鍵、-CO-O-、-O-等二價鍵結基相互鍵結。 G 1及G 2分別獨立地表示二價芳香族基或二價脂環式烴基。此處，該二價芳香族基或二價脂環式烴基中所包含之氫原子可被取代為鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之氟烷基、碳數1～4之烷氧基、氰基或硝基，構成該二價芳香族基或二價脂環式烴基之碳原子可被取代為氧原子、硫原子或氮原子。 L 1、L 2、B 1及B 2分別獨立地為單鍵或二價連結基。 k、l分別獨立地表示0～3之整數，且滿足1≦k＋l之關係。此處，於2≦k＋l之情形時，B 1及B 2、G 1及G 2可分別互為相同，亦可不同。 E 1及E 2分別獨立地表示碳數1～17之烷烴二基，更佳為碳數4～12之烷烴二基。又，烷烴二基中所包含之氫原子可被取代為鹵素原子，該烷烴二基中所包含之-CH 2-亦可被取代為-O-、-S-、-C(=O)-。 P 1及P 2相互獨立地表示聚合性基或氫原子，至少1個為聚合性基。
G 1及G 2分別獨立地較佳為可經選自由鹵素原子及碳數1～4之烷基所組成之群中之至少1個取代基取代之1,4-伸苯基二基、可經選自由鹵素原子及碳數1～4之烷基所組成之群中之至少1個取代基取代之1,4-環己烷二基，更佳為經甲基取代之1,4-伸苯基二基、未經取代之1,4-伸苯基二基或未經取代之1,4-反式-環己二基，尤佳為未經取代之1,4-伸苯基二基或未經取代之1,4-反式-環己二基。 又，較佳為所存在之複數個G 1及G 2中之至少1個為二價脂環式烴基，又，更佳為鍵結於L 1或L 2之G 1及G 2中之至少1個為二價脂環式烴基。
L 1及L 2分別獨立地較佳為單鍵、碳數1～4之伸烷基、-O-、-S-、-R a1OR a2-、-R a3COOR a4-、-R a5OCOR a6-、-R a7OC=OOR a8-、-N=N-、-CR c=CR d-、或-C≡C-。此處，R a1～R a8分別獨立地表示單鍵或碳數1～4之伸烷基，R c及R d表示碳數1～4之烷基或氫原子。L 1及L 2分別獨立地更佳為單鍵、-OR a2-1-、-CH 2-、-CH 2CH 2-、-COOR a4-1-或-OCOR a6-1-。此處，R a2-1、R a4-1、R a6-1分別獨立地表示單鍵、-CH 2-、-CH 2CH 2-之任一者。L 1及L 2分別獨立地進而較佳為單鍵、-O-、-CH 2CH 2-、-COO-、-COOCH 2CH 2-或-OCO-。
B 1及B 2分別獨立地較佳為單鍵、碳數1～4之伸烷基、-O-、-S-、-R a9OR a10-、-R a11COOR a12-、-R a13OCOR a14-或-R a15OC=OOR a16-。此處，R a9～R a16分別獨立地表示單鍵或碳數1～4之伸烷基。B 1及B 2分別獨立地更佳為單鍵、-OR a10-1-、-CH 2-、-CH 2CH 2-、-COOR a12-1-或-OCOR a14-1-。此處，R a10-1、R a12-1、R a14-1分別獨立地表示單鍵、-CH 2-、-CH 2CH 2-之任一者。B 1及B 2分別獨立地進而較佳為單鍵、-O-、-CH 2CH 2-、-COO-、-COOCH 2CH 2-、-OCO-或-OCOCH 2CH 2-。
就逆波長分散性表現之觀點而言，k及l較佳為2≦k＋l≦6之範圍，較佳為k＋l＝4，更佳為k＝2且l＝2。若為k＝2且l＝2，則成為對稱結構，故而較佳。
作為P 1或P 2所表示之聚合性基，可例舉：環氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、及氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基及乙烯氧基，更佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基。
Ar較佳為具有選自可具有取代基之芳香族烴環、可具有取代基之芳香族雜環、及拉電子性基中之至少1個。作為該芳香族烴環，例如可例舉苯環、萘環、蒽環等，較佳為苯環、萘環。作為該芳香族雜環，可例舉：呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、吲哚環、噻吩環、苯并噻吩環、吡啶環、吡𠯤環、嘧啶環、三唑環、三𠯤環、吡咯啉環、咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、并噻唑環、㗁唑環、苯并㗁唑環、及啡啉環等。其中，較佳為具有噻唑環、苯并噻唑環或苯并呋喃環，進而較佳為具有苯并噻唑環。又，於Ar中包含氮原子之情形時，較佳為該氮原子具有π電子。
式(X)中，Ar所表示之基所具有之π電子之合計個數N π通常為6以上，較佳為8以上，更佳為10以上，進而較佳為14以上，尤佳為16以上。又，較佳為32以下，更佳為26以下，進而較佳為24以下。
作為Ar中所包含之芳香族基，例如可例舉以下基。
[化2]
Figure 02_image003
式(Ar-1)～式(Ar-23)中，＊符號表示連結部，Z 0、Z 1及Z 2分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～12之烷基、氰基、硝基、碳數1～12之烷基亞磺醯基、碳數1～12之烷基磺醯基、羧基、碳數1～12之氟烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數1～12之烷硫基、碳數1～12之N-烷基胺基、碳數2～12之N,N-二烷基胺基、碳數1～12之N-烷基胺磺醯基或碳數2～12之N,N-二烷基胺磺醯基。又，Z 0、Z 1及Z 2亦可包含聚合性基。
Q 1及Q 2分別獨立地表示-CR 2 'R 3 '-、-S-、-NH-、-NR 2 '-、-CO-或-O-，R 2 '及R 3 '分別獨立地表示氫原子或碳數1～4之烷基。
J 1及J 2分別獨立地表示碳原子或氮原子。
Y 1、Y 2及Y 3分別獨立地表示可經取代之芳香族烴基或芳香族雜環基。
W 1及W 2分別獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子，m表示0～6之整數。
作為Y 1、Y 2及Y 3中之芳香族烴基，可例舉苯基、萘基、蒽基、菲基、聯苯基等碳數6～20之芳香族烴基，較佳為苯基、萘基，更佳為苯基。作為芳香族雜環基，可例舉呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等具有至少1個氮原子、氧原子、硫原子等雜原子之碳數4～20之芳香族雜環基，較佳為呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。
Y 1、Y 2及Y 3亦可分別獨立地為可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基係指縮合多環系芳香族烴基或源自芳香環集合之基。多環系芳香族雜環基係指縮合多環系芳香族雜環基或源自芳香環集合之基。
較佳為Z 0、Z 1及Z 2分別獨立地為氫原子、鹵素原子、碳數1～12之烷基、氰基、硝基、碳數1～12之烷氧基，進而較佳為Z 0為氫原子、碳數1～12之烷基、氰基，進而較佳為Z 1及Z 2為氫原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。又，Z 0、Z 1及Z 2亦可包含聚合性基。
Q 1及Q 2較佳為-NH-、-S-、-NR 2 '-、-O-，R 2 '較佳為氫原子。其中，尤佳為-S-、-O-、-NH-。
式(Ar-1)～(Ar-23)之中，就分子之穩定性之觀點而言，較佳為式(Ar-6)及式(Ar-7)。
於式(Ar-16)～(Ar-23)中，Y 1可與其鍵結之氮原子及Z 0一起形成芳香族雜環基。作為芳香族雜環基，可例舉作為Ar可具有之芳香族雜環而於上文中說明過者，例如可例舉：吡咯環、咪唑環、吡咯啉環、吡啶環、吡𠯤環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環等。該芳香族雜環基亦可具有取代基。又，Y 1亦可與其所鍵結之氮原子及Z 0一起為上述可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。例如可例舉：苯并呋喃環、苯并噻唑環、苯并㗁唑環等。
於本發明中，構成相位差膜之液晶硬化膜(x)較佳為於波長300～400 nm之間具有至少1個極大吸收，形成液晶硬化膜(x)之聚合性液晶化合物較佳為於波長300～400 nm之間具有極大吸收波長之聚合性液晶化合物。於聚合性液晶組合物中包含光聚合起始劑之情形時，有長期保管時會進行聚合性液晶化合物之聚合反應及凝膠化之虞，若聚合性液晶化合物之極大吸收波長為300～400 nm，則即便於保管中曝露於紫外光中，亦可有效地抑制自光聚合起始劑產生反應活性種及藉由該反應活性種而進行聚合性液晶化合物之聚合反應及凝膠化。因此，於聚合性液晶組合物之長期穩定性之方面而言變得有利，可提高所獲得之液晶硬化膜之配向性及膜厚之均勻性。再者，聚合性液晶化合物之極大吸收波長可於溶劑中使用紫外可見分光光度計進行測定。該溶劑係可使聚合性液晶化合物溶解之溶劑，例如可例舉氯仿或四氫呋喃等。
作為可形成液晶硬化膜(x)之聚合性液晶化合物，具體而言，可例舉如日本專利特開2011-207765號公報、日本專利特開2010-031223號公報等所記載之聚合性液晶化合物。又，只要可形成以單層滿足上述式(1)及(2)之液晶硬化膜(x)，則亦可適量使用其均聚物顯示出正波長分散性之聚合性液晶化合物。
相對於聚合性液晶組合物之固形物成分100質量份，用以形成液晶硬化膜(x)之聚合性液晶組合物中之聚合性液晶化合物之含量例如為70～99.5質量份，較佳為80～99質量份，更佳為85～98質量份，進而較佳為90～95質量份。若聚合性液晶化合物之含量為上述範圍內，則就所獲得之液晶硬化膜(x)之配向性之觀點而言較為有利。再者，於本說明書中，所謂聚合性液晶組合物之固形物成分，係指聚合性液晶組合物中除去有機溶劑等揮發性成分以外之所有成分。
用以形成液晶硬化膜(x)之聚合性液晶組合物除聚合性液晶化合物以外，亦可進而包含溶劑、聚合起始劑、調平劑、抗氧化劑、光敏劑、反應性添加劑等添加劑。該等成分可分別僅使用1種，亦可將2種以上組合使用。
聚合性液晶組合物通常係以溶解於溶劑中之狀態塗佈於基材膜等，故而較佳為包含溶劑。作為溶劑，較佳為可使聚合性液晶化合物溶解但對聚合性液晶化合物之聚合反應呈惰性之溶劑。又，較佳為不會使要使用之基材膜溶解之溶劑。作為溶劑，例如可例舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯及苯甲醚等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮等醯胺系溶劑等。該等溶劑可單獨或將兩種以上組合使用。其中，就膜塗佈之觀點而言，較佳為使用選自醇溶劑、酯溶劑、酮溶劑、含氯溶劑、醯胺系溶劑及芳香族烴溶劑中之至少1種，就聚合性液晶化合物之溶解性之觀點而言，更佳為使用選自酯溶劑、酮溶劑、醯胺系溶劑及芳香族烴溶劑中之至少1種。
相對於聚合性液晶組合物100質量份，聚合性液晶組合物中之溶劑之含量較佳為50～98質量份，更佳為70～95重量份。因此，占聚合性液晶組合物100質量份之固形物成分較佳為2～50質量份。若固形物成分為50質量份以下，則聚合性液晶組合物之黏度降低，因此有膜之厚度變得大致均勻而不易產生不均之傾向。上述固形物成分可考慮到欲製造之聚合性液晶硬化膜之厚度而適當確定。
聚合起始劑係藉由熱或光之作用而生成反應活性種並可使聚合性液晶化合物等之聚合反應開始之化合物。作為反應活性種，可例舉自由基或陽離子或陰離子等活性種。其中，就容易控制反應之觀點而言，較佳為藉由光照射產生自由基之光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，例如可例舉：安息香化合物、二苯甲酮化合物、苯偶醯縮酮化合物、肟化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、三𠯤化合物、錪鹽及鋶鹽；亦可使用市售品。具體而言，可例舉：Irgacure(Irgacure、註冊商標)907、Irgacure184、Irgacure651、Irgacure819、Irgacure250、Irgacure369、Irgacure379、Irgacure127、Irgacure2959、Irgacure754、Irgacure379EG(以上均為BASF JAPAN股份有限公司製造)、Seikuol BZ、Seikuol Z、Seikuol BEE(以上均為精工化學股份有限公司製造)、Kayacure BP100(日本化藥股份有限公司製造)、Kayacure UVI-6992(Dow公司製造)、Adeka Optomer SP-152、Adeka Optomer SP-170、Adeka Optomer N-1717、Adeka Optomer N-1919、Adeka Arkls NCI-831、Adeka Arkls NCI-930(以上均為ADEKA股份有限公司製造)、TAZ-A、TAZ-PP(以上均為Nihon SiberHegner公司製造)及TAZ-104(三和化學公司製造)等。 聚合性液晶組合物中所包含之光聚合起始劑至少為1種，亦可將複數種組合使用，根據與聚合性液晶組合物中所包含之聚合性液晶化合物之關係適當選擇即可。
光聚合起始劑可充分地活用自光源發出之能量而生產性優異，故而極大吸收波長較佳為300 nm～400 nm，更佳為300 nm～380 nm，其中，較佳為α-苯乙酮系聚合起始劑、肟系光聚合起始劑。
作為α-苯乙酮化合物，可例舉：2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基巰基苯基)丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-(4-甲基苯基甲基)丁烷-1-酮等；更佳為例舉2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基巰基苯基)丙烷-1-酮及2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮。作為α-苯乙酮化合物之市售品，可例舉：Irgacure369、379EG、907(以上均為BASF JAPAN(股)製造)及Seikuol BEE(精工化學公司製造)等。
肟酯系光聚合起始劑藉由照射光而生成苯基自由基或甲基自由基等自由基。聚合性液晶化合物之聚合藉由該自由基而適當進行，其中，產生甲基自由基之肟酯系光聚合起始劑之聚合反應之開始效率較高，於該方面而言較佳。又，就使聚合反應更有效率地進行之觀點而言，較佳為使用可有效率地利用波長350 nm以上之紫外線之光聚合起始劑。作為可有效率地利用波長350 nm以上之紫外線之光聚合起始劑，較佳為包含肟酯結構之三𠯤化合物或咔唑化合物，就感度之觀點而言，更佳為包含肟酯結構之咔唑化合物。作為包含肟酯結構之咔唑化合物，可例舉：1,2-辛二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲醯肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)等。作為肟酯系光聚合起始劑之市售品，可例舉：Irgacure OXE-01、Irgacure OXE-02、Irgacure OXE-03(以上均為BASF JAPAN股份有限公司製造)、Adeka Optomer N-1919、Adeka Arkls NCI-831(以上均為ADEKA股份有限公司製造)等。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，光聚合起始劑之含量通常為0.1～30質量份，較佳為1～20質量份，更佳為1～15質量份。若為上述範圍內，則聚合性基之反應充分地進行，且不易打亂聚合性液晶化合物之配向。
調平劑係具有調整聚合性液晶組合物之流動性而使塗佈組合物而獲得之塗膜更平坦之功能之添加劑。例如可例舉：聚矽氧系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系調平劑。亦可使用市售品作為調平劑，具體而言，可例舉：DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上均為東麗道康寧(股)製造)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上均為信越化學工業(股)製造)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上均為Momentive Performance Materials Japan合同公司製造)、Fluorinert(註冊商標)FC-72、Fluorinert FC-40、Fluorinert FC-43、Fluorinert FC-3283(以上均為住友3M(股)製造)、Megafac(註冊商標)R-08、Megafac R-30、Megafac R-90、Megafac F-410、Megafac F-411、Megafac F-443、Megafac F-445、Megafac F-470、Megafac F-477、Megafac F-479、Megafac F-482、Megafac F-483、Megafac F-556(以上均為DIC(股)製造)、Eftop(商品名)EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上均為三菱綜合材料電子化成(股)製造)、Surflon (註冊商標)S-381、Surflon S-382、Surflon S-383、Surflon S-393、Surflon SC-101、Surflon SC-105、KH-40、SA-100(以上均為AGC清美化學(股)製造)、商品名E1830、該E5844(大金精密化學(股)研究所製造)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353及BYK-361N(均為商品名：BM Chemie公司製造)等。調平劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
相對於聚合性液晶化合物100質量份，調平劑之含量較佳為0.01～5質量份，進而較佳為0.05～3質量份。若調平劑之含量為上述範圍內，則有容易使聚合性液晶化合物配向，且所獲得之液晶硬化膜變得更平滑之傾向，故而較佳。
藉由調配抗氧化劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應。作為抗氧化劑，可為選自酚系抗氧化劑、胺系抗氧化劑、醌系抗氧化劑、亞硝基系抗氧化劑中之一次抗氧化劑，亦可為選自磷系抗氧化劑及硫系抗氧化劑中之二次抗氧化劑。為了不打亂聚合性液晶化合物之配向地使聚合性液晶化合物聚合，相對於聚合性液晶化合物100質量份，抗氧化劑之含量通常為0.01～10質量份，較佳為0.1～5質量份，進而較佳為0.1～3質量份。抗氧化劑可單獨使用或將2種以上組合使用。
藉由使用光敏劑，可使光聚合起始劑高感度化。作為光敏劑，例如可例舉：𠮿酮、9-氧硫𠮿
Figure 110132051-0000-3
等𠮿酮類；蒽及烷基醚等具有取代基之蒽類；啡噻𠮿;；紅螢烯。光敏劑可單獨使用或將2種以上組合使用。相對於聚合性液晶化合物100質量份，光敏劑之含量通常為0.01～10質量份，較佳為0.05～5質量份，進而較佳為0.1～3質量份。
藉由使用反應添加劑，可提高基材膜與液晶硬化膜之密接性及相位差膜與接著劑層之密接性。作為反應性添加劑，較佳為其分子內具有碳-碳不飽和鍵與活性氫反應性基者。再者，所謂此處所言之「活性氫反應性基」，意指對羧基(-COOH)、羥基(-OH)、胺基(-NH 2)等具有活性氫之基具有反應性之基，其代表例為縮水甘油基、㗁唑啉基、碳二醯亞胺基、氮丙啶基、醯亞胺基、異氰酸基、硫代異氰酸基、順丁烯二酸酐基等。反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵或活性氫反應性基之個數通常分別為1～20個，較佳為分別為1～10個。
於反應性添加劑中，較佳為存在至少2個活性氫反應性基，於該情形時，所存在之複數個活性氫反應性基可相同，亦可不同。
反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵可為碳-碳雙鍵、碳-碳三鍵或其等之組合，較佳為碳-碳雙鍵。其中，作為反應性添加劑，較佳為包含作為乙烯基及/或(甲基)丙烯酸基之碳-碳不飽和鍵。進而，較佳為活性氫反應性基係選自由環氧基、縮水甘油基及異氰酸基所組成之群中之至少1種之反應性添加劑，更佳為具有丙烯醯基與異氰酸基之反應性添加劑。
作為反應性添加劑之具體例，可例舉：甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚或丙烯醯氧基縮水甘油醚等具有(甲基)丙烯酸基與環氧基之化合物；氧雜環丁烷丙烯酸酯或氧雜環丁烷甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯酸基與氧雜環丁烷基之化合物；內酯丙烯酸酯或內酯甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯酸基與內酯基之化合物；乙烯基㗁唑啉或異丙烯基㗁唑啉等具有乙烯基與㗁唑啉基之化合物；丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有(甲基)丙烯酸基與異氰酸基之化合物之低聚物等。又，可例舉：甲基丙烯酸酐、丙烯酸酐、順丁烯二酸酐或乙烯基順丁烯二酸酐等具有乙烯基或伸乙烯基與酸酐之化合物等。其中，較佳為甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、乙烯基㗁唑啉、丙烯酸2-異氰酸基乙酯、甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述低聚物，尤佳為丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述低聚物。
作為上述反應性添加劑，可直接使用市售品或視需要將市售品精製後使用。作為市售品，例如可例舉Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF公司製造)。
於聚合性液晶組合物包含反應性添加劑之情形時，相對於聚合性液晶化合物100質量份，反應性添加劑之含量通常為0.01～10質量份，較佳為0.1～7質量份。
用以形成液晶硬化膜(x)之聚合性液晶組合物可藉由分別將聚合性液晶化合物與溶劑或聚合起始劑等成分於特定溫度下進行攪拌等而獲得。
液晶硬化膜(x)例如可藉由包括如下步驟之方法而製造： 於基材膜或下述配向膜等之上形成包含至少1種聚合性液晶化合物之聚合性液晶組合物之塗膜，對該塗膜進行乾燥，且使該聚合性液晶組合物中之聚合性液晶化合物配向之步驟；及 保持配向狀態直接使聚合性液晶化合物聚合，形成液晶硬化膜之步驟。
聚合性液晶組合物之塗膜可藉由於基材膜或如下述之形成於基材膜上之配向膜等之上塗佈聚合性液晶組合物而形成。
作為將聚合性液晶組合物塗佈於基材膜等之方法，可例舉：旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法、敷料器法等塗佈法、柔版法等印刷法等公知之方法。
繼而，藉由乾燥等將溶劑去除，藉此形成乾燥塗膜。作為乾燥方法，可例舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。此時，藉由對由聚合性液晶組合物獲得之塗膜進行加熱，可將溶劑自塗膜中乾燥去除，並且使聚合性液晶化合物沿相對於塗膜平面水平之方向等所需方向配向。塗膜之加熱溫度可考慮到所使用之聚合性液晶化合物及形成塗膜之基材膜等之材質等而適當決定，為了使聚合性液晶化合物向液晶相狀態相轉移，通常需要液晶相轉移溫度以上之溫度。為了一面將聚合性液晶組合物中所包含之溶劑去除，一面使聚合性液晶化合物成為所需配向狀態，例如可加熱至上述聚合性液晶組合物中所包含之聚合性液晶化合物之液晶相轉移溫度(層列相轉移溫度或向列相轉移溫度)程度以上之溫度。加熱溫度較佳為較聚合性液晶化合物之液晶相轉移溫度高3℃以上、更佳為高5℃以上之溫度。加熱溫度之上限值並無特別限定，為了避免因加熱而對塗膜或基材膜等造成損傷，較佳為180℃以下，更佳為150℃以下。 再者，液晶相轉移溫度例如可使用具備溫度調節台之偏光顯微鏡或示差掃描熱量計(DSC)、熱重量示差熱分析裝置(TG-DTA)等進行測定。又，於使用2種以上作為聚合性液晶化合物之情形時，上述相轉移溫度意指使用將構成聚合性液晶組合物之所有聚合性液晶化合物以與聚合性液晶組合物中之組成相同之比率混合而成之聚合性液晶化合物之混合物，並以與使用1種聚合性液晶化合物之情形相同之方式所測得之溫度。又，一般而言，亦已知聚合性液晶組合物中之聚合性液晶化合物之液晶相轉移溫度有時低於作為聚合性液晶化合物單質之液晶相轉移溫度。
加熱時間可根據加熱溫度、所使用之聚合性液晶化合物之種類、溶劑之種類、其沸點及其量等適當決定，通常為0.5～10分鐘，較佳為0.5～5分鐘。
溶劑自塗膜之去除可與聚合性液晶化合物向液晶相轉移溫度以上之加熱同時進行，亦可分開進行，就提高生產性之觀點而言，較佳為同時進行。於進行聚合性液晶化合物向液晶相轉移溫度以上之加熱之前，亦可設置用以於由聚合性液晶組合物獲得之塗膜中所包含之聚合性液晶化合物不會聚合之條件下將塗膜中之溶劑適度地去除之預乾燥步驟。作為該預乾燥步驟中之乾燥方法，可例舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等；該乾燥步驟中之乾燥溫度(加熱溫度)可根據所使用之聚合性液晶化合物之種類、溶劑之種類、其沸點及其量等適當決定。
繼而，於所獲得之乾燥塗膜中，保持聚合性液晶化合物之配向狀態並直接藉由光照射使聚合性液晶化合物聚合，藉此形成作為以所需配向狀態存在之聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜。作為聚合方法，通常使用光聚合法。於光聚合中，作為照射至乾燥塗膜之光，根據該乾燥塗膜中所包含之光聚合起始劑之種類、聚合性液晶化合物之種類(尤其是該聚合性液晶化合物所具有之聚合性基之種類)及其量適當選擇。作為其具體例，可例舉選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α射線、β射線及γ射線所組成之群中之1種以上之光或活性電子束等活性能量線。其中，就容易控制聚合反應之進行之方面或可使用於該領域中廣泛使用者作為光聚合裝置之方面而言，較佳為紫外光，較佳為以可藉由紫外光進行光聚合之方式預先選擇聚合性液晶組合物中所含有之聚合性液晶化合物及光聚合起始劑之種類。又，聚合時，亦可一面藉由適當之冷卻機構對乾燥塗膜進行冷卻，一面進行光照射，藉此控制聚合溫度。藉由採用此種冷卻機構，只要於相對低溫下實施聚合性液晶化合物之聚合，則即便基材使用耐熱性相對較低者，亦可適當地形成液晶硬化膜。又，亦可藉由於不會因光照射時之熱而產生不良情況(基材膜因熱而變形等)之範圍內提高聚合溫度而促進聚合反應。光聚合時，亦可藉由進行遮蔽及顯影等而獲得經圖案化之硬化膜。
作為上述活性能量線之光源，例如可例舉：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380～440 nm之光之LED(light-emitting diode，發光二極體)光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
紫外線照射強度通常為10～3,000 mW/cm 2。紫外線照射強度較佳為對光聚合起始劑之活化有效之波長區域中之強度。照射光之時間通常為0.1秒～10分鐘，較佳為0.1秒～5分鐘，更佳為0.1秒～3分鐘，進而較佳為0.1秒～1分鐘。若以此種紫外線照射強度照射1次或複數次，其累計光量為10～3,000 mJ/cm 2，較佳為50～2,000 mJ/cm 2，更佳為100～1,000 mJ/cm 2。
液晶硬化膜(x)之厚度為0.5 μm以上且3 μm以下，更佳為1.0 μm以上，進而較佳為1.5 μm以上，又，更佳為2.5 μm以下。若液晶硬化膜(x)之膜厚為上述範圍，則容易表現出特定之光學特性，此外，容易抑制反覆彎曲時彎曲點產生變形。液晶硬化膜(x)之厚度可使用干渉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計等進行測定。
液晶硬化膜(x)亦可形成於配向膜上。配向膜係具有使聚合性液晶化合物沿所需方向液晶配向之配向限制力者。藉由利用具有使聚合性液晶化合物沿水平方向配向之配向限制力之水平配向膜或具有使聚合性液晶化合物沿垂直方向配向之配向限制力之垂直配向膜形成液晶硬化膜，可使聚合性液晶化合物以相對較高之精度沿所需方向配向，可獲得組入至顯示裝置等時顯示出優異之光學特性之液晶硬化膜。配向限制力可藉由配向膜之種類、表面狀態或摩擦條件等任意進行調整，於配向膜係由光配向性聚合物形成之情形時，可藉由偏光照射條件等任意進行調整。
作為配向膜，較佳為具有不會因聚合性液晶組合物之塗佈等而溶解之耐溶劑性，又，具有用於溶劑之去除或聚合性液晶化合物之配向之加熱處理中之耐熱性者。作為配向膜，可例舉：包含配向性聚合物之配向膜、光配向膜及表面具有凹凸圖案或複數個槽之溝槽配向膜、沿配向方向延伸之延伸膜等；就配向角之精度及品質之觀點而言，較佳為光配向膜。
作為配向性聚合物，例如可例舉：分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚㗁唑、聚伸乙基亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中，較佳為聚乙烯醇。配向性聚合物可單獨使用或將2種以上組合使用。
包含配向性聚合物之配向膜通常係藉由如下方式而獲得：將配向性聚合物溶解於溶劑中而成之組合物(以下，亦稱為「配向性聚合物組合物」)塗佈於基材膜等之應形成配向膜之表面並將溶劑去除；或將配向性聚合物組合物塗佈於基材，將溶劑去除並進行摩擦(摩擦法)。作為溶劑，可例舉與作為可用於聚合性液晶組合物之溶劑而於上文中例示之溶劑相同者。
配向性聚合物組合物中之配向性聚合物之濃度只要為配向性聚合物材料可完全溶解於溶劑中之範圍即可，相對於溶液以固形物成分換算計較佳為0.1～20%，進而較佳為0.1～10%左右。
作為配向性聚合物組合物，亦可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可例舉：Sunever(註冊商標，日產化學工業(股)製造)、Optomer(註冊商標，JSR(股)製造)等。
作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材膜等之應形成配向膜之表面之方法，可例舉與作為將聚合性液晶組合物塗佈於基材膜之方法而例示之方法相同者。
作為將配向性聚合物組合物中所包含之溶劑去除之方法，可例舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
為了對配向膜賦予配向限制力，可視需要進行摩擦處理(摩擦法)。作為藉由摩擦法賦予配向限制力之方法，可例舉如下方法：使藉由將配向性聚合物組合物塗佈於基材並退火而形成於基材表面之配向性聚合物之膜與捲繞有摩擦布並旋轉之摩擦捲筒接觸。若於進行摩擦處理時進行遮蔽，則亦可於配向膜形成配向方向不同之複數個區域(圖案)。
光配向膜通常係藉由如下方式而獲得：將包含具有光反應性基之聚合物及/或單體及溶劑之組合物(以下，亦稱為「光配向膜形成用組合物」)塗佈於應形成配向膜之基材膜表面，且將溶劑去除後照射偏光(較佳為偏光UV)。光配向膜可藉由選擇所照射之偏光之偏光方向而任意地控制配向限制力之方向，於該方面而言亦有利。
所謂光反應性基，係指藉由光照射產生液晶配向能力之基。具體而言，可例舉參與藉由光照射而產生之分子之配向誘發或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應或者光分解反應等成為液晶配向能力之起源之光反應之基。其中，參與二聚化反應或光交聯反應之基於配向性優異之方面而言較佳。作為光反應性基，較佳為具有不飽和鍵、尤其是雙鍵之基，尤佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中之至少1個之基。
作為具有C=C鍵之光反應性基，可例舉：乙烯基、多烯基、茋基、苯乙烯基吡啶基、苯乙烯基吡啶鎓基、查耳酮基及桂皮醯基等。作為具有C=N鍵之光反應性基，可例舉具有芳香族希夫鹼、芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵之光反應性基，可例舉：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲臢基、及具有氧偶氮苯結構之基等。作為具有C=O鍵之光反應性基，可例舉：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及順丁烯二醯亞胺基等。該等基亦可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵化烷基等取代基。
其中，較佳為參與光二聚化反應之光反應性基，就容易獲得光配向所需之偏光照射量相對較少且熱穩定性及經時穩定性優異之光配向膜之方面而言，光反應性基較佳為桂皮醯基及查耳酮基。尤其是於液晶硬化膜係由具有(甲基)丙烯醯氧基作為聚合性基之聚合性液晶化合物形成之情形時，若使用具有聚合物側鏈之末端部成為桂皮酸結構之桂皮醯基者作為形成配向膜之具有光反應性基之聚合物，則可提高與液晶硬化膜之密接性。
作為光配向膜形成用組合物中所包含之溶劑，可例舉與作為可用於聚合性液晶組合物之溶劑而於上文中例示之溶劑相同者，可根據具有光反應性基之聚合物或者單體之溶解性適當選擇。
光配向膜形成用組合物中之具有光反應性基之聚合物或單體之含量可根據聚合物或單體之種類或目標光配向膜之厚度適當調節，相對於光配向膜形成用組合物之質量，較佳為至少設為0.2質量%，更佳為0.3～10質量%之範圍。光配向膜形成用組合物亦可於不會顯著損害光配向膜之特性之範圍內包含聚乙烯醇、聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
作為於應形成配向膜之表面塗佈光配向膜形成用組合物之方法，可例舉與塗佈配向性聚合物組合物之方法相同之方法。作為自所塗佈之光配向膜形成用組合物中將溶劑去除之方法，例如可例舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
於照射偏光時，可為將溶劑自塗佈於基板膜上之光配向膜形成用組合物中去除後直接照射偏光UV之形式，亦可為自基材膜側照射偏光且使偏光透過來照射之形式。又，該偏光尤佳為實質上為平行光。所照射之偏光之波長可為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基能夠吸收光能之波長區域者。具體而言，尤佳為波長250～400 nm之範圍之UV(紫外線)。作為該偏光照射所使用之光源，可例舉：氙氣燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等；更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。該等之中，高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈由於波長313 nm之紫外線之發光強度較大，故而較佳。藉由使來自上述光源之光通過適當之偏光元件後照射，可照射偏光UV。作為該偏光元件，可使用偏光過濾器或葛蘭-湯普生稜鏡、葛蘭-泰勒稜鏡等偏光稜鏡或線柵型偏光元件。
再者，若於進行摩擦或偏光照射時進行遮蔽，則亦可形成液晶配向之方向不同之複數個區域(圖案)。
溝槽(groove)配向膜係膜表面具有凹凸圖案或複數個溝槽(槽)之膜。於將聚合性液晶化合物塗佈於具有以等間隔排列之複數個直線狀溝槽之膜之情形時，液晶分子於沿著該槽之方向上配向。
作為獲得溝槽配向膜之方法，可例舉：隔著具有圖案形狀之狹縫之曝光用光罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光後，進行顯影及沖洗處理而形成凹凸圖案之方法；於表面具有槽之板狀母盤形成硬化前之UV硬化樹脂層，將所形成之樹脂層轉移至基材等後再進行硬化之方法；及將具有複數個槽之卷狀母盤壓抵於應形成配向膜之表面所形成之硬化前之UV硬化樹脂之膜而形成凹凸，其後進行硬化之方法等。
配向膜(包含配向性聚合物之配向膜或光配向膜)之厚度通常為10 nm以上且10000 nm以下之範圍，較佳為10 nm以上且2500 nm以下之範圍，更佳為10 nm以上且1000 nm以下之範圍，進而較佳為10 nm以上且500 nm以下，尤佳為50 nm以上且250 nm以下之範圍。
(偏光元件) 構成本發明之光學積層體之偏光元件係具有自所入射之自然光提取直線偏光之功能之膜，係包含二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜。作為構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂，可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂之皂化物。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，可例舉：作為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、以及乙酸乙烯酯及可與其共聚之其他單體之共聚物(例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等)。作為可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體，例如可例舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85～100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經改性，例如亦可使用經醛類改性之聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮醛。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常為1,000～10,000左右，較佳為1,500～5,000之範圍。
將此種聚乙烯醇系樹脂製膜而成者被用作偏光膜之原片膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，可利用公知之方法製膜。聚乙烯醇系原片膜之膜厚例如可設為10～150 μm左右。
偏光元件通常係經過如下步驟而製造：使此種聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟；利用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色，藉此使二色性色素吸附之步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜進行處理之步驟；及藉由硼酸水溶液進行處理後進行水洗處理之步驟。再者，利用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色，藉此使二色性色素包含於聚乙烯醇系樹脂膜中。於利用該製造方法製造偏光元件之情形時，偏光元件成為包含二色性色素之延伸聚乙烯醇系樹脂膜。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸可於二色性色素之染色前進行，亦可與染色同時進行或於染色後進行。於染色後進行單軸延伸之情形時，該單軸延伸可於硼酸處理之前進行，亦可於硼酸處理過程中進行。亦可於該等複數個階段中進行單軸延伸。於單軸延伸時，可於周速不同之捲筒間沿單軸延伸，亦可使用熱捲筒沿單軸延伸。又，單軸延伸可為於大氣中進行延伸之乾式延伸，亦可為於使用溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。就抑制偏光元件之變形之觀點而言，延伸倍率較佳為8倍以下，更佳為7.5倍以下，進而較佳為7倍以下。又，就表現出作為偏光元件之功能之觀點而言，延伸倍率通常為4.5倍以上。藉由將延伸倍率設為上述範圍，可抑制偏光元件之經時性變形。
作為利用二色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色之方法，例如可例舉將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中之方法。作為二色性色素，例如使用碘或二色性染料。二色性染料中例如包含C.I. DIRECT RED39等包括雙偶氮化合物之二色性直接染料、包括三偶氮、四偶氮化合物等之二色性直接染料。再者，聚乙烯醇系樹脂膜較佳為於染色處理之前預先實施向水中之浸漬處理。
於使用碘作為二色性色素之情形時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中進行染色之方法。該水溶液中之碘之含量係每100質量份水中通常為0.01～1質量份左右。又，碘化鉀之含量係每100質量份水中通常為0.5～20質量份左右。用於染色之水溶液之溫度通常為20～40℃左右。又，向該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常為20～1,800秒左右。 再者，為了使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤而容易染色，亦可於將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中之前將該膜浸漬於水中。該浸漬處理之溫度通常為20～80℃，較佳為30～60℃，浸漬時間(染色時間)通常為20～1800秒。
另一方面，於使用二色性之有機染料作為二色性色素之情形時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於包含水溶性二色性染料之水溶液中進行染色之方法。該水溶液中之二色性有機染料之含量係每100質量份水中通常為1×10 -4～10質量份左右，較佳為1×10 -3～1質量份，進而較佳為1×10 -3～1×10 -2質量份。該水溶液亦可包含硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。用於染色之二色性染料水溶液之溫度通常為20～80℃左右。又，向該水溶液之浸漬時間(染色時間)通常為10～1,800秒左右。
藉由二色性色素染色後之硼酸處理通常可藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液中之方法進行。該硼酸水溶液中之硼酸之含量係每100質量份水中通常為2～15質量份左右，較佳為5～12質量份。於使用碘作為二色性色素之情形時，該硼酸水溶液較佳為含有碘化鉀，該情形時之碘化鉀之含量係每100質量份水中通常為0.1～15質量份左右，較佳為5～12質量份。向硼酸水溶液之浸漬時間通為常60～1,200秒左右，較佳為150～600秒，進而較佳為200～400秒。硼酸處理之溫度通常為50℃以上，較佳為50～85℃，進而較佳為60～80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常經水洗處理。水洗處理例如可藉由將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水中之方法進行。水洗處理中之水之溫度通常為5～40℃左右。又，浸漬時間通常為1～120秒左右。
水洗後實施乾燥處理，獲得偏光元件。乾燥處理例如可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。乾燥處理之溫度通常為30～100℃左右，較佳為50～80℃。乾燥處理之時間通常為60～600秒左右，較佳為120～600秒。藉由乾燥處理將偏光元件之水分率降低至實際使用程度為止。其水分率通常為5～20質量%左右，較佳為8～15質量%。若水分率為上述範圍內，則獲得具有適度之可撓性且熱穩定性優異之偏光元件。
以如上方式對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸、藉由二色性色素之染色、硼酸處理、水洗及乾燥而獲得。
偏光元件之厚度較佳為5～40 μm，更佳為5～20 μm。
(透明保護膜) 本發明之光學積層體包含經由接著劑層貼合於偏光元件之與相位差膜相反側之面之透明保護膜。偏光元件由於膜厚較薄而其表面容易損傷，故而通常為了防止來自外部之損傷及污染，偏光元件之兩面具備保護膜之情況較多，但於本發明之光學積層體中，於偏光元件之相位差膜側之面並未積層保護膜。藉此，可成為更薄型且斜向反射率較低之光學積層體。
於本發明中，該透明保護膜具有90%以上、更佳為92%以上之全光線透過率。若全光線透過率為上述下限值以上，則可構成透明性較高且光學特性優異之光學積層體。基材膜中之全光線透過率之上限值並無特別限定，可為100%以下。全光線透過率例如可依據JIS K 7361進行測定。
又，上述透明保護膜中之380 nm透過率為30%以下，較佳為25%以下，更佳為20%以下。若透明保護膜之380 nm透過率為上述上限以下，則於將包含該透明保護膜之光學積層體組入至圖像顯示裝置中之情形時，可保護構成光學積層體之內部之層(偏光元件及液晶硬化膜等)免受視認側所曝露之紫外線之傷害。透明保護膜之380 nm透過率之下限值並無特別限定，亦可為0%。為了將透明保護膜中之380 nm透過率設為30%以下，透明保護膜亦可包含紫外線吸收劑等。380 nm透過率例如可依據分光光度計進行測定。
作為經由接著劑層與偏光元件貼合之透明保護膜，滿足上述全光線透過率及380 nm透過率者即可，可使用公知之樹脂膜。作為可構成透明保護膜之樹脂，例如可例舉：如聚乙烯、聚丙烯、及降𦯉烯系聚合物之聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；如三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、及纖維素乙酸酯丙酸酯之纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等。可藉由溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知之方法將此種樹脂製膜而使其成為膜狀。亦可對透明保護膜之表面實施如聚矽氧處理之脫模處理、電暈處理、電漿處理等表面處理。
於本發明之一實施態樣中，透明保護膜具有較佳為100 g/m 2/24小時以上、更佳為150 g/m 2/24小時以上、進而較佳為200 g/m 2/24小時以上之透濕度。若透明保護膜之透濕度為上述下限值以上，則於使用乾燥固化型接著劑將相位差膜與偏光元件積層而形成光學積層體時，除構成相位差膜之基材膜以外，亦可自透明保護膜中將乾燥固化型接著劑中之溶劑高效率地去除。藉此，可獲得彎曲時形成於基材膜上之液晶硬化膜中之變形與作為光學積層體之變形容易相互追隨且於反覆彎曲之情形時亦不易產生彎曲點之變形之光學積層體。又，與僅基材膜具有較高之透濕度之情形相比，可縮短將接著劑中之溶劑去除之時間，故而於生產性之方面而言亦可能有利。透明保護膜之透濕度之上限並無特別限定，通常為1000 g/m 2/24小時以下，較佳為500 g/m 2/24小時以下。透明保護膜之透濕度可藉由與基材膜之透濕度相同之方法進行測定。
於使用具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度之透明保護膜之情形時，透明保護膜可與基材膜相同，亦可不同。
透明保護膜之厚度可對應於所需光學積層體之構成適當決定，就光學積層體之薄型化、加工性、彎曲性及強度等觀點而言，通常為5 μm～300 μm，較佳為20 μm～200 μm，更佳為20 μm～150 μm。
以下，基於圖1及圖2對本發明之光學積層體之層構成之一例進行說明，但本發明之光學積層體並不限定於該等態樣。 圖1所示之光學積層體100包含相位差膜1、經由接著劑層2積層於上述相位差膜之一面之偏光元件3、進而經由接著劑層4積層於偏光元件3之與相位差膜1相反側之面之透明保護膜5。於圖1所示之光學積層體100中，相位差膜1包含經由配向膜12形成於基材膜11上之液晶硬化膜13。
本發明之光學積層體雖可構成為除相位差膜、偏光元件、透明保護膜、及分別使該等相互接著之接著劑層以外，亦包含可組入至圖像顯示裝置等中之具有各種功能之其他層，但於相互鄰接而成之相位差膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜之層構成中並未加入其他層。作為其他層，可例舉：例如用以將光學積層體組入至圖像顯示裝置中之黏接著劑層、例如包含液晶化合物相對於膜面沿垂直方向配向且具有與液晶硬化膜(x)不同之光學特性之液晶硬化膜之第2相位差膜等。
於本發明中，相位差膜可於構成相位差膜之基材膜及液晶硬化膜之任一側經由接著劑層與偏光元件積層。例如，於圖1所示之光學積層體100中，構成相位差膜1之基材膜11經由接著劑層2與偏光元件3積層。另一方面，於圖2所示之光學積層體100中，構成相位差膜1之液晶硬化膜13經由接著劑層2與偏光元件3積層。
於將本發明之光學積層體組入至圖像顯示裝置等中時，於構成相位差膜之液晶硬化膜(x)未與用於光學積層體與圖像顯示單元等構成圖像顯示裝置之構件接著之黏著劑層相接之情形時，光學積層體之耐熱性容易提高。因此，於本發明之一實施態樣中，較佳為相位差膜與將相位差膜和偏光元件接著之接著劑層於構成該相位差膜之液晶硬化膜側相接。
本發明之光學積層體可藉由經由接著劑分別使相位差膜、偏光元件及透明保護膜貼合而製造。於使用乾燥固化型接著劑作為接著劑之情形時，可將乾燥固化型接著劑塗佈/注入至相位差膜、偏光元件及/或透明保護膜之貼合面，形成相位差膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜之積層體，然後進行乾燥而將接著劑中之溶劑自該積層體中去除，並進行硬化，藉此將各層貼合。
該乾燥處理及/或溶劑之去除例如可藉由吹送熱風而進行，其溫度取決於溶劑之種類，通常為30～200℃、較佳為35～150℃、更佳為40～100℃、進而較佳為50～100℃之範圍內。又，乾燥時間通常為10秒～30分鐘左右。
又，於使用活性能量線硬化型接著劑之情形時，藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化型接著劑硬化，藉此獲得接著劑層。活性能量線之光源並無特別限定，較佳為於波長400 nm以下具有發光分佈之活性能量線，更佳為紫外線。作為光源，具體而言，可例舉：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、及金屬鹵化物燈等。
對活性能量線硬化型接著劑之光照射強度根據活性能量線硬化型接著劑之組成適當決定，並無特別限定，對聚合起始劑之活化有效之波長區域之照射強度通常為10～3,000 mW/cm 2。對活性能量線硬化型接著劑之光照射時間可根據要硬化之活性能量線硬化型接著劑適當選擇，並無特別限制，通常為0.1秒～10分鐘，較佳為1秒～5分鐘，更佳為5秒～3分鐘，進而較佳為10秒～1分鐘。若以此種紫外線照射強度照射1次或複數次，則其累計光量通常為10～3,000 mJ/cm 2，較佳為50～2,000 mJ/cm 2，更佳為100～1,000 mJ/cm 2。
本發明之光學積層體可藉由Roll to Roll(卷對卷)方式連續地製造。例如，可藉由如下方式連續地製造：製備捲繞成卷狀之包含基材膜與液晶硬化膜(x)之相位差膜，一面將該相位差膜卷出，一面搬送，使用用以將各層接著之接著劑將另外製作之偏光元件及透明保護膜依序積層於該相位差膜上後，藉由乾燥或光硬化等使接著劑硬化。 因此，於本發明之一實施態樣中，本發明之光學積層體可為捲繞成卷狀之光學積層體捲筒之形態。
包含相位差膜與偏光元件而成之本發明之光學積層體亦可為橢圓偏光板，故而本發明包含含有本發明之光學積層體之橢圓偏光板。
於本發明之一實施態樣中，較佳為以構成本發明之光學積層體及橢圓偏光板之液晶硬化膜之遲相軸(光軸)與偏光元件之吸收軸所成之角成為45±5°之方式積層。
本發明之橢圓偏光板可用於各種顯示裝置。 所謂顯示裝置，係具有顯示元件之裝置，且包含發光元件或發光裝置作為發光源。作為顯示裝置，可例舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如場發射顯示裝置(FED)、表面場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子墨水或電泳元件之顯示裝置、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵狀光閥成像系統(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置亦包含穿透型液晶顯示裝置、半穿透型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等之任一者。該等顯示裝置可為顯示二維圖像之顯示裝置，亦可為顯示三維圖像之立體顯示裝置。尤其是本發明之橢圓偏光板可較佳地用於有機電致發光(EL)顯示裝置及無機電致發光(EL)顯示裝置，本發明之積層體可較佳地用於液晶顯示裝置及觸控面板顯示裝置。該等顯示裝置藉由具備不易產生干涉斑之本發明之積層體而表現出良好之圖像顯示特性。
於本發明之一實施態樣中，上述顯示裝置較佳為可撓性圖像顯示裝置，本發明亦包含含有本發明之橢圓偏光板之可撓性圖像顯示裝置。
具有本發明之橢圓偏光板之可撓性圖像顯示裝置較佳為進而具有視窗與觸控感測器。 可撓性圖像顯示裝置例如包括可撓性圖像顯示裝置用積層體及有機EL顯示面板，相對於有機EL顯示面板於視認側配置可撓性圖像顯示裝置用積層體，且構成為可彎折。作為可撓性圖像顯示裝置用積層體，除上述本發明之橢圓偏光板以外，亦可包含視窗、(觸控面板)觸控感測器等。其等之積層順序任意，較佳為自視認側起依序積層視窗、橢圓偏光板、觸控感測器或依序積層視窗、觸控感測器、橢圓偏光板。
若觸控感測器之視認側存在橢圓偏光板，則觸控感測器之圖案不易被視認到而顯示圖像之視認性變佳，因此較佳。各構件可使用接著劑、黏著劑等積層。又，可撓性圖像顯示裝置用積層體可具備形成於上述視窗、橢圓偏光板、觸控感測器之任一層之至少一面之遮光圖案。
視窗配置於可撓性圖像顯示裝置之視認側，承擔保護其他構成元件免受來自外部之衝擊或免受溫濕度等環境變化之傷害之作用。先前，一直使用玻璃作為此種保護層，但可撓性圖像顯示裝置中之視窗並非如玻璃般呈剛性且堅硬，而是具有可撓性之特性。上述視窗包括可撓性之透明基材，亦可於至少一面包含硬塗層。
構成可撓性圖像顯示裝置用積層體之視窗、觸控感測器等並無特別限定，可採用先前公知者。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明更具體地進行說明。再者，例中之「%」及「份」只要未特別說明，則分別意指質量%及質量份。
[實施例1] (1)光配向膜形成用組合物之製作 將下述化學式所表示之數量平均分子量28000之聚合物(1)2份與鄰二甲苯98份進行混合，將所獲得之混合物於80℃下攪拌1小時，藉此獲得光配向膜形成用組合物。
聚合物(1) [化3]
Figure 02_image005
[式中，Me表示甲基]。
(2)液晶硬化膜形成用之聚合性液晶組合物之製備 將下述結構之聚合性液晶化合物A-1(86.0份)、聚合性液晶化合物A-2(14.0份)、聚丙烯酸酯化合物(調平劑/BYK-361N；BYK-Chemie公司製造)(0.12份)、2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(光聚合起始劑/Irgacure369；汽巴精化股份有限公司製造)(3.0份)、LALOMER LR9000(BASF JAPAN公司製造)(2.0份)進行混合。進而，以固形物成分濃度成為9%之方式添加苯甲醚。獲得包含聚合性液晶化合物A-1及聚合性液晶化合物A-2之聚合性液晶組合物(A1)。 再者，聚合性液晶化合物A-1係利用日本專利特開2010-31223號公報所記載之方法合成。於氯仿中所測得之聚合性液晶化合物A-1之極大吸收波長λmax(LC)為350 nm。
聚合性液晶化合物A-1： [化4]
Figure 02_image007
聚合性液晶化合物A-2： [化5]
Figure 02_image009
(3)相位差膜之製作 使用電暈處理裝置(AGF-B10；春日電機股份有限公司製造)於輸出0.3 kW、處理速度3 m/min之條件下對三乙醯纖維素膜(柯尼卡美能達公司製造之KC4CZ-TAC、厚度40 μm)進行1次處理。利用棒式塗佈機將上述光配向膜形成用組合物塗佈於實施有電暈處理之表面，並於80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(附偏光元件單元之SPOT CURE SP-7；牛尾電機股份有限公司製造)以100 mJ/cm 2之累計光量實施偏光UV曝光，形成光配向膜。利用橢圓偏光計M-220(日本分光股份有限公司製造)測定所獲得之光配向膜之厚度，結果為100 nm。
依據以下方法測定用作相位差膜之基材膜之上述三乙醯纖維素膜(KC4CZ-TAC)之透濕度及全光線透過率。 (透濕度之測定) 藉由JIS Z 0208所規定之杯突法測定溫度40℃、相對濕度90%下之保護膜之透濕度[g/(m 2・24 hr)]。上述TAC膜之透濕度為370 g/m 2/24小時。
(全光線透過率之測定) 依據JIS K7361並使用村上色彩技術研究所(股)製造之霧度計HM150測定全光線透過率。上述TAC膜之全光線透過率為93%。
又，測定作為基材之上述TAC膜於波長550 nm下之相位差值[Re(550)及Rth(550)]，結果大致為0。
繼而，利用棒式塗佈機於上述光配向膜上塗佈包含先前製備之聚合性液晶化合物之聚合性液晶組合物(A1)，並於120℃下乾燥1分鐘。其後，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A；牛尾電機股份有限公司製造)自塗佈有聚合性液晶組合物(A1)之面側照射紫外線(氮氣氛圍下，波長313 nm下之累計光量：500 mJ/cm 2)，藉此形成作為由三乙醯纖維素膜(基材膜)/光配向膜/液晶硬化膜構成之積層體之相位差膜。利用雷射顯微鏡(LEXT；Olympus股份有限公司製造)測定所獲得之液晶硬化膜之厚度，結果為2.3 μm。
測定所獲得之相位差膜於波長550 nm下之相位差值，結果Re(550)＝140 nm。又，測定所獲得之相位差膜於波長450 nm及波長650 nm下之相位差值，結果Re(450)/Re(550)＝0.85、Re(650)/Re(550)＝1.05。
(4)偏光元件之製作(碘PVA型偏光元件) 藉由乾式延伸使厚度30 μm之聚乙烯醇膜(PVA：平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)單軸延伸至約5倍，進而保持拉伸狀態直接於40℃之純水中浸漬40秒。其後，於28℃下於碘/碘化鉀/水之質量比為0.044/5.7/100之染色水溶液中浸漬30秒而進行染色處理。繼而，於70℃下於碘化鉀/硼酸/水之質量比為11.0/6.2/100之硼酸水溶液中浸漬120秒。繼而，利用8℃之純水洗淨15秒後，於以300 N之張力保持之狀態下於60℃下乾燥50秒，繼而於75℃下乾燥20秒，獲得碘吸附配向於聚乙烯醇膜之厚度12 μm之偏光元件。
(5)光學積層體之製作 使上述所製作之相位差膜及偏光元件、以及作為透明保護膜之三乙醯纖維素膜(TAC：Konica Minolta Opto(股)製造之「KC4UY」)依序積層，並以上述相位差膜之三乙醯纖維素側與偏光元件、以及上述透明保護膜之三乙醯纖維素與該偏光元件之與相位差膜相反側相接之方式注入水系乾燥固化型接著劑，並以偏光元件之吸收軸與相位差膜中之液晶硬化膜之遲相軸成為45°之方式利用夾棍貼合。一面將所獲得之貼合物之張力保持為430 N/m，一面於60℃下乾燥2分鐘，獲得由液晶硬化膜/光配向膜/基材膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體I(橢圓偏光板)。 再者，上述水系乾燥固化型接著劑係向水100份中添加羧基改性聚乙烯醇(Kuraray Poval KL318；Kuraray股份有限公司製造)3份、水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumirez Resin 650；Sumika Chemtex股份有限公司製造，固形物成分濃度30%之水溶液)1.5份而製備。
以與上述基材膜中之測定方法相同之方式測定透明保護膜之透濕度及全光線透過率，結果透濕度為350 g/m 2/24小時，全光線透過率為93%。
又，使用於分光光度計(島津製作所股份有限公司製造之UV-3150)設置有附偏光元件之夾子之裝置並藉由雙光束法測定透明保護膜之380 nm透過率。該夾子於參考側設置有將50%之光量截斷之網眼。透明保護膜之380 nm透過率為8%。
(6)光學積層體之評價 (i)彎曲性之評價 彎曲性之評價使用JIS-K-5600-5-1所記載之塗料一般試驗方法―耐彎曲性(圓筒形心軸法)之方法並以如下方式進行。 將光學積層體切取成25 mm×200 mm見方，使用圓筒型心軸法耐彎曲性試驗機型II型(TP技研股份有限公司製造)於溫度25℃、相對濕度55%RH之條件下，將相位差膜之液晶硬化層作為外側捲繞於直徑為6 mm(彎曲半徑R＝3 mm)之心軸棒來進行彎曲性試驗。使用試驗後之光學積層體，於暗室環境下利用照明透過光進行目視確認，並觀察龜裂之產生狀況，結果將視認到破裂者判定為「×」，將未視認到破裂者判定為「○」。將結果示於表1。
(ii)斜向反射率之評價 以如下方式測定光學積層體之斜向反射率。使用丙烯酸系黏著劑將光學積層體之源自相位差膜之側(於光學積層體I之情形時為液晶硬化膜)與反射板(鏡面鋁板)貼合而製作測定樣品。 使用分光測色計(Konica Minolta(股)製造之CM3700A)，使D65光源之光自8°方向入射至測定樣品並測定斜向反射率(反射Y值)。若斜向反射率為1%以上且未達6%，則評價為○，若為6%以上且未達8%，則評價為△，若為8%以上，則評價為×。將結果示於表1。
(iii)耐熱試驗之評價 使用丙烯酸系黏著劑將光學積層體之源自相位差膜之側與玻璃板貼合而製作測定樣品。 將所獲得之測定樣品投入至85℃之烘箱中並經過500小時後，測定面內相位差值，並使用王子測量機器股份有限公司製造之KOBRA-WR測定耐熱試驗前後之550 nm下之面內相位差值之變化量。若變化量為1 nm以上且未達3 nm，則評價為○，若為3 nm以上且未達5 nm，則評價為△，若為5 nm以上，則評價為×。將結果示於表1。
[實施例2] 於將相位差膜與偏光元件貼合時，將液晶硬化膜側與偏光元件貼合，除此以外，以與實施例1相同之方式製造由基材膜/光配向膜/液晶硬化膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體，並進行評價。將結果示於表1。
[實施例3] 除使用聚甲基丙烯酸甲酯樹脂膜(住友化學股份有限公司製造，透濕度：50 g/m 2/24小時、全光線透過率：93%、380 nm透過率：6%)作為透明保護膜以外，以與實施例1相同之方式製造由基材膜/光配向膜/液晶硬化膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體並進行評價。將結果示於表1。
[實施例4] 除使用添加有紫外線吸收劑之環烯烴聚合物膜(COP；ZF-14；日本ZEON股份有限公司製造，透濕度：13 g/m 2/24小時、全光線透過率：92%、380 nm透過率：8%)作為透明保護膜以外，以與實施例1相同之方式製造由基材膜/光配向膜/液晶硬化膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體並進行評價。將結果示於表1。
[比較例1] 使用用作實施例1之透明保護膜之TAC膜作為基材膜，於光學積層體之製作步驟中，使用與實施例1中所使用者相同之水系乾燥固化型接著劑將透明保護膜與偏光元件貼合後，使用硬化後之厚度為5 μm之丙烯酸系黏著劑將偏光元件之未積層透明保護膜側之面與相位差膜之液晶硬化膜側貼合，並將作為基材膜之三乙醯纖維素膜剝離，除此以外，以與實施例1相同之方式製造由光配向膜/液晶硬化膜/黏著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體並進行評價。將結果示於表1。
[比較例2] 除不將作為基材膜之三乙醯纖維素剝離以外，以與比較例1相同之方式製造由基材膜/光配向膜/液晶硬化膜/黏著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體並進行評價。將結果示於表1。
[參考例1] 除使用環烯烴聚合物膜(COP；ZF-14；日本ZEON股份有限公司製造，透濕度：13 g/m 2/24小時、全光線透過率：92%、380 nm透過率：90%)作為基材膜以外，以與實施例4相同之方式製造由基材膜/光配向膜/液晶硬化膜/接著劑層/偏光元件/接著劑層/透明保護膜構成之光學積層體並進行評價。將結果示於表1。
[表1]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施倒4 比較例１ 比較例2 參考例１
光學積層體構成 透明保護膜 種類 TAC TAC PMMA COP TAC TAC COP
厚度 40 μm 40 μm 40 μm 40 μm 40 μm 40 μm 40 μm
透濕度 g/m 2/24 hr 370 370 50 13 370 370 13
將相位差膜與偏光元件貼合之接著劑層 種類 水系 水系 水系 水系 感壓式黏著劑 感壓式黏著劑 水系
厚度 0.1 μm 0.1 μm 0.1 μm 0.1 μm 5 μm 5 μm 0.1 μm
相位差膜之基材膜 種類 Zero-TAC Zero-TAC Zero-TAC Zero-TAC - TAC COP
厚度 40 μm 40 μm 40 μm 40 μm - 40 μm 40 μm
Rth 0 nm 0 nm 0 nm 0 nm - 15 nm 0 nm
透濕度 g/m 2/24 hr 370 370 370 370 - 370 15
評價結果 彎曲性試驗3R 100000次 ○ ○ ○ ○ × ○ ×
斜向反射率 φ=50° ○ ○ ○ ○ × △ ×
耐熱試驗    △ ○ ○ ○ × × ×
綜合判定 A A A A C B C
確認到具有本發明之層構成之光學積層體(實施例1～4)之彎曲性優異且斜向反射率較低。
1:相位差膜 2:接著劑層 3:偏光元件 4:接著劑層 5:透明保護膜 11:基材膜 12:配向膜 13:液晶硬化膜 100:光學積層體
圖1係表示本發明之光學積層體之層構成之一例的概略剖視圖。 圖2係表示本發明之光學積層體之層構成之一例的概略剖視圖。

Claims (14)

  1. 一種光學積層體，其係依序包含相位差膜、偏光元件、及透明保護膜者， 上述相位差膜包含如下者而成：基材膜，其具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度；及液晶硬化膜，其形成於該基材膜上，厚度為0.5 μm以上且3 μm以下，且以單層滿足下述式(1)及(2)： Re(450)/Re(550)≦1.00     (1) 1.00≦Re(650)/Re(550)     (2) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]； 上述偏光元件由包含二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜構成， 上述透明保護膜具有90%以上之全光線透過率、及30%以下之380 nm透過率， 上述相位差膜、上述偏光元件及上述透明保護膜隔著接著劑層鄰接。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述基材膜之全光線透過率為90%以上，且對於550 nm之光之厚度方向之相位差值Rth(550)之絕對值為5 nm以下。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中上述相位差膜於基材膜與液晶硬化膜之間具有厚度10 nm以上且1000 nm以下之光配向膜。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學積層體，其中上述液晶硬化膜係使於波長300～400 nm之間具有至少1個極大吸收之至少1種化合物硬化而成之膜。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學積層體，其中上述液晶硬化膜滿足下述式(3)： 100 nm≦Re(550)≦170 nm      (3) [式中，Re(λ)表示波長λ時之面內相位差值]。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學積層體，其中上述透明保護膜具有100 g/m 2/24小時以上之透濕度。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學積層體，其中上述接著劑層係由乾燥固化型接著劑形成之層。
  8. 如請求項7之光學積層體，其中上述乾燥固化型接著劑包含聚乙烯醇。
  9. 如請求項1至8中任一項之光學積層體，其中相位差膜與將相位差膜和偏光元件貼合之接著劑層於上述液晶硬化膜側相接。
  10. 一種光學積層體捲筒，其係將如請求項1至9中任一項之光學積層體捲取而成。
  11. 一種橢圓偏光板，其包含如請求項1至9中任一項之光學積層體。
  12. 一種有機EL顯示裝置，其包含如請求項11之橢圓偏光板。
  13. 一種可撓性圖像顯示裝置，其包含如請求項11之橢圓偏光板。
  14. 如請求項13之可撓性圖像顯示裝置，其進而包含視窗與觸控感測器。
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